CH375047A - Anordnung zur Erzeugung bzw. Verstärkung sehr hochfrequenter Strahlung nach dem "Maser"-Prinzip - Google Patents

Anordnung zur Erzeugung bzw. Verstärkung sehr hochfrequenter Strahlung nach dem "Maser"-Prinzip

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CH375047A
CH375047A CH7245359A CH7245359A CH375047A CH 375047 A CH375047 A CH 375047A CH 7245359 A CH7245359 A CH 7245359A CH 7245359 A CH7245359 A CH 7245359A CH 375047 A CH375047 A CH 375047A
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Walter Dr Heywang
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Siemens Ag
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Description


      Anordnung    zur Erzeugung     bzw.        Verstärkung    sehr     hochfredueaiter        Strahlung     nach dem      Maser -Prinzip       Bei Anordnungen, die nach dem     sogenannten           Maser -Prinzip    arbeiten     (Microwäve        amplification          by        stimulated        _emission        of        radiation),    wird die Tat  sache ausgenutzt, dass,     wenn        ein    Teilchen, z.

   B. ein       Elektron,    durch eine Strahlung dazu angeregt wird,  von einem     Term    höheren     Energieinhalts    auf einen       Term    niedrigeren     Energieinhalts    überzugehen, eine  der     Energiedifferenz    beider     Terme    entsprechende  Strahlung ausgesandt wird, die     vielfach        stärker    ist  als die anregende Strahlung; die Frequenzen der aus  gesendeten und anregenden Strahlung sind gleich.  



  Eine     fortläufende        Strahlungsaussendung    kann  durch     eine    Zusatzstrahlung erreicht werden, indem  durch diese Strahlung wieder Teilchen aus dem     Term     niedrigeren     Energieinhalts        in    einen solchen     Term     angehoben werden, dessen Energieinhalt über dem       Term    liegt, von dem die Teilchen durch die Anre  gungsstrahlung wieder in die     niedrigere    Energiestufe  übergehen.

   Dieser Vorgang ist in schematisierter  Form in     Fig.    1 dargestellt, in der der Energieinhalt  der durch waagrechte kurze Striche angedeuteten       Terme   <I>a, b,</I> c von oben nach unten     abnimmt.    Der       Term    a entspricht also einem grösseren     Energieinhalt     als der     Term   <I>b,</I> und<I>b</I> hat einen grösseren Energie  inhalt als c.

   Bei der geschilderten Anordnung     wird     also zunächst durch die     Zusatzstrahlung    ein Teil  chen (Elektron) von dem     Term    c zum     Term    a an  gehoben (siehe     Pfeil    1 in     Fig.1).    Von dort     fällt    dieses  Elektron dann (siehe Pfeil 2) auf den     Term    b ab, wo  es haftet.

   Durch die     Anregungsstrahlung,    die dem  Energieabstand zwischen den     Termen    b und c ent  spricht, wird dann dieses Elektron veranlasst, von  b nach c (siehe Pfeil 3) überzugehen,     wobei    dann die  verstärkte Strahlung ausgesandt wird, deren Frequenz  ebenso wie die der     Anregungsstrahlung    dem Energie  abstand     Eb,    zwischen den     Termen    b und c     gemäss    der         bekannten    Formel     Eb,   <I>- h - v</I> entspricht.

   Aus der  Tatsache, dass das Anheben des Elektrons auf dem  Wege von c nach     a    einer höheren     Energie        bedarf,     als beim     übergang    des Elektrons vom     Term    b nach  c frei wird, geht schon hervor,     däss    die zur Anhe  bung des     Elektrons    dienende     Zusatzstrahlung        eine     höhere Leistung haben muss als die beim     übergang     des     Elektrons    von b auf c ausgesandte Strahlung.

    Noch störender aber ist bei     einer    solchen Anordnung  die Tatsache, dass die     Frequenz    der Zusatzstrahlung;  durch die das Elektron von c nach a angehoben     wird,     entsprechend der     Gleichung        v..        --h   <I>=</I>     E",    höher     sein     muss als die von der Anordnung ausgesandte Strah  lung.

   Der Vorteil der laufenden     Aussendung        einer          Hochfrequenzstrahlung    ist     somit    durch den schwer  wiegenden Nachteil erkauft, dass die     Zusatzstrahlung     nicht nur eine sehr hohe     Leistung    haben muss,     sön-          dern    sogar auch noch eine höhere Frequenz.  



  Diese Nachteile werden bei der erfindungsgemä  ssen Anordnung in einer geradezu überraschend ein  fachen Weise vermieden, indem die erfindungsge  mässe Anordnung zur Verstärkung oder Erzeugung  sehr hochfrequenter Strahlung nach dem     Maser-          Prinzip    durch folgende Merkmale     gekennzeichnet    ist:

    Durch einen elektronenleitenden,     insbesondere        ein-          kristallinen,    Halbleiterkörper, der zwei     voneinander     verschiedene Gebiete hat, in denen     die    Ladungsträ  ger     beim,Stromdurchfluss    durch den Körper verschie  denen     Energieinhalt    haben,

   und     in    dessen     übergangs-          gebiet    zwischen diesen beiden Gebieten die Ladungs  träger     höherer    Energie durch     Anregung        mittels        hoch-          frequenter        Strahlung,    die wenigstens in dem     Über-          gangsgebiet    des Halbleiterkörpers verläuft;

   eine ver  stärkte     Energiestrahlung    gleicher Frequenz abzugeben  vermögen und durch     eine    Spannungsquelle, durch      die dem     Übergangsgebiet    Ladungsträger aus dem  Gebiet höherer Energie     zufliessen,    sowie durch Mittel,  durch die     hochfrequente        Strahlung    in das     übergangs-          gebiet    eingestrahlt     wird.     



  Der sich aus dieser     Massnahme    ergebende Vor  teil besteht darin, dass durch die Spannungsquelle  fortlaufend Elektronen höherer Energie     in    die Über  gangszone     zwischen    den beiden Teilgebieten des  Halbleiterkörpers     eingeführt    werden, die nun unter  dem     Einfluss    der     in    die     Übergangszone        eindringen-          den    Anregungsstrahlung in niedrigere Energiestufen  unter Abgabe der verstärkten Strahlung übergehen,  z.

   B.     mit    positiven Ladungsträgern     rekombinieren     können, und dass zur     Aufrechterhaltung    der Strah  lung     lediglich    der     dauernde        Stromfuss    durch den  Halbleiterkörper aufrechterhalten werden muss.

   Die  an den     Halbleiterkörper    angelegte Spannung kann       insbesondere    eine     Gleichspannung        sein.    Sie kann aber  auch     vorzugsweise    zur     Moduherung    der vom Halb  leiterkörper ausgesandten     hochfrequenten    Strahlung       im    Takte der gewünschten     Modulationsfrequenz     schwanken.

   Auch     impulsförmige        Aussendungen    von  Strahlungen können dadurch     bewirkt    werden, dass  an den von einer schwachen     Anregungsstrahlung          dauernd    bestrahlten Halbleiterkörper     eine    Wechsel  spannung oder     Spannungsimpulse    angelegt werden,  so dass von dieser Anordnung hochfrequente Strah  lungsimpulse ausgesandt werden.  



  Als gut geeignete Halbleitergrundstoffe     für        die     Anordnung gemäss der     Erfindung    kommen die für       Richtleiter    und Transistoren     geeigneten    und an sich  bekannten Stoffe, wie z. B. Silizium,     Germanium,          AIIIBV-    Verbindungen in Frage. Darüber hinaus sind  aber auch noch andere Halbleiterstoffe     geeignet,    z. B.

    Wismut     Tellurid        (Bi2Te3).    Dieses     letztere    eignet sich  für den     vorliegenden    Zweck     allein    schon dadurch  besonders - gut, weil es nur     einen        geringen    Bandab  stand zwischen dem     Valenz-    und Leitungsband hat;  darüber hinaus besitzt es     relativ    zu den anderen ge  nannten Stoffen nur eine geringe     Wärmeleitfähigkeit,     wodurch der Maser-Effekt weiter begünstigt     wird.     



  Um im Halbleiterkörper     Gebiete    verschiedenen       Energieinhalts    der Ladungsträger zu haben, empfiehlt  es sich,     einen        Halbleiterkörper        mit        .einer    p- und einer       n-Zone    zu verwenden. Da aber, wie schon oben  erwähnt,     die        Frequenz    der Anregungsstrahlung bzw.

    die     Frequenz    der ausgesandten Strahlung     in        einem     festen Zusammenhang mit dem Energieverlust steht,  den das durch die     eindringende-    Strahlung an  geregte     Elektron    beim Übergang in den     Term    niedri  geren     Energieinhalts    erleidet, und diese Frequenz bei  der Verwendung von Germanium oder     Silizium    als  Halbleitergrundstoff der Wellenlänge von etwa 1     ,um     entspricht,

   empfiehlt -es sich zur Erzielung von     lang-          welligerer        Strahlung        im        Übergangsgebiet    zwischen  der p- und der     -n-Zone    Haftstellen (sogenannte     traps)          einzubringen,    deren Energieabstand voneinander bzw.  vom     Leitungsband    zur Haftstelle bzw. von dieser  zum     Valenzband    des Halbleiters der     gewünschten     Wellenlänge der     ausgesandten    Strahlung entsprechend    klein ist.

   Da bei Verwendung von zwei     Haftstellen     diese beiden ortsgleich im Halbleiter     liegen    müssen,  damit die Elektronen durch den     Einfluss    der Anre  gungsstrahlung übergehen können, wird vorgeschla  gen, diese beiden Haftstellen durch Einbau von  Atomen oder Molekülen solcher     Stoffe    zu bilden,  deren     Termabstand    nur sehr klein ist und ganz in  nerhalb des verbotenen Bandes des     Halbleiter-Grund-          stoffes    liegt. Als solche     Stoffe        kommen    für Ger  manium bzw.     Silizium    z.

   B.     in    Frage Nickel, Eisen,  Kupfer oder auch Gitterdefekte mit Haftstellen  charakter. Durch ein magnetisches Zusatzfeld kann  ferner die Federstruktur der     Haftstellenniveaus    aus  genützt werden.     In    diesem Fall     kann    der     Termab-          stand    und damit die     Wellenlänge    der ausgesandten  Strahlung auch vom Magnetfeld her gesteuert, z. B.       im    Takt von Impulsen oder einer Wechselspannung       moduliert    werden.  



  Weitere     Einzelheiten    gehen aus den folgenden  Darlegungen und den in den Figuren gezeigten Aus  führungsbeispielen der     Erfindung    hervor. In dem  Beispiel der     Fig.2a    und 2b besteht der Halbleiter  körper 1 aus den zwei Teilgebieten 11 und 12, von  denen 11     p-leitend    und 12     n-leitend    ist.

   Der Halb  leiterkörper     besitzt    ferner zur     sperrschichtfrenen        Kon-          taktierung    der beiden     Teilgebiete    11, 12 jeweils  Schichten 2, 3, deren     Überdotierung    in der     Fig.2     durch die Bezeichnungen<I>pp</I> bzw.     nn    angedeutet ist.

    Diese zur     sperrschichtfreien        Stromzuführung    dienen  den Schichten sind     möglichst    dünn, damit sie für  die ein- bzw. ausfallende Strahlung     möglichst    gut  durchlässig sind; die Stromzuführung zu     ihnen        erfolgt     z. B. durch     ringförmig    aufgebrachte Metallelektroden  4, 5 (siehe auch den     Seitenriss    der Halbleiteranord  nung in     Fig.2b),    an die eine Spannungsquelle 6  angeschlossen ist. Die     Polung    dieser Spannungsquelle  ist so gewählt, dass der Halbleiter 1 in     Flussrichtung     betrieben ist.  



  In     die    Zwischenschicht 1' des Halbleiters 1 zwi  schen den beiden p- und     n-Gebieten    11 und 12 flie  ssen also dauernd Elektronen aus dem Teilgebiet       hinein,    die von ihrem Zustand höherer Energie, den  sie in     diesem    Gebiet 12     besitzen,        in    der Zwischen  schicht 1' auf niedrigere Energiestufen absinken, ins  besondere     mit    den von dem Teilgebiet 11 kommen  den Defektelektronen     rekombinieren.    Um eine beson  ders     günstige    Strahlungsausbeute zu haben,

   ist der  Halbleiter     scheibenförmig        mit    möglichst ebenen Ober  flächen ausgebildet, vor allem ist auch die     übergangs-          schicht        möglichst    eben.

   Die auf ihn     auffallende     Strahlung, die     in    der     Fig.2a        mit    den Pfeilen     S1    an  gedeutet ist, dringt, da     ihre    Frequenz     v1    kleiner ist  als der Quotient aus dem Energieabstand zwischen  dem     Valenz-    und Leitungsband und dem     Planck-          schen        Wirkungsquantum    h, bis     in    die Zwischen  schicht l' zwischen den Teilgebieten<B>11,</B> 12 ein und  löst dort     die    verstärkte Strahlung aus,

   die nun wie  derum aus dem Halbleiter     herausstrahlt.    Um die       Wellenlänge    der aus dem. Halbleiter austretenden       verstärkten        Strahlung    bzw. die Wellenlänge der an-      regenden Strahlung     S1    nicht zu klein werden zu las  sen, um also z. B. eine Strahlung im mm-Gebiet zu  erhalten, sind, wie schon oben angegeben, wenigstens  in dem Zwischengebiet 1' im Halbleiterkörper Haft  stellen für die aus dem Gebiet 12 kommenden Elek  tronen bzw. für die aus dem Gebiet 11 kommenden  Defektelektronen vorgesehen, deren Energieabstand  der gewünschten Wellenlänge entsprechend klein ist.

    Die     in    diese Haftstellen aus dem Leitungsband über  gegangenen Elektronen werden durch die     einfallende     Strahlung     S1    zum Übergang in das     Valenzband    bzw.  in eine energetisch tiefer     liegende        Haftstelle    am glei  chen     Ort    angeregt, wobei sie dann dort     mit    den       Defektelektronen        rekombinieren    und bei diesem     über-          gang    die verstärkte Strahlung aussenden, die dem  geringen Energieabstand entsprechend die gewünschte  Wellenlänge besitzt.  



  Die Energie der ausgesandten Strahlung ist zu  gleich abhängig von der Menge der     gleichzeitig    zum  Übergang angeregten Elektronen und ist somit im       wesentlichen    proportional der Stärke des durch den  Halbleiter 1 führenden Stromes. In der in     Fig.2     gezeigten Anordnung wird     dies    ausgenutzt; zu die  sem Zweck ist in dem     Stromkreis    noch ein     übertra-          ger    7 vorgesehen, dessen     Primärseite    71 z.

   B. von  einem Wechselstrom durchflossen ist, der aus einer  Spannungsquelle 8 über     ein    Mikrophon 9 durch diese  Primärwicklung     fliesst    und in der Sekundärwicklung  eine der Spannung 6 überlagerte Wechselspannung  erzeugt. Diese Wechselspannung hat einen entspre  chend     schwankenden        Stromfluss    durch den Halblei  ter 1 zur Folge, so dass die ausgesandte Strahlung  eine im Takte der Sprachfrequenz schwankende Ener  gie hat.  



  Weitere     Einzelheiten    gehen aus den in den     Fig.    3  und 4 gezeigten     Ausführungsbeispielen    der Erfin  dung und der folgenden Beschreibung hervor:  Bei der     Fig.    3 ist die     scheibenförmige    Halbleiter  anordnung 1 zwischen zwei     Hohlleitern    31, 32  angeordnet, und zwar derart, dass die beiden metal  lischen Hohlleiter 31, 32 als ringförmige Stromzu  führungen zu den     überdotierten    pp- bzw.     nn-Schncht-          ten    2, 3 des Halbleiters 1 dienen.

   Der Hohlleiter 31  ist mit dem     +Pol    der Batterie 6 verbunden, wäh  rend der negative Pol     dieser    Spannungsquelle über  die Sekundärseite 72 des     Übertragers    7 mit dem Hohl  leiter 32 verbunden ist. Der Halbleiter 1     liegt    also  an     einer        in        Flussrichtung    gepolten     Spannungsquelle,     so dass die Elektronen fortlaufend aus dem     n-leit-          fähigen    Teil des Halbleiters 1 in die     Zwischenschicht     1' zwischen der p- und der     n-Zone    nachgeliefert wer  den.

   Die Primärseite 71 des Übertragers 7 ist, wie  schon     ,in        Fig.2    dargestellt, über eine Batterie 8 an  ein Mikrophon 9 angeschlossen, so dass der Span  nung der Gleichstromquelle 6 eine Wechselspannung  im Takte der     Sprachfrequenz    überlagert ist, mit der  das     Mikrophon    9     beaufschlagt        wird.    Die     Anordnung     des Halbleiters 1 zwischen     diesen    beiden     Hohlleitern     ist derart, dass die Übergangsschicht 1' zwischen der  p- und     n-Zone    des Halbleiters etwa senkrecht zu den    Achsen der beiden Hohlleiter 31,

   32     liegt.    Die einfal  lende Strahlung,     die        mit        S1    bezeichnet ist, fällt somit  etwa     .senkrecht    auf die Zwischenschicht 1' auf. In  dieser Zwischenschicht wird in der     geschilderten     Weise durch die     Anregungsstrahlung        S1        die    ver  stärkte     Strahlung    S2 angeregt, die im wesentlichen in  gleicher Richtung wie die     Einfallrichtung    der Strah  lung     S1    aus dem Halbleiter 1 austritt und in den  zweiten Hohlleiter 32     eintritt.     



       An    Stelle der hier gezeigten     metallischen    Hohllei  ter 31, 32 können auch,     wie        aus        Fig.    4 hervorgeht,       dielektrische    Strahlungsleiter 31', 32' verwendet wer  den, bei denen die einfallende Strahlung     S1    in an  sich bekannter - Weise innerhalb eines     stabförmigen          Nichtleiterstabes    geführt wird.

   Auch hier     trifft    die       einfallende    Strahlung     S1    insbesondere etwa senkrecht  auf die Übergangsschicht 1' zwischen der, p- und       n-Zone    des Halbleiters auf.

   Auch für die     Fortleitung     der ausfallenden     Strahlung        S2        kann    ein     dielektrischer          Strahlungsleiter    dienen, indem die aus dem Halblei  ter austretende Strahlung in die     Stirnseite    des     stab-          förnügen    Strahlers     eintritt    und sich dort in an sich  bekannter Weise fortpflanzt.

   Zur     Kontakbierung    die  ses Halbleiters dienen in dem in     Fig.    4 gezeichneten  Beispiel     ähnlich    wie in     Fig.    2 besondere     Kontaktie-          rungsringe        4.,    5, an die eine in     Flussrichtung    des     p-n-          Überganges    gepolte Spannungsquelle, z. B. der     in          Fig.2        gezeigte        Stromkreis,    in nicht näher darge  stellter Weise angeschlossen- ist.  



  In diesem     Ausführungsbeispiel    ist ferner die Spule  40 vorgesehen, die bei     Stromdurchfluss    ein das über  gangsgebiet 1'     durchdringendes    Magnetfeld erzeugt,  das bei einer in diesem Übergangsgebiet     befindlichen     Haftstelle, die an sich nur .einen wirksamen Energie  term hat, eine Aufspaltung dieses     Terms    in insbeson  dere zwei eng benachbarte     Terme        erzwingt    und da  durch einen von der Stärke des Magnetfeldes     abhän-          gigen        Energiesprung    erzeugt,

   der     eine    relativ grosse  Wellenlänge der ausgesandten Strahlung zur Folge  hat.  



  Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist der  Halbleiterkörper in einem abgestimmten     Resonator     angeordnet. Dieser kann z. B.     ein        Hohlraumresona-          tor    sein. Für besondere hochfrequente,     insbesondere     optische     Strahlung,    für die bekanntlich die Wellen  länge praktisch in jedem Falle klein gegenüber den  Abmessungen     eines    für die Strahlung dieser Frequenz  in Frage kommenden     Resonators,    z. B.     eines        Fabry-          Perot-Interferometers    ist, kann z.

   B. die Anordnung  der     Fig.    4 als     Resonator    wirksam werden. Wegen des  Unterschiedes der     Dielektrizitätskonstanten    bzw. der       Brechungsindizes    von 1 und 31' bzw. 1 und 32' kön  nen die     Grenzflächen    zwischen 1 und 31' und 1  und 32' als Reflektoren für die in 1 bzw. 1' erzeugte       Strahlung    wirken. Sie     bilden        dann    einen abgestimm  ten     Resonator,    etwa nach Art des bekannten     Perot-          Fabry-Interferometers,    für die in 1 erzeugte Strah  lung.

   Auch die äusseren,     in    der Figur nicht mehr  dargestellten     Endflächen    von 31' und 32' können     ass          Reflexionsflächen    für die Strahlung     wirken.    Im Falle      für die     Strahlung    paralleler oder     konfokaler    Anord  nung dieser     Flächen        zueinander        können    auch diese       anstelle    der Flächen zwischen 1 und 31'     bzw.    1 und  32'     zusammen    mit dem dazwischenliegenden Raum  die Funktion eines     Resonators     <RTI  

   ID="0004.0010">   übernehmen.  

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH Anordnung zum- Verstärken oder Erzeugen sehr hochfrequenter Strahlung nach dem Maserprinzip, gekennzeichnet durch einen elektronenleitenden Halb leiterkörper mit zwei voneinander verschiedenen Ge bieten, in den die Ladungsträger beim Stromdurch- fluss durch den Körper verschiedenen Energieinhalt haben und in dessen Übergangsgebiet zwischen diesen beiden Gebieten die Ladungsträger höherer Energie durch Anregung mittels hochfrequenter Strahlung, die wenigstens in dem Übergangsgebiet des Halblei terkörpers verläuft,
    eine verstärkte Energiestrahlung gleicher Frequenz abzugeben vermögen und durch eine Spannungsquelle, durch die dem Übergangsgebiet Ladungsträger aus dem Gebiet höherer Energie zu fliessen, sowie durch Mittel, durch die hochfrequente Strahlung in das Übergangsgebiet eingestrahlt wird: UNTERANSPRÜCHE 1.
    Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass in dem Übergangsgebiet Haftstel len für die Ladungsträger höherer Energie eingelagert sind; aus denen sie unter Strahlungsabgabe angeregt durch die in den Halbleiterkörper verlaufende Strah lung in eine niedrigere Energiestufe übergehen. 2. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass in dem Übergangsgebiet Haftstel len für Ladungsträger niedrigerer Energie eingelagert sind, in die die Ladungsträger höherer Energie, an geregt durch die in den Halbleiter verlaufende Strah lung, unter Strahlungsabgabe übergehen. 3.
    Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass das Gebiet höheren Energieinhalts der Ladungsträger im Halbleiterkörper n-dotiert ist. 4. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass das Gebiet niedrigeren Energie- inhalts der Ladungsträger p-dotiert ist.
    5. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge- kennzeichnet, dass die an beide Gebiete des Halb- Leiterkörpers angelegte Spannungsquelle in F iussrich- tung gepolt ist. 6. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass der Halbleiterkörper in einem auf die ausgesandte Strahlungsfrequenz abgestimmten Re sonator angeordnet ist. 7.
    Anordnung nach Patentanspruch, gekennzeich net durch eine zusätzliche Strahlungsquelle, deren hochfrequente Strahlung wenigstens bis in das über gangsgebiet des Halbleiterkörpers dringt. B. Anordnung nach Patentanspruch und Unter anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Halb leiterkörper in einem die Fortpflanzung der einfallen den bzw. der ausgesandten Strahlung gestattenden Hohlleiter oder am Ende eines stabförmigen dielek- trischen Strahlungsleiters für die einfallende bzw.
    austretende Strahlung angeordnet und nur von einer Seite her von der die verstärkte Strahlung anregen den Strahlung beaufschlagt ist (Fig. 3). 9. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass zur Modulation der vom Halb leiter ausgesandten Strahlung die an den Halbleiter angelegte Spannung im Takte der gewünschten Modu lation veränderbar ist. 10. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Elektroden auf dem Halbleiter körper für die Strahlung durchlässig sind. 11.
    Anordnung nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden die Oberflächen des Halbleiterkörpers für das Durchtreten der ein- bzw. ausfallenden Strahlung teilweise freilassen. 12. Anordnung nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Abmessungen der übergangs- schicht senkrecht zur Einfallsrichtung der Strahlung ein Vielfaches der Wellenlänge der ausgesandten Strahlung betragen. 13.
    Anordnung nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass zur Verstärkung oder Erzeugung von Strahlung eine ein Magnetfeld erzeugende Ein richtung (40) vorgesehen ist, deren Magnetfeld das Übergangsgebiet durchdringt und bei den im über gangsgebiet eingelagerten Haftstellen, die an sich nur einen wirksamen Energieterm haben, eine Aufspal tung in mehrere, insbesondere eng benachbarte, Terme bewirkt.
CH7245359A 1958-04-30 1959-04-23 Anordnung zur Erzeugung bzw. Verstärkung sehr hochfrequenter Strahlung nach dem "Maser"-Prinzip CH375047A (de)

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