CH704152B1 - Échappement à détente et procédé de fabrication d'une détente. - Google Patents

Échappement à détente et procédé de fabrication d'une détente. Download PDF

Info

Publication number
CH704152B1
CH704152B1 CH00358/12A CH3582012A CH704152B1 CH 704152 B1 CH704152 B1 CH 704152B1 CH 00358/12 A CH00358/12 A CH 00358/12A CH 3582012 A CH3582012 A CH 3582012A CH 704152 B1 CH704152 B1 CH 704152B1
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
blade
support arm
spring
unidirectional
rest
Prior art date
Application number
CH00358/12A
Other languages
English (en)
Inventor
koda Masayuki
Niwa Takashi
Original Assignee
Seiko Instr Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instr Inc filed Critical Seiko Instr Inc
Publication of CH704152B1 publication Critical patent/CH704152B1/fr

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B15/00Escapements
    • G04B15/06Free escapements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Springs (AREA)

Abstract

Dans un échappement à détente (100), pour une pièce d’horlogerie une détente formée par une lame (130) inclut une pluralité de composants de lame, choisis parmi un ressort d’actionnement unidirectionnel (140), un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) et un bras de support de repos (131) portant le repos (132), la lame (130) comprenant au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel (140) et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133). Le ressort d’actionnement unidirectionnel (133) inclut une partie de contact (140G) pour coopérer avec la palette de dégagement (124) d’une roue d’échappement (110). Le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) détermine une position de la partie de contact (140G) qui se trouve à une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel (140). Au moins deux des composants de lame sont faits du même matériau, sont d’un seul tenant l’un avec l’autre et ont la même épaisseur.

Description

Description Domaine technique [0001] La présente invention concerne un échappement à détente et une pièce d’horlogerie mécanique dans laquelle cet échappement à détente est monté. Particulièrement, la présente invention concerne un échappement à détente qui est configuré pour permettre de diminuer le moment d’inertie de l’échappement en diminuant le nombre de composants formant l’échappement, et une pièce d’horlogerie mécanique sur laquelle le nouvel échappement à détente est monté. De plus, la présente invention concerne également un procédé de fabrication de l’échappement à détente. L‘art antérieur [0002] Dans l’art antérieur, un type connu d’échappement pour pièce d’horlogerie mécanique est «l’échappement à détente» (échappement de chronomètre). Constituant des formes de mécanisme représentatives de l’échappement à détente, conventionnellement, l’échappement à détente ressort et l’échappement à détente pivotée sont largement connus (par exemple, voir PTL 1 ci-dessous).
[0003] En se référant à la fig. 32, l’échappement à détente ressort conventionnel 800 inclut une roue d’échappement 810, un balancier 820, une détente 840, et un ressort de rappel 830 qui est conformé comme un ressort à lame. Une palette d’impulsion 812 est fixée à un simple plateau du balancier 820. Un repos (une palette de repos) 832 est fixé à la détente 840.
[0004] En se référant à la fig. 33, l’échappement à détente pivotée conventionnel 900 inclut une roue d’échappement 910, un balancier 920, une détente 930, et un ressort de rappel 940 qui est conformé comme un ressort en spirale. Une palette d’impulsion 912 est fixée à un simple plateau du balancier 920. Un repos 932 est fixé à la détente 930.
[0005] Contrairement à l’échappement à ancre suisse, qui est largement utilisé actuellement, un avantage commun aux deux types d’échappement décrits ci-dessus est que la perte de la force (couple de transmission) dans l’échappement peut être réduite, puisque la force est directement transmise de la roue d’échappement au balancier.
[0006] Le premier type d’échappement à détente conventionnel inclut une détente, un ressort en spirale, et un ressort à lame (par exemple, voir PTL 1 ci-dessous).
[0007] Le deuxième type d’échappement à détente conventionnel inclut un grand plateau (4), qui soutient un premier doigt (14), un bloqueur (6), qui soutient un deuxième doigt (11) et une palette de repos (7), et un petit plateau (23), qui effectue le contrôle de position du bloqueur (6). L’échappement à détente n’inclut pas de ressort de rappel (par exemple, voir PTL 2 ci-dessous).
[0008] Le troisième type d’échappement à détente conventionnel inclut une roue d’échappement (1), un balancier, une détente (11), qui soutient une palette de repos (21), et un grand plateau (5), qui est fixé au balancier. L’échappement à détente inclut un ressort spiral (12) dans lequel l’extrémité interne est intégrée à la détente (11) (par exemple, voir PTL 3 ci-dessous).
[0009] Le procédé conventionnel pour fabriquer des composants électroformés, tels qu’une fourchette d’ancre et la roue d’échappement, inclut un processus où on forme un trou de gravure sur un substrat ayant un masque, un processus où on insère une partie de tige inférieure, dont son extrémité, d’un composant en forme de tige dans le trou de gravure du substrat, et un processus où on effectue un électroformage par rapport au substrat auquel une partie du composant en forme de tige est insérée et forme une partie métallique d’électroformage, qui est intégrée au composant en forme de tige (par exemple, voir PTLs 4 à 7 ci-dessous).
Liste de citations [0010] Littérature brevets PTL 1: Brevet Suisse numéro CH 3 299 (pages 1 et 2, et les fig. 1 et 2) PTL 2: JP-A-2005-181 318 (pages 4 à 7 et les fig. 1 à 3) PTL 3: JP-T-2009-510 425 (pages 5 à 7 et la fig. 1) PTL 4: JP-A-2005-181 318 (abrégé, pages 7 et 8, et la fig. 1) PTL 5: JP-A-2006-169 620 (abrégé, pages 5 à 8, et la fig. 1) PTL 6: JP-A-2007-70 678 (abrégé, pages 5 à 9, et les fig. 1 et 2) PTL 7: JP-A-2007-70 709 (abrégé, pages 5 à 8, les fig. 1 et 2) Littérature non-brevet [0011] NPL 1: pages 39 à 47, «The Practical Watch Escapement», Premier Print Limited, 1994 (première édition), par George Daniel Résumé de l’invention [0012] Le problème technique [0013] Les problèmes suivants sont présents dans l’échappement à détente pivotée conventionnel et dans l’échappement à détente de ressort conventionnel.
[0014] Spécifiquement, puisqu’il y a plusieurs composants dans l’échappement à détente, une erreur est générée à l’assemblage de l’échappement à détente. Par conséquent, il y a comme problème que l’erreur peut générer une fluctuation de précision (fluctuations de la position du centre de gravité, amplitude, marche diurne, et similaire) du produit terminé de l’échappement à détente.
[0015] De plus, si le nombre des composants de l’échappement à détente est augmenté, le moment d’inertie de la lame du fait du poids des composants est augmenté, et il y a comme problème que l’erreur sur la marche diurne du fait de la différence de position de la pièce d’horlogerie ne peut pas être diminuée.
[0016] Par conséquent, la présente invention est conçue en tenant compte des problèmes décrits ci-dessus, et un but de celle-ci est de fournir un échappement à détente permettant de diminuer une erreur d’assemblage de l’échappement et le moment d’inertie de la lame, et un procédé de fabrication d’un tel échappement à détente.
Solution au problème [0017] Dans la présente invention, dans un échappement à détente pour une pièce d’horlogerie qui inclut une roue d’échappement, un balancier qui comporte une palette d’impulsion à même d’être entraînée par la roue d’échappement et une palette de dégagement, et une détente qui est formée par une lame et qui comporte une palette de repos (un repos) à même de stopper la roue d’échappement, la lame inclut une pluralité de composants de lame choisis parmi un ressort d’actionnement unidirectionnel, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel et un bras de support de repos portant le repos, la lame comprenant au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, le ressort d’actionnement unidirectionnel incluant une partie de contact pour coopérer avec la palette de dégagement, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel déterminant une position de la partie de contact qui se trouve à une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel. De plus, au moins deux des composants de lame sont faits du même matériau, sont d’un seul tenant l’un avec l’autre et ont la même épaisseur. Selon cette configuration, le nombre des composants qui forment l’échappement peut être réduit, et le moment d’inertie de l’échappement peut être diminué. De plus, selon cette configuration, un amincissement et une réduction de poids de l’échappement peuvent être obtenus.
[0018] Dans l’échappement à détente de la présente invention, les composants de lame peuvent être configurés pour comprendre en outre le bras de support de repos, ce bras de support de repos portant le repos.
[0019] Dans l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que la lame soit configurée pour être tournée dans deux directions qui incluent une direction dans laquelle le repos s’approche de la roue d’échappement et une direction dans laquelle le repos est déplacé à l’écart de la roue d’échappement, et une partie de ressort déformable du ressort d’actionnement unidirectionnel est arrangée entre le bras de support de repos et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel.
[0020] Dans l’échappement à détente de la présente invention, une surface du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel et une surface du ressort d’actionnement unidirectionnel peuvent être arrangées dans un plan perpendiculaire à l’axe de rotation de la roue d’échappement et l’axe de rotation du balancier. Selon cette configuration, un échappement à détente mince peut être obtenu.
[0021] Dans l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que le bras de support de repos soit positionné sur un côté opposé au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, par rapport à une ligne de référence connectant un centre de rotation du balancier et un centre de rotation de la lame. Selon cette configuration, la position du centre de gravité de la lame se trouve sur la ligne de référence ou la position du centre de gravité de la lame est près de la ligne de référence, et le balancier dans la position du centre de gravité de la lame peut être corrigé.
[0022] Dans l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que l’échappement à détente inclue un ressort de rappel qui applique, à la lame, une force qui tourne la lame dans la direction dans laquelle le repos s’approche de la roue d’échappement, et le ressort de rappel, le ressort d’actionnement unidirectionnel, le bras de support de repos, et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel sont d’un seul tenant les uns avec les autres. Selon cette configuration, le nombre des composants qui forment l’échappement peut être réduit.
[0023] Dans l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que le ressort de rappel soit formé sous forme de spirale dans une ouverture qui est prévue sur un côté opposé au bras de support de repos et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, par rapport à l’axe de rotation de la lame. Selon cette configuration, le nombre de composants qui forment l’échappement peut être réduit, et un échappement à détente petit et mince peut être obtenu.
[0024] Dans l’échappement à détente de la présente invention, un levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel, qui appuie la partie de contact du ressort d’actionnement unidirectionnel sur le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, peut être fixé à une surface de la lame ou à un arbre permettant le montage de manière rotative de la lame.
[0025] Dans l’échappement à détente de la présente invention, le repos est d’un seul tenant avec le bras de support de repos. Selon cette configuration, le nombre de composants qui forment l’échappement peut être réduit, et un échappement à détente mince peut être obtenu.
[0026] De plus, dans la présente invention, une pièce d’horlogerie mécanique est configurée pour inclure un ressort-moteur qui forme une source d’énergie de la pièce d’horlogerie mécanique, un rouage qui est entraîné en rotation par une force rotationnelle lorsque le ressort-moteur est remonté, et un échappement qui contrôle la rotation du rouage et qui est tel que défini précédemment. Selon cette configuration, il est possible d’obtenir une pièce d’horlogerie mécanique qui est mince et qui peut être facilement ajustée. De plus, dans la pièce d’horlogerie mécanique de la présente invention, puisque l’efficacité de transmission de la force de l’échappement est améliorée, le ressort-moteur peut être plus petit, ou une pièce d’horlogerie à grande réserve de marche peut être obtenue en utilisant un tambour de barillet de la même taille.
[0027] De plus, la présente invention a également pour objet un procédé de fabrication d’une détente, formée par une lame, d’un échappement à détente pour une pièce d’horlogerie qui inclut une roue d’échappement avec des dents, un balancier qui inclut une palette d’impulsion à même d’être entraînée par la roue d’échappement et une palette de dégagement, et la lame qui comporte un repos à même de stopper la roue d’échappement, la lame incluant des composants de lame choisis parmi ressort d’actionnement unidirectionnel, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnelle, et un bras de support de repos portant le repos, la lame comprenant au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, le ressort d’actionnement unidirectionnel incluant une partie de contact pour coopérer avec la palette de dégagement, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel déterminant une position de la partie de contact qui se trouve à une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel. Le procédé inclut une étape de formation de lame dans laquelle on forme simultanément au moins deux composants de lame parmi les composants de lame de la lame, de sorte qu’ils soient faits du même matériau, soient d’un seul tenant l’un avec l’autre et aient la même épaisseur.
[0028] Avantageusement, des étapes précèdent l’étape de formation de lame et comprennent la préparation d’un substrat et une étape de dépôt d’une couche conductrice sur le substrat et de dépôt d’un photorésistant sur la couche conductrice.
[0029] Dans le procédé de fabrication de l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que l’étape de formation de lame soit précédée par la préparation d’un substrat et par une étape de dépôt d’une couche conductrice sur le substrat et de dépôt d’un photorésistant sur la couche conductrice, et que l’étape de formation de lame inclue une sous-étape de formation de moule de lame dans laquelle une partie de la couche conductrice est découverte pour former un moule au moins pour les deux composants de lame, en effectuant une gravure d’une partie du photorésistant, ainsi qu’une sous-étape dans laquelle on forme simultanément au moins les deux composants de lame en utilisant la couche conductrice et le moule.
[0030] Dans le procédé de fabrication de l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que l’étape de formation de lame soit précédée par la préparation d’un substrat et par une étape de dépôt d’une couche conductrice sur le substrat et de dépôt d’un photorésistant sur la couche conductrice, et que l’étape de formation de lame inclut une sous-étape dans laquelle on forme un masque de gravure sur le photorésistant, une sous-étape dans laquelle on forme simultanément un moule au moins pour les deux composants de lame en enlevant par gravure une partie du photorésistant sur laquelle le masque de gravure n’est pas formé, ainsi qu’une sous-étape dans laquelle on forme simultanément au moins les deux composants de lame en utilisant la couche conductrice et le moule.
[0031 ] Dans le procédé de fabrication de la présente invention, il est préférable que, dans l’étape de formation de lame, on forme simultanément au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel de la lame.
[0032] Dans le procédé de fabrication de l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que, en même temps que le ressort d’actionnement unidirectionnel et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, on forme en outre un bras de support de repos qui porte le repos et qui fait partie des composants de lame.
[0033] Dans le procédé de fabrication de l’échappement à détente de la présente invention, il est préférable que, dans l’étape de formation de lame, on forme simultanément le ressort d’actionnement unidirectionnel, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, et le bras de support de repos en utilisant la couche conductrice et le moule. En appliquant le procédé de fabrication, il est possible de fabriquer efficacement l’échappement à détente avec la possibilité de réduire l’erreur d’assemblage de l’échappement et le moment d’inertie de la lame.
Effets avantageux de l’invention [0034] L’échappement à détente conventionnel adopte une structure dans laquelle on fixe le ressort d’actionnement unidirectionnel à la lame après avoir fabriqué le ressort d’actionnement unidirectionnel séparément de la lame. Dans l’échappement à détente de la présente invention, le ressort d’actionnement unidirectionnel est d’un seul tenant avec le bras de support de repos de la lame et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel. Par conséquent, dans l’échappement à détente de la présente invention, le nombre des composants formant l’échappement est diminué, et la partie assemblée de chaque composant formant la lame est éliminée. Ainsi, une diminution du moment d’inertie de la lame entière peut être obtenue, et il est possible de diminuer l’erreur sur la marche diurne (différence de position) due à la différence de position de la pièce d’horlogerie qui est générée par l’erreur sur la position du centre de gravité générée par l’erreur d’assemblage de la lame. De plus, il est possible d’accomplir une miniaturisation et un amincissement du mouvement d’horlogerie qui reçoit l’échappement à détente ayant la lame permettant de diminuer les fluctuations sur l’erreur d’échappement entre exemplaires par le biais d’une diminution des fluctuations de la position du centre de gravité entre exemplaires au moyen de la fabrication d’un seul tenant.
[0035] De plus, dans une structure préférée de l’échappement à détente de la présente invention, le ressort de rappel est d’un seul tenant avec le bras de support de repos de la lame, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, et le ressort d’actionnement unidirectionnel. Selon cette configuration, le nombre des composants formant l’échappement est réduit, et la partie d’assemblage de chaque composant formant la lame est éliminée. Ainsi, une diminution du moment d’inertie de la lame entière peut être obtenue, et il est possible de diminuer l’erreur sur la marche diurne due à une différence de position de la pièce d’horlogerie (différence de position) qui est générée par l’erreur sur la position du centre de gravité générée par l’erreur d’assemblage de la lame. De plus, il est possible d’accomplir une miniaturisation et un amincissement du mouvement d’horlogerie qui reçoit l’échappement à détente ayant la lame permettant de diminuer les fluctuations sur l’erreur d’échappement entre exemplaires au moyen d’une diminution des fluctuations de la position du centre de gravité entre exemplaires par le biais de la fabrication d’un seul tenant.
[0036] Dans l’échappement à détente conventionnel, puisque la position du centre de gravité ne se trouve pas dans la proximité de l’axe de lame, lorsque la roue d’échappement est libérée, la position dans laquelle la roue d’échappement est facilement libérée et la position dans laquelle la roue d’échappement est difficilement libérée sont générées en raison de l’influence de la gravité. De plus, similairement, la position dans laquelle la lame est facilement retournée à la position originale et la position dans laquelle la lame est difficilement retournée à la position originale sont générées. De cette manière, lorsque le balancier libère la lame, une erreur dans la perte d’énergie du balancier est générée en raison de la différence de position, et par conséquent, une erreur d’isochronisme du fait de la différence de position est générée. En revanche, dans l’échappement à détente de la présente invention, puisqu’un équilibre entre le bras de support de repos et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel est atteint, il est possible d’arranger la position du centre de gravité de la lame dans la proximité de l’axe de lame (axe de rotation de la lame). Ainsi, il est possible de diminuer l’influence sur l’isochronisme due à la différence de position dans la position verticale et de diminuer la différence de position.
Brève description des dessins [0037]
La fig. 1 est une vue en plan de face montrant une structure d’un échappement dans un mode de réalisa tion d’un échappement à détente de la présente invention.
La fig. 2 est une vue en plan arrière montrant la structure de l’échappement dans le mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 3 est une vue en perspective montrant la structure de l’échappement dans le mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 4 est une vue en perspective montrant une structure d’une lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 5 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 6 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 7 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 8 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 9 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 10 est une vue en perspective montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 11 est une vue en plan montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 12 est une vue en plan montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 13 est une vue en plan montrant la structure de la lame et une structure d’un ressort de rappel in cluant un mécanisme d’ajustement de pressage dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 14 est une vue en plan montrant la structure de la lame et la structure du ressort de rappel incluant le mécanisme d’ajustement de pressage dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 15 est une vue en plan montrant la structure de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 16 est une vue principale illustrant une première partie d’un procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 17 est une vue principale illustrant une deuxième partie du procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 18 est une vue principale illustrant un aperçu d’une étape d’électroformage du procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 19 est une vue en plan (la première) montrant un état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 20 est une vue en plan (la deuxième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 21 est une vue en plan (la troisième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 22 est une vue en plan (la quatrième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 23 est une vue en plan (la cinquième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 24 est une vue en plan (la sixième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 25 est une vue en plan (la septième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 26 est une vue en plan (la huitième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 27 est une vue en plan (la neuvième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention, (a) est une vue en plan entière, et (b) est une vue en plan élargie partielle.
La fig. 28 est une vue en plan (la dixième) montrant un autre état d’opération de l’échappement dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 29(a) est une vue en plan montrant la structure du mécanisme d’ajustement de pressage de la lame, et la fig. 29(b) est une vue en section transversale prise le long d’une ligne A-A de la fig. 29(a).
La fig. 30 est une vue en perspective montrant une structure d’un levier d’ajustement et une goupille d’un ressort d’actionnement unidirectionnel de la lame dans un mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 31 est une vue en plan montrant une structure d’aperçu, telle qu’un rouage ou un échappement lorsque vu depuis un côté fond de boîtier d’un mouvement dans un mode de réalisation d’une pièce d’horlogerie mécanique qui utilise l’échappement à détente de la présente invention.
La fig. 32 est une vue en perspective montrant la structure de l’échappement à détente ressort convention nel.
La fig. 33 est une vue en perspective montrant la structure de l’échappement à détente pivotée convention nel.
La fig. 34 est une vue principale (la première) illustrant une partie d’un deuxième procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 35 est une vue principale (la deuxième) illustrant une partie du deuxième procédé de fabrication de la lama de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 36 est une vue principale (la troisième) illustrant une partie du deuxième procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
La fig. 37 est une vue principale illustrant un procédé qui forme la lame dans un substrat selon un troisième processus de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
Les fig. 38 à 44 sont des vues principales illustrant chacune une partie du troisième procédé de fabrication de la lame de l’échappement à détente dans un mode de réalisation de la présente invention.
Description des modes de réalisation [0038] Ci-après, des modes de réalisation de la présente invention seront décrits en se basant sur les dessins annexés. En général, un sous-ensemble mécanique incluant une partie d’actionnement d’une pièce d’horlogerie est appelé «mouvement». Un état où un cadran et une aiguille sont montés sur le mouvement et insérés dans un boîtier de pièce d’horlogerie pour obtenir un produit terminé est appelé «état complet». Parmi les deux côtés d’une plaque principale qui forme une platine de la pièce d’horlogerie, le côté sur lequel une glace du boîtier de pièce d’horlogerie est arrangée, c’est-à-dire le côté sur lequel le cadran est arrangé, est appelé «côté arrière» du mouvement, «côté glace», ou «côté cadran». Parmi les deux côtés de la plaque principale, le côté sur lequel un fond du boîtier de pièce d’horlogerie est arrangé, c’est-à-dire le côté opposé au cadran, est appelé «côté avant» du mouvement ou «côté fond». Un train de roue qui est incorporé sur le «côté avant» du mouvement est appelé un «rouage». Un train de roue qui est incorporé sur le «côté arrière» du mouvement est appelé «train de roue arrière».
[0039] (1) La configuration d’échappement à détente de la présente invention: [0040] En se référant aux fig. 1 à 3, l’échappement à détente 100 de la présente invention inclut une roue d’échappement 110, un balancier 120 qui inclut une palette d’impulsion 122 qui peut être entraînée par n’importe quelle dent 112 de la roue d’échappement 110 et une palette de dégagement 124, et une détente formée par une lame 130. Cette lame a un repos 132 incluant un plan de contact 132B qui peut stopper n’importe quelle dent 112 de la roue d’échappement 110.
[0041] La lame 130 inclut un bras de support de repos 131 qui soutient le repos 132, un ressort d’actionnement unidirectionnel 140 qui inclut une partie de contact pour coopérer avec la palette de dégagement 124, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 pour déterminer une position de la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140, et un ressort de rappel 150. Une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est fixée à la lame 130, et une extrémité du ressort de rappel 150 est fixée à la lame 130. Alternativement, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 et le ressort de rappel 150 sont d’un seul tenant avec la lame 130.
[0042] La lame 130 est agencée pour être tournée dans deux directions qui incluent une direction dans laquelle le repos 132 s’approche de la roue d’échappement 110 et une direction dans laquelle le repos 132 est déplacé à l’écart de la roue d’échappement 110. Un point de soutien 140B du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est arrangé à une position qui est positionnée sur un côté de libération par rapport au centre de rotation 130A de la lame 130. Une partie de ressort déformable 140D du ressort d’actionnement unidirectionnel est arrangée entre le bras de support de repos 131 et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133. Lorsqu’une ligne de référence 129, qui est une ligne connectant le centre de rotation 120A du balancier 120 et le centre de rotation 130A de la lame 130, est choisie comme référence, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est arrangé avec un angle de manière qu’une distance de l’extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel de la ligne de référence 129 soit augmentée, lorsque l’extrémité est séparée du centre de rotation 120A du balancier 120 sur un côté opposé au côté sur lequel la roue d’échappement 110 est présente.
[0043] Continue à la partie de contact 140G, une partie de la partie de ressort déformable 140D du ressort d’actionnement unidirectionnel est agencée afin d’avoir un angle DG par rapport à la ligne de référence 129 qui est la ligne connectant le centre de rotation 120A du balancier 120 et le centre de rotation 130A de la lame 130. L’angle DG est préférablement entre 5° et 45° et plus préférablement entre 5° à 30°.
[0044] Dans l’échappement à détente pivotée conventionnel et l’échappement à détente ressort conventionnel, le poids de l’échappement a tendance à être plus élevé. De plus, lorsqu’on obtient un agencement de l’échappement qui diminue la résistance du fait du ressort d’actionnement unidirectionnel et du fait de l’interférence d’intervalle avec l’oscillation libre, lorsque le balancier retourne, l’épaisseur totale de l’échappement sur la structure devient plus importante. De plus, puisque la lame est large dans l’échappement à détente ressort conventionnel, l’échappement à détente devient trop grand en hauteur et la position du centre de gravité a tendance à être penchée vers l’avant.
[0045] En revanche, dans l’échappement à détente de la présente invention, la surface inférieure (c’est-à-dire la surface du côté plaque principale) du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 et la surface inférieure (c’est-à-dire la surface du côté plaque principale) du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 sont configurées pour inclure une partie qui se trouve dans un plan perpendiculaire à l’axe de rotation 110A de la roue d’échappement 110 et l’axe de rotation du balancier 120. Selon cette configuration, un échappement à détente mince peut être obtenu.
[0046] Par exemple, il est préférable que le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 soit agencé comme un ressort à lame en un matériau élastique tel que nickel, bronze phosphoreux, ou acier inoxydable. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 inclut la partie de ressort déformable 140D et la partie de contact 140G. Il est préférable que la direction de l’épaisseur TB (direction de flexion) de la partie de ressort déformable 140D du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 soit une direction qui est perpendiculaire à l’axe de rotation 130A de la lame 130. Par exemple, il est préférable que l’épaisseur de direction latérale TB de la partie de ressort déformable 140D du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 soit formée pour être de 0.03 mm à 0.3 mm. Par exemple, il est préférable que l’épaisseur de direction verticale TS de la lame 130 soit formée pour être de 0.05 mm à 0.5 mm. La partie de ressort déformable 140D du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 peut être configurée de manière qu’un rapport TS/TB (rapport d’aspect) de l’épaisseur de direction verticale TS et l’épaisseur de direction latérale TB soit environ de 1 à 5.
[0047] Le ressort de rappel 150 est prévu sur la lame 130 pour appliquer, à la lame 130, une force qui tourne la lame 130 dans la direction dans laquelle le repos 132 s’approche de la roue d’échappement 110. Par exemple, il est préférable que le ressort de rappel 150 soit agencé comme un ressort en spirale en un matériau élastique tel que nickel, bronze phosphoreux, acier inoxydable, élinvar, ou co-élinvar. Alternativement, il est préférable que le ressort de rappel 150 soit agencé comme un ressort à lame ou un ressort à fil. Le bord périphérique extérieur du ressort de rappel 150, qui est agencé comme un ressort en spirale, est fixé à la lame 130. Alternativement, le ressort de rappel 150 configuré comme un ressort en spirale est d’un seul tenant avec la lame 130.
[0048] Par contre, dans l’échappement à détente divulgué dans PTL 2, le ressort de rappel n’existe pas, et le contrôle de position du bloqueur 6 est effectué par le petit plateau 23, le premier doigt d’actionnement 14, et le deuxième doigt d’actionnement 11. Comparé au contrôle en utilisant le ressort de rappel, dans l’échappement à détente conventionnel, l’intervalle (plage d’angle), qui entrave l’oscillation libre du balancier du fait du glissage par rapport à l’amplitude du balancier, est réglé pour être très grand. Par conséquent, il est considéré que cette configuration est désavantageuse concernant la précision de comptage du temps («timing accuracy») de la pièce d’horlogerie.
[0049] De plus, dans l’échappement à détente conventionnel, puisqu’il y a plusieurs composants, une erreur est générée à l’assemblage de l’échappement à détente, et un souci est que le produit terminé de l’échappement à détente peut subir l’influence de fluctuation de précision (fluctuations de la position du centre de gravité, amplitude, marche diurne, et similaire). En revanche, dans la présente invention, puisque le nombre des composants de l’échappement à détente peut être diminué, il est possible d’améliorer la précision de l’échappement à détente en tant que produit terminé.
[0050] Le ressort de rappel 150 configuré comme un ressort en spirale peut être arrangé dans une ouverture de la lame 130. Le bord périphérique intérieur du ressort de rappel 150 configuré comme un ressort en spirale est fixé à une goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 151. La goupille de fixation de ressort de rappel 151 est arrangée à une position capable d’appliquer, à la lame 130, une force qui tourne la lame 130 dans la direction dans laquelle le repos 132 s’approche de la roue d’échappement 110. Il est préférable que le ressort de rappel 150 soit arrangé pour être positionné sur le côté opposé au bras de support de repos 131 et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 par rapport au centre de rotation 130A de la lame 130.
[0051] En se référant à la fig. 29, la goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 151 pour ajuster la position initiale du ressort de rappel 150 est prévue pour être tournée par rapporté la plaque principale 170. La goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 151 inclut une partie d’arbre excentrique 151F, une partie de tête 151H, et une partie de fixation 151 K. La partie de fixation 151K est insérée pour être tournée dans un trou de fixation de la plaque principale 170. Par exemple, l’excentricité de la partie d’arbre excentrique 151F peut être réglée à environ 0.1 mm à 2 mm. Une rainure d’actionnement 151M est prévue dans la partie de tête 151H. En tournant la partie d’arbre excentrique 151F de la goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 151, l’extrémité intérieure du ressort de rappel 150 est agencée afin de déplacer en ayant en même temps l’axe de la partie de fixation 151K comme la référence.
[0052] En se référant aux fig. 1 à 3, le ressort de rappel 150 est agencé pour appliquer une force à la lame 130 dans le plan qui est perpendiculaire à l’axe de rotation 110A de la roue d’échappement. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 et le ressort de rappel 150 sont arrangés pour être positionnés dans la direction symétrique au centre de rotation 130A de la lame 130. La direction dans laquelle le ressort de rappel 150 applique la force à la lame 130 est agencée pour être la direction dans laquelle la partie pourvue du repos 132 de la lame 130 s’approche de la roue d’échappement 110.
[0053] Il est difficile d’ajuster l’échappement à détente pivotée conventionnel pour obtenir l’équilibre de la lame par le ressort de rappel en spirale du fait de l’excentricité selon l’erreur d’assemblage du ressort de rappel à spiral ou l’influence de l’excentricité du ressort de rappel en spirale lui-même. De plus, pour corriger la fluctuation de la position du centre de gravité qui est générée par l’erreur d’assemblage du ressort de rappel en spirale ou l’équilibre (position du centre de gravité) de la lame entière, il y a besoin de régler un compensateur de type à ajustement compte tenu de l’ajustement d’équilibre de la lame. Donc, la taille de l’échappement à détente devient grande.
[0054] De plus, dans l’échappement divulgué dans PTL 2, une retraite est générée deux fois pendant une réciprocité du balancier (pendant le temps où le balancier a oscillé deux fois dans une pièce d’horlogerie avec oscillation de 1 hertz). La retraite inverse la roue d’échappement, qui essaye de tourner dans la direction originale, en utilisant la force d’inertie du balancier, et par conséquent, la retraite cause des contraintes élevées appliquées au balancier.
[0055] En revanche, en adoptant la configuration dans la présente invention, puisque le ressort de rappel 150 applique toujours la force à la lame 130, la lame 130 peut être immédiatement retournée à la position initiale illustrée sur la fig. 1. Puisque la force, qui ramène vers la position initiale dans l’échappement à détente de la présente invention correspondant au «tirage» dans l’échappement à ancre suisse, est appliquée à la lame 130 par le ressort de rappel 150, comparé à l’échappement à détente conventionnel, l’échappement à détente de la présente invention est caractérisé par moins de sensibilité aux perturbations.
[0056] La roue d’échappement 110 inclut une denture d’échappement 109 et un arbre 111. La dent 112 est formée à une partie circonférentielle extérieure de la denture d’échappement 109. Par exemple, comme montré sur la fig. 1, 15 dents 112 sont formées dans la partie circonférentielle extérieure de la denture d’échappement 109. La roue d’échappement 110 est incorporée dans le mouvement pour tourner par rapport à la plaque principale 170 et un pont de train de roue (non-illustré). La partie d’arbre supérieure de l’arbre 111 est soutenue de manière rotative par le pont de train de roue (non-illustré). La partie d’arbre inférieure de l’arbre 111 est soutenue de manière rotative par la plaque principale 170.
[0057] Le balancier 120 inclut un axe de balancier 114, une roue 115, un simple plateau 116, et un spiral (non-illustré). La palette d’impulsion 122 est fixée au simple plateau 116. Le balancier 120 est incorporé dans le mouvement pour tourner par rapport à la plaque principale 170 et un pont de balancier (non-illustré). La partie d’arbre supérieure de l’axe de balancier 114 est soutenue de manière rotative par le pont de balancier (non-illustré). La partie d’arbre inférieure de l’axe de balancier 114 est soutenue de manière rotative par la plaque principale 170.
[0058] La lame 130 est incorporée dans le mouvement pour tourner par rapport à la plaque principale 170 et le pont de train de roue (non-illustré). Un arbre de lame 136 est fixé au centre de rotation 130A de la lame 130. La partie d’arbre supérieure de l’arbre de lame 136 est soutenue de manière rotative par le pont de train de roue (non-illustré). La partie d’arbre inférieure de l’arbre de lame 136 est soutenue de manière rotative par la plaque principale 170. Alternativement, la lame 130 peut être incorporée dans le mouvement pour tourner par rapport à la plaque principale 170 et le pont de lame (non-illustré). Dans cette configuration, la partie d’arbre supérieure de l’arbre de lame 136 est soutenue de manière rotative par le pont de lame (non-illustré). Une partie de maintien de ressort 130D est prévue dans l’extrémité du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 de la lame 130. La partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est arrangée pour venir en contact avec la partie de maintien de ressort 130D.
[0059] En se référant aux fig. 1 et 30, une goupille excentrique d’ajustement 161 pour ajuster la position initiale de la lame 130 est prévue pour être tournée vers la plaque principale 170. La goupille excentrique d’ajustement 161 inclut une partie d’arbre excentrique 161F, une partie de tête 161 H, et une partie de fixation 161K. La partie de fixation 161K est insérée pour être tournée dans le trou de fixation de la plaque principale 170. Par exemple, l’excentricité de la partie d’arbre excentrique 161F peut être réglée à environ 0.1 mm à 2 mm. Une rainure d’actionnement 161M est prévue dans la partie de tête 161 H. La partie d’arbre excentrique 161F de la goupille excentrique d’ajustement 161 est arrangée pour venir en contact avec la partie de surface extérieure du bras de support de repos 131 de la lame 130. En tournant la partie d’arbre excentrique 161F de la goupille excentrique d’ajustement 161, la position initiale de la lame 130 peut être facilement ajustée.
[0060] En se référant à la fig. 29, une goupille excentrique d’ajustement 162 pour ajuster la position initiale de la lame 130 peut être prévue pour être tournée vers la plaque principale 170. La goupille excentrique d’ajustement 162 inclut une partie d’arbre excentrique 162F, une partie de tête 162H, et une partie de fixation 162K. La partie de fixation 162K est insérée pour être tournée dans un trou de fixation de la plaque principale 170. Par exemple, l’excentricité de la partie d’arbre excentrique 162F peut être réglée à environ 0.1 mm à 2 mm. Une rainure d’actionnement 162M est prévue dans la partie de tête 162H. La partie d’arbre excentrique 162F de la goupille excentrique d’ajustement 162 peut être arrangée pour venir en contact avec la surface de côté de la partie de base du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 de la lame 130. En tournant la partie d’arbre excentrique 162F de la goupille excentrique d’ajustement 162, la position initiale de la lame 130 peut être facilement ajustée.
[0061] En se référant aux fig. 1,3, et 29, un levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel 141 pour appuyer la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 sur le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 est prévu dans la lame 130. Le levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel 141 inclut un corps de levier d’ajustement 142 et une goupille d’ajustement 143. Le corps de levier d’ajustement 142 peut être fixé à l’arbre de lame 136. La goupille d’ajustement 143 est fixée au corps de levier d’ajustement 142. La partie de surface latérale de la goupille d’ajustement 143 est agencée pour venir en contact avec la partie de surface de côté de la partie près du point de soutien du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 pour appuyer la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 sur le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133.
[0062] En se référant à la fig. 1, comme alternative, le corps de levier d’ajustement 142B (indiqué par une ligne virtuelle) peut être fixé à la lame 130 dans une position qui est différente de la position de l’arbre de lame 136. Le corps de levier d’ajustement 142 peut être fixé par une goupille à collerette ou similaire, ou peut être fixé par un ensemble de vis. Selon cette configuration, la force appuyant le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 peut être facilement ajustée par le levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel 141.
[0063] (2) La configuration de la lame [0064] (2-1) Premier type [0065] Comme décrit ci-dessus, en se référant à la fig. 3, une partie de corps principal 130H d’une lame de premier type 130 inclut le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 et le ressort de rappel 150 sont d’un seul tenant avec la lame 130. La partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est agencée de manière que l’angle DG par rapport à la ligne de référence 129 qui est la ligne connectant le centre de rotation 120A du balancier 120 et le centre de rotation 130 de la lame 130 soit de 5° à 45°. La surface inférieure (c’est-à-dire, la surface du côté plaque principale) du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 et la surface inférieure (c’est-à-dire, la surface du côté plaque principale) du ressort d’actionnement unidirectionnel 140 sont configurées pour être positionnées dans un plan. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est disposé à la position qui est plus près de la ligne de référence 129 que du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133.
[0066] Le bras de repos 131 est formé dans une forme qui inclut une ou plusieurs parties courbées pour être convexe lorsque vu depuis la ligne de référence 129. Le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 est formé dans une forme qui inclut une ou plusieurs parties courbées pour être convexe lorsque vu depuis la ligne de référence 129. C’est-à-dire, le bras de support de repos est agencé pour être courbé vers le côté opposé au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est formé dans une forme qui inclut une ou plusieurs parties courbées pour être convexe lorsque vu depuis la ligne de référence 129.
[0067] Le bord périphérique extérieur du ressort de rappel 150 qui est formé par un ressort en spirale est fixé à la lame 130. Le ressort de rappel 150 est formé dans l’ouverture qui est prévue sur une partie dans laquelle la partie de base du bras de support de repos 131 et la partie de base du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 sont intégrées l’une à l’autre. C’est-à-dire, le ressort de rappel est arrangé pour être positionné sur le côté opposé au bras de support de repos et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel par rapport au centre de rotation de la lame.
[0068] Il est préférable que la lame 130 soit formée de manière que l’épaisseur du bras de support de repos 131, l’épaisseur du ressort d’actionnement unidirectionnel 140, l’épaisseur du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et l’épaisseur du ressort de rappel 150 soient les mêmes. Il est préférable que la lame 130 soit formée de manière que le matériau pour former le bras de support de repos 131, le matériau pour former le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le matériau pour former le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le matériau pour former le ressort de rappel 150 soient les mêmes.
[0069] Dans l’échappement à détente conventionnel, en raison du fait que la position du centre de gravité de la lame n’est pas présente au point de soutien de la lame, une augmentation dans le moment d’inertie de la lame est générée, et un problème est que le retour à la position originale du ressort de rappel en spirale est retardé. De plus, en raison du fait que la position du centre de gravité de la lame n’est pas présente au point de soutien de la lame, lorsque l’échappement à détente à la position verticale, l’échappement à détente reçoit l’influence de la gravité, et la différence dans la libération de la lame et l’opération du retour de position originale du ressort de rappel en spirale est générée en raison de la différence de position. De cette manière, particulièrement, la différence dans l’erreur d’échappement est générée lorsque l’échappement a la position verticale, et il y a comme problème que la différence sur la marche diurne (différence de position) est grande.
[0070] En revanche, dans la présente invention, en adoptant la configuration décrite ci-dessus, la position du centre de gravité de la lame 130 peut être près du point de soutien de la lame 130, et le moment d’inertie de la lame 130 peut être diminué.
[0071] De plus, il est préférable que le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 soit agencé avec un angle de manière que la distance de l’extrémité du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel depuis la ligne de référence soit augmentée lorsque l’extrémité est séparée du centre de rotation du balancier sur le côté opposé au côté sur lequel la roue d’échappement 110 est présente par rapport à la ligne de référence. De plus, la forme entière du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 peut être formée de n’importe quelle manière. Toutefois, décrit ci-dessus, il est préférable que le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel ait des parties courbées. Du fait que le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 inclut les parties courbées, l’interférence entre le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 et le bras de support de repos 131 peut être évitée de manière fiable, la distance de l’extrémité du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 au point de soutien du ressort d’actionnement unidirectionnel peut être minimisée, et le moment d’inertie de la lame 130 peut être diminué.
[0072] De plus, il est préférable que le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 soit agencé de manière que la surface de section transversale de celui-là soit augmentée depuis l’extrémité vers la partie de base. De cette manière, puisque l’extrémité du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 est conique et le poids de l’extrémité est plus petit comparé à la partie de base, le moment d’inertie du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 peut être diminué. De plus, même si les contraintes sont concentrées dans la partie de base du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, puisque la partie de base du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 est formée pour être plus épaisse que l’extrémité de celui-là, il est possible d’empêcher que la partie de base du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel soit endommagée.
[0073] (2-2) Deuxième type [0074] En se référant à la fig. 4, un corps principal 130HB d’une lame de deuxième type 130B inclut un bras de support de repos 131 B, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150. L’épaisseur du bras de support de repos 131B est agencée pour être plus épaisse que l’épaisseur du ressort d’actionnement unidirectionnel 140. Dans la lame de deuxième type 130B, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée sur la ligne de référence 129, ou la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée pour être près de la ligne de référence 129.
[0075] (2-3) Troisième type [0076] En se référant à la fig. 5, une partie de corps principal 130HC d’une lame de troisième type 130C inclut le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133C, et le ressort de rappel 150. Une partie du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133C a du matériau enlevé. Dans l’exemple illustré, quatre parties de matériau enlevé 133C1 à 133C4 sont prévues dans le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133C. Le nombre des parties de matériau enlevé qui sont prévues dans le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133C peut être un ou plusieurs. Dans la lame de troisième type 130C, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée sur la ligne de référence 129, ou la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée pour être près de la ligne de référence 129. Selon la configuration, en ce qui concerne la lame, on peut épargner du poids, et le moment d’inertie de la lame peut être diminué.
[0077] (2-4) Quatrième type [0078] En se référant à la fig. 6, une partie de corps principal 130HD d’une lame de quatrième type 130D inclut un bras de support de repos 131D, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133D, et le ressort de rappel 150. Une partie du bras de support de repos 131D a du matériau enlevé, et une partie du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133D a du matériau enlevé. Dans l’exemple illustré, des parties de matériau enlevé 131D1 à 131D3 sont prévues à trois endroits sur le bras de support de repos 131 B, et des parties de matériau enlevé 133D1 à 133D4 sont prévues à quatre endroits sur le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133D. Le nombre des parties de matériau enlevé qui sont prévues dans le bras de support de repos 131B peut être un ou plusieurs. Le nombre des parties de matériau enlevé qui sont prévues dans le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133D peut être un ou plusieurs. Dans la lame de quatrième type 130D, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. En sélectionnant le nombre des parties de matériau enlevé prévues et la position dans laquelle la partie de matériau enlevé est prévue, la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée sur la ligne de référence 129, ou la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée pour être près de la ligne de référence 129. Selon la configuration, en ce qui concerne la lame, on peut épargner du poids, et le moment d’inertie de la lame peut être diminué. Comme décrit ci-dessus, dans la structure préférée de l’échappement à détente de la présente invention, au moins un côté d’une partie du bras de support de repos et une partie du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel peuvent être configurés pour avoir du matériau enlevé.
[0079] (2-5) Cinquième type [0080] En se référant à la fig. 7, une partie de corps principal 130HE de la lame de cinquième type 130E inclut un bras de support de repos 131E, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150. Un repos 132E est d’un seul tenant avec le bras de support de repos 131 E. Selon cette configuration, les processus de fabrication de la lame et du repos peuvent être réduits.
[0081] (2-6) Sixième type [0082] En se référant à la fig. 8, une partie de corps principal 130HF d’une lame de sixième type 130F inclut un bras de support de repos 131F, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150. La largeur du bras de support de repos 131F est agencée pour être plus large que la largeur du ressort d’actionnement unidirectionnel 140. Dans la lame de sixième type 130F, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée sur la ligne de référence 129, ou la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée pour être près de la ligne de référence 129.
[0083] (2-7) Septième type [0084] En se référant à la fig. 9, une partie de corps principal 130HF d’une lame de septième type 130F2 inclut un bras de support de repos 131F2, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150. Deux parties élargies 131F3 et 131F4 sont formées dans le bras de support de repos 131F2. Les largeurs des parties élargies 131F3 et 131F4 sont configurées pour être plus larges que la largeur du ressort d’actionnement unidirectionnel 140. Le nombre des parties élargies prévues peut être un ou plusieurs. Dans la lame de septième type 130F2, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée sur la ligne de référence 129, ou la position du centre de gravité de la lame peut être arrangée pour être près de la ligne de référence 129.
[0085] (2-8) Huitième type [0086] En se référant à la fig. 10, une partie de corps principal 130HG d’une lame de huitième type 130G inclut le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140G, un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133G, et le ressort de rappel 150. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 140G est agencé pour être d’une forme linéaire. Le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133G est agencé pour être d’une forme linéaire. Dans la lame de huitième type 130G, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, une caractéristique de flexibilité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140G peut être stabilisée.
[0087] (2-9) Neuvième type [0088] En se référant à la fig. 11, une partie de corps principal 130 HJ de la lame 130J d’un neuvième type inclut le bras de support de repos 131G et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133G. L’extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140G, qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HJ, est fixée dans une fente de la partie de corps principal 130HJ par un processus de soudage, tel que soudage au laser. L’extrémité extérieure du ressort de rappel 150 qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HJ est fixée sur la surface supérieure de la partie de corps principal 130HJ par un processus de soudage, tel que soudage au laser. Dans la lame de neuvième type 130G, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140G peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HJ. De plus, selon cette configuration, le ressort de rappel 150J peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HJ.
[0089] (2-10) Dixième type [0090] En se référant à la fig. 12, une partie de corps principal 130HK d’une lame 130K d’un dixième type inclut un bras de support de repos 131K et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133K. L’extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140K, qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HK, est fixée dans une fente de la partie de corps principal 130HK par un processus de matage («caulking»). L’extrémité extérieure du ressort de rappel 150K qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HK est fixée dans une fente de la partie de corps principal 130HK par un processus de matage. Dans la lame de dixième type 130K, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140K peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HK. De plus, selon cette configuration, le ressort de rappel 150K peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HK.
[0091] (2-11 ) Onzième type [0092] En se référant à la fig. 13, une partie de corps principal 130HM d’une lame 130M d’un onzième type inclut le bras de support de repos 131, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort d’actionnement unidirectionnel 140. La proximité de l’extrémité de la partie de ressort déformable du ressort de rappel 150M qui est séparément formée avec la partie de corps principal 130HM est arrangée pour appuyer sur la partie de corps principal 130HM. Le ressort de rappel 150M est fixé à la plaque principale 170. Dans la lame d’onzième type 130M, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrite ci-dessus. Selon cette configuration, le ressort de rappel 150K peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HK.
[0093] (2-12) Douzième type [0094] En se référant à la fig. 14, une lame 130N d’un douzième type inclut une partie de corps principal 130HN, le bras de support de repos 131, et un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133N. Le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133N est formé séparément de la partie de corps principal 130HN et le bras de support de repos 131. L’extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140N qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HN est arrangée entre la partie de corps principal 130HN et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133N, et est fixée à la partie de corps principal 130HN et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133N par deux vis horizontales 145N1 et 145N2. La proximité de l’extrémité de la partie de ressort déformable du ressort de rappel 150N qui est formée séparément avec la partie de corps principal 130HN est arrangée pour appuyer sur la partie de corps principal 130HN. Le ressort de rappel 150N est fixé à la plaque principale 170. Dans la lame de douzième type 130N, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140N peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité d’un matériau qui forme la partie de corps principal 130HN. De plus, selon cette configuration, le ressort de rappel 150N peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité d’un matériau qui forme la partie de corps principal 130HN.
[0095] (2-13) Treizième type [0096] En se référant à la fig. 15, une lame 130P d’un treizième type inclut une partie de corps principal 130HP, un bras de support de repos 131P, et un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133P. Le bras de support de repos 131P est formé séparément de la partie de corps principal 130HP. Le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133N est formé séparément de la partie de corps principal 130HP. L’extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel 140P qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HN est arrangée entre la partie de corps principal 130HP et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133P, et est fixée à la partie de corps principal 130HP et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133P par deux vis horizontales 145P1 et 145P2. La proximité de l’extrémité de la partie de ressort déformable du ressort de rappel 150N qui est formée séparément de la partie de corps principal 130HN est arrangée entre la partie de corps principal 130HP et le bras de support de repos 131 P, et est fixée à la partie de corps principal 130HP et au bras de support de repos 131P par deux vis horizontales 145P3 et 145P4. La partie de base de la partie de ressort déformable du ressort de rappel 150P est fixée à la plaque principale 170. Dans la lame de treizième type 130P, les autres configurations sont les mêmes que celles de la lame de premier type 130 décrites ci-dessus. Selon cette configuration, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140P peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HP. Selon cette configuration, le ressort de rappel 150P peut être formé d’un matériau ayant une caractéristique de flexibilité meilleure que la caractéristique de flexibilité du matériau qui forme la partie de corps principal 130HP.
[0097] (3) Le procédé de fabrication de la lame [0098] Ci-après, des exemples de procédé de fabrication de la lame seront décrits.
[0099] (3-1) Premier procédé de fabrication de la lame [0100] En se référant à la fig. 16(a), un substrat 420 qui est utilisé pour fabriquer un composant d’électroformage est préparé (processus 401). Le matériau configurant le substrat 420 inclut du silicium, verre, plastique, ou similaire. Considérant la précision de processus de la gravure, le silicium est préféré. Par exemple, il est préférable que le substrat 420 soit d’une taille standard qui est utilisée dans une fabrication de se mi-conducteur dans une plage de 2 pouces (environ 50 mm) à 8 pouces (environ 200 mm). Même si l’épaisseur du substrat 420 est différente selon la taille du substrat 420, par exemple, l’épaisseur du substrat 420 est de 300 pm à 625 pm dans un cas du substrat de silicium de 4 pouces.
[0101] En se référant à la fig. 16(b), un photorésistant est enduit sur la surface du substrat 420, des formes nécessaires sont découvertes sur le photorésistant revêtu, et le masque développé 422 est dessiné (processus 402). Le masque 422 peut être formé d’autres couches oxydées telle que le photorésistant ou Si02 et une couche métallique telle que aluminium ou chrome. Lorsque le masque, qui est agencé d’un matériau autre que le photorésistant, est utilisé, le masque peut être formé par gravure du matériau autre que le photorésistant en même temps ayant le photorésistant comme le masque. L’épaisseur du masque 422 est déterminée en sélectionnant le rapport et la profondeur de gravure au moment de gravure du substrat 420 et le masque 422. Par exemple, lorsque le rapport de sélection du substrat 420 et le masque 422 est 100 à 1, l’épaisseur du masque 422, qui est nécessaire par rapport à la profondeur de gravure de 100 pm du substrat 420, est 1 pm ou plus. Préférablement, l’épaisseur du masque est dans la plage de 1.5 pm à 10 pm.
[0102] En se référant à la fig. 16(c), le substrat 420 ayant le masque 422 est gravé par une DRIE («Deep RIE»), et un trou de gravure 420h est formé sur le substrat 420 (processus 403).
[0103] En se référant à la fig. 16(d), le masque 422 est enlevé de la surface du substrat 420 (processus 404). Alternativement, le masque 422 n’est pas enlevé, et une couche fine métallique est formée sur le masque 422 et une surface conductrice pour le processus d’électroformage est obtenue. Par exemple, la couche fine métallique qui est formée sur le masque 422 peut être configurée comme l’or, l’argent, le cuivre, le nickel, ou similaire. Dans ce procédé, en sélectionnant le matériau qui forme le masque 422, il est aussi possible d’utiliser le masque comme une couche sacrificielle lorsque le composant d’électroformage est enlevé de la surface du substrat 420. Comme le matériau qui peut être utilisé comme la couche sacrificielle, par exemple, il y a un matériau de résine qui est représenté par le photorésistant. Le photorésistant peut être facilement enlevé par un solvant organique, un acide nitrique fumant, ou similaire.
[0104] En se référant à la fig. 16(e), une couche conductrice 424 de métaux tels que l’or, l’argent, le cuivre, ou le nickel est déposée sur la surface du substrat 420 et sur la surface de fond du trou de gravure 420h, et la conduction de la surface du substrat 420 est obtenue (processus 405). Le dépôt de la couche conductrice métallique 424 peut être effectué par un procédé tel que pulvérisation cathodique, dépôt en phase vapeur, ou dépôt sans courant («electroless plating»).
Il est préférable que l’épaisseur de la couche conductrice métallique 424 soit dans une plage de plusieurs nm (couche discontinue) à plusieurs pm.
[0105] En se référant à la fig. 17(a), un composant en forme d’arbre 426 est préparé. Dans la lame de la présente invention, le composant en forme d’arbre est l’arbre de lame 136 et la goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 151. Comme matériau constitutif du composant en forme d’arbre 426, on peut utiliser un matériau non-conducteur tel que verre, céramique, ou plastique. Lorsque le composant en forme d’arbre 426 est en aluminium, il est préférable qu’une anodisation soit appliquée au composant en forme d’arbre 426. Lorsque le composant en forme d’arbre 426 est en métal, par exemple au carbone ou en acier inoxydable, il est préférable qu’une couche d’oxyde soit ajoutée au composant en forme d’arbre 426. Comme la couche d’oxyde est ajoutée, il y a une couche d’oxyde anodique ou Si02 du métal qui constitue le composant en forme d’arbre 426. Alternativement, lorsque le composant en forme d’arbre 426 est en métal, une résine synthétique telle que du Teflon (marque déposée) peut être déposée sur le composant en forme d’arbre 426. Comme matériau qui est enduit, en plus du Teflon (marque déposée), il y a des résines non-conductrices telles que la résine acrylique, la résine époxy, le polycarbonate, ou le polyimide. Alternativement, lorsque le composant en forme d’arbre 426 est en métal, le photorésistant est déposé sur une partie dans laquelle le métal d’électroformage du composant en forme d’arbre 426 n’est pas précipité, et la réserve peut être pelée après la fin du processus d’électroformage.
[0106] Le composant en forme d’arbre 426 inclut une partie d’arbre supérieure 426a, une partie d’arbre inférieure 426b, et une collerette 426f qui est positionnée entre la partie d’arbre supérieure 426a et la partie d’arbre inférieure 426b. Une partie de la partie d’arbre inférieure qui inclut l’extrémité de la partie d’arbre inférieure 426b du composant en forme d’arbre 426 est insérée dans le trou de gravure 420h du substrat 420 (processus 406). Dans cet état, la surface inférieure de la collerette 426f du composant en forme d’arbre 426 peut être arrangée pour être séparée de la couche conductrice 424. Le diamètre intérieur du trou de gravure 420h est déterminé pour recevoir la partie d’arbre inférieure 426b. Selon le procédé de la présente invention, l’opération peut être facilement effectuée comparé au cas où le composant en forme d’arbre 426 est inséré dans le composant de corps principal qui est divisé en plusieurs pièces. De plus, dans le procédé de la présente invention, puisque la position du trou de gravure 420h du substrat 420, dans lequel la partie d’arbre inférieure 426b du composant en forme d’arbre 426 est insérée, est déterminée à l’avance, il est possible d’automatiser le processus qui insère le composant en forme d’arbre 426. De plus, dans le procédé de la présente invention, par exemple, puisque le composant en forme d’arbre 426 est inséré dans une grande plaquette ayant un diamètre extérieur de 4 pouces (environ 100 mm) à 8 pouces (environ 200 mm), la solidité mécanique du composant dans lequel le composant en forme d’arbre 426 est inséré est grande, et il n’y a pas de souci que la partie puisse être endommagée.
[0107] En se référant à la fig. 17(b), la réserve ayant une couche épaisse est déposée sur le substrat 420, la réserve de couche épaisse déposée est exposée à la forme requise et est développée, et la réserve 428 pour former la forme externe est dessinée (processus 407). L’épaisseur de la réserve 428 pour former la forme externe est réglée pour être plus épaisse que l’épaisseur du corps principal du composant qui sera traité par l’électroformage. Il est préférable que l’épaisseur de la réserve 428 pour former la forme externe soit formée pour être plus épaisse que la surface supérieure de la collerette 426f du composant en forme d’arbre 426. Même si l’épaisseur de la réserve 428 pour former la forme externe est différente selon l’épaisseur du corps principal du composant qui sera traité par l’électroformage, il est préférable que l’épaisseur de la réserve soit dans une plage de 100 à plusieurs mm. Dans le procédé de la présente invention, le processus 407 peut être effectué après que le processus 406 soit effectué. Alternativement, en inversant l’ordre du processus ci-dessus, le processus 406 peut être effectué après que le processus 407 soit effectué.
[0108] En se référant à la fig. 17(c), le processus d’électroformage du substrat 420 dans lequel le composant en forme d’arbre 426 est inséré est effectué, et une partie de métal d’électroformage 430 est formée entre la réserve 428 pour former la forme externe et le composant en forme d’arbre 426 (processus 408).
[0109] Lorsqu’un composant mécanique est formé, par exemple, le métal d’électroformage, qui forme la partie de métal d’électroformage 430, peut être du chrome, du nickel, un acier, et un alliage contenant ces métaux, qui ont une dureté élevée, considérant le glissement dans le cas où on utilise des structures telles qu’un levier. De plus, la partie de métal d’électroformage 430 peut être formée de deux ou plusieurs types de métaux ou alliages ayant différentes caractéristiques dans lesquelles la surface intérieure de la structure est formée de chrome, nickel, acier, et alliages contenant ces métaux, qui ont une dureté élevée, et la surface extérieure de la structure est formée d’étain, zinc, et alliages contenant ces métaux, qui ont une dureté faible. De plus, dans la partie de métal d’électroformage, la surface extérieure et la surface intérieure de la structure peuvent être formées d’alliages ou similaires qui ont une composition de métal différente.
[0110] Il est préférable que la collerette 426f du composant en forme d’arbre 426 soit arrangée dans la partie de métal d’électroformage 430. En mettant la collerette 426f dans la partie de métal d’électroformage 430, la zone de contact entre le composant en forme d’arbre 426 et la partie de métal d’électroformage 430 peut être augmentée, le composant en forme d’arbre 426 peut être empêché de sortir de la partie de métal d’électroformage 430, et le composant en forme d’arbre 426 peut être efficacement empêché de tourner dans la partie de métal d’électroformage 430. C’est-à-dire, la collerette 426f est agencée pour être positionnée dans la partie de métal d’électroformage 430 qui est d’un seul tenant avec le composant en forme d’arbre 426, et est agencée pour avoir un profil de forme qui empêche le composant en forme d’arbre 426 de s’échapper, de tourner, ou similaire.
[0111] Ci -après, un processus spécifique d’électroformage sera décrit en se référant à la fig. 18. En se référant à la fig. 18(a), il est nécessaire de sélectionner une solution d’électroformage selon le matériau de métal qui sera électroformé. Par exemple, un bain au sulfamate, un bain de Watt, un bain au sulfate, et similaire sont utilisés dans le processus d’électroformage de nickel. Lorsque l’électroformage de nickel est effectué en utilisant le bain au sulfamate, une solution d’électroformage de bain au sulfamate 742 ayant du sel de sulfamate de nickel hydraté comme le composant principal est ajoutée dans un réservoir de traitement 740 pour le processus d’électroformage. Une électrode anodique 744, qui est formée du matériau de métal qui sera électroformé, est immergée dans le bain au sulfamate 742. Par exemple, l’électrode anodique 744 peut être configurée en préparant plusieurs billes formées du matériau de métal qui sera électroformé et en insérant les billes métalliques dans une corbeille de métal qui est formée de titane ou similaire. Un moule d’électroformage 748 qui va effectuer le processus d’électroformage est immergé dans le bain au sulfamate 742.
[0112] En se référant à la fig. 18(b), si le moule d’électroformage 748 est connecté à une cathode d’une source d’énergie 760 et l’électrode anodique 744 est connectée à une anode de la source d’énergie 760, le métal de l’électrode anodique 744 est ionisé, se déplace dans le bain au sulfamate, et est précipité sur une cavité 748f de type moule d’électroformage 748. Une valve (non-illustré) peut être connectée au réservoir de traitement 740 via une tuyauterie (non-illustrée). Un filtre pour filtrer est prévu dans la tuyauterie et peut filtrer le bain au sulfamate qui est déchargé du réservoir de traitement 740. Le bain au sulfamate filtré peut être retourné dans le réservoir de traitement 740 d’un tuyau d’injection (non-illustrée).
[0113] En se référant à la fig. 17(d), la réserve 428 pour former la forme extérieure est enlevée du substrat 420, et le composant d’électroformage 432 est démonté (processus 409). Le composant d’électroformage 432 inclut le composant en forme d’arbre 426 et la partie de métal d’électroformage 430 qui est intégrée au composant en forme d’arbre 426. Puisque la collerette 426f du composant en forme d’arbre 426 est arrangée dans la partie de métal d’électroformage 430, il n’est pas à craindre que le composant en forme d’arbre 426 puisse être séparé de la partie de métal d’électroformage 430.
[0114] De plus, comme une modification, seulement les parties de corps principal (bras de support de repos, ressort d’actionnement unidirectionnel, bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel, ressort de rappel) de la lame sont fabriquées par le processus d’électroformage, après, les composants en forme d’arbre (arbre de lame et goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel) peuvent être fixés selon le processus suivant. Si ce procédé est utilisé, il est possible de simplifier les processus d’électroformage.
[0115] Si le procédé de fabrication du composant d’électroformage est utilisé, il n’est pas nécessaire d’insérer d’autres composants dans la partie de métal d’électroformage qui est fabriquée par le processus d’électroformage, ou il n’est pas nécessaire d’attacher d’autres composants à la partie de métal d’électroformage par adhésion ou similaire. Par conséquent, en utilisant le procédé de fabrication du composant d’électroformage, un composant de métal et un autre composant de métal (arbre ou similaire) peuvent être intégralement électroformés l’un à l’autre, et un composant de métal et un composant non-conducteur (arbre ou similaire) sont intégralement électroformés l’un à l’autre. C’est-à-dire, en utilisant le procédé de fabrication du composant d’électroformage, puisque les deux composants de métal ou le composant de métal et le composant non-conducteur sont intégralement électroformés l’un à l’autre, le composant mécanique incluant une pluralité de composants peut être formé sans la préparation du processus postérieur. De plus, les contraintes intérieures qui sont générées dans le composant d’électroformage peuvent être ajustées en ajustant la condition d’exécution de Pélectroformage, et il est possible de fixer fermement le composant non-conducteur à la partie de métal d’électroformage sans endommager le composant d’électroformage en contrôlant la pression d’attachement du composant non-conducteur.
[0116] De plus, plusieurs profils de forme qui sont encastrés et projetés dans la direction radiale peuvent être prévus dans la partie de fixation du composant qui sera fixée à la partie de métal d’électroformage. Par exemple, comme le profil de forme qui est encastré et projeté dans la direction radiale, il peut y exister une collerette, une partie ondulée, une partie de vis mâle, une partie moletée, une partie de découpe arrondie, et une partie de rainure. Dans les profils de forme, qui sont encastrés et projetés dans la direction radiale et seront prévus dans le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage, respectivement, une ou une pluralité, ou une pluralité à laquelle certains types de profils de forme sont combinés sont prévues à la partie de fixation du composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage. Par conséquent, il est possible efficacement et de manière fiable d’empêcher que le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage puisse être extrait de la partie de métal d’électroformage, s’échapper de la partie de métal d’électroformage, et glisser par rapport à la partie de métal d’électroformage. C’est-à-dire, en arrangeant le profil de forme qui est encastré et projeté dans la direction radiale dans la partie de métal d’électroformage, la zone de contact entre le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage et la partie de métal d’électroformage peut être augmentée. Par conséquent, on peut éviter que le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage sorte de la partie de métal d’électroformage, et on peut efficacement éviter que le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage tourne vers la partie de métal d’électroformage. C’est-à-dire, le profil de forme, qui est prévu dans le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage et est encastré et projeté dans la direction radiale, est agencé pour être arrangé dans la partie de métal d’électroformage qui est d’un seul tenant avec le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage. Par conséquent, le profil de forme est agencé pour empêcher que le composant s’extraie, le composant sera fixé à la partie de métal d’électroformage, que le composant qui sera fixé à la partie de métal d’électroformage tourne, et similaire.
[0117] (3-2) Deuxième procédé de fabrication pour la lame [0118] Dans le mode de réalisation de l’échappement à détente de la présente invention, le repos 132 peut être d’un seul tenant avec la lame 130. Selon le deuxième procédé de fabrication expliqué ci-dessous, le repos 132 peut être d’un seul tenant avec la lame 130 à travers le processus d’électroformage.
[0119] En se référant à la fig. 34(a), un substrat 501, qui est utilisé pour fabriquer le composant d’électroformage, est préparé. Le matériau qui forme le substrat 501 inclut du silicium, verre, plastique, acier inoxydable, aluminium, ou similaire. Par exemple, la taille du substrat 501 est de 2 pouces (environ 50 mm) à 8 pouces (environ 200 mm). Par exemple, l’épaisseur du substrat 501 est de 300 pm à 625 pm dans un cas du substrat de silicium de 4 pouces.
[0120] Une couche conductrice 502 est déposée sur le substrat 501, et un photorésistant 503 est déposé sur la couche conductrice 502. Il est préférable que l’épaisseur de la couche conductrice 502 soit dans une plage d’une douzaine de nm à plusieurs pm. L’épaisseur du photo résistant 503 est dans une plage de plusieurs pm à plusieurs mm. Il est préférable que l’épaisseur du photorésistant 503 soit approximativement la même que l’épaisseur d’un premier étage (c’est-à-dire, un premier étage d’un moule d’électroformage 511) du composant d’électroformage qui est fabriqué. Une partie insoluble 503a et une partie soluble 503b sont formées en utilisant un masque photographique (non-illustré). Le matériau qui forme la couche conductrice 502 inclut or (Au), argent (Ag), nickel (Ni), cuivre (Cu), ou similaire. Le photo résistant 503 peut être de type négatif ou de type positif. Il est préférable que le photorésistant 503 utilise un photorésistant amplifié chimiquement qui est basé sur une résine d’époxy.
[0121] La couche conductrice 502 peut être formée par un procédé de pulvérisation cathodique («sputtering»), et peut être aussi formée par un procédé de dépôt physique en phase vapeur sous vide. Le procédé qui dépose le photorésistant 503 peut être un dépôt à la tournette, un revêtement par immersion, ou un revêtement par pulvérisation, et le photorésistant peut être formé en chevauchant une pluralité de couches photorésistantes de type feuille. Pour former la partie insoluble 503a et la partie soluble 503b, le photorésistant est exposé à la lumière ultraviolet à travers un masque photographique (non-illustré). Lorsque le photorésistant 503 est de type amplifié chimiquement, le photorésistant est soumis à un PEB («Post Exposure Bake») après avoir été exposé à la lumière ultraviolet.
[0122] En se référant à la fig. 34(b), ci-après, une couche métallique 505 est déposée sans développer le photorésistant 503. Il est préférable que l’épaisseur de la couche métallique 505 soit dans une plage de plusieurs nm à plusieurs pm. Le photorésistant 503 est de type positif, dans un cas d’un modèle dans lequel la partie insoluble 503a est irradiée par une exposition à la lumière au processus après le deuxième étage du moule d’électroformage 511, l’épaisseur de la couche métallique 505 est de plusieurs 10 nm ou plus, et il est préférable que la couche métallique ait une propriété de protection de lumière dans laquelle la partie insoluble 503a n’est pas irradiée par l’exposition à la lumière. Le matériau de la couche métallique 505 inclut or (Au), argent (Ag), nickel (Ni), cuivre (Cu), ou similaire. Le procédé qui dépose la couche métallique 505 peut être un procédé de dépôt physique en phase vapeur tel qu’un procédé de pulvérisation cathodique ou un procédé de dépôt physique en phase vapeur, ou un procédé mouillé tel que dépôt sans courant.
[0123] Ci-après, en se référant à la fig. 34(c), un photorésistant 506 est déposé sur la couche métallique 505, et une partie insoluble 506a et une partie soluble 506b sont formées. Il est préférable que l’épaisseur du photorésistant 506 soit dans la plage de plusieurs pm à plusieurs mm et est approximativement la même que l’épaisseur de deuxième étage (c’est-à-dire, un deuxième étage d’un moule d’électroformage 511) du composant d’électroformage qui est fabriqué. Le photorésistant 506 peut être de type négatif ou de type positif. Il est préférable que le photorésistant 506 utilise un photorésistant amplifié chimiquement qui est basé sur une résine d’époxy. Le photorésistant 506 peut être le même que le photorésistant 503 ou peut être différent du photorésistant 503. Le procédé qui dépose le photorésistant 506 peut être un dépôt à la tournette, un revêtement par immersion, ou un revêtement par pulvérisation, et le photorésistant peut être formé en chevauchant une pluralité de couches photorésistantes de type de feuille. Pour former la partie insoluble 506a et la partie soluble 506b, le photorésistant est exposé à la lumière ultraviolet à travers un masque photographique (non-illustré). Lorsque le photorésistant 506 est de type amplifié chimiquement, le photorésistant est soumis à un PEB («Post Exposure Bake») après avoir été exposé à la lumière ultraviolet.
[0124] Ci-après, en se référant à la fig. 34(d), le substrat 501 est immergé dans une solution développante, et le photorésistant 503 et le photorésistant 506 sont développés. A ce moment, l’électrode 505 sur la partie soluble 503b est enlevée par un processus de retrait, l’électrode 505a sur la partie insoluble 503a reste, et le moule d’électroformage 511 peut être obtenu. Pour enlever la partie soluble 503b, la partie soluble 506b, et l’électrode 505 inutile, le développement peut être effectué en appliquant une vibration ultrasonique.
[0125] En se référant à la fig. 35, le réservoir d’électroformage est rempli avec une solution d’électroformage 522. Le moule d’électroformage 511 et l’électrode 523 sont immergés dans la solution d’électroformage 522. Lorsqu’un nickel est précipité, une solution aqueuse contenant un sel de sulfamate de nickel hydraté est utilisée comme la solution d’électroformage 522. Lorsque le nickel est précipité, le matériau de l’électrode 523 est le nickel. La couche conductrice 502 du moule d’électroformage 511 est connectée à une source d’énergie 525. Des électrons sont fournis à travers la couche conductrice 502 selon la tension de la source d’énergie 525, et un métal est précipité de la couche conductrice 502. Le métal précipité est agrandi dans la direction d’épaisseur du substrat 501.
[0126] En se référant à la fig. 36(a), un matériau électroformé 530a est précipité de la couche conductrice 502. A ce moment, puisque le courant ne s’écoule pas à l’électrode 505a, le matériau électroformé 530a n’est pas précipité sur l’électrode 505a.
[0127] En se référant à la fig. 36(b), puisque le courant ne s’écoule pas à l’électrode 505a, le matériau électroformé 530a n’est pas précipité sur l’électrode 505a. Si l’électrode 505a et le matériau électroformé 530a entrent en contact, le courant s’écoule vers l’électrode 505a, et le matériau électroformé 530a est précipité sur l’électrode 505a.
[0128] En se référant à la fig. 36(c), une fois que le matériau électroformé 530a est précipité sur l’électrode 505a jusqu’à une épaisseur désirée, l’épaisseur du matériau électroformé 530a est alignée par un processus de meulage. Dans le processus d’électroformage, lorsque l’épaisseur du matériau électroformé 530a peut être contrôlée, le processus de meulage peut ne pas être effectué.
[0129] En se référant à la fig. 36(d), un composant d’électroformage 530 est obtenu en extrayant le matériau électroformé 530a du moule d’électroformage 511. Le processus qui extrait le matériau électroformé 530a du moule d’électroformage 511 peut être effectué en dissolvant la partie insoluble 503a et la partie insoluble 506a avec un solvant organique, ou en appliquant une force de séparation du substrat 501, au matériau électroformé 530a, et en pelant physiquement le matériau électroformé 530a du substrat 501. Lorsque la couche conductrice 502 et l’électrode 505a sont attachées au matériau électroformé 530a, la couche conductrice 502 et l’électrode 505a sont enlevées du matériau électroformé 530a par une gravure humide, meulage, ou similaire.
[0130] En adoptant le processus décrit ci-dessus, le repos 132 peut être formé au premier étage du moule d’électroformage 511 et une lame 130 peut être formée au deuxième étage du moule d’électroformage 511. C’est-à-dire, le repos 132 est formé au premier étage du moule d’électroformage 511, et le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150 peuvent être formés d’un seul tenant ensemble au deuxième étage du moule d’électroformage 511. Alternativement, le repos 132 est formé au premier étage du moule d’électroformage 511, et le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133 peuvent être formés d’un seul tenant ensemble au deuxième étage du moule d’électroformage 511. Selon le processus décrit ci-dessus, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 ayant un rapport d’aspect de 1 à 5 peut être d’un seul tenant avec la lame 130.
[0131] De plus, selon le procédé de fabrication décrit ci-dessus, au moins deux des éléments suivants: le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150 peuvent être simultanément formés, et tous les éléments décrits ci-dessus peuvent être formés non-simultanément.
[0132] (3-3) Troisième procédé de fabrication pour la lame (procédé de Bosch) [0133] Selon un troisième procédé de fabrication expliqué ci-dessous, au moins deux des éléments suivants: le bras de support de repos 131, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 133, et le ressort de rappel 150 peuvent être simultanément formés. En se référant à la fig. 37, une lame 630 peut être formée en utilisant un substrat 620 à travers le troisième processus de fabrication.
[0134] En se référant aux fig. 37 et 38, un photorésistant 611 est irradié par l’exposition à la lumière telle que des rayons ultraviolets ou des rayons X en utilisant un masque photographique (non-illustré) dans lequel des modèles d’un ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et d’un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 sont formés, et le photorésistant 611 de la partie dans laquelle le ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 sont présents est traité. De plus, la partie du photorésistant non-traitée 611 est enlevée, et le modèle de gravure est complété.
[0135] Sur la fig. 38, dans une partie d’une section transversale prise le long de la ligne Z-Z de la fig. 37, deux endroits de photorésistants 611 des positions correspondant au ressort de commande 640 et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 sont indiqués. Le ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 sont formés en effectuant la gravure en formant continûment un creux 615 dans une couche active 610b. Ci-après, le troisième processus de fabrication sera décrit en détail en se référant aux fig. 39 à 44.
[0136] La fig. 39 est une vue illustrant un premier processus de gravure Si. L’épaisseur de Si, qui est retirée en une fois par un processus de gravure Si, est réglée à T1. Ici, une partie concave 614 est formée entre des photorésistants 611 adjacents. De plus, la partie à laquelle le photorésistant 611 n’est pas présent et la surface de Si est découverte est gravée. Toutefois, une surface latérale 617 de la couche active 610b au-dessous du photorésistant 611 est aussi partiellement gravée en effectuant une gravure isotrope, et le creux 615 est formé. En contrôlant l’épaisseur T1 qui est gravée, un rayon R1 du creux 615 de la surface latérale 617, qui correspond au ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633, peut être de n’importe quelle taille. De cette manière, un creux 615 correspondant à une crête 626m est formé par un seul tour de gravure isotrope.
[0137] La fig. 40 est une vue dans laquelle une couche protectrice est formée. Une couche protectrice 619 est formée sur la première surface de gravure (partie concave 14) de manière que la couche active 610b au-dessous du photorésistant 611 ne soit pas coupée plus que l’état de la fig. 39 par une deuxième gravure. Par exemple, la couche protectrice 619 est formée de fluorocarbure ou similaire. Dans la couche protectrice 619, une couche est formée sur la surface Si à travers un procédé de CVD en utilisant gaz C4F8 ou similaire.
[0138] La fig. 41 est une vue dans laquelle seulement la couche protectrice 619 de la surface du fond 621 de la partie concave 614 est enlevée. La couche active 610b (surface Si) est découverte en laissant la couche protectrice 619 de la surface latérale (surface latérale 617) de la partie concave 614 et en enlevant seulement la couche protectrice 619 de la surface de fond 621. De cette manière, pour enlever seulement la couche protectrice 619 de la surface de fond 621, par exemple, si la gravure est effectuée en utilisant du gaz SF6, l’ion se heurte perpendiculairement par rapport à la couche protectrice 619 de la surface de fond 621, et seulement la couche protectrice 619 de la surface de fond 621 est enlevée à l’impact de l’ion.
[0139] La fig. 42 est une vue illustrant un deuxième processus de gravure de Si. Similairement à la fig. 39, la gravure de Si isotrope est effectuée. Ainsi, Si de la surface de fond 621 sur laquelle la couche protective 619 n’est pas formée est gravée de façon isotrope. Après, du processus illustré sur la fig. 40 au processus illustré sur la fig. 42 est effectué selon une manière prédéterminée.
[0140] La fig. 43 est une vue dans laquelle la gravure de Si, la formation de couche protective et la suppression de la couche protectrice de la surface de fond sont effectuées de manière répétée jusqu’à ce qu’on atteigne une couche BOX (surface de Si02) 610c. Le processus de gravure de Si illustré sur la fig. 39, le processus deformation de couche protective illustré sur la fig. 40, et le processus de suppression de la couche protectrice illustré sur la fig. 41 sont effectués de manière répétée jusqu’à ce qu’on atteigne une couche BOX 610c du substrat 610.
[0141] La fig. 44 est une vue dans laquelle la couche protectrice entière 619 est enlevée. La couche protectrice 619 est enlevée par une calcination au plasma («oxygen plasma ashing»). La couche protectrice 619 qui est formée sur la surface latérale 617 de la couche active 610b est enlevée. La partie dans laquelle la couche protectrice 619 est enlevée correspond au ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633.
[0142] Comme décrit ci-dessus, selon le troisième procédé de fabrication, le ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 peuvent être formés simultanément. C’est-à-dire, la lame qui est le composant de l’échappement à détente peut être efficacement fabriquée avec une précision élevée en appliquant le troisième procédé de fabrication.
[0143] (3-4) Quatrième procédé de fabrication pour la lame (processus de Cryo) [0144] Selon un quatrième procédé de fabrication expliqué ci-dessous, au moins deux des éléments suivants: un bras de support de repos 631, le ressort d’actionnement unidirectionnel 640, le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633, et le ressort de rappel 650 peuvent être simultanément formés.
[0145] Spécifiquement, d’abord, comme illustré sur la fig. 38 décrite ci-dessus, les photorésistants 611 des positions correspondant au ressort d’actionnement unidirectionnel 640 et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 633 sont formés dans une chambre. De plus, les photorésistants 611 sont irradiés avec un gaz de gravure incluant gaz de SF6 et 02 dans un état où la chambre est mise à une température très basse (par exemple, -193°).
[0146] De cette manière, la partie de la couche active 610b qui n’est pas revêtue avec le photo résistant 611 est gravée dans une forme d’une ligne (non-illustrée). C’est-à-dire, le creux 615 est formé de manière continue dans une forme ondulée dans la surface latérale de la partie de gravure de la couche active 610b dans le troisième procédé de fabrication décrit ci-dessus. Toutefois, dans le quatrième procédé de fabrication, la surface latérale de la partie de gravure dans la couche active 610b est formée dans une forme de ligne. En appliquant le quatrième procédé de fabrication, il est possible de fabriquer efficacement la lame qui est le composant de l’échappement à détente avec une précision élevée.
[0147] (4) L’opération de l’échappement à détente de la présente invention (4-1) Première opération [0148] En se référant à la fig. 19, le balancier 120 effectue une oscillation libre, et le simple plateau 116 est tourné dans une direction d’une flèche A1 (sens contraire des aiguilles d’une montre).
[0149] (4-2) Deuxième opération [0150] En se référant à la fig. 20, la palette de dégagement 124 qui est fixée au simple plateau 116 est tournée dans la direction de la flèche A1 (sens contraire des aiguilles d’une montre) et entre en contact avec la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140.
[0151] (4-3) Troisième opération [0152] En se référant à la fig. 21, la palette de dégagement 124 est tournée dans la direction de la flèche A1 (sens contraire des aiguilles d’une montre), le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est appuyé par la palette de dégagement 124, et la partie de maintien de ressort 130D est appuyée. De cette manière, la lame 130 est tournée dans une direction d’une flèche A2 (sens des aiguilles d’une montre). L’extrémité de la dent 112 de la roue d’échappement 110 glisse sur le plan de contact 132B du repos 132.
[0153] (4-4) Quatrième opération [0154] En se référant à la fig. 22, selon l’opération dans laquelle la lame 130 est tournée dans la direction de la flèche A2 (sens des aiguilles d’une montre), le bras de support de repos 131 de la lame 130 est déplacé à l’écart de la goupille excentrique d’ajustement 161.
[0155] (4-5) Cinquième opération [0156] En se référant à la fig. 23, la roue d’échappement 110 est tournée par le rouage qui est tourné par la force rotationnelle lorsque le ressort-moteur est remonté, et la roue d’échappement 110 est actionnée. En raison du fait que la roue d’échappement 110 est tournée dans une direction d’une flèche A4 (sens des aiguilles d’une montre), l’extrémité de la dent 112 de la roue d’échappement 110 entre en contact avec la palette d’impulsion 122 et transfère la force de rotation au balancier 120. Si le simple plateau 116 est tourné jusqu’à un angle prédéterminé dans la direction de la flèche A1 (sens contraire des aiguilles d’une montre), la palette de dégagement 124 est déplacée à l’écart de la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140.
[0157] (4-6) Sixième opération [0158] En se référant à la fig. 24, la lame 130 est tournée dans la direction de la flèche A3 (sens contraire des aiguilles d’une montre) par la force de ressort du ressort de rappel 150 et essaye de retourner à la position initiale. L’extrémité de la dent 112 de la roue d’échappement 110, qui entre en contact avec le plan de contact 132B du repos 132, est déviée du repos 132 (roue d’échappement 110 est libérée). La lame 130 est tournée dans la direction de la flèche A3 (sens contraire des aiguilles d’une montre) par la force de ressort du ressort de rappel 150, et le bras de support de repos 131 de la lame 130 est repoussé vers la goupille excentrique d’ajustement 161.
[0159] (4-7) Septième opération [0160] En se référant à la fig. 25, en raison du fait que le balancier 120 effectue une oscillation libre dans la direction de la flèche A1 (sens contraire des aiguilles d’une montre), l’extrémité de la prochaine dent 112 de la roue d’échappement 110 tombe au plan de contact 132B du repos 132. Le bras de support de repos 131 de la lame 130 entre en contact avec la goupille excentrique d’ajustement 161 par la force de ressort du ressort de rappel 150.
[0161] (4-8) Huitième opération [0162] En se référant à la fig. 26, le balancier 120 effectue une oscillation libre, et par conséquent, le simple plateau 116 est tourné dans une direction d’une flèche A5 (sens des aiguilles d’une montre).
[0163] (4-9) Neuvième opération [0164] En se référant à la fig. 27(a), la palette de dégagement 124 qui est fixée au simple plateau 116 est tournée dans la direction de la flèche A5 (sens des aiguilles d’une montre) et entre en contact avec la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140. La palette de dégagement 124 est tournée dans la direction de la flèche A5 (sens des aiguilles d’une montre), et le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est poussé par la palette de dégagement 124.
[0165] En se référant à la fig. 27(b), le ressort de lame 140 est à l’écart de la protubérance de maintien de ressort 130D de la lame 130. Par conséquent, seulement le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est poussé vers une direction d’une flèche A6 (sens contraire des aiguilles d’une montre) par la palette de dégagement 124 dans l’état où la lame 130 est immobile.
[0166] (4-10) Dixième opération [0167] En se référant à la fig. 28, si le simple plateau 116 est tourné jusqu’à un angle prédéterminé dans la direction de la flèche A5 (sens des aiguilles d’une montre), la palette de dégagement 124 est déplacée à l’écart de la partie de contact 140G du ressort d’actionnement unidirectionnel 140. De cette manière, le ressort d’actionnement unidirectionnel 140 est retourné à la position initiale, et le balancier 120 effectue une oscillation libre.
[0168] (4-11) La répétition de l’opération [0169] Ci-après, similairement, les opérations de l’état illustré sur la fig. 19 jusqu’à l’état illustré sur la fig. 28 sont répétées.
[0170] (5) Pièce d’horlogerie mécanique incluant échappement à détente de la présente invention [0171] De plus, dans la présente invention, une pièce d’horlogerie mécanique est agencée pour inclure un ressort-moteur qui forme une source d’énergie de la pièce d’horlogerie mécanique, un rouage qui est tourné par une force de rotation lorsque le ressort-moteur est remonté, et un échappement pour contrôler la rotation du rouage, dans laquelle l’échappement est agencé comme l’échappement à détente. Selon cette configuration, la pièce d’horlogerie mécanique, qui est mince et facilement ajustable, peut être obtenue. De plus, dans la pièce d’horlogerie mécanique de la présente invention, puisque l’efficacité de transmission de la force de l’échappement est améliorée, le ressort-moteur peut être plus petit, ou une pièce d’horlogerie à grande réserve de marche peut être obtenue en utilisant le tambour de barillet de la même taille.
[0172] En se référant à la fig. 31, dans la pièce d’horlogerie mécanique de la présente invention, un mouvement (corps mécanique incluant une partie de transmission de pièce d’horlogerie) 300 inclut la plaque principale 170 qui forme le support du mouvement. Une tige de remontage 310 est arrangée à la «direction de trois heures» du mouvement. La tige de remontage 110 est incorporée de manière rotative dans un trou de guidage de tige de remontage de la plaque principale 170. L’échappement à détente qui inclut le balancier 120, la roue d’échappement 110, et la lame 130 et le rouage qui inclut une deuxième roue & pignon 327, une troisième roue & pignon 326, une roue & pignon de centre 325, et un barillet de mouvement 320 sont arrangés sur le «côté avant» du mouvement 100. Un mécanisme de commutation (non-illustré) qui inclut une tirette, une bascule, et un support de bascule sont arrangés sur le «côté arrière» du mouvement 300. De plus, un pont de barillet (non-illustré) qui soutient de manière rotative la partie d’arbre supérieure du barillet de mouvement 320, un pont de train de roue (non-illustré) qui soutient de manière rotative la partie d’arbre supérieure de la troisième roue & pignon 326, la partie d’arbre supérieure de la deuxième roue & pignon 327, et la partie d’arbre supérieure de la roue d’échappement 110, un pont de lame (non-illustré) qui soutient de manière rotative la partie d’arbre supérieure de la lame 130, et un pont de balancier (non-illustré) qui soutient de manière rotative la partie supérieure du balancier 120 sont arrangés sur le «côté avant» du mouvement 300.
[0173] La roue & pignon de centre 325 est agencée pour être tournée par la rotation du barillet de mouvement 320. La roue & pignon de centre 325 inclut une roue de centre et un pignon de centre. Une roue de barillet de tambour est agencée pour être engagée avec le pignon de centre. La troisième roue & pignon 326 est agencée pour être tournée par la rotation de la roue & pignon de centre 325. La troisième roue & pignon 326 inclut une troisième roue et un troisième pignon. La deuxième roue & pignon 327 est agencée pour tourner une fois par minute par la rotation de la troisième roue & pignon 326. La deuxième roue & pignon 327 inclut une deuxième roue et un deuxième pignon. La troisième roue est agencée pour être engagée avec le deuxième pignon. Selon la rotation de la deuxième roue & pignon 327, la roue d’échappement 110 est agencée pour tourner en même temps qu’elle est contrôlée par la lame 130. La roue d’échappement 110 inclut une dent d’échappement et une goupille d’échappement. La deuxième roue est agencée pour être engagée avec la goupille d’échappement. La roue de minute 329 est agencée pour tourner selon la rotation du barillet de mouvement 320. Le barillet de mouvement 320, la roue & pignon de centre 325, la troisième roue & pignon 326, la deuxième roue & pignon 327, et la roue de minute 329 forment le rouage.
[0174] La roue de minute 340 est agencée pour être tournée en fonction de la rotation d’un pignon de mesure 329 qui est monté sur la roue & pignon de centre 325. Une roue de mesure (non-illustrée) est agencée pour être tournée en fonction de la rotation de la roue de minute 340. Selon la rotation de la roue & pignon de centre 325, la troisième roue & pignon 326 est agencée pour être tournée. Selon la rotation de la troisième roue & pignon 326, la deuxième roue & pignon 327 est agencée pour tourner une fois par minute. La roue de mesure est agencée pour tourner une fois par douze heures. Un mécanisme de glissement est prévu entre la roue & pignon de centre 325 et le pignon de mesure 329. La roue & pignon de centre 325 est agencée pour tourner une fois par heure.
[0175] Applicabilité industrielle [0176] Dans l’échappement à détente de la présente invention, le nombre des composants formant l’échappement est réduit, et la partie assemblée de chaque composant formant la lame est éliminée. Ainsi, la diminution du moment d’inertie de la lame entière peut être accomplie, et il est possible de diminuer l’erreur sur la marche diurne du fait de la différence dans la position de la pièce d’horlogerie (différence de position) qui est générée par l’erreur de la position du centre de gravité générée par l’erreur d’assemblage de la lame. De plus, il est possible d’accomplir la minimisation et l’amincissement du mouvement de pièce d’horlogerie qui loge l’échappement à détente ayant la lame capable de diminuer les fluctuations de l’erreur d’échappement entre des exemplaires en diminuant des fluctuations de la position du centre de gravité entre des exemplaires à travers la fabrication d’un seul tenant. Par conséquent, l’échappement à détente de la présente invention peut être largement appliqué à une montre-bracelet mécanique, un chronomètre de marine, une horloge mécanique, une pièce d’horlogerie murale mécanique, une grande pièce d’horlogerie mécanique, un échappement de tourbillon qui loge l’échappement à détente de la présente invention, une montre-bracelet ayant un tel échappement, ou similaire. Dans la pièce d’horlogerie mécanique dans laquelle l’échappement à détente de la présente invention est logé, le ressort-moteur peut être plus petit, ou une pièce d’horlogerie à grande réserve de marche peut être obtenue en utilisant le tambour de barillet de la même taille.
Liste de signes de référence [0177] 100: échappement à détente 110: roue d’échappement 120: balancier 122: palette d’impulsion 124: palette de dégagement 130: lame 131 : bras de support de repos

Claims (16)

132: repos 133: bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel 140: ressort d’actionnement unidirectionnel 141 : levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel 150: ressort de rappel 162: goupille excentrique d’ajustement de ressort de rappel 170: plaque principale 300: mouvement (corps mécanique) 320: barillet de mouvement 325: roue & pignon de centre 326: troisième roue & pignon 327: deuxième roue & pignon Revendications
1. Echappement à détente (100) pour une pièce d’horlogerie comprenant: une roue d’échappement (110) avec des dents; un balancier (120) qui comporte une palette d’impulsion (122) à même d’être entraînée par la roue d’échappement (110) et une palette de dégagement (124); et une détente qui est formée par une lame (130) et qui comporte un repos (132) à même de stopper la roue d’échappement (110), dans lequel la lame (130) inclut une pluralité de composants de lame choisis parmi un ressort d’actionnement unidirectionnel (140), un bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) et un bras de support de repos (131) portant le repos (132), la lame (130) comprenant au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel (140) et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133), le ressort d’actionnement unidirectionnel (140) incluant une partie de contact (140G) pour coopérer avec la palette de dégagement (124), le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) déterminant une position de la partie de contact (140G) qui se trouve à une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel (140), et dans lequel au moins deux des composants de lame sont faits du même matériau, sont d’un seul tenant l’un avec l’autre et ont la même épaisseur.
2. Echappement à détente selon la revendication 1, dans lequel les composants de lame comprennent en outre le bras de support de repos (131 ), ce bras de support de repos (131 ) portant le repos (132).
3. Echappement à détente selon la revendication 2, dans lequel le ressort d’actionnement unidirectionnel (140), le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133), et le bras de support de repos (131) sont faits du même matériau, sont d’un seul tenant les uns avec les autres et ont la même épaisseur.
4. Echappement à détente selon l’une des revendications 2 et 3, dans lequel la lame (130) est agencée pour être tournée dans deux directions qui incluent une direction dans laquelle le repos (132) s’approche de la roue d’échappement (110) et une direction dans laquelle le repos (132) est déplacé à l’écart de la roue d’échappement (110), et dans lequel une partie de ressort déformable (140D) du ressort d’actionnement unidirectionnel (140) est arrangée entre le bras de support de repos (131) et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133).
5. Echappement à détente selon la revendication 3, dans lequel une surface du bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) et une surface du ressort d’actionnement unidirectionnel (140) sont disposées dans un plan perpendiculaire à l’axe de rotation (11 OA) de la roue d’échappement (110) et l’axe de rotation du balancier (120).
6. Echappement à détente selon la revendication 3, dans lequel le bras de support de repos (131) est positionné sur un côté opposé au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133), par rapport à une ligne de référence (129) connectant un centre de rotation (120A) du balancier (120) et un centre de rotation (130A) de la lame (130).
7. Echappement à détente selon la revendication 3, comprenant en plus: un ressort de rappel (150) qui applique, à la lame (130), une force qui tourne la lame (130) dans la direction dans laquelle le repos (132) s’approche de la roue d’échappement (110), dans lequel le ressort de rappel (150), le ressort d’actionnement unidirectionnel (140), le bras de support de repos (131), et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) sont d’un seul tenant les uns avec les autres.
8. Echappement à détente selon la revendication 7, dans lequel le ressort de rappel (150) est formé en forme de spirale dans une ouverture qui est prévue sur un côté opposé au bras de support de repos (131) et au bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133), par rapport à l’axe de rotation de la lame (130).
9. Echappement à détente selon la revendication 3, dans lequel un levier d’ajustement de ressort d’actionnement unidirectionnel (141), qui appuie la partie de contact (140G) du ressort d’actionnement unidirectionnel (140) sur le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133), est fixé à une surface de la lame (130) ou à un arbre permettant le montage de manière rotative de la lame (130).
10. Echappement à détente selon la revendication 3, dans lequel le repos (132) est d’un seul tenant avec le bras de support de repos (131).
11. Pièce d’horlogerie mécanique comprenant: un ressort-moteur qui forme une source d’énergie de la pièce d’horlogerie mécanique; un rouage qui est entraîné en rotation par une force rotationnelle, lorsque le ressort-moteur est remonté; et un échappement à détente selon l’une des revendications 1 à 10 qui contrôle la rotation du rouage.
12. Procédé de fabrication d’une détente, formée par une lame (130), pour un échappement à détente (100) selon l’une des revendications 1 à 10, dans lequel la lame (130) comprend au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel (140) et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) parmi les composants de lame, le ressort d’actionnement unidirectionnel incluant une partie de contact (140G) pour coopérer avec la palette de dégagement (124), le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) déterminant une position de la partie de contact (140G) qui se trouve à une extrémité du ressort d’actionnement unidirectionnel (140), le procédé comprenant: une étape de formation de lame dans laquelle on forme simultanément au moins deux composants de lame parmi les composants de lame (131, 133, 140, 150) de la lame, de sorte qu’ils soient faits du même matériau, soient d’un seul tenant l’un avec l’autre et aient la même épaisseur.
13. Procédé selon la revendication 12, dans lequel l’étape de formation de lame est précédée par les étapes suivantes: - la préparation d’un substrat (420; 501); - une étape de dépôt d’une couche conductrice (424; 502) sur le substrat (420; 501) et de dépôt d’un photorésistant (428; 503) sur la couche conductrice (424; 502), et dans lequel l’étape de formation de lame inclut: - une sous-étape de formation de moule de lame, dans laquelle une partie de la couche conductrice est découverte pour former un moule au moins pour les deux composants de lame (131,133,140,150), par une gravure d’une partie du photorésistant; et - une sous-étape dans laquelle on forme simultanément au moins les deux composants de lame (131, 133,140, 150) en utilisant la couche conductrice et le moule.
14. Procédé selon la revendication 12, dans lequel l’étape de formation de lame est précédée par les étapes suivantes: - la préparation d’un substrat (420; 501); et - une étape de dépôt d’une couche conductrice (424; 502) sur le substrat (420; 501) et de dépôt d’un photorésistant (428; 503) sur la couche conductrice (424; 502) et dans lequel l’étape de formation de lame inclut: - une sous-étape dans laquelle on forme un masque de gravure sur le photorésistant; - une sous-étape dans laquelle on forme simultanément un moule au moins pour les deux composants de lame (131, 133, 140, 150) en enlevant par gravure une partie du photorésistant sur laquelle le masque de gravure n’est pas formé; et - une sous-étape dans laquelle on forme simultanément au moins les deux composants de lame (131, 133,140, 150) en utilisant la couche conductrice et le moule.
15. Procédé selon la revendication 12, dans l’étape de formation de lame duquel on forme simultanément au moins le ressort d’actionnement unidirectionnel (140) et le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) de la lame.
16. Procédé selon la revendication 15 et l’une des revendications 13 et 14, dans lequel les composants de lame incluent un bras de support de repos (131) qui porte le repos (132), et dans l’étape de formation de lame duquel on forme simultanément le ressort d’actionnement unidirectionnel (140), le bras de soutien de ressort d’actionnement unidirectionnel (133) et le bras de support de repos (131) en utilisant la couche conductrice et le moule.
CH00358/12A 2009-09-14 2010-08-31 Échappement à détente et procédé de fabrication d'une détente. CH704152B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009212201A JP5366318B2 (ja) 2009-09-14 2009-09-14 デテント脱進機およびデテント脱進機の作動レバーの製造方法
PCT/JP2010/064811 WO2011030695A1 (fr) 2009-09-14 2010-08-31 Echappement à détente et procédé de fabrication de l'échappement à détente

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH704152B1 true CH704152B1 (fr) 2017-04-28

Family

ID=43732369

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH00358/12A CH704152B1 (fr) 2009-09-14 2010-08-31 Échappement à détente et procédé de fabrication d'une détente.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8783943B2 (fr)
JP (1) JP5366318B2 (fr)
CN (1) CN102576212B (fr)
CH (1) CH704152B1 (fr)
WO (1) WO2011030695A1 (fr)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5729666B2 (ja) 2010-09-14 2015-06-03 セイコーインスツル株式会社 時計用デテント脱進機、および機械式時計
US9304493B2 (en) * 2012-03-29 2016-04-05 Nivarox-Far S.A. Flexible escapement mechanism having a balance with no roller
EP2706416B1 (fr) * 2012-09-07 2015-11-18 The Swatch Group Research and Development Ltd Ancre flexible à force constante
EP2767869A1 (fr) * 2013-02-13 2014-08-20 Nivarox-FAR S.A. Procédé de fabrication d'une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts
JP6296491B2 (ja) * 2013-03-14 2018-03-20 セイコーインスツル株式会社 金属構造体、金属構造体の製造方法、ばね部品、時計用発停レバーおよび時計
JP6210535B2 (ja) * 2013-07-25 2017-10-11 セイコーインスツル株式会社 脱進機、時計用ムーブメントおよび時計
JP6661543B2 (ja) * 2014-01-13 2020-03-11 エコール・ポリテクニーク・フェデラル・ドゥ・ローザンヌ (ウ・ペ・エフ・エル)Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) 脱進機のない、または簡易脱進機を有する一般2自由度等方性調和振動子および関連するタイムベース
CH710759A2 (fr) * 2015-02-20 2016-08-31 Nivarox Far Sa Oscillateur pour une pièce d'horlogerie.
EP3602196B1 (fr) * 2017-03-24 2024-01-03 Richemont International SA Procédé de fabrication d'un composant horloger et composant obtenu par le procédé
EP3907566A1 (fr) * 2020-05-05 2021-11-10 Montres Breguet S.A. Échappement à détente pour pièce d'horlogerie
CN117340775B (zh) * 2023-11-10 2024-04-26 武汉晨龙电子有限公司 一种全自动上下料的机械表芯擒纵轮研磨设备

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH3299A (fr) * 1891-03-05 1891-08-31 Emile James Perfectionnement apporté aux échappements à détente
US1091261A (en) * 1913-07-22 1914-03-24 William E Walker Chronometer-escapement.
US2907168A (en) * 1955-10-31 1959-10-06 Inotsume Zen-Ichi Pallet type escape mechanism for time pieces
US6391527B2 (en) * 1998-04-16 2002-05-21 Canon Kabushiki Kaisha Method of producing micro structure, method of production liquid discharge head
DE60334916D1 (de) * 2003-12-04 2010-12-23 Montres Breguet Sa Chronometerhemmung für Uhren
ATE363673T1 (de) * 2003-12-04 2007-06-15 Montres Breguet Sa Chronometerhemmung für armbanduhren
JP4550569B2 (ja) * 2004-12-20 2010-09-22 セイコーインスツル株式会社 電鋳型とその製造方法
EP1904901B2 (fr) * 2005-06-28 2013-07-10 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Piece de micro-mecanique renforcee
EP1770452A1 (fr) * 2005-09-30 2007-04-04 Peter Baumberger Echappement à detente pour pièce d'horlogerie
EP2145856B1 (fr) * 2008-07-10 2014-03-12 The Swatch Group Research and Development Ltd. Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique
EP2199875B1 (fr) * 2008-12-16 2014-09-24 Rolex Sa Échappement à détente
EP2224292B1 (fr) * 2009-02-26 2012-10-10 Rolex Sa Echappement à impulsion directe, notamment à détente, pour mouvement d'horlogerie
EP2263971A1 (fr) * 2009-06-09 2010-12-22 Nivarox-FAR S.A. Pièce de micromécanique composite et son procédé de fabrication
JP5729666B2 (ja) * 2010-09-14 2015-06-03 セイコーインスツル株式会社 時計用デテント脱進機、および機械式時計

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011030695A1 (fr) 2011-03-17
US8783943B2 (en) 2014-07-22
CN102576212A (zh) 2012-07-11
CN102576212B (zh) 2014-03-05
JP2011059079A (ja) 2011-03-24
JP5366318B2 (ja) 2013-12-11
US20120300596A1 (en) 2012-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH704152B1 (fr) Échappement à détente et procédé de fabrication d'une détente.
EP2347036B1 (fr) Procédé liga hétérogène
CH704151B1 (fr) Echappement à détente et montre mécanique intégrant celui-ci.
EP2229470B1 (fr) Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé
EP2730980B1 (fr) Mécanisme horloger de limitation ou transmission
EP3232277B1 (fr) Composant d'horloge, et procédé de fabrication de celui-ci
CH706526B1 (fr) Virole, sous-ensemble pour balancier-spiral, balancier-spiral et pièce d'horlogerie.
EP2400351A1 (fr) Mobile monobloc pour une pièce d'horlogerie
CH704289B1 (fr) Méthode de fabrication d'une pièce de montre et pièce de montre.
JP2010121693A (ja) 機械部品、機械部品の製造方法および時計
WO2004063822A1 (fr) Assemblage pour organe regulateur d'un mouvement d'horlogerie
CH710112A2 (fr) Composant mécanique, procédé de fabrication d'un composant mécanique, mouvement et pièce d'horlogerie.
WO2014146842A1 (fr) Ancre d'échappement coaxial monobloc
JP5658344B2 (ja) 機械部品の製造方法
JP5596991B2 (ja) 機械部品、機械部品の製造方法および時計
CH706116B1 (fr) Virole, balancier-spiral comprenant une telle virole et pièce d'horlogerie comprenant un tel balancier-spiral.
EP3202708A1 (fr) Procédé de fabrication d'un composant horloger hybride
EP3454122A1 (fr) Procede de fabrication par technologie liga d'une microstructure metallique comportant au moins deux niveaux
CH710113A2 (fr) Composant mécanique, procédé de fabrication d'un composant mécanique, mouvement et pièce d'horlogerie.
CH710107B1 (fr) Composant mécanique, mouvement, pièce d'horlogerie et méthode de fabrication du composant mécanique.
CH706285A2 (fr) Composant décoratif, composant de pièce d'horlogerie, pièce d'horlogerie et procédé de fabrication de composant décoratif.
WO2020148626A1 (fr) Procédé de brasage de composants horlogers
CH704290B1 (fr) Pièce, montre et procédé de fabrication de la pièce.
JP6336869B2 (ja) 機械部品、機械部品の製造方法および時計

Legal Events

Date Code Title Description
PL Patent ceased