CN101083385B - 分布反馈型半导体激光器 - Google Patents

分布反馈型半导体激光器 Download PDF

Info

Publication number
CN101083385B
CN101083385B CN200710108142XA CN200710108142A CN101083385B CN 101083385 B CN101083385 B CN 101083385B CN 200710108142X A CN200710108142X A CN 200710108142XA CN 200710108142 A CN200710108142 A CN 200710108142A CN 101083385 B CN101083385 B CN 101083385B
Authority
CN
China
Prior art keywords
phase
dfb
shift
holotype
laser diode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200710108142XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101083385A (zh
Inventor
北村昌太郎
阪田康隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Renesas Electronics Corp
Original Assignee
Renesas Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Electronics Corp filed Critical Renesas Electronics Corp
Publication of CN101083385A publication Critical patent/CN101083385A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101083385B publication Critical patent/CN101083385B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/028Coatings ; Treatment of the laser facets, e.g. etching, passivation layers or reflecting layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/124Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

提供一种能以单一模式进行振荡的分布反馈型半导体激光器。该分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其中,将相移部的相移量设定为(8/40)Λ~(9/40)Λ(Λ为衍射光栅间隔的2倍)。由此,在注入电流为阈值电流电平时,主模式从阻带中央向短波长侧偏离,而在注入电流为驱动电流电平时,主模式向阻带中央移动,并且抑制子模式的增大。

Description

分布反馈型半导体激光器
技术领域
本发明涉及一种分布反馈型半导体激光器。
背景技术
在光通信技术的领域中,作为单一纵模式振荡的半导体激光器,使用分布反馈型半导体激光器(DFB-LD/Distributed FeedBack LaserDiode)。例如,在调制速度为1.0Gbps以上、距离为20km以上的光信号传送、特别是在调制速度为2.5Gbps以上、距离为50km以上的光信号传送中使用DFB-LD。
在DFB-LD中,为了实现单一模式振荡,一般在衍射光栅中设置相移量为Λ/4的相移部(例如参照非专利文献1)。另外,在本发明中,相移量不是用光的振荡波长“λ”表示,而使用表示衍射光栅间隔的2倍的“Λ”表示。
作为调节了该相移量的DFB-LD,公知有例如专利文献1~专利文献3所述的DFB-LD。在专利文献1中公开了如下DFB-LD:以稳定的单一轴模式下的动作为目的,将衍射光栅的相移量设定为Λ/16~3Λ/8(参照专利文献1)。在专利文献2中公开了如下DFB-LD:以抑制调制时的波长啁啾为目的,将相移量设定为(Λ/2-Λ/n,n=4~16)。此外,在专利文献3中公开了如下DFB-LD:以在稳定的单一模式下提高发光效率为目的,例如形成两个相移量为Λ/8的相移部。
专利文献1:特开昭63-32988号公报
专利文献2:特开2003-204114号公报
专利文献3:特开2003-152272号公报
非专利文献1:稻叶文男监修「レ一ザ工学入門」(激光工学入门),社团法人电位信息通信学会编,平成9年发行
在DFB-LD中,可激光振荡的波长具有两个(主模式和子模式)。因此,通过衍射光栅的相移,选择性地仅振荡一个波长。此时,在用于2.5Gbps以上的高频带通信的DFB-LD中,为了避免因不同波长的组延迟引起的传送不良,要求主模式和子模式的强度比(边模抑制比(SMSR/Side Mode Suppression Ratio))为30dB以上。
但是,在衍射光栅中设有相移量为Λ/4的相移部的DFB-LD中,随着注入电流的增加,例如如图9(b)所示,作为振荡模式的主模式向阻带的长波长侧移动,短波长侧的阻带端峰值变大。在这种状态下,如图10所示,无法形成主模式的单一振荡。
发明内容
在Λ/4相移的DFB-LD中,因电流增加而无法得到单一振荡的理由如下。激光振荡驱动时,在相移部中波导的光密度局部增大,与其他波导部分相比载波的消耗增多。由此,相移部的载波密度局部降低(空间孔燃烧/spatial hole burning),相移部的光波导折射率相对增大。因此,相移部的光路长度实质上大于设定的Λ/4。因此,在本发明中,预估波导折射率的增大量来设定相移量。即设定为:如图1(a)所示,当注入电流为阈值电流电平(0.9Ith)时,主模式从阻带中央向短波长侧偏离,注入电流为驱动电流电平(例如30mA时),主模式向阻带的中心移动。
根据本发明的第一方式,提供一种分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其中,相移部的相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ(Λ为衍射光栅间隔的2倍)。
另外,在惯例上也存在将“Λ/2-(本发明所述的相移量)”称作相移量的文献。该相移量是指振荡的激光中产生的相移量。此时,大多利用“λ”来替代“Λ”。例如,如上文所述在专利文献2中使用该定义。如果在本发明中应用该定义,则相移量(8/40)Λ~(9/40)Λ表记为(11/40)λ~(12/40)λ。另外,该“λ”是指元件内的波长。即,表记为λ=λ0/n(λ0为真空中的波长,n为子波导折射率)。
根据本发明,驱动电流较大时(例如通常激光振荡动作时),可以使主模式的峰值向阻带的中央移动,并且可以增大主模式和子模式的抑制比。由此可以得到以单一模式进行振荡的DFB-LD。本发明的DFB-LD例如可以用于2.5Gbps以上的高频带通信。
附图说明
图1是用于说明本发明的DFB-LD中的动作的光谱图。
图2是表示DFB-LD的结构的简要俯视图。
图3是实施例1中的结合系数κL=2.5、注入电流=0.9Ith时的光谱图。
图4是实施例1中的结合系数κL=2.5、注入电流=30mA时的光谱图。
图5是实施例1中的结合系数κL=3.5、注入电流=0.9Ith时的光谱图。
图6是实施例1中的结合系数κL=3.5、注入电流=30mA时的光谱图。
图7是实施例1中的DFB-LD振荡时的光场分布图。
图8是实施例2中的模拟结果。
图9是相移量Λ/4的DFB-LD中的光谱图。
图10是在相移量Λ/4的DFB-LD中主模式单一振荡性崩溃的光谱例。
具体实施方式
对本发明的DFB-LD进行说明。图2是表示DFB-LD的结构的简要俯视图。DFB-LD1,在多量子阱结构(MQW,Multi-Quantum Well)的活性层4的下侧具有衍射光栅6,进而在两端面具有无反射膜(AR涂层、防反射膜)7a、7b。衍射光栅6具有相移部6a。本发明的相移部6a的相移量d为(8/40)Λ~(9/40)Λ。在此,Λ表示衍射光栅6的峰(或谷)的顶点间的间隔(衍射光栅的周期)d0的2倍。在本发明中,预先使相移量小于Λ/4,由此使主模式在阻带(stop band)的中央振荡。若相移量大于(9/40)Λ,则在注入了通常驱动时的电流时,主模式从阻带中央向长波长侧移动,并且短波长侧的峰值增大,得不到单一模式振荡。另一方面,若相移量小于(8/40)Λ,则在注入了通常驱动时的电流时,主模式从阻带中央向短波长侧移动。
在图2所示的DFB-LD1中,相移部6a形成于轴方向的中央,但本发明的有效性并不取决于相移部6a的位置。例如,为了改变输出前后比,可以从元件的中央偏离形成相移部6a。此时,相移部6a和元件的中央的距离越大,阻带端峰值越容易增大,但根据本发明,通过使相移量为Λ/4以下,可以抑制阻带端峰值的增大。
衍射光栅6及相移部6a,可以通过使用电子束(EB/Electron Beam)描画法来精密地形成。
实施例1
为了确认本发明的效果,制作相移量及结合系数不同的DFB-LD,对各个DFB-LD观察阈值电流电平时和通常驱动电平时的光谱。制作的DFB-LD,为图2所示的结构,即是在两端面具有无反射膜的MQW活性层的1.55μm波段DFB-LD。元件长度L为450μm,相移部形成在距离前方195μm(距离后方255μm)的位置。使相移部从元件中央向前方侧偏离少许,是为了在前方侧提高输出前后比。在作为光栅深度指标的结合系数κL为2.5及3.5的各衍射光栅中,相移量以电子束描画时的间距设定为(11/40)Λ、  (10/40)Λ(=Λ/4)、  (9/40)Λ、及(8/40)Λ。
对于各DFB-LD,作为阈值电流电平的电流,使之为阈值电流的0.9倍的电流(0.9Ith)  (约10mA);作为驱动电平的电流,使之为激光器振荡的30mA(光功率Po=约5mW)。此时观测到的光谱如图3~图6所示。图3是在结合系数κL=2.5的DFB-LD中流过0.9Ith的电流时的光谱,图4是在结合系数κL=2.5的DFB-LD中流过30mA的电流时的光谱。此外,图5是在结合系数κL=3.5的DFB-LD中流过0.9Ith的电流时的光谱,图6是在结合系数κL=3.5的DFB-LD中流过30mA的电流时的光谱。在各图中,(a)是将电子束描画时的相移量设定为(11/40)Λ,(b)是将其设定为(10/40)Λ,(c)是将其设定为(9/40)Λ,(d)是将其设定为(8/40)Λ。
在结合系数为2.5及3.5的任意DFB-LD中,在电流值为阈值电流附近的情况下,当相移量为(10/40)Λ时(图3(b)及图5(b)),主模式位于阻带的中央。当相移量为(11/40)Λ时(图3(a)及图5(a)),主模式位于从中央向长波长侧偏离少许的位置,当相移量为(9/40)Λ、及(8/40)Λ时(图3(c)、(d)及图5(c)、(d)),主模式位于从中央向短波长侧偏离少许的位置。而当电流值为30mA时,在任一个DFB-LD中主模式均向长波长侧偏离。例如,在图4(b)及图6(b)所示的、相移量为(10/40)Λ的DFB-LD中,主模式从阻带中央向长波长侧移动,随之,阻带短波长侧的峰值增大。在κL=3.5的DFB-LD中该特征尤为显著。实际上,在两端面具有无反射膜的DFB-LD中,阻带短波长侧峰值的增大是得不到单一模式振荡的主要原因。另一方面,在图4(c)、(d)及图6(c)、(d)所示的、相移量为(9/40)Λ及(8/40)Λ的DFB-LD中,在电流值为30mA时,主模式位于阻带的中央,此时阻带短波长侧峰值的增大得到抑制。因此可以确认:在电子束描画时的设定中,如果使相移量大于(10/40)Λ,则在注入驱动电平的电流时单一模式振荡容易崩溃,但如果使相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,则利于注入驱动电平的电流时的稳定的单一模式振荡。
图7表示在实施例1中制作的κL=2.5的DFB-LD中振荡时的光场分布。振荡时的光场分布在相移部的位置变得极大。在该光场大的位置,载波消耗因受激发射而变大。由此,相移部的载波密度与其他部分相比相对较低,波导折射率增大。光输出越高、即驱动电流越大该现象越显著。因此,随着电流注入的增大,相移部中的光路长度增大。从而,考虑该光路长度的增大量,而在形成衍射光栅时预先使相移量稍小于Λ/4,优选使相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,由此可以实现单一模式的振荡。
实施例2
在实施例1中对相移量为(8/40)Λ~(1 1/40)Λ的DFB-LD观察了光谱,而在实施例2中,模拟了进一步使相移量小于(8/40)Λ时的光谱。对与实施例1同样的、结合系数κL=3.5、相移量为(6/40)Λ的DFB-LD进行了光谱模拟。图8表示模拟结果。当注入电流=0.9Ith时(图8(a)),主模式从阻带中央向短波长侧偏离,当注入电流=0.95Ith时(图8(b)),长波长侧的峰值增大,主模式和子模式的差异消除。在该状态下,无法得到单一模式振荡,而变成双模式振荡。因此可以确认当相移量小于(8/40)Λ时难以得到单一模式振荡。
本发明的DFB-LD不限于上述实施方式及实施例,可以在本发明的范围内进行各种变形、变更及改良。例如,本发明的DFB-LD的适用,并不依赖于元件长度、波段、结合系数κL、DFB-LD的结构(活性层、金属包层、光导层、覆盖层、电极等构成)等要素。进而,本发明的DFB-LD也可以适用于在活性层的上侧具有衍射光栅的结构。

Claims (2)

1.一种分布反馈型半导体激光器,在衍射光栅中具有相移部,其特征在于,
上述相移部的相移量为(8/40)Λ~(9/40)Λ,其中Λ为衍射光栅间隔的2倍,
在注入电流为阈值电流电平时,使作为振荡模式的主模式从阻带中央向短波长侧偏离,在注入电流为驱动电流电平时,使主模式向阻带的中心移动。
2.根据权利要求1所述的分布反馈型半导体激光器,其特征在于,
在上述分布反馈型半导体激光器的两端面具有无反射膜。
CN200710108142XA 2006-05-30 2007-05-30 分布反馈型半导体激光器 Expired - Fee Related CN101083385B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006149905 2006-05-30
JP2006149905A JP4884081B2 (ja) 2006-05-30 2006-05-30 分布帰還型半導体レーザ
JP2006-149905 2006-05-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101083385A CN101083385A (zh) 2007-12-05
CN101083385B true CN101083385B (zh) 2011-05-18

Family

ID=38790120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200710108142XA Expired - Fee Related CN101083385B (zh) 2006-05-30 2007-05-30 分布反馈型半导体激光器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7633986B2 (zh)
JP (1) JP4884081B2 (zh)
CN (1) CN101083385B (zh)
TW (1) TW200814478A (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2909491B1 (fr) * 2006-12-05 2010-04-23 Commissariat Energie Atomique Dispositif laser a source laser et guide d'onde couples
JP6183122B2 (ja) * 2013-10-02 2017-08-23 富士通株式会社 光半導体素子、光半導体素子アレイ、光送信モジュール及び光伝送システム
CN116683291B (zh) * 2023-08-02 2023-10-03 中国科学院半导体研究所 相移多波长半导体激光器及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4794618A (en) * 1986-07-25 1988-12-27 Nec Corporation Distributed feedback laser diode
US5960023A (en) * 1996-04-15 1999-09-28 Sharp Kabushiki Kaisha Distributed feedback semiconductor laser diode, method for producing the same, and exposure method therefor
US6330268B1 (en) * 1998-08-27 2001-12-11 Nec Corporation Distributed feedback semiconductor laser
CN1431743A (zh) * 2002-01-07 2003-07-23 日本电气株式会社 相移分布反馈型半导体激光二极管及其制造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61216383A (ja) * 1985-03-20 1986-09-26 Nec Corp 分布帰還型半導体レ−ザ
JPH0290688A (ja) * 1988-09-28 1990-03-30 Nec Corp 分布帰還型半導体レーザ
JPH02213188A (ja) * 1989-02-13 1990-08-24 Mitsubishi Electric Corp 単一波長半導体レーザ
EP0413365B1 (en) * 1989-08-18 1995-04-05 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing a diffraction grating
JPH0817262B2 (ja) * 1989-08-18 1996-02-21 三菱電機株式会社 単一波長発振半導体レーザ装置
JP2553217B2 (ja) * 1990-04-19 1996-11-13 株式会社東芝 レーザ素子及びその製造方法
JPH04111383A (ja) * 1990-08-30 1992-04-13 Nec Kansai Ltd 位相シフト分布帰還型レーザダイオード
JP2822988B2 (ja) * 1996-07-26 1998-11-11 日本電気株式会社 分布帰還型半導体レーザ
JP2970578B2 (ja) * 1997-03-17 1999-11-02 日本電気株式会社 分布帰還型半導体レーザ
US6574261B2 (en) * 1998-08-27 2003-06-03 Nec Corporation Distributed feedback semiconductor laser
JP2000223787A (ja) * 1999-01-29 2000-08-11 Canon Inc 半導体レーザー
JP2002084033A (ja) * 2000-09-06 2002-03-22 Nec Corp 分布帰還型半導体レーザ
JP2003051640A (ja) * 2001-08-07 2003-02-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ装置
JP2003152272A (ja) * 2001-11-12 2003-05-23 Nec Corp 分散位相シフト構造分布帰還型半導体レーザ
JP2004111709A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4794618A (en) * 1986-07-25 1988-12-27 Nec Corporation Distributed feedback laser diode
US5960023A (en) * 1996-04-15 1999-09-28 Sharp Kabushiki Kaisha Distributed feedback semiconductor laser diode, method for producing the same, and exposure method therefor
US6330268B1 (en) * 1998-08-27 2001-12-11 Nec Corporation Distributed feedback semiconductor laser
CN1431743A (zh) * 2002-01-07 2003-07-23 日本电气株式会社 相移分布反馈型半导体激光二极管及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4884081B2 (ja) 2012-02-22
TW200814478A (en) 2008-03-16
JP2007324196A (ja) 2007-12-13
US20070280321A1 (en) 2007-12-06
US7633986B2 (en) 2009-12-15
CN101083385A (zh) 2007-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhang et al. Dynamic analysis of radiation and side-mode suppression in a second-order DFB laser using time-domain large-signal traveling wave model
JP5823920B2 (ja) 半導体光集積素子
Fang et al. Single-wavelength silicon evanescent lasers
CN100428589C (zh) Q-调制半导体激光器
JP5373653B2 (ja) 光変調信号生成装置及び光変調信号生成方法
CN109565151A (zh) 半导体激光元件
KR20150037863A (ko) 소형 포토닉 플랫폼
CN101083385B (zh) 分布反馈型半导体激光器
Ozyazici et al. Theoretical model of the hybrid soliton pulse source
JP5069262B2 (ja) 半導体発光素子およびそれを用いた光パルス試験器
JP4301925B2 (ja) 半導体レーザ、半導体レーザの駆動方法および波長変換素子
CN102751659A (zh) 一种可调谐半导体激光器
JP3580488B2 (ja) 周波数シフト帰還型モード同期レーザ及び周波数シフト帰還型再生モード同期レーザ。
RU2540233C1 (ru) Инжекционный лазер с многоволновым модулированным излучением
JP4374862B2 (ja) 半導体レーザ、半導体レーザの駆動方法および波長変換素子
Dai et al. Hybrid silicon lasers for optical interconnects
JP6673137B2 (ja) 光変調器付き半導体レーザ装置
JP2011181789A (ja) 半導体光源
JP2013168513A (ja) 半導体レーザおよび光半導体装置
Kwon et al. Electroabsorption modulated laser with high immunity to residual facet reflection
JP2011253977A (ja) Dbrレーザ
JP7147611B2 (ja) 高出力直接変調型レーザ
Doerr et al. Multifrequency laser with reduced intracavity wave mixing
Kim et al. Dynamic analysis of mode-locked sampled-grating distributed Bragg reflector laser diodes
JP2011192856A (ja) 半導体発光素子およびそれを用いた光パルス試験器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110518

Termination date: 20140530