CN100454115C - 用于调节密封剂分配器中支撑框架的对准的方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于调节密封剂分配器中的至少一个支撑框架的对准的方法。该方法包括当沿第一方向移动对准传感器时，识别设置在玻璃衬底上的至少两个校正标记。在此，第一方向是平行于支撑框架长边的方向。该方法还包括确定连接由对准传感器识别的至少两个校正标记的虚直线是否平行于第一方向；以及调节至少一个支撑框架的对准，使得虚直线平行于第一方向。

Description

用于调节密封剂分配器中支撑框架的对准的方法

技术领域

本发明涉及一种密封剂分配器，其在制造平面显示装置中在玻璃衬底上以特定的图样或形状分配密封剂。更具体地，本发明涉及调节密封剂分配器中支撑框架的对准(alignment，调整)的方法。

背景技术

作为多种平面显示装置中的一种，液晶显示器(LCD)相对于阴极射线管(CRT)具有更好的视觉质量。此外，LCD的平均功率消耗小于具有与该LCD相同屏幕尺寸的CRT的平均功率消耗，并且由LCD产生的热量小于CRT的热量。由于这些原因，人们特别关注将LCD和等离子体显示板(PDP)或场致发射显示器(FED)一起作为用于移动电话、计算机监视器、以及电视机的下一代显示装置。

LCD通过在第一玻璃衬底上形成多个像素图样或薄膜晶体管(TFT)以及在与第一玻璃衬底相对的第二玻璃衬底上形成滤色器层来制造的。将液晶应用于任一玻璃衬底，然后将第一和第二玻璃衬底结合。

在制造LCD的过程中，密封剂分配器以特定的图样在玻璃衬底上分配密封剂。通常，在执行分配操作中，密封分配器重新定位用于分配密封剂的分配器头的位置，向前或向后(即，在向前和向后的方向上)，或从一侧到另一侧(即，在横向方向上)，而同时玻璃衬底被固定。

图1是示出了密封剂分配器的透视图，其中应用了调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法。图2是传统密封剂分配器的平面图，示出了与密封剂分配过程相关的问题。以下，将参考图1和图2描述传统密封剂分配器的结构和传统密封剂分配器的问题。

参考图1和图2，用于制造大型液晶板的密封剂分配器包括：框架10，代表分配器的主体；工作台20，设置在框架10的上表面上；平台24，安装在工作台20上，用于接受被分配有密封剂52的玻璃衬底50；以及第一线性电动机22，用于在框架10的前后方向或平行于S轴的方向上驱动平台24。

密封剂分配器还包括：线性电动机导轨35，设置在工作台20的相对端上，沿框架10的前后延伸；第一支撑框架31和第二支撑框架32，设置在线性电动机导轨35之间，同时与框架10的长边垂直布置，使得第一支撑框架31和第二支撑框架32可以沿线性电动机导轨35移动；以及至少一个第二线性电动机33，用于沿框架10的线性电动机导轨35驱动支撑框架31和32。

近来，玻璃衬底50的尺寸逐渐增加。为了适应这种增加，至少提供两个支撑框架，即，第一支撑框架31和第二支撑框架32，以缩短分配处理时间。在此，第二线性电动机33分别安装在第一支撑框架31和第二支撑框架32的相对端。

在每个第一支撑框架31和第二支撑框架32的一侧上，设置了多个头单元41。这些头单元41可以沿第一方向(平行于Q轴的方向或平行于支撑框架31和32的长边的方向或垂直于线性电动机导轨35的方向)移动，用于以特定图样或形状分配密封剂52。密封剂52分配在固定在平台24上的玻璃衬底50上。此外，设置第三线性电动机44，用于在第一方向上驱动头单元41。

具体地，每个头单元41包括头支架42并且在第三线性电动机44的驱动力被传递到头支架42时，头单元41沿第一方向(平行于Q轴的方向)移动。此外，注射器(未示出)附着在头支架42上，用于容纳密封剂52。

此外，工作台20被构造成使得工作台20能够在第二方向(即，平行于S轴的方向或平行于线性电动机导轨35的方向或垂直于支撑框架31和32的方向)上移动预设角度，用于对准固定在平台24上的玻璃衬底50。

下面将详细描述相对于上述结构的密封剂分配器的操作。

首先，玻璃衬底50通过吸力作用固定在平台24的上面，并且平台24固定到工作台20。玻璃衬底50具有矩形形状，并且具有预先在其上形成的诸如电路图案53的图样，被固定在平台24上面的同时与框架10对准。

接下来，进行密封剂分配操作。通常，有两种方法将密封剂分配在玻璃衬底50上。

第一分配方法如下。第一支撑框架31和第二支撑框架32沿第一方向(平行于框架10的线性电动机导轨35的方向)移动，而安装在每个支撑框架31和32上的头单元41沿第二方向(垂直于框架10的线性电动机导轨35的方向)移动，以在玻璃衬底50上分配密封剂。

第二分配方法如下。工作台20沿第一方向移动，而安装在每个支撑框架31和32上的头单元沿第二方向移动，以在玻璃衬底50上分配密封剂。也就是，在工作台20和头单元41彼此相对移动时，密封剂分配在玻璃衬底50上。第二种方法主要应用于大尺寸玻璃衬底50。更具体地，当大尺寸玻璃衬底50被引入密封剂分配器时，两个支撑框架31和32沿第二方向(沿线性电动机轨道35向前和向后)移动，以确保必要的空间来引入或移出玻璃衬底50。之后，玻璃衬底50被固定在平台24上。

然而，上述的传统密封剂分配方法具有下列问题。

制造误差的结果可以导致，存在设置在线性电动机轨道35之间的第一支撑框架31和/或第二支撑框架32不平行于Q轴或彼此不平行的可能性。此外，也存在当玻璃衬底被固定在平台上时没有完全对准的可能性。因此，第一支撑框架和/或第二支撑框架可能不平行于Q轴和/或彼此不平行。

如果在执行分配操作之前支撑框架的未对准没有被校正，那么沿未对准支撑框架移动的头单元不能根据预定的显示图样正确地分配密封剂。因此，未对准支撑框架的结果导致残品的数量和制造成本的增加。

发明内容

由此，本发明旨在提供一种校正密封分配器中支撑框架位置的方法，其能够基本解决由于相关技术的局限性和缺点导致的一个或多个问题。

本发明的目的在于提供一种调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法，其中密封剂分配器将密封剂分配在玻璃衬底上。

本发明的又一目的在于提供一种调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法，其中密封剂分配器包括至少两个支撑框架。

本发明的另一目的在于提供一种用于执行分配操作的装置。

本发明的其他优点、目的和特征将作为说明书的一部分随后阐述，在本领域技术人员分析以下内容的基础上变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

为了实现这些优点和其它优点，并根据本发明的目的，如本文中所体现和概括描述的，提供了一种用于调节在密封剂分配器中的至少一个支撑框架的对准的方法，包括：当在第一方向上移动对准传感器时，识别设置在玻璃衬底上的至少两个校正标记。这里，第一方向是平行于支撑框架长边的方向。该方法还包括确定连接由对准传感器识别的至少两个校正标记的虚直线是否平行于第一方向；以及调节至少一个支撑框架的对准，以使虚直线平行于第一方向。

在本发明的另一实施例中，提供了一种调节密封剂分配器中的至少一个支撑框架的对准的方法。该方法包括测量至少两个支撑框架之间的至少两个距离以及如果存在差值，计算所测量的离距的差值。此外，该方法包括通过应用校正距离，调节支撑框架的对准，并且如果所测量的距离不同，那么该调节使测量的距离相等。在此，所述校正距离是所测量的距离的差值。在上述方法中，通过相对于第二支撑框架独立地移动所述第一支撑框架的第一端部和所述第二支撑框架的第二端部，调节所述第一框架，以使所述两个支撑框架彼此平行。

此外，在本发明的另一实施例中，提供了一种用于执行分配操作的装置。该装置包括：框架，表示装置的主体；工作台，设置在框架的上表面；平台，安装在所述工作台上，用于接收在其上分配密封剂的玻璃衬底；线性电动机导轨，位于工作台的相对侧使得线性发动机引导；至少两个支撑框架，设置在线性电动机导轨之间，垂直于线性电动机导轨布置，使得至少两个支撑导轨可沿线性电动机导轨移动；对准传感器，沿第一方向移动，用于识别校正标记；以及驱动单元，用于沿第一方向驱动对准传感器。在这里，第一方向是平行于支撑框架长边的方向。

在本发明的另一实施例中，提供了用于执行分配操作的另一装置。该装置包括：框架，表示装置的主体；工作台，设置在框架的上表面；平台，安装在所述工作台上，用于接收在其上分配密封剂的玻璃衬底；线性电动机导轨，布置在工作台的相对侧，使得线性发动机引导；至少两个支撑框架，布置在线性电动机导轨之间，垂直于线性电动机导轨布置，使得至少两个支撑框架可沿线性电动机导轨移动；以及距离测量单元，用于测量至少两个支撑框架之间的至少两个距离。

应该了解，前面的概括描述以及随后的详细描述均是示范性和说明性的，目的在于进一步地说明权利要求中的本发明。

附图说明

附图提供了对本发明的进一步理解，其被结合于此并构成说明书的一部分，描述了本发明的实施例并与说明书一起用来解释本发明的原理。在附图中：

图1是示出了应用用于调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法的密封剂分配器的透视图；

图2是示出了在密封剂分配过程中的问题的传统密封剂分配器的平面图；

图3是示出了根据本发明的优选实施例的调节密封剂分配器中的支撑框架的对准或位置的流程图；

图4是示出了两个不平行支撑框架和安装在第二支撑框架上沿Q轴移动以识别校正标记的对准传感器的参考视图；

图5是加载到具有未对准支撑框架的密封剂分配器的玻璃衬底的实例；

图6示出了被对准调节的图5所示的支撑框架，其相对于玻璃衬底未对准；

图7示出了玻璃衬底与图6所示的对准已经被调节的平行的支撑框架的对准调节；以及

图8是示出了调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法的流程图。

具体实施方式

以下将详细描述附图所描述的本发明的实施例。任何可能的情况下，附图中将使用相同的附图标号来表示相同或相似的部件。

现在，将参照附图描述根据本发明的调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法。

如图1所示，应用根据本发明的调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法的密封剂分配器包括：框架10，表示分配器的主体；工作台20，设置在框架10的上表面上；平台24，安装在工作台20上，用于允许其上将被分配密封剂的玻璃衬底50位于其上表面上；以及第一线性电动机22，用于在第二方向上驱动平台24。这里，第二方向指的是平行于S-轴的方向。

密封剂分配器进一步包括线性电动机导轨35，在第二方向上设置在工作台20的相对端上。此外，密封剂分配器包括：第一支撑框架31和第二支撑框架32，设置在线性电动机导轨35之间，同时被布置为在第一方向上移动，使得第一支撑框架31和第二支撑框架32能够沿着线性电动机导轨35移动；以及至少一个第二线性电动机33，用于沿着线性电动机导轨35(即，在第二方向上)驱动支撑框架31和32。

密封剂分配器的第二线性电动机包括：第二磁体33，在第二方向上设置在各个线性电动机导轨35的上表面上，以及第二动子34，设置在对应于第二磁体33的各个支撑框架的相对侧的下端。

这里，密封剂分配器包括两个支撑框架，也就是，第一支撑框架31和第二支撑框架32，这是因为玻璃衬底50的尺寸较大，并且目的是减小分配操作的时间。然而，支撑框架的数量并不限于此，而且如果需要，可以具有更多个支撑框架。此外，第二线性电动机的第二动子34安装在各个支撑框架31和32的相对端上，用于向支撑框架31和32的相对端施加驱动力。

多个头单元41设置在每个支撑框架31和32的一侧上，用于允许头单元41在第一方向(平行于Q-轴的方向)上移动，使得头单元41能够根据指定的图样(或形状)对固定到平台24的玻璃衬底执行分配操作。此外，密封剂分配器进一步包括第三线性电动机，用于在第一方向上驱动头单元41。

特别地，设置在第一支撑框架31和32上的每个头单元41包括：头支架42，当第三线性电动机的驱动力被施加到头支架42时，其在第一方向上移动；注射器(未示出)，连接到头支架42用于容纳密封剂；以及喷嘴(未示出)，用于从注射器分配密封剂。

此外，密封剂分配器的第三线性电动机包括：第三磁体44，在第一方向上设置在每个支撑框架31和32的一侧上；以及第三动子43，设置在对应于第三磁体44的每个头支架42中。

密封剂分配器进一步包括对准传感器45，其在第一方向上移动用于识别校正标记55。校正标记55可以提前(例如，在形成玻璃衬底时)设置(或印刷)在玻璃衬底上或者在制造玻璃衬底50之后被标记。优选地，对准传感器连接至由于第三磁体44和第三动子43的操作而在第一方向上移动的头单元41。校正标记55设置在形成在玻璃衬底50上的电路图样53的边缘，以起到测量支撑框架31和32与玻璃衬底50之间的对准的基准的作用。连接校正标记55的线彼此平行或垂直。

由于第三动子43和第三磁体44的组合允许头单元41在第一方向上移动，因此对准传感器45与头单元41成为一体一起移动，以顺序地识别设置在玻璃衬底50上的校正标记55。

现在，将描述使用上述结构来调节支撑框架的对准的方法。

图3是示出根据本发明的优选实施例的调节密封剂分配器中的支撑框架的对准(或位置)的方法的流程图。图4是示出不平行的两个支撑框架和安装在第二支撑框架上以沿着Q-轴移动从而识别校正标记的对准传感器的参考示意图。

首先，玻璃衬底50引入到平台24上，然后适当地固定到其上。在玻璃衬底50固定到平台24上之后，支撑框架31和32朝着在玻璃衬底50上的印刷的校正标记55移动(S1)。其后，第二支撑框架32移动到支撑框架对准可以被调节的位置。

在第二支撑框架32被放置在对准调节位置之后，第三线性电动机驱动附着到第二支撑框架32的头单元41以执行校正标记识别操作。更特别地，校正标记识别操作包括对准传感器45，其连接至头单元41并在第一方向上或沿着支撑框架32的长边方向上移动的同时，识别显示在玻璃衬底50上的校正标记55(S2)。

然后，对准传感器45识别连接每个校正标记55的虚直线。此虚直线与对准传感器45沿其移动的路径相比较，以确定虚直线和路径是否彼此平行(S3)。

在下文中，虚直线将称为X₁-线150。X₁-线150与S-轴平行。此外，沿支撑框架31和32移动的对准传感器45的移动路径将称为X₂-线160。X₂-线160平行于Q-轴。

如图5所示，当X₂-线160和X₁-线150彼此不平行时，执行对准调节(S4)，以通过调节X₂-线160与X₁-线150的对准来校正X₂-线160和X₁-线150的对准，使得两条线平行。

在执行对准调节(S4)的过程中，控制单元计算X₂-线160与X₁-线150的偏斜量。这里，以角度来测量偏斜量。其后，控制单元计算校正X₂-线160的未对准所必需的偏斜量，使得可以将X₂-线160调节为与X₁-线150平行。在进行调节过程中，控制单元使用校正的偏斜量来调节设置在支撑框架32上的第二动子34，使得X₂-线160可以与X₁-线150平行。

优选地，多个第二动子34设置在支撑框架32的至少两侧。这里，优选地，设置在支撑框架32的一端的第二动子34保持固定，而设置在支撑框架32的另一端的第二动子34在第二方向上(沿着线性电动机导轨35的移动路径)沿着相应的第二线性电动机导轨35移动，以使得X₂-线160变得与X₁-线150平行。

如果在步骤(S3)中确定，X₂-线160与X₁-线150平行，则有可能在步骤(3)结束支撑框架对准调节操作而不进行到步骤(S4)。当完成对准处理时，使第二支撑框架32与X₁-线150平行，并且因此，第二支撑框架32变得与电路图样53对准。

同时，可以将上述的对准处理应用于如图1和2所示的具有单个支撑框架或两个或多个支撑框架的密封剂分配器。如上所述，如果密封剂分配器包括两个或多个支撑框架，则优选地，对准支撑框架的方法进一步包括确认步骤(S5)，用于确定在执行对准操作后是否每个支撑框架都正确地对准。

在确认步骤(S5)中，在完成步骤(S4)之后确定是否已经执行了用于每个支撑框架31和32的对准处理步骤(S1-S4)。如果已经执行了用于支撑框架31和32的所有对准处理步骤，终止对支撑框架的调节对准的进一步努力。如果尚没有对支撑框架完全地执行完整的对准处理，重复对该支撑框架的对准调节步骤(S1-S4)。

如果密封剂分配器包括两个或多个支撑框架，并且尚没有对至少两个支撑框架完全地执行对准调节，则可以首先对至少两个支撑框架中的任何一个进行对准调节。在调节支撑框架的一个的对准之后，调节后续支撑框架的对准。即，顺序地调节支撑框架。可选地，可以同时调节至少两个支撑框架的对准。

在上述的实施例中，基于设置在玻璃衬底上的校正标记来对准支撑框架。然而，在另一实施例中，还可以转动玻璃衬底偏斜角(以角度测量)以调节支撑框架的对准从而使得多个支撑框架彼此平行。这里，偏斜角指的是玻璃衬底应转动多大的偏斜量(角度)以与至少两个平行的支撑框架平行。

参照另一个实施例，密封剂分配器包括：框架，表示分配器的主体；工作台，设置在框架的上表面，所述工作台能够转动预定角度同时与表面平行；平台，安装在工作台上，用于接收位于其上表面的其上被分配密封剂的玻璃衬底；线性电动机导轨，设置在工作台的相对侧，使得线性电动机导轨沿着S-轴延伸；至少两个支撑框架，设置在线性电动机导轨之间，与线性电动机导轨垂直布置，使得至少两个支撑框架可以在第二方向上沿着线性电动机导轨移动；以及距离测量单元，用于测量至少两个支撑框架之间的至少两个距离。

此外，用于调节密封剂分配器中的至少两个支撑框架的对准的方法包括以下步骤：测量至少两个支撑框架之间的至少两个距离；计算测量的距离中的差值；通过应用计算的差值来调节支撑框架的对准，使得测量的距离相等，导致至少两个测量的距离彼此平行；以及转动玻璃衬底以使玻璃衬底与至少两个支撑框架对准。

下面将参照附图对本发明的另一实施例进行更加详细的描述。由于该实施例中的部件等同于先前实施例中的部件，因此将不再给出对其的详细描述。

图5是示出加载到具有未对准的支撑框架的密封剂分配器上的玻璃衬底的实例。图6示出了在图5的支撑框架的对准被调节之后的支撑框架，然而，玻璃衬底和支撑框架未对准(或不平行)。图7示出相对于图6的支撑框架调节玻璃衬底的对准。图8是示出用于调节密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法的流程图。

在该实施例中，密封剂分配器包括框架10(见图1)、工作台20(见图1)、平台24(见图1)、以及可沿线性电动机导轨35移动的至少两个支撑框架31和32。

更特别地，工作台20被设置为转动到其左边或右边。例如，工作台可以向左转动2度以使放置于工作台的顶部的玻璃衬底与支撑框架对准。

密封剂分配器进一步包括距离测量单元，用于测量至少两个支撑框架31和32之间的至少一个距离。优选地，距离测量单元测量支撑框架31和32之间的至少两个线性距离d1和d2。例如，至少两个测量的距离应该接近或位于支撑框架的端部，靠近线性电动机导轨35。

距离测量单元包括安装在支撑框架31或32中的一个上的两个位移传感器140。优选地，激光位移传感器应该是非接触型。如图6所示，激光位移传感器140安装在支撑框架31上。优选地，激光位移传感器140靠近支撑框架31或32的每个的端部安装，以执行精确测量。这里，激光位移传感器140测量支撑框架31和32之间的线性距离d1和d2。

现在，将参照图5至图8详细描述调节具有上述结构的密封剂分配器中的支撑框架的对准的方法。

在下面的描述中，假设两个支撑框架31和32彼此不平行，并且引入平台24的玻璃衬底50最初即不与支撑框架31和32对准，也不与框架10对准。

首先，将玻璃衬底50引入平台24，其后执行测量步骤(S’1)。测量步骤(S’1)是使用安装在支撑框架31上的激光位移传感器140来测量相对的支撑框架31和32之间的距离d1和d2的步骤。

然后，执行确定步骤(S’2)。确定步骤(S’2)是计算在测量步骤(S’1)测量的支撑框架31和32之间的距离d1和d2的差值的步骤。如果确定距离d1等于距离d2(即，在距离d1和d2之间没有差值，这意味着两个支撑框架31和32彼此平行)，则执行衬底对准步骤(S’4)。然而，如果在确定步骤(S’2)确定距离d1不等于距离d2(即，在距离d1和d2之间存在差值，这意味着两个支撑框架31和32不彼此平行)，则执行支撑框架对准步骤(S’3)。

在支撑框架对准步骤(S’3)中，调解支撑框架31和32的对准，基于在如图6所示的确定步骤(S’2)计算的距离d1和d2之间的差值使得距离d1和d2具有相同的值。支撑框架31和32依次变得彼此平行。

优选地，在完成支撑框架31和32的对准之后，处理返回到测量步骤(S’1)以测量距离d1和d2。其后，执行确定步骤(S’2)以计算并确定距离d1和d2是否具有相同的值。

当调节支撑框架31和32的对准时，还优选地，支撑框架31和32中的一个(即，支撑框架32)保持固定或不移动而另一个支撑框架(即，支撑框架31)相对于固定的支撑框架(即，支撑框架32)进行必要的调节。

在进行调节过程中，优选地，支撑框架31的一个末端沿着相应的线性电动机导轨35移动，同时支撑框架31的另一末端被固定或不沿着线性电动机导轨35移动。

下面将更详细地描述上述的实例。优选地，支撑框架31和32中的一个(即，支撑框架32)被固定，以起到在执行对准操作中的基准的作用，同时另一个支撑框架31沿着线性电动机导轨35移动其一个端部，例如，以将支撑框架与基准支撑框架对准。具有d1和d2(在S’1中测量)之间的较短距离的支撑框架31的端部基于距离间的差值(在S’2中测量)在远离基准支撑框架32的方向上移动，以实现支撑框架31和32之间的平行状态。可选地，具有d1和d2(在S’1中测量)之间的较长距离的支撑框架31的端部可以基于距离的差值在朝向支撑框架32的方向上移动，以使得支撑框架31和32彼此平行。

可选地，每个支撑框架31和32的端部都可以在相对方向上移动，以使得第一支撑框架(即，支撑框架31)与第二支撑框架(即，支撑框架32)平行，或支撑框架31和32均可以相应地移动，以调节每个支撑框架之间的距离，从而实现平行状态。

在衬底对准步骤(S’4)中，玻璃衬底50被转动特定角度α，使得玻璃衬底50的电路图样53与支撑框架31和32的S-轴平行。优选地，工作台20也能够被转动特定角度，因此，工作台20应当被转动，从而固定在平台24上的玻璃衬底50相应地转动。

这里，两个支撑框架31和32彼此平行，因此，当玻璃衬底50被转动使得玻璃衬底50与支撑框架31和32平行时，实现了两个支撑框架31和32与玻璃衬底50之间的对准。如图7所示，如果支撑框架31和32彼此平行，则密封剂52可以精确地分配在玻璃衬底50上。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于调节密封剂分配器中的至少一个支撑框架的对准方法，包括：

当在第一方向上移动对准传感器时，识别设置在玻璃衬底上的至少两个校正标记，其中，所述第一方向是平行于所述支撑框架的长边的方向；

确定连接由所述对准传感器识别的所述至少两个校正标记的虚直线是否平行于所述第一方向；以及

调节所述至少一个支撑框架的所述对准，使得所述虚直线平行于所述第一方向。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述至少两个校正标记被印刷或被标注以被所述对准传感器识别。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述对准传感器连接到头单元，所述头单元设置在至少一个支撑框架上。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述虚直线与所述头单元沿所述支撑框架的长边移动的路径相比较。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述头单元沿所述支撑框架的长边移动的所述路径平行于所述第一方向。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，当固定第一支撑框架的第二端部时，通过沿线性电动机导轨移动所述第一支撑框架的第一端部来调节所述第一支撑框架的所述对准。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括如果存在至少两个支撑框架，确认权利要求1所述的每个步骤对于至少两个支撑框架中的每一个是否已经成功地执行。

8.一种执行密封剂的分配操作的装置，包括：

框架，表示所述装置的主体；

工作台，布置在所述框架的上表面；

平台，安装在所述工作台上，用于接收在其上被分配有密封剂的玻璃衬底，所述玻璃衬底位于所述平台的上表面上；

线性电动机导轨，布置在所述工作台的相对侧；

至少两个支撑框架，布置在所述线性电动机导轨之间，垂直于所述线性电动机导轨，使得所述至少两个支撑导轨可沿所述线性电动机导轨移动；

对准传感器，沿第一方向移动，用于识别至少两个校正标记；以及

驱动单元，用于沿所述第一方向驱动所述对准传感器，

其中，所述第一方向是平行于所述支撑框架长边的方向。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述装置是密封剂分配器。

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