CN100565195C - 图形不匀缺陷检查方法和装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种通过使不匀缺陷清晰显现来高精度地检测不匀缺陷的图形不匀缺陷检查方法和装置。不匀缺陷检查装置(10)具有：照明装置(12)，朝在表面具有由单位图形规则排列而成的重复图形的芯片(55)的光掩模(50)照射光；以及受光器(13)，接受在上述光掩模的芯片中的重复图形的单位图形的边缘部发生的散射光并转换成受光数据；分析该受光数据，检测在重复图形发生的不匀缺陷；上述照明装置把从照明用光源发出的具有接近于平行光的方向性的光，例如平行度为2°以内的光，朝光掩模(50)的芯片(55)中的重复图形(51)照射。

Description

图形不匀缺陷检查方法和装置
技术领域
本发明涉及检测视频装置中的图形不匀缺陷、或者检测用于制造视频装置的图形的光掩模中的图形不匀缺陷的图形不匀缺陷检查方法和图形不匀缺陷检查装置。
背景技术
专利文献1：特开平10-300447号公报
以往，在摄像装置和显示装置等视频装置、或者用于制造这些视频装置的光掩模中，作为在表面所形成的图形的检查项目，有不匀缺陷检查。不匀缺陷是指在规则排列的图形中意外发生的具有不同规则性的误差，在制造工序等中由于某些原因而发生。
在摄像装置和显示装置中，如果存在不匀缺陷时，则发生灵敏度不匀和显示不匀，有可能导致装置性能降低。在制造摄像装置和显示装置时所使用的光掩模中，如果在光掩模的图形发生不匀缺陷时，则由于该不匀缺陷被转印到视频装置的图形上，因而有可能导致视频装置的性能降低。
以往，上述这种视频装置的图形和光掩模的图形中的不匀缺陷，通常由于是细微缺陷按规则排列，因而在各个图形的形状检查中大多不能被检出，然而作为区域整体查看时，却处于与其他部分不同的状态。因此，不匀缺陷检查主要通过目视的斜光检查等的外观检查来实施。
然而，由于该目视检查存在的问题是：检查结果根据作业者而发生偏差，因而例如提出有专利文献1那样的不匀缺陷检查装置。该专利文献1的不匀缺陷检查装置把光照射到在表面形成有图形的基板上，通过使用CCD行传感器感知来自图形的边缘部的散射光来检测不匀。
在专利文献1所述的以往的不匀缺陷检查装置中，作为设置在照明装置内的照明用光源，一般使用荧光灯和卤灯等。在不匀缺陷检查装置中，通过使从照明装置照射的光在重复图形中的单位图形的边缘部散射，突出重复图形的位置和大小等的不规则性，通过使不匀缺陷可视化来进行检测。
然而，在照明用光源如荧光灯和卤灯等那样照射没具有方向性的漫射光的情况下，该光不能使在单位图形的边缘部散射的散射光具有方向性，来自边缘部以外的其他部分的反射光等的影响增加，因而不匀缺陷难以显现。因此，在以往的不匀缺陷检查装置中，存在不能高精度地检测不匀缺陷的问题。
发明内容
本发明是考虑上述情况而提出的，本发明的目的是提供通过使不匀缺陷清晰显现来高精度地检测不匀缺陷的不匀缺陷检查方法和装置。
根据发明1所述的本发明的图形不匀缺陷检查方法，用于检测单位图形规则排列而成的重复图形所产生的、具有不同于上述规则排列的规则性而排列成的缺陷，其特征在于，向在表面具有上述重复图形的被检查体照射光，接受上述重复图形的边缘部中产生的衍射光并形成受光数据，分析该受光数据中的规则性的紊乱，检测在上述重复图形中发生的不匀缺陷，朝上述被检查体照射的光是从光源发出的平行度在1°以内的光。
发明2所述的本发明的图形不匀缺陷检查方法，其特征在于，在发明1所述的发明中，从朝上述被检查体照射的光或者由上述被检查体引导的光中选择抽出期望波长带的光，使用该选择抽出的波长带的光来检测不匀缺陷。
根据发明3所述的本发明的图形不匀缺陷检查装置，用于检测单位图形规则排列而成的重复图形所产生的、具有不同于上述规则排列的规则性而排列成的缺陷，其特征在于，具有：照明装置，朝在表面具有上述重复图形的被检查体照射光；受光器，接受上述重复图形的边缘部中产生的衍射光并形成受光数据；分析装置，分析该受光数据，检测在上述重复图形中发生的不匀缺陷，上述照明装置把从光源发出的平行度在1°以内的光朝上述被检查体照射。
发明4所述的本发明的图形不匀缺陷检查装置，其特征在于，在发明3所述的发明中，上述照明装置中的光源是超高压水银灯或者氙灯。
发明5所述的本发明的图形不匀缺陷检查装置，其特征在于，在发明3或4所述的发明中，具有：选择抽出单元，从朝上述被检查体照射的光或者由上述被检查体引导的光中选择抽出期望波长带的光；使用该选择抽出的波长带的光来检测不匀缺陷。
根据发明1、3或4所述的发明，由于照明装置把从光源发出的具有接近于平行光的方向性的光朝被检查体照射，因而可使在被该检查体中的图形边缘部反射而散射的散射光具有方向性，结果，由于在该散射光中来自边缘部以外的其他部分的反射光等的影响减少，该散射光的强弱变得明显，因而可使不匀缺陷清晰显现，可高精度地检测该不匀缺陷。
根据发明2或5所述的发明，由于从朝被检查体照射的光或者由上述被检查体引导的光中选择抽出期望波长带的光，使用该选择抽出的波长带的光来检测不匀缺陷，因而通过按照需要检查的不匀缺陷的种类来选择抽出光的波长带，可使成为对象的不匀缺陷的显现显著，可高精度地检测该不匀缺陷。
附图说明
图1是表示本发明的图形不匀缺陷检查装置的第1实施方式的概略构成的立体图。
图2是表示图1的照明装置的立体图。
图3(A)是表示在图1的光掩模中的芯片上发生的看起来象条纹图形的不匀缺陷的图，图3(B)和图3(C)是图3(A)的不匀缺陷的局部放大图和表示其分析结果的曲线图。
图4表示在图1的光掩模中的芯片上形成的重复图形发生的不匀缺陷，图4(A)和图4(B)是表示坐标变动系列的不匀缺陷的图，图4(C)和图4(D)是表示尺寸变动系列的不匀缺陷的图。
图5是表示本发明的图形不匀缺陷检查装置的第2实施方式的立体图。
[符号说明]
10：不匀缺陷检查装置(图形不匀缺陷检查装置)；12：照明装置；13：受光器；14：波长滤波器(选择抽出单元)；16：照明用光源；20：不匀缺陷检查装置(图形不匀缺陷检查装置)；50：光掩模(被检查体)；51：重复图形；53：单位图形；54：不匀缺陷区域；55：芯片；θ：平行度。
具体实施方式
以下，根据附图对本发明的最佳实施方式进行说明。
[A]第1实施方式(图1～图4)
图1是表示根据本发明的图形不匀缺陷检查装置的第1实施方式的概略构成的立体图。图2是表示图1的照明装置的立体图。
该图1所示的不匀缺陷检查装置10对形成于作为被检查体的光掩模50的表面上的重复图形51中发生的不匀缺陷进行检测，构成为具有：载物台11、照明装置12、受光器13、分析装置15以及作为选择抽出单元的波长滤波器14。上述光掩模50在本实施方式中，是用于制造视频装置之一、例如CCD的受光部的曝光掩模。
这里，作为上述视频装置，可以列举出摄像装置和显示装置。摄像装置以CCD、CMOS、VMIS等固态摄像装置为代表，显示装置以液晶显示装置、等离子显示装置、EL显示装置、LED显示装置、DMD显示装置等为代表。这些视频装置中的任何一种的制造都要用到光掩模50。
上述光掩模50是在玻璃基板等的透明基板52上设置铬膜等遮光膜、并将该遮光膜在所期望的重复图形51(图4)上部分去除后的光掩模。上述重复图形51由单位图形53规定排列而构成。图1中的符号55表示通过形成重复图形51而形成的芯片55，在光掩模50上设置有5×5个左右。
作为该光掩模50的制造方法，首先，在透明基板52上形成遮光膜，在该遮光膜上形成抗蚀膜。然后，把描绘机中的电子射线或者激光光束照射到该抗蚀膜上来进行描绘，曝光规定图形。然后，选择性地去除描绘部和非描绘部来形成抗蚀膜图形。之后，把抗蚀膜图形作为掩模蚀刻遮光膜，在该遮光膜上形成重复图形51，最后，去除残存抗蚀膜来制造光掩模50。
在上述制造工序中，当通过电子射线或者激光光束的扫描对抗蚀膜直接进行描绘时，根据光束径和扫描范围，在描绘中产生连接处，在该连接处，按描绘单位周期性地发生由描绘不良引起的误差，这成为前述不匀缺陷发生的一个原因。
图4表示该不匀缺陷的一例。在该图4中，不匀缺陷区域用符号54表示。图4(A)表示由于在光束描绘的连接处发生位置偏差而使重复图形51中的单位图形53的间隔部分不同所引起的不匀缺陷。图4(B)表示同样由于在光束描绘的连接处发生位置偏差而使重复图形51中的单位图形53的位置相对于其他单位图形偏离所引起的不匀缺陷。把该图4(A)和图4(B)所示的不匀缺陷称为坐标位置变动系列的不匀缺陷。并且，图4(C)和图4(D)是由于描绘机的光束强度发生偏差等而使重复图形51的单位图形53部分变细或者变粗的不匀缺陷，把该不匀缺陷称为尺寸变动系列的不匀缺陷。
另外，图1所示的不匀缺陷检查装置10中的前述载物台11是放置光掩模50的台。并且，照明装置12是配置在载物台11的一侧斜上方、从斜上方朝光掩模50的表面的各芯片55中的重复图形51(图4)照射光的照明装置。从该照明装置12朝光掩模50照射的光，如图2所示，是从设置在照明装置12内的照明用光源16发出的具有接近于平行光的方向性的光。具体地说，从该照明装置12照射的光是使用透镜或者狭缝等把从照明用光源16发出的光调整到平行度θ为2°以内、优选的是1°以内的光。这里，上述平行度是指相对直行光的光发散的角度。而且，关于从该照明装置12照射的光以及上述照明用光源16，将在后面详述。
如图1所示，前述受光器13配置在载物台11的另一侧斜上方，接受从光掩模50的芯片55中的重复图形51(图4)反射的反射光，特别是在重复图形51的单位图形53的边缘部散射的散射光，并转换成受光数据。例如，该受光器13使用CCD行传感器或者CCD区域传感器等摄像传感器。由受光器13转换后的受光器数据由前述分析装置15来分析。即，当在光掩模50的芯片55中的重复图形51中发生不匀缺陷时，由于受光数据的规则性发生紊乱，因而分析装置15通过分析该规则性的紊乱来检测不匀缺陷。
前述波长滤波器14从由照明装置12照射的光中抽出选择期望波长带的光，把该抽出选择的波长带的光引导到光掩模50的芯片55中的重复图形51。在光掩模50的芯片55中的重复图形51中发生的不匀缺陷，例如如图4所示存在多种，在不匀缺陷检查装置10中，对每个不匀缺陷的种类，都存在可进行高灵敏度地检测的波长带的光。因此，由波长滤波器14选择抽出的波长带的光是按照需要检查的不匀缺陷的种类来决定的、可高灵敏度地检测需要进行该检查的种类的不匀缺陷的波长带的光。
例如，在重复图形51存在图4(A)和图4(B)所示的坐标变动系列的不匀缺陷的情况下，由于使用蓝色光(440～500nm附近的光)时，可高灵敏度地检测该不匀缺陷，因而波长滤波器14从由照明装置12照射的光中选择抽出蓝色光，使用该蓝色光高精度地检测上述坐标变动系列的不匀缺陷。并且，在重复图形51存在图4(C)和图4(D)所示的尺寸变动系列的不匀缺陷的情况下，由于使用绿色光(500～570nm的光)时，可以高灵敏度地检测该不匀缺陷，因而波长滤波器14从由照明装置12照射的光中选择抽出绿色光，可使用该绿色光高精度地检测上述尺寸变动系列的不匀缺陷。并且，在不匀缺陷是使用红色光(620～700nm的光)可高灵敏度地检测的不匀缺陷的情况下，波长滤波器14从由照明装置12照射的光中选择抽出红色光。
而且，波长滤波器14也可以配置于接受被光掩模50的芯片55中的重复图形51反射而散射的散射光的受光器13的前面，从该散射光中抽出选择一束或多束期望波长带的光并引导到受光器13。并且，抽出选择单元不限于上述波长滤波器14，也可以是包含滤色器的带通波长滤波器。
另外，如前所述，发出由前述照明装置12调整为具有接近于平行光的方向性的光的照明用光源16是发出多色光的光源，发出激光那样的单波长的光的光源被排除在外。并且，作为光源，可列举出荧光灯、卤灯、超高压水银灯、氙灯等，然而荧光灯和卤灯等由于有多个发光点，因而难以产生平行光线，并且，超高压水银灯和氙灯由于是点光源(准确地说是2点光源)，因而容易产生平行光线。从容易产生该平行光线的角度考虑，本实施方式中的上述照明用光源16优选超高压水银灯或者氙灯。
并且，由于照明装置12把从照明用光源16发出的光调整为具有接近于平行光的方向性的光，即平行度θ为2°以内的光，并朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射，因而可使在该重复图形51中的各单位图形53(图4)的边缘部反射而散射的散射光具有方向性，由于在该散射光中从边缘部以外的其他部分反射的反射光等的影响减少，该散射光的强弱变得明显，因而可使重复图形51的不匀缺陷清晰显现和可视化。
例如，在重复图形51发生图4(C)或图4(D)所示的尺寸变动系列的不匀缺陷，光掩模50的芯片55呈现图3(A)所示的看起来象条纹图形的不匀缺陷的情况下，当照明装置12的照明用光源16是卤灯，照明装置12把被调整为平行度θ为10°以内的光朝重复图形51照射时，在该重复图形51的单位图形53的边缘部散射的散射光中，从边缘部以外的其他部分反射的反射光等的影响增大，该散射光的强弱变得不明显。因此，受光器13的受光数据β如图3(C)所示成为平的，不匀缺陷不显现。这是因为，由于从照明装置12照射的光在0～10°的宽范围内含有各种平行光，因而在边缘部散射的散射光和从其他部分反射的反射光具有多种角度，各个光混合在一起使识别变得困难。
与此相对，在光掩模50的芯片55同样呈现看起来象条纹图形的不匀缺陷的情况下，当照明装置12的照明用光源16是超高压水银灯，照明装置12把被调整为平行度θ为0.6°以内的光朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射时，在该重复图形51的单位图形53的边缘部散射的散射光中，从边缘部以外的其他部分反射的反射光等的影响变小，该散射光的强弱变得明显。因此，受光器13的受光数据α，如图3(B)所示，在发生不匀缺陷的位置急剧变化，可使不匀缺陷显现。因此，分析装置15通过对使不匀缺陷显现的上述受光数据α进行分析，可高精度地检测该不匀缺陷。
而且，图3(B)中的作为照明用光源16的超高压水银灯被供给与供给图3(C)中的作为照明用光源16的卤灯相同量的电能。并且，在图3(B)和图3(C)的图中，横轴表示光掩模50的芯片55中的距原点的距离，纵轴表示受光数据中的不匀检测浓度。
并且，照明装置12通过把接近于平行光的光朝光掩模50中的芯片55的重复图形51照射，可以不减少从照明装置12照射的光的照射能量，而把照射了光的部分的光量分布(以下简称为“光量分布”)抑制得较低。
即，使用荧光灯和卤灯等那样的光源照射漫射光，在该漫射光的情况下，为了把上述光量分布抑制得较低，有必要减少从照明装置照射的照射能量。然而，当减少照射能量时，受光器13接受在单位图形51的边缘部散射的散射光的灵敏度降低，不匀缺陷的检测精度降低。与此相对，如上所述，通过从照明装置12朝重复图形51照射近于平行光的光，能够在将从照明装置12照射的光的照射能量保持在较高状态的状态下，抑制上述光量分布，因而可在很好地维持受光器13的散射光的受光灵敏度的同时，可在该受光器13的受光数据中抑制强度偏差。
下面，对使用不匀缺陷检查装置10检测在光掩模50的芯片55中的重复图形51中发生的不匀缺陷的方法进行说明。
从照明装置12朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射光，受光器13接受从芯片55的重复图形51反射的光并形成受光数据，分析装置15分析该受光数据，检测在重复图形51中发生的不匀缺陷。此时，从照明装置12把由照明用光源16发出的具有接近于平行光的方向性的光，即平行度θ为2°以内的光朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射。而且，该照射光由波长滤波器14按照不匀缺陷的种类，选择抽出可高灵敏度地检测该不匀缺陷的光，朝芯片55的重复图形51照射。
由于如上构成，因而根据上述实施方式，取得以下效果(1)和(2)。
(1)由于照明装置12把从照明用光源16发出的具有接近于平行光的方向性的光朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射，因而可使被该重复图形51中的单位图形53的边缘部反射而散射的散射光具有方向性。结果，由于该散射光的噪声减少，该散射光的强弱变得明显，因而可使在重复图形51中发生的不匀缺陷清晰显现，不匀缺陷检查装置10可高精度地检测该不匀缺陷。
(2)由于波长滤波器14从由照明装置12朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射的光中选择抽出期望波长带的光，受光器13接受该选择抽出的波长带的光并转换成受光数据，分析装置15分析受光数据并检测不匀缺陷，因而通过使用波长滤波器14按照需要检查的不匀缺陷的种类来选择抽出波长带的光，可使成为对象的不匀缺陷的显现显著，可进一步高精度地检测该不匀缺陷。
[B]第2实施方式(图5)
图5是表示本发明的图形不匀缺陷检查装置的第2实施方式的立体图。在该第2实施方式中，对与前述第1实施方式相同的部分附上相同符号并省略说明。
该第2实施方式的不匀缺陷检查装置20把照明装置12配置在光掩模50的下方。因此，受光器13接受从照明装置12照射的透过光掩模50的芯片55中的重复图形51间的透过光、特别是该透过光中在单位图形55的边缘部衍射的衍射光，并转换成受光数据。
在该第2实施方式中，照明装置12把在照明用光源16发出的具有接近于平行光的方向性的光，例如平行度θ为2°以内，优选的是1°以内的光朝光掩模50的芯片55中的重复图形51照射。并且，在该不匀缺陷检查装置20中，波长滤波器14从由照明装置12照射朝向光掩模50的芯片55的光、或者透过了光掩模50的芯片55中的重复图形51间的光中，抽出选择期望波长带的光，即可高精度地检测在重复图形51中发生的不匀缺陷的波长带的光。因此，在该第2实施方式中，也取得与上述第1实施方式的效果(1)和(2)同样的效果。
以上，根据上述实施方式对本发明作了说明，然而本发明不限于此。
例如，在上述实施方式中描述的是，被检查体是光掩模50，不匀缺陷检查装置10、20对在用于制造视频装置的上述光掩模50的重复图形51中发生的不匀缺陷进行检测，然而该被检查体也可以是摄像装置和显示装置等视频装置。在此情况下，不匀缺陷检查装置10、20页可以对在形成摄像装置中的摄像面的像素图形上(具体地说，形成CCD和CMOS等的受光部的重复图形)中发生的不匀缺陷、以及在形成显示装置中的显示面的像素图形上(具体地说，液晶显示面板的薄膜晶体管和对置基板、滤色器等的重复图形)中发生的不匀缺陷分别进行检测。

Claims (5)

1.一种以视频装置或者用于制造该视频装置的光掩模为被检查体，用于检查视频装置的像素图形或该光掩模的图形的图形不匀缺陷检查方法，用于检测单位图形规则排列而成的重复图形所产生的、具有不同于上述规则排列的规则性而排列成的缺陷，其特征在于，
向在表面具有上述重复图形的被检查体照射光，接受上述重复图形的边缘部中产生的衍射光并形成受光数据，分析该受光数据中的规则性的紊乱，检测在上述重复图形中发生的不匀缺陷，
朝上述被检查体照射的光是从光源发出的平行度在1°以内的光。
2.根据权利要求1所述的图形不匀缺陷检查方法，其特征在于，从朝上述被检查体照射的光或者由上述被检查体引导的光中选择抽出期望波长带的光，使用该选择抽出的波长带的光来检测不匀缺陷。
3.一种以视频装置或者用于制造该视频装置的光掩模为被检查体的图形不匀缺陷检查装置，用于检测单位图形规则排列而成的重复图形所产生的、具有不同于上述规则排列的规则性而排列成的缺陷，其特征在于，
具有：照明装置，朝在表面具有上述重复图形的被检查体照射光；受光器，接受上述重复图形的边缘部中产生的衍射光并形成受光数据；分析装置，分析该受光数据，检测在上述重复图形中发生的不匀缺陷，
上述照明装置把从光源发出的平行度在1°以内的光朝上述被检查体照射。
4.根据权利要求3所述的图形不匀缺陷检查装置，其特征在于，上述照明装置中的光源是超高压水银灯或者氙灯。
5.根据权利要求3或4所述的图形不匀缺陷检查装置，其特征在于，具有：选择抽出单元，从朝上述被检查体照射的光或者由上述被检查体引导的光中选择抽出期望波长带的光；使用该选择抽出的波长带的光来检测不匀缺陷。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4583155B2 (ja) * 2004-12-13 2010-11-17 Ｈｏｙａ株式会社 欠陥検査方法及びシステム、並びにフォトマスクの製造方法
TWI354100B (en) * 2006-06-01 2011-12-11 Dainippon Screen Mfg Unevenness inspecting method, unevenness inspectin
JP4949928B2 (ja) * 2006-06-20 2012-06-13 Ｈｏｙａ株式会社 パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査装置、フォトマスク製品の製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法
KR101587176B1 (ko) 2007-04-18 2016-01-20 마이크로닉 마이데이타 에이비 무라 검출 및 계측을 위한 방법 및 장치
US8228497B2 (en) * 2007-07-12 2012-07-24 Applied Materials Israel, Ltd. Method and system for evaluating an object that has a repetitive pattern
US20090199152A1 (en) * 2008-02-06 2009-08-06 Micronic Laser Systems Ab Methods and apparatuses for reducing mura effects in generated patterns
JP5178561B2 (ja) * 2009-02-06 2013-04-10 Ｈｏｙａ株式会社 パターン検査方法、パターン検査装置、フォトマスク製造方法、およびパターン転写方法
CN101592812B (zh) * 2009-06-23 2012-05-23 友达光电（苏州）有限公司 显示面板及其像素缺陷检查方法
WO2014140047A2 (en) 2013-03-12 2014-09-18 Micronic Mydata AB Method and device for writing photomasks with reduced mura errors
JP6453780B2 (ja) 2013-03-12 2019-01-16 マイクロニック アーベーＭｙｃｒｏｎｉｃ Ａｂ 機械的に形成されるアライメント基準体の方法及び装置
CN106536784B (zh) * 2014-06-06 2019-08-30 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模及其前体、以及有机半导体元件的制造方法
CN104914133B (zh) * 2015-06-19 2017-12-22 合肥京东方光电科技有限公司 摩擦缺陷检测装置
CN105974731B (zh) * 2016-07-25 2020-01-03 京东方科技集团股份有限公司 一种压印板、检测方法及检测装置
CN107911602B (zh) * 2017-11-23 2020-05-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质
TWI672493B (zh) * 2018-03-07 2019-09-21 由田新技股份有限公司 用於檢測面板斑紋的光學檢測系統及其方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL100443A (en) * 1991-12-20 1995-03-30 Dotan Gideon Inspection system for detecting surface flaws
JP2001013085A (ja) * 1999-06-30 2001-01-19 Nidek Co Ltd 欠陥検査装置

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