CH506784A - Vorrichtung an Sekundärelektronenvervielfachern - Google Patents

Description

  
 



  Vorrichtung an Sekundärelektronenvervielfachern
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung an Sekun   därelektronenvervieifachern,    insbesondere für direktregistrierende lichtoptische Spektralgeräte.



   Es ist bekannt, dass bei der spektrochemischen Analyse mittels lichtoptischer Spektralgeräte empfindliche Sekundärelektronenvervielfacher verwendet werden. Die Lichtintensität der Spektrallinien dient dabei als Mass für den Gehalt der entsprechenden Elemente in der Probe. Eine rasch aufeinanderfolgende Probenanalyse ist jedoch dann nicht möglich, wenn die Gehalte eines Elementes und damit die Lichtintensitäten von einem Maximal- auf einen Minimalwert fallen.



  Der mit einem maximalen Lichtstrom beaufschlagte Sekundärelektronenvervielfacher wird so stark belastet, dass der nachfolgende schwache Lichtstrom nicht exakt registriert wird. Es kommt dadurch zu Fehlmessungen. Um diese zu vermeiden, muss in solchen Fällen zwischen die beiden Analysen eine Ruhepause eingeschoben werden, d. h. ein Zeitraum, in dem sich der überbeanspruchte Sekundärelektronenvervielfacher erholen und seine ursprüngliche Empfindlichkeit wiedererhalten kann.



   Zweck der Erfindung ist es, ein rasches Aufeinanderfolgen völlig unterschiedlicher Probeanalysen zu gewährleisten, besonders in den Fällen, wo ein Sekundärelektronenvervielfacher von einem Lichtstrom hoher Intensität und einem geringer Intensität wechselweise beaufschlagt wird. Aufgabe der Erfindung ist es, einen auf einen Sekundärelektronenvervielfacher treffenden Lichstrom so zu beeinflussen, dass eine bei einem Pro   grammwechsel    zu Messfehlern führende und eine Erholungszeit bedingende Überlastung des betreffenden Sekundärelektronenvervielfacher vermieden ist.



   Erfindungsgemäss wird die Aufgabe dadurch gelöst, dass sich eine bewegliche Abdeckung aus optisch undurchlässigem, halbdurchlässigem oder selektierendem Material in Abhängigkeit von der Intensität eines einen Sekundärelektronenvervielfacher beaufschlagenden Lichtstromes im Strahlengang des Sekundärelektronenvervielfachers oder im lichtfreien Raum befindet.



   Mit der erfindungsgemässen Vorrichtung kann ein Sekundärelektronenvervielfacher wirkungsvoll vor einer Überlastung geschützt werden. Dieser Schutz vor Überlastung gewährleistet eine rasche Analysenfolge und eine gleichbleibende Empfindlichkeit, besonders dann, wenn maximale und minimale Lichtströme den Sekundärelektronenvervielfacher abwechselnd beaufschlagen.



   Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Die Fig. 1 zeigt eine Prinzipskizze der Vorrichtung. An einem Sekundärelektronenvervielfacher 1 eines direktregistrierenden lichtoptischen Spektralgerätes zur Stahl- und   Schiackenanalyse    ist ein schwenkbarer Hebel 2 mit einer an dem dem Drehpunkt 3 des Hebels abgewandten Ende befestigten Abdeckung so angeordnet, dass die Abdeckung 4, die aus einem optisch undurchlässigen, halbdurchlässigen oder selektierenden Material, beispielsweise einem UV-Filter, besteht, in einer Totlage des Hebels den Sekundärelektronenvervielfacher vor Überlastung schützt, während sie in der anderen Totlage den Strahlengang nicht behindert. Die Schwenkbewegung des Hebels aus einer Totlage in die andere erfolgt in Abhängigkeit von der Intensität des Lichtstromes.

 

   PATENTANSPRUCH



   Vorrichtung an einem Sekundärelektronenvervielfacher, insbesondere für   direktregistrierende      iichtopti-    sche Spektralgeräte, dadurch gekennzeichnet, dass sich eine bewegliche Abdeckung (4) aus optisch undurchlässigem, halbdurchlässigem oder selektierendem Mate 

**WARNUNG** Ende DESC Feld konnte Anfang CLMS uberlappen**.



   

Claims (1)

1. **WARNUNG** Anfang CLMS Feld konnte Ende DESC uberlappen **.

   Vorrichtung an Sekundärelektronenvervielfachern Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung an Sekun därelektronenvervieifachern, insbesondere für direktregistrierende lichtoptische Spektralgeräte.

   Es ist bekannt, dass bei der spektrochemischen Analyse mittels lichtoptischer Spektralgeräte empfindliche Sekundärelektronenvervielfacher verwendet werden. Die Lichtintensität der Spektrallinien dient dabei als Mass für den Gehalt der entsprechenden Elemente in der Probe. Eine rasch aufeinanderfolgende Probenanalyse ist jedoch dann nicht möglich, wenn die Gehalte eines Elementes und damit die Lichtintensitäten von einem Maximal- auf einen Minimalwert fallen.

   Der mit einem maximalen Lichtstrom beaufschlagte Sekundärelektronenvervielfacher wird so stark belastet, dass der nachfolgende schwache Lichtstrom nicht exakt registriert wird. Es kommt dadurch zu Fehlmessungen. Um diese zu vermeiden, muss in solchen Fällen zwischen die beiden Analysen eine Ruhepause eingeschoben werden, d. h. ein Zeitraum, in dem sich der überbeanspruchte Sekundärelektronenvervielfacher erholen und seine ursprüngliche Empfindlichkeit wiedererhalten kann.

   Zweck der Erfindung ist es, ein rasches Aufeinanderfolgen völlig unterschiedlicher Probeanalysen zu gewährleisten, besonders in den Fällen, wo ein Sekundärelektronenvervielfacher von einem Lichtstrom hoher Intensität und einem geringer Intensität wechselweise beaufschlagt wird. Aufgabe der Erfindung ist es, einen auf einen Sekundärelektronenvervielfacher treffenden Lichstrom so zu beeinflussen, dass eine bei einem Pro grammwechsel zu Messfehlern führende und eine Erholungszeit bedingende Überlastung des betreffenden Sekundärelektronenvervielfacher vermieden ist.

   Erfindungsgemäss wird die Aufgabe dadurch gelöst, dass sich eine bewegliche Abdeckung aus optisch undurchlässigem, halbdurchlässigem oder selektierendem Material in Abhängigkeit von der Intensität eines einen Sekundärelektronenvervielfacher beaufschlagenden Lichtstromes im Strahlengang des Sekundärelektronenvervielfachers oder im lichtfreien Raum befindet.

   Mit der erfindungsgemässen Vorrichtung kann ein Sekundärelektronenvervielfacher wirkungsvoll vor einer Überlastung geschützt werden. Dieser Schutz vor Überlastung gewährleistet eine rasche Analysenfolge und eine gleichbleibende Empfindlichkeit, besonders dann, wenn maximale und minimale Lichtströme den Sekundärelektronenvervielfacher abwechselnd beaufschlagen.

   Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Die Fig. 1 zeigt eine Prinzipskizze der Vorrichtung. An einem Sekundärelektronenvervielfacher 1 eines direktregistrierenden lichtoptischen Spektralgerätes zur Stahl- und Schiackenanalyse ist ein schwenkbarer Hebel 2 mit einer an dem dem Drehpunkt 3 des Hebels abgewandten Ende befestigten Abdeckung so angeordnet, dass die Abdeckung 4, die aus einem optisch undurchlässigen, halbdurchlässigen oder selektierenden Material, beispielsweise einem UV-Filter, besteht, in einer Totlage des Hebels den Sekundärelektronenvervielfacher vor Überlastung schützt, während sie in der anderen Totlage den Strahlengang nicht behindert. Die Schwenkbewegung des Hebels aus einer Totlage in die andere erfolgt in Abhängigkeit von der Intensität des Lichtstromes.

   PATENTANSPRUCH

   Vorrichtung an einem Sekundärelektronenvervielfacher, insbesondere für direktregistrierende iichtopti- sche Spektralgeräte, dadurch gekennzeichnet, dass sich eine bewegliche Abdeckung (4) aus optisch undurchlässigem, halbdurchlässigem oder selektierendem Mate rial in Abhängigkeit von der Intensität eines einen Sekundärelektronenvervielfacher (1) beaufschlagenden Lichtstromes im Strahlengang des Sekundärelektronenvervielfachers oder im lichtfreien Raum befindet.