CN101083385B - 分布反馈型半导体激光器 - Google Patents
分布反馈型半导体激光器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101083385B CN101083385B CN200710108142XA CN200710108142A CN101083385B CN 101083385 B CN101083385 B CN 101083385B CN 200710108142X A CN200710108142X A CN 200710108142XA CN 200710108142 A CN200710108142 A CN 200710108142A CN 101083385 B CN101083385 B CN 101083385B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- phase
- dfb
- shift
- holotype
- laser diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/028—Coatings ; Treatment of the laser facets, e.g. etching, passivation layers or reflecting layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
- H01S5/124—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
提供一种能以单一模式进行振荡的分布反馈型半导体激光器。该分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其中,将相移部的相移量设定为(8/40)Λ~(9/40)Λ(Λ为衍射光栅间隔的2倍)。由此,在注入电流为阈值电流电平时,主模式从阻带中央向短波长侧偏离,而在注入电流为驱动电流电平时,主模式向阻带中央移动,并且抑制子模式的增大。
Description
技术领域
本发明涉及一种分布反馈型半导体激光器。
背景技术
在光通信技术的领域中,作为单一纵模式振荡的半导体激光器,使用分布反馈型半导体激光器(DFB-LD/Distributed FeedBack LaserDiode)。例如,在调制速度为1.0Gbps以上、距离为20km以上的光信号传送、特别是在调制速度为2.5Gbps以上、距离为50km以上的光信号传送中使用DFB-LD。
在DFB-LD中,为了实现单一模式振荡,一般在衍射光栅中设置相移量为Λ/4的相移部(例如参照非专利文献1)。另外,在本发明中,相移量不是用光的振荡波长“λ”表示,而使用表示衍射光栅间隔的2倍的“Λ”表示。
作为调节了该相移量的DFB-LD,公知有例如专利文献1~专利文献3所述的DFB-LD。在专利文献1中公开了如下DFB-LD:以稳定的单一轴模式下的动作为目的,将衍射光栅的相移量设定为Λ/16~3Λ/8(参照专利文献1)。在专利文献2中公开了如下DFB-LD:以抑制调制时的波长啁啾为目的,将相移量设定为(Λ/2-Λ/n,n=4~16)。此外,在专利文献3中公开了如下DFB-LD:以在稳定的单一模式下提高发光效率为目的,例如形成两个相移量为Λ/8的相移部。
专利文献1:特开昭63-32988号公报
专利文献2:特开2003-204114号公报
专利文献3:特开2003-152272号公报
非专利文献1:稻叶文男监修「レ一ザ工学入門」(激光工学入门),社团法人电位信息通信学会编,平成9年发行
在DFB-LD中,可激光振荡的波长具有两个(主模式和子模式)。因此,通过衍射光栅的相移,选择性地仅振荡一个波长。此时,在用于2.5Gbps以上的高频带通信的DFB-LD中,为了避免因不同波长的组延迟引起的传送不良,要求主模式和子模式的强度比(边模抑制比(SMSR/Side Mode Suppression Ratio))为30dB以上。
但是,在衍射光栅中设有相移量为Λ/4的相移部的DFB-LD中,随着注入电流的增加,例如如图9(b)所示,作为振荡模式的主模式向阻带的长波长侧移动,短波长侧的阻带端峰值变大。在这种状态下,如图10所示,无法形成主模式的单一振荡。
发明内容
在Λ/4相移的DFB-LD中,因电流增加而无法得到单一振荡的理由如下。激光振荡驱动时,在相移部中波导的光密度局部增大,与其他波导部分相比载波的消耗增多。由此,相移部的载波密度局部降低(空间孔燃烧/spatial hole burning),相移部的光波导折射率相对增大。因此,相移部的光路长度实质上大于设定的Λ/4。因此,在本发明中,预估波导折射率的增大量来设定相移量。即设定为:如图1(a)所示,当注入电流为阈值电流电平(0.9Ith)时,主模式从阻带中央向短波长侧偏离,注入电流为驱动电流电平(例如30mA时),主模式向阻带的中心移动。
根据本发明的第一方式,提供一种分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其中,相移部的相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ(Λ为衍射光栅间隔的2倍)。
另外,在惯例上也存在将“Λ/2-(本发明所述的相移量)”称作相移量的文献。该相移量是指振荡的激光中产生的相移量。此时,大多利用“λ”来替代“Λ”。例如,如上文所述在专利文献2中使用该定义。如果在本发明中应用该定义,则相移量(8/40)Λ~(9/40)Λ表记为(11/40)λ~(12/40)λ。另外,该“λ”是指元件内的波长。即,表记为λ=λ0/n(λ0为真空中的波长,n为子波导折射率)。
根据本发明,驱动电流较大时(例如通常激光振荡动作时),可以使主模式的峰值向阻带的中央移动,并且可以增大主模式和子模式的抑制比。由此可以得到以单一模式进行振荡的DFB-LD。本发明的DFB-LD例如可以用于2.5Gbps以上的高频带通信。
附图说明
图1是用于说明本发明的DFB-LD中的动作的光谱图。
图2是表示DFB-LD的结构的简要俯视图。
图3是实施例1中的结合系数κL=2.5、注入电流=0.9Ith时的光谱图。
图4是实施例1中的结合系数κL=2.5、注入电流=30mA时的光谱图。
图5是实施例1中的结合系数κL=3.5、注入电流=0.9Ith时的光谱图。
图6是实施例1中的结合系数κL=3.5、注入电流=30mA时的光谱图。
图7是实施例1中的DFB-LD振荡时的光场分布图。
图8是实施例2中的模拟结果。
图9是相移量Λ/4的DFB-LD中的光谱图。
图10是在相移量Λ/4的DFB-LD中主模式单一振荡性崩溃的光谱例。
具体实施方式
对本发明的DFB-LD进行说明。图2是表示DFB-LD的结构的简要俯视图。DFB-LD1,在多量子阱结构(MQW,Multi-Quantum Well)的活性层4的下侧具有衍射光栅6,进而在两端面具有无反射膜(AR涂层、防反射膜)7a、7b。衍射光栅6具有相移部6a。本发明的相移部6a的相移量d为(8/40)Λ~(9/40)Λ。在此,Λ表示衍射光栅6的峰(或谷)的顶点间的间隔(衍射光栅的周期)d0的2倍。在本发明中,预先使相移量小于Λ/4,由此使主模式在阻带(stop band)的中央振荡。若相移量大于(9/40)Λ,则在注入了通常驱动时的电流时,主模式从阻带中央向长波长侧移动,并且短波长侧的峰值增大,得不到单一模式振荡。另一方面,若相移量小于(8/40)Λ,则在注入了通常驱动时的电流时,主模式从阻带中央向短波长侧移动。
在图2所示的DFB-LD1中,相移部6a形成于轴方向的中央,但本发明的有效性并不取决于相移部6a的位置。例如,为了改变输出前后比,可以从元件的中央偏离形成相移部6a。此时,相移部6a和元件的中央的距离越大,阻带端峰值越容易增大,但根据本发明,通过使相移量为Λ/4以下,可以抑制阻带端峰值的增大。
衍射光栅6及相移部6a,可以通过使用电子束(EB/Electron Beam)描画法来精密地形成。
实施例1
为了确认本发明的效果,制作相移量及结合系数不同的DFB-LD,对各个DFB-LD观察阈值电流电平时和通常驱动电平时的光谱。制作的DFB-LD,为图2所示的结构,即是在两端面具有无反射膜的MQW活性层的1.55μm波段DFB-LD。元件长度L为450μm,相移部形成在距离前方195μm(距离后方255μm)的位置。使相移部从元件中央向前方侧偏离少许,是为了在前方侧提高输出前后比。在作为光栅深度指标的结合系数κL为2.5及3.5的各衍射光栅中,相移量以电子束描画时的间距设定为(11/40)Λ、 (10/40)Λ(=Λ/4)、 (9/40)Λ、及(8/40)Λ。
对于各DFB-LD,作为阈值电流电平的电流,使之为阈值电流的0.9倍的电流(0.9Ith) (约10mA);作为驱动电平的电流,使之为激光器振荡的30mA(光功率Po=约5mW)。此时观测到的光谱如图3~图6所示。图3是在结合系数κL=2.5的DFB-LD中流过0.9Ith的电流时的光谱,图4是在结合系数κL=2.5的DFB-LD中流过30mA的电流时的光谱。此外,图5是在结合系数κL=3.5的DFB-LD中流过0.9Ith的电流时的光谱,图6是在结合系数κL=3.5的DFB-LD中流过30mA的电流时的光谱。在各图中,(a)是将电子束描画时的相移量设定为(11/40)Λ,(b)是将其设定为(10/40)Λ,(c)是将其设定为(9/40)Λ,(d)是将其设定为(8/40)Λ。
在结合系数为2.5及3.5的任意DFB-LD中,在电流值为阈值电流附近的情况下,当相移量为(10/40)Λ时(图3(b)及图5(b)),主模式位于阻带的中央。当相移量为(11/40)Λ时(图3(a)及图5(a)),主模式位于从中央向长波长侧偏离少许的位置,当相移量为(9/40)Λ、及(8/40)Λ时(图3(c)、(d)及图5(c)、(d)),主模式位于从中央向短波长侧偏离少许的位置。而当电流值为30mA时,在任一个DFB-LD中主模式均向长波长侧偏离。例如,在图4(b)及图6(b)所示的、相移量为(10/40)Λ的DFB-LD中,主模式从阻带中央向长波长侧移动,随之,阻带短波长侧的峰值增大。在κL=3.5的DFB-LD中该特征尤为显著。实际上,在两端面具有无反射膜的DFB-LD中,阻带短波长侧峰值的增大是得不到单一模式振荡的主要原因。另一方面,在图4(c)、(d)及图6(c)、(d)所示的、相移量为(9/40)Λ及(8/40)Λ的DFB-LD中,在电流值为30mA时,主模式位于阻带的中央,此时阻带短波长侧峰值的增大得到抑制。因此可以确认:在电子束描画时的设定中,如果使相移量大于(10/40)Λ,则在注入驱动电平的电流时单一模式振荡容易崩溃,但如果使相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,则利于注入驱动电平的电流时的稳定的单一模式振荡。
图7表示在实施例1中制作的κL=2.5的DFB-LD中振荡时的光场分布。振荡时的光场分布在相移部的位置变得极大。在该光场大的位置,载波消耗因受激发射而变大。由此,相移部的载波密度与其他部分相比相对较低,波导折射率增大。光输出越高、即驱动电流越大该现象越显著。因此,随着电流注入的增大,相移部中的光路长度增大。从而,考虑该光路长度的增大量,而在形成衍射光栅时预先使相移量稍小于Λ/4,优选使相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,由此可以实现单一模式的振荡。
实施例2
在实施例1中对相移量为(8/40)Λ~(1 1/40)Λ的DFB-LD观察了光谱,而在实施例2中,模拟了进一步使相移量小于(8/40)Λ时的光谱。对与实施例1同样的、结合系数κL=3.5、相移量为(6/40)Λ的DFB-LD进行了光谱模拟。图8表示模拟结果。当注入电流=0.9Ith时(图8(a)),主模式从阻带中央向短波长侧偏离,当注入电流=0.95Ith时(图8(b)),长波长侧的峰值增大,主模式和子模式的差异消除。在该状态下,无法得到单一模式振荡,而变成双模式振荡。因此可以确认当相移量小于(8/40)Λ时难以得到单一模式振荡。
本发明的DFB-LD不限于上述实施方式及实施例,可以在本发明的范围内进行各种变形、变更及改良。例如,本发明的DFB-LD的适用,并不依赖于元件长度、波段、结合系数κL、DFB-LD的结构(活性层、金属包层、光导层、覆盖层、电极等构成)等要素。进而,本发明的DFB-LD也可以适用于在活性层的上侧具有衍射光栅的结构。
Claims (2)
1.一种分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其特征在于,
上述相移部的相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,其中Λ为衍射光栅间隔的2倍,
在注入电流为阈值电流电平时,使作为振荡模式的主模式从阻带中央向短波长侧偏离,在注入电流为驱动电流电平时,使主模式向阻带的中心移动。
2.根据权利要求1所述的分布反馈型半导体激光器,其特征在于,
在上述分布反馈型半导体激光器的两端面具有无反射膜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006149905 | 2006-05-30 | ||
JP2006149905A JP4884081B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | 分布帰還型半導体レーザ |
JP2006-149905 | 2006-05-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101083385A CN101083385A (zh) | 2007-12-05 |
CN101083385B true CN101083385B (zh) | 2011-05-18 |
Family
ID=38790120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200710108142XA Expired - Fee Related CN101083385B (zh) | 2006-05-30 | 2007-05-30 | 分布反馈型半导体激光器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7633986B2 (zh) |
JP (1) | JP4884081B2 (zh) |
CN (1) | CN101083385B (zh) |
TW (1) | TW200814478A (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2909491B1 (fr) * | 2006-12-05 | 2010-04-23 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif laser a source laser et guide d'onde couples |
JP6183122B2 (ja) * | 2013-10-02 | 2017-08-23 | 富士通株式会社 | 光半導体素子、光半導体素子アレイ、光送信モジュール及び光伝送システム |
CN116683291B (zh) * | 2023-08-02 | 2023-10-03 | 中国科学院半导体研究所 | 相移多波长半导体激光器及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4794618A (en) * | 1986-07-25 | 1988-12-27 | Nec Corporation | Distributed feedback laser diode |
US5960023A (en) * | 1996-04-15 | 1999-09-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Distributed feedback semiconductor laser diode, method for producing the same, and exposure method therefor |
US6330268B1 (en) * | 1998-08-27 | 2001-12-11 | Nec Corporation | Distributed feedback semiconductor laser |
CN1431743A (zh) * | 2002-01-07 | 2003-07-23 | 日本电气株式会社 | 相移分布反馈型半导体激光二极管及其制造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61216383A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-26 | Nec Corp | 分布帰還型半導体レ−ザ |
JPH0290688A (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 | Nec Corp | 分布帰還型半導体レーザ |
JPH02213188A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | 単一波長半導体レーザ |
EP0413365B1 (en) * | 1989-08-18 | 1995-04-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a diffraction grating |
JPH0817262B2 (ja) * | 1989-08-18 | 1996-02-21 | 三菱電機株式会社 | 単一波長発振半導体レーザ装置 |
JP2553217B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1996-11-13 | 株式会社東芝 | レーザ素子及びその製造方法 |
JPH04111383A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Nec Kansai Ltd | 位相シフト分布帰還型レーザダイオード |
JP2822988B2 (ja) * | 1996-07-26 | 1998-11-11 | 日本電気株式会社 | 分布帰還型半導体レーザ |
JP2970578B2 (ja) * | 1997-03-17 | 1999-11-02 | 日本電気株式会社 | 分布帰還型半導体レーザ |
US6574261B2 (en) * | 1998-08-27 | 2003-06-03 | Nec Corporation | Distributed feedback semiconductor laser |
JP2000223787A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Canon Inc | 半導体レーザー |
JP2002084033A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Nec Corp | 分布帰還型半導体レーザ |
JP2003051640A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2003152272A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-23 | Nec Corp | 分散位相シフト構造分布帰還型半導体レーザ |
JP2004111709A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ |
-
2006
- 2006-05-30 JP JP2006149905A patent/JP4884081B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-05-29 US US11/754,861 patent/US7633986B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-05-29 TW TW096119134A patent/TW200814478A/zh unknown
- 2007-05-30 CN CN200710108142XA patent/CN101083385B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4794618A (en) * | 1986-07-25 | 1988-12-27 | Nec Corporation | Distributed feedback laser diode |
US5960023A (en) * | 1996-04-15 | 1999-09-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Distributed feedback semiconductor laser diode, method for producing the same, and exposure method therefor |
US6330268B1 (en) * | 1998-08-27 | 2001-12-11 | Nec Corporation | Distributed feedback semiconductor laser |
CN1431743A (zh) * | 2002-01-07 | 2003-07-23 | 日本电气株式会社 | 相移分布反馈型半导体激光二极管及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4884081B2 (ja) | 2012-02-22 |
TW200814478A (en) | 2008-03-16 |
JP2007324196A (ja) | 2007-12-13 |
US20070280321A1 (en) | 2007-12-06 |
US7633986B2 (en) | 2009-12-15 |
CN101083385A (zh) | 2007-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhang et al. | Dynamic analysis of radiation and side-mode suppression in a second-order DFB laser using time-domain large-signal traveling wave model | |
JP5823920B2 (ja) | 半導体光集積素子 | |
Fang et al. | Single-wavelength silicon evanescent lasers | |
CN100428589C (zh) | Q-调制半导体激光器 | |
JP5373653B2 (ja) | 光変調信号生成装置及び光変調信号生成方法 | |
CN109565151A (zh) | 半导体激光元件 | |
KR20150037863A (ko) | 소형 포토닉 플랫폼 | |
CN101083385B (zh) | 分布反馈型半导体激光器 | |
Ozyazici et al. | Theoretical model of the hybrid soliton pulse source | |
JP5069262B2 (ja) | 半導体発光素子およびそれを用いた光パルス試験器 | |
JP4301925B2 (ja) | 半導体レーザ、半導体レーザの駆動方法および波長変換素子 | |
CN102751659A (zh) | 一种可调谐半导体激光器 | |
JP3580488B2 (ja) | 周波数シフト帰還型モード同期レーザ及び周波数シフト帰還型再生モード同期レーザ。 | |
RU2540233C1 (ru) | Инжекционный лазер с многоволновым модулированным излучением | |
JP4374862B2 (ja) | 半導体レーザ、半導体レーザの駆動方法および波長変換素子 | |
Dai et al. | Hybrid silicon lasers for optical interconnects | |
JP6673137B2 (ja) | 光変調器付き半導体レーザ装置 | |
JP2011181789A (ja) | 半導体光源 | |
JP2013168513A (ja) | 半導体レーザおよび光半導体装置 | |
Kwon et al. | Electroabsorption modulated laser with high immunity to residual facet reflection | |
JP2011253977A (ja) | Dbrレーザ | |
JP7147611B2 (ja) | 高出力直接変調型レーザ | |
Doerr et al. | Multifrequency laser with reduced intracavity wave mixing | |
Kim et al. | Dynamic analysis of mode-locked sampled-grating distributed Bragg reflector laser diodes | |
JP2011192856A (ja) | 半導体発光素子およびそれを用いた光パルス試験器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110518 Termination date: 20140530 |