CH719440A2 - Method for producing a multilayer printed circuit board with a blind hole contact and multilayer printed circuit board. - Google Patents

Method for producing a multilayer printed circuit board with a blind hole contact and multilayer printed circuit board. Download PDF

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CH719440A2 CH001241/2022A CH12412022A CH719440A2 CH 719440 A2 CH719440 A2 CH 719440A2 CH 001241/2022 A CH001241/2022 A CH 001241/2022A CH 12412022 A CH12412022 A CH 12412022A CH 719440 A2 CH719440 A2 CH 719440A2
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Claus Martin
Schmied Matthias
Fiehler Ralph
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KSG GmbH
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte (1) mit einer Sackloch-Kontaktierung (15), mit: Bereitstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte (1); Herstellen einer Sackloch-Vertiefung in der Mehrlagen-Leiterplatte (1) im Bereich eines außenliegenden Leiterabschnitts (2) bis hin zu einem innenliegenden Leiterabschnitt (6) durch wenigstens eine Isolierlage hindurch und Abscheiden eines elektrisch leitenden Kontaktmaterials zum Ausbilden einer Sackloch-Kontaktierung (15) in der Sackloch-Vertiefung, derart, dass das elektrisch leitende Kontaktmaterial Wandabschnitte der Sackloch-Vertiefung bedeckt und so eine elektrische Kontaktierung zwischen dem außenliegenden Leiterabschnitt (2) und dem innenliegenden Leiterabschnitt (6) ausgebildet wird. Die Sackloch-Vertiefung wird mittels eines mindestens zweistufigen erfindungsgemässen Verfahrens hergestellt, bei dem in einem ersten Verfahrensschritt eine Sackloch-Bohrung mittels mechanischen Bohrens ausgebildet und in einem zweiten Verfahrensschritt die Sackloch-Bohrung zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung mittels Laserbearbeitung erweitert wird. Weiterhin ist eine erfindungsgemässe Mehrlagen-Leiterplatte (1) geschaffen.The invention relates to a method for producing a multi-layer printed circuit board (1) with a blind hole contact (15), comprising: providing a multi-layer printed circuit board (1); Producing a blind hole recess in the multilayer printed circuit board (1) in the area of an external conductor section (2) up to an internal conductor section (6) through at least one insulating layer and depositing an electrically conductive contact material to form a blind hole contact (15) in the blind hole recess, such that the electrically conductive contact material covers wall sections of the blind hole recess and thus an electrical contact is formed between the outer conductor section (2) and the inner conductor section (6). The blind hole recess is produced by means of an at least two-stage method according to the invention, in which in a first process step a blind hole is formed by means of mechanical drilling and in a second process step the blind hole is expanded to produce the blind hole recess using laser machining. Furthermore, a multi-layer printed circuit board (1) according to the invention is created.

Description

[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte mit einer Sackloch-Kontaktierung sowie eine Mehrlagen-Leiterplatte. The invention relates to a method for producing a multi-layer printed circuit board with a blind hole contact and a multi-layer printed circuit board.

Hintergrundbackground

[0002] Mehrlagen-Leiterplatten weisen mehrere Leiterschichten oder -lagen auf, die in einer gestapelten Anordnung durch Isolierschichten oder -lagen elektrisch voneinander getrennt sind. Neben außenliegenden Leiterschichten, die auf gegenüberliegenden Außenseiten der Mehrlagen-Leiterplatte ausgebildet sind, umfassen die Leiterschichten regelmäßig auch innenliegende Leiterschichten, die im Leiterplattenkörper im Bereich zwischen den außenliegenden Leiterschichten in das Isoliermaterial eingebettet sind. Multilayer printed circuit boards have multiple conductor layers or layers that are electrically separated from one another in a stacked arrangement by insulating layers or layers. In addition to external conductor layers, which are formed on opposite outer sides of the multilayer printed circuit board, the conductor layers also regularly include internal conductor layers, which are embedded in the insulating material in the circuit board body in the area between the external conductor layers.

[0003] In der Mehrlagen-Leiterplatte können unterschiedliche Arten von (Durchgangs-)Kontaktierungen vorgesehen sein. Hierzu gehören beispielsweise Durchgangsloch-Kontaktierungen, bei denen durch den Leiterplattenkörper hindurch ein Durchgangsloch ausgebildet ist, dessen Wandung zum Ausbilden der elektrischen Kontaktierung mit einer Beschichtung aus elektrisch leitendem Material versehen ist. Alternativ oder ergänzend können Sackloch-Kontaktierungen vorgesehen sein, die auch als „blind vias“ bezeichnet werden. Hierbei ist eine Sackloch-Vertiefung ausgebildet und wandseitig mit elektrisch leitendem Material versehen, um üblicherweise eine Kontaktierung zwischen einer der außenliegenden Leiterschichten und einem innenliegenden Leiterabschnitt auszubilden. Zum Herstellen des Durchganglochs oder der Sackloch-Vertiefung sind alternativ angewendete Techniken bekannt. Es kann vorgesehen sein, die Durchgangsöffnung für die Durchgangskontaktierung oder die Vertiefung für die Sackloch-Kontaktierung mittels (mechanischem) Bohrens herzustellen. Alternativ kann eine Laserbearbeitung verwendet werden, um die Durchgangsöffnung oder die Sackloch-Vertiefung herzustellen. Anschließend wird das elektrisch leitende Kontaktmaterial auf der Wandung der hergestellten Vertiefung / Durchgangsöffnung abgeschieden, insbesondere galvanisch, um so die elektrische Kontaktierung auszubilden. Different types of (through) contacts can be provided in the multilayer printed circuit board. These include, for example, through-hole contacts, in which a through-hole is formed through the circuit board body, the wall of which is provided with a coating of electrically conductive material to form the electrical contact. Alternatively or additionally, blind hole contacts can be provided, which are also referred to as “blind vias”. Here, a blind hole recess is formed and provided on the wall side with electrically conductive material in order to usually form a contact between one of the external conductor layers and an internal conductor section. Alternative techniques are known for producing the through hole or the blind hole recess. It can be provided that the through opening for the through contact or the recess for the blind hole contact is produced by means of (mechanical) drilling. Alternatively, laser machining can be used to produce the through hole or blind hole recess. The electrically conductive contact material is then deposited on the wall of the depression/through opening produced, in particular galvanically, in order to form the electrical contact.

ZusammenfassungSummary

[0004] Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte mit einer Sackloch-Kontaktierung sowie eine Mehrlagen-Leiterplatte anzugeben, mit denen das Herstellen der Sackloch-Kontaktierung in flexibler Ausgestaltung ermöglicht wird. The object of the invention is to provide a method for producing a multi-layer printed circuit board with a blind hole contact and a multi-layer printed circuit board with which the blind hole contact can be produced in a flexible design.

[0005] Zur Lösung sind ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte mit einer Sackloch-Kontaktierung sowie eine Mehrlagen-Leiterplatte nach den unabhängigen Ansprüchen 1 und 14 geschaffen. Ausgestaltungen sind Gegenstand von abhängigen Unteransprüchen. To solve this, a method for producing a multi-layer printed circuit board with a blind hole contact and a multi-layer printed circuit board according to independent claims 1 and 14 are created. Refinements are the subject of dependent subclaims.

[0006] Nach einem Aspekt ist ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte mit einer Sackloch-Kontaktierung geschaffen, welches Folgendes aufweist: Bereitstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte; Herstellen einer Sackloch-Vertiefung in der Mehrlagen-Leiterplatte im Bereich eines außenliegenden Leiterabschnitts bis hin zu einem innenliegenden Leiterabschnitt durch wenigstens eine Isolierlage hindurch und Abscheiden eines elektrisch leitenden Kontaktmaterials zum Ausbilden einer Sackloch-Kontaktierung in der Sackloch-Vertiefung, derart, dass das elektrisch leitende Kontaktmaterial Wandabschnitte der Sackloch-Vertiefung bedeckt und so eine elektrische Kontaktierung zwischen dem außenliegenden Leiterabschnitt und dem innenliegenden Leiterabschnitt ausgebildet wird. Die Sackloch-Vertiefung wird mittels eines mindestens zweistufigen Verfahrens hergestellt, bei dem in einem ersten Verfahrensschritt eine Sackloch-Bohrung mittels mechanischen Bohrens ausgebildet und in einem zweiten Verfahrensschritt die Sackloch-Bohrung zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung mittels Laserbearbeitung erweitert wird. According to one aspect, a method for producing a multilayer printed circuit board with a blind hole contact is provided, which comprises: providing a multilayer printed circuit board; Producing a blind hole recess in the multi-layer printed circuit board in the area of an external conductor section up to an internal conductor section through at least one insulating layer and depositing an electrically conductive contact material to form a blind hole contact in the blind hole recess, such that the electrically conductive Contact material covers wall sections of the blind hole recess and so an electrical contact is formed between the outer conductor section and the inner conductor section. The blind hole recess is produced using an at least two-stage process, in which in a first process step a blind hole is formed by means of mechanical drilling and in a second process step the blind hole is expanded to produce the blind hole recess using laser machining.

[0007] Nach einem weiteren Aspekt ist eine Mehrlagen-Leiterplatte geschaffen, die eine Sackloch-Kontaktierung aufweist, welche in einer Sackloch-Vertiefung als eine elektrische Kontaktierung zwischen einem außenliegenden Leiterabschnitt und einem innenliegenden Leiterabschnitt durch wenigstens eine Isolierlage hindurch ausgebildet ist, wobei die Sackloch-Vertiefung mit einem in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt proximalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt, welcher mit einer Sackloch-Bohrung ausgeführt ist, und einem in Bezug auf den außenliegende Leiterabschnitt distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt gebildet ist, welcher mit einer Laservia ausgeführt ist. According to a further aspect, a multi-layer printed circuit board is created which has a blind hole contact, which is formed in a blind hole recess as an electrical contact between an external conductor section and an internal conductor section through at least one insulating layer, wherein the blind hole -Recess is formed with a blind hole recess section which is proximal in relation to the outer conductor section and is designed with a blind hole, and a blind hole recess section which is distal in relation to the outer conductor section and which is designed with a laser via.

[0008] Die Vertiefung für die Sackloch-Kontaktierung („blind via“) wird in einem mehrstufigen Verfahren hergestellt, bei dem zunächst mittels mechanischen Bohrens eine Sackloch-Bohrung eingebracht wird, um anschließend mit Hilfe der Laserbearbeitung die Sackloch-Vertiefung in der gewünschten Form herzustellen, worauf dann das elektrisch leitende Kontaktmaterial auf den Wandabschnitten der Sackloch-Vertiefung abgeschieden werden kann, beispielsweise mittels eines galvanischen Abscheideverfahrens. In einem Ausführungsbeispiel wird als elektrisch leitendes Kontaktmaterial Kupfer verwendet. [0008] The recess for the blind hole contact (“blind via”) is produced in a multi-stage process in which a blind hole is first made using mechanical drilling and then the blind hole recess is created in the desired shape using laser processing to produce, whereupon the electrically conductive contact material can then be deposited on the wall sections of the blind hole recess, for example by means of a galvanic deposition process. In one embodiment, copper is used as the electrically conductive contact material.

[0009] Der außenliegende und der innenliegende Leiterabschnitt, die mit Hilfe der Sackloch-Kontaktierung elektrisch leitend miteinander verbunden werden, können Teil einer außenliegenden sowie einer innenliegenden Leiterschicht oder -lage sein, die mittels der wenigstens einen Isolierschicht elektrisch voneinander isoliert sind. The external and internal conductor sections, which are connected to one another in an electrically conductive manner using the blind hole contact, can be part of an external and an internal conductor layer or layer, which are electrically insulated from one another by means of the at least one insulating layer.

[0010] Das zunächst vorgesehene Herstellen der Sackloch-Bohrung mit Hilfe eines Bohrverfahrens und die anschließende Herstellung der Sackloch-Vertiefung, indem die Sackloch-Bohrung mittels Laserbearbeitung erweitert wird, ermöglicht ein flexibles und effizientes Ausbilden der gewünschten Sackloch-Vertiefung je nach gewünschter Anwendung. Es entsteht eine Sackloch-Vertiefung, die in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt einen proximalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt, hergestellt als Sackloch-Bohrung, sowie einen in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt aufweist. Der Sackloch-Vertiefungsabschnitt erstreckt sich bis hin zu dem innenliegenden Leiterabschnitt, welcher auch als „landing pad“ bezeichnet wird. Auf diese Weise kann insbesondere erreicht werden, die Sackloch-Vertiefung in Form und Größe so auszugestalten, dass die gewünschte Materialverteilung des elektrisch leitenden Kontaktmaterials beim anschließenden Abscheiden im Bereich der Wandabschnitte der Sackloch-Vertiefung unterstützt wird. The initially planned production of the blind hole using a drilling process and the subsequent production of the blind hole recess by expanding the blind hole using laser machining enables flexible and efficient formation of the desired blind hole depending on the desired application. A blind hole recess is created which, in relation to the external conductor section, has a proximal blind hole recess section, produced as a blind hole, and a blind hole recess section which is distal in relation to the external conductor section. The blind hole recess section extends to the inner conductor section, which is also referred to as the “landing pad”. In this way, it can be achieved in particular to design the shape and size of the blind hole recess in such a way that the desired material distribution of the electrically conductive contact material is supported during the subsequent deposition in the area of the wall sections of the blind hole recess.

[0011] Im zweiten Verfahrensschritt kann die Sackloch-Bohrung mittels Laserbearbeitung weiter vertieft werden. Hierbei wird die Sackloch-Bohrung mit einer ersten Lochtiefe hergestellt, die dann im weiteren Verfahrensschritt mittels Laserbearbeitung zu einer größeren zweiten Lochtiefe vergrößert wird, um die gewünschte Sackloch-Vertiefung auszubilden. In the second process step, the blind hole can be further deepened using laser processing. Here, the blind hole is produced with a first hole depth, which is then enlarged in the further process step by means of laser processing to a larger second hole depth in order to form the desired blind hole recess.

[0012] Die im ersten Verfahrensschritt ausgebildete Sackloch-Bohrung kann in der wenigstens einen Isolierlage beabstandet von dem innenliegenden Leiterabschnitt enden und im zweiten Verfahrensschritt mittels der Laserbearbeitung bis hin zu dem innenliegenden Leiterabschnitt erweitert werden. Um eine mögliche Beschädigung des innenliegenden Leiterabschnitts durch den Bohrvorgang zu vermeiden, endet die Sackloch-Bohrung hier innerhalb der Isolierlage, die über den innenliegenden Leiterabschnitt angeordnet ist. Mit Hilfe der Laserbearbeitung wird die Sackloch-Bohrung dann bis hin zu dem innenliegenden Leiterabschnitt zur gewünschten Sackloch-Vertiefung erweitert, insbesondere vertieft. The blind hole formed in the first process step can end in the at least one insulating layer at a distance from the inner conductor section and can be expanded in the second process step by means of laser processing up to the inner conductor section. In order to avoid possible damage to the internal conductor section due to the drilling process, the blind hole ends here within the insulating layer, which is arranged over the internal conductor section. With the help of laser processing, the blind hole is then expanded, in particular deepened, up to the inner conductor section to the desired blind hole recess.

[0013] Für die Sackloch-Vertiefung kann in dem ersten Verfahrensschritt ein in Bezug auf die außenliegende Leiterabschnitte proximaler Sackloch-Vertiefungsabschnitt mit einem ersten Querschnitt und in dem zweiten Verfahrensschritt ein in Bezug auf die außenliegende Leiterabschnitt distaler Sackloch-Vertiefungsabschnitt mit einem zweiten Querschnitt ausgebildet werden, welcher kleiner gleich dem ersten Querschnitt ist. Mit Hilfe der unterschiedlichen Querschnittsausbildung für den proximalen und den distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt kann zum Beispiel ein gewünschtes Aspekt-Verhältnis je nach Anwendungsfall eingestellt werden. Das Aspekt-Verhältnis (Aspekt-Ratio) für die Sackloch-Vertiefung bezeichnet das Verhältnis von Durchmesser (der Vertiefung) zu Tiefe (bzw. Höhe der Vertiefung). For the blind hole recess, in the first method step a blind hole recess section that is proximal with respect to the external conductor sections can be formed with a first cross section and in the second method step a blind hole recess section that is distal with respect to the external conductor section and has a second cross section can be formed , which is less than or equal to the first cross section. With the help of the different cross-sectional design for the proximal and distal blind hole recess sections, for example, a desired aspect ratio can be set depending on the application. The aspect ratio for the blind hole recess refers to the ratio of diameter (of the recess) to depth (or height of the recess).

[0014] Vor dem zweiten Verfahrensschritt kann die Sackloch-Bohrung in einem Messschritt mittels einer Messeinrichtung vermessen oder bestimmt werden, insbesondere die Lage der Sackloch-Bohrung im Bereich des außenliegenden Leiterabschnitts (x-y-Ebene) und / oder eines Lochquerschnitts, und die Laserbearbeitung kann innerhalb der Sackloch-Bohrung hinsichtlich der örtlichen Ausbildung der Erweiterung der Sackloch-Bohrung in Abhängigkeit vom Ergebnis des Messschritts ausgeführt werden. Mit Hilfe der Messeinrichtung wird die Sackloch-Bohrung vermessen oder eingemessen, worauf dann die Laserbearbeitungsvorrichtung in Bezug auf die Sackloch-Bohrung exakt positioniert werden kann, um die Laserbearbeitung innerhalb der Sackloch-Bohrung in gewünschter Art und Weise auszuführen, beispielsweise die Erweiterung (Vertiefung) der Sackloch-Bohrung in Bezug auf den Querschnitt der zuvor mittels Bohren hergestellte Sackloch-Bohrung in einem ausgewählten Querschnittbereich im Boden der Sackloch-Bohrung auszubilden. Die Messeinrichtung kann mit der Laserbearbeitungsvorrichtung integriert oder getrennt hiervon ausgebildet sein. Before the second method step, the blind hole can be measured or determined in a measuring step using a measuring device, in particular the position of the blind hole in the area of the external conductor section (xy plane) and / or a hole cross section, and the laser processing can within the blind hole with regard to the local formation of the expansion of the blind hole depending on the result of the measuring step. With the help of the measuring device, the blind hole is measured or calibrated, whereupon the laser processing device can then be positioned exactly in relation to the blind hole in order to carry out the laser processing within the blind hole in the desired manner, for example the expansion (recess) of the blind hole in relation to the cross section of the blind hole previously produced by drilling in a selected cross-sectional area in the bottom of the blind hole. The measuring device can be integrated with the laser processing device or designed separately from it.

[0015] Wahlweise kann in verschiedenen Ausführungsformen nach dem Herstellen der Sackloch-Bohrung ein Schritt zum Kontrollieren oder Prüfen der hergestellten Sackloch-Bohrung mit Hilfe einer Prüfeinrichtung durchgeführt werden, beispielsweise eine optische Prüfung, um das korrekte Ausbilden der Sackloch-Bohrung hinsichtlich Form und / oder Tiefe zu prüfen. Es kann vorgesehen sein, die anschließende Laserbearbeitung in Abhängigkeit vom Ergebnis der Prüfung auszuführen, beispielsweise die mittels Laserbearbeitung herzustellende Erweiterung / Vertiefung in Abhängigkeit vom Ergebnis der Prüfung der Sackloch-Bohrung einzustellen. Optionally, in various embodiments, after producing the blind hole, a step for checking or testing the blind hole produced can be carried out using a testing device, for example an optical test, in order to ensure that the blind hole is correctly formed in terms of shape and/or or depth to check. It can be provided to carry out the subsequent laser processing depending on the result of the test, for example to adjust the expansion/deepening to be produced by laser processing depending on the result of the test of the blind hole.

[0016] Die Erweiterung der Sackloch-Bohrung zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung kann mittels Laserbearbeitung im Wesentlichen mittig in Bezug auf den Querschnitt der Sackloch-Bohrung hergestellt werden. [0016] The expansion of the blind hole for producing the blind hole recess can be produced essentially centrally in relation to the cross section of the blind hole by means of laser machining.

[0017] Bei dem Verfahren kann eine Mehrlagen-Leiterplatte bereitgestellt werden, bei der der außenliegende Leiterabschnitt eine Schichtdicke von wenigstens etwa 15 µm aufweist, bevorzugt von wenigstens etwa 18 µm. In the method, a multi-layer printed circuit board can be provided in which the external conductor section has a layer thickness of at least approximately 15 μm, preferably at least approximately 18 μm.

[0018] Bei dem Verfahren kann eine Mehrlagen-Leiterplatte bereitgestellt werden, bei der nach dem Herstellen der Sackloch-Kontaktierung unterhalb des innenliegenden Leiterabschnitts im Bereich der Sackloch-Vertiefung eine Isolationsdicke kleiner als etwa 200 µm ist, bevorzugt kleiner als etwa 150 µm. In the method, a multi-layer printed circuit board can be provided in which, after the blind hole contact has been made, an insulation thickness below the internal conductor section in the area of the blind hole recess is less than approximately 200 μm, preferably less than approximately 150 μm.

[0019] Bei dem Verfahren kann eine Mehrlagen-Leiterplatte bereitgestellt werden, bei der ein Leiterplattenschichtabschnitt, welcher einerseits an die außenliegende Schicht und gegenüberliegend an den innenliegenden Leiterabschnitt grenzt und durch den hindurch die Sackloch-Vertiefung ausgebildet wird, eine Schichtdicke von wenigstens etwa 100 µm, bevorzugt von wenigstens etwa 125 µm und weiter bevorzugt von wenigstens etwa 150 µm aufweist. Der Leiterplattenschichtabschnitt kann als einer Isolierlage ausgeführt sein. In einer Ausgestaltung sind in das Isoliermaterial des Leiterplattenschichtabschnitts ein oder mehrere innenliegende Leiterabschnitte eingelagert. In the method, a multi-layer printed circuit board can be provided in which a printed circuit board layer section, which borders on the one hand on the outer layer and on the opposite side on the inner conductor section and through which the blind hole recess is formed, has a layer thickness of at least approximately 100 μm , preferably of at least about 125 μm and more preferably of at least about 150 μm. The circuit board layer section can be designed as an insulating layer. In one embodiment, one or more internal conductor sections are embedded in the insulating material of the circuit board layer section.

[0020] Die Sackloch-Vertiefung kann durch ein oder mehrere innenliegende Leiterabschnitte und mehrere Isolierlagen hindurch ausgebildet werden. Die Sackloch-Kontaktierung erstreckt sich hier durch ein oder mehrere innenliegende Leiterabschnitte hindurch bis zu dem zu kontaktierenden innenliegenden Leiterabschnitt sowie durch mehrere Isolierlagen. Es kommt dann zu einer Kontaktierung auch der durchbrochenen innenliegenden Leiterabschnitte. The blind hole recess can be formed through one or more internal conductor sections and several insulating layers. The blind hole contact extends here through one or more internal conductor sections to the internal conductor section to be contacted and through several insulating layers. Contact is then also made between the broken internal conductor sections.

[0021] Es kann vorgesehen sein, dass die Sackloch-Bohrung im ersten Verfahrensschritt durch mindestens einen ersten der mehreren innenliegenden Leiterabschnitte gebildet und im zweiten Verfahrensschritt zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung mittels der Laserbearbeitung durch mindestens einen zweiten der mehreren innenliegenden Leiterabschnitte hindurch erweitert wird. Bei der schrittweisen Ausbildung der Sackloch-Vertiefung durchbrechen bei diesem Ausführungsbeispiel sowohl das Bohren beim Herstellen der Sackloch-Bohrung wie auch die Laserbearbeitung beim Erweitern, insbesondere Vertiefen der Sackloch-Bohrung zur Sackloch-Vertiefung jeweils mindestens einen der innenliegenden Leiterabschnitte. [0021] It can be provided that the blind hole is formed in the first method step by at least a first of the plurality of internal conductor sections and in the second method step for producing the blind hole recess by means of laser processing is expanded through at least a second of the plurality of internal conductor sections. During the step-by-step formation of the blind hole, in this exemplary embodiment both the drilling when producing the blind hole and the laser processing when expanding, in particular deepening, the blind hole to the blind hole break through at least one of the inner conductor sections.

[0022] Die Wandabschnitte der Sackloch-Vertiefung können beim Abscheiden des elektrisch leitenden Kontaktmaterials im Wesentlichen vollständig von diesem bedeckt werden. The wall sections of the blind hole recess can be essentially completely covered by the electrically conductive contact material when it is deposited.

[0023] Die Sackloch-Vertiefung kann mit einem Aspekt-Verhältnis (Durchmesser: Höhe) von ≥ 1 : 1 hergestellt werden. The blind hole recess can be produced with an aspect ratio (diameter: height) of ≥ 1:1.

[0024] Die vorangehend im Zusammenhang mit dem Verfahren zum Herstellen der Mehrlagen-Leiterplatte mit Sackloch-Kontaktierung erläuterten Ausgestaltungen können in Verbindung mit der Mehrlagen-Leiterplatte entsprechend vorgesehen sein. The configurations explained above in connection with the method for producing the multilayer printed circuit board with blind hole contacting can be provided accordingly in connection with the multilayer printed circuit board.

Beschreibung von AusführungsbeispielenDescription of exemplary embodiments

[0025] Im Folgenden werden weitere Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf Figuren einer Zeichnung erläutert. Hierbei zeigen: Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Abschnitts einer Mehrlagen-Leiterplatte im Schnitt; Fig. 2 eine schematische Darstellung des Abschnitts der Mehrlagen-Leiterplatte aus Fig. 1, wobei eine Sackloch-Bohrung ausgebildet ist; Fig. 3 eine schematische Darstellung des Abschnitts der Mehrlagen-Leiterplatte aus Fig. 1, wobei die Sackloch-Bohrung mittels Laserbearbeitung zu einer Sackloch-Vertiefung erweitert ist; Fig. 4 eine schematische Darstellung des Abschnitts der Mehrlagen-Leiterplatte aus Fig. 1, wobei in der Sackloch-Vertiefung eine Sackloch-Kontaktierung zwischen einem außenliegenden und einem innenliegenden Leiterabschnitt ausgebildet ist; und Fig. 5 eine schematische Darstellung eines Abschnitts einer weiteren Mehrlage-Leiterplatte im Schnitt, bei der eine Sackloch-Durchkontaktierung durch eine innenliegende Leiterschicht hindurch gebildet ist.Further exemplary embodiments are explained below with reference to figures in a drawing. Here show: FIG. 1 a schematic representation of a section of a multi-layer printed circuit board in section; Fig. 2 is a schematic representation of the section of the multi-layer printed circuit board from Fig. 1, wherein a blind hole is formed; 3 shows a schematic representation of the section of the multi-layer printed circuit board from FIG. 1, wherein the blind hole is expanded into a blind hole recess by means of laser processing; 4 shows a schematic representation of the section of the multi-layer printed circuit board from FIG. 1, with a blind hole contact being formed in the blind hole recess between an external and an internal conductor section; and FIG. 5 shows a schematic representation in section of a section of a further multi-layer printed circuit board, in which a blind hole via is formed through an internal conductor layer.

[0026] Im Folgenden wird anhand der Fig. 1 bis 4 ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte mit einer Sackloch-Kontaktierung beschrieben. Dargestellt ist ein Abschnitt einer Mehrlagen-Leiterplatte 1 im Schnitt. Bei der Mehrlagen-Leiterplatte 1 sind auf der Oberseite und der Unterseite außenliegende Leiterabschnitte 2, 3 vorgesehen, die Teil außenliegender Leiterschichten oder -lagen sein können. Weiterhin weist ein Leiterplattenkörper 4 Isolierlagen oder -schichten 5 auf, in die ein innenliegender Leiterabschnitt 6 sowie ein weiterer innenliegender Leiterabschnitt 7 eingebettet sind. Der weitere innenliegende Leiterabschnitt 7 erstreckt sich bis in einen Bereich unterhalb des innenliegenden Leiterabschnitts 6 und ist von diesem mittels eines Isoliermaterialabschnitts 8 elektrisch isoliert. A method for producing a multi-layer printed circuit board with a blind hole contact is described below with reference to FIGS. 1 to 4. A section of a multi-layer printed circuit board 1 is shown in section. In the case of the multi-layer printed circuit board 1, external conductor sections 2, 3 are provided on the top and bottom, which can be part of external conductor layers or layers. Furthermore, a circuit board body 4 has insulating layers or layers 5, in which an internal conductor section 6 and a further internal conductor section 7 are embedded. The further internal conductor section 7 extends into an area below the internal conductor section 6 and is electrically insulated from it by means of an insulating material section 8.

[0027] Zum Herstellen einer Sackloch-Kontaktierung zwischen dem außenliegenden Leiterabschnitte 2 und dem innenliegenden Leiterabschnitt 6 wird gemäß Fig. 2 mit Hilfe einer Bohrvorrichtung 9 eine Sackloch-Bohrung 10 oberhalb des innenliegenden Leiterabschnitts 6 hergestellt. To produce a blind hole contact between the external conductor section 2 and the internal conductor section 6, a blind hole 10 is produced above the internal conductor section 6 using a drilling device 9, as shown in FIG.

[0028] Sodann ist gemäß Fig. 3 in einem weiteren Verfahrensschritt vorgesehen, die Sackloch-Bohrung 10 zu vertiefen, was mittels Laserbearbeitung unter Verwendung einer Laserbearbeitungsvorrichtung 11 ausgeführt wird, so dass eine Sackloch-Vertiefung 12 ausgebildet wird. Die Sackloch-Vertiefung 12 weist in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt 2 einen proximalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt 13 sowie einen distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt 14 auf, wobei letzterer als Laservia ausgebildet ist und sich bis zu dem innenliegenden Leiterabschnitt 6 hin erstreckt. Ein Durchmesser des proximalen Sackloch-Vertiefungsabschnitts 13 ist größer gleich dem Durchmesser des distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitts 14. 3, it is then provided in a further method step to deepen the blind hole 10, which is carried out by laser machining using a laser machining device 11, so that a blind hole recess 12 is formed. The blind hole recess 12 has, in relation to the outer conductor section 2, a proximal blind hole recess section 13 and a distal blind hole recess section 14, the latter being designed as a laser via and extending up to the inner conductor section 6. A diameter of the proximal blind hole recess section 13 is greater than or equal to the diameter of the distal blind hole recess section 14.

[0029] Es kann optional vorgesehen sein, die hergestellte Sackloch-Bohrung 10 vor der Laserbearbeitung mittels einer Messvorrichtung (nicht dargestellt) zu vermessen oder zu prüfen, zum Beispiel mittels einer optischen Messung. Das Ergebnis der Messung kann wahlweise verwendet werden, um die Laserbearbeitungsvorrichtung 11 relativ in Bezug auf die Sackloch-Bohrung 10 zu positionieren, beispielweise zum mittigen Herstellen des distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt 14 in der Sackloch-Bohrung 10. It can optionally be provided that the blind hole 10 produced is measured or checked before laser processing using a measuring device (not shown), for example by means of an optical measurement. The result of the measurement can optionally be used to position the laser processing device 11 relative to the blind hole 10, for example for centrally producing the distal blind hole recess section 14 in the blind hole 10.

[0030] Zum Ausbilden einer Sackloch-Kontaktierung 15 wird dann gemäß Fig. 4 mit Hilfe einer Abscheidungsvorrichtung 16 elektrisch leitendes Kontaktmaterial auf Wandabschnitten 17 der Sackloch-Vertiefung 12 abgeschieden. To form a blind hole contact 15, electrically conductive contact material is then deposited on wall sections 17 of the blind hole recess 12 using a deposition device 16 as shown in FIG.

[0031] Fig. 5 zeigt eine schematische Darstellung eines Abschnitts einer anderen Mehrlagen-Leiterplatte 20 mit der Sackloch-Kontaktierung 15, wobei diese im Unterschied zu den Ausführungsformen in den Fig. 1 bis 4 durch einen zusätzlichen innenliegenden Leiterabschnitt 21 hindurch ausgebildet ist. In Fig. 5 werden für gleiche Merkmale dieselben Bezugszeichen wie in den Fig. 1 bis 4 verwendet. 5 shows a schematic representation of a section of another multi-layer printed circuit board 20 with the blind hole contact 15, which, in contrast to the embodiments in FIGS. 1 to 4, is formed through an additional internal conductor section 21. In Fig. 5, the same reference numbers as in Figs. 1 to 4 are used for the same features.

[0032] Die in der vorstehenden Beschreibung, den Ansprüchen sowie der Zeichnung offenbarten Merkmale können sowohl einzeln als auch in beliebiger Kombination für die Verwirklichung der verschiedenen Ausführungen von Bedeutung sein. The features disclosed in the above description, the claims and the drawing can be important both individually and in any combination for the realization of the various designs.

Claims (14)

1. Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20) mit einer Sackloch-Kontaktierung (15), mit – Bereitstellen einer Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20); – Herstellen einer Sackloch-Vertiefung (12) in der Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20) im Bereich eines außenliegenden Leiterabschnitts (2) bis hin zu einem innenliegenden Leiterabschnitt (6) durch wenigstens eine Isolierlage hindurch und – Abscheiden eines elektrisch leitenden Kontaktmaterials zum Ausbilden einer Sackloch-Kontaktierung (15) in der Sackloch-Vertiefung (12), derart, dass das elektrisch leitende Kontaktmaterial Wandabschnitte der Sackloch-Vertiefung (12) bedeckt und so eine elektrische Kontaktierung zwischen dem außenliegenden Leiterabschnitt (2) und dem innenliegenden Leiterabschnitt (6) ausgebildet wird; wobei die Sackloch-Vertiefung (12) mittels eines mindestens zweistufigen Verfahrens hergestellt wird, bei dem in einem ersten Verfahrensschritt eine Sackloch-Bohrung (10) mittels mechanischen Bohrens ausgebildet und in einem zweiten Verfahrensschritt die Sackloch-Bohrung (10) zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung (12) mittels Laserbearbeitung erweitert wird.1. Method for producing a multi-layer printed circuit board (1; 20) with a blind hole contact (15), with - Providing a multi-layer printed circuit board (1; 20); - Producing a blind hole recess (12) in the multi-layer printed circuit board (1; 20) in the area of an external conductor section (2) up to an internal conductor section (6) through at least one insulating layer and - Depositing an electrically conductive contact material to form a blind hole contact (15) in the blind hole recess (12), such that the electrically conductive contact material covers wall sections of the blind hole recess (12) and thus creates electrical contact between the external conductor section ( 2) and the inner conductor section (6); wherein the blind hole recess (12) is produced by means of an at least two-stage process, in which in a first process step a blind hole (10) is formed by means of mechanical drilling and in a second process step the blind hole (10) is used to produce the blind hole. Deepening (12) is expanded using laser processing. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass im zweiten Verfahrensschritt die Sackloch-Bohrung (10) mittels Laserbearbeitung weiter vertieft wird.2. The method according to claim 1, characterized in that in the second process step the blind hole (10) is further deepened by means of laser processing. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die im ersten Verfahrensschritt ausgebildete Sackloch-Bohrung (10) – in der wenigstens einen Isolierlage beabstandet von den innenliegenden Leiterabschnitt (6) endet und – im zweiten Verfahrensschritt mittels der Laserbearbeitung bis hin zu dem innenliegenden Leiterabschnitt (6) erweitert wird.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the blind hole (10) formed in the first method step - ends in the at least one insulating layer spaced from the internal conductor section (6) and - In the second process step, using laser processing, it is expanded up to the inner conductor section (6). 4. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die Sackloch-Vertiefung (12) – in dem ersten Verfahrensschritt ein in Bezug auf die außenliegende Leiterabschnitt (2) proximaler Sackloch-Vertiefungsabschnitt (13) mit einem ersten Querschnitt und – in dem zweiten Verfahrensschritt ein in Bezug auf die außenliegende Leiterabschnitt distaler Sackloch-Vertiefungsabschnitt (14) mit einem zweiten Querschnitt ausgebildet werden, welcher kleiner gleich dem erstem Querschnitt ist.4. Method according to at least one of the preceding claims, characterized in that for the blind hole recess (12) - In the first method step, a blind hole recess section (13) which is proximal in relation to the external conductor section (2) and has a first cross section and - In the second method step, a blind hole recess section (14) distal with respect to the external conductor section is formed with a second cross section, which is less than or equal to the first cross section. 5. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem zweiten Verfahrensschritt die Sackloch-Bohrung (10) in einem Messschritt mittels einer Messeinrichtung vermessen wird und die Laserbearbeitung innerhalb der Sackloch-Bohrung (10) hinsichtlich der örtlichen Ausbildung der Erweiterung der Sackloch-Bohrung (10) in Abhängigkeit vom Ergebnis des Messschritts ausgeführt wird.5. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that before the second method step, the blind hole (10) is measured in a measuring step using a measuring device and the laser processing within the blind hole (10) with regard to the local formation of the expansion the blind hole (10) is carried out depending on the result of the measuring step. 6. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Erweiterung der Sackloch-Bohrung (10) zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung (12) mittels der Laserbearbeitung im Wesentlichen mittig in Bezug auf die Sackloch-Bohrung (10) hergestellt wird.6. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that the expansion of the blind hole (10) for producing the blind hole recess (12) is produced essentially centrally in relation to the blind hole (10) by means of laser processing . 7. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20) bereitgestellt wird, bei der der außenliegende Leiterabschnitt (2) eine Schichtdicke von wenigstens etwa 15 µm aufweist, bevorzugt von wenigstens etwa 18 µm.7. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that a multi-layer printed circuit board (1; 20) is provided, in which the external conductor section (2) has a layer thickness of at least approximately 15 µm, preferably of at least approximately 18 µm. 8. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20) bereitgestellt wird, bei der nach dem Herstellen der Sackloch-Kontaktierung (15) unterhalb des innenliegenden Leiterabschnitts (6) im Bereich der Sackloch-Vertiefung (12) eine Isolationsdicke kleiner als etwa 0,20 mm ist, bevorzugt kleiner als etwa 0,15 mm.8. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that a multi-layer printed circuit board (1; 20) is provided, in which, after the blind hole contact (15) has been made, below the internal conductor section (6) in the area of the blind hole Depression (12) has an insulation thickness smaller than about 0.20 mm, preferably smaller than about 0.15 mm. 9. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrlagen-Leiterplatte bereitgestellt wird, bei der ein Leiterplattenschichtabschnitt, welcher einerseits an die außenliegende Schicht (2) und gegenüberliegend an den innenliegenden Leiterabschnitt (6) grenzt und durch den hindurch die Sackloch-Vertiefung (12) ausgebildet wird, eine Schichtdicke von wenigstens etwa 100 µm, bevorzugt von wenigstens etwa 125 µm und weiter bevorzugt von wenigstens etwa 150 µm aufweist.9. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that a multi-layer printed circuit board is provided, in which a printed circuit board layer section which borders on the one hand on the outer layer (2) and on the opposite side on the inner conductor section (6) and through which the Blind hole recess (12) is formed, has a layer thickness of at least about 100 μm, preferably of at least about 125 μm and more preferably of at least about 150 μm. 10. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sackloch-Vertiefung (12) durch ein oder mehrere innenliegende Leiterabschnitte (21) und mehrere Isolierlagen hindurch ausgebildet wird.10. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that the blind hole recess (12) is formed through one or more internal conductor sections (21) and several insulating layers. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Sackloch-Bohrung (10) – im ersten Verfahrensschritt durch mindestens einen ersten der mehreren innenliegenden Leiterabschnitte gebildet und – im zweiten Verfahrensschritt zum Herstellen der Sackloch-Vertiefung (12) mittels der Laserbearbeitung durch mindestens einen zweiten der mehreren innenliegenden Leiterabschnitte hindurch erweitert wird.11. The method according to claim 10, characterized in that the blind hole (10) - formed in the first method step by at least a first of the several internal conductor sections and - In the second method step for producing the blind hole recess (12) is expanded by means of laser processing through at least a second of the plurality of internal conductor sections. 12. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wandabschnitte (17) der Sackloch-Vertiefung (12) beim Abscheiden des elektrisch leitenden Kontaktmaterials im Wesentlichen vollständig von diesem bedeckt werden.12. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that the wall sections (17) of the blind hole recess (12) are essentially completely covered by the electrically conductive contact material when it is deposited. 13. Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sackloch-Vertiefung (12) mit einem Aspekt-Verhältnis (Durchmesser: Höhe) von ≥ 1 : 1 hergestellt wird.13. The method according to at least one of the preceding claims, characterized in that the blind hole recess (12) is produced with an aspect ratio (diameter: height) of ≥ 1: 1. 14. Mehrlagen-Leiterplatte (1; 20), insbesondere hergestellt nach einem Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, aufweisend eine Sackloch-Kontaktierung (15), die in einer Sackloch-Vertiefung (12) als eine elektrische Kontaktierung zwischen einem außenliegenden Leiterabschnitt (2) und einem innenliegenden Leiterabschnitt (6) durch wenigstens eine Isolierlage hindurch ausgebildet ist, wobei die Sackloch-Vertiefung (12) mit – einem in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt (2) proximalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt (13), welcher mit einer Sackloch-Bohrung (10) ausgeführt ist, und – einem in Bezug auf den außenliegenden Leiterabschnitt (2) distalen Sackloch-Vertiefungsabschnitt (14) gebildet ist, welcher mit einer Laservia ausgeführt ist.14. Multi-layer printed circuit board (1; 20), in particular produced according to a method according to at least one of the preceding claims, having a blind hole contact (15) which is in a blind hole recess (12) as an electrical contact between an external conductor section ( 2) and an internal conductor section (6) is formed through at least one insulating layer, with the blind hole recess (12). - A blind hole recess section (13) which is proximal in relation to the external conductor section (2), and which is designed with a blind hole (10), and - A blind hole recess section (14) distal in relation to the external conductor section (2) is formed, which is designed with a laser via.
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