CH676718A5 - - Google Patents
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Description
CH 676 718 A5
Beschreibung
Für diverse industrielle Verfahren wie Reinigungsverfahren, Dampfentfettung, Trocknung fester Oberflächen sowie als Arbeitsmedien für thermodynamische Verfahren in denen Wärmeenergie transfe-5 riert (Wärmepumpe) oder in höherwertige Energieformen überführt wird (Rankine-Verfahren), werden neben reinen chlorierten und/oder fluorierten Kohlenwasserstoffen (in der Folge Halogenkohlenwasserstoff bzw. HKW genannt) auch bereits Gemische von zwei oder mehreren HKW eingesetzt. Solche Gemische können sowohl nîchtazeotroper Natur als auch azeotrop bzw. azeotropartig sein. Unter azeo-tropartig wird dabei verstanden, dass Gemische über einen grösseren Konzentrationsbereich im we-10 sentlichen konstant sieden (Änderung der Siedetemperatur um nicht mehr als 5°C) und sich für den praktischen Einsatz daher ähnlich wie ein Azeotrop verhalten.
Die bekannten Gemische sind in ihren anwendungstechnischen Eigenschaften immer noch verbesserungsfähig und es besteht daher ein Bedarf an neuen Lösungsmittelgemischen mit neuen, speziellen Eigenschaften.
15 Aufgabe der Erfindung ist es, solche neuen Lösungsmittelgemische zur Verfügung zu stellen.
Aufgabe der Erfindung ist ferner, besondere Verwendungen für diese neuen Lösungsmittelgemische aufzuzeigen.
Die Aufgabe wird gelöst durch die in Patentanspruch 1 definierten Gemische und die in den Ansprüchen 12-14 angegebenen Verwendungen. Besondere Ausführungsformen sind den Ansprüchen 2-11 zu 20 entnehmen.
Gegenstand der Erfindung sind Gemische, die gekennzeichnet sind durch einen Gehalt an 1,1,1-Tri-fluoräthanol (TFE) und einem halogenierten Kohlenwasserstoff aus der Gruppe chlorierter und/oder fluorierter Kohlenwasserstoffe mit 1 bis 3 C-Atomen (HKW) oder polyfluorierter, insbesondere perfluorierter, aromatischer Kohlenwasserstoffe (AFKW) und durch ein Gewichtsverhältnis TFE:HKW bzw. 25 AFKW von 1:90 bis 99:1.
In einer Ausführungsform der Erfindung sind Gemische durch ein Gewichtsverhältnis von TFE:HKW bzw. AFKW von 1:50 bis Irl,5 gekennzeichnet.
In einer anderen Ausführungsform der Erfindung sind Gemische durch ein Gewichtsverhältnis von TFE:HKW bzw. AFKW von 1:1 bis 99:1 gekennzeichnet 30 Als HKW bzw. AFKW kommen bevorzugt solche in Frage, die bei Normaldruck im Temperaturbereich von +20°C bis 150°C sieden. Diese sind als solche bekannt und beispielsweise aus ISO/DIS 817 ent-nehmbar.
Besonders bevorzugt sind Gemische, vorzugsweise binäre Gemische, die einen Gehalt an TFE und einen HKW aus der Gruppe Dichlormethan, Trichlormonofluormethan (R11), 1,1,1-Trichloräthan, Tetrachlor-35 1,2-difluoräthan (R112), 1,1,2-TrichIor-trifluoräthan (R113), Tetrachlormonofluoräthan (R121), Trichlordiflu-oräthan (R122) enthalten.
Eine andere Gruppe bevorzugter Gemische besteht aus TFE und Polyfluorbenzol, insbesondere Hexafluorbenzoi als AFKW.
Ein spezielles Gemisch ist jenes, das TFE und R11 als HKW im angegebenen Gewichtsverhältnis ent-40 hält. Besonders bevorzugt sind solche Gemische, die TFE und R11 im Gewichtsverhältnis von 1:90 bis 1:10 enthalten, da solche Gemische sich azeotropartig verhalten und im Bereich von etwa 21 bis etwa 24°C sieden. Einen noch engeren Siedebereich weisen Gemische auf, die 2 bis 6 Gew.-% TFE und entsprechend 98 bis 94 Gew.-% R11 enthalten. Das azeotrope Gemisch weist einen Siedepunkt von etwa 22,7°C auf und zeichnet sich durch die Zusammensetzung 4,0 ± 0,2 Gew.-% TFE und entsprechend 45 96,0 ± 0,2 Gew.-% R11 aus.
Ein anderes spezielles Gemisch ist jenes, das TFE und R113 als HKW im angegebenen Gewichtsverhältnis enthält Besonders bevorzugt sind solche Gemische, die TFE und R113 im Gewichtsverhältnis von 1:90 bis 1:5 enthalten, da solche Gemische sich azeotropartig verhalten und im Bereich von etwa 42 bis etwa 45°C sieden. Einen noch engeren Siedebereich weisen Gemische auf, die 10 bis 14 Gew.-% TFE 50 und entsprechend 90 bis 86 Gew.-% R113 enthalten. Das azeotrope Gemisch weist einen Siedepunkt von etwa 43,0°C auf und zeichnet sich durch die Zusammensetzung 11,9 ± 0,2 Gew.-% TFE und entsprechend 88,1 ± 0,2 Gew.-% R113 aus.
Sofern R112 als HKW eingesetzt wird, werden Gemische bevorzugt, die bis zu etwa 5 Gew.-% TFE enthalten. Gemische mit höherem TFE-Gehalt bilden nur bei gegenüber Raumtemperatur erhöhter Tempera-55 tur ein einphasiges System.
Die genannten Mehrkomponentengemische bzw. binären Gemische können direkt als solche zur Anwendung gelangen.
Sie können aber auch zur Herstellung komplexer Gemische eingesetzt werden. Die dann resultierenden komplexen Gemische, in denen das Gewichtsverhältnis TFE:HKW in den angegebenen Bereichen 60 liegt, sind ebenfalls Gegenstand der Erfindung.
Als weiterer Bestandteil solcher komplexen Gemische sind bei Raumtemperatur flüssige Kohlenwasserstoffe, bevorzugt Benzinfraktionen oder Heptane wie n-Heptan, geeignet. Als gut geeignet haben sich Gemische TFE/HKW bzw. AFKW mit bis zu 10 Gew.-% (bezogen auf Gesamtgemisch) an flüssigem Kohlenwasserstoff herausgestellt Erfindungsgemässe Gemische auf Basis von R112 können neben bis 65 zu etwa 6 Gew.-% TFE z.B. etwa 7 Gew.-% n-Heptan (Rest R112) enthalten.
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Bevorzugte komplexe Gemische enthalten ausser TFE und HKW bzw. AFKW noch einen oder mehrere Alkohole aus der Gruppe Methanol, Äthanol, i-Propanol, n-Propanol, n-Butanol, sec. Butanol, tert. Butanol. Der Anteil an Alkohol am komplexen Gemisch kann in weiten Bereichen variieren. In der weitesten Form kann er von 0,1 bis 50 Gew.-% (bezogen auf das Gesamtgemisch) betragen; in einer bevor-5 zugten Variante enthält das komplexe Gemisch 1 bis 10 Gew.-% Alkohol. Der Zusatz der genannten Alkohole ermöglicht insbesondere, die Konzentration an TFE im System TFE/R112 über die obengenannte Grenzkonzentration anzuheben, ohne bei Raumtemperatur zweiphasige Systeme zu erhalten. Beispielsweise ist ein Gemisch aus etwa 12,5 Gew.-% i-Propanol, 50 Gew.-% TFE und 37,5 Gew.-% R112 (bezogen auf das Gesamtgemisch) bei Raumtemperatur eine klare Lösung.
10 Sowohl den binären Gemischen aus TFE und HKW als auch den komplexen Gemischen können an sich bekannte Additive zugesetzt werden.
Eine Gruppe an sich bekannter Additive sind Stabilisatoren. Unter dieser Gruppe werden solche Verbindungen zusammengefasst, die eine unerwünschte Reaktion von Bestandteilen des Gemisches untereinander oder mit anderen Reaktionspartnern, wie beispielsweise Luftsauerstoff, Wasser, Metall usw., 15 verhindern. Bekannte Stabilisatoren sind beispielsweise Nitroaikane, insbesondere Nitromethan, Ni-troäthan, Alkylenoxide, insbesondere Butylenoxid oder vorzugsweise verzweigte Alkinole wie z.B. 2-Methyl-butin-3-ol-2. Diese Stabilisatoren können allein oder in Kombination untereinander eingesetzt sein, wobei Mengen von 0,01 bis 6 Gew.-%, insbesondere 0,05 bis 1 Gew.-% gut geeignet sind.
Eine weitere Gruppe von Additiven umfasst an sich bekannte Verbindungen aus der Gruppe Korro-20 sionsinhibitoren, nichtionische oder ionische Emulgatoren, Farbstoffe etc.
Die obengenannten Zusammensetzungen haben zahlreiche Anwendungsmöglichkeiten.
Ein grosses Anwendungsgebiet ist der Sektor Reinigung und/oder Dampfentfettung. Bei diesen an sich bekannten Verfahren wird der zu reinigende Gegenstand in ein oder mehreren Stufen in flüssiges und/oder dampfförmiges Reinigungsgemisch getaucht oder mit flüssigem Reinigungsgemisch besprüht. 25 Die Reinigungswirkung kann in bekannten Verfahren durch Anwendung von erhöhter Temperatur und/oder Ultraschall und/oder Rühren gesteigert werden. Ebenso ist eine Verbesserung der Reinigungswirkung durch mechanische Einwirkung, wie z.B. Bürsten, bekannt.
Beispielsweise verwendet die elektronische Industrie vorherrschend organische Harzflussmittel für Lötverfahren. Oberschüsse dieser organischen Verbindungen müssen von Leiterplatten nach dem Löt-30 verfahren entfernt werden. Dies erfolgt mit organischen Lösungsmitteln, die mit den Leiterplatten und den elektronischen Teilen verträglich sind, d.h. das Lösungsmittel darf nicht mit diesen reagieren. Die Harzflussmittel sind Gemische polarer und nicht polarer Verbindungen und enthalten oftmals spezielle Aktivatoren. Fluorierte Kohlenwasserstoffe allein, die nicht polar sind, sind zur Entfernung der polaren Komponenten der Harze nicht wirksam. Ebensowenig sind an sich bekannte Gemische, die neben fluo-35 rierten Kohlenwasserstoffen einen Alkohol enthalten in der Lage, insbesondere spezielle, hochaktiva-torhaltige Flussmittel vollständig zu entfernen. Erfindungsgemässe Gemische können jedoch sowohl polare als auch nicht polare Komponenten entfernen und sind daher als Entfernungsmittel für Harzflussmittel, insbesondere solche mit hohem Aktivatorgehalt auf breiter Basis wirksam. Besonders geeignet für diese Anwendung sind binäre Gemische bzw. komplexe Gemische, die TFE und mindestens einen 40 HKW aus der Gruppe Dichlormethan, R11, R113 und gegebenenfalls noch Alkohol und/oder Additive enthalten. Für dieses Anwendungsgebiet werden bevorzugt Gemische mit einem TFE:HKW Gewichtsverhältnis von 1:90 bis 1:1,5 eingesetzt.
So lassen sich unbestückte und bestückte (insbesondere auch SMD-bestückte) Leiterplatten auch bei Verwendung von Flussmitteln mit hohem Aktivatoranteil problemlos mit den erfindungsgemässen bi-45 nären bzw. komplexen Gemischen reinigen, ohne dass es zu den bei Einsatz der üblichen Reinigungsmittel gefürchteten «weissen Belägen» kommt.
Ein anderes Gebiet, auf dem die Gemische nach der Erfindung besonders brauchbar sind, ist die Entfernung von Wasser von festen Oberflächen. Auch dazu sind im Stand der Technik eine Vielzahl von Verfahrensführungen bekannt, die - im Prinzip wie oben für die Reinigung beschrieben - ein oder mehr-50 stufige Behandlung von zu trocknenden Gegenständen vorsehen.
Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen verdrängen das Wasser durch einen Lösungsmittelfilm, der ohne Hinterlassen eines Rückstandes auf dem zu trocknenden Gegenstand verdampft. Die für Reinigungsverfahren vorstehend genannten, besonders geeigneten Gemische sind auch für die Entwässerung bevorzugt geeignet.
55 Die neuen azeotropartigen bzw. azeotropen Gemische aus TFE/R11 bzw. TFE/R113 gemäss der Erfindung sind auch erwünschte Systeme für Kühlmittel und Schmiermittel, da die Zusammensetzungen eine niedrige Oberflächenspannung, eine niedrige Viskosität und eine hohe Dichte von etwa 1,4 bis 1,7 cm3 bei 20°C besitzen. Die obigen physikalischen Eigenschaften sind jene, die für Schmiermittelanwendungen erwünscht sind. Beispielsweise sind die Zusammensetzungen nach der Erfindung erwünscht, wenn 60 das Gemisch als ein Schmiermittel in metallbearbeitenden Maschinen verwendet wird, wie z.B, beim Bohren, Fräsen, Drehen, Gewindeschneiden, Stanzen oder dergleichen, wo eine rückstandsfreie Oberfläche erforderlich ist. Für diese Anwendungen können insbesondere auch an sich bekannte Schmiermittel-additive (wie z.B. in DE-OS 3 342 852 oder DE-OS 3 335 870 beschrieben) zugesetzt werden.
Die niedrige Oberflächenspannung der Zusammensetzungen nach der Erfindung macht diese beson-65 ders geeignet zur Reinigung von Kapiliarsystemen. Die hohe Benetzungsfähigkeit und Dichte von erfin-
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dungsgemässen binären Gemischen ggf. im Gemisch mit Isopropanol, Äthanol oder Gemischen derselben, macht diese Zusammensetzungen zu guten Reinigungsmitteln für Kapillarsysteme,
Die erfindungsgemässen binären bzw. komplexen Gemische können beispielsweise auch wie folgt eingesetzt werden
-zur Reinigung von Kleinteilen bzw. Schüttgut (vorzugsweise in geschlossenen Anlagen)
- zum Strippen von Lack
-als Lösungsmittel und/oder als Zusatz zu Lösungsmitteln für die Chemischreinigung
- als spezielles Lösungs-, Extraktions- und/oder Umkristallisationsmittel in der chemischen und pharmazeutischen Industrie
- als Mittel zur Lösung, Erweichung, Oberflächenbehandlung wie z.B. Ätzung bzw. Mattierung von Kunststoffen wie z.B. Polyamide, Polymethacrylate, Polyformaldehyde, Polyacrylnitrile etc.
Ein weiteres wesentliches Einsatzgebiet für erfindungsgemasse binäre bzw. komplexe Gemische ist die Verwendung als Arbeitsmedien in thermodynamischen Verfahren, in denen Wärmeenergie transferiert oder in höherwertige Energieformen überführt wird.
In den als Rankine-Verfahren bekannten Prozessen wird z.B. elektrische Energie mittels Entspannungsturbinen oder -kolbenmaschinen erzeugt. In solchen Verfahren können erfindungsgemässe Gemische - allerdings ohne Alkohol-Zusatz - mit Vorteil verwendet werden, insbesondere Gemische auf Basis TFE/R11 und TFE/R113 und auf Basis TFE/AFKW. Für diesen Anwendungsfall werden Gemische bevorzugt, in denen das Gewichtsverhältnis TFE:HKW bzw. AFKW vorzugsweise von 1:1 bis 99:1, insbesondere 9:1 bis 50:1 beträgt Für Gemische TFE/AFKW sind auch AFKW-reiche Mischungen mit einem Verhältnis TFErAFKW von 1:1 bis 1:90 geeignet.
Für die Anwendung als Arbeitsmedien in Wärmepumpen, vorzugsweise Hochtemperaturwärmepumpen oder Absorptionswärmepumpen bzw. Wärmetransformatoren sowie als Kältemittel in Absorptionskälteanlagen werden die eben genannten Gemische ebenfalls bevorzugt.
Aus der EP-A 0 120 319 sind zwar bereits allgemein Gemische aus a) einem Fluoralkohol der allgemeinen Formel X (CnF2n) CmH2mOH, mit X = F, H, m = 1 bis 3, n = 1 bis 10 sowie b) einem halogenierten oder nicht halogenierten Kohlenwasserstoff bekannt. Ferner sind aus der US-PS 3 509 061 Gemische für die Trocknung fester Oberflächen bekannt, die neben einem perhalogenìerten Alkan 0,02 bis 1 Gew.-% eines Fluoralkohols der Formel F(CF2)m CHRÖH enthalten, wobei m = 1 bis 11 und R = H und Ct -bis Cn-Perfluoralkyl bedeuten. Als konkrete Verbindungen, die unter die jeweilige allgemeine Formel des Fluoralkohols fallen, werden eine ganze Reihe von Fluor enthaltenden Alkoholen genannt, nicht jedoch TFE. Die erfindungsgemässen Gemische sind daher neu. Es war auch überraschend, dass die erfindungsgemäßen Gemische für die genannten Anwendungen sehr gut geeignet sind, da die in der EP-A 0120 319 angeführten Gemische allein zur Entfernung von Wachs Verwendung finden. Durch die erfindungsgemässen Gemische werden auf einem breiten Anwendungsgebiet daher neue Problemlösungen ermöglicht. Insbesondere weisen Gemische aus TFE und R11 bzw. R113 für TFE-Konzentrationen bis zu der des Azeotrops über den gesamten Temperaturbereich bis hin zum Siedepunkt keinen Flammpunkt (Methode geschlossener Tiegel) auf. Die in der US-PS 3 509 061 genannten Gemische sind beispielsweise für die Entfernung von aktivatorhaltigen Flussmitteln nicht geeignet, da bei ihrem Einsatz bei Wahl von TFË als Fluoralkohol «weisse Beläge» auftreten.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher charakterisieren, ohne sie in ihrem Umfange zu begrenzen. Sofern nicht anders angegeben sind % immer Gew.-%.
(
Beispiel 1
Reinigung von Leiterplatten
In einer handelsüblichen 2- bzw. 3-Kammer-Reinigungsanlage wurden Reinigungsversuche mit Leiterplatten, die mit stark aktivatorhaltigem Lötflussmittel verunreinigt waren, vorgenommen. Die Versuchsbedingungen sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Tabelle 1
Nr. Gemisch
1 R113 + TFE 88,1%+ 11,9%
2 Azeotrop
R113 +Methanol
3 Azeotrop
R113 +Äthanol
4 Azeotrop
R113 + i-Propanol
5 R113 +i-Propanol 65%+ 35%
imi. Bad;
2.U. 3. Bad: R113
6 R113 +Äthanol 65%+ 35%
7 R11+TFE 96,0%+ 4,0%
8 R113 + TFE 60%+ 40%
im I.Bad;
2. u. 3. Bad;
wie Nr. 1
9 R113 + TFE+Äthanol + Nitromethan 83,4% +11,3% + 5,0% + 0,3%
10 R112 + TFE + i-Propanol 85%+ 5%+ 10%
11 R113 + TFE 99%+ 1%
12 R11+TFE 99%+ 1%
Reinigungsbedingungen Ergebnis
2-Bad: 3 Min. Ultraschall + 1 Min. Dampfentfettung wie 1 -
wiel -
wie 1 -
3-Bad: 3 Min. Ultraschall -1 Min. Ultraschall
1 Min.
Dampfentfettung wie 5 -
wie 1 +
wie 5 +
wie 1 +
wie 1 +
wie 1 -
wie 1 -
In den in der Spalte «Ergebnis» mit «+» gekennzeichneten Fälle ist eine sehr gute Reinigungswirkung erzielt worden und es kam nicht zur Bildung «weisser Beläge». In den mit «-» gekennzeichneten Fällen kam es zur Bildung «weisser Beläge».
Es ist deutlich sichtbar, dass die erfindungsgemässen Gemische (Versuche 1,7 bis 10) Gemischen gemäss dem Stand der Technik (Versuche 2 bis 6) überlegen sind. Auch die Versuche 11 und 12, in denen Gemische eingesetzt wurden, deren Zusammensetzung in Anlehnung an die US-PS 3 509 061 gewählt wurde, ergaben kein befriedigendes Ergebnis.
Beispiel 2
Reinigung von Schüttgut
Schüttgut (Transistoren-Kappen) wurden zur Entfernung von Ziehölen in einer 2-Kammer-Anlage (3 Minuten Ultraschall, 1 Minute Dampfentfettung) mit R113 + TFE (88,1% + 11,9%) gereinigt. Nach der Behandlung war das Schüttgut einwandfrei sauber.
Beispiel 3
Trocknen fester Oberflächen
Optische Gläser wurden in einer Zweikammer-Trocknungsanlage (1 Minute Sprühen, 1 Minute Dampf) mit R113 + TFE (88,1 % +11,9 %) behandelt. Es resultierten völlig trockene Gläser, die keinerlei Rückstände an der Oberfläche aufwiesen.
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Beispiel 4
Ätzen von Kunststoff
Formstücke aus a) Polymethacrylat (Plexiglas) bzw. b) Polyamid (UltramidR) wurden in R113/TFE (88,1 + 11,9 %) getaucht. Im Versuch a) zeigte sich nach 5 Minuten ein deutlich erkennbarer Angriff, nach 2 Stunden eine starke Trübung der Oberfläche. Das ursprünglich transparente Formstück war völlig mattiert. Im Versuch b) zeigte sich bereits nach 3 Minuten ein starker Angriff der Oberfläche.
Beispiel 5
Kauri-Butanol-Zahien In üblicherweise wurden folgende Kauri-Butanol-Zahlen ermittelt:
Gemisch
Kauri-Butanol-Zahl
R113 + TFE
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88,1% +11,9%
R11 +TFE
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96,0% + 4,0%
Es ist überraschend, dass die erfindungsgemässen Gemische trotz der geringen Kauri-Butanol-Zahlen im Vergleich zu den Aleotropen R11/Äthanol (KB=70), R113/Äthanol (KB=29), R113/i-Propariol (KB=28) oder R11/i-Propanol (KB=68) ein verbessertes Lösungsverhalten zeigen.
Claims (14)
1. Gemische, gekennzeichnet durch einen Gehalt an 1,1,1-Trifluoräthanol (TFE) und einem halogenierten Kohlenwasserstoff aus der Gruppe chlorierter und/oder fluorierter Kohlenwasserstoffe mit 1 "bis 3 C-Atomen (HKW) oder polyfluorierter aromatischer Kohlenwasserstoffe (AFKW) und durch ein Gewichtsverhältnis TFE:HKW bzw. AFKW von 1:90 bis 99:1.
2. Gemische gemäss Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Gewichtsverhältnis TFE:HKW bzw. AFKW von 1:50 bis 1:1,5.
3. Gemische gemäss Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Gewichtsverhältnis TFE:HKW bzw. AFKW von 1:1 bis 99:1.
4. Gemische gemäss einem der vorhergehenden Ansprüche, in denen der HKW bzw. AFKW für sich einen Siedepunkt im Bereich von 20°C bis 150°C besitzt.
5. Gemische gemäss einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die AFKW perfluorierte AFKW sind.
6. Gemische gemäss einem der Ansprüche 1 bis 4, in denen der HKW ausgewählt ist aus der Gruppe Dichlormethan, Trichlormonofluormethan (RH), 1,1,1-Trichloräthan, TetrachIor-1,2-difluoräthan (R112), 1,1,2-Trichlor-trifIuoräthan (R113), Tetrachlormonofluoräthan (R121), Trichlordifluoräthan (R122).
7. Gemische gemäss einem der Ansprüche 1, 4 und 6 enthaltend TFE und R11, vorzugsweise im Gewichtsverhältnis von 1:90 bis 1:10.
8. Gemische gemäss einem der Ansprüche 1, 4 und 6 enthaltend TFE und R113, vorzugsweise im Gewichtsverhältnis von 1:90bis 1:5.
9. Gemische gemäss einem der Ansprüche 1 bis 4, in denen der AFKW ausgewählt ist aus der Gruppe Polyfluorbenzole, insbesondere Hexafluorbenzol.
10. Gemische gemäss einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt an einem Alkohol aus der Gruppe Methanol, Äthanol, i-Propanol, n-PropanoI, n-Butanol, sec. Butanol, tert. Butanol, im Bereich von 0,1 bis 50 Gew.-%, insbesondere 1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch,
11. Gemische gemäss einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt an Stabilisator von 0,01 bis 6 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch, vorzugsweise aus der Gruppe Nitroalkan, Alkylenoxid und/oder Alkinol.
12. Verwendung der Gemische gemäss einem der vorhergehenden Ansprüche in Tauch- und/oder Sprüh-Reinigungsverfahren oder bei der Dampfentfettung.
13. Verwendung der Gemische gemäss einem der Ansprüche 1 bis 11 zur Entfernung von adsorbiertem Wasser von der Oberfläche fester Gegenstände.
14. Verwendung der Gemische gemäss einem der Ansprüche 1 bis 11 als Arbeitsmedium für Rankine-verfahren und/oder Wärmepumpen.
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3609426A DE3609426C2 (de) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | Lösungsmittelgemische |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH676718A5 true CH676718A5 (de) | 1991-02-28 |
Family
ID=6296866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH777/87A CH676718A5 (de) | 1986-03-20 | 1987-03-02 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4770714A (de) |
JP (1) | JP2599134B2 (de) |
BE (1) | BE1001156A5 (de) |
CH (1) | CH676718A5 (de) |
DE (1) | DE3609426C2 (de) |
FR (1) | FR2596057B1 (de) |
GB (1) | GB2188059B (de) |
NL (1) | NL8700517A (de) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828751A (en) * | 1987-08-28 | 1989-05-09 | Pcr, Inc. | Solvent composition for cleaning silicon wafers |
US5302313A (en) * | 1988-06-22 | 1994-04-12 | Asahi Glass Company Ltd. | Halogenated hydrocarbon solvents |
WO1989012674A1 (en) * | 1988-06-22 | 1989-12-28 | Asahi Glass Company Ltd. | Halogenated hydrocarbon solvents and use thereof |
JPH02261900A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-24 | Pcr Inc | 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 |
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Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1986
- 1986-03-20 DE DE3609426A patent/DE3609426C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-02-27 GB GB8704679A patent/GB2188059B/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-02 CH CH777/87A patent/CH676718A5/de not_active IP Right Cessation
- 1987-03-04 NL NL8700517A patent/NL8700517A/nl not_active Application Discontinuation
- 1987-03-16 US US07/025,974 patent/US4770714A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-17 FR FR8703676A patent/FR2596057B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-18 JP JP62061424A patent/JP2599134B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-19 BE BE8700284A patent/BE1001156A5/fr not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2599134B2 (ja) | 1997-04-09 |
DE3609426A1 (de) | 1987-09-24 |
GB8704679D0 (en) | 1987-04-01 |
NL8700517A (nl) | 1987-10-16 |
GB2188059A (en) | 1987-09-23 |
JPS62234530A (ja) | 1987-10-14 |
DE3609426C2 (de) | 1997-04-24 |
GB2188059B (en) | 1990-06-13 |
BE1001156A5 (fr) | 1989-08-01 |
FR2596057B1 (fr) | 1994-07-22 |
FR2596057A1 (fr) | 1987-09-25 |
US4770714A (en) | 1988-09-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased |