CH334330A - Apparatur mit Hochvakuumraum und kontinuierlich benutzbarer Vakuumschleuse für Bänder und Drähte - Google Patents
Apparatur mit Hochvakuumraum und kontinuierlich benutzbarer Vakuumschleuse für Bänder und DrähteInfo
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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Description
Apparatur nvt Hochvakuumraum und kontinuierlich benutzbarer Vakuumschleuse für Bänder und Drähte Bei der Bedampfimg von Bändern und Drähten. im Hochvakuum ist es oft von gro ssem Vorteil, die zu bedampfenden Gegen stände kontinuierlich in den Hochvakuum raum ein- und nach erfolgter Bedampfung in gleicher Weise wieder ausfuhren zu kön nen. Unter anderem sind in diesem Falle ohne grossen Aufwand laufende Kontrollmessungen, und zwar ausserhalb des Vakuums, möglich. Gegenstand der Erfindung ist eine Appa ratur mit Hochvakuumraum und Vakuum- sehleuse, bei der die vorgenannte Aufgabe gelöst ist. Es handelt sich bei der Schleuse um eine kontinuierlich benutzbare Vakuum schleuse für Bänder und Drähte, bei der zwi schen Hochvakuumraum und Aussenraum bei der Ein- und Ausführung mindestens je eine Zwischenkammer angeordnet ist und bei der zwischen den einzelnen Räumen Durchführun gen vorgesehen sind. Vorteilhafterweise wird die kleinste Abmessung der Durchführungen so bemessen, dass sie kleiner ist als die mittlere Weglänge der Gasmoleküle im- Vorvakuum- r aum. Bei Vakuumbedampfungen, wie sie mit der erfindungsgemässen Apparatur durchge führt werden können, tritt das Problem einer vorherigen kontinuierlichen Reinigung der zu bedampfenden Bänder oder Drähte im Va kuum auf. Bei den bekannten diskontinuierlich arbei tenden Bedampfungseinrichtimgen werden die zu bedampfenden Gegenstände einer Glimm- entladung, die bei Drucken zwischen 10-1 und 10-2 Torr brennt, ausgesetzt. Dies wird in der Weise durchgeführt, dass der Vakuumkessel zunächst bis zu dem für die Glimmentladung erforderlichen Druck und erst nach erfolgter Oberflächenreinigung auf. das für die Be- dampfung erforderliche Hochvakuum ausge pumpt wird. Ein neuerlicher Vorschlag ge stattet eine beschränkte kontinuierliche Ar beitsweise. Dabei wird das zu bedampfende Material von einer im Glimmentladungsraum angeordneten Vorratsrolle abgewickelt, nach erfolgter Glimmentladungsreinigung durch einen engen Kanal in den Hochvakuumbe- dampfungsraum geschleust und dort nach der Bedampfung wieder auf eine Rolle aufge wickelt. Mit Hilfe der erfindungsgemässen Appara tur ist es möglich, das Vorbearbeitungs- und Bearbeitungsverfahren gleichzeitig und kon tinuierlich durchzuführen, wenn sowohl die Vakuumkammer als auch die Vorkammern öder eine derselben für eine Behandlung der Bänder und Drähte eingerichtet sind. So ist es z. B. möglich, das vorgenannte Reinigungs verfahren durch Glimmentladung dadurch kontinuierlich mit dem Bedampfungsverfah- ren durchzuführen, dass eine der Vorkam mern, die einen passenden Druck aufweist, für die Glimmentladung eingerichtet wird. Die hierfür erforderlichen zusätzlichen Vorrich tungen bestehen dann im wesentlichen ledig lich aus einer Elektrode in der betreffenden Kammer. Ausführungsbeispiele der Erfindung sind schematisch in der Zeichnung dargestellt; es zeigt: Fig.1 eine erfindungsgemässe Apparatur mit je einer Vorkammer auf der Ein- und Ausführungsseite, Fig.2 eine erfindungsgemässe Apparatur mit zwei Vorkammern auf der Einführungs seite und einer Vorkammer auf der Ausfüh- rungsseite, wobei eine Vorkammer auf der Einführungsseite für die Durchführung einer Glimmentladung zur Vorreinigung eingerich tet ist. In Fig.1 bedeuten 1 einen Hochvakuum raum, 2 und 3 Vorkammern mit einem Druck unterschied gegenüber der Kammer 1 von etwa 2 bis 4. Grössenordnungen (bezüglich mm IIg). Die Durchführungen zwischen den ein zelnen Kammern sind mit 4, 5, 6 und 7 be zeichnet. Die kleinste Abmessung h der Durch- führungen 4 und 5 muss nach der kinetischen Gastheorie kleiner sein als die mittlere freie Weglänge der Gasmoleküle in den Räumen 1 und 2 bzw. 1 imd 3. Dann ist nämlich die Gasströmung durch die Durchführungen 4 und> 5 praktisch gleich Null, und die Saug leistung einer für das Hochvakuum in der Kammer 1 (10-3 bis 10-6 mm Hg) erforder lichen Diffusionspumpe 8 reicht aus zum Ab saugen der durch Diffusion in die Kammer 1 eindringenden Gasmenge. Die Güte des Va kuums im Verdampfungsraum 1 bleibt somit erhalten. Für die Durchführungen 6 und 7 ergäben sich mit den vorgenannten gaskine tischen Bedingungen technisch -unbrauchbar kleine Abmessungen h; bei grosser Sauglei- sting der für das Vorvakuuun in den Kam mern 2 und 3 (etwa 10-1 bis 1 mm I3g) in Frage kommenden rotierenden Ölpumpen 9 und 10 können jedoch für die Durchführ-in- gen 6 und- 7 dieselben Dimensionen wie für die Durchführungen 4 und 5 gewählt wer den. Wenn die so von den Vorpumpen ge forderten Puunpenleistungen schwer realisier bar sind, besteht die Möglichkeit, auf der Ein und/oder Ausführungsseite zwei oder mehrere Vorkammern einzurichten. Die für das Hoch vakuum in der Kammer 1 erforderliche Dif fusionspumpe würde meistens keine ausrei chende Saugleistung aufweisen, wenn die Hochvakuumkammer ohne Vorkammern direkt über die Durchführungen 4 und 5 in den atmosphärischen Raum überginge. Die übrige Dimensionierung der Durch führungen spielt meistens eine untergeord nete Rolle, indem diese nach der kinetischen Gastheorie einen. linearen Effekt ergeben, während die kleinste Abmessung h der Durch führung ungefähr in der dritten Potenz in die Berechnung eingeht, sofern k viel kleiner als die übrigen Dimensionen der Schlitze ist. In Fig.2 bedeuten: 11 die Hochvakuum kammer, 12, 13, 19: die Vorkammern. In der Kammer 13 ist für die Durchführung einer Oberflächenreinigung durch Glimmentladung die Elektrode 15 angeordnet. Die Durchfüh rungen zwischen den einzelnen Kammern und zum Aussenraum sind mit 16, 17, 18, 19 und 20 bezeichnet, die Pumpenanschlüsse mit 21, 22, 23, 24. Die Anordnung der Fig. 2 entspricht, ab gesehen von der Elektrode 15 und der Ver wendung einer zweiten Vorkammer auf der Einführungsseite, im Aufbau derjenigen in Fig.l. Die Dimensionierung der Durchfüh rungen und der Pumpenleistungen und somit der Drucke in den einzelnen Kammern ent spricht den obigen Ausführungen. Es lassen sich so die für die oben erwähnte Glimm- entladung, als Beispiel einer Vorbehandlung, erforderlichen Drucke von 10-1 bis 10-2 Torr durch ein Aufeinanderabstimmen der klein sten Abmessungen der Durchführungen einer seits und der Pumpenleistungen anderseits ohne Schwierigkeiten erreichen. In den oben beschriebenen schematischen Anordnungen ist der Übersieht halber auf die Darstellung der erforderlichen Vorrichtungen zur Führung der zu behandelnden Gegen- stände, wie etwa Führungsrollen oder ent sprechende Transporteinrichtungen, verzich tet. Bezüglich der angegebenen Bedingung für die kleinsten Abmessungen h ist zu bemerken, dass bei deren Dimensionierung für den prak tischen Fall die - nach Abzug der Dicke des Materials bei der Einführung und zusätzlich bei der Ausführung die Dicke des im Vakuum aufgedampften Materials - verbleibende lichte Weite zu berücksichtigen ist. Eine grosse Verbreiterung des Anwen dungsbereiches der erfindungsgemässen Appa ratur lässt sich durch die Einrichtung stetig einstellbarer Durchführungen oder die Schaf fung von Durchführungssätzen mit verschie denen kleinsten Abmessungen erreichen. Über das angegebene spezielle Beispiel der Vakuumbedampfung ;hinaus lässt sich die Erfindung auch bei andern V akuumbedamp- fungsverfahren für Bänder und Drähte be sonders dann mit grossem Vorteil und ver hältnismässig geringem Aufwand anwenden, wenn in kontinuierlichem Betrieb mehrere Arbeitsgänge bei unterschiedlichen Drucken durchgeführt werden sollen. So ergibt die erfindungsgemässe Appara tur - um ein weiteres Beispiel zu nennen wesentliche Erleichterungen bei der Herstel lung von Metallpapierkondensatoren, allge mein bei der Bedampfung dünner Folien mit leitenden oder isolierenden. Schichten und ins besondere bei der Bedampfung-dünner Metall- Folien mit biegsamen Glasschichten von eini gen Mikron Stärke für Wickelkondensatoren.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH Apparatur mit Hochvakuumraum und kontinuierlich benutzbarer Vakuumschleuse für Bänder oder Drähte, dadurch gekenn zeichnet, dass zwischen Hochvakuumraum und Aussenraum bei der Ein- und Ausführung mindestens je eine Zwischenkammer angeord net und dass zwischen den einzelnen Räumen Durchführungen vorgesehen sind. UNTERANSPRÜCHE 1.. Apparatur nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass die kleinste ,Ab messung (h) der Durchführungen kleiner ist als die mittlere freie Weglänge der Gasmole küle im Vorvakuumraum. 2.Apparatur nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass die kleinste Ab messung (h) der Durchführungen einstellbar ist, und zwar so, dass beim Durchtritt des zu schleusenden Materials durch die Durchfüh rungen die verbleibende lichte Weite der Durchführungen kleiner ist als die mittlere freie Weglänge der Gasmoleküle im Vor- v akuumraum. 3. Apparatur nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass sie eine Einrich tung für das Bedampfen von Folien aufweist, mit welcher Schichten auf den Folien erzeugt werden können. 4.Apparatur nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, dass die Bedampfungs- einrichtüng so ausgebildet ist, dass die Folien mit einer biegsamen Glasschicht versehen wer den können. 5. Apparatur nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, dass die Bedampfungs- einrichtung zum Bedampfen von Folien, die zur Herstellung von Wickelkondensatoren die nen; geeignet ist. 6. Apparatur nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass sie auf einer Seite oder auf beiden Seiten der Höchvakuumkam- mer mehrere Vorkammern enthält. 7.Apparatur nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass ausser der Hoch vakuumkammer mindestens eine der Vorkam mern für eine Behandlung der Bänder oder Drähte eingerichtet ist. B. Apparatur nach Unteranspruch 7, da durch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Vorkammern zu einer Oberflächenreini gung eingerichtet ist. 9. Apparatur nach Unteranspruch 8, da durch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Vorkammern zur Durchführung einer Reinigung durch Glimmentladung eingerich tet ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE334330X | 1953-09-29 | ||
DE180354X | 1954-03-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH334330A true CH334330A (de) | 1958-11-30 |
Family
ID=25756281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH334330D CH334330A (de) | 1953-09-29 | 1954-09-22 | Apparatur mit Hochvakuumraum und kontinuierlich benutzbarer Vakuumschleuse für Bänder und Drähte |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH334330A (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3123499A (en) * | 1964-03-03 | Apparatus for vacuum metallizing hollow ceramic rods | ||
DE1178788B (de) * | 1959-10-07 | 1964-09-24 | Leybold Hochvakuum Anlagen | Rohrfoermige, aus Teilkammern zusammen-gesetzte Vakuum-Gefriertrocknungsanlage |
DE1220999B (de) * | 1964-03-03 | 1966-07-14 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Perforieren von Folien aus thermoplastischen oder thermoelastischen Kunststoffen unter Anwendung von Hochspannung |
DE1282411B (de) * | 1964-12-28 | 1968-11-07 | Hermsdorf Keramik Veb | Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung und Bearbeitung von Bauelementen der Elektronik unter Vakuum, insbesondere zum Aufdampfen von Schichten |
DE1295959B (de) * | 1963-09-12 | 1969-05-22 | Pennsalt Chemicals Corp | Vorrichtung zum Aufbringen eines metallischen UEberzuges auf ein Metallband durch Vakuumaufdampfen |
DE1496096B1 (de) * | 1963-09-16 | 1970-08-20 | Saint Gobain | Vorrichtung zum Herstellen eines duennen und gleichmaessigen,auf einer der Oberflaechen eines endlosenGlasbandes haftenden metallischen UEberzugs im Vakuum |
DE1521520B1 (de) * | 1962-06-05 | 1970-09-03 | Air Reduction | Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung einer duennen Folie,insbesondere aus Metall,durch Vakuumaufdampfen |
-
1954
- 1954-09-22 CH CH334330D patent/CH334330A/de unknown
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