CH693872A5 - Elektrode fuer die Funkenerosionsbearbeitung und Verfahren zu ihrer Herstellung. - Google Patents
Elektrode fuer die Funkenerosionsbearbeitung und Verfahren zu ihrer Herstellung. Download PDFInfo
- Publication number
- CH693872A5 CH693872A5 CH00568/02A CH5682002A CH693872A5 CH 693872 A5 CH693872 A5 CH 693872A5 CH 00568/02 A CH00568/02 A CH 00568/02A CH 5682002 A CH5682002 A CH 5682002A CH 693872 A5 CH693872 A5 CH 693872A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- electrode
- powder
- wax
- treatment
- cbn
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C26/00—Alloys containing diamond or cubic or wurtzitic boron nitride, fullerenes or carbon nanotubes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C29/00—Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
- C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/24—After-treatment of workpieces or articles
- B22F2003/248—Thermal after-treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
- B22F2998/10—Processes characterised by the sequence of their steps
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Description
Technisches Gebiet Das technische Gebiet der vorliegenden Erfindung bezieht sich auf eine Elektrode für die Funkenerosionsbearbeitung und die Herstellung derartiger Elekt-roden. Sie dienen der Oberflächenbehandlung durch Funkenerosionen, wobei eine elektrische Entladung zwischen der Elektrode und dem Zielbehandlungsmaterial (Targetmaterial) erzeugt wird. Dabei wird durch die Energie der elektrischen Entladung eine harte Schicht aus Elektrodenmaterial oder aus Material, welches durch die Umsetzung des Elektrodenmaterials erhalten wurde, auf der Oberfläche des Zielbehandlungsmaterials abgelagert. Stand der Technik Konventionell wurden Funkenerosionsverfahren verwendet, als Technik zur Bildung einer harten Schicht auf der Oberfläche von Zielbehandlungsmaterialien, um dem behandelten Zielmaterial eine Korrosions- und Abriebfestigkeit zu verleihen, welches Verfahren beispielsweise in der japanischen offen gelegten Patentanmeldung Nr. 5-148 615 offenbart ist. Diese Technik ist eine Funkenerosionsoberflächenbehandlungsmethode für ein metallisches Material, welche zwei Behandlungsschritte umfasst. Der primäre Behandlungsschritt (Ablagerungsbehandlung) wird unter Verwendung einer grünen kompakten Elektrode durchgeführt, welche eine Funkenerosionselektrode für die Oberflächenbehandlung ist, welche erhalten wurde durch Mischen von WC-Pulver (Wolframcarbid) mit Co-Pulver (Kobalt) und durch Verdichtungsformen der Pulvermischung, und die sekundäre Behandlung (Umschmelzverfahren) wird durchgeführt, indem die grüne kompakte Elektrode durch eine Elektrode, wie durch eine Kupferelektrode, welche einen verhältnismässig niederen Elektrodenkonsum besitzt, ersetzt wird. Mit diesem Verfahren ist es schwierig, obschon ein Hartbeschichten mit einer hohen Adhäsion auf einem Stahlprodukt möglich ist, eine Hartschicht mit einer hohe Adhäsion auf Sintermaterial, wie zementiertem Carbid, zu erzeugen. Dessen ungeachtet zeigen Studien, welche durch die Erfinder gemacht wurden, dass wenn ein Hartcarbid bildendes Material, wie Ti, als Elektrode verwendet wird, und eine Entladung zwischen Elektrode und dem metallischen Material, welches ein Zielbehandlungsmaterial ist, erzeugt wird, ist es möglich ohne Umschmelzverfahren, eine starre harte Schicht auf der Oberfläche des Metalls, welches das Zielbehandlungsmaterial ist, zu erzeugen. Dies deshalb, weil das Elektrodenmaterial, welches durch die Entladung konsumiert wird, mit dem Kohlenstoff, welcher in der Behandlungslösung und im dabei gebildeten TiC (Titancarbid) enthalten ist, in Reaktion tritt. Unsere Studien zeigen ebenfalls, dass wenn eine Entladung zwischen einer grünen kompakten Elekt-rode erzeugt wird, welche aus einem metallischen Hydrid, wie TiH 2 (Titanhydrid) und einem metallischen Material, welches das Zielbehandlungsmaterial der Elektrode ist, es möglich wird, schnell eine Hartschicht zu bilden, welche eine hohe Adhäsion besitzt, im Vergleich zur Elektrode, welche aus einem Material wie Ti gebildet ist. Unsere Studien zeigen im Weiteren, dass wenn die Entladung gebildet wird zwischen einer grünen kompakten Elektrode, welche durch Mischen des anderen Metalles oder eines Keramikstoffes mit einem Hydrid, wie TiH 2 gebildet ist, und einem metallischen Material, welches das Zielbehandlungsmaterial der Elektrode ist, es möglich ist, schnell eine harte Schicht zu bilden, welche verschiedene Eigenschaften, wie grosse Härte und Abriebfestigkeit aufweist. Das oben beschriebene Verfahren ist beispielsweise beschrieben in der japanischen offen gelegten Patentanmeldung 9-192 937. Ein Beispiel für die Konfiguration eines Apparates, welcher für eine solche Funkenerosionsbehandlung verwendet wird, wird unter Bezugnahme auf Fig. 10 beschrieben. In Fig. 10 bedeutet das Bezugszeichen 1 eine grüne kompakte Elektrode, welche eine Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung ist, und erhalten wurde durch Verdichtungsformen von TiH 2 -Pulver, Bezugszeichen 2 bezeichnet ein Zielbehandlungsmaterial, Bezugszeichen 3 bezeichnet ein Behandlungsbad, Bezugszeichen 4 bezeichnet eine Behandlungslösung, Bezugszeichen 5 bezeichnet ein Schaltelement zur Schaltung einer Spannung und eines Stroms, welche an die grüne kompakte Elektrode 1 und das Zielbehandlungsmaterial 2 angelegt werden, Bezugszeichen 6 bezeichnet einen Steuerschaltkreis zur Ein- und Ausschaltung des Schaltelementes 5, Bezugszeichen 7 bezeichnet eine Stromversorgung, Bezugszeichen 8 bezeichnet einen Widerstand und Bezugszeichen 9 bezeichnet eine gebildete harte Schicht. Mit einer solchen Konfiguration ist es möglich, zwischen der grünen kompakten Elektrode 1 und dem Zielbehandlungsmaterial 2 eine Entladung zu erzeugen und eine harte Schicht 9 auf der Oberfläche des Zielbehandlungsmaterials 2 aus Stahl, Hartcarbid oder dgl. durch die Entladungsenergie zu bilden. In konventionellen Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren reagiert das Elektrodenmaterial wie oben angegeben mit dem Kohlenstoff, welcher durch die Zersetzung von Komponenten in der Behandlungslösung durch die Entladungshitze entsteht, wobei eine Schicht aus Hartcarbid auf dem behandelten Zielmaterial erzeugt wird. Wie oben schon beschrieben, werden zahlreiche Elektrodenarten als Elektroden für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung offenbart. Die Hartschicht, welche jedoch auf dem Zielbehandlungsmaterial durch beliebige Elektroden dieser Art gebildet wird, enthält vorwiegend Carbid. Die Härte des Carbids kann in einer Umgebung hoher Temperatur, wie in Fig. 11 gezeigt, plötzlich abnehmen. Auf Grund dieser Tatsache können einem Schneidwerkzeug oder dgl. die erforderlichen Eigenschaften, wie Korrosionsresistenz und Abriebfestigkeit, in nachteiliger Weise nicht verliehen werden, wenn eine Schicht, welche hauptsächlich aus Carbid besteht, auf einem Schneidwerkzeug oder dgl. unter hoher Umgebungstemperatur gebildet wird. Darstellung der Erfindung Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Elektrode für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion zur Verfügung zu stellen, welche fähig ist, eine Hartmaterialschicht von hoher Härte auf dem Zielbehandlungsmaterial zu bilden, sogar bei einer hohen Umgebungstemperatur. Eine weitere Aufgabe ist es, ein Verfahren für die Herstellung einer solchen Elektrode zur Verfügung zu stellen. Die genannten Aufgaben werden durch die in den Patentansprüchen definierten Gegenstände gelöst. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist die im Patentanspruch 1 definierte Elektrode, ihre Herstellung gemäss den in den Ansprüchen 4 und 7 gegebenen Definitionen und die in den abhängigen Ansprüchen definierten speziellen Ausführungsformen. Die Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss der Erfindung kann erhalten werden durch Zugabe von Wachs zu den Materialien der Elektrode, dann durch Verdichtungsformen des mit Wachs versetzen Materials, Erwärmen des verdichtungsgeformten Materials auf eine Temperatur, welche nicht unter der Schmelztemperatur des Wachses und nicht über der Zersetzungstemperatur des Wachses liegt, bei welcher Russ gebildet wird, wobei das Wachs verdampft und verflüchtigt wird. Die Elektrode für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion gemäss der vorliegenden Erfindung ist nützlich für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion, wobei eine elektrische Entladung zwischen der Elektrode und einem Zielbehandlungsmaterial erzeugt wird, wobei durch die Energie, welche während der elektrischen Entladung ausgestrahlt wird, eine harte Schicht auf der Oberfläche des Zielbehandlungsmaterials gebildet wird. Die erfindungsgemässe Elektrode kann durch Verdichtungsformen von Pulver erhalten werden, welches durch Beschichten eines Pulvers eines Hartstoffs erhalten wurde, welcher elektrisch isolierende Eigenschaften besitzt, mit einem Stoff, welcher elekt-risch leitende Eigenschaften besitzt, oder von Pulver, welches erhalten wurde durch Zugabe eines anderen Pulvermaterials zum Pulver des Hartstoffes, welcher elektrisch isolierende Eigenschaften besitzt, und mit dem Stoff, welcher elektrisch leitende Eigenschaften besitzt, beschichtet ist. Die Elektrode kann hergestellt werden, indem mindestens eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, nach dem Verdichtungsformen von Pulver, welches durch Beschichten von Pulver eines Hartstoffs mit elektrisch isolierenden Eigenschaften mit einem Stoff, welcher elektrisch leitende Eigenschaften besitzt, erhalten wurde, oder durch Pulver, welches erhalten wurde durch Zugabe eines anderen Pulvermaterials zum Pulver des Hartstoffs mit elektrisch isolierenden Eigenschaften, der mit dem Stoff, welcher elektrisch leitende Eigenschaften besitzt, beschichtet ist. In einer weiteren Ausführungsform kann die Elekt-rode gemäss der Erfindung hergestellt werden, indem Wachs zum Material der Elektrode zugegeben wird, dann das Material mit dem Wachszusatz verdichtungsgeformt wird, das verdichtungsgeformte Material auf eine Temperatur von nicht weniger als die Schmelztemperatur des Wachses und nicht mehr als die Temperatur, bei welcher sich das Wachs unter Bildung von Russ zersetzt, erwärmt wird, wobei das Wachs verdampft und entfernt wird. Wenn die vorliegende Erfindung so wie oben angegeben ausgestaltet ist, ist es durch ihre Anwendung möglich, auf einem Zielbehandlungsmaterial eine harte Schicht zu bilden, welche eine hohe Härte besitzt, sogar bei einer Umgebung mit hoher Temperatur. Die vorliegende Erfindung besitzt demzufolge die Vorteile, dass sie zweckmässig für die Oberflächenbehandlung von Schneidwerkzeugen und dgl. ist, welche unter einer Umgebung von hoher Temperatur verwendet werden und fähig ist, die erforderlichen Eigenschaften, wie Korrosionsfestigkeit und Abriebfestigkeit für Schneidwerkzeuge und dgl., welche in einer Umgebung von hoher Temperatur zum Einsatz gelangen, zu erzielen. Kurze Beschreibung der Zeichnungen Fig. 1 ist eine Schnittansicht, welche das Konzept einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung zeigt, und ihr Herstellungsverfahren gemäss der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; Fig. 2 ist ein Blockdiagramm, welches ein Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; Fig. 3 ist eine erklärende Ansicht, welche eine Art zeigt, in welcher eine Beschichtung auf einem Zielbehandlungsmaterial gebildet wird, durch das Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; Fig. 4 zeigt eine Härteänderung bezüglich der Temperatur von cBN; Fig. 5 ist eine Schnittzeichnung, welche das Konzept einer Elektrode für ein Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; Fig. 6 zeigt ein Beispiel einer Dampfdruckkurve von Wachs, welches mit dem Material der Elektrode für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion gemischt ist, während dem Verdichtungsformen der Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; Fig. 7 ist eine Schnittansicht, welche das Konzept der Funkenerosionsoberflächenbehandlungselektrode zeigt und ein Herstellungsverfahren hierfür gemäss der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; Fig. 8 ist eine Schnittansicht, welche eine Elektrode für ein Funkenerosionsoberflächenverfahren gemäss der vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; Fig. 9 ist ein Blockdiagramm, welches ein Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss der fünften Ausführungsform der Erfindung zeigt; Fig. 10 ist ein Blockdiagramm, welches ein Beispiel einer konventionellen Elektrode für eine Fun-ken-erosionsoberflächenbehandlung und einen konventionellen Funkenerosionsoberflächenbehandlungsapparat zeigt; und Fig. 11 zeigt die Änderung der Härte bezüglich der Temperatur eines Carbides. Bester Weg zur Ausführung der Erfindung Erste Ausführungsform: Fig. 1 ist eine Schnittansicht, welche das Konzept einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung und ein Herstellungsverfahren hiefür gemäss einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. In Fig. 1 bezeichnet das Bezugszeichen 10 eine Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, Bezugszeichen 11 bezeichnet ein cBN-Pulver, welches ein elektrisch isolierendes hartes Material ist, Bezugszeichen 12 bezeichnet ein Legierungspulver auf Basis von Co, welches ein leitendes Material ist, Bezugszeichen 13 bezeichnet den oberen Druckstempel einer Form, Bezugszeichen 14 bezeichnet den unteren Druckstempel einer Form, und Bezugszeichen 15 bezeichnet eine Pressform. Das cBN-Pulver 11 und das Legierungspulver 12 auf Basis von Co werden miteinander gemischt und die Pulvermischung wird in eine Pressform gegeben und unter Verdichtung geformt, wobei eine Elektrode 10 geformt wird. Als Nächstes wird das Verfahren zur Herstellung der Elektrode 10 beschrieben. Wenn eine cBN enthaltende Schicht auf dem Zielbehandlungsmaterial durch eine Funkenerosionsoberflächenbehandlung gebildet werden soll, ist es nötig, cBN-Pulver als Elektrodenmaterial zu verwenden. Das cBN-Pulver ist jedoch ein elektrisch isolierendes Material und kann demzufolge nicht als einziges Elektrodenmaterial verwendet werden. Darüber hinaus kann das Pulver, da cBN hart ist, nicht durch Verdichtungsformen unter Verwendung einer Presse gehärtet werden. Es ist, wie ersichtlich, nötig, als Bindemittel ein leitendes Metall oder dgl. mit dem cBN- Pulver zu mischen, da cBN nicht als einziges Material für die Elektrode 10 verwendet werden kann, damit cBN als Material der Elektrode 10 verwendet werden kann. Das bedeutet, dass das cBN-Pulver mit einem Bindemittelpulver gemischt wird und die Mischung in eine Pressform gebracht wird, in welcher die Pulvermischung durch Verdichten geformt wird, wobei eine Elektrode 10 produziert wird. Da cBN ein elektrischer Isolator ist, ist es erforderlich, ein leitendes Bindemittel in grösseren Mengen zuzusetzen, wenn das Verdichtungsformen mittels einer Presse durchgeführt wird. Der Grund hierfür ist folgender: Während eine cBN-Schicht durch die Wärme, welche durch die Entladung gebildet wird, geformt wird, findet in der Tat die Entladung über den leitenden Bindemittelteil in der Elektrode statt und es findet keine Entladung über cBN, welches ein elektrischer Isolator ist, statt. Wenn insbesondere die Elektrode nur durch Verdichtungsformen erzeugt wird, können nicht alle Bindemittelpartikel elektrisch miteinander gekuppelt werden. Demzufolge ist es erforderlich, die Menge des Bindemittels ebenfalls zu erhöhen, beispielsweise bevorzugte etwa 50 Gew.-%. Fig. 2 ist ein Blockdiagramm, welches ein Funken-erosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss einer ersten Ausführungsform der Erfindung zeigt. Fig. 3 zeigt eine Art und Weise, wie eine harte Schicht auf dem Zielbehandlungsmaterial durch das Oberflächenbehandlungsverfahren durch Funkenerosion gemäss der ersten Ausführungsform der Erfindung gebildet werden kann. In Fig. 2 und 3 bezeichnet das Bezugszeichen 3 ein Behandlungsbad, das Bezugszeichen 4 eine Behandlungslösung, das Bezugszeichen 10 bezeichnet die Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, welche aus cBN und einer Legierung auf Basis von Co hergestellt ist, Bezugszeichen 16 bezeichnet ein Zielbehandlungsmaterial, Bezugszeichen 17 bezeichnet eine Energieversorgungseinheit für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, eine Gleichstromversorgung, ein Schaltelement, ein Steuerschaltkreis und dgl., Bezugszeichen 18 bezeichnet eine Lichtbogensäule, Bezugszeichen 19 bezeichnet die Komponenten einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, welche Komponenten durch die Entladungswärme geschmolzen werden und sich gegen das Zielbehandlungsmaterial bewegen, und Bezugszeichen 20 bezeichnet eine harte Schicht, welche aus cBN und aus einer Legierung auf Basis von Co besteht. Die Energieversorgungseinheit 17 für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss Fig. 2 erzeugt eine Entladung zwischen der Elektrode 10 und dem Zielbehandlungsmaterial 16. Die Entladung wird zwischen dem Teil aus der Legierung auf Kobaltbasis, welche das leitende Bindemittel in der Elektrode 10 darstellt, und dem Zielbehandlungsmaterial 16 erzeugt. Wie in Fig. 3(a) gezeigt, schmilzt die Elektrode 10 wegen der elektrischen Entladungsenergie und das geschmolzene Material wird in einem Teil zwischen der Elektrode und dem Zielbehandlungsmaterial verteilt. Das geschmolzene Material wird auf dem Zielbehandlungsmaterial 16 abgelagert, wobei eine harte Schicht 20 aus cBN und aus einer Legierung auf Co-Basis auf dem Zielbehandlungsmaterial 10m, wie in Fig. 3(b) gezeigt, gebildet wird. Da die Härte von cBN nahe derjenigen vom Diamant ist, ist der Nutzen der Bildung einer Schicht aus cBN auf dem Zielbehandlungsmaterial recht gross. Insbesondere kann, wenn das Zielbehandlungsmaterial ein Werkzeug ist, und wenn es mit einer Diamantschicht beschichtet ist, es nicht für die Behandlung von Eisenmaterial verwendet werden. Solch ein Werkzeug wird demzufolge hauptsächlich für die Behandlung von Nichteisenmetall verwendet. Das Werkzeug, welches mit cBN beschichtet ist, ist jedoch zweckmässig für die Verwendung, wenn die Behandlungsziele Materialien auf Eisenbasis sind, die auf dem Markt dominant sind. Auf diese Weise ist ein Werkzeug, welches mit cBN beschichtet ist, recht bequem. Da die Entwicklung eines Verfahrens, welches eine dünne cBN-Schicht ablagert, langsam ist, ist das Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss der vorliegenden Erfindung von grosser Bedeutung. Fig. 4 zeigt die Änderung der Härte bezüglich der Temperatur von cBN und zeigt eine hohe Härte an, sogar bei einer hohen Umgebungstemperatur im Vergleich mit einem Fall des Karbides, wie in Fig. 11 gezeigt. Zweite Ausführungsform: Die Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss der ersten Ausführungsform der Erfindung wird geformt, indem elektrisch isolierender cBN-Pulverhartstoff mit Legierungspulver auf Basis von Co gemischt wird, welches ein leitender Stoff ist, und welcher als Bindemittel verwendet wird, wobei die Pulvermischung in eine Pressform gegeben wird und die Mischung verdichtungsgeformt wird. Bei der Durchführung der Wärmebehandlung ist es möglicherweise erforderlich, der Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung die erwünschte Festigkeit in einem gewissen Bereich zu verleihen. Da cBN ein elektrisch isolierender Stoff ist, ist es erforderlich, ein leitendes Bindemittel mit cBN zu mischen. Wenn eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, werden jedoch die Komponenten geschmolzen und die elektrische Leitfähigkeit erhöht sich und das Bindemittel kann in relativ kleinen Mengen vorhanden sein. Wie in der ersten Ausführungsform der Erfindung dargelegt ist es wünschenswert, wenn die Elektrode allein durch Verdichtungsformen gebildet werden soll, die Menge des Bindemittels auf etwa 50 Gew.-% festzulegen. Wenn die Wärmebehandlung nach dem Verdichtungsformen durchgeführt werden soll, ist es möglich, eine als solche brauchbare elekt-rische Elektrode zu erhalten, sogar mit einer Bindemittelmenge im Bereich von wenigen bis einigen 10 Gew.-%. Wenn die Elektrode allein durch Verdichtungsformen gebildet wurde, wird das mit dem Pulver gemischte Material, welches das Elektrodenmaterial darstellt, als solche eine Elektrodenkomponente. Aus diesem Grund wird es nicht bevorzugt, unnötige Komponenten beizumischen. Wenn eine Wärmebehandlung nach dem Verdichtungsformen durchgeführt wird, ist es im Gegensatz dazu möglich, die Formbarkeit zu verbessern, indem ein Material zugesetzt wird, welches sich verflüchtigt, wenn Wärme zugeführt wird. Wenn z.B. Wachs zum Pulver gemischt wird, welches als Elektrodenmaterial dient, ist es möglich, die Formbarkeit während dem Verdichtungsformen unter Verwendung einer Presse beträchtlich zu verbessern. Fig. 5 zeigt ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss der zweiten Ausführungsform, indem ein Wachs mit einem Elektrodenmaterial gemischt wird. In Fig. 5 bezeichnet das Bezugszeichen 10 die Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, Bezugszeichen 11 bezeichnet ein cBN-Pulver, Bezugszeichen 12 bezeichnet ein Pulver aus einer Legierung auf Co-Basis, Bezugszeichen 23 bezeichnet ein Wachs, wie Paraffin, Bezugszeichen 24 bezeichnet einen Vakuumofen, Bezugszeichen 25 bezeichnet eine Hochfrequenzwicklung und Bezugszeichen 26 bezeichnet eine Vakuumatmosphäre. Wenn das Wachs 23 mit der Pulvermischung des cBN-Pulvers 11 und dem Pulver aus der Legierung auf Co-Basis 12 gemischt wird, die resultierende Pulvermischung verdichtungsgeformt wird und eine grüne kompakte Elektrode gebildet wird, ist es möglich, die Formbarkeit stark zu verbessern. Da jedoch das Wachs 23 ein elektrisch isolierender Stoff ist, wenn das Wachs 23 in grossen Mengen in der Elektrode gelassen wird, nimmt der elektrische Widerstand der Elektrode zu, wobei die Entladungscharakteristiken gestört werden. Es ist demzufolge nötig, das Wachs 23 zu entfernen. Fig. 5(a) zeigt eine Art und Weise, wie die grüne kompakte Elektrode, welche Wachs 23 in Mischung enthält, in den Vakuumofen gebracht und darin erwärmt wird. Obgleich Fig. 5(a), eine Wärmebehandlung in der Vakuumatmosphäre 26 zeigt, kann sie ebenfalls in einer Gasatmosphäre, wie in Wasserstoff oder Argon durchgeführt werden. Die grüne kompakte Elektrode wird im Vakuumofen 24 mittels der Hochfrequenzspule 25, welche um den Vakuumofen 24 angeordnet ist, einer Hochfrequenzwärmebehandlung unterworfen. Zum Zeitpunkt, wenn die Erwärmungstemperatur zu tief ist, kann das Wachs 23 nicht entfernt werden und wenn die Erwärmungstemperatur zu hoch ist, wird das Wachs 23 in Russ umgewandelt, wobei die Reinheit der Elektrode beeinträchtigt wird. Es ist demzufolge erforderlich, dass die Temperatur nicht unter der Temperatur ist, bei welcher das Wachs 23 geschmolzen wird und nicht höher ist als die Temperatur, bei welcher das Wachs 23 sich zersetzt und in Russ umgewandelt wird. Als Beispiel zeigt Fig. 6 die Dampfdruckkurve eines Wachses, das eine Siedetemperatur von 250 DEG C besitzt. Wenn der atmosphärische Druck des Vakuumofens 24 auf einen Druck von nicht mehr als der Dampfdruck des Wachses 23 eingestellt wird, wird das Wachs 23 verdampft und entfernt und die Elektrode 10 kann erhalten werden, wie in Fig. 5(b) gezeigt. Wenn kein Wachs verwendet wird ist es nötig, ein Material von niederer Härte als Bindemittel zu verwenden. Wenn das Wachs verwendet wird, kann ein hartes Material, wie TiN (Titannitrid), TiC, HfC (Hafniumkarbid) oder TiCN (Titankarbidnitrid) als Bindemittel verwendet werden, was die Erzielung einer grösseren Härte der Beschichtung erlaubt. Dritte Ausführungsform: Fig. 7 ist eine Schnittansicht, welche das Konzept einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung zeigt, und ein Herstellungsverfahren hierfür, gemäss der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In Fig. 7 bezeichnet das Bezugszeichen 11 das cBN-Pulver, welches ein elekt-risch isolierender Harzstoff ist, Bezugszeichen 12 bezeichnet eine Co-Schicht, welch ein leitender Stoff ist, Bezugszeichen 13 bezeichnet einen oberen Stempel der Form, Bezugszeichen 14 bezeichnet den unteren Stempel der Form, Bezugszeichen 15 bezeichnet eine Pressform und Bezugszeichen 27 bezeichnet eine Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung. Das cBN-Pulver 11 wird mit der Co-Schicht 12a beschichtet und eine solche Beschichtung kann leicht durch Bedampfen oder dgl. erhalten werden. Wenn das cBN-Pulver 11 mit der Co-Schicht 12a, wie oben erwähnt beschichtet, in eine Pressform gegeben und verdichtungsgeformt wird, wird die Co-Schicht 12a deformiert und durch den durch die Presse ausgeübten Druck gebunden, wobei die Co-Schicht 12a und das cBN-Pulver 11 miteinander in die Elektrode integriert werden. Wenn die Elektrode für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion 27 auf diese Weise geformt wird, kann die Menge des Bindemittelmaterials reduziert werden, im Vergleich mit demjenigen für die Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung gemäss der ersten und der zweiten Ausführungsform der Erfindung. Gemäss der Funkenerosionsoberflächenbehandlung, für welche die Elektrode 27 verwendet wird, kann der Prozentsatz cBN in der Hartschicht, welche bei der Behandlung des Zielmaterials erhalten wird, reduziert werden, was es möglich macht, eine Hartschicht zu bilden, welche eine grössere Härte aufweist. Bei der Funkenerosionsoberflächenbehandlung, welche die aus cBN und Co bestehende Elektrode verwendet, wird, da cBN ein elektrisch isolierender Stoff ist, die Entladung nicht direkt auf dem cBN, jedoch auf dem Co erzeugt, welches das leitende Bindemittel darstellt. Die Wärmeenergie, welche durch diese Entladung gebildet wird, bewegt sowohl cBN als auch Co als Bindemittel gegen das Zielbehandlungsmaterial und es wird eine Beschichtung auf dem Zielbehandlungshartmaterial gebildet. Bei der Fun-ken-erosionsoberflächenbehandlung, welche die Elekt-rode 27 gemäss der vorliegenden Erfindung verwendet, werden die Oberflächen der Elektrode 27 vollständig leitend, was in stabiler Weise die Erzeugung einer Entladung ermöglicht, da das cBN-Pulver 11, welches der in der Elektrode 27 enthaltene elektrisch isolierende Hartstoff ist, mit einer Schicht 12a aus Co, welches ein leitender Stoff ist, beschichtet ist. Da es im Weiteren erforderlich ist, den Partikeldurchmesser des cBN-Pulvers 11, welches mit einer Co-Schicht 12a beschichtet ist, kleiner einzustellen als die Distanz zwischen der Elektrode 27 und dem Zielbehandlungsmaterial während der Entladungs-oberflächenbehandlung, beträgt vorzugsweise der Partikeldurchmesser des cBN-Pulvers 11 nicht mehr als etwa 10 mu m. Demzufolge muss cBN kleinere Partikeldurchmesser aufweisen. Überdies wird bevorzugt, dass die Dicke dieser Co-Schicht nicht mehr als 1 bis 2 mu m beträgt. Dies deshalb, weil wenn die Co-Schicht dicker ist, der Anteil an Bindemittel höher ist. Wenn jedoch die Co-Schicht extrem dünn ist, kann die Co-Schicht nicht als Bindemittel funktionieren, sodass die Co-Schicht eine Dicke von einem gewissen Ausmass erfordert. Wenn z.B. der Partikeldurchmesser von cBN-Pulver 5 mu m ist, beträgt die optimale Dicke der Co-Schicht etwa 1 mu m. Vierte Ausführungsform: Fig. 8 ist eine Schnittansicht, welche ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung darstellt, gemäss der vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Fig. 8(a) zeigt die Elektrode 27, welche mit einer Co-Schicht 12a beschichtet ist, und welche durch Verdichtungsformen von cBN-Pulver 11 gemäss dem Verfahren, der dritten Ausführungsform der Erfindung erhalten wurde. Weiter zeigt Fig. 8(b) einen Zustand, in welchem die Elektrode 27 gemäss Fig. 8(a) in einen Vakuumofen 24 gebracht und durch eine Hochfrequenzspule 25 einer Hochfrequenzwärmebehandlung unterworfen wird, und Fig. 8(c) zeigt die -Konfiguration der Elektrode 27a nach der Wärmebehandlung. Hier bezeichnet das Bezugszeichen 12b Co nach der Wärmebehandlung und das Bezugszeichen 28 bezeichnet eine Blase. Sogar beim Verdichtungsformen von cBN-Pulver 11, welches mit einer Co-Beschichtung 12 beschichtet ist, besitzt die Elektrode 27 eine Leitfähigkeit. Da jedoch die Co-Schicht 12a nur deformiert wird und durch Pressen zur Elektrode 27 gebunden wird, ist die Festigkeit der Elektrode 27 tief und ein Defekt, wie ein Brechen der Elektrode 27 kommt öfters vor. Wenn die verdichtungsgeformte Elektrode wärmebehandelt wird, ist es möglich, die Festigkeit der Elektrode zu erhöhen und die Leitfähigkeit der Elektrode zu verbessern. Wie im Zusammenhang mit der zweiten Ausführungsform der Erfindung erklärt, kann der gleiche Vorteil erhalten werden, indem die Wärmebehandlung nach dem Verdichtungsformen der Pulvermischung des cBN-Pulvers und des Pulvers der Legierung auf Co-Basis erzielt werden. Da jedoch elektrisch isolierender Stoff und leitender Stoff miteinander gemischt werden ist es erforderlich, die Erwärmungstemperatur auf nicht weniger als 1300 DEG C einzustellen, sodass die Elektrodenfestigkeit intensiviert werden kann. Da weiter cDN eine Änderung der Kristallstruktur in diejenige von hBN (hexagonales Bornitrid) ab etwa 1500 DEG C erfährt, kann die erforderliche Eigenschaft von cBN nicht erreicht werden. Das Problem, dass die cBN-Eigenschaften nicht erhalten werden können, kann demzufolge beim Verfahren vorkommen, worin eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, nachdem die Pulvermischung des cBN-Pulvers und des Pulvers der Legierung auf Basis von Co, wie in der zweiten Ausführungsform der Erfindung verdichtungsgeformt wurde. Gemäss dem Verfahren, worin eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, nachdem das cBN-Pulver 11 mit einer Co-Beschichtung 12a beschichtet ist, und wie in dieser vierten Ausführungsform der Erfindung verdichtungsgeformt wird, ist es im Gegensatz dazu möglich, die Festigkeit der Elektrode durch eine Wärmebehandlung bei einer relativ tiefen Temperatur von beispielsweise nicht mehr als 1200 DEG C zu erhöhen, dank der Wärmeleitung dieses metallischen Materialteils, da jedes Pulver mit dem metallischen Material oder dem Beschichtungsmaterial in Kontakt kommt. Demzufolge kommt das oben genannte Problem, dass eine nötige cBN-Eigenschaft nicht erhalten werden kann, nicht vor. Weiter wird das Verfahren, in welchem nach dem Verdichtungsformen des cBN-Pulvers 11 mit einer Co-Beschichtung eine Wärmebehandlung vorgenommen wird, wie oben beschrieben durchgeführt. Im Hinblick auf die Verbesserung der Formbarkeit während dem Verdichtungsformen wird das Formen der Elektrode weiter erleichtert, wenn das gleiche Verfahren wie dasjenige gemäss Fig. 5 in der zweiten Ausführungsform der Erfindung durchgeführt wird, d.h. wenn das Verfahren, in welchem ein Wachs, wie Paraffin, mit dem cBN-Pulver 11, das mit einer Co-Schicht 12a im Voraus beschichtet wurde, und in welchem das Wachs durch Verdampfen während der Wärmebehandlung entfernt wird, angewandt wird. Dieses Verfahren ist besonders vorteilhaft bei der Herstellung einer Elektrode, welche eine komplexe Form oder Grösse aufweist. Fünfte Ausführungsform: Fig. 9 ist ein Blockdiagramm, welches ein Funkenerosionsoberflächenbehandlungsverfahren gemäss der fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. In Fig. 9 bezeichnet das Bezugszeichen 3 ein Behandlungsbad, das Bezugszeichen 4 bezeichnet eine Behandlungslösung, das Bezugszeichen 11 bezeichnet cBN-Pulver, das Bezugszeichen 16 bezeichnet ein Zielbehandlungsmaterial, Bezugszeichen 17 bezeichnet eine Energieversorgungseinheit für eine Funkenerosionsoberflächenbehandlung, welche aus einer Gleichstromstromversorgung, einem Schaltelement, einem Steuerstromkreis und dgl. besteht, Bezugszeichen 18 bezeichnet eine Lichtbogensäule, das Bezugszeichen 28 bezeichnet eine Blase, das Bezugszeichen 29 bezeichnet Ti und das Bezugszeichen 30 bezeichnet eine Elektrode für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung. Die Elektrode 30 wird geformt, indem eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, nachdem cBN-Pulver, welches mit einer Ti-Beschichtung beschichtet ist, verdichtungsgeformt wurde. Es wird eine Spannung zwischen die Elektrode 30 und das Zielbehandlungsmaterial 16 angelegt, durch die Stromversorgungseinheit 17 für die Funkenerosionsoberflächenbehandlung, um eine impulsartige Entladung zu erzeugen. Da cBN ein elektrisch isolierendes Material ist, wird die Entladung am Ti-Teil 29 der Elektrode 30 erzeugt. Die durch diese Entladung gebildete Wärmeenergie führt einen Teil des Elektrodenmaterials in einen geschmolzenen Zustand über, wobei der geschmolzene Teil des Elektrodenmaterials sich gegen das Zielbehandlungsmaterial 16 bewegt, durch eine explosive Kraft, die auf Grund der Entladung freigesetzt wird, und eine Beschichtung, welche cBN und Ti enthält, wird auf der Oberfläche des Zielbehandlungsmaterials 16 gebildet. Wenn die Behandlungslösung 4 ein Öl ist, reagiert Ti, welches als Bindemittel dient, mit Kohlenstoff, welcher ein elementarer Bestandteil der Behandlungslösung 4 ist, wobei TiC gebildet wird und die Schicht, die auf dem Zielbehandlungsmaterial 16 gebildet wird, eine extrem harte Schicht ist, welche aus cBN und TiC besteht. Während ein Fall erklärt wird, wo cBN als elekt-risch isolierender Hartstoff verwendet wird, ist der elektrisch isolierende Hartstoff jedoch nicht auf cBN eingeschränkt. Diamant, B 4 C, AI 2 O 3 , Si 3 N 4 , SiC oder dgl. können als elektrisch isolierende Hartstoffe verwendet werden. Im Weiteren wurde oben erwähnt, dass das leitende Material, welches mit elektrisch isolierendem Hartmaterial gemischt oder beschichtet ist, Co und Ti ist. Das leitende Material ist jedoch nicht auf diese Materialien eingeschränkt. Metalle, welche harte Carbide bilden wie W, Mo, Zr, Ta oder Cr oder Metalle der Eisengruppe, wie Ni oder Fe können als leitendes Material verwendet werden. Gewerbliche Verwertbarkeit Wie bisher dargelegt, sind die erfindungsgemässen Elektroden für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion und das Verfahren zur Herstellung solcher Elektroden gemäss der vorliegenden Erfindung für die Verwendung in Industrien zweckmässig, welche sich mit Oberflächenbehandlungen befassen, und wo harte Schichten auf Oberflächen von Zielbehandlungsmaterialien aufgetragen werden.
Claims (9)
1. Elektrode (10) für die Oberflächenbehandlung durch Funkenerosion, zur Bildung einer Hartschicht auf der Oberfläche eines Zielbehandlungsmaterials (16) unter Erzeugung einer elektrischen Entladung zwischen der Elektrode und dem Zielbehandlungsmaterial (16), dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode mindestens einen Hartstoff (11), welcher elektrisch isolierende Eigenschaften besitzt; und mindestens einen elektrisch leitenden Stoff (12) enthält wobei der elektrisch leitende Stoff (12) als elektrisch leitendes Bindemittel mit dem Hartstoff (11) gemischt ist.
2. Elektrode nach Anspruch 1, worin der Hartstoff mindestens ein Stoff ist, der ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus cBN, Diamant, B 4 C, AI 2 O 3 , Si 3 N 4 , und SiC.
3.
Elektrode nach Anspruch 1, worin der elektrisch leitende Stoff mindestens ein Metall ist, welches Hartcarbide bildet, wie Ti, W, Mo, Zr, Ta und Cr oder mindestens ein Metall aus der Eisengruppe, wie Co, Ni und Fe, ist.
4. Verfahren zur Herstellung einer Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Pulver aus einem Hartstoff mit elektrisch isolierenden Eigenschaften mit einem Pulver eines elektrisch leitenden Stoffs gemischt wird und die resultierende Pulvermischung verdichtungsgeformt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4 dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Mischen eine Wärmebehandlung durchgeführt wird.
6.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass zu dem zu mischenden Pulver aus einem Hartstoff mit elektrisch isolierenden Eigenschaften und aus einem elektrisch leitenden Stoff Wachs zugegeben wird und nach dem Verdichtungsformen, das verdichtungsgeformte Material auf eine Temperatur, im Bereich zwischen der Schmelztemperatur und der Temperatur der Zersetzung des Wachses unter Russbildung erwärmt wird und das genannte Wachs durch Verdampfen entfernt wird.
7. Verfahren zur Herstellung einer Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Mischen erfolgt, indem das Pulver des Hartstoffes mit elektrisch isolierenden Eigenschaften mit dem elekt-risch leitenden Stoff beschichtet wird; und das beschichtete Pulver einem Verdichtungsformen unterzogen wird.
8.
Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Verdichtungsformen eine Wärmebehandlung durchgeführt wird.
9. Verfahren gemäss Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass Wachs zum Ausgangsmaterial der hergestellten Elektrode zugesetzt wird, bevor es einem Verdichtungsformen unterzogen und auf eine Temperatur, im Bereich zwischen der Schmelztemperatur und der Temperatur der Zersetzung des Wachses unter Russbildung erwärmt wird, und das Wachs durch Verdampfen entfernt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP1999/005364 WO2001023641A1 (fr) | 1999-09-30 | 1999-09-30 | Electrode de traitement de surface par decharge electrique, son procede de production et procede de traitement de surface par decharge electrique |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH693872A5 true CH693872A5 (de) | 2004-03-31 |
Family
ID=14236849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH00568/02A CH693872A5 (de) | 1999-09-30 | 1999-11-29 | Elektrode fuer die Funkenerosionsbearbeitung und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060021868A1 (de) |
JP (1) | JP4439781B2 (de) |
CN (2) | CN1284649C (de) |
CH (1) | CH693872A5 (de) |
DE (1) | DE19983981T1 (de) |
TW (1) | TW500815B (de) |
WO (2) | WO2001023641A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004108989A1 (ja) | 2003-06-04 | 2004-12-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 放電表面処理用電極及びその製造方法並びにその保管方法 |
US7776409B2 (en) | 2003-06-10 | 2010-08-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrode for discharge surface treatment and method of evaluating the same, and discharge-surface-treating method |
US10577695B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-03-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Method for manufacturing discharge surface treatment electrode and method for manufacturing film body |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60333457D1 (de) | 2002-07-30 | 2010-09-02 | Ihi Corp | Elektrode für die behandlung von oberflächen mit elektrischen entladungen, verfahren zur behandlung von oberflächen mit elektrischen entladungen und vorrichtung zur behandlung von oberflächen mit elektrischen entladungen |
US9284647B2 (en) * | 2002-09-24 | 2016-03-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment |
KR101063575B1 (ko) * | 2002-09-24 | 2011-09-07 | 미츠비시덴키 가부시키가이샤 | 고온부재의 슬라이딩면 코팅 방법 및 고온부재와 방전표면 처리용 전극 |
TWI272993B (en) * | 2002-10-09 | 2007-02-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind | Method for coating rotary member, rotary member, labyrinth seal structure and method for manufacturing rotary member |
JP4040493B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2008-01-30 | 株式会社ミツトヨ | 放電加工用電極 |
EP1643007B1 (de) * | 2003-05-29 | 2014-01-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Elektrode für die entladungsoberflächenbehandlung und verfahren zu deren herstellung |
CN1798871B (zh) | 2003-05-29 | 2011-08-10 | 三菱电机株式会社 | 放电表面处理用电极和放电表面处理方法及放电表面处理装置 |
RU2325468C2 (ru) | 2003-06-05 | 2008-05-27 | Мицубиси Денки Кабусики Кайся | Электрод для электроразрядной обработки поверхности, способ электроразрядной обработки поверхности и устройство для электроразрядной обработки поверхности |
WO2004113587A1 (ja) * | 2003-06-10 | 2004-12-29 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | 金属部品、タービン部品、ガスタービンエンジン、表面処理方法、及び蒸気タービンエンジン |
JP4608220B2 (ja) * | 2004-01-29 | 2011-01-12 | 三菱電機株式会社 | 放電表面処理用電極および放電表面処理方法 |
WO2008032359A1 (fr) | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Mitsubishi Electric Corporation | Procédé de production d'une électrode pour traitement de surface par décharge électrique et électrode pour traitement de surface par décharge électrique |
US8440931B2 (en) | 2006-12-27 | 2013-05-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Electrode for electrical-discharge surface treatment and method of manufacturing the same |
WO2009066418A1 (ja) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | Mitsubishi Electric Corporation | 放電表面処理用電極およびそれを用いて成膜された金属被膜 |
JP2013095935A (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Eagle Industry Co Ltd | 放電表面処理用電極 |
JP4984015B1 (ja) * | 2011-11-22 | 2012-07-25 | 三菱電機株式会社 | 放電表面処理用電極および放電表面処理用電極の製造方法 |
CN103436883B (zh) * | 2013-08-07 | 2016-04-20 | 青岛科技大学 | 基于电火花沉积制备的自润滑涂层刀具及其制备方法 |
CN103692034B (zh) * | 2013-12-19 | 2016-01-06 | 华南理工大学 | 一种对形状复杂的外表面进行放电加工的装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2642654A (en) * | 1946-12-27 | 1953-06-23 | Econometal Corp | Electrodeposited composite article and method of making the same |
US3351543A (en) * | 1964-05-28 | 1967-11-07 | Gen Electric | Process of coating diamond with an adherent metal coating using cathode sputtering |
US4373127A (en) * | 1980-02-06 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | EDM Electrodes |
JPH06182626A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Hitachi Ltd | 高耐食性表面処理方法 |
JP3002621B2 (ja) * | 1993-10-15 | 2000-01-24 | 尚武 毛利 | 放電加工による表面処理方法およびその装置 |
JP3271844B2 (ja) * | 1993-12-31 | 2002-04-08 | 科学技術振興事業団 | 液中放電による金属材料の表面処理方法 |
JP3363284B2 (ja) * | 1995-04-14 | 2003-01-08 | 科学技術振興事業団 | 放電加工用電極および放電による金属表面処理方法 |
JP3537939B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2004-06-14 | 独立行政法人 科学技術振興機構 | 液中放電による表面処理方法 |
DE19981060T1 (de) * | 1998-05-13 | 2000-08-03 | Mitsubishi Electric Corp | Elektrode für eine Entladungsoberflächenbehandlung, Herstellungsverfahren dafür, Entladungsoberflächenbehandlungsverfahren und Vorrichtung dafür |
-
1999
- 1999-09-30 WO PCT/JP1999/005364 patent/WO2001023641A1/ja active Application Filing
- 1999-10-06 TW TW088117205A patent/TW500815B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-11-29 CN CNB2003101199419A patent/CN1284649C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-29 JP JP2001527946A patent/JP4439781B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-29 CN CNB998169161A patent/CN1184044C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-29 CH CH00568/02A patent/CH693872A5/de not_active IP Right Cessation
- 1999-11-29 WO PCT/JP1999/006630 patent/WO2001024961A1/ja active Application Filing
- 1999-11-29 DE DE19983981T patent/DE19983981T1/de not_active Ceased
-
2005
- 2005-08-19 US US11/206,789 patent/US20060021868A1/en not_active Abandoned
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004108989A1 (ja) | 2003-06-04 | 2004-12-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 放電表面処理用電極及びその製造方法並びにその保管方法 |
EP1630255A1 (de) * | 2003-06-04 | 2006-03-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Elektrode für die entladungsoberflächenbehandlung und verfahren zur herstellung und lagerung davon |
EP1630255A4 (de) * | 2003-06-04 | 2008-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Elektrode für die entladungsoberflächenbehandlung und verfahren zur herstellung und lagerung davon |
US7915559B2 (en) | 2003-06-04 | 2011-03-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrode for electric discharge surface treatment, method for manufacturing electrode, and method for storing electrode |
US7776409B2 (en) | 2003-06-10 | 2010-08-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrode for discharge surface treatment and method of evaluating the same, and discharge-surface-treating method |
US10577695B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-03-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Method for manufacturing discharge surface treatment electrode and method for manufacturing film body |
DE112016002010B4 (de) | 2016-12-28 | 2021-12-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Verfahren zum Herstellen einer Elektrode zur Oberflächenbehandlung mittels Entladung und Verfahren zum Herstellen eines Filmkörpers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060021868A1 (en) | 2006-02-02 |
JP4439781B2 (ja) | 2010-03-24 |
WO2001023641A1 (fr) | 2001-04-05 |
CN1284649C (zh) | 2006-11-15 |
WO2001024961A1 (fr) | 2001-04-12 |
TW500815B (en) | 2002-09-01 |
CN1504292A (zh) | 2004-06-16 |
DE19983981T1 (de) | 2002-10-10 |
CN1184044C (zh) | 2005-01-12 |
CN1367726A (zh) | 2002-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CH693872A5 (de) | Elektrode fuer die Funkenerosionsbearbeitung und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE2927079C2 (de) | ||
DE19964388B3 (de) | Verfahren zur Bildung einer harten Beschichtung und Vorrichtung zu seiner Durchführung | |
DE68910190T3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Sputtertargets aus Wolfram-Titan. | |
DE3511220C2 (de) | ||
DE19882983B4 (de) | Grüne Kompaktelektrode zur Funkenentladungsbeschichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE60004613T2 (de) | Nichtmagnetische Wolfram-Legierung mit hoher Dichte | |
DE69123183T2 (de) | Verbundmaterial aus Silber- oder Silber-Kupferlegierung mit Metalloxyden und Verfahren zu seiner Herstellung | |
EP0827433A1 (de) | Verbundwerkstoff und verfahren zu seiner herstellung | |
DE19983980B3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Entladungs-Oberflächenbehandlungs-Elektrode, hiernach erhaltene Entladungs-Oberflächenbehandlungs-Elektrode und deren Verwendung | |
EP2326742B1 (de) | Verwendung eines targets für das funkenverdampfen und verfahren zum herstellen eines für diese verwendung geeigneten targets | |
CH694120A5 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Elektrode für Funkenoberflächenbehandlung. | |
DE2830376C2 (de) | Verfahren zur Herstellung kugelförmiger Teilchen für das Spritzauftragen von Schutzschichten | |
DE112014004626T5 (de) | Verfahren zum Herstellen dichter Werkstücke durch Pulvermetallurgie | |
DE60009364T2 (de) | Sinterkarbid mit aushartbarer Binderphase | |
DE3935865C1 (de) | ||
DE3780113T2 (de) | Gesinterter verschleissfester eisenformkoerper. | |
EP3026133B1 (de) | Schmelzverfahren für legierungen | |
EP2376245A1 (de) | Vorprodukt für die herstellung gesinterter metallischer bauteile, ein verfahren zur herstellung des vorprodukts sowie die herstellung der bauteile | |
DE69706442T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines feuerfesten gegenstandes und ein dadurch hergestellter feuerfester gegenstand | |
DE69532175T2 (de) | Zusammensetzung für elektrische Kontakte und Herstellungsverfahren | |
DE3147551C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Abtastnadeln für Kapazitäts-Schallplatten und Abtastnadeln für Kapazitäts-Schallplatten | |
DE10022157C1 (de) | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur und deren Verwendung | |
DE69216153T2 (de) | Werkzeugeinsätze | |
DE3935863C2 (de) | CVD (Chemical Vapour Deposition)-Vorrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PFA | Name/firm changed |
Owner name: MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA Free format text: MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA#NO. 2-3, MARUNOUCHI 2-CHOME, CHIYODA-KU#TOKYO 100-8310 (JP) -TRANSFER TO- MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA#NO. 2-3, MARUNOUCHI 2-CHOME, CHIYODA-KU#TOKYO 100-8310 (JP) |
|
PL | Patent ceased |