CN101210405A - 书画描写纸及其生产工艺 - Google Patents
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Abstract
一种结合了独特的纸张技术、丝网印制技术和水性油墨等技术的新型材料纸,用水在印刷部分涂写,会出现印刷图文,水渍干燥后又可以隐藏下面的图文。可以广泛应用于儿童、书法书画爱好者的字画临摹、绘画临摹等领域。全部技术为环保型。具有耐水、耐油、耐腐蚀、抗冲击、折曲、拉扯等特点。
Description
所属技术领域
本发明涉及一种清水描写显形的书画描写纸及其生产工艺
背景技术
目前市场上能见到的清水描写纸是造纸过程中使用特殊涂布技术制成的纸张,通过在其上印制书画轮廓来达到书法书画练习的目的。而本发明正好相反,是在普通纸或合成纸或特制防水纸上用特殊工艺和专用特殊油墨将已印制好的标准书画覆盖住,获得半透明效果,用清水笔描画透色获得明显的对比效果,进而达到书画练习的目的,可多次重复使用。
发明内容
本发明的目的是为了提供一种遇水显形的书画描写练习纸,它具有把水滴沾到印刷部分,能透视到下面的印刷图案,而且水滴干燥后又可以隐藏下面图像,可以可逆反应的功能。
为达到上述目的。本发明采用丝网印刷、滴水消失油墨、特殊的纸张。采用水性油墨,对环境无污染。
本发明的最终效果是用水在印刷部分涂写,会显现印刷的图文,待水渍干燥后又可以隐藏下面的图文。而且本发明符合环保要求,绝不会造成公害,可百分之百回收利用。印刷成品具有耐水耐湿、坚韧、不易撕裂、耐拉扯、折曲、耐油、耐腐蚀等特点,冲击、强度远远高于一般的纸张。可以应用在潮湿、酸、碱、有机溶剂、油类等渗透或腐蚀方面,即使浸泡在水里,也不会产生变形或降低强度。
附图说明
下面结合附图详细说明该书画描写纸的结构和技术特征。
图中从上到下依次:1是特殊纸基材料,2是普通印刷图文,3是特殊油墨涂布层。
具体实施过程:
本发明涉及了三层结构:所述的特殊纸基材料,作为印品的承载物它应当不怕水,遇水不变形,因此使用前要对纸张进行特殊防水处理,方法是用UV光油印制保护层。
所述的普通印刷图文,通过普通胶印印刷在特殊纸基材料上,彩印。
所述的特殊油墨涂布层,使用滴水消失油墨,利用丝网印刷技术印制,可以是特殊设计的形状。采用170目丝网,均匀印制,干燥后即获得成品。
使用方法是:用普通干净毛笔蘸取清水,或专用清水笔按照透过的半透明线条描画、临摹底下的彩印图案,则可看到清晰的图案效果。水干后恢复原来半透明效果,从而可多次描画,到达练习的目的。
Claims (5)
1.一种书画描写纸,其特征是:该纸是结合了独特的纸张技术、丝网印制技术和水性油墨等技术的新型材料纸,由3层组成的复合层结构,由特殊纸(1)用UV光油印制保护层,进行了防水处理;信息层(2)用普通胶印技术将图文印刷到特殊纸(1)上;特殊油墨涂布层(3)使用滴水消失油墨,利用丝网印刷技术印制而成构成。
2.按权利要求1所述的描写纸,其特征是遇水显形,把水滴沾到印刷部分,能透视到下面的印刷图案,而且水滴干燥后又可以隐藏下面图像,具有可逆反应功能。
3.按权利要求1所述的描写纸,其特征是在未遇到水之前,呈半透明效果。
4.按权利要求1所述的描写纸的制作工艺,采用了用UV光油印制保护层来进行防水处理。
5.按权利要求3所述的描写纸,印刷过程采用滴水消失油墨。
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CNA2006101683379A CN101210405A (zh) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | 书画描写纸及其生产工艺 |
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Publications (1)
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CN101210405A true CN101210405A (zh) | 2008-07-02 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN101210405A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105350378A (zh) * | 2015-09-28 | 2016-02-24 | 潍坊永新纸业有限公司 | 一种字帖临摹纸造纸工艺 |
CN111270559A (zh) * | 2019-09-09 | 2020-06-12 | 华南理工大学 | 一种纳米纤维素/纳米氧化锌多功能保护液及其制备方法与对纸质文献保护的方法 |
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2006
- 2006-12-26 CN CNA2006101683379A patent/CN101210405A/zh active Pending
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CN111270559A (zh) * | 2019-09-09 | 2020-06-12 | 华南理工大学 | 一种纳米纤维素/纳米氧化锌多功能保护液及其制备方法与对纸质文献保护的方法 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Open date: 20080702 |