CN101093789A - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，防止处理液经过基板向处理室外漏出。基板处理装置包括搬送机构(1)、具有向基板(S)供给显影液而对基板实施显影处理的处理室(121)的显影处理部(12)以及对它们进行控制的控制器(60)。在显影处理部内的上游侧的开口部(15)附近，配设有能够检测基板的搬送状态的检测机构(7)。另外，在显影处理部旁边的上游侧配设有流出阻止装置(20)，该流出阻止装置具有能够对基板供给从上游侧吹向下游侧的高压气体的气体喷嘴(21)。当基于检测机构对基板的搬送状态的检测结果判断为基板在开口部15的位置停滞时，控制器使流出阻止装置动作，从而防止处理液经由基板而向处理室漏出。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种向半导体晶片、光掩模用玻璃基板、液晶显示面板用玻璃基板、光盘用基板等基板上供给蚀刻液或漂洗液等各种处理液，从而对基板实施给定处理的基板处理装置。

背景技术

到目前为止，针对如上所述的基板处理装置，如下的结构被人们所熟知，即，具有多个处理室、例如剥离处理室、清洗处理室以及干燥处理室，而且，通过辊式输送机的驱动搬送形成有薄膜的矩形玻璃基板的同时，对该基板依次实施剥离处理、漂洗处理以及干燥处理(例如专利文献1：JP特开2001-57355号公报)。在该装置的剥离处理室内的上游端以及下游端，配置有检测有无基板的传感器，并且，通过该传感器检测到基板之后，若在预先设定的定时器时间内基板没有通过，也就是说，即使超过定时器时间，也继续处于由该传感器检测到基板的状态时，执行给定的处理，例如视为发生了搬送不良而发出警告且使装置停止等。

在如上所述的以往的装置中，即使在传感器检测到基板之后立即停止基板，也会发生响应延迟现象，即，经过了定时器时间而仍不执行异常处理。因此，在因搬送故障而有一张基板横跨停止在装载器(卸载器)和处理室之间时，在执行异常处理之前，会向其局部(基板的前端部分)供给处理液，从而成为发生基板处理不良的原因，还会不必要地消耗处理液。另外，供给到基板上的处理液流过基板表面而向装载器(卸载器)一侧漏出，由此会导致设备故障。在一张基板横跨多个处理室而停止时，由于处理液会漏到相邻设置的处理室中，因此也会发生同样的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述情况、且为了避免如上所述的响应延迟所导致的不良而提出的，其第一目的在于，回避基板的处理不良的同时防止处理液的不必要消耗，另外，其第二目的在于，防止处理液经过基板而向处理室外漏出。

为了解决上述课题，本发明提供一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其中，该装置包括：检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部中的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；控制装置，其在判定为所述基板停滞时，控制所述处理液供给装置，使得停止所述处理液的供给。

若采用该装置，则通过检测装置检测出在处理室的开口部位置的基板的搬送状态，并且，判定装置基于该搬送状态来判定基板在该开口部的位置是否停滞。而且，当发生了停滞时，通过控制装置的控制来停止显影液的供给。在该结构中，由于基于基板的搬送状态的检测结果来判定基板是否停滞，因此，若基板在开口部的位置处于停滞的状态，则能够即时地检测到该状态。而且，基于该即时的检测结果来停止处理液的供给，因此能够抑制对局部(基板的前端部分)的基板进行处理，另外还能够防止处理液的不必要的消耗。

优先地，本装置还具有流出阻止装置，该流出阻止装置阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出，在所述判定装置判定所述基板停滞时，所述控制装置使所述流出阻止装置动作，以阻止所述处理液向所述处理室外流出。

若采用该装置，则当基板在处理室的所述开口部的位置停滞时，进而有流出阻止装置动作，由此防止供给到基板上的处理液向处理室外流出。

另一方面，本发明的其他基板处理装置包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括：检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；流出阻止装置，其阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出；控制装置，其在所述判定装置判定为基板停滞时，控制所述流出阻止装置动作。

若采用该装置，则通过检测装置检测出基板在处理室的开口部的位置的搬送状态，并且，判定装置基于该搬送状态来判定基板在该开口部的位置是否停滞。而且，在发生了停滞时，通过控制装置的控制来驱动流出阻止装置。在该结构中，由于基于基板的搬送状态的检测结果来判定基板是否停滞，因此，若基板在开口部的位置处于停滞的状态，则能够即时地检测到该状态。而且，基于该即时的检测结果来驱动流出阻止装置，因此能够快速地阻止供给到基板上的处理液向处理室外的流出。

在该装置中，当所述判定装置判定基板停滞时，所述控制装置优先控制所述处理液供给装置，进而使得处理液的供给停止。

若采用该装置，则能够防止基板上的处理液增加而促使向处理室外流出。另外，能够抑制因继续供给处理液而只对局部(基板的前端部分)的基板进行处理的情况，另外能够防止处理液的不必要的消耗。

此外，作为用于所述装置的流出阻止装置的具体结构，例如能够采用如下的结构：在工作状态中通过向所述基板的表面供给气体，从而在该基板上形成气流，该气流的方向是从处理室的外侧朝向内侧的方向。

若采用该装置，则基板上的处理液被形成于基板表面上的气流的压力(气体压力)推回到处理室一侧，从而能够阻止其逆流。由此，能够有效地防止处理液向处理室外的流出。

另外，所述流出阻止装置具有提升机构，该提升机构能够从基板的下侧将所述基板向上提升，所述提升机构在所述工作状态中，以使基板从处理室的外侧向内侧前端下降的方式提升所述基板。

若采用该装置，则通过使基板处于从室外侧向室内侧倾斜的姿势而使基板上的处理液向处理室一侧流下，从而阻止其逆流。由此能够有效地防止处理液向处理室外流出。

进而，流出阻止装置具有围堰构件，该围堰构件能够在退避位置和抵接位置之间位移，其中，所述退避位置是远离所述基板上表面的位置，所述抵接位置是所述围堰构件与所述基板的表面抵接而阻止处理液流动的位置，而且，在上述工作状态中，所述围堰构件设置在所述抵接位置。

若采用该装置，则围堰构件抵接于基板上而堵住处理液的流动，从而防止处理液向处理室外流出。

此外，优先地，所述检测装置检测出基板的移动速度而作为基板的所述搬送状态，在所述检测装置所检测的检测速度为给定的速度以下时，所述判定装置判定基板停滞。

若采用该装置，即使在基板正在被搬送时(在移动中时)，若在给定速度以下，则判定为基板停滞，从而停止处理液的供给、或执行流出阻止装置的动作等处理。也就是说，即使基板移动在处理室的开口部时，也会因搬送异常而存在其速度极其慢的情况，此时与基板停止的情况相同，基板上的处理液也会通过开口部而向处理室外流出。针对这一点，如上所述那样，只要是在给定速度以下搬送基板的情况就作为停滞状态而进行处理，则能够更加可靠地防止处理液的流出。

此外，在上述装置中，优先地，所述检测装置具有从动辊，该从动辊借助该从动辊与基板表面之间的摩擦力而旋转，而且，所述检测装置输出与该从动辊的旋转速度对应的信号，其中该摩擦力是伴随着所述搬送装置所搬送的基板的移动而产生的，所述判定装置基于从所述检测装置输出的信号的状态来进行所述判定。

若采用该结构，则通过基板和从动辊之间的物理接触来检测基板的搬送状态，因此能够利用简单的结构来以高的可靠性对搬送状态进行检测。

若根据本发明的基板处理装置，基板停滞在处理室开口部的位置时，能够快速检测出该状态而停止处理液的供给，因此能够有效地避免由于继续供给处理液而局部(基板的前端部分)地进行基板处理，从而导致处理不良的情况，另外，能够防止处理液的不必要的消耗。

另外，若根据本发明的其它基板处理装置，当基板停滞在处理室的开口部位置时，能够快速检测出该状态而使阻止处理液向处理室外流出的流出阻止装置工作，因此能够有效地防止处理液将基板作为媒介而流出到处理室外。

附图说明

图1是表示本发明的基板处理装置的第一实施方式的图。

图2是表示检测基板的搬送状态的检测机构、基板检测传感器以及搬送机构的图。

图3是表示控制器控制基板处理装置的动作的一个例子的流程图。

图4是表示流出阻止装置的工作状态的图。

图5是表示本发明的基板处理装置的第二实施方式的图。

图6是用于说明处理大型基板时的优点的图。

图7A、图7B是表示流出阻止装置的其它实施方式的图，其中，图7A表示流出阻止装置的非工作状态，图7B表示流出阻止装置的工作状态。

图8A、图8B是表示流出阻止装置的其它实施方式的图，其中，图8A表示流出阻止装置的非工作状态，图8B表示流出阻止装置的工作状态。

图9是表示图8A、图8B所示的流出阻止装置的变形例的图。

图10是表示用于检测基板的搬送状态的其它装置的图。

图11是表示用于检测基板的搬送状态的其它装置的图。

图12是表示流出阻止装置的变形例的图。

图13是表示检测基板的搬送状态的检测机构以及基板检测传感器的配置的变形例的图(与图6对应的图)。

具体实施方式

利用附图说明本发明的实施方式。

图1是表示本发明的基板处理装置的第一实施方式的图。该基板处理装置采用基板S由搬送机构1向给定的搬送方向(从图1的左侧朝向右侧的方向)P搬送的结构，而且沿着该搬送机构1的基板搬送路径，依次配设有装载器10、多个处理部、即显影处理部12和水洗处理部14。

在该实施方式中，使用辊式输送机而作为搬送机构1。该辊式输送机是在搬送方向P上以给定的间隔并排设置多个辊子2而形成的，该多个辊子2在与基板S的搬送方向P垂直的方向上配置有支撑轴。而且，如图2所示，横跨连接至驱动马达(省略图示)的驱动轮3和各个辊子2之间而架设有驱动皮带4，由此，通过所述驱动马达的驱动力使各辊子2向相同方向同步旋转，从而使装载在辊子2上的基板S以水平姿势向搬送方向P搬送。此外，如该图所示，对装载器10、处理部12、14分别独立设置有辊式输送机，而且通过后述的控制器60分别单独地进行驱动控制。

返回到图1，在装载器10上配设有省略图示的基板的搬入机构，通过该搬入机构将在前工序实施了曝光处理的基板一张张装载到搬送机构1的辊子2上，从而依次向显影处理部12搬出。

显影处理部12以及水洗处理部14分别具有处理室121、141，处理室121、141用于对搬送机构1所搬送的基板S实施处理。在各处理室121、141的侧壁分别形成有开口部15，而且通过该开口部15进行基板S的搬入以及搬出。

显影处理部12用于在处理室121内向基板S供给显影液(处理液)而对基板S进行显影。在该处理室121的内部，在搬送机构1的上方配设有用于供给显影液的多个液体喷嘴30，因此能够对搬送机构1所搬送的基板S从其上方供给显影液。

显影液的供排液系统具有：贮藏槽32，其贮藏显影液；泵36；供给配管34，其将由该泵36加压输送的显影液导向所述液体喷嘴30；回收配管35，其将使用后的显影液从处理室121回收到贮藏槽32中；未图示的过滤器，其设置在该回收配管上，并且，通过该结构，使显影液循环的同时，将显影液向显影处理部12供给。在供给配管34上设置有由电磁阀等构成的调节阀38，该调节阀38用于进行显影液的供给以及停止，进而用于调节供给量，而且通过后述的控制器60对该调节阀38进行控制。此外，在该实施方式中，该显影液的供排液系统相当于本发明的处理液供给装置。

在处理室121内配设有检测机构7(相当于本发明的检测装置)，该检测机构7检测通过开口部15所搬入的基板S的搬送状态，而且，后述的控制器60基于该检测机构7的检测结果来判定基板S是否停滞(在该实施方式中为判定基板S是否停止)。如图1以及图2所示，检测机构7具有：从动辊6，其配置在处理室121内的最上游侧，也就是说，配置在基板S的搬送方向上的上游侧(下面，简称为上游侧，而且将其相反方向称为下游侧)；旋转式编码器40，其与该从动辊6连接在一起。

从动辊6以与搬送机构1的辊子2并排的方式配置，并且受到伴随着基板S的搬送所产生的从动辊6与该基板表面之间的摩擦力的作用而旋转，而且，在除此之外的情况下静止。另一方面，编码器40具有：狭缝板42，其固定在从动辊6的一端；传感器44，其具有中间隔着该狭缝板42而配置的光的照射部44a以及受光部44b，并且，受光部44b通过狭缝板42的狭缝42a接收从照射部44a投射的光，从而向后述的控制器60输出相应于该受光时间的脉冲信号。也就是说，在基板S在移动时，从动辊6和狭缝板42一体旋转而从编码器40定期地输出脉冲信号，因此根据有无输出该脉冲信号，能够检测基板S是否在移动。此外，在图示的例子中，狭缝板42的狭缝42a为一个，但也可以采用具有多个狭缝42a的狭缝板42。

另外，在从动辊6和配置在其旁边下游侧的辊子2之间的部分，配置有用于进一步检测基板S有无的传感器46(称为基板检测传感器46)。该基板检测传感器46虽没有详细的图示，但该基板检测传感器46为一种所谓的摆式传感器，具有可摇动地被支撑着的摆锤构件、和根据磁场的变化输出信号的霍尔元件(磁电转换元件)，该磁场随着内置于该摆锤构件中的磁石的位移而变化，而且，该基板检测传感器46随着与基板S的接触而将所述信号输出到后述的控制器60中。

此外，如后所述，也可以使检测机构7以及基板检测传感器46位于装载器10的下游端的位置(参照图13)。另外，在没有发生因处理液的附着而导致的误检测等不良的情况下，也可以采用反射式光电传感器作为该基板检测传感器46，从而通过接收由基板S反射的光而检测出基板S，其中，所述反射式光电传感器具有成为一体的光的照射部和受光部。

返回到图1，在显影处理部12的上游侧，配置有流出阻止装置20(相当于本发明的逆流阻止装置之一)。该流出阻止装置20是如下装置：在基板S因搬送故障而停止在开口部15部分时，用于阻止显影液经过基板S流到装载器10一侧。

该流出阻止装置20具有配置在处理室121上游侧的开口部15附近的气体喷嘴21，并且对搬送机构1上的基板S，从其上游侧朝向下游侧、向斜下方方向供给高压气体，该高压气体是从气体供给源24通过供给配管22供给的。气体喷嘴21具有狭缝状的气体喷出口，该气体喷出口沿着与基板S的搬送方向P垂直的方向延伸，因此能够在上述方向上无遗漏地对基板S喷出气体。此外，在气体的供给配管22上设置有由电磁阀等构成的调节阀23，而且通过后述的控制器60来控制该调节阀23。

另一方面，水洗处理部14用于在处理室141内向基板S供给纯水而对其进行清洗。在该处理室141的内部，中间隔着搬送机构1而在其上方以及下方配设有用于供给纯水用的多个液体喷嘴50，从而能够对搬送机构1所搬送的基板S，从基板S的上下两侧供给纯水。

纯水的供排液系统具有贮藏纯水的贮藏槽52、泵56、供给配管54等，所述供给配管54将由该泵56加压输送的纯水导向所述液体喷嘴50。在供给配管54上设置有由电磁阀等构成的调节阀58，该调节阀58用于进行纯水的供给以及停止，或者用于调节供给量，而且通过后述的控制器60对该阀58进行控制。此外，在水洗处理部14中不循环使用纯水，而且使用后的纯水经由连接至处理室141的废液管55而回收到未图示的废液槽中。

在图1中，附图标记26以及48分别是配置在装载器10以及显影处理室12(处理室121内)的下游端的送出传感器。该传感器26、48由与所述基板检测传感器46同样的摆式传感器构成，检测出通过搬送机构1的驱动所搬送的基板S而将检测信号向控制器60输出。控制器60基于这些送出传感器26、48对基板S的检测结果，开始对各处理部12、14进行液体的供给等。

在采用上述结构的基板处理装置中，装载有对一系列的基板处理动作进行控制的控制器60。该控制器60由执行逻辑运算的CPU、存储用于控制该CPU的各种程序等的ROM、在装置动作中临时存储各种数据的RAM等构成，该控制器60全面控制搬送机构1、装载器10、显影处理部12以及水洗处理部14等。尤其是，从装载器10向显影处理部12搬入基板S时，基于所述检测机构7的检测结果，判定在开口部15的位置是否停滞有基板S(在该实施方式中，判定是否有基板S停止)，而且，在有基板S停止时，如下所说明那样控制显影处理部12的显影液的供给以及流出阻止装置20的工作，从而能够防止显影液向装载器10一侧漏出等。即，在该实施方式中，该控制器60发挥本发明的判定装置以及控制装置的功能。

图3是表示控制器60进行动作控制的一个例子的流程图。

在上述的基板处理装置中，若基板S通过装载器10搬入并装载在辊子2上，则控制器60首先使属于装载器10的搬送机构1动作，从而开始搬送基板S(步骤S2)。

然后，若同时送出传感器26检测到基板S(在步骤S4中为“是”)，则控制器60使属于所述显影处理部12的搬送机构1动作，并对所述供排液系统的阀38进行开启操作，从而在处理室121内，从液体喷嘴30开始供给显影液(步骤S6)。

接着，控制器60判断基板检测传感器46是否检测到基板S(步骤S8)，并且，若此时判断为“是”，则进一步判断来自所述编码器40的输出脉冲是否增加，也就是说，判断基板S是否在移动(步骤S10)。然后，若此时判断为“是”，则根据预先存储的程序(正常动作序列)，控制搬送机构1等来实施对基板S的显影处理(步骤S12)。

与此相对，若在步骤S10中判定为“否”，则控制器60根据异常动作序列来控制搬送机构1等。即，在基板检测传感器46检测到基板S、且来自编码器40的输出脉冲不增加的状态，就是基板S停止在开口部15的位置的状态，此时，控制器60对所述阀38进行关闭操作而停止供给显影液，并对所述阀23进行开启操作而使流出阻止装置20动作，同时还使未图示的警报装置动作。此时，也使属于装载器10以及显影处理部12的搬送机构1停止。

通过就这样停止供给显影液，防止向停止中的基板S上供给显影液，从而能够抑制局部(基板的前端部分)对基板进行处理的情况发生，并能够防止不必要的显影液的消耗。还有，通过流出阻止装置20的动作而向基板S上喷出高压气体的结果，如图4所示，在基板S上形成从处理室121的外侧朝向内侧的气流，因此基板上的显影液被该气流的压力(气体压力)压回到处理室121内，从而能够防止其逆流。由此能够防止显影液经过基板S而从处理室121向装载器10一侧漏出。尤其是，通过如上所述那样停止供给显影液，能够防止基板S上的处理液增加而促使向处理室121外流出。

此外，若在步骤S8中判断为“否”，则此时也判断从所述编码器40的输出脉冲是否在增加(步骤S14)。然后，若在此时判断为“是”，则与上述同样进入到步骤S16，由此根据异常动作序列来控制搬送机构1等。即，基板检测传感器46没有检测到基板S、且来自编码器40的输出脉冲在增加的状态，也就是基板检测传感器46发生故障的状态，此时，控制器60为了对基板检测传感器46进行维修，与上述同样地，要根据异常动作序列来控制搬送机构1等。此外，若在步骤S14中判断为“否”，则基板S还处于没有搬入到处理室121内的状态，此时返回到步骤S8。

如上所说明，在该基板处理装置中，当从装载器10通过开口部15向显影处理部12搬送的基板S发生搬送故障，因此基板S停止(停滞)在该开口部15的位置时，如上所述那样停止供给显影液，并使流出阻止装置20动作，由此防止基板S上的显影液向装载器10一侧漏出，因此能够有效地防止例如基板S的处理不良、起因于所漏出的显影液的装载器10的故障、以及显影液不必要的消耗等。

而且，在该基板处理装置中，除了基板检测传感器46之外，还将可检测基板S是否在移动的检测机构7设置在开口部15的附近，因此，在基板S停止时，能够利用该检测机构7更即时地检测出该状态。而且，基于这种对基板停止的即时的检测而转移到异常动作序列，其结果，能够尽可能快地停止显影液的供给，另外，能够尽可能快地使流出阻止装置20动作。因此能够更加可靠地防止基板S因搬送异常而停止在开口部15的位置时的如上述的故障、即基板S的处理不良、起因于所漏出的显影液的装载器10的故障、以及显影液不必要的消耗等。

接着，说明本发明的基板处理装置的第二实施方式。

图5表示第二实施方式的基板处理装置。该基板处理装置是在第一实施方式的基板处理装置的基础上增加了如下结构的装置。

即，在第二实施方式的基板处理装置中，与显影处理部12同样，在水洗处理部14的处理室141的上游侧的开口部15附近，也设置有基板检测传感器46’以及检测机构7’。这些基板检测传感器46’以及检测机构7’的结构与显影处理部12的相应构件(基板检测传感器46、检测机构7)基本相同，因此在对应构件的附图标记上赋予“’”而进行了区别，并省略详细附图。

另外，在该基板处理装置中，第一实施方式的流出阻止装置20作为第一流出阻止装置20，与此相对，另外还设置有第二流出阻止装置20’。

第二流出阻止装置20’具有配置在水洗处理部141上游侧的开口部15附近的气体喷嘴21’，对搬送机构1上的基板S从下游侧向上游侧沿着斜下方方向供给高压气体，该高压气体是通过从所述供给配管分支的供给配管25来供给的。

与所述喷嘴21同样，气体喷嘴21’具有狭缝状的气体喷出口，该气体喷出口沿着与基板S的搬送方向P垂直的方向延伸，因此能够在上述方向上无遗漏地对基板S喷出气体。此外，在供给配管25’上设置有由电磁阀等构成的调节阀23’，而且通过控制器60来控制该阀23’。

在该第二实施方式的基板处理装置中，当基板S从显影处理部12搬入到水洗处理部14中时，控制器60基于来自检测机构7’(编码器40’)以及基板检测传感器46’的信号输出，按照图3所示的流程图来驱动控制流出阻止装置20’等，从而能够防止显影液向水洗处理部14一侧漏出等。

即，如上述图所示，若基于来自检测机构7’(编码器40’)以及基板检测传感器46’的输出信号而检测到基板S停止在开口部15的位置的状态(在步骤S10中为“否”)，则控制器60对所述阀58进行关闭操作而停止对水洗处理部14的纯水的供给，并对所述阀23’进行开启操作而使第二流出阻止装置20’动作。此时，通过对所述阀38进行关闭操作而使显影处理部12的显影液的供给也停止。

通过这样停止显影液以及纯水的供给，能够抑制例如局部(基板的后端部分)对基板进行处理的情况，另外，能够防止显影液以及纯水不必要的消耗。另外，从第二流出阻止装置20’的气体喷嘴21’向基板S上喷出高压气体，因此使基板上的显影液返回到处理室121内，从而能够阻止其逆流，由此能够防止显影液经过基板S而向水洗处理部14一侧漏出。

若采用这种第二实施方式的基板处理装置，则除了能够防止基板S停止在显影处理部12的上游侧的开口部15的位置时显影液向装载器10一侧的漏出等以外，还能够有效地防止基板S停止在显影处理部12下游侧的开口部15的位置时显影液向水洗处理部14一侧漏出等。

此外，这种第二实施方式的基板处理装置，也可以利用于对大型基板S的处理。即，如图6所示，在对与显影处理部12的处理室121相比更加大型的基板S进行处理时，如上述图所示，可以设想到基板S在横跨装载器10和水洗处理部14而存在的状态下停止的情况。此时，若采用该基板处理装置，则显影液的供给被停止，而且通过第一以及第二流出阻止装置20、20’的动作，从处理室121的上游侧以及下游侧分别向处理室内部对基板S喷出高压气体，因此能够有效地防止显影液经过基板S而向装载器10一侧、或向水洗处理部14一侧漏出。

然而，上面所说明的基板处理装置只是一种对本发明的基板处理装置的优选实施方式的示例，因此，在不脱离本发明的要旨的范围内，能够对其具体的结构进行适当的变形。例如，也可以采用如下的结构。

(1)流出阻止装置20也可以采用如图7A、图7B、图8A、图8B所示的结构。

<a>图7A、图7B所示的流出阻止装置20

该流出阻止装置20具有细长的逆流防止棒70(相当于本发明的围堰构件)和执行元件72等，该逆流防止棒70在上下方向具有厚度，而且沿辊子2的轴向延伸，该执行元件72使该逆流防止棒70在退避位置(图7A所示的位置)和抵接位置(图7B)之间位移，其中，所述退避位置位于搬送机构1的上方，所述抵接位置是使逆流防止棒70抵接于被辊子2支撑着的基板表面的位置。而且，通常使逆流防止棒70位于退避位置上，并在基板S发生了搬送异常(基板S的停止)时，使逆流防止棒70位于抵接位置，由此利用该逆流防止棒70来堵住显影液在基板S上的流动。也就是说，利用该逆流防止棒70能够防止显影液向装载器10一侧漏出。

此外，在该流出阻止装置20中，逆流防止棒70的材质优先采用树脂或橡胶等、密封性能高的材料。另外，逆流防止棒70除了采用在辊子2的长度方向为直线状的形状之外，还可以采用俯视时呈以弓形弯曲的形状、或向显影处理部12一侧开启的俯视时呈“コ”字形的形状。另外，如上述图所示，剖面形状除了圆形之外，也可以采用矩形。

<b>图8A、图8B所示的流出阻止装置20

该流出阻止装置20一体的内置于装载器10的搬送机构1中，并具有提升机构74，该提升机构74通过气缸等执行元件76的动作，将搬送机构1的一部分辊子2提升到上方。而且，通常使辊子2位于基准位置、即能够进行基板搬送的位置(图8A所示的状态)，并在基板S发生了搬送异常(基板S的停止)时，使升降机74动作而提升辊子2(图8B所示的状态)，由此以从处理室121的外侧向内侧前端下降的方式使基板S倾斜。也就是说，通过这样使基板S倾斜，使基板S上的显影液沿着其表面向处理室121一侧流下，从而防止其逆流，其结果，能够防止显影液向装载器10一侧漏出。此外，如图9所示，此时，也可以设置由分别独立的执行元件76a～76c分别驱动的多个提升机构74a～74c，从而以辊子2的高度从显影处理部12一侧向上游侧逐渐变高的方式构成流出阻止装置20。若采用该结构，则由于能够使基板S平滑地倾斜，因此不会发生基板S损伤等不良现象，而且能够有效地防止显影液流出。

此外，在此只说明了配置在显影处理部12上游侧的流出阻止装置20的例子，而在第二实施方式的基板处理装置中所采用的第二流出阻止装置20’也可以采用相同的结构。

(2)检测基板S的搬送状态的装置除了采用如实施方式那样的检测机构7、7’以外，还可以采用图10以及图11所示的传感器。

<a>图10所示的传感器80

如上述图所示，该传感器80具有发光二极管等光源部80a、接收从该光源部80a投光并被基板S反射的光(图像)的拍摄元件80b，而且该光源部80a和拍摄元件80b成为一体。将这种传感器80固定在开口部15的上壁面等上，并且，连续读取通过搬送机构1的动作来搬送的基板表面的图像，并将该图像信号输出给控制器60，然后基于该图像的变化检测出基板S的搬送状态、即基板S是否在移动也可。此外，作为一种类似的结构(更简单的结构)，也可以采用如下结构，即，通过受光元件接收从光源部投光且被基板S反射的光，并基于有无该受光信号的变化来检测基板S的搬送状态。

<b>图11所示的传感器82

如上述图所示，该传感器82中间隔着利用搬送机构1的基板S的搬送路径而具有相互对置的光源部82a和受光部82b，而且，由受光部82b接收从光源部82a投光并透过基板S的光。而且，在基板S上，沿着搬送方向以给定间隔标注有遮光用标记M。将这种传感器82固定在开口部15，并且，伴随着基板S的搬送，将受光部82b的受光信号输出给控制器60，并基于与基板S的遮光用标记M对应的电平的输出信号(脉冲信号)的变化来检测出基板S是否在移动也可。

(3)在实施方式中，在基板S停滞时，检测基板S停止的状态，并基于该检测结果执行了使流出阻止装置20、20’动作等异常动作序列，但是，例如，也可以检测基板S的移动速度而作为基板S的搬送状态，并基于该检测速度而转移到异常动作序列。具体地讲，预先设定好基板S的基准速度(阈值)，并在检测速度为该基准速度以下时，视为基板S停滞而执行异常动作序列也可。也就是说，即使基板S在移动，但在其速度极其慢的情况下，与基板S停止时同样，基板S上的显影液也会经由该基板S而向装载器10一侧流动。针对这一点，只要对如上所述那样基板在基准速度以下被搬送的情况进行与基板S的停止状态相同的处理，则即使在基板S以基准速度以下的极低速度移动的状况下，也能够使流出阻止装置20、20’动作，从而具有能够更加可靠地防止显影液从显影处理部12漏出的优点。

此外，在此情况下，只要基于来自编码器40(移动状态检测装置7、7’)的输出脉冲的脉冲数或脉冲宽度，求出基板S的移动速度即可。例如，编码器40采用具有狭缝板42的编码器，该狭缝板42在外周方向上以等间距排列有多个狭缝42a，而且，始终监视单位时间所对应的脉冲数的变动，并基于以下公式来计算基板S的移动速度即可。

基板速度＝(L/S)×(Dp/T1)

其中，L：从动辊的周长

S：狭缝42a的数目

Dp/T1：脉冲速度(Dp：脉冲数；T1：单位时间)

另外，当采用如图10所示的传感器80作为检测基板S的搬送状态的装置时，只要基于单位时间所对应的图像的位移量求出基板S的移动速度即可。另外，在采用图11所示的传感器82时，与所述编码器40的情况同样，只要基于输出脉冲的脉冲数等求出基板S的移动速度即可。

(4)在实施方式中，执行了这样两种措施，即，作为基板S在开口部15的位置停止(停滞)时的异常动作序列而停止显影液的措施、和使流出阻止装置20动作的措施，但是只执行其中之一也可。也就是说，在只执行使显影液停止的措施时，也可以省略流出阻止装置20其本身，与此相对，在设置流出阻止装置20时，也可以省略停止显影液的控制。但是，为了综合防止基板S因搬送异常而停止在开口部15的位置时的故障、即基板S的处理不良、起因于所漏出的显影液的装载器10的故障、还有显影液不必要的消耗等，如实施方式那样，优先执行两种措施为好。

(5)在实施方式中，采用了只在处理室121上游侧的开口部15附近配置有气体喷嘴21的结构，但如图12所示，也可以采用在处理室121的内侧(开口部15旁边下游的位置)配置有气体喷嘴21的结构。若采用该结构，则能够更有效地防止显影液的漏出。此外，虽省略了图示，但针对如图6所示的流出阻止装置20’的结构也相同。

(6)在实施方式中，检测机构7以及基板检测传感器46配置在显影处理部12的最上游侧，具体地说是配置在处理室121最上游的位置，但也可以将其配置在装载器10最下游侧的位置。针对图6所示的检测机构7’以及基板检测传感器46’也同样，也可以配置在显影处理部12的最下游侧(处理室121最下游的位置)。即，如图13所示那样对检测机构7、7’以及基板检测传感器46、46’进行配置也可。即使采用这种结构，也能够良好地检测基板S在开口部15的搬送状态。

(7)在实施方式中，作为基板处理装置的结构的例子，说明了具有装载器10、显影处理部12以及水洗处理部14的装置，但理所当然地，本发明也能够适用于具有除此之外的处理部等的基板处理装置。另外，实施方式中的搬送机构1以水平姿势搬送基板S，但也能够以倾斜的姿势进行搬送。

Claims (9)

1.一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括：

检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；

判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；

控制装置，其在判定为所述基板停滞时，控制所述处理液供给装置停止所述处理液的供给。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有流出阻止装置，该流出阻止装置阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出，

所述判定装置判定所述基板停滞时，所述控制装置控制所述流出阻止装置动作，以阻止所述处理液向所述处理室外流出。

3.一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括：

检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；

判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；

流出阻止装置，其阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出；

控制装置，其在所述判定装置判定基板停滞时，控制所述流出阻止装置动作。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述判定装置判定基板停滞时，所述控制装置进一步控制所述处理液供给装置停止处理液的供给。

5.如权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出阻止装置在工作状态中通过向所述基板的表面供给气体，从而在该基板上形成气流，该气流的方向是从处理室的外侧朝向内侧的方向。

6.如权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出阻止装置具有提升机构，该提升机构能够从基板的下侧将所述基板向上提升，所述提升机构在所述工作状态中，以使基板从处理室的外侧向内侧前端下降的方式提升所述基板。

7.如所述权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出阻止装置具有围堰构件，该围堰构件能够在退避位置和抵接位置之间位移，其中，所述退避位置是远离所述基板上表面的位置，所述抵接位置是所述围堰构件与所述基板的表面抵接而阻止处理液流动的位置，而且，在所述工作状态中，所述围堰构件设置在所述抵接位置。

8.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述检测装置检测出基板的移动速度作为基板的搬送状态，

在所述检测装置所检测出的检测速度为给定的速度以下时，所述判定装置判定基板停滞。

9.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述检测装置具有从动辊，该从动辊借助该从动辊与基板表面之间的摩擦力而旋转，而且，所述检测装置输出与该从动辊的旋转速度对应的信号，其中该摩擦力是伴随着所述搬送装置所搬送的基板的移动而产生的，

所述判定装置基于从所述检测装置输出的信号的状态来进行所述判定。

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