CN101186493B - 一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法。按化学式(Am-1BmO3m+1)2-(Bi2O2)2+摩尔比A∶B∶Bi=m-1∶m∶2计算、称取原材料,其中A为适合于12配位的一价、二价、三价或四价金属离子,B为适合于八面体配位的三价、四价、五价或六价金属离子;经过混合、预合成、粉碎、成型、烧结等工序制备。烧结工艺为:以2~5℃/min的升温速率升温至1100~1250℃,在1~5min内将温度迅速降低50~150℃,在950~1150℃低温保温5~20hr,以3~7℃/min的速度降温至500℃后,随炉自然冷却。采用本发明可以获得细晶、致密的铋层结构压电铁电陶瓷材料。

Description

一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法
技术领域
本发明涉及一种功能陶瓷材料,具体涉及一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法。
背景技术
铋层结构的铁电材料(BLSF)是一类极具潜力的高温无铅压电铁电材料,该类材料具有高居里温度和品质因数、大的各向异性、高绝缘强度和电阻率、高击穿强度、低老化率等特点引,近年来对铋层结构的压电铁电材料的研究和开发极为活跃。
铋层结构铁电材料的化学通式以(Am-1BmO3m+1)2-(Bi2O2)2+表示,由类钙钛矿层(Am-1BmO3m+1)2-与(Bi2O2)2+层沿c轴有规则地交替排列而成。其中A是一价、二价、三价、四价离子或其复合离子,B是三价、四价、五价、六价离子或其复合离子,m为类钙钛矿层中BO6八面体的数目,m=1~5。
铋层结构铁电材料的铁电性主要来源于(Bi2O2)2+层之间的类钙钛矿结构。由于其晶体结构的特殊性,限制了自发极化的三维旋转,自发极化只能在ab平面内二维转动,因而铋层结构的铁电材料普遍存在矫顽电场高、剩余极化强度低、压电活性低、需要高温极化等缺点。限制铋层结构铁电材料广泛应用的另一个因素是:与其它电子陶瓷材料相比,该类材料的致密度偏低。这主要来源于以下两方面的原因:一是该类材料特殊的晶体结构所致,其晶体结构的各向异性决定了其晶粒大部分呈片状的,片状晶粒的无规则排列造成了材料内部存在较大的空隙率;二是高温烧结过程中存在的铋挥发性问题,也妨碍了高密度陶瓷的获得。另外,由于铋挥发可能导致材料中大量氧空位的产生,还易造成材料性能恶化。因此,对该系统材料的显微结构以及铁电、介电、压电等综合性能的改性研究成为铁电压电材料研究的又一热点,包括通过离子掺杂取代、采用使晶粒定向排列的晶粒取向技术——如模板晶粒生长法(TGG)、热锻(HF)、热压(T Kimura,Application oftexture engineeringto piezoelectric ceramics[J],J Ceram Soc Jpn,2006,114(1):15)、流延(李永祥等,CN1562874A,2005)等,这些方法在改善材料的压电铁电性能、降低烧结温度以及提高瓷体的致密度等方面,均取得了一定的效果。但是目前大部分的BLSF都是采用传统的制备工艺,要想通过传统的陶瓷制备技术得到性能优良、致密度高的压电铁电陶瓷,无疑是一个很大的挑战。
发明内容
本发明的目的在于提供提供一种在传统制备工艺的基础上,通过调节烧成制度、控制显微结构,获得具有较高致密度的铋层结构铁电陶瓷材料的制备方法。
本发明的目的通过如下技术方案实现:
铋层结构压电铁电陶瓷材料的化学通式为(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-,其中A为一价、二价、三价、四价金属离子如Li、Na、K、Sr、Ba、Ca、Ln(Ln是镧系元素La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Dy、Ho、Pm之一)离子之一或其复合离子,优选地,A为Na、Sr、Ba、Ca、Bi、La离子之一或其复合离子;B为三价、四价、五价、六价金属离子如Ti、Zr、Nb、V、Ta、W离子之一或其复合离子,优选地,B为Ti、Nb、V离子之一或其复合离子,m=1~5。
按上述化学通式计算、称取原材料。所有原材料均为分析纯的碳酸盐或氧化物。以蒸馏水为介质,将所称量的原材料与蒸馏水充分混合、干燥、过筛后,将混合料在750~950℃密闭预烧合成2~4小时。将预烧好的粉料粉碎2~10个小时后,干燥,过筛。在5~20MPa的压力下预压,然后进一步在150~300MPa的压力下成型。
将成型后的样品在950~1250℃的温度下进行密闭烧结。烧结分段进行:(1)以2~5℃/min的升温速度将温度由室温升高到1100~1250℃;(2)在1~5min内将温度由1100~1250℃迅速降低50~150℃,在950~1150℃保温5~20hr;(3)以3~7℃/min的速率将温度降至500℃。之后,随炉自然冷却。
相对于现有技术,本发明具有如下优点和有益效果:
(1)本发明通过控制烧结后期的温度变化,在抑制晶界迁移的同时,保持晶界扩散处于活跃状态,实现在抑制晶粒生长的前提下达到坯体致密化。
(2)抑制晶粒进一步长大,降低晶粒粗化速度,利于获得细晶陶瓷。
(3)低温保温烧结可以减少铋的挥发,减少瓷体中的氧空位,维持材料的化学计量比。
(4)有助于降低瓷体内的气隙率,提高致密度。
(5)实现控制降温速率的烧成制度,减少降温过程中产生的内应力。由于铋层结构铁电陶瓷晶粒的各向异性较大,在从高温到低温的变化过程中如果降温速率过快,瓷体内会产生较大的内应力,这对材料的各项电性能和疲劳特性都有不利的影响。控制降温速率可以减少降温过程中瓷体内部产生的内应力,保持材料的性能。
(6)采用本发明所制备的铋层结构压电铁电陶瓷材料具有细晶、均匀、致密的显微结构,平均晶粒尺寸为1~3μm。
(7)本发明特别适合于成分比较单一、结晶能力比较强、可烧结性差、烧成温区比较窄的铋层结构压电铁电陶瓷材料的制备。
附图说明
图1(a)为采用传统高温一次烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷自然表面的SEM图;
图1(b)为实施例1采用分段烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷自然表面的SEM图;
图2(a)为采用传统高温一次烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷断面热腐蚀后的SEM图;
图2(b)为实施例1的采用分段烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷断面热腐蚀后的SEM图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明制备作进一步的说明,但本发明所要求保护的范围并不局限于实施例所涉及的范围。
实施例1
以m=4的Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15为基方、按摩尔比Sr∶Ba∶Bi∶Ti∶V=0.3∶0.7∶4∶3.95∶0.05配料,所用原料均为分析纯的碳酸锶(SrCO3)、碳酸钡(BaCO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钒(V2O5)。
按配方式计算、称取原材料。以蒸馏水为球磨介质,用行星球磨机球磨2小时,在120℃干燥,过80目筛。然后将混合料在800℃密闭预烧2小时。将预烧好的粉料粉碎4个小时后,在120℃干燥,过80目筛。用10MPa的压力预压粉料,然后用冷等静压机在250MPa的压力下将粉末压制成直径15mm、厚度2mm的圆片,保压时间1min。
将成型好的圆片在马弗炉内进行密闭烧结。烧结分段进行:先以3℃/min的升温速率将温度升到最高温度1180℃,然后在3min内将温度迅速降低150℃,在1030℃保温10hr。再以5℃/min的降温速率将温度降至500℃后,随炉自然冷却,制得铋层结构压电铁电陶瓷材料。
利用扫描电镜观察材料的显微形貌,实验结果如图1(b)、图2(b)所示。为了便于比较,图1(a)、图2(a)分别示出采用传统高温一次烧结工艺所得陶瓷的显微形貌。
图1(a)为采用传统高温一次烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷自然表面的SEM图,烧结温度1160℃,保温时间2小时;图1(b)为采用分段烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷自然表面的SEM图,最高温度1180℃,保温温度1030℃,保温时间10h。通过对比可以明显看出:采用分段烧结工艺使晶粒尺寸明显减少。
图2(a)为采用传统高温一次烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷断面热腐蚀后的SEM图,烧结温度1160℃,保温时间2小时,热腐蚀温度1120℃;图2(b)为采用分段烧结工艺所得Sr0.3Ba0.7Bi4Ti3.95V0.05O15陶瓷断面热腐蚀后的SEM图,最高温度1180℃,保温温度1030℃,保温时间10hr,热腐蚀温度1120℃。可见,采用传统高温一次烧结工艺烧结的陶瓷,大部分晶粒尺寸分布在2~4μm之间,并且有一些大气孔存在于瓷体中。而采用分段烧结工艺所制备的陶瓷,大部分晶粒尺寸分布在1~2μm之间,并且气孔显著减少,陶瓷的致密度获得明显提高。
下面实施例的扫描电镜观察材料的显微形貌与图1(b)、图2(b)相似,其对比情况与图1(a)、图2(a)相似,不再具体说明。
实施例2
以m=5的SrCaBi4Ti5O18为基方、按摩尔比Sr∶Ca∶Bi∶Ti=1∶1∶4∶5配料,所用原料均为分析纯的碳酸锶(SrCO3)、碳酸钙(CaCO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化钛(TiO2)。
按配方式计算、称取原材料。以蒸馏水为球磨介质,用行星球磨机球磨2小时,在120℃干燥,过80目筛。然后将混合料在900℃密闭预烧4小时。将预烧好的粉料粉碎4个小时后,在120℃干燥,过80目筛。用20MPa的压力预压粉料,然后用冷等静压机在300MPa的压力下将粉末压制成直径15mm、厚度2mm的圆片,保压时间20s。
将成型好的圆片在马弗炉内进行密闭烧结。烧结分段进行:先以2℃/min的升温速率将温度升到最高温度1250℃,然后在1min内将温度迅速降低100℃,在1150℃保温5hr。再以7℃/min的降温速率将温度降至500℃后,随炉自然冷却。
采用这种工艺制备的陶瓷材料断面比较致密,气孔率显著减少,平均晶粒尺寸在1~3μm之间。
实施例3
以m=3的Bi3LaTi3O12为基方、按摩尔比Bi∶La∶Ti=3∶1∶3配料,所用原料均为分析纯的氧化铋(Bi2O3)、氧化镧(La2O3)、氧化钛(TiO2)。
按配方式计算、称取原材料。以蒸馏水为球磨介质,用行星球磨机球磨2小时,在120℃干燥,过80目筛。然后将混合料在850℃密闭预烧3小时。将预烧好的粉料粉碎4个小时后,在120℃干燥,过80目筛。用5MPa的压力预压粉料,然后用冷等静压机在150MPa的压力下将粉末压制成直径15mm、厚度2mm的圆片,保压时间2min。
将成型好的圆片在马弗炉内进行密闭烧结。烧结分段进行:先以3℃/min的升温速率将温度升到最高温度1150℃,然后在3min内将温度迅速降低100℃,在1050℃保温8hr。再以3℃/min的速度冷却至500℃后,随炉自然冷却。
采用这种工艺制备的陶瓷材料断面比较致密,气孔率显著减少,平均晶粒尺寸在1~3μm之间。
实施例4
以m=2的Na0.5Bi2.5Nb2O9为基方、按摩尔比Na∶Bi∶Nb=0.5∶2.5∶2配料,所有原料均为分析纯的碳酸钠(Na2CO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(Nb2O5)。
按配方式计算、称取原材料。以蒸馏水为球磨介质,用行星球磨机球磨2小时,在120℃干燥,过80目筛。然后将混合料在750℃密闭预烧2小时。将预烧好的粉料粉碎4个小时后,在120℃干燥,过80目筛。用5MPa的压力预压粉料,然后用冷等静压机在200MPa的压力下将粉末压制成直径15mm、厚度2mm的圆片,保压时间1min。
将成型好的圆片在马弗炉内进行密闭烧结。烧结分段进行:先以5℃/min的升温速率将温度升到最高温度1100℃,然后在5min内将温度迅速降低150℃,在950℃保温20hr。再以3℃/min的速度冷却至500℃后,随炉自然冷却。
采用这种工艺制备的陶瓷材料断面比较致密,气孔率显著减少,平均晶粒尺寸在1~3μm。
实施例5
以m=1的Sr0.5Ba0.5Nb2O6为基方、按摩尔比Sr∶Ba∶Nb=1∶1∶4配料,所有原料均为分析纯的碳酸锶(SrCO3)、碳酸钡(BaCO3)、氧化铌(Nb2O5)。
按配方式计算、称取原材料。以蒸馏水为球磨介质,用行星球磨机球磨2小时,在120℃干燥,过80目筛。然后将混合料在800℃密闭预烧2小时。将预烧好的粉料粉碎4个小时后,在120℃干燥,过80目筛。用10Mpa的压力预压粉料,然后用冷等静压机在250MPa的压力下将粉末压制成直径15mm、厚度2mm的圆片,保压时间1min。
将成型好的圆片在马弗炉内进行密闭烧结。烧结分段进行:先以3℃/min的升温速率将温度升到最高温度1100℃,然后在1min内将温度迅速降低50℃,在1050℃保温6hr。再以5℃/min的速度冷却至500℃后,随炉自然冷却。
采用这种工艺制备的陶瓷材料断面比较致密,气孔率显著减少,平均晶粒尺寸在1~3μm之间。

Claims (3)

1.一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)配料:按铋层结构压电铁电陶瓷材料化学式(Am-1BmO3m+1)2-(Bi2O2)2+摩尔比A∶B∶Bi=m-1∶m∶2计算、称取原材料,原材料均为分析纯的碳酸盐或氧化物,其中A为适合于12配位的一价、二价、三价或四价金属离子,B为适合于八面体配位的三价、四价、五价或六价金属离子,m为1~5的自然数;
(2)成型:以蒸馏水为介质,将步骤(1)的原料与蒸馏水充分混合、干燥、过筛后,将混合料在750~950℃密闭预烧合成2~4小时;将预烧好的粉料粉碎2~10个小时后,干燥,过筛;在5~20MPa的压力下预压,然后进一步在150~300MPa的压力下成型;
(3)密闭烧结:将步骤(2)所得的圆片按照如下方式分段烧结,先以2~5℃/min的升温速率使温度升高到1100~1250℃,然后在1~5min内将温度迅速降低50~150℃,在950~1150℃保温5~20hr,再以3~7℃/min的速率降温至500℃后,随炉自然冷却。
2.根据权利要求1所述的一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法,其特征在于所述A为Li、Na、K、Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Dy、Ho或Pm离子之一或其复合离子。
3.根据权利要求1所述的一种提高铋层结构压电铁电陶瓷材料致密度的方法,其特征在于所述B为Ti、Zr、Nb、V、Ta、W离子之一或其复合离子。
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