CN100400984C - 冰浆的制造装置以及基板处理装置 - Google Patents

冰浆的制造装置以及基板处理装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100400984C
CN100400984C CNB2005101248823A CN200510124882A CN100400984C CN 100400984 C CN100400984 C CN 100400984C CN B2005101248823 A CNB2005101248823 A CN B2005101248823A CN 200510124882 A CN200510124882 A CN 200510124882A CN 100400984 C CN100400984 C CN 100400984C
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
ice
particulate
treatment fluid
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2005101248823A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1811307A (zh
Inventor
山本悟史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Publication of CN1811307A publication Critical patent/CN1811307A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100400984C publication Critical patent/CN100400984C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B11/00Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

本发明提供一种冰浆的制造装置以及基板处理装置,该冰浆的制造装置在由过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液时,不会混入污染物质,且所生成的冰的微粒也不会溶解。该装置具备有主体部(10),该主体部(10)在下部具有液体导入口(18)以及气体喷出口(24),在上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口(28),从气体喷出口(24)向通过液体导入口(18)而被导入到主体部(10)内的过冷却液体喷出气体,解除过冷却状态,使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部(10)内通过流出口(28)而流出。

Description

冰浆的制造装置以及基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种制造半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用玻璃基板、等离子显示器(PDP)用玻璃基板、印刷基板、陶瓷基板、电子器件基板等基板的清洗处理等中使用的含有冰的微粒的处理液的冰浆的制造装置、以及使用由该冰浆的制造装置制造的含有冰的微粒的处理液来进行基板的清洗等的处理的基板处理装置。
背景技术
例如,LCD、PDP等的平板显示器(FPD)的制造装置中的基板的清洗,通过这样一连串的工序而进行:通过准分子激光器的UV照射来清除有机物污染→通过使用了辊刷的擦拭清洗来清除1μm以上的污染物质→通过置换清洗来清除药液清洗后的药液→通过2流体清洗来进行精密清洗→通过最终水洗来进行超精清洗。另外,近年来,代替辊刷清洗,而如下的清洗方法也在例如日本专利第3380021号公报中被提出并被实施:调制成冰的微粒分散在液体中而变成水果冰沙状悬浊液的状态的冰浆,并从喷嘴向基板的表面喷射冰浆,使冰的微粒撞击基板,从而清洗基板。
如上所述,在由过冷却水制造用于基板的清洗处理的冰浆时,作为解除过冷却水的过冷却状态的方法,以往,被采用的方法有:将金属片励磁而使其象蜂鸣器那样的振动,并接触过冷却水;或者将过冷却水撞击到金属或塑料的平板上。
如以往的那样,通过将振动的金属片接触到过冷却水或者将过冷却水撞击到金属平板上来解除过冷却水的过冷却状态,从而在纯水中生成冰的微粒的方法中,由于金属离子混入到纯水中而制造混入了金属离子的冰浆。在使用这种冰浆对基板进行了清洗时,会发生基板被金属污染了的坏的状况。另外,在将过冷却水撞击到塑料平板上来解除过冷却水的过冷却状态的方法中,也会有向纯水中混入树脂成分之忧。还有,在过冷却水撞击金属或塑料平板的方法中,存在如下问题:冰浆在平板上扩散时从平板吸收热量,从而所生成的冰的微粒会溶解。
发明内容
本发明是鉴于以上情况而提出的,其目的在于提供一种冰浆的制造装置,其在由过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液时,不必担心混入污染物质,且所生成的冰的微粒也不会溶解;并且提供一种基板处理装置,其能够适于使用由该冰浆的制造装置制造的含有冰的微粒的处理液,进行基板的清洗等的处理。
(1)、本发明为一种冰浆的制造装置,用于制造含有冰的微粒的处理液,其特征在于,具有:主体部,其下部具有液体导入口以及气体喷出口,上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口;过冷却液体供给装置,其通过与该主体部的液体导入口连通的液体供给管,向主体部内供给过冷却液体;气体供给装置,其通过与上述主体部的气体喷出口连通的气体供给管,向主体部内供给过冷却解除用气体,从上述气体喷出口向通过上述液体导入口而被导入到上述主体部内的过冷却液体,喷出过冷却解除用气体,解除过冷却液体的过冷却状态,使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部内通过上述流出口而流出。
(2)、本发明如(1)所述的冰浆的制造装置,其特征在于,上述主体部具有:直管,其下端面通过底壁部而被堵塞,以从下端部向着上端部而内径逐渐减小的方式形成;液体导入管部,其贯穿该直管的底壁部而插入贯通到直管内部,前端口成为上述液体导入口,并且该液体导入管部与上述过冷却液体供给装置的液体供给管连接;间隔壁部,其与上述底壁部之间设有间隔而被配置,从而分割上述直管的内部而在与上述底壁部之间形成气体导入室,并且该间隔壁部形成有成为上述气体喷出口的多个贯穿细孔;气体导入管部,其连通到上述气体导入室,并与上述气体供给装置的气体供给管连接,上述直管的上端口成为上述流出口。
(3)、本发明如(2)所述的冰浆的制造装置,其特征在于,上述直管保持为垂直姿态。
(4)、本发明如(3)所述的冰浆的制造装置,其特征在于,过冷却解除用气体为二氧化碳,制造溶解二氧化碳并含有冰的微粒的处理液。
(5)、本发明为一种基板处理装置,使用含有冰的微粒的处理液来对基板进行处理,其特征在于,具有:上述(1)~(4)中任一项所述的冰浆的制造装置;支撑基板的基板支撑装置;处理液供给装置,其向通过该基板支撑装置而被支撑着的基板的主面,供给通过上述冰浆的制造装置而制造的含有冰的微粒的处理液。
(6)、本发明如(5)所述的基板处理装置,其特征在于,上述基板支撑装置,是支撑基板并沿水平方向进行传送的基板传送装置,通过上述处理液供给装置,向由上述基板传送装置传送的基板的主面,供给含有冰的微粒的处理液,还具有在基板的主面上搅拌含有冰的微粒的处理液的搅拌构件。
(7)、本发明如(6)所述的基板处理装置,其特征在于,上述基板传送装置,在与基板的传送方向垂直的方向上使基板倾斜而支撑着基板,并沿着水平方向进行传送。
(8)、本发明如(5)所述的基板处理装置,其特征在于,上述处理液供给装置具有喷嘴,该喷嘴使含有冰的微粒的处理液在高压下向通过上述基板支撑装置而被支撑着的基板的主面喷出。
(9)、本发明如(5)所述的基板处理装置,其特征在于,基板的处理为清洗处理。
在(1)所述的发明的冰浆的制造装置中,由过冷却液体供给装置通过下部的液体导入口向主体部内供给过冷却液体,并向被导入到主体部内的过冷却液体中,从主体部下部的气体喷出口喷出由气体供给装置供给的过冷却解除用气体。从而过冷却液体和过冷却解除用气体的泡沫,从主体部下部向上部的流出口上升,而在该过程中通过泡沫来解除过冷却液体的过冷却状态,形成很多的冰核从而生成冰的微粒。所生成的含有冰的微粒的处理液,从主体部内通过上部的流出口而流出。如此,通过过冷却解除用气体的泡沫来解除过冷却液体的过冷却状态,成为泡沫的过冷却解除用气体溶解在处理液中,或者从主体部内通过上部的流出口而排出。
因此,若使用(1)所述的发明的冰浆的制造装置,则不会在从过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液的过程中混入污染物质,而所生成的冰的微粒也不会溶解。
在(2)所述的发明的冰浆的制造装置中,过冷却液体通过贯穿直管的底壁部而插通到直管内部的液体导入管部,而导入到主体部内,过冷却解除用气体,通过气体导入管部,再通过在底壁部与间隔壁部之间形成的气体导入室,从间隔壁部的多个贯穿细孔喷出到直管内的过冷却液体中。从而,过冷却液体和过冷却解除用气体的泡沫一起,通过直管内的细长流路,从下部向上部的流出口上升,所以,在到达直管上部的流出口的期间,能够高效的由泡沫进行冷却状态的解除,从而生成很多的冰的微粒。另外,由于过冷却解除用气体从间隔壁部的多个贯穿细孔喷出到过冷却液体中,所以形成很多细小的泡沫而使其总表面积变大,另外,所形成的泡沫不会滞留在直管的下部而泡沫之间粘在一起,而是迅速向着直管上部的流出口浮上。因此,形成更多的冰核,从而生成多个更小的冰的微粒。另外,因为直管以从下端部向上端部而内径逐渐减小的方式形成的,所以所生成的含有冰的微粒的处理液在直管内流动良好,而从上部的流出口流出,另外,由于直管的上端口的内径变小,且该流出口与配管相连接,所以含有冰的微粒的处理液没有滞留的从流出口流出,并流入配管内。
从而,在该冰浆的制造装置中,能够制造含有更多更微小的冰的微粒的处理液,而能够顺利的向配管内送出该含有冰的微粒的处理液。
在(3)所述的发明的冰浆的制造装置中,可最佳发挥(2)所述发明的上述作用效果。
在(4)所述的发明的冰浆的制造装置中,制造溶解二氧化碳且含有冰的微粒的处理液。这里,溶解了二氧化碳的处理液中含有的冰的微粒,与用通常方法来解除过冷却液体的过冷却状态而生成的冰的微粒相比,更为柔软。因此,将溶解二氧化碳且含有冰的微粒的处理液,用于例如基板的清洗处理等,将含有冰的微粒的处理液加压并从喷嘴喷出时,即使根据基板的表面的位置,冰的微粒撞击到基板的表面上时的能量会有些不均,仍能防止如液晶图形用的金属膜、例如由铝(Al)+钼(Mo)等的物理性能上软的金属材料形成的覆膜受到局部的损伤。另外,由于溶解有二氧化碳的处理液中含有的冰的微粒相对比较软,在例如向基板的主面供给冰浆的同时用刷子来清洗基板的主面时,能够使辊刷的旋转速度或平面刷的摇动速度更大,从而能够更加提高清洗性能。还有,由于在含有冰的微粒的处理液中溶解有二氧化碳,所以与纯水相比处理液的电阻率值比较低。因此,溶解有二氧化碳且含有冰的微粒的处理液,在配管内流动而向喷嘴等供给时不易产生静电,故不会例如在向基板的表面供给时,基板上的微细的图形或器件因静电而被破坏。
从而,若使用(4)所述的发明的冰浆的制造装置,则在例如基板的清洗处理等,不会损伤到形成在基板上的金属膜等的覆膜,另外,能够更加提高清洗性能,进而,能够制造不会因静电而破坏基板上的微细的图形或器件的含有冰的微粒的处理液。
在(5)所述的发明的基板处理装置中,通过处理液供给装置,向基板的主面供给由冰浆的制造装置制造的含有冰的微粒的处理液,由此,例如在基板的清洗处理中,通过冰的微粒清除出存在于基板表面的凹部等中的微粒等污染物质,而污染物质与处理液一起从基板的主面上流出而被清除。在此时,使用由(4)所述的发明的冰浆的制造装置制造的含有冰的微粒的处理液时,在溶解有二氧化碳的处理液中含有的冰的微粒,与用通常方法来解除过冷却液体的过冷却状态而生成的冰的微粒相比更为柔软,因此,在例如将含有冰的微粒的处理液加压而从喷嘴喷出时,即使根据基板的表面上的位置,冰的微粒撞击到基板的表面上时的能量会有些不均,仍能够防止液晶图形用的金属膜、例如由Al+Mo等的软的金属材料形成的覆膜受到局部损伤。另外,由于溶解有二氧化碳的处理液中含有的冰的微粒相对比较软,在例如向基板的主面供给冰浆的同时用刷子来清洗基板的主面时,能够使辊刷的旋转速度或平面刷的摇动速度更大,从而能够更加提高清洗性能。还有,由于在含有冰的微粒的处理液中溶解有二氧化碳,所以与纯水相比处理液的电阻率值比较低,因此向基板的主面供给的含有冰的微粒的处理液,在配管内流动而向喷嘴供给时不易产生静电,而不会在向基板的表面供给时,基板上的微细的图形或器件因静电而被破坏。
从而,在例如基板的清洗处理中使用(5)所述发明的基板处理装置时,能够很好的清除存在于基板表面的凹部等中的微粒等污染物质。从而在使用由(4)所述的发明的冰浆的制造装置制造的含有冰的微粒的处理液时,不会损伤到形成在基板上的金属膜等的覆膜,另外,能够更加提高清洗性能,进而,也不会因静电而破坏基板上的微细的图形或器件。
在(6)所述的发明的基板处理装置中,通过处理液供给装置,向通过基板传送装置沿水平方向传送的基板的主面供给含有冰的微粒的处理液,搅拌构件在基板的主面上搅拌含有冰的微粒的处理液,从而,在例如基板的清洗处理中,通过冰的微粒来清除出存在于基板表面的凹部等中的微粒等污染物质,污染物质与处理液一起从基板的主面上流出而被清除。这样,由于通过在基板的主面上搅拌含有冰的微粒的处理液而从基板上清除污染物质,所以不需要通过处理液供给装置将含有冰的微粒的处理液加压并喷出到基板的主面。
所以,若使用(6)所述的发明的基板处理装置,则能够进行均匀的基板处理而不会产生处理偏差,另外,也不会损伤到形成在基板上的金属膜等的覆膜。
在(7)所述的发明的基板处理装置中,由于通过基板传送装置来以倾斜姿态支撑基板并将其传送,所以通过处理液供给装置向基板的主面供给的含有冰的微粒的处理液,沿着基板的倾斜而流下的同时,在基板的主面上通过搅拌构件而被搅拌,从基板的低位置侧的边缘自然流出。
在(8)所述的发明的基板处理装置中,通过将含有冰的微粒的处理液从喷嘴在高压下向基板的主面喷出,从而例如在基板的清洗处理中,通过冰的微粒来清除出存在于基板表面的凹部等中的微粒等污染物质,与处理液一起从基板的主面上流出而被清除。
在(9)所述的发明的基板处理装置中,从基板的主面上清除存在于基板表面的凹部等中的微粒等污染物质,从而净化基板。
附图说明
图1表示本发明实施方式的一例,是表示冰浆的制造装置的主体部沿纵向切断状态的立体图。图3是该主体部的外观立体图。
图2是将图1所示的冰浆的制造装置的主体部沿纵向切断状态的局部放大立体图。
图3是图1所示的冰浆的制造装置的主体部的外观立体图。
图4是图1所示的冰浆的制造装置的结构框图。
图5是表示使用由图1至图4所示的冰浆的制造装置制造的冰浆来进行基板的清洗的装置结构的一例的图,是表示基板清洗装置的重要部分的概略立体图。
图6是图5所示的基板清洗装置的重要部分的正面图。
图7是图5所示的基板清洗装置的重要部分的侧面图。
图8表示使用由图1至图4所示的冰浆的制造装置制造的冰浆来进行基板的清洗的基板清洗装置的其他的构成例,是表示基板旋转式清洗装置的重要部分的结构的概略正面图。
具体实施方式
以下,参照附图来说明本发明的最佳实施方式。
图1至图3,表示本发明实施方式的一例,图1是表示冰浆的制造装置的主体部沿纵向切断状态的立体图。图2是将该主体部沿纵向切断状态的局部放大立体图。图3是该主体部的外观立体图。
该冰浆制造装置是制造溶解二氧化碳且含有冰的微粒的处理液(以下称为“冰浆”)的装置,其主体部10形成为细长的圆管状。即,主体部10具有以从下端部向上端部内径逐渐减小的方式形成的直管12,直管12的下端面通过底壁部14而被堵塞住。直管12配设在纵向,且最好保持垂直姿态。在该直管12的底壁部14,固定了贯穿底壁部14的液体导入管部16,液体导入管部16的前端口一直插入到直管12的内部而成为液体导入口18。另外,如图2所示,在直管12的内侧,形成了与底壁部14设有微小间隔的间隔壁部20,由间隔壁部20来分隔直管12的内部,而在其与底壁部14之间形成气体导入室22。在间隔壁部20上形成有构成气体喷出口24的多个贯穿细孔。而且,如图3所示,在底壁部14上设有气体导入管部26,气体导入管部26连通到气体导入室22。另外,直管12的上端开口,其上端口成为冰浆的流出口28。
在主体部10的液体导入管部16上,如图4所示的冰浆制造装置的结构框图那样,连接有过冷却水供给用的液体供给管30。另外,在气体导入管部26上,连接有与储气瓶等的二氧化碳气体供给源通过流路相连接的气体供给管32。液体供给管30与热交换器34通过流路相连接,通过热交换器34的内部流路,连通到与纯水供给源通过流路相连接的纯水供给管36。另外,在热交换器34上,附设了冷却器(冷却装置)38,并在热交换器34的内部通道和冷却器38之间,防冻液(制冷剂)通过循环用配管40、42而进行循环。而且,以通过纯水供给管36而供给的纯水,通过冷却器38而经由热交换器34被冷却到冰点以下的温度而成为过冷却水,该过冷却水通过液体供给管30被供给到主体部10的液体导入管部16的方式而构成。另外,在冰浆制造装置的主体部10的流出口28上,连接有冰浆输送用的配管44,通过该配管44,向下述的基板洗净装置46供给冰浆。
在具备如图1至图3所示结构的冰浆制造装置的主体部10中,通过液体导入管部16,并通过液体导入口18而向直管12内导入过冷却水,另外,通过气体导入管部26向气体导入室22内导入二氧化碳气体,从气体导入室22内通过间隔壁部20的多个气体喷出口24,将二氧化碳气体喷出到直管12内的过冷却水中。而且,过冷却水和二氧化碳气体的泡沫,从直管12的下部向上部的流出口28上升。在该泡沫上升的过程中,由泡沫引起的振动被施加到过冷却水,而通过该振动来解除过冷却水的过冷却状态,另外,通过在泡沫的上升过程中泡沫破裂而产生的能量来解除过冷却水的过冷却状态。由此,形成冰核从而生成冰的微粒。此时,由于过冷却水和二氧化碳气体的泡沫一起通过直管12内的细长流路而从下部向小口径的流出口28上升,所以在直到直管12的流出口28的期间,能够高效地由泡沫进行过冷却状态的解除,从而生成很多的冰的微粒。另外,二氧化碳气体通过由间隔壁部20的多个贯穿细孔构成的气体喷出口24喷出到过冷却水中,所以,形成很多细小的泡沫而使其总表面积变大,另外,所形成的泡沫不会滞留在直管12的下部而泡沫之间粘在一起,而是迅速向着上部的流出口28浮上。因此,形成更多的冰核,可制造出含有更多更微小的冰的微粒的冰浆。
另外,由于直管12以从下端部向上端部内径逐渐减小的方式形成,所以所生成的含有冰的微粒的冰浆在直管12内流动良好。进而,由于直管12的流出口28的内径变小,且输送冰浆用的配管44与该流出口28相连接,所以冰浆没有滞留地从直管12内通过流出口28而流出,并流入配管44内。另外,由于向低温的过冷却水中喷出二氧化碳气体,所以二氧化碳的溶解量增大,从而能够得到溶解了相对较多的二氧化碳的冰浆。该溶解了二氧化碳的冰浆里含有的冰的微粒,与用通常方法来解除过冷却水的过冷却状态而生成的冰的微粒相比,更为柔软。另外,由于冰浆里溶解了二氧化碳,所以冰浆的电阻率值比较低。
还有,在上述的实施方式中,虽对向过冷却水中喷出二氧化碳气体来制造冰浆的装置进行了说明,但也可以向纯水以外的过冷却液体中喷出二氧化碳气体以外的气体、例如喷出氮气等的惰性气体或空气等,来解除过冷却液体的过冷却状态,从而制造冰浆。另外,主体部的形状,也可不为如上述实施方式中所示的细长圆管状,而例如为圆筒状等。
接下来,图5至图7表示基板清洗装置46结构的一例,该装置使用通过上述的冰浆制造装置而制造的冰浆来进行基板的处理、在本例中为进行基板的清洗;图5是表示基板清洗装置46的重要部分的概略立体图;图6是其正面图;图7是其侧面图。
该基板清洗装置46的结构包括:辊式输送机(图5以及图7中省略图示),其是由相互平行并列设置的多个传送辊48构成的,以倾斜姿态支撑基板W,沿着与该倾斜方向垂直且水平的方向传送基板W;喷嘴50,其向通过该辊式输送机而搬送的基板W的主面供给溶解了二氧化碳的冰浆;平面刷52,其在基板W的主面上搅拌冰浆。喷嘴50,具有与基板W的和其传送方向相垂直的宽度方向的尺寸大致相等的长度,并在基板W的正上方的位置上,以与基板传送方向交叉且沿着基板W的倾斜的方式配置。在喷嘴50的下端面,在其纵向上设有细缝状流出口,冰浆以几乎没被加压的状态从该细缝状流出口流出。在该喷嘴50,连接有配管44,使配管连通到形成在该喷嘴内部的流路上。喷嘴50,通过该配管44,与上述的冰浆制造装置的主体部10通过流路而连接。
平面刷52,设置在比喷嘴50的设置位置在基板传送方向上靠前方一侧且在喷嘴50的附近位置,在其下面以平面状植入了马海毛、尼龙等的毛54。该平面刷52具有与基板W的宽度方向的尺寸大致相等的长度,并配设在基板W的正上方的位置上,以使其与基板传送方向交叉且沿着基板W的倾斜。另外,虽然省略了图示,但是平面刷52被支撑移动机构所支撑,以使毛54的前端与基板W的主面接触或者接近,并通过该支撑移动机构而沿着纵向在基板W的全部宽度内进行往复移动。
在具有上述的结构的基板清洗装置46中,从冰浆制造装置的主体部10通过配管44向喷嘴50输送的冰浆,没有特别地被加压而从喷嘴50的细缝状流出口流出,而被供给到通过辊式输送机以倾斜姿态沿着水平方向传送的基板W的主面上。供给到基板W的主面的冰浆沿着基板W的倾斜而流下,在基板W的主面上通过沿着与基板传送方向交叉的方向往复移动的平面刷52而被搅拌,而从基板W的低位置侧的端缘自然流出。此时,由于在基板W的主面上通过平面刷52来搅拌冰浆,通过冰浆中的冰的微粒清除出存在于基板W表面的凹部等的微粒等污染物质,从而污染物质与冰浆及其融解水一起从基板W的主面上流出而被清除。另外,由于冰浆中溶解有二氧化碳,故冰浆中的冰的微粒相对比较软,因此,能够使平面刷52的摇动速度(代替平面刷52而使用辊刷时为旋转速度)更大,从而能够更加提高平面刷52的清洗性能。还有,由于在冰浆中溶解有二氧化碳,所以冰浆的电阻率值相对比较小。因此,在冰浆流过配管44内而向喷嘴50供给时不易产生静电,从而不会在向基板W的主面供给冰浆时基板W上的微细的图形或器件因为静电而被破坏。而且,由于冰浆是低温的,二氧化碳能够在液体中维持在很长时间的溶解状态。
还有,在该基板清洗装置46中,虽然如上述没有对冰浆进行加压而从喷嘴50向基板W的主面供给,但也可以将冰浆加压后从喷嘴50向基板W的主面喷出。由于在冰浆里溶解有二氧化碳,所以冰浆中的冰的微粒相对比较软,不会由于向基板W的主面上喷出的冰浆中的冰的微粒,而使例如液晶图形所用的金属膜、例如由Al+Mo等的柔软的金属材料形成的覆膜局部受到损伤。
在上述的实施方式中,将喷嘴50以使其与基板传送方向交叉且沿着基板W的倾斜的方式进行配设,但也可以将喷嘴沿着基板传送方向配设在倾斜着的基板的高位置侧的边缘部的正上方位置上。另外,在上述的实施方式中,将基板W以倾斜姿态支撑并沿着水平方向传送,同时从喷嘴50向基板W的主面供给冰浆,而在基板W的主面上通过平面刷52来搅拌冰浆,但是,若基板W的尺寸并没有那么大时,也可以将基板W以水平姿态支撑并沿着水平方向传送,同时从喷嘴50向基板W的主面供给冰浆,而通过平面刷52来搅拌冰浆,之后,使基板W倾斜而进行水洗处理。还有,在上述实施方式中,在基板W的主面上通过平面刷52来搅拌冰浆,但也可以代替平面刷52而使用辊刷等。
图8表示使用由上述的冰浆制造装置制造的冰浆来进行基板的清洗的基板清洗装置的其他结构的例子,是表示基板旋转式清洗装置(旋转清洗器)的重要部分的结构的概略正面图。该基板旋转式清洗装置56具有保持基板W为水平姿态的旋转卡盘58。旋转卡盘58,通过旋转支轴60围绕垂直轴自由旋转的被支撑着,并通过连接在旋转支轴60上的电机(没有图示)来围绕垂直轴旋转。虽然省略了图示,但在保持在旋转卡盘58上的基板W的周围,围绕基板W而配设了用于收集从基板W上飞散到周围的冰浆的杯体。另外,在保持在旋转卡盘58上的基板W的上方,配设有将溶解了二氧化碳的冰浆喷到基板W的表面上的喷出喷嘴62。在喷出喷嘴62上,连接有冰浆输送用的配管44,喷出喷嘴62通过配管44与上述的冰浆制造装置的主体部10通过流路而相连接。
在图8中所示的装置中,将溶解有二氧化碳的冰浆加压,并从喷出喷嘴62喷出到通过旋转卡盘58而被保持并旋转的基板W的表面。由此,存在于基板W表面的凹部等中的微粒等污染物质,通过冰的微粒而被清除出,并与冰浆一起从基板W的表面上流出而被清除。在此时,由于从喷出喷嘴62喷出到基板W的表面的冰浆中溶解有二氧化碳,所以冰浆中的冰的微粒,与以现有方法来解除过冷却水的过冷却状态而生成的冰的微粒相比,相对更为柔软。因此,在基板W的表面上,即使从喷出喷嘴62喷出的冰浆中的冰的微粒撞击到基板W的表面上时的能量会有些不均,但仍能够防止形成在基板W的表面上的图形状的金属膜等受到局部损伤。另外,对于冰浆来说,由于该冰浆中溶解有二氧化碳,所以电阻率值相对比较小。因此,在冰浆流过配管44内而向喷出喷嘴62供给的过程中不易产生静电,从而能够防止在从喷出喷嘴62向基板W的主面供给冰浆时基板W上的微细的图形或器件因静电而被破坏。
还有,在上述的各实施方式中,虽对清洗基板的基板清洗装置进行了说明,但本发明也能适用于对基板进行清洗以外的处理的基板处理装置。

Claims (9)

1.一种冰浆的制造装置,用于制造含有冰的微粒的处理液,其特征在于,具有:
主体部,其下部具有液体导入口以及气体喷出口,上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口;
过冷却液体供给装置,其通过与该主体部的液体导入口连通的液体供给管,向主体部内供给过冷却液体;
气体供给装置,其通过与上述主体部的气体喷出口连通的气体供给管,向主体部内供给过冷却解除用气体,
从上述气体喷出口向通过上述液体导入口而被导入到上述主体部内的过冷却液体,喷出过冷却解除用气体,解除过冷却液体的过冷却状态,使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部内通过上述流出口而流出。
2.如权利要求1所述的冰浆的制造装置,其特征在于,
上述主体部具有:
直管,其下端面通过底壁部而被堵塞,以从下端部向着上端部而内径逐渐减小的方式形成;
液体导入管部,其贯穿该直管的底壁部而插入贯通到直管内部,前端口成为上述液体导入口,并且该液体导入管部与上述过冷却液体供给装置的液体供给管连接;
间隔壁部,其与上述底壁部之间设有间隔而被配置,从而分割上述直管的内部而在与上述底壁部之间形成气体导入室,并且该间隔壁部形成有成为上述气体喷出口的多个贯穿细孔;
气体导入管部,其连通到上述气体导入室,并与上述气体供给装置的气体供给管连接,
上述直管的上端口成为上述流出口。
3.如权利要求2所述的冰浆的制造装置,其特征在于,上述直管保持为垂直姿态。
4.如权利要求3所述的冰浆的制造装置,其特征在于,过冷却解除用气体为二氧化碳,制造溶解二氧化碳并含有冰的微粒的处理液。
5.一种基板处理装置,使用含有冰的微粒的处理液来对基板进行处理,其特征在于,具有:
权利要求1~4中任一项所述的冰浆的制造装置;
支撑基板的基板支撑装置;
处理液供给装置,其向通过该基板支撑装置而被支撑着的基板的主面,供给通过上述冰浆的制造装置而制造的含有冰的微粒的处理液。
6.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板支撑装置,是支撑基板并沿水平方向进行传送的基板传送装置,
通过上述处理液供给装置,向由上述基板传送装置传送的基板的主面,供给含有冰的微粒的处理液,
还具有在基板的主面上搅拌含有冰的微粒的处理液的搅拌构件。
7.如权利要求6所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板传送装置,在与基板的传送方向垂直的方向上使基板倾斜而支撑着基板,并沿着水平方向进行传送。
8.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,
上述处理液供给装置具有喷嘴,该喷嘴使含有冰的微粒的处理液在高压下向通过上述基板支撑装置而被支撑着的基板的主面喷出。
9.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,基板的处理为清洗处理。
CNB2005101248823A 2005-01-28 2005-11-23 冰浆的制造装置以及基板处理装置 Expired - Fee Related CN100400984C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005020801A JP4476826B2 (ja) 2005-01-28 2005-01-28 氷スラリーの製造装置および基板処理装置
JP2005020801 2005-01-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1811307A CN1811307A (zh) 2006-08-02
CN100400984C true CN100400984C (zh) 2008-07-09

Family

ID=36844362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005101248823A Expired - Fee Related CN100400984C (zh) 2005-01-28 2005-11-23 冰浆的制造装置以及基板处理装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4476826B2 (zh)
KR (1) KR100736508B1 (zh)
CN (1) CN100400984C (zh)
TW (1) TWI270642B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102092470A (zh) * 2010-12-15 2011-06-15 浙江海洋学院 二元冰蓄冷船
CN102072605B (zh) * 2010-12-15 2012-11-21 浙江海洋学院 射流式二元冰发生器
CN103187340B (zh) * 2011-12-28 2016-08-03 斯克林集团公司 基板处理装置以及基板处理方法
JP5692167B2 (ja) * 2012-06-05 2015-04-01 株式会社デンソー 被処理物から汚れ物質を洗浄し、除去する方法及び装置
CN106152340A (zh) * 2015-04-28 2016-11-23 深圳市绿旭节能有限公司 一种封闭型过冷释放装置
KR101886112B1 (ko) * 2017-11-17 2018-08-07 주식회사 대일 부하 감지에 의한 냉동기 부하경감을 이용한 스크레퍼 고착 방지 및 고착 해결 기능을 갖는 샤베트 아이스 제조장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH094948A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Agency Of Ind Science & Technol 低温微細粒子の製法およびそれに用いる装置
JPH1116978A (ja) * 1997-06-19 1999-01-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
US6220935B1 (en) * 1997-08-11 2001-04-24 Sprout Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning substrate
JP2003033733A (ja) * 2001-07-23 2003-02-04 Taiyo Toyo Sanso Co Ltd 基板洗浄システム
CN1501439A (zh) * 2002-11-18 2004-06-02 大日本网目版制造株式会社 基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4330830B2 (ja) * 2001-09-28 2009-09-16 高砂熱学工業株式会社 氷製造装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH094948A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Agency Of Ind Science & Technol 低温微細粒子の製法およびそれに用いる装置
JPH1116978A (ja) * 1997-06-19 1999-01-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
US6220935B1 (en) * 1997-08-11 2001-04-24 Sprout Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning substrate
JP2003033733A (ja) * 2001-07-23 2003-02-04 Taiyo Toyo Sanso Co Ltd 基板洗浄システム
CN1501439A (zh) * 2002-11-18 2004-06-02 大日本网目版制造株式会社 基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统

Also Published As

Publication number Publication date
JP4476826B2 (ja) 2010-06-09
KR100736508B1 (ko) 2007-07-06
JP2006205065A (ja) 2006-08-10
TW200632263A (en) 2006-09-16
TWI270642B (en) 2007-01-11
CN1811307A (zh) 2006-08-02
KR20060087393A (ko) 2006-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100400984C (zh) 冰浆的制造装置以及基板处理装置
CN100543931C (zh) 基板处理装置、液膜冻结方法以及基板处理方法
KR100671774B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080089629A (ko) 물체, 특히 박판 웨이퍼를 세정하는 장치 및 방법
CN100553805C (zh) 基板处理方法及基板处理装置
JP2007301529A (ja) 洗浄装置
KR19990013579A (ko) 액처리장치
KR20060041809A (ko) 세정재 제조방법, 세정재 제조장치 및 세정시스템
CN1810389B (zh) 基板处理方法以及基板处理装置
JP2008118065A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP5130127B2 (ja) 基板の処理装置及び処理方法
JP3996499B2 (ja) 洗浄材製造方法及びその製造装置並びにこれを使用する洗浄システム
KR100699787B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP2008086925A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2001104897A (ja) 超音波洗浄装置及び洗浄方法
JP2008253893A (ja) 基板処理装置
JP2000100763A (ja) 基板表面の処理装置
KR102295425B1 (ko) 전자부품의 Fab 공정 후 배출 유해가스를 포집하기 위한 포집장치
JP4455280B2 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
WO2020075844A1 (ja) 微細気泡洗浄装置及び微細気泡洗浄方法
JP2003151942A (ja) 洗浄材、洗浄材製造装置、洗浄方法及び洗浄システム
JP2005087807A (ja) 洗浄材製造方法、洗浄材製造装置及び洗浄システム
KR20030048986A (ko) 세정재, 세정재 제조장치, 세정방법 및 세정시스템
JP2004228301A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2006134908A (ja) 基板処理方法および基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080709

Termination date: 20141123

EXPY Termination of patent right or utility model