CN101180558B - 一种用于等离子体显示板的前滤光片 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于等离子体显示板(PDP)的前滤光片的制作方法。本发明尤其涉及一种用于PDP的包含层压在玻璃基片上的功能性膜的前滤光片，该功能性膜包含具有黑化处理层的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，其中所述透明玻璃基片背面没有用于提高可视度的黑色陶瓷条纹。取而代之的是形成导电网状膜上的黑化处理层的氧化物成分和厚度调整到可以得到与传统滤光片相比，具有相当或者更好可视度的效果。本发明最简化的一步工艺提供了在成本效率和环境友好性方面的优势。

Description

一种用于等离子体显示板的前滤光片
技术领域
本发明涉及一种用于等离子体显示板(PDP)的前滤光片(front filter)的制作方法，更具体地涉及一种用于PDP的包括层压在玻璃基片上的功能性膜的前滤光片，该功能性膜包含至少在观众一侧具有黑化处理层的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，其中透明玻璃基片背面一侧没有用于提高可视度的黑色陶瓷条纹，此外，将形成导电网状膜上的黑化处理层的氧化物膜的成分和厚度调整到可以得到与同传统滤光片相比，具有相当或者更好可视度的效果。本发明一步制作工艺提供了在成本和环境友好性方面的优势。 
背景技术
PDP是一种平面的发光显示设备，它比其它显示设备更容易实现较大显示面积。其被认为是用于下一代高质量数字电视最合适的显示设备。不过，PDP也有其缺点，它的电磁波和近红外射线辐射等级很高，而且荧光体(phosphor)的表面反射度也很高，并且由于受到PDP中充有的氖发出的橙色光影响，其颜色的纯度也比阴极射线管的差。此外，PDP是由3mm厚的上下板组成，所以在外力作用下易碎。 
因此，为了使人和设备免于电磁场干扰(EMI)和近红外射线辐射，减少表面反射、提高颜色纯度并且保护PDP免于外力损坏，采用前滤光片。 
用于PDP的前滤光片根据对电磁场干扰的屏蔽等级进行分类，可以分为工业应用和一般应用。PDP的工业应用(A级)前滤光片是通过在基片的背面交替地涂覆上例如银(Ag)的金属和具有高折射率的氧化物从而形成电磁波和近红外射线的屏蔽层，并且在玻璃基片的两面形成或层压抗反射膜制作而成的。 
此外，一般应用(B级)前滤光片是通过附着导电网状膜(conductivemesh film)(所述导电网状膜中铜的图案是使用粘合剂或胶水将铜附在玻璃基片上刻蚀得到的)，在玻璃基片表面上层压抗反射膜，还要在基片的背面层压具有近红外射线屏蔽层的膜制作而成的。 
因为用于EMI屏蔽的导电网状膜是由金属制成的，所以外部光在膜上会发生反射进而会影响到显示的可视度和对比度。为了防止这种现象，导电网状膜面向观众的一侧需要经过氧化或者利用黑色有机材料进行黑化处理(black treated)。 
用在PDP的前滤光片中的玻璃基片采用半钢化玻璃或者钢化玻璃来提高它的抗冲击性能，它的断裂强度比普通的浮法玻璃(钠钙玻璃)大2-5倍。另外，为了提高它的可视度，围绕玻璃基片的边框通过丝网印刷方式印上约3厘米宽的黑色陶瓷条纹。并且，为了保证用户的安全，玻璃经过R-级或C-级倒角处理。 
制作一个传统的B级PDP的前滤光片时，先要在背面印有条纹的钢化玻璃的前面形成抗反射膜，还要在钢化玻璃的前面或者背面形成导电网状膜，以及在前面或者背面形成用于屏蔽近红外射线和提高颜色纯度的膜。无论在任何情况下，抗反射膜都要形成在钢化玻璃基片的最前面。 
通过印刷方式在背面形成黑色陶瓷条纹的传统钢化玻璃也有其缺点：印黑色陶瓷条纹的过程本身需要很高的成本，而且由于印制过程中的针孔等问题钢化玻璃的产量也不是很高。而且，黑色的墨水中还含有对环境有害的物质。 
本发明的发明者们已经尽各种努力来提高生产过程中的产出率，成本效率以及在玻璃基片背面形成黑色陶瓷条纹过程中的环境友好性。结果，他们发现一种用于PDP的包含玻璃基片和功能性膜的前滤光片，所述功能性膜包括具有黑化处理层(black treated layer)的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，其中使用没有沿边框印刷上用于提高可视度的黑色陶瓷条纹的透明玻璃基片，不过，取而代之的是调整形成导电网状膜黑化处理层的铜氧化物膜的成分和厚度，进而得到与传统滤光片相当或者更好的可视度，同时以一步工艺以及环境友好性提高了成本效率，。 
综上，本发明的目的就是提供一种PDP前滤光片的制作方法，其能够提供与传统滤光片相比相当或者更好的可视度，并具有简化的加工工艺。 
发明内容
本发明涉及一种用于PDP的包含功能性膜的前滤光片，该功能性膜包括层压在玻璃基片上的至少在观众一侧有黑化处理层的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，其中所述透明玻璃基片没有形成在其背面的用于提高可视 度的黑色陶瓷条纹，但取而代之的是包含摩尔比率为1∶0.1-1的CuO和Cu2O的铜氧化物膜，层压到0.01-1μm的厚度，以形成所述导电网状膜的黑化处理层。 
以下是对本发明的进一步详细描述。 
本发明涉及一种用于PDP的包含功能性膜的前滤光片，所述功能性膜包括层压在玻璃基片上的至少在观众一侧有由铜氧化物膜形成的黑化处理层的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，与传统滤光片相比，其能够提供相当或者更好的可视度，同时，用最简化的一步工艺和环境友好性提高经济效益。 
可视度，或者事物被看到或观察到的程度，对于PDP来说是重要因素。通常，在PDP的前滤光片中，为了提高可视度，人们常常会沿着玻璃基片的边框形成黑色陶瓷条纹，并且在导电网膜表面上形成用于EMI屏蔽的黑化处理层。然而，由于印制黑色陶瓷条纹的过程并不是一个容易的过程，与用透明玻璃基片相比，这个过程会导致产品成本的大幅度提升。此外，用于形成黑色陶瓷条纹的墨水是一种对环境有害的材料，受到严格的控制。导电金属网膜的主要目的是屏蔽EMI，不过也希望通过黑化处理的方式能够一定程度上提高可视度。黑化的过程是通过涂覆含有氧化物和有机材料的导电膜实现的。 
本发明的技术特征在于用透明基片来降低制造成本，同时通过在导电金属网膜上形成一个经特殊设计的黑化处理层来提高可视度。本发明的优点在于不仅提供了与传统滤光片相比相当或者更好的可视度，同时，用最简化的一步工艺和环境友好性提高成本效率。 
用于形成黑化处理层的膜是通过具有特定的摩尔比率与特定厚度的铜的氧化物得到的。铜的氧化物膜包括CuO和Cu2O，二者的摩尔比率为1∶0.1-1，优选地1∶0.1-0.5，形成的厚度为0.01-1μm。铜氧化物的成分是由氧化程度决定的，而氧化程度可以通过本领域技术人员熟知的方法来控制。 
如果对应于每1摩尔CuO，Cu2O的比例少于0.1摩尔，EMI屏蔽的能力就会减弱，因为此时导电率小。相反，如果对应于每1摩尔CuO，Cu2O的比例超过了1摩尔，黑化的程度就会降低。此外，如果铜氧化物膜的厚度小于0.01μm，黑化的程度就会降低。相反，如果铜氧化物膜的厚度大于1μm，膜就会易碎从而产生粉末。 
所得的导电网状膜同根据传统方法需要几步才能制备的膜相比具有相同的效果，并且具有改进的黑化程度，所述黑化程度利用膜的成分和厚度可调节。 
现在，参照图1对本发明的PDP前滤光片进行进一步详尽地描述。 
对于前滤光片的基片(3)采用的是透明玻璃，具体地说是围绕边框没有印制黑色陶瓷条纹的浮法(钠钙)玻璃。采用倒角的，切角的或是钢化的玻璃也是可以的。玻璃基片必须要轻，同时具有很好的抗冲击性能。推荐玻璃基片的厚度为2-4mm，优选为2.5-3mm，从而防止波形失真。 
一般地，功能性膜是层压到玻璃基片上的，所述功能性膜包括用于EMI屏蔽的导电网状膜、用于屏蔽近红外射线和氖光(neon light)的光学膜和抗反射膜。 
在玻璃基片的一面上(如图2所示)，网(2e)是通过在由诸如聚酯等材料制成的透明塑料膜(2c)上利用铜进行图形化而形成的。玻璃基片上有一个没有经过图形化的铜的边框用于接地。为了提高可视度，在铜网即将要进行黑化处理的膜的一侧上，要形成一层粘合剂层(2d)用于同所述玻璃基片粘合。在玻璃边缘和用于接地的网膜表面之间的空白优选是在±2mm以内，最好是在±1mm以内。 
作为屏蔽由PDP辐射的近红外射线和氖光并因此提高颜色纯度的膜，含有用于屏蔽近红外射线的颜料和对光选择性吸收的颜料的层(1b)在透明的热塑树脂基膜(1a)上形成。 
透明的热塑树脂基片膜可以是该领域中常用的任何一种。特别地，可以使用诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(Pmm A)、三醋酸纤维素(triacetate cellulose TAC)和聚醚砜(PES)的热塑树脂。推荐基片膜的厚度为25-250μm并且透过率至少达到80％，更优选地达到至少90％。 
层(1b)是通过在透明的热塑性基片膜上涂覆含有用于屏蔽近红外射线的颜料和对光选择性吸收的颜料的溶液而形成的。所述用于屏蔽近红外射线的颜料可以是本领域中常用的任何一种，而没有特殊限制。不过，镍络合物和磷酸氢二铵组成的复合颜料、包含铜或锌离子的复合颜料和有机颜料等可以作为优选。更优选地，按重量每100份总的固体物质中，用于屏蔽近红外射线的颜料占0.1-20份。 
用于对光选择性吸收的颜料可以是本领域中常用的任何一种。优选 地，采用在韩国专利公开号为2001-026838和2001-039727中揭示的一种衍生颜料，其中四氮杂口卜啉结构化合物(tetraazaporphyrin)中的金属原子(M)与氨水、水和卤素中的一个配位基配位。优选地，所述金属(M)可以从由锌(Zn)、钯(Pd)、镁(Mg)锰(Mn)、钴(Co)、铜(Cu)、钌(Ru)、铑(Rh)、铁(Fe)、镍(Ni)、钒(V)、锑(Sb)和钛(Ti)组成的组中选出。按重量每100份总的固体物质中，所使用的对光选择性吸收的颜料占0.01-5.0份。如果按重量所述颜料的含量少于0.01份，就不能期望对颜色的纯度会带来提高，这是因为选择光吸收的能力下降。相反，如果其重量超过5.0份，所述滤光片的色彩平衡就会被扭曲而且透过率会下降。 
除了用于屏蔽近红外射线的颜料和用于选择性吸收光的颜料外，也可以加入偶氮染料、花青染料、二苯甲烷染料、三苯甲烷染料、苯二甲蓝染料(phthalocyanine dye)、吨染料(xanthene dye)、联苯染料(diphenylenedye)、靛青染料、卟啉染料(porphyrin dye)等用于对特定波长进行透过率控制或用于提高白度。优选地，所用的染料在每100wt％的总固体物质中占约0.05-3wt％。如果所述染料的含量低于0.05wt％，则没有实现加入它们的优点。此外，如果其含量超过3wt％，则其它化合物的相对含量就会减少。 
将颜料与透明的塑料粘合剂和溶剂混合，以制备用于在透明热塑性膜上涂覆的溶剂。所述透明的塑料粘合剂可以是一种透明的塑料树脂，如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。优选地，所使用的透明塑料粘合剂在每100wt％的溶剂中占5-40wt％。 
对于在包含颜料的涂覆混合物中所用的溶剂，可以是本领域中的一种常用溶剂。例如甲苯、二甲苯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、丙醇、异丙醇、乙二醇甲醚(methyl cellosolve)、乙二醇乙醚(ethyl cellosolve)或二甲基甲酰胺(DMF)。 
为了提高光的稳定性，可以将一些稳定剂进一步加入到涂覆混合物中。一般地，如自由基反应抑制剂一类的稳定剂可以按重量在每100份总固体物质中加入15-50份，用来防止染料脱色。 
通过本领域中常用的任一方法均可以实现涂覆，本发明中不作特殊限制。例如辊涂、模涂或旋涂都可以实现。优选地，实现涂覆后的干燥后的 膜厚度为约1-20μm，更优选地约2-10μm，以实现对近红外射线更好的屏蔽。 
导电网(2a)可以是采用金属纤维或金属涂敷的纤维的导电纤维网，或通过光刻或丝网印刷制成的图形化金属网。所述导电网是在透明热塑性基片膜(2c)上形成，而透明热塑性基片膜(2c)是通过透明粘合剂(2d)层压到玻璃基片上的。本发明的特征就在于至少基膜或金属网的边框上涂覆了特定成分和厚度的铜氧化物用以提高可视度。 
黑色陶瓷条纹可以通过本领域常用方法中的任何一种实现，没有特殊限制。在本发明实施例中，铜膜通过氧化方式形成一层黑化处理层，并且粘到透明热塑性膜上，所述热塑性膜则通过光刻术刻蚀并形成图案以得到网状膜。 
推荐导电网状膜的线间距为50-500μm，优选为100-400μm，线宽度为1-100μm，优选为5-50μm。如果网的线间距变小，透过率就会下降。相反，如果网的线间距变大，EMI屏蔽能力就会减弱。 
所得的热塑性树脂膜(1)使用透明粘合剂被层压在玻璃基片(3)上，所述热塑性树脂膜上已涂敷有用于近红外射线屏蔽和选择光吸收的层(1b)，所述玻璃基片(3)已层压有导电网状膜(2)。所述层压可以通过本领域内任何一种常用的方法实现。例如辊层压、薄片层压等。辊层压方式作为优选可以得到更高的产量。 
一般的，各层膜之间层压所用的粘合剂为透明的丙烯酸粘合剂。当粘合剂层的雾度(haze)为3.0或更小时，优选地1.0或者更小，并且粘合剂层的厚度在10-100μm之间，优选地在15-50μm之间时，可以得到足够的粘合强度。如果粘合剂层的厚度小于10μm，就不能得到足够的粘合强度。此外如果粘合剂层厚于100μm，就会导致雾度增加并且其返工性能差。 
粘合剂层可以通过将含有粘合剂、溶剂、硬化剂和其它添加剂的溶液涂覆在膜上而形成。涂敷可以通过诸如辊涂，模涂，点涂或浸涂(lip coating)等方法实现。另外，提前形成在剥离膜(release film)上的粘合剂层可以被转录在所述膜上，用于近红外射线和氖光的屏蔽。 
然后，将抗反射膜(4)形成在玻璃的前面，在玻璃的背面上或者辊压成型的叠层上，已经层压了网状膜和用于屏蔽近红外射线和氖光的膜。 
随后，网要经过处理使其透明。本发明中网的透明化过程如下：(a) 利用粘合剂将一个图案化的网状膜层压到透明玻璃基片(3)的背面：(b)利用粘合剂将能够屏蔽近红外射线和吸收氖光的膜(1)层压到金属网(2a)的顶部上；以及最后(c)将抗反射膜层压到透明玻璃基片的前面，也就是说，按照抗反射膜/玻璃/网状膜/近红外屏蔽膜的顺序。 
将合成的滤光片通过高压釜加热并加压。滤光片以40-200℃加热，优选为50-100℃，并且以1-10kgf/cm2加压，优选为2-5kgf/cm2。优选地，利用气体或蒸汽来加压。加热并加压大约30分钟以后，滤光片在高压釜中或空气中被冷却。冷却可以通过风冷、水冷或流体冷却实现，不过考虑到产出率的问题优选水冷。 
在进行透明化处理时，为了使网的图形透明的粘合剂层既可以放在具有近红外射线屏蔽和氖光吸收层的塑料膜的背面，也可以放在抗反射膜的背面。 
为了防止在高压釜里加热和加压期间出现杂质而可能引起的划痕或污染，保护膜可以附着在具有近红外射线屏蔽和氖光吸收层的膜的背面(最外面)或者抗反射膜的前面。 
功能性膜层压的顺序可以与图1中显示的顺序不同。例如，1)具有黑化处理层的导电网状膜和光学膜顺序地层压在透明玻璃基片的背面，而抗反射膜可以层压在所述透明玻璃基片的前面；2)具有黑化处理层的导电网状膜，光学膜和抗反射膜可以顺序地层压在透明玻璃基片的前面；或者3)具有黑化处理层的导电网状膜，和兼具光学及抗反射作用双重功能的复合膜，可以顺序地层压在透明玻璃基片的前面。也就是说，在不背离本发明目的情况下，可以通过多种方式层压所述功能性膜。 
如上所述，根据本发明的用于PDP的前滤光片，是通过顺序地将具有特定黑化处理层的导电网和涂敷有颜料层的透明热塑性膜层压到边框处没有黑色陶瓷条纹的透明玻璃基片上，在透明玻璃基片前面或背面再层压抗反射膜，并在高压釜中加热加压使其透明而制成的，其中，所述导电网状膜可以屏蔽近红外射线并且通过选择吸收光线提高颜色纯度。本发明中用于制作PDP前滤光片方法的优点在于通过省略了印制陶瓷条纹的过程减少了滤光片的制造成本。另外，可以获得以下色度坐标值：Y＝1-3，x＝0.17-0.27，y＝0.15-0.25，ΔE＝1.0或更小。 
附图说明
图1是例1中制作的PDP前滤光片的横截面示意图。 
图2是例1中用于EMI屏蔽的铜图形化的导电膜示意图。 
图3是例2中制作的PDP前滤光片的层压结构示意图。 
图4是例3中制作的PDP前滤光片的层压结构示意图。 
图5是例4中制作的PDP前滤光片的层压结构示意图。 
图6是对比例1中制作的PDP前滤光片的层压结构示意图。 
具体实施方式
本发明的实用且优选的实施例将在下面的例子中说明。然而应该了解，本领域的普通技术人员在理解本公开内容的基础上，可以在本发明精神和范围内进行修改和改进。 
例1 
(第一步)倒角的半钢化玻璃的制备 
将2.8mm厚的钠钙玻璃切到大小为584×984mm，并且斜边倒角成C0.2-1.2mm。然后，将四个角切成C5±3mm或R7±3mm。将玻璃放在约500℃的回火炉中进行回火。 
(第二步)功能性膜的层压 
在第一步中所准备的玻璃的一面上，在室温和压力为3kgf/cm2的条件下利用辊层压器(roll laminator)以每分钟1米的速度层压一个卷形网状膜(参见图2)，并且四边留有2mm左右的边距，其中，所述网状膜具有在聚酯膜上形成的连续的铜的图案和在聚酯膜背面形成的粘合剂层，并且至少所述聚酯膜的铜的一面已在碱性气氛下经过3-4分钟的黑化处理。将用于近红外射线和氖光屏蔽的膜切到大小为556×955mm，并将其在室温和压力为3kgf/cm2的条件下以每分钟1米的速度层压到网状膜上，所述网状膜已经被层压到玻璃背面，其中在所述用于近红外射线和氖光屏蔽的膜中，用于屏蔽近红外射线和氖光的层已经在树脂膜上形成，并且在该层上已形成粘合剂层。将尺寸切成580×980mm的抗反射膜在室温和压力为3kgf/cm2的条件下，以每分钟1米的速度层压到叠层的前面。 
(第三步)透明化处理 
得到的叠层被放到高压釜中，并且在温度为80℃，气压为5kgf/cm2下保持60分钟。经过约30分钟冷却之后则获得PDP的前滤光片。 
例2 
如例1第二步中所用的卷形网状膜，为在室温和压力为3kgf/cm2的条件下利用辊层压器以每分钟1米的速度层压而成，且其四边留有2mm左右的边距，所述卷形网状膜具有在聚酯膜上形成的连续的铜的图案和在聚酯膜背面形成的粘合剂层，并且其中至少所述聚酯膜的一面是经过黑化处理的。将用于近红外射线和氖光屏蔽的膜切到大小为556×955mm，并在室温和压力为3kgf/cm2的条件下，以每分钟1米的速度将其层压到叠层前面，其中在所述用于近红外射线和氖光屏蔽的膜中，用于屏蔽近红外射线和氖光的层已经在树脂膜上形成，并且在该层上已形成粘合剂层。将尺寸切成580×980mm的抗反射膜在室温和压力为3kgf/cm2的条件下，以每分钟1米的速度层压到叠层的前面。将叠层采用与例1中相同的方式制成透明从而得到前滤光片。 
例3 
如例1第二步中所用的卷形网状膜，为在室温和压力为3kgf/cm2的条件下利用辊层压器以每分钟1米的速度层压而成，且其四边留有2mm左右的边距，所述卷形网状膜具有在聚酯膜上形成的连续的铜的图案和在聚酯膜背面形成的粘合剂层，并且其中至少所述聚酯膜的有图案的一面是已经过黑化处理的。 
将用于近红外射线和氖光屏蔽的膜切到大小为556×955mm，并在室温和压力为3kgf/cm2的条件下，以每分钟1米的速度将其层压到叠层的前面，其中在所述用于近红外射线和氖光屏蔽的膜中，用于屏蔽近红外射线和氖光的层已经在树脂膜上形成，并且在该层上已形成粘合剂层。所述粘合剂层就是通过这种方式与网表面相接触。 
将尺寸切成556×955mm的抗反射膜在室温和压力为3kgf/cm2的条件下，以每分钟1米的速度层压到叠层的前面。将叠层采用与例1中相同的方式制成透明从而得到前滤光片。 
例4 
如例1第二步中所用的卷形网状膜，为在室温和压力为3kgf/cm2的条 件下利用辊层压器以每分钟1米的速度层压而成，且其四边留有2mm左右的边距。所述卷形网状膜具有在聚酯膜上形成的连续的铜的图案和在聚酯膜背面形成的粘合剂层，并且其中至少所述聚酯膜的有图案的的一面是经过黑化处理的。将用于屏蔽近红外射线和氖光并且阻止反射的复合膜切成556×955mm，并且在室温和压力为3kgf/cm2的条件下以每分钟1米的速度层压在叠层的前面，其中在所述复合膜中，用于屏蔽近红外射线和氖光的层和粘合剂层已经在聚酯膜的一侧形成，而在聚酯膜的另一侧形成抗反射膜。将叠层采用与例1中相同的方式制成透明从而得到前滤光片。 
对比例1 
(第一步)倒角的、印刷的、半钢化的玻璃的制备 
将2.8mm厚的浮法玻璃(钠钙玻璃)切成尺寸为584×984mm，并且侧边倒角成C0.2-1.2mm。然后，将四角切成C5±3mm或R7±3mm。黑色陶瓷墨水被丝网印刷在玻璃边框处，宽度为30mm。干燥后，将玻璃放在约500℃的回火炉中进行回火。 
采用与例1中第2步、第3步相同的方法得到PDP的前滤光片。 
对比例2 
除了导电网状膜的黑化处理过程是通过碱性氧化物实现的以外，采用与例1相同的方法获得PDP的前滤光片。 
测试例1 
前滤光片黑化处理区域的反射率是利用积分球分光光度计(integratingsphere spectrophotometer)测得的。采用的是C光源和HunterLab(美国)公司设计的Colorquest XE。 
在例1-4和对比例1-2中制作的前滤光片的黑化处理区域的反射率的测量结果在下面的表1已给出。表1中，Y是亮度，ΔE是在对比例2和例1、例2、例3和例4中制作的滤光片同对比例1中制作的滤光片相比的偏差。 
表1 
    Y     x     y     ΔE
   例1     2.03     0.2385     0.2213     0.35
   例2     1.49     0.23721     0.1995     0.20
   例3     1.58     0.2351     0.2054     0.11
   例4     1.55     0.2365     0.2125     0.13
   对比例1     1.685     0.2124     0.1982     0
   对比例2     4.15     0.2887     0.2678     2.47
如表1所示，例1-4中制作的前滤光片与对比例1中制作的前滤光片在抗反射效果方面没有显示出差别，其中所述对比例1中采用了利用丝网印刷方式进行了黑化处理的半钢化玻璃基片。 
也就是说，Y的范围是1-3，x的范围是0.17-0.27，y的范围是0.15-0.25，ΔE是1.0或者更小。 
测试例2 
对例1和对比例2中在各自的导电网状膜上形成的黑化处理层的成分和厚度进行了测量。结果如下面表2所示。 
表2 
    反射率测量结果
    例1     对比例2
成分(CuO∶Cu<sub>2</sub>O)     1∶0.1     1∶1
厚度     0.05     0.05
如表2所示，例1中导电网状膜的氧化物膜的成分是比例为1∶0.1的CuO∶Cu2O，厚度为0.05μm，其可以提供与传统膜相比相当或者更好的色度坐标和偏差。 
相比之下，通过传统方法在碱性环境中制备的对比例2的氧化物膜所具有的成分不能提供可比的效果。 
工业实用性 
从上面的描述可以看出，由于获得可视度的过程被最简化，并且具有 环境友好性，因此根据本发明所制作的PDP的前滤光片的优势在于提高了经济性。 
本领域的普通技术人员应该理解，上面描述所揭示的概念和具体实施例可以容易地被用来作为改进或者设计其他实施例的基础，从而实现本发明的目的。本领域的普通技术人员也应该理解，这种等价的修改并没有偏离在所附的权利要求中所提出的本发明的精神和范围。 

Claims (5)

1.一种用于等离子体显示板的前滤光片，包括层压在玻璃基片上的功能性膜，所述功能性膜包括具有黑化处理层的导电网状膜、光学膜和抗反射膜，
其中，所述玻璃基片是没有黑色陶瓷条纹的透明玻璃基片；并且所述导电网状膜上的黑化处理层是通过层压铜氧化物膜而形成的，厚度达到0.01-1μm，所述铜氧化物膜包括摩尔比为1∶0.1-1的CuO和Cu2O。
2.如权利要求1中所述的用于等离子体显示板的前滤光片，其中，具有黑化处理层的导电网状膜和光学膜被顺序地层压到所述透明玻璃基片背面，并且抗反射膜被层压到所述透明玻璃基片的前面。
3.如权利要求1中所述的用于等离子体显示板的前滤光片，其中，具有黑化处理层的导电网状膜，光学膜和抗反射膜被顺序地层压到所述透明玻璃基片的前面。
4.一种用于等离子体显示板的前滤光片，包括层压在玻璃基片上的功能性膜，所述功能性膜包括具有黑化处理层的导电网状膜和具有光学和抗反射作用的双重功能的复合膜，
其中，所述导电网状膜和复合膜被顺序地层压到所述玻璃基片的前面上，和
所述玻璃基片是没有黑色陶瓷条纹的透明玻璃基片；并且所述导电网状膜上的黑化处理层是通过层压铜氧化物膜而形成，厚度达到0.01-1μm，所述铜氧化物膜包括摩尔比为1∶0.1-1的CuO和Cu2O。
5.如权利要求1-4中的任一项所述的用于等离子体显示板的前滤光片，其中所述功能性膜是卷或片的形式。
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