CN101010605A - 微光学设备、利用该微光学设备的空间光学调制器和投影仪 - Google Patents

微光学设备、利用该微光学设备的空间光学调制器和投影仪 Download PDF

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Abstract

一种微光学设备，包括多个微小光学元件，每一个微小光学元件具有可操作来会聚入射光的曲面。该微小光学元件以固定的间隔进行设置。所述曲面由两个或更多的F值进行表示。

Description

微光学设备、利用该微光学设备的 空间光学调制器和投影仪
技术领域
本发明涉及一种包括微透镜阵列、微反射镜(微小凹反射镜)阵列等的微光学设备，一种空间光学调制器和用于显示使用微光学设备处的图像的投影仪。
背景技术
自从1970年左右微光学设备诞生至今，例如作为微小透镜的微透镜、设置有多个微透镜的微透镜阵列、作为微小反射镜的微反射镜、以及设置有多个微反射镜的微反射镜阵列等等的微光学设备已经扮演了很重要的角色。
对于利用微光学设备的图像显示设备，有能够通过一个其中在光入射侧设置微透镜阵列的空间光学调制器使图像投影的一个液晶投影仪。通过组装多个为一种微小光学元件的微透镜形成微透镜阵列。
空间光学调制器被构成为包括被组装的多个空间光学调制元件，其具有光圈或反射部件。在空间光学调制器中，被入射到空间光学调制元件的光圈或反射部件的光通过被透射或被反射而受到调制。
在液晶投影仪中，要求即使在亮的地方也能清晰地看到投影图像。至于用于这一点的结构，微透镜阵列构成为相对于透射液晶光学调制器的像素阵列以改善数字光圈和光学利用效率(例如，见非专利文件1)。
此外，存在一种液晶投影仪，其中以与上述投影仪相同方法使用反射空间光学调制器。反射空间光学调制器的一个特征为它的数字光圈可以增加得大于透射液晶空间光学调制器的数字光圈。这样，像素尺寸可以被减小。存在另一个优点因此微透镜不必用于改善数字光圈和光学利用率。使用半导体制造工艺，通过在硅基板上顺序形成用于驱动的电路、像素电极、液晶层等，制造这样的反射液晶空间光学调制器(例如，参考非专利文件2和专利文件1)。
由于液晶被设置在硅基板上，也可称为LCoS(在硅上的液晶)。
此外，提出另一种结构，从而反射空间光学调制器的像素阵列被设置成与微透镜阵列相对，用于实现高性能，例如改善光学利用效率、数字光圈等等(例如，参考专利文件2)。
对于投影仪，对比度可以作为投影仪的指标(barometer)被给出。
对比度由在明亮状态显示的图像和在暗的状态显示的图像的照度比(明亮状态/暗的状态)的表示。明亮状态和暗的状态通过液晶的开关功能进行转换。
对比度越高，性能越高。因此，市场中需要利用具有高对比度的反射空间光学调制器的投影仪。
在利用透射空间光学调制器和包含微透镜阵列的反射空间光学调制器的投影仪中，对比度可由于偏振状态的改变而被减少。然而，在透射空间光学调制器中，线性偏振光仅通过微透镜一次。此外，偏振状态也仅仅经历一次改变。
相反地，在设置有微透镜阵列的反射空间光学调制器中，线性偏振光通过微透镜两次，即向后和向前。换句话说，发生偏振状态改变的可能性可为在透射空间光学调制器中的两倍。据此，从对比度看，透射空间光学调制器优于反射空间光学调制器。
对于对比度的大小(或高度)，在投影仪中进出的光的偏振状态与对比度的大小(或高度)有联系。
在投影仪中，从例如超高压汞灯的白光源入射的非偏振光被偏振改变光学系统分成两束线性偏振光，即偏振光P和S。
众所周知，当分开的线性偏振光通过投影透镜被投射到屏幕上，进出到投影仪的光学系统中而不损害偏振状态，可期望有高的对比度(对于偏振状态的改变，参考非专利文件3)。
【专利文件1】日本专利申请公开第2000-137246号
【专利文件2】日本专利申请公开第11-258585号
【非专利文件1】Kenjiro Hamanaka，O PLUS E，2000-3，第2卷、第3卷，第313页至318页
【非专利文件2】E.G.Colgan，M.Uda，IBM J.RES.DEVELOP.1998年第3/4期，第42卷，第339页至345页
【非专利文件3】Kunio Tsuruta，应用光学II，Baifukan，第234页至240页
然而，如果偏振状态受到损害，其会影响在光学系统(例如，偏振的主轴、椭圆偏振和消偏振)中的对比度，光被渗透进暗的状态，导致一个对所述对比度的损害因素。
在光学系统中，偏振光P可被转换成偏振光S(相反地，偏振光S可被转换成偏振光P)。这是偏振状态的有目的的改变。因此，这与上述的不想要改变偏振状态是有区别的。
当微透镜阵列被定位在与液晶反射空间光学调制器的像素(电极)阵列相对时，线性偏振光的主轴在微透镜阵列中旋转。还有，如果设置阻止反射层，导致偏振状态的改变，例如椭圆偏振。
当入射角很大时，改变变得明显。还有，在使用液晶反射空间光学调制器的液晶投影仪的光学系统中，由于偏振光束分光器(beam splitter)被设置在液晶反射空间光学调制器的前面，如果偏振状态被改变，所述光不能严格地对应于偏振(偏振光P和S)被分开。这样，即使在暗的状态，光仍可达到屏幕。因此，对比度可能被减小。
另一方面，除了对比度之外，图像的高清晰度也可作为液晶投影仪的性能指标。这由像素大小和像素数量来表示。像素尺寸越小并且像素数量越多，可以说能实现的图像清晰度就越高。
事实上，在减小像素尺寸上反射液晶空间光学调制器优于透射液晶空间光学调制器，但是像素尺寸的减小由当时的半导体制造工艺控制。因此，提出的目标是实现像素尺寸的减小而不受半导体制造工艺的控制。
发明内容
本发明的一个特征为提供一种微光学设备以及能够减少偏振状态改变的空间光学调制器。
在本发明的一个优选实施例中，提供一种被构成为阵列结构的微光学设备，其中偏振状态的改变被减小，并且由于界面上的反射造成的损失和色差(abberations)得到控制。
根据本发明的一个方面，提供一种具有高对比度的投影仪，其中偏振状态的改变被减小。
在本发明的一个实施例中，提供一种具有高对比度的高清晰度的投影仪。
为了达到根据本发明的目的的这些和其它优点，本发明提供一种微光学设备，其包括多个微小光学元件，每一个均具有可操作用于会聚入射光的曲面。该微小光学元件以固定间隔设置。该曲面由两个或更多的F值表示。
根据本发明的至少一个实施例，当线性偏振光以大的入射角被投射到投射表面时，主要由偏振的主轴的旋转引起的偏振状态的改变变大。在入射角被固定的情况下，在曲面上的偏振状态的改变大于在平面上的偏振状态的改变。也就是说，本发明注意到偏振状态的改变可以在平面上被降低。这样，基本上平的面被形成在微小光学元件的曲面上。从而，偏振的改变可被降低。还有，所剩未改变的弯曲形状保持聚光功能。此外，两个或更多的F值被用来表示所述曲面。具有大的F值的微透镜改善对比度。另一方面，具有小的F值的微透镜保持聚光功能并改善光学利用的效率。
根据本发明的至少一个实施例，能够通过微透镜阵列减小偏振的改变并改善光学利用的效率。因此，可以获得具有高对比度和高的光学利用的效率的空间光学调制器。
根据本发明的至少一个实施例，通过微小凹反射镜能够减小偏振的改变并改善光学利用的效率。因此，可以获得具有高对比度和高的光学利用效率的空间光学调制器。
根据本发明的至少一个实施例，能够通过空间光学调制器实现高对比度和高的光学利用的效率。因此，能够提供一种具有高对比度和高的光学利用效率的投影仪。
附图说明
图1是图示根据本发明的第一实施例的微透镜阵列的结构示例的图案横截面图；
图2是图示根据本发明的第二实施例的微反射镜阵列的结构示例的图案横截面图；
图3是图示根据本发明的第三实施例的微透镜阵列的结构示例的图案横截面图；
图4是图示根据本发明的第四实施例的微反射镜阵列的结构示例的图案横截面图；
图5是图示根据本发明的第五实施例的反射液晶空间光学调制器的结构示例的图案横截面图；
图6是图示根据本发明的第六实施例的反射液晶空间光学调制器的结构示例的图案横截面图；
图7A和7B是图示根据本发明的实施例的平坦部分处的透镜元件的操作示意图；
图8是图示用于执行光线跟踪计算(ray tracing calculation)来得到对比度的液晶投影仪的光学系统的结构示例的模型图；
图9是表示面积比和对比度之间的关系的曲线图；
图10是图示用于执行对应于评估反射液晶空间光学调制器的像素投射到屏幕上的图像的光线跟踪计算的光学系统的结构示例的模型图；
图11是图示对应一个像素被投射的情况下在屏幕上的图像(投影图像)示例的图；
图12是示出绘制的(plotting)沿着一个轴的方向投影像素轮廓的一侧结果的曲线图；
图13是示出当存在对角方向上的相邻像素时投影像素边缘部的重叠的评估结果的说明示图；
图14A和14B为图示设定用于本发明的第七实施例中的透镜元件的多个F值的结构的图案示图。图14A为垂直于光轴方向上的横截面图。图14B示出从光轴看的屏蔽部分；
图15是图示使用在本发明的实施例中的透镜元件的结构上的光学利用的效率和参数之间的关系的图案横截面图；
图16是图示使用在本发明的实施例中的透镜元件的曲率半径和对比度之间的关系的曲线图；
图17是示出当r在2d被预定为14μm下变化时的s的改变的表；以及
图18是示出通过在六条光线上的进行光线跟踪的评估参数结果的表。
具体实施方式
下面，本发明的实施例将参考附图被描述。
【第一实施例】
参考图1，给出本发明的第一实施例的描述。
图1是图示根据本发明的第一实施例的为微光学设备的微透镜阵列1的结构示例的图案横截面图。
根据本发明的微透镜阵列1构成为与半透明阵列基板2一致，例如玻璃、透明树脂等，包括以固定间隔设置的多个微透镜3。微透镜3根据其凸起弯曲形状为具有对应于入射光的聚光功能的微小光学元件。本发明的微透镜阵列1的特征在于微透镜阵列1的每一个微透镜3在包含弯曲形的顶部部分中具有基本平坦部分3a，从而每一个微透镜3被构成为在它的中心处包括平坦部分3a以及围绕平坦部分3a的弯曲部分3b。也就是说，平坦部分3a形成对着入射光的平面。
一般地，主轴除在垂直入射的情况外都被旋转，并且旋转的程度取决于入射角。当光被投射到球面透镜(spherical lens)上时，由于光从透镜的顶部到围绕部分，入射角变得更大。然而，在平面的情况下，入射角不改变，因此，主轴的旋转可被保持很小。
因此，每一个微透镜3包括基本形成平面来反射入射光的平坦部分3a，其有助于减小偏振状态的改变。应该注意的是在整个微透镜3包括完整的平坦部分的平面的结构的情况下，偏振状态的改变被保持很小。但是，不能期望微透镜3固有的聚光的效果。因此，不能希望具有例如光学利用率、数字光圈、图像质量的改善以及下面描述的像素尺寸的减小的效果。
对于这一点，微透镜3的聚光功能被设置在围绕平坦部分3a的弯曲部分3b保持。
也就是说，在该实施例中，球面被平坦化为平坦部分3a，并且固有的聚光功能被部分地损害。然而，微透镜3的聚光功能在容限(tolerance)的范围内被满足，从而将偏振状态的改变可能地减小并且改善对比度。
因此，可容易地生产包括平坦部分3a的微透镜阵列1。
当微透镜阵列1的材料为玻璃时，微透镜阵列1根据例如主要由日本特开平专利申请未审公开第6-194502号和日本特开平专利申请未审公开第6-250002号中揭示的光刻技术和干蚀刻技术的方法生产。
当由球形微透镜生产包括平坦部分3a的微透镜3时，有可能用抛光平坦化所述微透镜的顶部。
当CMP用作抛光技术时，能够对应于大规模生产。这样，也降低了生产成本。此外，表面的粗糙程度可被保持更小，从而形成没有光学问题的微透镜。
给出形成微透镜的平坦部分而不进行抛光的方法的描述。首先，生产包括所需平坦部分的光掩模。然后，通过旋转涂覆机(spin coater)，抗蚀剂被涂覆在其上设置有微透镜的基板2上。当根据光刻技术对抗蚀剂(resist)构图时，生产包括平坦部分3a的微透镜。在这种情况下，能够不仅在透镜的顶部而且在透镜的周围形成平坦部分。此外，能够在透镜的顶部和周围均设置平坦部分。因此，能够在设计上具有极高的灵活性。
【第二实施例】
参考图2，给出本发明的第二实施例的描述。
图2是图示根据本发明的第二实施例的为微光学设备的微反射镜阵列(微小凸反射镜阵列)11的结构示例的图案横截面图。
根据本发明的微反射镜阵列11例如被构成为反射镜，其中多个微反射镜13以固定间隔被设置在例如SiO2的绝缘基板12上，并且例如Al的金属箔层被蒸镀在微反射镜13的表面。根据它的凹陷弯曲表面，微反射镜13为相对于入射光具有聚光功能的微光学设备。
如图2中的虚线所示，与传统的球形相比，根据本发明的微反射镜阵列11的特征在于包括每一个微反射镜13被构成为包括在包括弯曲的边缘部的部分处的平坦部分13a和围绕平坦部分13a的弯曲部分13b。也就是说平坦部分13a构成为相对入射光是平的。
一般地，主轴的旋转由线性偏振光形成角度地投射到表面上而引起。
因此，即使入射角被固定，当光投射的表面是弯曲的时，主轴的旋转变得更大。相反地，如果表面为平的，主轴的旋转变得更小。
因此，由于每一个微反射镜13具有的平坦部分13a构成为相对入射光是平的，这就有助于偏振状态的改变减小。应该注意的是，在整个微反射镜13包括完整的平坦部分这样的平面构造的情况下，偏振状态的改变被保持很小。然而，不能期望微反射镜13的固有的聚光效果。从而，不能期望例如光学利用率、数字光圈、图像质量的改善、以及下述的像素尺寸的减小这样的效果。
关于这一点，微反射镜13的聚光功能由设置在平坦部分13a周围的弯曲部分13b保持。
在本实施例中，由于球面的一部分被平坦化为平坦部分13a，固有的聚光功能被部分地损害。然而，微反射镜13的聚光功能在公差范围内被满足，从而偏振状态的改变尽可能减小并且改善对比度。
【第三实施例】
参考图3，给出本发明的第三实施例的描述。
图3是图示根据本发明的第三实施例的微光学设备的微透镜阵列21的结构示例的图案横截面图。根据本实施例的微透镜阵列21基于根据本发明的第一实施例的微透镜阵列1的结构。在微透镜阵列21上，平坦层23通过包括与微透镜3不同的材料的粘接层21被安装。从而，微透镜阵列21构成为两侧都平坦。至于平坦层23，例如玻璃的半透明构件被用作玻璃盖板。
例如更具体地，包括微透镜3的基板2由具有折射率为1.54的玻璃制成。对于粘接层22，使用折射率为1.42的粘合剂。对于平坦层23，使用折射率为1.52的玻璃盖板。包括微透镜3的基板的折射率与粘接层22的折射率的差别很小。因此，与玻璃(折射率为1.54)和空气(折射率为1.0)的交界面相比较，根据所述两个折射率的交界面有可能减少光学损失。聚光功能的确被满足，但球面色差(spherical aberration)也可减少。因此，可以改善光学利用的效率。对于粘接层22的粘合剂，例如可以使用紫外线固化树脂。此外，例如，如果元件被构成为包括玻璃盖板的平坦层23，能够容易地定位反射液晶空间光学调制器的像素阵列。
【第四实施例】
参考图4，给出本发明的第四实施例的描述。图4是图示根据本发明的第四实施例的微光学设备的微反射镜阵列31的结构示例的图案横截面图。根据本发明的微反射镜阵列31基于根据本发明第二实施例的微反射镜阵列11的结构。在设置有凹陷弯曲形状(微反射镜13)的一侧，涂覆半透明构件，并且它的表面被平坦化从而形成平坦层32。利用例如溅射的获得膜的方法，完成平坦层32的填充。此外，对于用于平坦层32的材料，可使用可被蒸镀(evaporated)的材料，例如具有低折射率的材料如SiO2、MgO等等，或者具有高折射率的材料如ZrO2、ZnO等。此时，凹陷弯曲形状被复制，从而即使在涂覆半透明构件之后产生中空。这可通过化学机械抛光(CMP)被平坦化。
根据本发明的微反射镜阵列31的结构，根据斯涅尔定律(Snell’s Law)，除了垂直方向外的入射到微透镜阵列31的光(所述光具有一个照明角度)可被反射到其中的角度变得更小的方向。由于光可由微反射镜13在更小的照明角度(lighting angel)反射，可改善微反射镜13的聚光特性。因此，可提高光学利用的效率。
【第五实施例】
参考图5，给出本发明的第五实施例的描述。图5是图示根据本发明的第五实施例的用于显示图像的空间光学调制器的反射液晶空间光学调制器41的结构示例的图案横截面图。
如第三实施例中所述的反射液晶光学调制器41，特征在于使用包括平坦层23的微透镜阵列21。微透镜阵列21被安装在包括形成在Si基板42上的像素电极43的液晶层44上。
在微透镜阵列21中，每一个微透镜3被设置在响应像素电极43的对应的一个的位置。像素电极43和微透镜3确切地符合例如XGA标准，从而被安装成1,024×768点的二维阵列。
根据本发明的反射液晶空间光学调制器41，由于微透镜阵列21被用于减小偏振的改变并且改善光学利用的效率，有可能提供一种反射液晶空间光学调制器来实现高对比度和高的光学利用的效率。
【第六实施例】
参考图6，给出本发明的第六实施例的描述。图6是图示根据本发明的第六实施例的用于显示图像的空间光学调制器的反射液晶空间光学调制器51的结构示例的图案横截面图。
反射液晶空间光学调制器51的特征在于使用包括例如在第四实施例中描述的平坦层32的微反射镜阵列31。所述微反射镜阵列31被安装在结合有电路部分52如用于驱动液晶的晶体管的Si基板53上。在平坦层32上，在一对透明电极54a和54b之间设置液晶层55，玻璃盖板56作为表面层被形成。电路部分52包括其中包含源极、漏极、栅极和它的布线的MOS(金属氧化物)晶体管500a，以及保持容积(retention volume)500b。
此外，设置例如金属的导电屏蔽层501用于阻止从微反射镜阵列31之间的间隙504进入的光到达电路部分52。还有，绝缘层503被设置在电路部分52和屏蔽层501之间。电路部分52和透明电极54a通过导电屏蔽层501经过通孔502电连接。
在根据第五实施例的微透镜阵列21的情况中，有必要将微透镜定位在对应像素电极43的阵列的位置。另一方面，在根据本实施例的微反射镜阵列31的情况中，对于液晶空间光学调制器51的像素，微反射镜阵列31的每一个微反射镜13可被形成为它的像素。也就是说，在微反射镜阵列31的微反射镜13被用作液晶空间光学调制器51的像素排列的情况下，就生产而言，在液晶空间光学调制器51被生产的过程中生产包括平坦部分13a的微反射镜13。
根据本实施例，微反射镜阵列31的微反射镜13被用作像素，使得偏振的改变减少并且光学利用的效率得到改善，从而能够提供一种实现高对比度和高的光学利用的效率的反射液晶空间光学调制器51。
因此，在上述实施例的微光学设备中，被描述为结构的一个特征的大致平坦部分包括微小光学元件的一部分是完全平坦的情况和微小光学部分的一部分可被认为是平坦的情况，即使它不是完全平坦的。换句话说，也就是在微透镜中曲率半径很大的情况。
图7A是微透镜的横截面图。这里弧线垂度(sag)s通过曲率半径r和微透镜的有效宽度2d中计算。
图17是示出当2d被预定为等于14μm下r变化时s的改变的表。
在图17中，随着曲率半径变得更大，弧线垂度被降低。因此，微透镜的表面变得平坦。当r等于25μm时，弧线垂度等于1μm。定义当弧线垂度等于1μm或更小时，微透镜是基本平坦的。
在图7A中，r和微透镜的整个长度被示出得彼此一致，但是r和微透镜的长度不限于这种情况。
可以用相同的方法描述微反射镜。微透镜的凸形可由微反射镜的凹形代替(图7B)。
【实施例】
下面，给出一个实施例的描述。在部分包括如上所述的平坦部分3a的微透镜阵列21中，减少偏振状态改变、提高对比度、以及保持聚光功能的效果由光线追踪计算定量地得到并被检测到。
在本实施例中，首先，得到一个微透镜3得尺寸(面积)和平坦部分3a得尺寸(面积)之间的比率。然后，得到所述面积比和对比度之间的关系。在垂直于微透镜3的光轴的表面中的形状为正方形。正方形的尺寸为13.2μm×13.2μm。此外，由于微透镜具有球形，垂直于光轴得微透镜的横截面形状是圆形的。从而，平坦部分3a的形状也是圆形的。然而，当平坦部分3a的圆周的直径变得比等于13.2μm的正方形的一个边还大时，平坦部分3a变成从圆上切掉的正方形的形状。微透镜3的曲率半径等于10μm。玻璃构件的折射率等于1.54。此外，树脂层(粘接层)22的折射率等于1.42。玻璃盖板(平坦层)23的折射率等于1.52。
【对比度】
在用于得到对比度的光线跟踪计算中，使用如图8中所示的液晶投影仪的光学系统模型。
在图8中，附图标记被指定为光源61，线性偏振器62，偏振光束分光器63，挡帘板(retarder plate)64，反射表面(像素电极)65，分析器66，屏幕(光电检测器)67和光圈68。其上通过粘接层22安装有玻璃盖板23的微透镜阵列21被定位在所述挡帘板64和反射表面(像素电极)65之间。微透镜3被定位，从而与反射表面(像素电极)65的像素电极中对应的一个像素电极相对(从而形成反射液晶空间光学调制器41)。
从而，来自光源61被光圈68衰减的光被线性偏振器62分成线性偏振成分，并依照偏振方向被偏振光束分光器63反射而引导到设置有微透镜阵列21和反射表面(像素电极)65的一侧。被反射的光被给出响应于可根据图像数据进行控制的反射表面(像素电极)65的状态的照度。然后，光又被投射到设置有偏振光束分光器的一侧，通过该处的偏振裂缝(split)被透射，并且通过分析器66被投射到屏幕(光电检测器)67上。挡帘板64被旋转从而模拟光在明亮状态和光在暗的状态。模拟光在明亮的状态和光在暗的状态的比率适合于作为对比度。所述光源61具有定向的分布(orientationdistribution)。
图9是图示面积比和对比度之间的关系的曲线图。
横轴为面积比，纵轴为对比度。如曲线图中所示，很明显对比度随着平坦部分3a的面积的增加而增加。
在大致小于或等于0.8的面积比的情况下，对比度的增加绘出一条平缓曲线；但当所述面积比变成比0.8大时，对比度快速增加。
这可能是由于绕着微透镜3的主轴的旋转很大。
【像素收缩轮廓(profile)】
接下来，参考投射到屏幕67上的反射液晶空间光学调制器41的像素的图像的值来进行光线跟踪计算。
投影透镜71和屏幕(光电检测器)67与微透镜阵列21相对设置，在所述微透镜阵列21上以上述的微透镜阵列21的相同的方法通过粘接层22在其上安装有玻璃盖板23。
投影透镜71的MTF(调制传递函数)等于50％。在该模型中，假定光源被设置在微透镜阵列21内。
图11是对应像素被投影的情况的屏幕上的图像(投影图像)。
水平轴(x，y)被定义为空间扩展(spatial spreading)(任意的)，同时垂直轴被定义为照度(或强度，任意的)，图11示出当所述面积比等于0.17时的结果。
此后，投影像素的照度轮廓被作为“投影像素轮廓”。投影像素轮廓被在一个轴的方向上提出(quoted)，而它的一侧被绘出。该结果在图12中的曲线图中示出。
在图12中，示出在五个面积比(0.0，0.17，0.34，0.64和0.9)下获得的投影像素轮廓。
当所述面积比小于0.34时，投影像素轮廓几乎不变化。这是因为围绕微透镜3的中心的区域不会对聚光效果起很大影响。然而，随着面积比等于0.64和0.92，投影像素轮廓的宽度变得更宽。这是因为透镜的聚光效果随着平坦部分3a的面积的增加而降低。
结果，对比度被增大约1.23倍，即在从358到440(面积比在0.0和0.34之间的范围内)的范围内投影像素轮廓不变化。还有，如果允许投影像素轮廓稍微扩展一些，对比度被增大约1.8倍，即从358到643。从而，通过提供平坦部分3a来增加对比度的效果可被实现。另外，也可实现投影图像的质量不被降低很大。
关于上述的投影像素轮廓的扩展，下面将本实施例的结果与传统技术进行比较。
类似于本实施例的结果在文件(2003年由Nihon Kogakkai的OuyouButusri Gakkai Bunkakai出版的Takao Endo和其他人的《第28届光学座谈会演讲会议(光学技术和科学的演讲会议)草案选集》第21至22页)中公开。该结果是关于投影仪的像素的投影图像的测定。
在该文件中，给出的主要描述是关于由一个像素的投影图像的试验得到的结果。根据该结果的描述，使用一个像素的原因是在具有相邻像素(在对角方向)的图像的情况下，在所述照度上、图像轮廓上、特别是在像素的边缘部被重叠，从而，一个像素的测定不能被准确地执行。在这种情况下，当最大照度被标准化为100％时，重叠的图像轮廓的边缘部等于25％。电灯泡(空间光学调制器)的像素为正方形，它的一边等于13.7μm。此外，由投影仪的光学系统产生的边缘部的扩展表示图像质量的降低。随着降低的值变得更大，相邻像素之间的差异变得不明显。从而，图像的CTF(对比度变换函数)变得更小。
在本比较中，投影像素的重叠的边缘部被以与上述的当在对角方向有相邻像素图像时相同的方法进行测定。图13中示出了结果(图12)。
图13是当所述面积比等于0.64时的轮廓图(contour drawing)。重叠的边缘部(被图13中的附图标记81表示)的比率等于15％。还有，当所述面积比等于0.0、0.17、0.34、和0.92时，重叠边缘部的比率分别为15％、19％、17％、和39％。除了从面积比等于0.92得到的结果，重叠边缘部的比率小于上述示例的25％。从而，相邻像素之间的差异比上述示例中的差异更明显。因此，图像质量更好。
如图13所示，可在两个投影像素轮廓之间发现一个间隙(照度弱的区域)。其原因如下所述。首先，入射光由微透镜3会聚，从而比像素尺寸小。如果会聚的光被投射到屏幕67(图8)上，其(其位置)被确定为投影透镜61的物平面(object plane)，在投影透镜61的物面被确定为像素平面的情况下，能够投射会聚的光成为比被投影的图像小的图像。这样，图像被投射得比空间光学调制器的像素尺寸小。从而，有可能实现图像的高清晰度。因此，不用生产小尺寸的像素，可以达到与生产小尺寸像素的情况类似的效果。此后，这样的小尺寸像素被称为“缩小的像素(reduced pixel)”。
对于缩小的像素的投影图像，例如在空间光学调制器中，甚至所有像素都为明亮状态的完全白的图像被观众识别为一个(有规律地)包括间隙的图像。
然而，如果利用像素移动设备(pixel shifting device)有规律地将光流通(light flux)的光路(light path)在投影仪中移动，甚至包括上述间隙的投影图像可以作为无间隙的图像(gapless image)被投射(附图被省略。见日本特开平专利申请公开第2002-174852号)。
【第七实施例】
参考图14A和14B，给出本发明的第七实施例的描述。
在该描述中，两个F值的示例被给出，但是F值的数量可以为三个或更多。
图14A为示出从垂直于光轴(optical axis)的方向上看的屏蔽部分的视图。图14B是示出从光轴看的屏蔽部分的视图。
微透镜的折射率等于n1。在入射光侧上的相邻构件的折射率等于n0。该构件可以被空气取代。
微透镜的尺寸等于D。如果微透镜是单独的，D等于微透镜的尺寸。另一方面，在微透镜阵列的情况下，D表示节距(pitch)。微透镜沿着光轴的长度等于L。
此外，微透镜包括两个不同的曲率半径r1和r2。第一曲率半径r1在d的范围内有效，而不到节距的一半，即D/2。第二曲率半径r2在D/2-d的范围内有效。
此外，微透镜包括屏蔽部分。屏蔽部分为黑模板。
在屏蔽部分的一侧，设置空间光学调制元件的液晶层(附图被省略)。和微透镜的D的节距相比，屏蔽部分的光圈尺寸等于A。数字光圈被定义为A2/D2。在微透镜的d部分中焦距f1可以通过使用r1、n0和n1的公式得到：
f1＝(n0/(n1-n0))×r1
在微透镜的D/2-d部分中焦距f2可以通过使用r2、n0和n1的公式得到：
f2＝(n0/(n1-n0))×r2
数字F被定义为如下，在根据本实施例的包括多个焦距的透镜的每一个范围内。也就是说，在半径d的范围内，数字F被定义为F1＝f1/D。在d和D/2之间的范围内，数字F被定义为F2＝f2/D。
另外，位置P1在具有半径r1的透镜的边缘部分。另一方面，位置P2在具有半径r2的边缘部分。
半径r1被增加，从而透镜变得几乎平坦，同时r2被保持很小从而透镜保持球形。如上所述，在大致平坦的部分，偏振状态被保持为最佳从而对比度被提高并且围绕球面的聚光功能被保持。
入射光具有定义为θ的照明角度(lighting angle)。围绕所述中心的光平行于光轴。位置P1由d变化，同时固定到微透镜边缘的位置P2不改变。
当具有照明角度θ的光被入射到位置P1和P2时，根据每一个构件的曲率半径和折射率，光被反射一个角度。
如图15所示，如果参数被适当地确定，反射光被从微透镜投射并入射到液晶层而不被屏蔽部分屏蔽。
然而，由屏蔽部分根据参数屏蔽所述光，从而光学利用的效率被降低。
现在，确定：
n0＝1(空气)
n1＝1.517
D＝14μm
L＝30μm
A＝13μm
(这些是固定的)
r1＝30到100μm
r2＝10到30μm
d＝1到6μm
(这些是可变的)
θ＝7°
(θ是固定的)
然后，执行光线追踪计算。
最后，得到光达到微透镜的端部的坐标(x，y)。
当光轴和坐标(x，y)之间的长度小于光圈尺寸时，光不被屏蔽，从而被投射过所述微透镜。此外，当光投射过所述微透镜时，照明角度θ’也被得到。
对于不被屏蔽从而投射过所述微透镜的光，它的光路有时被下列的光学系统屏蔽。
在投影透镜被设置在微透镜的光投射侧的情况下(附图被省略)，如果与投影透镜的F值比θ’更小，光达到随后的屏幕。然而，在相反的情况下，光被投影透镜屏蔽。
如图15所示，光线追踪被执行在六条光线上。然后，参数(最终的F值)由有多少光射线(light rays)通过来确定。应该注意的是光射线在从微透镜的光轴看的对角方向上被投射。这是因为在对角方向的光路是最长的。数字光圈等于86％。投影透镜的F值等于2。结果在图18中示出。
在图18中，在多于四条光射线通过的情况下，F1等于或大于3.4以及F2等于或大于2.3且等于或小于4.8。
对于F1的上限，由于它可以为完全平坦的表面，F1的上限没有规定(laiddown)。
通过的光射线的数量对应光学利用的效率，即等于或大于67％。聚光功能被考虑。
从关于上述对比度的研究(examination)，发现微透镜的曲率半径与图16所示的对比度有联系。
也就是说，曲率半径越大，对比度提高越多。这可接近自然对数ln。
(对比度)＝a×ln(r)+b
在公式中，a和b为依赖光学系统的系数。在图16的示例中，a＝830并且b＝1,040。这里，r可被F值取代。
例如，任意r或F值的对比度从曲线图中得到。在根据本发明的包括两个不同F值的微透镜中，对比度处于当微透镜为整个F1时得到的对比度和当微透镜为整个F2时得到的对比度之间的范围内。
在所述范围中，对比度取决于F1有效的区域和F2有效的区域之间的面积比。也就是说，对比度取决于F1有效的面积S1∶S1＝d2∏(∏是圆环的周长与它的直径的比)和F2有效的面积S2∶S2＝D2-S1之间的面积比。此外，当这些由微透镜的整个面积比来表示时：S’1＝S1/D2，以及S’2＝S2/D2。因此，包括两个不同F值的微透镜的对比度CR为：CR(F1)×S’1+CR(F2)×S’2。
图18中所示的对比度(r1和r2)在a＝1且b＝0处得到。
因此，不用依赖光学系统的值，可完成一个比较操作。此外，对比度(r1)和对比度(r2)也被示出。
可以发现对比度(r1和r2)在对比度(r1)和对比度(r2)之间的范围内。
在通过的光射线的数量不少的F值的情况下，对比度也不小(等于将近3或者大于3)。
光学利用的效率、聚光功能和对比度的任何一种都是良好的。
如上所述的这样的微透镜可以与生产平坦部分而不需要抛光的方法一样的方法生产，即所述方法包括生产具有希望的平坦部分的光掩模、通过旋转涂覆机在设置有微透镜的基板上涂覆抗蚀剂、以及通过平版印刷术对抗蚀剂进行构图的步骤。
根据本发明的至少一个实施例，微透镜阵列包括微小光学元件。每一个微小光学元件是具有包括大致平坦部分的曲面的透镜元件。所述曲面是凸起的。因此，由所述平坦部分可降低偏振状态的改变。所述曲面保持聚光功能。
根据本发明的至少一个实施例，微反射镜阵列包括微小光学元件。每一个微小光学元件是具有包括大致平坦部分的曲面的反射镜元件。所述曲面是凹陷的。因此，由所述平坦部分可降低偏振状态的改变。所述曲面保持聚光功能。
根据本发明的至少一个实施例，偏振状态的改变在透射微透镜阵列中被减小。此外，由于保持反射率的差异小，能够提高光学利用的效率，从而可降低由于在界面上的反射而造成的光学损失。还有，通过平坦层，空间光学调制器的安装变得容易。
根据本发明的至少一个实施例，在反射微透镜阵列中可降低偏振状态的改变。此外，聚光特征得到改善从而提高光学利用的效率。此外，通过平坦层，空间光学调制器的安装变得容易。
根据本发明的至少一个实施例，最佳F值被预先设定从而进一步提高对比度和光学利用的效率，并且保持聚光功能。
根据本发明的至少一个实施例，投影仪包括用于实现高对比度、高光学利用效率和图像的高清晰度的像素移动设备。
此外，本发明不限于这些实施例，在不脱离本发明的范围内可作任何变化和更动。
本发明是基于2005年6月10日提交到日本专利局的日本优先权申请第2005-171151号，它的整个内容因此被合并作为参考。

Claims (11)

1、一种微光学设备，包括多个微小光学元件，每一个微小光学元件具有可操作来会聚入射光的曲面，所述微小光学元件以固定的间隔进行设置，其中所述曲面由两个或更多的F值进行表示。
2、如权利要求1所述的微光学设备，其中所述曲面基本上包括一平坦部分。
3、如权利要求1和2中的任一所述的微光学设备，其中每一个微小光学元件为具有基本上包含平坦部分的曲面的透镜元件，其中所述曲面为凸起的。
4、如权利要求1和2中的任一所述的微光学设备，其中每一个微小光学元件为具有包含基本平坦的部分的曲面的反射镜元件，其中所述曲面为凹陷的。
5、如权利要求3所述的微光学设备，还包括在具有基本平坦部分的凸起曲面上的半透明平坦层，其中由与微小光学元件的材料不同的材料制成的构件被设置在半透明平坦层和微小光学元件之间。
6、如权利要求1、2和4中的任一所述的微光学设备，还包括半透明平坦层，其通过将半透明构件层压在凹陷曲面上，并对半透明构件的表面进行平坦化而得到。
7、如权利要求3所述的微光学设备，其中透镜元件包括两个F值，其中第一F值F1等于或大于3.4，其中第二F值F2等于或大于2.3并且等于或小于4.8，并且其中F1大于F2。
8、一种空间光学调制器，用于通过利用如权利要求5和7中的一个所述的微光学设备执行响应图像信息的一个像素单元的光的空间光学调制，并且用于投射所述光作为图像光，其中每一个微小光学元件被调节到像素位置。
9、一种空间光学调制器，用于通过利用如权利要求4和6中的一个所述的微光学设备执行响应图像信息的一个像素单元的光的空间光学调制，并且投射所述光作为图像光，其中每一个微小光学元件被调节到像素位置。
10、一种利用如权利要求8和9中的一个所述的空间光学调制器的投影仪，包括被构成为将图像光投射到屏幕上的投影设备，所述图像光由空间光学调制器投射。
11、如权利要求10所述的投影仪，还包括被构成为移动从空间光学调制器投射的光流通的光路的像素移动设备。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101710190B (zh) * 2009-11-03 2010-12-01 上海聚恒太阳能有限公司 一种削顶曲面聚光透镜及其制作方法
WO2020125570A1 (zh) * 2018-12-17 2020-06-25 上海普利生机电科技有限公司 光固化型3d打印设备及其图像曝光系统

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7205526B2 (en) * 2003-12-22 2007-04-17 Micron Technology, Inc. Methods of fabricating layered lens structures
US20080079928A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-03 Nikon Corporation System and method for designing an optical element
US7920328B2 (en) * 2008-02-28 2011-04-05 Visera Technologies Company Limited Lens module and a method for fabricating the same
JP2009260269A (ja) * 2008-03-18 2009-11-05 Panasonic Corp 光学デバイス及びその製造方法
JP2010026204A (ja) * 2008-07-18 2010-02-04 Tomoegawa Paper Co Ltd 異方性光拡散素子および表示装置
US7974023B1 (en) * 2010-03-11 2011-07-05 Himax Semiconductor, Inc. Wafer level optical lens substrate, wafer level optical lens module and fabrication method thereof
US10787701B2 (en) 2010-04-05 2020-09-29 Prognosys Biosciences, Inc. Spatially encoded biological assays
JP5138734B2 (ja) * 2010-06-15 2013-02-06 シャープ株式会社 撮像レンズ、および撮像モジュール
GB201106254D0 (en) 2011-04-13 2011-05-25 Frisen Jonas Method and product
JP2012242588A (ja) * 2011-05-19 2012-12-10 Sumitomo Electric Ind Ltd レンズ部品および画像表示装置
US8901472B2 (en) 2011-08-16 2014-12-02 Ricoh Company, Ltd. Image displaying apparatus including a projection optical system and a reflective image display element with plural micro-mirrors
JP5310810B2 (ja) * 2011-08-27 2013-10-09 株式会社デンソー ヘッドアップディスプレイ装置
JP5910850B2 (ja) * 2011-09-07 2016-04-27 カシオ計算機株式会社 光源装置、プロジェクタ、及び、光源装置の製造方法
JP5935131B2 (ja) 2011-10-31 2016-06-15 株式会社リコー 画像表示装置
JP5696644B2 (ja) 2011-11-04 2015-04-08 株式会社リコー 画像表示装置
EP3901280A1 (en) 2012-10-17 2021-10-27 Spatial Transcriptomics AB Methods and product for optimising localised or spatial detection of gene expression in a tissue sample
US9158119B2 (en) 2012-10-31 2015-10-13 Ricoh Company, Ltd. Enlargement optical system
US8922883B2 (en) 2012-11-05 2014-12-30 Ricoh Company, Ltd. Magnification optical system
JP2014194472A (ja) * 2013-03-28 2014-10-09 Seiko Epson Corp マイクロレンズアレイ、光変調装置、及びプロジェクター
EP4234716A3 (en) 2013-06-25 2023-12-06 Prognosys Biosciences, Inc. Methods for determining spatial patterns of biological targets in a sample
JP6237070B2 (ja) * 2013-10-01 2017-11-29 セイコーエプソン株式会社 マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器
JP2015138165A (ja) * 2014-01-23 2015-07-30 セイコーエプソン株式会社 マイクロレンズアレイ、マイクロレンズアレイの製造方法、電気光学装置、及び電子機器
JP2016062014A (ja) * 2014-09-19 2016-04-25 日本碍子株式会社 光学部品
GB201608900D0 (en) * 2016-05-20 2016-07-06 Barco Nv Selective projection display screen
USD857254S1 (en) * 2018-06-16 2019-08-20 Anthony Italo Provitola Light bar accessory for graphic, video, and projection displays
US11114483B2 (en) * 2018-08-10 2021-09-07 Omnivision Technologies, Inc. Cavityless chip-scale image-sensor package
JP6743864B2 (ja) * 2018-10-26 2020-08-19 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、及び電子機器
EP4414459A3 (en) 2020-05-22 2024-09-18 10X Genomics, Inc. Simultaneous spatio-temporal measurement of gene expression and cellular activity
US12031177B1 (en) 2020-06-04 2024-07-09 10X Genomics, Inc. Methods of enhancing spatial resolution of transcripts
WO2022147296A1 (en) 2020-12-30 2022-07-07 10X Genomics, Inc. Cleavage of capture probes for spatial analysis
EP4321908A1 (en) 2021-05-20 2024-02-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Method and device for controlling luminance

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2967230A (en) * 1955-09-28 1961-01-03 Westinghouse Electric Corp Luminaire
US3957031A (en) * 1975-05-29 1976-05-18 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Light collectors in cylindrical geometry
US4767172A (en) * 1983-01-28 1988-08-30 Xerox Corporation Collector for an LED array
US4875064A (en) * 1986-08-06 1989-10-17 Casio Computer Co., Ltd. Projector apparatus with mirror means
US5068768A (en) * 1990-03-28 1991-11-26 Koito Manufacturing Co., Ltd. Variable light distribution type automobile lamp
US5173810A (en) * 1991-08-21 1992-12-22 Aisens Co., Ltd. Light transmitting lens for use with a photoelectric sensor
JPH0943588A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 液晶表示装置
JPH1062606A (ja) * 1996-08-13 1998-03-06 Dainippon Printing Co Ltd マイクロレンズおよびその製造方法
JPH10282521A (ja) * 1997-04-04 1998-10-23 Sony Corp 反射型液晶表示装置
JP2000137246A (ja) 1997-11-28 2000-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射型表示素子及び反射型表示素子を用いた映像装置
JPH11258585A (ja) 1998-03-13 1999-09-24 Sharp Corp 反射型表示素子およびこれを用いた表示装置
JP2000122095A (ja) * 1998-10-20 2000-04-28 Sanyo Electric Co Ltd 反射型液晶表示装置
JP3277902B2 (ja) * 1998-11-30 2002-04-22 日本電気株式会社 マイクロレンズ内蔵基板及びその製造方法
JP2001066584A (ja) * 1999-08-25 2001-03-16 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
EP1266255B1 (en) * 2000-03-16 2008-11-12 Lee Products, Inc. Method of designing and manufacturing high efficiency non-imaging optics
US6369949B1 (en) * 2000-04-12 2002-04-09 Kenneth E. Conley Optically anisotropic micro lens window
JP4846940B2 (ja) * 2000-08-30 2011-12-28 株式会社リコー 画像表示装置
US6507441B1 (en) * 2000-10-16 2003-01-14 Optid, Optical Identification Technologies Ltd. Directed reflectors and systems utilizing same
JP2002131741A (ja) * 2000-10-26 2002-05-09 Fujikura Ltd 反射型液晶表示装置
KR100649555B1 (ko) * 2001-03-27 2006-11-24 삼성에스디아이 주식회사 프로젝션 스크린과 이 스크린을 사용한 프로젝션 시스템
EP2420872A3 (en) * 2001-12-14 2012-05-02 QUALCOMM MEMS Technologies, Inc. Uniform illumination system
JP4074104B2 (ja) 2002-02-25 2008-04-09 株式会社リコー 画像投射装置
JP3900975B2 (ja) * 2002-03-06 2007-04-04 オムロン株式会社 反射板、反射型表示装置および電子機器並びに光反射方法および画像表示方法
WO2004068182A2 (en) * 2003-01-24 2004-08-12 Digital Optics International Corporation High density illumination system
JP3970784B2 (ja) * 2003-02-10 2007-09-05 シャープ株式会社 マイクロレンズ基板、及びそれを備えた液晶表示素子、並びに投影型液晶表示装置
JP4272446B2 (ja) * 2003-02-17 2009-06-03 株式会社リコー 投射表示装置
JP4315728B2 (ja) * 2003-04-30 2009-08-19 株式会社リコー 反射型空間光変調装置及びプロジェクタ装置
JP3731592B2 (ja) * 2003-09-08 2006-01-05 セイコーエプソン株式会社 透過型スクリーン用部材、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
JP2007535149A (ja) * 2004-04-23 2007-11-29 ライト プレスクリプションズ イノベーターズ エルエルシー 発光ダイオード用光学マニホールド
US7324276B2 (en) * 2005-07-12 2008-01-29 Bright View Technologies, Inc. Front projection screens including reflecting and refractive layers of differing spatial frequencies
US7789538B2 (en) * 2006-11-15 2010-09-07 3M Innovative Properties Company Back-lit displays with high illumination uniformity
US7766528B2 (en) * 2006-11-15 2010-08-03 3M Innovative Properties Company Back-lit displays with high illumination uniformity

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101710190B (zh) * 2009-11-03 2010-12-01 上海聚恒太阳能有限公司 一种削顶曲面聚光透镜及其制作方法
WO2020125570A1 (zh) * 2018-12-17 2020-06-25 上海普利生机电科技有限公司 光固化型3d打印设备及其图像曝光系统

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