CN101153791A - 间隙测量系统及其操作方法 - Google Patents

间隙测量系统及其操作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101153791A
CN101153791A CNA2007101532424A CN200710153242A CN101153791A CN 101153791 A CN101153791 A CN 101153791A CN A2007101532424 A CNA2007101532424 A CN A2007101532424A CN 200710153242 A CN200710153242 A CN 200710153242A CN 101153791 A CN101153791 A CN 101153791A
Authority
CN
China
Prior art keywords
probe
plasma
gap
sensing system
impedance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2007101532424A
Other languages
English (en)
Inventor
A·迈
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of CN101153791A publication Critical patent/CN101153791A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/14Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2270/00Control
    • F05D2270/01Purpose of the control system
    • F05D2270/17Purpose of the control system to control boundary layer
    • F05D2270/172Purpose of the control system to control boundary layer by a plasma generator, e.g. control of ignition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

公开了一种间隙感测系统(110)。该系统(110)包括与测试物体(114)以可变距离d(116)相互隔开的探头(112)。该系统(110)还包括用于供应通过探头(112)的电流的交流(AC)电流源(118),其中AC电源(118)和探头(112)被配置成产生所述探头(112)的尖端和测试物体(114)之间的受控等离子体通道(120)。该系统(110)进一步包括处理单元(124),被配置成根据所述探头(112)的尖端和测试物体(114)之间的电压差来确定所述可变距离d(116)。

Description

间隙测量系统及其操作方法
技术领域
本发明大体上涉及探头(probe)和传感器系统,更具体地涉及用于测量两物体之间的间隙的探头。
背景技术
各种类型的探头和传感器系统已被用于测量两物体之间的距离。另外,探头系统已被用于各种应用中。例如,涡轮机具有多个布置在护罩(shroud)附近的涡轮叶片。涡轮叶片和护罩之间的间隙随涡轮叶片的温度而变化。例如,护罩和涡轮叶片之间的间隙在涡轮机很冷时最大,并随着涡轮机的加热而逐渐减小。所希望的是,为了涡轮机安全有效的运转应维持涡轮叶片和护罩之间的空隙或间隙。可在涡轮机内放置传感器以测量涡轮叶片和护罩之间的距离。该距离可用于引导护罩移动以维持护罩和涡轮叶片之间所希望的位移。
诸如涡轮机和压缩机之类的旋转部件的效率还受到旋转叶片和部件外壳之间的空隙或间隙的强烈影响。通常,最小化空隙会使这些部件的效率最大化。然而,为了防止旋转叶片碰到部件外壳,小量的间隙是理想的。在某些应用中,电容探头被用于测量两物体之间的距离。该探头被安置在其中一个物体上并测量相对于另一物体的电容,从而估计两物体之间的间隙。然而,对于高温应用,例如燃气涡轮,由于使设备在恶劣工作环境中工作所必需的要求很严格,所以现有的设备价格昂贵并且制造困难。
因此,存在对解决上述问题的改进的传感器系统的需求。
发明内容
根据本发明的一个实施例,提供了一种间隙感测系统。该系统包括与测试物体以可变距离d间隔开的探头。该系统还包括用于提供电流通过探头的交流(AC)电源,其中AC电源和探头被配置成在探头的尖端和测试物体之间产生受控的等离子体通道。该系统进一步包括处理单元,被配置成根据所述探头的尖端和测试物体之间的电压差来确定所述可变距离d。
根据本发明的另一个实施例,公开了一种测量到导电旋转物体的距离的方法。该方法包括将探头放置在距离导电旋转物体具有可变距离d之处。该方法进一步包括启动并稳定探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体放电。该方法进一步包括测量电压降、流过在探头的尖端和导电旋转物体之间形成的等离子体的电流以及该探头的阻抗中的至少一项。另外,该方法包括根据电压降、电流和阻抗中的至少一项来确定到导电旋转物体的距离。
附图说明
当参照附图阅读以下详细说明,本发明的这些及其它特征、方面和优势将被更好地理解,在附图中,相似的符号表示相似的部分,其中:
图1是根据本发明实施例的用于以射频启动并稳定等离子体的探头系统的图解说明;
图2是表示图1中的探头系统的等效电路;
图3是根据本发明实施例的用于以射频启动并稳定等离子体的屏蔽式探头系统的示意性图示;
图4是表示图3中的屏蔽式探头系统的等效电路;
图5是根据本发明实施例的间隙感测系统的框图表示;
图6是图5中的间隙感测系统的特定示例的框图表示;
图7是说明测量旋转物体的间隙的方法的示范性步骤的流程图;
图8是试验台的一部分的示意性图示;以及
图9是在图1和图3的探头系统的尖端和图8中的突起之间所测量的电压降的图形图示。
部件列表
10.等离子体探头
12.内部导体
14.AC电压源
16.外部导体
18.线圈
20.第一电极
22.第二电极
24.空隙
26.等离子体放电
28.地
30.等效电路
32.电感器
34.电容器
36.电阻器
38.传输线
40.寄生电容
42泄露电阻
44.传输线的一端
46.负载
60.屏蔽式探头系统
62.中央导体
64.AC电压源
66.第一电极
68.外部导体
70.线圈
72.第二电极
74.空隙
76.热等离子体放电
78.屏蔽
90.等效电路
92.电感器
94.电容器
96.电阻器
98.泄露电阻器
100.电容器
102.传输线的一端
104.负载
110.间隙感测系统
112.探头
114.测试物体
11 6.可变距离d
118.AC电源
120.受控的等离子体通道
124.处理单元
134.RF载波源
136.RF放大器
138.RF载波信号
140.衰减器
142.衰减的信号电平
144.解调器
146.包络信号
150.测量到导电旋转物体的距离的方法
152.将探头放置在距离导电旋转物体的可变距离d处
154.启动和稳定探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体放电
156.测量电压降、流过形成于探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体的电流、以及探头的阻抗中的至少一个;
158.基于电压降、电流和阻抗中的至少一个来确定到导电旋转物体的距离
160.试验台
162.突起
164.中央部分
166.边缘
168.中央台地
180.图形图示
182.表示经过的时间(以秒计)的X-轴
184.表示包络信号的电压的Y-轴
186.峰值
188.在中央台地测量的电压
190.在底部台地测量的电压
具体实施方式
如在下文详细论述的,本发明的实施例包括间隙感测系统及其操作方法。如在此所使用的,“等离子体放电(plasma discharge)”指的是在大气压下并且在大于约1MHz频率的射频下产生的等离子体。
现在转到附图,图1是用于启动和稳定等离子体的系统10的示意性图示。系统10还可以被称作等离子体探测器10。等离子体探测器10包括耦合到交流(AC)电压源14的内部导体12。在所示实施例中,包括多个线圈18的外部导体16被环绕内部导体12排列。外部导体16的一端被耦合到AC电压源14,并且在相反端形成第一电极20。第二电极22与第一电极20间隔开一个空隙24,用于启动等离子体放电26。在特定实施例中,内部导体12包括形状为圆柱的导体。在另一个实施例中,内部导体12包括导线。在一个例子中,外部导体16是螺线管。在示范性实施例中,内部导体12是接地的。在另一个实施例中,外部导体16通过AC电压源14接地。在一个例子中,等离子体放电26启动大气压下的射频等离子体,且频率在约6MHz到约7.5MHz之间的范围中。在特定实施例中,内部导体12和外部导体16被配置成升高由AC电压源14供应的电压至少约20dB以启动等离子体26。
图2是图1中的等离子体探头10的等效电路30。对于所示实施例,图1中所提及的内部导体12和图1中所提及的外部导体16被配置成串联LC电路,其中L是由电感器32表示的外部导体16的电感,而Cs是由电容器34表示的内部导体12和外部导体16之间的电容。电感器32可以具有由电阻器36表示的小的实数值电阻。在特定实施例中,电阻36可以在约10到约100欧姆之间变化。图1中所提及的等离子体探头10使用通过内部导体12和外部导体16的分布式传输线38,从而起四分之一波长变换器的作用。外部导体16可包括如图1所提及的很多线圈18以增加每单位长度的电感。线圈18可包括线圈18每一个之间的寄生电容40并且其远小于由Cs标示的电容34。因此,电容40可被忽略。电路30还可包括电容34的泄漏电阻42并由G表示。泄露电阻42可以很小,从而可被忽略。
在等离子体被启动之前,因为不存在负载,所以AC电压源14看到的是开路传输线。等效电路30在四分之一波长处发生谐振。当电源的频率在传输线38中产生驻波以使传输线38的物理长度是驻波波长的四分之一时,四分之一波长谐振发生。因此,电源14在引起负载46的传输线38的一端44看到的是短路。这导致大量电流被驱入传输线38。所产生的大电流通过电感器32和电容器34。此外,电感器32的阻抗,由2πfL给出,其中f是电源14的频率,因为L和f都很大,所以该阻抗也很大。因此,在电感器32两端的电压降就很大,从而在传输线38的端44导致高电压。该高电压在负载46启动等离子体的产生。
等离子体的产生导致传输线38在负载46短路。在这样的情形中,被驱入传输线38的电流可具有两条路径。其中一条通过如上所述的电感器32,且另一条通过负载46而绕过电感器32。因此,电流被分成两路,并且较少的电流量流过电感器32。这导致电感器32两端电压降较低,其也是通过在负载46所产生的等离子体的电压。因此,进入等离子体的电流被减小,从而增大了等离子体电阻。产生了非常快的负反馈回路,从而稳定了在负载46所产生的等离子体。因此,等离子体探头10在启动等离子体并随后将电压稳定到所需值从而不会使等离子体消除并同时防止任何可能的烧坏中起着重要作用。
在所示的本发明的另一个实施例中,图3描述了用于启动和稳定等离子体产生的屏蔽式探头系统60。系统60包括一端耦合到AC电压源64并在相反端形成第一电极66的中央导体62。系统60还包括外部导体68,所述外部导体68包括环绕中央导体62排列的多个线圈70。对于所示的实施例,外部导体68的一端被耦合到AC电压源64并在相反端形成第二电极72。第一电极66和第二电极72由空隙74隔开以启动等离子体放电76。与非屏蔽式探头热等离子体放电相比,屏蔽式探头系统60可启动更高温度的等离子体放电。系统60进一步包括屏蔽78,其与中央导体62同心放置以用于屏蔽电磁干扰。外部导体68产生的磁场被压缩并存在于中央导体62和屏蔽78之间的空间中。中央导体62和外部导体68可被配置成升高AC电压源64的电压大约30dB。绝缘材料80可放置在中央导体62和屏蔽78之间。在特定实施例中,绝缘材料80可包括陶瓷绝缘材料。在示例中,屏蔽78可包括同心并相互连接的内部导电圆柱体和外部导电圆柱体,并且其中外部导体68可放置在内部和外部导电圆柱体之间。
图4是图3中的屏蔽式探头系统60的等效电路90。对于所示的实施例,图3中的中央导体62和图3中的外部导体68被配置成串联LC电路。图3中所提及的屏蔽78的存在降低了电路90中的有效电感并增加了有效电容。该有效电感等同于由电感器92表示的(L-M),其中L是中央导体的电感而M是中央导体62和屏蔽78之间由于涡流损耗而造成的互感。该有效电容等同于由电容器94表示的(Cs1+Cs2),其中Cs1是中央导体62和外部导体68之间的电容,而Cs2是屏蔽78和外部导体68之间的电容。电感器92可具有由电阻器96表示的小的实数值电阻,其中该电阻包括由于涡流损耗而引起的电阻。电容器94可包括由泄露电阻器98表示的可忽略的泄露电阻。电路90还可包括由图3所提及的线圈70的每一个之间的电容器100表示的可忽略的寄生电容。因为该有效电感较小,并且存在更多涡流形式的损耗,所以启动等离子体放电所需的电压有所增加。等离子体放电的启动导致在具有负载104的一端102短路。因此,与图1中所描述的等离子体探头相比,这可导致效率更低的等离子体探头。
图5是间隙感测系统110的框图表示。系统110包括与测试物体114以由‘d’表示的可变距离116间隔开的探头112。在特定实施例中,测试物体114是导电旋转测试物体114。在特定实施例中,探头112可包括由选自钨、铁、镍和铝这一组中的材料制成的导线。在另一个实施例中,探头112可以是射频(RF)等离子体探头。例如,RF等离子体探头的工作频率可在约6MHz到约7.5MHz之间的范围。在特定实施例中,RF等离子体探头是如图1所描述的非屏蔽式等离子体探头。在另一个实施例中,RF等离子体探头是屏蔽式等离子体探头,如图3中所描述的。提供交流(AC)电流源118,用于向探头112供应电流。对于特定实施例,AC电源118向探头112供应恒定幅度的电流。受控的等离子体通道120可在探头112的尖端和测试物体114之间产生。等离子体通道的阻抗主要是电阻性的并可依赖流过等离子体通道的电流、通道长度及通道中气体性质(例如气体成分、压力和温度)而在约1千欧姆和500千欧姆的范围中变化。在某些实施例中,等离子体是通过使用恒定电流、高频(至少大约20kHz)电源118而被稳定的。电压和电流探头122可被用于测量探头112的尖端和旋转测试物体114之间的电压差。系统110还包括处理单元124,其被配置成根据在探头112的尖端和旋转测试物体114之间所测量的电压差来确定可变距离‘d’116。该电压差对应于探头112的阻抗的变化。探头112的阻抗的变化与距离‘d’116成比例。在特定实施例中,处理单元124被配置成比较所测量的阻抗的变化与校准数据以确定‘d’116。在示例中,旋转测试物体114可以是涡轮机或压缩机的一部分,例如涡轮叶片。在另一个实施例中,可变距离‘d’116可以在约1μm到约20mm之间的范围中。
应该注意到,本发明并不限于用于执行本发明的处理任务的任何特定处理单元。术语“处理单元”,正如在此所使用的,旨在表示任何能够执行对于执行本发明的任务所必需的计算或者估算的机器。术语“处理单元”旨在表示任何能够接受结构化的输入并能够根据所规定的规则来处理所述输入以产生输出的机器。还应该注意到,在此所使用的短语“配置成”指的是处理单元配备有硬件和软件组合,用以执行本发明任务,如将被本领域技术人员所理解的那样。
图6是特定的示范性间隙感测系统110的框图表示。在所示实施例中,AC电流源包括RF载波源134。来自RF载波源134的RF信号132被馈入用于放大RF信号132的RF放大器136。在所示实例中,RF放大器136将RF信号放大50dB。放大的RF载波信号138被输入到如图5所提及的RF等离子体探头112,以在如图5所提及的RF等离子体探头112和旋转测试物体114之间的空隙116产生并维持等离子体。如上所述,等离子体通道的阻抗主要是电阻性的并可依赖流过等离子体通道的电流,通道长度以及通道中的气体性质而在约1千欧姆和500千欧姆的范围中变化。一旦等离子体被启动,负载的阻抗就会增加。在示例中,阻抗可从约50欧姆增加到约3千欧姆。来自RF放大器136的放大的载波信号138被馈入衰减器140,以将放大的RF载波信号138的电压降低到衰减的信号电平142并在不改变所产生的等离子体的阻抗的情况下测量电压。在所示实施例中,衰减器140是具有(例如,约10千欧姆到约100千欧姆的)阻抗的高阻抗衰减器。衰减的信号142然后被输入到解调器144,所述解调器144将包络信号146从衰减的信号142中分离出来。在诸如约7MHz的载波频率上存在来自各种源的多个电磁干扰信号。为避免干扰信号,将包络信号146分离出来。包络信号146进一步被馈入如图5所提及的处理单元124以监视包括信号146的电压变化。
图7是说明测量到导电旋转物体的距离的方法150的示范性步骤的流程图。方法150包括在步骤152将探头放置在距离导电旋转物体的可变距离d处。在步骤154启动并稳定探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体放电。在特定实施例中,通过在探头中供应反馈而稳定等离子体放电,以便降低流过等离子体的电流。在步骤156,测量通过探头的尖端和旋转物体之间的等离子体的电压降。在另一个实施例中,在步骤156,测量流过等离子体的电流。在又一实施例中,在步骤156根据所测量的电压降和电流而进一步确定阻抗。通常,复数阻抗等于所测量的电压降与恒定幅度的电流的比率。在又一个实施例中,测量等离子体探头的阻抗。在步骤158根据所测量的电压、电流以及复数阻抗的幅值中的至少一个来为旋转物体确定间隙。间隙的确定包括比较复数阻抗与校准数据。
示例:
如下示例仅仅是说明性的并不应解释成对要求保护的本发明的范围有所限制。
图8是试验台160的一部分的示意说明。试验台160包括突起162和中央部分164,其中,突起162例如可表示涡轮叶片。突起162和外壳或护罩(未示出)之间的间隙的最佳距离将被确定。此外,每个突起162包括边缘166和中央台地(plateau)168。底部台地170表示中央部分164的边缘。
图9是在图5所提及的RF等离子体探头112的尖端和图8中的旋转试验台160的各个部件之间所测量的电压差作为时间函数的图形图示180。试验台160的尖端的旋转速度被设置为大约0.4m/s。X-轴182表示经过的时间(以秒计),而Y-轴184表示当旋转试验台的各个部件通过等离子体放电时如图6所提及的包络信号144的电压。峰值186表示在如图7所提及的涡轮叶片162的边缘166测量的电压。类似地,点188表示在如图8所提及的突起162的中央台地测量的电压,而点190表示在如图8所提及的突起162之间的底部台地测量的电压。突起162的边缘166和中央台地168之间的距离约为1.3mm。类似地,边缘166和底部台地170之间的距离约为5mm。如所示,在边缘166和中央台地168之间测量的电压差约为0.04V,而在边缘166和底部台地170之间测量的电压差约为0.055V。
虽然在此仅说明和描述了本发明的某些特征,但本领域技术人员将会想到许多的修改和改变。因此,将要理解的是,随附的权利要求旨在涵盖所有这样的落入本发明真实精神内的修改和改变。

Claims (10)

1.一种间隙感测系统(110),包括:
探头(112),所述探头与测试物体(114)间隔开一个可变距离d(116);
交流(AC)电流源(118),用于供应电流通过探头(112),其中AC电源(118)和探头(112)被配置成在探头(112)的尖端和测试物体(114)之间产生受控的等离子体通道(120);和
处理单元(124),被配置成根据探头(112)的尖端和测试物体(114)之间的电压差来确定所述可变距离d(116)。
2.如权利要求1所述的间隙感测系统(110),其中探头(112)包括射频等离子体探头。
3.如权利要求2所述的间隙感测系统(110),其中所述射频等离子体探头具有大于约1MHz的工作频率。
4.如权利要求2所述的间隙感测系统(110),进一步包括射频(RF)放大器(136),被配置成从AC电源(118)接收RF信号(138)并向射频等离子体探头供应放大的RF信号。
5.如权利要求1所述的间隙感测系统(110),其中测试物体(114)包括旋转测试物体。
6.如权利要求1所述的间隙感测系统(110),进一步包括电压和电流探头(122),被配置成测量探头(112)的尖端和旋转测量物体(114)之间的电压差。
7.如权利要求1所述的间隙感测系统(110),其中处理单元(124)进一步被配置成确定受控等离子体通道(120)的阻抗并且将该阻抗与多个校准数据相比较,以确定所述可变距离d(116)。
8.一种用于测量到导电旋转物体的距离的方法,所述方法包括:
将探头放置(152)在距离导电旋转物体具有可变距离d之处;
启动并稳定(154)探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体放电;
测量(156)电压降、流过形成于探头的尖端和导电旋转物体之间的等离子体的电流、以及所述探头的阻抗中的至少一项;以及
根据所述电压降、电流以及阻抗中的至少一项来确定(158)到导电旋转物体的距离。
9.如权利要求8所述的方法(150),进一步包括在探头中供应反馈以稳定等离子体放电,其中所述启动并稳定(154)包括维持通过所述探头的恒定幅度的电流。
10.如权利要求8所述的方法(150),其中确定(158)到导电旋转物体的距离包括:将所述阻抗与多个校准数据进行比较。
CNA2007101532424A 2006-09-29 2007-09-29 间隙测量系统及其操作方法 Pending CN101153791A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/540745 2006-09-29
US11/540,745 US7605595B2 (en) 2006-09-29 2006-09-29 System for clearance measurement and method of operating the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101153791A true CN101153791A (zh) 2008-04-02

Family

ID=38752513

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007101532424A Pending CN101153791A (zh) 2006-09-29 2007-09-29 间隙测量系统及其操作方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7605595B2 (zh)
EP (1) EP1906136B1 (zh)
JP (1) JP2008089590A (zh)
CN (1) CN101153791A (zh)
BR (1) BRPI0704921A (zh)
CA (1) CA2603372A1 (zh)
SG (1) SG141380A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103884467A (zh) * 2014-04-14 2014-06-25 中国科学院工程热物理研究所 等离子体压力探针及利用其测量压力的系统
CN104075888A (zh) * 2014-06-27 2014-10-01 北京控制工程研究所 一种利用电噪声测量齿轮啮合侧隙的装置及方法
CN114234771A (zh) * 2021-11-10 2022-03-25 华能铜川照金煤电有限公司 一种发动机气隙测量装置及测量方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7454974B2 (en) * 2006-09-29 2008-11-25 General Electric Company Probe system, ultrasound system and method of generating ultrasound
US7870719B2 (en) 2006-10-13 2011-01-18 General Electric Company Plasma enhanced rapidly expanded gas turbine engine transition duct
US7819626B2 (en) 2006-10-13 2010-10-26 General Electric Company Plasma blade tip clearance control
US7766599B2 (en) 2006-10-31 2010-08-03 General Electric Company Plasma lifted boundary layer gas turbine engine vane
US7588413B2 (en) 2006-11-30 2009-09-15 General Electric Company Upstream plasma shielded film cooling
US7695241B2 (en) 2006-11-30 2010-04-13 General Electric Company Downstream plasma shielded film cooling
US7736123B2 (en) 2006-12-15 2010-06-15 General Electric Company Plasma induced virtual turbine airfoil trailing edge extension
US7628585B2 (en) 2006-12-15 2009-12-08 General Electric Company Airfoil leading edge end wall vortex reducing plasma
US8373425B2 (en) * 2007-04-06 2013-02-12 Hypertherm, Inc. Plasma insensitive height sensing
US7908115B2 (en) * 2007-10-09 2011-03-15 University Of Notre Dame Du Lac Plasma sensors and related methods
JP5022884B2 (ja) * 2007-12-06 2012-09-12 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ プローブ・システム、超音波システム及び超音波発生方法
US8282337B2 (en) 2007-12-28 2012-10-09 General Electric Company Instability mitigation system using stator plasma actuators
US20100047055A1 (en) * 2007-12-28 2010-02-25 Aspi Rustom Wadia Plasma Enhanced Rotor
US8282336B2 (en) 2007-12-28 2012-10-09 General Electric Company Instability mitigation system
US20100284795A1 (en) * 2007-12-28 2010-11-11 General Electric Company Plasma Clearance Controlled Compressor
US8317457B2 (en) 2007-12-28 2012-11-27 General Electric Company Method of operating a compressor
US8348592B2 (en) 2007-12-28 2013-01-08 General Electric Company Instability mitigation system using rotor plasma actuators
US7948229B2 (en) * 2008-08-29 2011-05-24 General Electric Company High temperature electronics for passive eddy current sensors
US9709376B2 (en) * 2014-05-12 2017-07-18 The University Of Akron High sensitivity inductive sensor for measuring blade tip clearance
CN112129213B (zh) * 2020-10-26 2021-07-27 南京航空航天大学 基于脉冲介质阻挡放电的叶尖间隙测量系统及测量方法

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3480963A (en) * 1965-07-27 1969-11-25 Burroughs Corp Command responsive multi-channel electrostatic recorder
US3711767A (en) * 1970-10-30 1973-01-16 Wilcom Prod Inc Method and apparatus for evaluating the integrity of the shield connection in a splicing section joining the ends of adjacent insulated and shielded communication cables
US4058765A (en) * 1976-06-07 1977-11-15 David Richardson General displacement sensor
JPS59166801A (ja) * 1983-03-09 1984-09-20 Nippon Kokan Kk <Nkk> 渦電流を利用した差動帰還型距離測定装置
US4845991A (en) 1986-12-22 1989-07-11 Combustion Engineering, Inc. Hydraulic clearance measurement system
CA1268851A (en) 1987-02-20 1990-05-08 Reginald Montgomery Clements Method and apparatus for generating underwater acoustics
US4806848A (en) 1987-03-11 1989-02-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Compressor blade clearance measurement system
US5085499A (en) * 1988-09-02 1992-02-04 Battelle Memorial Institute Fiber optics spectrochemical emission sensors
US5101165A (en) * 1990-05-29 1992-03-31 General Electric Company Electrical capacitance clearanceometer
US5365147A (en) * 1990-11-28 1994-11-15 Nichimen Kabushiki Kaisha Plasma stabilizing apparatus employing feedback controls
US5414345A (en) * 1991-04-29 1995-05-09 Electronic Development, Inc. Apparatus and method for low cost electromagnetic field susceptibility testing
US6146135A (en) * 1991-08-19 2000-11-14 Tadahiro Ohmi Oxide film forming method
JPH0719670B2 (ja) * 1991-10-31 1995-03-06 日本高周波株式会社 空間電位誤差を補正するトリプルプローブ・プラズマ測定装置
US5800618A (en) 1992-11-12 1998-09-01 Ngk Insulators, Ltd. Plasma-generating electrode device, an electrode-embedded article, and a method of manufacturing thereof
US5382911A (en) * 1993-03-29 1995-01-17 International Business Machines Corporation Reaction chamber interelectrode gap monitoring by capacitance measurement
DE4340395C1 (de) * 1993-11-26 1994-12-15 Weidmueller Interface Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstücks mittels eines Laserstrahls
US5723980A (en) 1995-06-07 1998-03-03 Aerogage Corporation Clearance measurement system
JP2641092B2 (ja) * 1995-07-31 1997-08-13 株式会社小松製作所 プラズマトーチのスタンドオフ制御装置
US5734268A (en) * 1996-04-08 1998-03-31 Motorola, Inc. Calibration and measurment technique and apparatus for same
US5770922A (en) * 1996-07-22 1998-06-23 Eni Technologies, Inc. Baseband V-I probe
JP3122618B2 (ja) * 1996-08-23 2001-01-09 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
GB2317265A (en) 1996-09-13 1998-03-18 Aea Technology Plc Radio frequency plasma generator
JP3356043B2 (ja) * 1997-12-26 2002-12-09 三菱電機株式会社 レーザ加工装置用距離検出器
DE19847365C2 (de) 1998-10-14 2002-04-11 Precitec Kg Verfahren zur Überwachung der Bearbeitung eines Werkstücks mittels eines aus einem Bearbeitungskopf austretenden Bearbeitungsstrahls
DE19906442C2 (de) 1999-02-16 2001-10-18 Precitec Kg Verfahren zum Messen des Abstandes zwischen einer Sensorelektrode und einem Werkstück
JP3723861B2 (ja) * 1999-10-05 2005-12-07 株式会社小松製作所 プラズマアークスポット溶接装置及び方法
JP4710216B2 (ja) 2002-06-11 2011-06-29 コニカミノルタホールディングス株式会社 薄膜形成方法
TW201041455A (en) * 2002-12-16 2010-11-16 Japan Science & Tech Agency Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method
JP3837531B2 (ja) * 2003-01-10 2006-10-25 国立大学法人埼玉大学 顕微鏡及び表面観察方法
KR100393522B1 (en) * 2003-01-11 2003-08-02 Ellipso Technology Co Ltd Device and method for measuring film thickness, making use of improved fast fourier transformation
US7015703B2 (en) * 2003-08-12 2006-03-21 Scientific Systems Research Limited Radio frequency Langmuir probe
US7015414B2 (en) * 2003-09-30 2006-03-21 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for determining plasma impedance
JP2005117151A (ja) 2003-10-03 2005-04-28 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波装置の製造方法及び弾性表面波装置
US7251195B1 (en) 2003-10-23 2007-07-31 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Apparatus for generating an acoustic signal
JP3768999B2 (ja) * 2003-10-29 2006-04-19 澄英 池之内 プラズマ処理装置とその制御方法
US6998832B1 (en) * 2004-02-26 2006-02-14 Hd Electric Company High-voltage indicating apparatus and method
US7275013B1 (en) * 2004-09-20 2007-09-25 University Of Notre Dame Duloc Plasma anemometer and method for using same
US7332915B2 (en) 2004-09-28 2008-02-19 General Electric Company Sensor system and method of operating the same
US7180305B2 (en) 2004-12-14 2007-02-20 General Electric Company Sensor systems and methods of operation
US7722310B2 (en) 2004-12-17 2010-05-25 General Electric Company System and method for measuring clearance between two objects
US20060139039A1 (en) * 2004-12-23 2006-06-29 Dutton David T Systems and methods for a contactless electrical probe
US8591188B2 (en) * 2005-04-26 2013-11-26 General Electric Company Displacement sensor system and method of operation
US7333913B2 (en) * 2005-06-27 2008-02-19 General Electric Company Clearance measurement system and method of operation

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103884467A (zh) * 2014-04-14 2014-06-25 中国科学院工程热物理研究所 等离子体压力探针及利用其测量压力的系统
CN103884467B (zh) * 2014-04-14 2016-05-11 中国科学院工程热物理研究所 等离子体压力探针及利用其测量压力的系统
CN104075888A (zh) * 2014-06-27 2014-10-01 北京控制工程研究所 一种利用电噪声测量齿轮啮合侧隙的装置及方法
CN114234771A (zh) * 2021-11-10 2022-03-25 华能铜川照金煤电有限公司 一种发动机气隙测量装置及测量方法
CN114234771B (zh) * 2021-11-10 2023-09-19 华能铜川照金煤电有限公司 一种发动机气隙测量装置及测量方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20080079445A1 (en) 2008-04-03
JP2008089590A (ja) 2008-04-17
CA2603372A1 (en) 2008-03-29
EP1906136B1 (en) 2012-02-08
US7605595B2 (en) 2009-10-20
EP1906136A1 (en) 2008-04-02
SG141380A1 (en) 2008-04-28
BRPI0704921A (pt) 2008-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101153791A (zh) 间隙测量系统及其操作方法
US10148231B2 (en) RF power amplifier with dynamic impedance matching through discrete presets and/or a variable power supply
EP3256864B1 (en) Current sensor and method of sensing current
Aussenhofer et al. An eight-channel transmit/receive array of TE01 mode high permittivity ceramic resonators for human imaging at 7 T
JP2018522372A (ja) 電磁調理のための方法および装置
KR20090107979A (ko) 높은 동적 범위를 갖는 직교 라디오 주파수 전압/전류 센서
EP2302770A1 (en) Method for measuring discharge quantity of electromagnetic pump
CN105164501B (zh) 用于无接触测量角度的方法和角度传感器
WO2019035130A1 (en) POWER MEASURES AT SIX PORTS
JP2015023191A (ja) 超電導マグネットのアクティブ・クエンチ検出方法
CN110505744A (zh) 一种射频补偿发射探针
CN204832544U (zh) 一种用于定位的金属传感器
CN103413584A (zh) 用于反应堆堆外核测量系统的微电流处理装置
CN110907042B (zh) 变压器温升监控装置及系统
CN203366764U (zh) 用于反应堆堆外核测量系统的微电流处理装置
JP2018524111A (ja) 磁気共鳴検査システム用の局所フィールド監視ユニットを有するrf送信モジュール
CN202631468U (zh) 基于传感器阵列的金属表面伤痕探测装置
JP2013047668A (ja) センサ組立体およびセンサ組立体において用いるマイクロ波放射器
Derebasi et al. A novel system for rapid measurement of high-frequency magnetic properties of toroidal cores of different sizes
JP2019211422A (ja) 磁界検出コイルおよびemiアンテナ
CN205103319U (zh) 组合式电场探头
CN203965616U (zh) 单相或三相电子式电能表恒定磁场影响试验装置
US9726737B2 (en) Radio-frequency coil arrays and methods of arranging the same
WO2015115141A1 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
KR20050024515A (ko) 고주파 대전력 신호 측정용 센서

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20080402