CN101231406A - 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法以及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种即使在树脂膜和像素电极之间另外形成绝缘膜也不会增加形成贯通孔的工序数量而使制造工序简化的液晶显示装置及其制法及电子设备。元件基板(21)具有：树脂膜(35)、形成在该树脂膜上且在上表面形成像素电极(11)的覆盖膜(36)、覆盖像素电极且在上表面形成共用电极(45)的电极绝缘膜(37)、形成在电极绝缘膜上且使像素电极和TFT元件(12)导通的连接电极(46)、和形成在覆盖膜的下层且与共用电极导通的共用线(42)；连接电极经由贯通电极绝缘膜的贯通孔(H7)而与像素电极连接，同时经由贯通覆盖膜和电极绝缘膜的贯通孔(H8)而与TFT元件导通；共用电极经由贯通覆盖膜和电极绝缘膜的贯通孔(H6)而与共用线导通。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法以及电子设备。
背景技术
作为实现液晶显示装置的宽视场角化的一个手段，已知可以使用使液晶层产生基板方向的电场来进行液晶分子的取向控制的方式(以下称为横向电场方式)，作为这样的横向电场方式，已知有IPS(In-Plane Switching)方式或FFS(Fringe-Field Switching)方式(例如，参照专利文献1)。
在使用了这样的横向电场方式的液晶显示装置中，在夹持液晶层的一对基板的其中之一上，隔着电极绝缘膜设置有用于驱动液晶分子的一对电极，即像素电极和共用电极。一般而言，在电极绝缘膜下形成的一个电极例如是在丙烯酸等的树脂膜上形成的。另外，在半透过反射型的液晶显示装置中，例如将由Al(铝)构成的反射膜设置在树脂膜上，同时将一个电极设置在反射膜和树脂膜上。
在这里，为了在邻接的像素电极之间抑制电场的影响，会在与共用电极相比更远离液晶层的位置上设置与TFT等驱动元件导通的像素电极。这是因为：如果将像素电极设置在与共用电极相比更接近液晶层的一侧，则经由液晶层，在像素区域产生的电场会扩展至邻接的其他像素区域，邻接的像素区域的周边部会受到该电场的影响。
专利文献1：特开2005-338256号公报
但是，在上述以往的液晶显示装置中，还残留以下的课题。即，在以往的液晶显示装置中，一个电极形成在由作为有机氧化物的丙烯酸构成的树脂膜上。为此，为了抑制由氧系气体引起的树脂膜的损伤，优选电极绝缘膜由作为未大量使用氧系气体的材料的SiN(氮化硅)构成。但是，如果由SiN构成电极绝缘膜，SiN具有电缺陷能级(阱)而电荷的存储效果较大，所以会发生显示的图像保留。因此，考虑在树脂膜上另外形成由SiN构成的附加绝缘膜，由缺陷能级少的SiO2构成电极绝缘膜，但需要形成为了使像素电极和驱动元件导通而贯通另外形成的附加绝缘膜的贯通孔。因此，除了形成附加绝缘膜的工序之外，还另外需要形成仅贯通附加绝缘膜的贯通孔的工序，存在使制造工序复杂的问题。
另外，当由Al构成反射膜上形成其中一个电极时，按照覆盖反射膜的方式形成构成其中一个电极的ITO膜并形成图案，但由于在ITO和Al之间有接触电位，当浸渍到电解液中时会被腐蚀。因此，考虑按照覆盖反射膜的方式另外形成附加绝缘膜使反射膜与其中一个电极绝缘，但与上述一样，需要形成为了使像素电极和驱动元件导通而贯通另外形成的附加绝缘膜的贯通孔。因此，除了另外形成附加绝缘膜的工序之外，还另外需要形成仅贯通附加绝缘膜的贯通孔的工序，存在使制造工序复杂的问题。
发明内容
本发明正是鉴于上述情况而完成的发明，其目的在于，提供一种即便在树脂膜和像素电极之间另外形成绝缘膜而不会增加形成贯通孔的工序的数量而使制造工序简化的液晶显示装置以及液晶显示装置的制造方法以及电子设备。
本发明为了解决上述课题采用以下的构成。即，本发明的液晶显示装置，在夹持液晶层的一对基板的其中一个上设置有驱动上述液晶层的第一以及第二电极和控制该第一电极的驱动的驱动元件，其特征在于，上述其中一个基板具有：树脂膜、形成在该树脂膜上且在上表面形成上述第一电极的覆盖膜、覆盖上述第一电极且在上表面形成上述第二电极的电极绝缘膜、形成在上述电极绝缘膜上且使上述第一电极和上述驱动元件导通的连接电极、和形成在上述覆盖膜的下层且与上述第二电极导通的连接线；上述连接电极经由贯通上述电极绝缘膜的第一贯通孔而与上述第一电极连接，同时经由贯通上述覆盖膜和上述电极绝缘膜的第二贯通孔而与上述驱动元件导通，上述第二电极经由贯通上述覆盖膜和上述电极绝缘膜的第三贯通孔而与上述连接线导通。
另外，本发明的液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动上述液晶层的第一以及第二电极、和控制该第一电极的驱动的驱动元件，其特征在于，该制造方法上述其中一个基板上形成与上述第二电极导通的连接线的工序；在该连接线的上层形成树脂膜的工序；在该树脂膜上形成覆盖膜的工序；在该覆盖膜上形成上述第一电极的工序；在上述覆盖膜上形成覆盖上述第一电极的电极绝缘膜的工序；形成贯通上述电极绝缘膜的第一贯通孔和贯通上述电极绝缘膜以及上述覆盖膜的第二以及第三贯通孔的工序；和在上述电极绝缘膜上形成经由上述第一贯通孔而与上述第一电极连接且经由上述第二贯通孔而与上述驱动元件导通的连接电极、和经由上述第三贯通孔而与上述连接线导通的上述第二电极的工序。
在该发明中，为了导通第二电极和连接线而形成第三贯通孔，与此同时形成第一以及第二贯通孔，而且由于经由连接电极使第一电极和驱动元件导通，所以不必另外设置用于在覆盖膜上形成贯通孔的工序。因此，可以抑制制造工序的大幅度复杂化。即，因为要与连接线导通，所以需要形成至少贯通覆盖膜和电极绝缘膜的第三贯通孔，所述连接线是为了连接设置在各像素区域的第二电极彼此之间而设置的。另外，不是直接导通第一电极和驱动元件，而是经由形成在电极绝缘膜上的连接电极来导通第一电极和驱动元件。在这里，连接电极可以和第二电极在同一工序中形成。此外，通过针对形成在覆盖膜上的第一电极具有选择性的图案化，可以利用同一工序形成仅贯通电极绝缘膜的第一贯通孔、和贯通电极绝缘膜以及覆盖膜的第二以及第三贯通孔。为此，即便在树脂膜和第一电极之间设置覆盖膜，也没有必要设置形成仅贯通覆盖膜的贯通孔的工序。由此，不必另外增加形成贯通孔的工序，而可以追加在树脂膜上形成覆盖膜的工序。
另外，因为在树脂膜上配置有覆盖膜，所以作为电极绝缘膜，可以使用显示图像保留的抑制效果高的绝缘材料。
另外，本发明的液晶显示装置，在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动上述液晶层的第一以及第二电极和控制该第一电极的驱动的驱动元件，其特征在于，上述其中一个基板具有：树脂膜、形成在该树脂膜上的反射膜、覆盖该反射膜且在上表面形成上述第一电极的覆盖膜、覆盖上述第一电极且在上表面形成上述第二电极的电极绝缘膜、形成在上述电极绝缘膜上且使上述第一电极和上述驱动元件导通的连接电极、和形成在上述覆盖膜的下层且与上述第二电极导通的连接线；上述连接电极经由贯通上述电极绝缘膜的第一贯通孔而与上述第一电极连接，同时经由贯通上述覆盖膜和上述电极绝缘膜的第二贯通孔而与上述驱动元件导通，上述第二电极经由贯通上述覆盖膜和上述电极绝缘膜的第三贯通孔而与上述连接线导通。
另外，本发明的液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动上述液晶层的第一以及第二电极和控制该第一电极的驱动的驱动元件，其特征在于，该制造方法包括：在上述其中一个基板上形成与上述第二电极导通的连接线的工序；在该连接线的上层形成树脂膜的工序；在该树脂膜上形成反射膜的工序；在上述树脂膜上形成覆盖上述反射膜的覆盖膜的工序；在该覆盖膜上形成上述第一电极的工序；在上述覆盖膜上形成覆盖上述第一电极的电极绝缘膜的工序；形成贯通上述电极绝缘膜的第一贯通孔和贯通上述电极绝缘膜以及上述覆盖膜的第二以及第三贯通孔的工序；和在上述电极绝缘膜上形成经由上述第一贯通孔而与上述第一电极连接且经由上述第二贯通孔而与上述驱动元件导通的连接电极、和经由上述第三贯通孔而与上述连接线导通的上述第二电极的工序。
在该发明中，与上述一样，为了导通第二电极和连接线而形成第三贯通孔，与此同时形成第一以及第二贯通孔，而且由于经由连接电极使第一电极和驱动元件导通，所以不必另外设置用于在覆盖膜上形成贯通孔的工序。因此，可以抑制制造工序的大幅度复杂化。即，与上述一样，因为要导通第二电极和连接线，所以需要形成至少贯通覆盖膜和电极绝缘膜的第三贯通孔。另外，经由连接电极导通第一电极和驱动元件，由此，即便在树脂膜和第一电极之间设置覆盖膜，也没有必要设置形成仅贯通覆盖膜的贯通孔的工序。
另外，用覆盖膜覆盖反射膜使第一电极和反射膜绝缘，所以即便在反射膜和第一电极之间有接触电位，也会防止反射膜在形成第一电极时被腐蚀，提高有效利用率。
另外，本发明的液晶显示装置优选上述覆盖膜的折射率比上述第一电极的折射率还低。
在该发明中，与在反射膜上设置第一电极的情况相比，使反射膜和覆盖膜的折射率差增大，提高反射显示的显示品质。
另外，本发明的液晶显示装置优选上述覆盖膜是含氧量少的绝缘膜。
在该发明中，通过使覆盖膜为含氧量少的绝缘膜，可以抑制由氧系气体引起的树脂膜的损伤。另外，作为电极绝缘膜，可以使用显示图像保留效果高的绝缘材料。
另外，本发明的液晶显示装置，优选上述覆盖膜由氮化硅构成。
在该发明中，通过由氮化硅构成覆盖膜，可以有效地抑制氧系气体的透过。由此，即便是在由有机氧化物构成树脂膜的情况下，也可以抑制树脂膜的损伤。
另外，本发明的液晶显示装置，上述电极绝缘膜优选由二氧化硅构成。
在该发明中，通过用电缺陷能级少的二氧化硅构成电极绝缘膜，可以减轻在第一和第二电极之间产生的电场所引起的电荷的存储。由此，可以显示图像保留的发生。
另外，本发明的电子设备，其特征在于，具备上述记载的液晶显示装置。
在该发明中，与上述一样，即便在树脂膜和第一电极之间形成覆盖膜，也不必增加贯通孔的形成工序数量，可以抑制制造工序的大幅度复杂化。
附图说明
图1是表示第一实施方式的液晶显示装置的等效电路图。
图2是表示子像素区域的平面构成图。
图3是图2的A-A向视剖面图。
图4是表示液晶显示装置的制造工序的工序图。
图5同样是表示液晶显示装置的制造工序的工序图。
图6是表示具备液晶显示装置的移动电话机的立体图。
图7是表示第二实施方式的液晶显示装置的子像素区域的平面构成图。
图8是图7的B-B向视剖面图。
图9是表示液晶显示装置的制造工序的工序图。
图中：1、110-液晶显示装置，11-像素电极(第一电极)，12-TFT元件(驱动元件)，21、111-元件基板(其中一个基板)，22、112-对向基板(另一个基板)，23-液晶层，35-树脂膜，36-覆盖膜，37-电极绝缘膜，42-共用线(连接线)，45-共用电极(第二电极)，46-连接电极，100-移动电话机(电子设备)，113-反射膜，H6-贯通孔(第三贯通孔)，H7-贯通孔(第一贯通孔)，H8-贯通孔(第二贯通孔)。
具体实施方式
[第一实施方式]
以下，根据附图说明本发明的液晶显示装置的第一实施方式。其中，在以下的说明所使用的各附图中，因为要使各构件为可以辨认的大小，所以可以适当变更缩小比例。在这里，图1是液晶显示装置的等效电路图，图2是表示子像素区域的平面构成图，图3是图2的A-A向视剖面图。
[液晶显示装置]
本实施方式的液晶显示装置1是透过型的彩色液晶显示装置，是由输出R(红)、G(绿)、B(蓝)各色光的3个子像素区域构成一个像素的液晶显示装置。在这里，将成为构成显示的最小单位的显示区域称为“子像素区域”。
首先，对液晶显示装置1的概略构成进行说明。如图1所示，液晶显示装置1为：构成像素显示区域的多个子像素区域被配置成矩阵状。
在该多个子像素区域分别设置有像素电极(第一电极)11、用于对像素电极11进行开关控制的TFT元件(驱动元件)12。就该TFT元件12而言，源极与从设置在液晶显示装置1上的驱动电路(图示略)延伸出的数据线13连接，栅极与从设置在液晶显示装置1上的驱动电路(图示略)延伸出的扫描线14连接，漏极与像素电极11连接。
数据线13构成为将从设置在液晶显示装置1上的驱动电路(图示略)提供的图像信号S1、S2、…、Sn提供给各子像素区域。在这里，数据线13可以以图像信号S1～Sn的顺序按线顺次提供图像信号，也可以相对于相互连接的多个数据线13按每组供给。
扫描线14构成为将从设置在液晶显示装置1上的驱动电路(图示略)提供的扫描信号G1、G2、…、Gm提供给各子像素区域。在这里，扫描线14在规定的时间以脉冲的形式按线顺次提供扫描信号G1～Gm。
另外，液晶显示装置1通过使作为开关元件的TFT元件12基于扫描信号G1～Gm的输入在一定的期间内成为导通状态，从而将从数据线13提供的图像信号S1～Sn以规定的时间写入到像素电极11中。此外，经由像素电极11被写入到液晶中的规定电平的图像信号S1～Sn在像素电极11和后述的共用电极45之间被保持一定期间。
接着，参考附图2和图3对液晶显示装置1的详细构成进行说明。其中，在图2中，省略对向基板22的图示。另外，在图2中，将俯视图中大致成矩形形状的子像素区域的长轴方向设为X轴方向，将短轴方向设为Y轴方向。此外，在图2中，适当变更图示的共用电极45的带状部45b的根数。
液晶显示装置1如图3所示，具备：元件基板(其中一个基板)21、与元件基板21对向配置的对向基板(另一个基板)22、被夹持在元件基板21和对向基板22之间的液晶层23、设置在元件基板21的外面侧(液晶层23的相反侧)的偏振片24、设置在对向基板22的外面侧的偏振片25。此外，液晶显示装置1成为从元件基板21的外面侧照射照明光的构成。
另外，液晶显示装置1沿着元件基板21和对向基板22对向的区域的边缘部分设置有密封材料(图示略)，通过该密封材料、元件基板21和对向基板22来密封液晶层23。
元件基板21如图3所示，具备：例如由玻璃或石英、塑料等透光性材料构成的基板主体31、和从基板主体31的内侧(液晶层23侧)顺次层叠的基底保护膜32、栅极绝缘膜33、层间绝缘膜34、树脂膜35、覆盖膜36、电极绝缘膜37以及取向膜38。
另外，元件基板21具备：配置在基底保护膜32的内侧表面的半导体层41；配置在栅极绝缘膜33的内侧表面的扫描线14以及共用线(连接线)42；配置在层间绝缘膜34的内侧表面的数据线13、第一中继电极43和第二中继电极44；配置在覆盖膜36的内侧表面的像素电极11；配置在电极绝缘膜37的内侧表面的共用电极45和连接电极46。
基底保护膜32例如由SiO2等透光性的硅氧化物构成，覆盖基板主体31。其中，基底保护膜32不限于由SiO2构成，还可以由SiN或SiON(氧氮化硅)、陶瓷薄膜等绝缘材料构成。
栅极绝缘膜33例如由SiO2等透光性材料构成，被设置成覆盖形成在基底保护膜32上的半导体层41。
层间绝缘膜34例如由SiO2等透光性材料构成，被设置成覆盖栅极绝缘膜33和形成在栅极绝缘膜33上的扫描线14及共用线42。
树脂膜35例如由丙烯酸等具有感光性的树脂材料构成，被设置成覆盖层间绝缘膜和形成在层间绝缘膜34上的数据线13、第一中继电极43及第二中继电极44。另外，在树脂膜35上形成有使第一以及第二中继电极43、44的至少一部分分别露出的贯通孔H1、H2。
覆盖膜36例如是SiN等的为减少成膜时由氧系的气体引起的对树脂膜35的损伤而设置的附加绝缘膜。另外，与像素电极11的折射率相比，覆盖膜36的折射率较小。
电极绝缘膜37例如是由SiO2等透光性材料构成，被设置成覆盖形成在覆盖膜36上的像素电极11。
取向膜38例如由聚酰亚胺等树脂材料构成，被设置成覆盖形成在电极绝缘膜37上共用电极45和连接电极46。另外，对取向膜38的表面实施将图2所示的子像素区域的短轴方向(Y轴方向)作为取向方向的取向处理。
半导体层41如图2和图4所示俯视呈大致L字形，俯视情况下形成为包括隔着栅极绝缘膜33而与扫描线14重叠的区域的一部分，其由多晶硅等的半导体构成。此外，在半导体层41上，在俯视情况下隔着栅极绝缘膜33而与扫描线14重叠的区域中设置有沟道区域41a。
另外，半导体层41具有通过注入杂质离子而形成的源极区域41b以及漏极区域41c。此外，以半导体层41为主体构成TFT元件12。其中，沟道区域41a通过向多晶硅注入杂质离子而形成。在这里，半导体层41可以成为在源极区域和漏极区域形成了杂质浓度相对高的高浓度区域和相对低的低浓度(LDD(Lightly Doped Drain))区域的LDD结构。
扫描线14沿着俯视情况下大致为矩形形状的子像素区域的短轴方向(Y轴方向)配置，例如由Al等金属材料构成。另外，扫描线14中隔着栅极绝缘膜33而与沟道区域41a对向配置的部分作为栅电极起作用。
共用线42俯视情况下沿着Y轴方向配置，例如由Al等金属材料构成。
数据线13俯视情况下沿着子像素区域的长轴方向(X轴方向)配置，例如由Al等金属材料构成。另外，数据线13经由贯通栅极绝缘膜33和层间绝缘膜34的贯通孔H3而与半导体层41的源极区域41b连接。即，数据线13连接沿着X轴方向配置的TFT元件12彼此之间。
第一中继电极43例如由Al等金属材料构成，经由贯通栅极绝缘膜33和层间绝缘膜34的贯通孔H4而与半导体层41的漏极区域41c连接。
第二中继电极44例如由Al等金属材料构成，经由贯通层间绝缘膜34的贯通孔H5而与共用线42连接。
像素电极11如图2和图3所示俯视情况下具有大致为矩形的形状，例如由ITO(氧化铟锡)等透光性导电材料构成。
共用电极45俯视情况下大致为梯形形状，与像素电极11一样，例如由ITO等透光性导电材料构成。此外，共用电极45具备：俯视情况下大致为矩形的框状的框部45a、和大致沿着子像素区域的短轴方向(Y轴方向)延伸存在且在子像素区域的长轴方向(X轴方向)上隔开间隔配置有多个的带状部45b。
框部45a构成为按照俯视情况下大致成为矩形的框状的方式连接2对带状电极，相互对向的2对边分别沿着长轴方向(X轴方向)和短轴方向(Y轴方向)延伸存在。另外，在框部45a设置有俯视情况下隔着层间绝缘膜34等而与共用线42重叠的分支部45c。此外，该分支部经由贯通覆盖膜36和电极绝缘膜37的贯通孔(第三贯通孔)H6而与第二中继电极44连接。
带状部45b形成为相互平行，其两端分别与框部45a中沿着Y轴方向延伸存在的部分连接。另外，带状部45b被设置成其延伸方向不与Y轴方向平行。即，带状部45b形成为其延伸方向以俯视情况下沿着临近数据线13的一端向远离的另一端的方式逐渐接近扫描线14。
另外，向共用电极45施加例如在液晶层23的驱动中使用的规定的恒定电压或者0V、或规定的恒定电位和与此不同的其他规定的恒定电位周期性(每个帧期间或每个场期间)变换的信号。
连接电极46与像素电极11和共用电极45一样，例如由ITO等透光性导电材料构成。此外，连接电极46经由贯通电极绝缘膜37的贯通孔(第一贯通孔)H7而与像素电极11连接。另外，连接电极46经由贯通覆盖膜36和电极绝缘膜37的贯通孔(第二贯通孔)H8而与第一中继电极43连接。由此，像素电极11与TFT元件12的漏极连接。
如上所述，液晶显示装置1构成为：向像素电极11和共用电极45的带状部45b之间施加电压，通过由此产生的基板平面方向的电场(横向电场)来驱动液晶。由此，像素电极11和共用电极45构成FFS(Fringe-Field Switching)方式的电极结构。
另一方面，对向基板22如图3所示，具备：例如由玻璃或石英、塑料等透光性材料构成的基板主体51；和在基板主体51的内侧(液晶层23侧)的表面顺次层叠的遮光膜52、滤色器层53以及取向膜54。
遮光膜52在俯视情况下成为基板主体51的表面中的子像素区域的边缘部，在隔着液晶层23等而与TFT元件12、数据线13和扫描线14重叠的区域中形成为俯视呈大致格子状，对子像素区域取边缘。
另外，滤色器层53以覆盖遮光膜52的方式与各子像素区域对应配置，例如由丙烯酸等构成，含有与在各子像素区域显示的颜色相对应的色材。
取向膜54例如由聚酰亚胺等透光性的树脂材料构成，被设置成覆盖滤色器层53。此外，向取向膜54的内侧表面实施与取向膜54的取向方向相同方向的摩擦处理。
就构成液晶层23的液晶分子而言，为了对取向膜38、54实施以子像素区域的短轴方向(Y轴方向)为取向方向的取向处理，在未向像素电极11和共用电极45之间施加电压的状态下(断开状态)下，沿着Y轴方向水平取向。另外，液晶分子在向像素电极11和共用电极45之间施加电压的状态(接通状态)下，沿着与带状部45b的延伸方向正交的方向取向。因此，在液晶层23中，利用基于断开状态和接通状态下液晶分子的取向状态的差异的双折射性，对透过液晶层23的光赋予相位差。
偏振片24、25被设置成其透过轴相互大致正交。在这里，可以在偏振片24、25的一方或双方的内侧配置光学补偿薄膜(图示略)。通过配置光学补偿薄膜，可以对斜视液晶显示装置1情况下的液晶层23的相位差进行补偿，可以减少漏光，增加对比度。作为光学补偿薄膜，可以使用组合了负的单轴性介质和正的单轴性介质的膜、或各方向的折射率为nx＞nz＞ny的双轴性介质。
[液晶显示装置的制造方法]
接着，参照图4和图5，对如上所述构成的液晶显示装置1的制造方法进行说明。在这里，图4和图5是表示液晶显示装置1的制造工序的工序图。其中，在本实施方式中，元件基板21的制造工序具有特征，因此以这一点为中心进行说明。
首先，在基板主体31的上表面形成基底保护膜32，在该基底保护膜32上形成半导体层41。此外，形成覆盖半导体层41的栅极绝缘膜33，在该栅极绝缘膜33上形成扫描线14和共用线42。进而，形成覆盖扫描线14和共用线42的层间绝缘膜34。接着，在层间绝缘膜34上形成数据线13和第一以及第二中继电极43、44。此时，形成贯通栅极绝缘膜33和层间绝缘膜34的贯通孔H3～H5(图4(a))。
接着，形成覆盖数据线13和第一以及第二中继电极43、44的树脂膜35。在这里，涂敷构成树脂膜35的树脂材料，利用光刻技术等形成图案。由此，形成第一以及第二中继电极43、44各自的至少一部分露出的贯通孔H1、H2(图4(b))。
接着，在树脂膜35上形成覆盖膜36。在这里，在树脂膜35上形成构成覆盖膜36的透光性材料膜(图4(c))。
接着，在覆盖膜36上形成像素电极11。在这里，利用CVD(ChemicalVapor Deposition)法等形成构成像素电极11的导电材料膜，利用光刻技术等形成图案。
此外，形成覆盖像素电极11的电极绝缘膜37。在这里，形成构成电极绝缘膜37的透光性材料膜(图5(a))。此时，因为树脂膜35上形成有覆盖膜36，所以在利用CVD法形成电极绝缘膜37时，可以防止由氧系气体引起的树脂膜35的损伤。
接着，形成贯通电极绝缘膜37的贯通孔H7、和贯通电极绝缘膜37及覆盖膜36的贯通孔H6、H8。在这里，利用光刻技术等形成贯通孔H7～H8。由此，一并形成贯通电极绝缘膜37的贯通孔H7、和贯通电极绝缘膜37以及覆盖膜36的贯通孔H6、H8(图5(b))。此时，没有必要使覆盖膜36和电极绝缘膜37分开形成图案。
接着，在电极绝缘膜37上形成共用电极45和连接电极46。在这里，利用CVD法等形成构成共用电极45和连接电极46的导电材料膜，利用光刻技术等形成图案。此时，经由贯通孔H6连接共用电极45和第二中继电极44，经由贯通孔H7、H8连接连接电极46和第一中继电极43(图5(c))。
此外，形成覆盖共用电极45和连接电极46的取向膜38。如上所述，形成元件基板21。
随后，用上述密封材料粘合元件基板21和另外形成的对向基板22，注入液晶并将其密封，由此形成液晶层23。进而，在元件基板21和对向基板22的外面设置偏振片24、25。如此，制造如图2和图3所示的液晶显示装置1。
[液晶显示装置的动作]
接着，对具有这样的构成的液晶显示装置1的动作进行说明。从元件基板21的外面侧入射的光被偏振片24变换成与子像素区域的长轴方向(如图2所示的X轴方向)平行的直线偏振光，入射到液晶层23。
在这里，如果是断开状态的情况，入射到液晶层23的直线偏振光通过液晶层23而以与入射时相同的偏振光状态从液晶层23射出。此外，就该直线偏振光而言，由于其偏振光方向与偏振片25的透过轴正交，所以被偏振片25阻断，子像素区域成为暗显示。
另一方面，如果是接通状态的情况，入射到液晶层23的直线偏振光由于液晶层23而被赋予规定的相位差(1/2波长)，变换成与入射时的偏振光方向正交的直线偏振光，从液晶层23射出。此外，就该直线偏振光而言，由于其偏振光方向与偏振片25的透过轴平行，所以透过偏振片25，作为显示光被辨认，子像素区域成为明显示。
此时，通过数据线13供给用于驱动液晶层23的图像信号S1～Sn，由此在设置于元件基板21上的像素电极11和共用电极45之间产生电场。在这里，在像素电极11和共用电极45之间设置电缺陷能级(trap)少的SiO2构成的电极绝缘膜37，所以显示的图像保留受到抑制。另外，共用电极45配置为与像素电极11相比更接近液晶层23，所以可以抑制在一个子像素区域产生的电场的影响波及到相邻的其他的子像素区域的周边部分。
[电子设备]
如上所述构成的液晶显示装置1例如被用作图6所示的移动电话机(电子设备)100的显示部101。该移动电话机100具备：显示部101、多个操作按钮102、受话口103、送话口104以及具有上述显示部101的主体部。
如上所述，根据本实施方式的液晶显示装置1以及液晶显示装置1的制造方法和移动电话机100，在形成用于导通共用电极45和共用线42的贯通孔H6的同时形成贯通孔H7、H8，并且经由连接电极46来导通像素电极11和TFT元件12，由此不必另外设置形成仅贯通覆盖膜36的贯通孔的工序。因此，可以在不使制造工序大幅度复杂的情况下，在树脂膜35上形成覆盖膜36。
另外，通过在树脂膜35上设置覆盖膜36，从而作为电极绝缘膜37，可以使用显示图像保留的发生能被抑制且形成时可以使用氧系气体的例如SiO2等。
[第二实施方式]
接着，根据附图说明本发明的液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法的第二实施方式。在这里，图7是表示子像素区域的平面构成图，图8是图7的B-B向视剖面图。其中，在本实施方式中，子像素区域的构成与第一实施方式不同，所以以该点为中心进行说明，同时对上述实施方式中说明的构成要素附以相同的标记，省略对其的说明。
[液晶显示装置]
本实施方式的液晶显示装置110如图7和图8所示，是具有2个显示区域的半透过反射型的彩色液晶显示装置，即在子像素区域的长轴方向(X轴方向)上分割形成的反射显示区域R和透过显示区域T。此外，液晶显示装置110具备元件基板111、对向基板112和液晶层23。
元件基板111具有树脂膜35的内侧表面中与反射显示区域R对应形成的反射膜113。该反射膜113例如是Al等具有光反射性的金属膜，被作为附加绝缘膜的覆盖膜36覆盖。在这里，覆盖膜36由SiN等构成。
对向基板112具有滤色器层53的内侧表面中与反射显示区域R对应形成的液晶层厚调节层114。该液晶层厚调节层114例如由丙烯酸等透光性材料构成，被取向膜54覆盖。在这里，液晶层厚调节层114使反射显示区域R的液晶层23的层厚和透过显示区域T的液晶层23的层厚为不同的厚度，具有通过反射显示区域R和透过显示区域T使向透过液晶层23的光赋予的相位差最佳化的功能。
[液晶显示装置的制造方法]
接着，参照图9对如上所述构成的液晶显示装置110的制造方法进行说明。在这里，图9是表示液晶显示装置110的制造工序的工序图。其中，在本实施方式中，元件基板111的制造工序具有特征，因此以这一点为中心进行说明。
首先，与上述的第一实施方式一样，形成树脂膜35。此外，在该树脂膜35上形成构成反射膜113的金属膜，并使其形成图案，由此形成反射膜113(图9(a))。接着，在树脂膜35上形成覆盖反射膜113的覆盖膜36(图9(b))。此外，与上述的第一实施方式一样，形成像素电极11等，形成元件基板111。此时，用覆盖膜113覆盖反射膜113，使反射膜113和像素电极11绝缘，所以即便在反射膜113和像素电极111之间存在接触电位，例如也可以在湿蚀刻等使用了电解液的像素电极11的图案形成时抑制反射膜113被腐蚀。
随后，用上述密封材料粘合元件基板111和另外形成的对向基板112，注入液晶并将其密封，由此形成液晶层23。进而，在元件基板111和对向基板112的外面设置偏振片24、25。如此，制造如图7和图8所示的液晶显示装置110。
如上所述，根据本实施方式的液晶显示装置110以及液晶显示装置110的制造方法和移动电话机，与上述一样，可以在不使制造工序大幅度复杂化的情况下，在树脂膜35上形成覆盖膜36。
另外，用覆盖膜36覆盖反射膜113，使反射膜113和像素电极11绝缘，所以在使像素电极11形成图案时，可以抑制反射膜113被腐蚀。因此，可以提高液晶显示装置110的制造成品率。
此外，由于覆盖膜36的折射率低于像素电极11的折射率，所以增大反射膜113和覆盖膜36的折射率差，可以提高反射显示区域R的显示品质。
其中，本发明不限于上述实施方式，可以在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。
例如，覆盖膜由SiN构成，但只要能够抑制氧系气体引起的树脂膜的损伤，也可以是其他材料。
另外，电极绝缘膜由SiO2构成，但只要可以抑制显示图像保留，也可以是其他材料。
此外，共用线形成于栅极绝缘膜上，但只要形成在树脂膜的下层，还可以形成于其他层上。
另外，在第二实施方式中，覆盖膜由SiN等构成，但不限于SiN。此外，在对向基板上设置有液晶层厚调节层，但可以在元件基板上设置液晶层厚调节层，树脂膜可以兼具液晶层厚调节层的功能。
另外，就液晶显示装置而言，像素电极和共用电极具有FFS方式的电极结构，但只要是隔着电极绝缘膜来配置像素电极和共用电极，也可以采用使用了IPS(In-Plane Switching)方式等所谓横向电场方式的其他电极结构。
此外，液晶显示装置不限于彩色液晶显示装置。
另外，作为具备液晶显示装置的电子设备，不限于移动电话机，还可以是移动型个人电脑或PDA(Personal Digital Assistant：移动信息终端机)、个人电脑、笔记本型个人电脑、工作站、数码相机、车载用监视器、汽车导航装置、平视显示器、数码摄影机、电视显像机、取景器型或监视器直视型的磁带录像机、寻呼机、电子记事本、台式计算器、电子书或投影仪、文字处理器、电视电话机、POS终端等之类的其他电子设备。
Claims (9)
1.一种液晶显示装置，其在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动所述液晶层的第一以及第二电极、和控制该第一电极的驱动的驱动元件，
所述其中一个基板具有：树脂膜；形成在该树脂膜上且在上表面形成所述第一电极的覆盖膜；覆盖所述第一电极且在上表面形成所述第二电极的电极绝缘膜；形成在所述电极绝缘膜上且使所述第一电极和所述驱动元件导通的连接电极；和形成在所述覆盖膜的下层且与所述第二电极导通的连接线；
所述连接电极经由贯通所述电极绝缘膜的第一贯通孔而与所述第一电极连接，并且经由贯通所述覆盖膜和所述电极绝缘膜的第二贯通孔而与所述驱动元件导通；
所述第二电极经由贯通所述覆盖膜和所述电极绝缘膜的第三贯通孔而与所述连接线导通。
2.一种液晶显示装置，在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动所述液晶层的第一以及第二电极、和控制该第一电极的驱动的驱动元件，
所述其中一个基板具有：树脂膜；形成在该树脂膜上的反射膜；覆盖该反射膜且在上表面形成所述第一电极的覆盖膜；覆盖所述第一电极且在上表面形成所述第二电极的电极绝缘膜；形成在所述电极绝缘膜上且使所述第一电极和所述驱动元件导通的连接电极；和形成在所述覆盖膜的下层且与所述第二电极导通的连接线；
所述连接电极经由贯通所述电极绝缘膜的第一贯通孔而与所述第一电极连接，同时经由贯通所述覆盖膜和所述电极绝缘膜的第二贯通孔而与所述驱动元件导通；
所述第二电极经由贯通所述覆盖膜和所述电极绝缘膜的第三贯通孔而与所述连接线导通。
3.如权利要求2所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述覆盖膜的折射率比所述第一电极的折射率还低。
4.如权利要求1～3中任意一项所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述覆盖膜是含氧量少的绝缘膜。
5.如权利要求1～4中任意一项所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述覆盖膜由氮化硅构成。
6.如权利要求1～5中任意一项所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述电极绝缘膜由二氧化硅构成。
7.一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动所述液晶层的第一以及第二电极、和控制该第一电极的驱动的驱动元件，该方法包括：
在所述其中一个基板上形成与所述第二电极导通的连接线的工序；
在该连接线的上层形成树脂膜的工序；
在该树脂膜上形成覆盖膜的工序；
在该覆盖膜上形成所述第一电极的工序；
在所述覆盖膜上形成覆盖所述第一电极的电极绝缘膜的工序；
形成贯通所述电极绝缘膜的第一贯通孔、和贯通所述电极绝缘膜及所述覆盖膜的第二及第三贯通孔的工序；和
在所述电极绝缘膜上形成经由所述第一贯通孔而与所述第一电极连接且经由所述第二贯通孔而与所述驱动元件导通的连接电极、和经由所述第三贯通孔而与所述连接线导通的所述第二电极的工序。
8.一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置在夹持液晶层的一对基板的其中一个基板上设置有驱动所述液晶层的第一以及第二电极、和控制该第一电极的驱动的驱动元件，该制造方法包括：
在所述其中一个基板上形成与所述第二电极导通的连接线的工序；
在该连接线的上层形成树脂膜的工序；
在该树脂膜上形成反射膜的工序；
在所述树脂膜上形成覆盖所述反射膜的覆盖膜的工序；
在该覆盖膜上形成所述第一电极的工序；
在所述覆盖膜上形成覆盖所述第一电极的电极绝缘膜的工序；
形成贯通所述电极绝缘膜的第一贯通孔和贯通所述电极绝缘膜以及所述覆盖膜的第二以及第三贯通孔的工序；和
在所述电极绝缘膜上形成经由所述第一贯通孔而与所述第一电极连接且经由所述第二贯通孔而与所述驱动元件导通的连接电极、和经由所述第三贯通孔而与所述连接线导通的所述第二电极的工序。
9.一种电子设备，其具备权利要求1～6中任意一项所述的液晶显示装置。
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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