CA2944825C - Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system - Google Patents
Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system Download PDFInfo
- Publication number
- CA2944825C CA2944825C CA2944825A CA2944825A CA2944825C CA 2944825 C CA2944825 C CA 2944825C CA 2944825 A CA2944825 A CA 2944825A CA 2944825 A CA2944825 A CA 2944825A CA 2944825 C CA2944825 C CA 2944825C
- Authority
- CA
- Canada
- Prior art keywords
- ejector
- pumping
- vacuum pump
- lubricated
- pumping system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/30—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members
- F04C18/34—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members
- F04C18/344—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members with vanes reciprocating with respect to the inner member
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/005—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of dissimilar working principle
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/0021—Systems for the equilibration of forces acting on the pump
- F04C29/0028—Internal leakage control
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/02—Lubrication; Lubricant separation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/14—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
- F04F5/16—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
- F04F5/20—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/54—Installations characterised by use of jet pumps, e.g. combinations of two or more jet pumps of different type
Abstract
Description
Méthode de pompage dans un système de pompage et système de pompes à vide Domaine technique de l'invention La présente invention se rapporte à une méthode de pompage permettant de réduire la consommation d'énergie électrique ainsi que les performances en termes de débit et vide final dans un système de pompage dont la pompe principale est une pompe à vide à palettes lubrifiées.
Egalement, la présente invention se rapporte à un système de pompage qui peut être utilisé pour réaliser la méthode selon la présente invention.
Art antérieur Les tendances générales d'augmentation des performances des pompes à vide, de réduction des coûts des installations et de la consommation d'énergie dans les industries ont apporté des évolutions significatives en termes de performances, d'économie d'énergie, d'encombrement, dans les entrainements, etc.
L'état de la technique montre que pour améliorer le vide final et réduire la consommation d'énergie il faut rajouter des étages supplémentaires dans les pompes à vide de type Roots multi-étagées ou Claws multi-étagées.
Pour les pompes à vide à vis il faut mettre des tours supplémentaires aux vis, et/ou augmenter le taux de compression interne. Pour les pompes à vide à
palettes lubrifiées il faut également rajouter un ou plusieurs étages supplémentaires en série et augmenter le taux de compression interne.
L'état de la technique concernant les systèmes de pompage qui visent l'amélioration du vide final et l'augmentation du débit montre des pompes booster de type Roots agencées en amont des pompes primaires à
palettes lubrifiées. Ce type de systèmes est encombrant, fonctionne soit avec des clapets by-pass présentant des problèmes de fiabilité, soit en employant des moyens de mesure, contrôle, réglage ou asservissement. Cependant, ces Pumping method in a pumping system and vacuum pump system Technical field of the invention The present invention relates to a pumping method to reduce the consumption of electrical energy as well as performance in terms of flow rate and final vacuum in a pumping system whose main pump is a lubricated vane vacuum pump.
Also, the present invention relates to a pumping system which can be used to carry out the method according to the present invention.
Prior art General trends in increasing the performance of vacuum pumps, reduction of installation costs and consumption energy in industries have brought significant changes in in terms of performance, energy saving, size, in workouts, etc.
The state of the art shows that to improve the final vacuum and reduce energy consumption add additional floors in multi-stage Roots or multi-stage Claws vacuum pumps.
For screw vacuum pumps it is necessary to put additional turns on the screws, and / or increase the internal compression ratio. For vacuum pumps with lubricated pallets, one or more stages must also be added additional in series and increase the internal compression ratio.
The state of the art concerning pumping systems which aim to improve the final vacuum and the increase in flow rate shows Roots-type booster pumps arranged upstream of the primary pumps with lubricated paddles. This type of system is bulky, works either with by-pass valves presenting reliability problems, either by using means of measurement, control, adjustment or control. However, these
2 moyens de contrôle, réglage ou asservissement doivent être pilotés d'une manière active, ce qui résulte forcément en une augmentation du nombre de composants du système, de sa complexité et de son coût.
Résumé de l'invention La présente invention a pour but de proposer une méthode de pompage dans un système de pompage permettant de réduire l'énergie électrique nécessaire pour la mise sous vide d'une enceinte à vide et le maintien du vide dans cette enceinte, ainsi que de réaliser une baisse de la lo température des gaz de sortie.
La présente invention a aussi pour but de proposer une méthode de pompage dans un système de pompage permettant d'obtenir un débit supérieur à basse pression à celui qui peut être obtenu à l'aide d'une pompe à vide à
palettes lubrifiées seule lors du pompage d'une enceinte à vide.
La présente invention a également pour but de proposer une méthode de pompage dans un système de pompage permettant d'obtenir un meilleur vide que celui qui peut être obtenu à l'aide d'une pompe à vide à
palettes lubrifiées seule dans une enceinte à vide.
Ces buts de la présente invention sont atteints à l'aide d'une méthode de pompage qui est réalisée dans le cadre d'un système de pompage dont la configuration consiste essentiellement en une pompe à vide primaire à
palettes lubrifiées munie d'un orifice d'entrée des gaz relié à une enceinte à
vide et d'un orifice de sortie des gaz donnant dans un conduit qui est muni d'un clapet anti-retour avant de déboucher dans l'atmosphère ou dans d'autres appareils. L'aspiration d'un éjecteur est branchée en parallèle à ce clapet anti-retour, sa sortie allant à l'atmosphère ou rejoignant le conduit de la pompe primaire après le clapet anti-retour. 2 means of control, adjustment or slaving must be controlled from a actively, which inevitably results in an increase in the number of components of the system, its complexity and cost.
Summary of the invention The object of the present invention is to provide a method of pumping in a pumping system to reduce energy necessary for the evacuation of a vacuum chamber and the maintaining the vacuum in this chamber, as well as reducing the lo outlet gas temperature.
Another object of the present invention is to provide a method of pumping in a pumping system to obtain a higher flow rate at low pressure to that which can be obtained using a vacuum pump at Only lubricated vanes when pumping from a vacuum chamber.
Another object of the present invention is to provide a method of pumping in a pumping system to obtain a better vacuum than that which can be obtained using a vacuum pump pallets lubricated alone in a vacuum chamber.
These objects of the present invention are achieved with the aid of a pumping method that is performed as part of a pumping system whose configuration consists essentially of a primary vacuum pump with Lubricated vanes fitted with a gas inlet port connected to an enclosure with vacuum and a gas outlet opening into a duct which is provided of a check valve before opening into the atmosphere or other devices. The suction of an ejector is connected in parallel to this valve anti-return, its outlet going to the atmosphere or joining the pump duct primary after the non-return valve.
3 Une telle méthode de pompage est notamment l'objet de la revendication indépendante 1. Des différents modes de réalisation préférés de l'invention sont en outre l'objet des revendications dépendantes.
La méthode consiste essentiellement à alimenter en fluide moteur et faire fonctionner l'éjecteur en continu tout le temps que la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide par l'orifice d'entrée de gaz, mais aussi tout le temps que la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées maintient une pression définie (p.ex. le vide final) dans l'enceinte en refoulant les gaz remontant par sa sortie.
Selon un premier aspect, l'invention réside dans le fait que le couplage de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées et de l'éjecteur ne nécessite pas de mesures et appareils spécifiques (p.ex. de capteurs de pression, de température, de courant, etc.), d'asservissements ou de gestion de données et calcul. Par conséquent, le système de pompage adapté pour la mise en oeuvre de la méthode de pompage selon la présente invention comprend un nombre minimal de composants, présente une grande simplicité
et coûte nettement moins cher que les systèmes existants.
Par sa nature, l'éjecteur intégré dans le système de pompage peut toujours fonctionner sans dommages suivant la présente méthode de pompage. Son dimensionnement est conditionné par une consommation de fluide moteur minimale pour le fonctionnement du dispositif. Il est normalement mono-étagé. Son débit nominal est choisi en fonction du volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées, limité par le clapet anti-retour. Ce débit peut être de 1/500 à 1/20 du débit nominal de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées, mais peut aussi être inférieur ou supérieur à
ces valeurs. Le fluide moteur pour l'éjecteur peut être de l'air comprimé, mais aussi d'autres gaz, par exemple l'azote.
Le clapet anti-retour, placé dans le conduit à la sortie de la pompe à
vide primaire à palettes lubrifiées peut être un élément standard disponible dans le commerce. Il est dimensionné suivant le débit nominal de la pompe à
vide primaire à palettes lubrifiées. En particulier, il est prévu que le clapet anti-WO 2015/165543 Such a pumping method is in particular the subject of the independent claim 1. Various preferred embodiments of the invention are further the subject of the dependent claims.
The method essentially consists of supplying motor fluid and operate the ejector continuously while the vacuum pump is lubricated vane primary pumps the gases contained in the vacuum chamber through the gas inlet, but also all the time that the vacuum pump lubricated vane primary maintains a defined pressure (e.g. vacuum final) into the enclosure by pushing back the gases going up through its outlet.
According to a first aspect, the invention resides in the fact that the coupling of the lubricated vane primary vacuum pump and the ejector does not require specific measures and devices (e.g. temperature sensors pressure, temperature, current, etc.), control or management data and calculation. Therefore, the pumping system suitable for the implementation of the pumping method according to the present invention has minimal number of components, is very simple and costs significantly less than existing systems.
By its nature, the ejector integrated in the pumping system can always operate undamaged by this method of pumping. Its sizing is conditioned by a consumption of minimum motive fluid for the operation of the device. It is normally single-stage. Its nominal flow rate is chosen according to the volume of the outlet of the primary vacuum pump with lubricated vanes, limited by the valve anti-return. This flow can be from 1/500 to 1/20 of the nominal flow of the vacuum pump.
lubricated vane primary, but can also be lower or higher than these values. The working fluid for the ejector can be compressed air, but too other gases, for example nitrogen.
The non-return valve, placed in the duct at the outlet of the pump lubricated vane primary vacuum can be a standard item available in commerce. It is sized according to the nominal flow rate of the pump.
primary vacuum with lubricated vanes. In particular, it is expected that the check valve WO 2015/16554
4 PCT/EP2014/058948 retour se ferme quand la pression à l'aspiration de la pompe à vide primaire à
palettes lubrifiées se situe entre 500 mbar absolu et le vide final (p.ex. 100 mbar).
Selon une autre variante, l'éjecteur est multi-étagé.
Selon encore une autre variante, l'éjecteur peut être réalisé en matière à résistance chimique élevée aux substances et gaz communément utilisés dans l'industrie chimique, celle des semi-conducteurs, aussi bien dans la variante éjecteur mono-étagé que dans celle de l'éjecteur multi-étagé.
L'éjecteur est de préférence de petite taille.
Selon une autre variante, l'éjecteur est intégré dans une cartouche qui incorpore le clapet anti-retour.
Selon encore une autre variante, l'éjecteur est intégré dans une cartouche qui incorpore le clapet anti-retour et cette cartouche elle-même est logée dans le séparateur d'huile de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées.
Selon encore une autre variante de la méthode de la présente invention, pour répondre à des exigences spécifiques, le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de l'éjecteur est piloté de manière tout ou rien . En effet, le pilotage consiste à mesurer un ou plusieurs paramètres et à mettre l'éjecteur en fonctionnement ou l'arrêter, en fonction de certaines règles prédéfinies. Les paramètres, fournis par des capteurs adéquats, sont p.ex. le courant du moteur de la pompe à vide à palettes lubrifiées, la température ou la pression des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées, limité par le clapet anti-retour, ou une combinaison de ces paramètres.
Au départ d'un cycle de vidage de l'enceinte, la pression y est élevée, par exemple égale à la pression atmosphérique. Vu la compression dans la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées, la pression des gaz refoulés à sa sortie est plus haute que la pression atmosphérique (si les gaz à
la sortie de la pompe primaire sont refoulés directement à l'atmosphère) ou plus haute que la pression à l'entrée d'un autre appareil connecté en aval.
Cela provoque l'ouverture du clapet anti-retour. 4 PCT / EP2014 / 058948 return valve closes when the suction pressure of the primary vacuum pump at lubricated pallets is between 500 mbar absolute and the final vacuum (e.g. 100 mbar).
According to another variant, the ejector is multistage.
According to yet another variant, the ejector can be produced by material with high chemical resistance to common substances and gases used in the chemical industry, that of semiconductors, as well in the single-stage ejector variant than in that of the multi-stage ejector.
The ejector is preferably small in size.
According to another variant, the ejector is integrated in a cartridge which incorporates the non-return valve.
According to yet another variant, the ejector is integrated into a cartridge which incorporates the non-return valve and this cartridge itself is housed in the oil separator of the primary vane vacuum pump lubricated.
According to yet another variant of the method of the present invention, to meet specific requirements, the gas flow rate at the pressure necessary for the operation of the ejector is controlled in such a way all or nothing . Indeed, piloting consists of measuring one or more parameters and start or stop the ejector, depending on of some predefined rules. Parameters, provided by sensors suitable, are e.g. the motor current of the vane vacuum pump lubricated, the temperature or pressure of the gases in the volume of the outlet of the primary vacuum pump with lubricated vanes, limited by the valve anti-return, or a combination of these parameters.
At the start of an emptying cycle of the enclosure, the pressure is high, for example equal to atmospheric pressure. Considering the compression in the lubricated vane primary vacuum pump, the gas pressure discharged at its outlet is higher than atmospheric pressure (if the gases at the outlet of the primary pump are discharged directly to the atmosphere) or higher than the pressure at the inlet of another device connected downstream.
This causes the non-return valve to open.
5 Quand ce clapet anti-retour est ouvert, l'action de l'éjecteur est très faiblement ressentie, comme la pression à son entrée est presque égale à celle de sa sortie. En revanche, quand le clapet anti-retour se ferme à une certaine pression (parce que la pression dans l'enceinte a entretemps baissé), l'action de l'éjecteur provoque une réduction progressive de la différence de pression entre l'enceinte et le conduit après le clapet anti-retour. La pression à la sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées devient celle à l'entrée de l'éjecteur, celle de sa sortie étant toujours la pression dans le conduit après le clapet anti-retour. Plus l'éjecteur pompe, plus la pression à la sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées, dans le volume fermé (limité par le clapet anti-retour) se réduit et par conséquent la différence de pression entre l'enceinte et la sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées baisse.
Cette faible différence réduit les fuites internes dans la pompe à vide primaire à
palettes lubrifiées et engendre en même temps une baisse de la pression dans l'enceinte, ce qui permet d'améliorer le vide final. En plus, la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées consomme de moins en moins d'énergie pour la compression et produit de moins en moins de chaleur de compression.
Dans le cas de pilotage de l'éjecteur, il existe une position initiale de démarrage du système de pompage quand les capteurs sont dans un état défini ou bien donnent des valeurs initiales. Au fur et à mesure que la pompe à
vide primaire à palettes lubrifiées pompe les gaz de l'enceinte à vide les paramètres tels le courant de son moteur, la température et la pression des gaz dans le volume du conduit de sortie commencent à se modifier et atteignent des valeurs de seuil détectées par les capteurs. Cela provoque la mise en marche de l'éjecteur. Quand ces paramètres repassent dans les plages initiales (hors consignes) avec une temporisation, l'éjecteur est arrêté.
Selon encore une autre variante de la présente invention, le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de l'éjecteur est fourni 5 When this non-return valve is open, the action of the ejector is very weakly felt, as the pressure at its inlet is almost equal to that of its release. On the other hand, when the non-return valve closes at a certain pressure (because the pressure in the chamber has since dropped), the action of the ejector causes a gradual reduction in the pressure difference between the enclosure and the duct after the non-return valve. The pressure at the exit of the lubricated vane primary vacuum pump becomes the one at the inlet of the ejector, that of its outlet always being the pressure in the duct after the non-return valve. The more the ejector pumps, the greater the pressure at the outlet of the primary vacuum pump with lubricated vanes, in the closed volume (limited by the non-return valve) is reduced and consequently the pressure difference Between the enclosure and outlet of the lubricated vane primary vacuum pump drop.
This small difference reduces internal leaks in the vacuum pump primary to lubricated vanes and at the same time lower the pressure in the the enclosure, which improves the final vacuum. In addition, the vacuum pump lubricated vane primary consumes less and less energy for the compression and produces less and less heat of compression.
In the case of piloting the ejector, there is an initial position of start of the pumping system when the sensors are in a state defined or give initial values. As the pump at primary vacuum with lubricated vanes pumps the gases from the vacuum chamber parameters such as its motor current, temperature and pressure of gas in the volume of the outlet pipe begins to change and reach threshold values detected by the sensors. This causes the starting the ejector. When these parameters go back to the initial ranges (outside the setpoints) with a time delay, the ejector is stopped.
According to yet another variant of the present invention, the flow of gas at the pressure necessary for the operation of the ejector is provided
6 par un compresseur. De manière notable, ce compresseur peut être entraîné
par la pompe primaire à palettes lubrifiées ou, alternativement ou en addition, de manière autonome, indépendante de la pompe primaire à palettes lubrifiées.
Ce compresseur peut aspirer l'air atmosphérique ou des gaz dans le conduit de sortie de gaz après le clapet anti-retour. La présence d'un tel compresseur rend les systèmes de pompes à vide à palettes lubrifiées indépendants d'une source de gaz comprimé, ce qui peut répondre à certains environnements industriels. Le compresseur peut fournir le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de plusieurs éjecteurs, faisant partie respectivement de plusieurs systèmes de pompes à vide avec comme pompes primaires des pompes à palettes lubrifiées. Le compresseur fait partie du système aussi bien dans le cas de fonctionnement en continu de l'éjecteur que dans le cas de son pilotage suivant les paramètres, contrôlés par des capteurs adéquats.
D'un autre côté, il est aussi évident que l'étude du concept mécanique cherche à réduire le volume entre l'orifice de sortie des gaz de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées et le clapet anti-retour dans le but d'y descendre la pression plus vite.
Brève description des dessins Les particularités et les avantages de la présente invention apparaîtront avec plus de détails dans le cadre de la description qui suit avec des exemples de réalisation donnés à titre illustratif et non limitatif en référence aux dessins ci-annexés qui représentent :
- la figure 1 représente de manière schématique un système de pompage adapté pour la réalisation d'une méthode de pompage selon un premier mode de réalisation de la présente invention ; et - la figure 2 représente de manière schématique un système de pompage adapté pour la réalisation d'une méthode de pompage selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention. 6 by a compressor. Notably, this compressor can be driven by the primary lubricated vane pump or, alternatively or by addition, autonomously, independent of the primary lubricated vane pump.
This compressor can suck atmospheric air or gases in the exhaust duct.
gas outlet after the non-return valve. The presence of such a compressor makes lubricated vane vacuum pump systems independent of a source of compressed gas, which may respond to certain environments industrial. The compressor can supply the gas flow at the pressure necessary for the operation of several ejectors, forming part respectively several vacuum pump systems with as pumps primary lubricated vane pumps. The compressor is part of the system both in the case of continuous operation of the ejector and in the case of its piloting according to the parameters, controlled by sensors adequate.
On the other hand, it is also evident that the study of the concept mechanical seeks to reduce the volume between the gas outlet orifice of the lubricated vane primary vacuum pump and the non-return valve in the goal lower the pressure there more quickly.
Brief description of the drawings The features and advantages of the present invention will appear in more detail in the context of the following description with embodiments given by way of illustration and not by way of limitation in reference to the accompanying drawings which show:
- Figure 1 shows schematically a system of pumping suitable for carrying out a pumping method according to a first embodiment of the present invention; and - Figure 2 shows schematically a system of pumping suitable for carrying out a pumping method according to a second embodiment of the present invention.
7 - la figure 3 représente de manière schématique un système de pompage adapté pour la réalisation d'une méthode de pompage selon un troisième mode de réalisation de la présente invention.
Description détaillée des modes de réalisation de l'invention Figure 1 représente un système de pompage SP adapté pour la mise en oeuvre d'une méthode de pompage selon un premier mode de réalisation de la présente invention.
Ce système de pompage SP comporte une enceinte 1, laquelle est reliée à l'orifice d'aspiration 2 d'une pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3. L'orifice de sortie des gaz de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3 est relié au conduit 5. Un clapet anti-retour de refoulement 6 est placé dans le conduit 5, qui après ce clapet anti-retour 6 continue en conduit de sortie des gaz 8. Le clapet anti-retour 6, lorsqu'il est fermé, permet la formation d'un volume 4, compris entre l'orifice de sortie des gaz de la pompe à vide primaire 3 et lui-même. Le système de pompage SP comporte aussi un éjecteur 7, branché en parallèle au clapet anti-retour 6. L'orifice d'aspiration de l'éjecteur est relié au volume 4 du conduit 5 et son orifice de refoulement est relié au conduit 8. Le conduit d'alimentation 9 fournit le fluide moteur pour l'éjecteur 7.
Dès la mise en route de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3, le fluide moteur pour l'éjecteur 7 est injecté par le conduit d'alimentation 9. Ensuite, la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3 aspire les gaz dans l'enceinte 1 par le conduit 2 branché à son entrée et les comprime pour les refouler par la suite à sa sortie dans le conduit 5 par le clapet anti-retour 6. Lorsque la pression de fermeture du clapet anti-retour 6 est atteinte, il se ferme. A partir de ce moment le pompage de l'éjecteur 7 fait baisser progressivement la pression dans le volume 4 jusqu'à la valeur de sa pression limite. En parallèle, la puissance consommée par la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3 baisse progressivement. Cela se produit en un court laps de temps, par exemple pour un certain cycle en 5 à 10 secondes. 7 - Figure 3 shows schematically a system of pumping suitable for carrying out a pumping method according to a third embodiment of the present invention.
Detailed description of embodiments of the invention Figure 1 shows an SP pumping system suitable for the implementation of a pumping method according to a first mode of embodiment of the present invention.
This SP pumping system comprises an enclosure 1, which is connected to the suction port 2 of a primary vane vacuum pump lubricated 3. The gas outlet of the primary vane vacuum pump lubricated 3 is connected to pipe 5. A discharge non-return valve 6 is placed in the conduit 5, which after this non-return valve 6 continues as an outlet conduit for gas 8. The non-return valve 6, when closed, allows the formation of a volume 4, between the gas outlet of the vacuum pump primary 3 and himself. The SP pumping system also includes an ejector 7, connected in parallel to the non-return valve 6. The suction port of the ejector is connected to volume 4 of duct 5 and its discharge port is connected to the conduit 8. The supply conduit 9 supplies the working fluid for the ejector 7.
As soon as the primary vane vacuum pump is started lubricated 3, the driving fluid for the ejector 7 is injected through the pipe supply 9. Next, the lubricated vane primary vacuum pump 3 sucks the gases into enclosure 1 through conduit 2 connected to its inlet and the compresses in order to push them back afterwards when it leaves the duct 5 through the check valve 6. When the closing pressure of the check valve 6 is reached, it closes. From this moment the pumping of the ejector 7 made gradually lower the pressure in volume 4 to the value of its limit pressure. In parallel, the power consumed by the vacuum pump lubricated vane primary 3 gradually decreases. It happens in a short period of time, for example for a certain cycle in 5-10 seconds.
8 Avec un ajustement judicieux du débit de l'éjecteur 7 et de la pression de fermeture du clapet anti-retour 6 en fonction du débit de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3 et le volume de l'enceinte 1, il est en outre possible de réduire le temps avant la fermeture du clapet anti-retour 6 par rapport à la durée du cycle de vidage et donc réduire les pertes en fluide moteur pendant ce temps de fonctionnement de l'éjecteur 7 sans effet sur le pompage. Par ailleurs, ces pertes qui sont infimes, sont prises en compte dans le bilan de la consommation d'énergie. En revanche, l'avantage de la simplicité crédite une excellente fiabilité du système ainsi qu'un prix inférieur en comparaison avec des pompes similaires équipées d'automate programmable et ou de variateur, vannes pilotées, capteurs, etc.
Figure 2 représente un système de pompage SP adapté pour la mise en oeuvre d'une méthode de pompage selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention.
Par rapport au système représenté à la figure 1, le système représenté à la figure 2 comprend en outre un compresseur 10 qui fournit le débit de gaz à la pression nécessaire pour le fonctionnement de l'éjecteur 7.
En effet, ce compresseur 10 peut aspirer de l'air atmosphérique ou des gaz dans le conduit de sortie des gaz 8 après le clapet anti-retour 6. Sa présence rend le système de pompage indépendant d'une source de gaz comprimé, ce qui peut répondre à certains environnements industriels. Le compresseur 10 peut être entraîné par la pompe primaire à palettes lubrifiées 3 ou bien par son propre moteur électrique, donc de manière complètement indépendante de la pompe 3. Dans tous les cas la consommation d'énergie du compresseur 10 quand il fournit le débit de gaz à la pression nécessaire afin de faire fonctionner l'éjecteur 7 est largement plus petite par rapport au gain réalisé
sur la consommation d'énergie de la pompe principale 3.
Figure 3 représente un système de pompes à vide SPP adapté pour la mise en oeuvre d'une méthode de pompage selon un troisième mode de réalisation de la présente invention. 8 With a judicious adjustment of the flow rate of the ejector 7 and the closing pressure of the non-return valve 6 depending on the pump flow rate primary vacuum with lubricated vanes 3 and the volume of enclosure 1, it is in furthermore possible to reduce the time before closing the non-return valve 6 through compared to the duration of the emptying cycle and therefore reduce fluid losses engine during this ejector 7 operating time without any effect on the pumping. In addition, these losses, which are tiny, are taken into account in the balance of energy consumption. On the other hand, the advantage of simplicity credits excellent system reliability as well as a price inferior in comparison with similar pumps equipped with a controller programmable and / or variator, piloted valves, sensors, etc.
Figure 2 shows an SP pumping system suitable for the implementation of a pumping method according to a second mode of embodiment of the present invention.
Compared to the system shown in Figure 1, the system shown in Figure 2 further comprises a compressor 10 which provides the gas flow at the pressure necessary for the operation of the ejector 7.
Indeed, this compressor 10 can suck atmospheric air or gases in the gas outlet duct 8 after the non-return valve 6. Its presence makes the pumping system independent of a source of compressed gas, which can meet some industrial environments. Compressor 10 can be driven by the primary lubricated vane pump 3 or by his own electric motor, therefore completely independent of the pump 3. In all cases the energy consumption of the compressor 10 when it supplies the gas flow at the necessary pressure in order to operating the ejector 7 is much smaller compared to the gain achieved sure main pump power consumption 3.
Figure 3 shows an SPP vacuum pump system suitable for the implementation of a pumping method according to a third mode of embodiment of the present invention.
9 Par rapport aux systèmes montrés aux figures let 2, le système représenté à la figure 3 correspond à un système de pompage piloté, qui comprend en outre des capteurs 11, 12, 13 qui contrôlent p.ex. le courant du moteur (capteur 11) de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3, la pression (capteur 13) des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (limité par le clapet anti-retour 6), la température (capteur 12) des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (limité par le clapet anti-retour 6) ou une combinaison de ces paramètres. En effet, quand la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées 3 commence à pomper les gaz de l'enceinte à vide 1, ces paramètres cités (notamment le courant de son moteur, la température et la pression des gaz dans le volume du conduit de sortie 4) commencent à se modifier et atteignent des valeurs de seuil détectées par les capteurs 11, 12, 13 correspondants. Cela provoque la mise en marche de l'éjecteur 7 (après une certaine temporisation). Quand ces paramètres repassent dans des plages initiales (hors consignes) l'éjecteur est arrêté (de nouveau après une certaine temporisation). Bien évidemment, le système de pompage piloté SSP peut avoir comme source de gaz comprimé un réseau de distribution ou bien un compresseur 10 dans les conditions décrites en figure 2.
Certainement, la présente invention est sujette à de nombreuses variations quant à sa mise en oeuvre. Bien que divers modes de réalisation aient été décrits, on comprend bien qu'il n'est pas concevable d'identifier de manière exhaustive tous les modes possibles. Il est bien sûr envisageable de remplacer un moyen décrit par un moyen équivalent sans sortir du cadre de la présente invention. Toutes ces modifications font partie des connaissances communes d'un homme du métier dans le domaine de la technologie du vide. 9 Compared to the systems shown in figures let 2, the system shown in Figure 3 corresponds to a controlled pumping system, which further comprises sensors 11, 12, 13 which monitor e.g. the current of the motor (sensor 11) of the lubricated vane primary vacuum pump 3, the gas pressure (sensor 13) in the volume of the pump outlet pipe primary vacuum with lubricated vanes (limited by the non-return valve 6), the temperature (sensor 12) of the gases in the volume of the outlet duct of the lubricated vane primary vacuum pump (limited by the non-return valve 6) or a combination of these parameters. Indeed, when the primary vacuum pump with lubricated vanes 3 begins to pump the gases from the vacuum chamber 1, these parameters mentioned (in particular the current of its motor, the temperature and the gas pressure in the volume of the outlet duct 4) begin to build up modify and reach threshold values detected by sensors 11, 12, 13 correspondents. This causes the ejector 7 to start up (after a certain time delay). When these parameters go back into ranges initials (outside the instructions) the ejector is stopped (again after a certain delay). Obviously, the SSP piloted pumping system can have as a source of compressed gas a distribution network or a compressor 10 under the conditions described in figure 2.
Certainly, the present invention is subject to many variations in its implementation. Although various embodiments have been described, it is understandable that it is not conceivable to identify exhaustively all possible modes. It is of course possible to replace a means described by an equivalent means without departing from the framework of the present invention. All these modifications are part of the knowledge common to a person skilled in the art in the field of vacuum technology.
Claims (34)
- une pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (3) avec un orifice d'entrée des gaz (2) relié à une enceinte à vide (1) et un orifice de sortie des gaz (4) donnant dans un conduit (5) avant de déboucher dans la sortie des gaz (8) du système de pompage (SP, SPP), - un clapet anti-retour (6) positionné dans le conduit (5) entre l'orifice de sortie des gaz (4) et la sortie des gaz (8), et - un éjecteur (7) branché en parallèle au clapet anti-retour (6), la méthode étant caractérisée en ce que la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (3) est mise en marche afin de pomper les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1) par l'orifice de sortie des gaz (4) ;
de manière simultanée, l'éjecteur (7) est alimenté en fluide moteur ;
et l'éjecteur (7) continue d'être alimenté en fluide moteur tout le temps que la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (3) pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1) et/ou tout le temps que la pompe à vide primaire à
palettes lubrifiées (3) maintient une pression définie dans l'enceinte à vide (1). 1. Pumping method in a pumping system (SP, SPP) comprising:
- a lubricated vane primary vacuum pump (3) with an orifice gas inlet (2) connected to a vacuum chamber (1) and an outlet port of gas (4) giving into a duct (5) before opening into the gas outlet (8) of the pumping system (SP, SPP), - a non-return valve (6) positioned in the duct (5) between the orifice gas outlet (4) and gas outlet (8), and - an ejector (7) connected in parallel to the non-return valve (6), the method being characterized in that the lubricated vane primary vacuum pump (3) is started in order to pump the gases contained in the vacuum chamber (1) through the orifice of exit gases (4);
simultaneously, the ejector (7) is supplied with working fluid;
and the ejector (7) continues to be supplied with working fluid all the time that the lubricated vane primary vacuum pump (3) pumps the gases contained in the vacuum chamber (1) and / or as long as the primary vacuum pump is lubricated vanes (3) maintain a defined pressure in the vacuum chamber (1).
palettes lubrifiées (3) qui est limité par le clapet anti-retour (6). 4. Pumping method according to any one of the claims 1 to 3, characterized in that the nominal flow rate of the ejector (7) is chosen by function of the volume of the outlet pipe (5) of the primary vacuum pump at lubricated vanes (3) which is limited by the non-return valve (6).
vide primaire à palettes lubrifiées (3). 5. Pumping method according to claim 4, characterized in that that the ejector flow rate is 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the pump primary vacuum with lubricated vanes (3).
résistance chimique élevée aux substances et gaz communément utilisés dans l'industrie chimique et/ou l'industrie des semi-conducteurs. 9. Pumping method according to any one of the claims 1 to 8, characterized in that the ejector (7) is made of resistance high chemical to substances and gases commonly used in industry chemical and / or the semiconductor industry.
par le clapet anti-retour 6, la température des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées limité par le clapet anti-retour 6 ou une combinaison de ces paramètres. 17. A pumping method according to claim 16, characterized in what the at least one operating parameter is the motor current of the lubricated vane vacuum pump 3, the gas pressure in the volume of the outlet duct of the limited lubricated vane primary vacuum pump through the non-return valve 6, the temperature of the gases in the volume of the outlet of the lubricated vane primary vacuum pump limited by the valve anti-return 6 or a combination of these parameters.
- une pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (3) avec un orifice d'entrée des gaz (2) relié à une enceinte à vide (1) et un orifice de sortie des gaz (4) donnant dans un conduit (5) avant de déboucher dans la sortie des gaz (8) du système de pompes à vide (SP), - un clapet anti-retour (6) positionné dans le conduit (5) entre l'orifice de sortie des gaz (4) et la sortie des gaz (8), et - un éjecteur (7) branché en parallèle au clapet anti-retour (6), le système de pompage (SP, SPP) étant caractérisé en ce que l'éjecteur (7) est agencé pour pouvoir être alimenté en fluide moteur tout le temps que la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées (3) pompe les gaz contenus dans l'enceinte à vide (1) et/ou tout le temps que la pompe à
vide primaire à palettes lubrifiées (3) maintient une pression définie dans l'enceinte à vide (1). 18. Pumping system (SP, SPP) comprising:
- a lubricated vane primary vacuum pump (3) with an orifice gas inlet (2) connected to a vacuum chamber (1) and an outlet port of gas (4) giving into a duct (5) before opening into the gas outlet (8) the vacuum pump system (SP), - a non-return valve (6) positioned in the duct (5) between the orifice gas outlet (4) and gas outlet (8), and - an ejector (7) connected in parallel to the non-return valve (6), the pumping system (SP, SPP) being characterized in that the ejector (7) is designed to be able to be supplied with working fluid while the lubricated vane primary vacuum pump (3) is pumping the gas contained in the vacuum chamber (1) and / or all the time that the pump is empty lubricated vane primary (3) maintains a defined pressure in the enclosure empty (1).
palettes lubrifiées (3) qui est limité par le clapet anti-retour (6). 21. A pumping system according to any one of the claims 18 to 20, characterized in that the nominal flow rate of the ejector (7) is chosen in function of the volume of the outlet pipe (5) of the primary vacuum pump at lubricated vanes (3) which is limited by the non-return valve (6).
résistance chimique élevée aux substances et gaz communément dans l'industrie chimique et/ou l'industrie des semi-conducteurs. 26. A pumping system according to any one of the claims 18 to 25, characterized in that the ejector (7) is made of high chemical resistance to substances and gases commonly found in the chemical industry and / or the semiconductor industry.
par le clapet anti-retour 6, la température des gaz dans le volume du conduit de sortie de la pompe à vide primaire à palettes lubrifiées limité par le clapet anti-retour 6 ou une combinaison de ces paramètres. 34. A pumping system according to claim 34, characterized in what the at least one operating parameter is the motor current of the lubricated vane vacuum pump 3, the gas pressure in the volume of the outlet duct of the limited lubricated vane primary vacuum pump through the non-return valve 6, the temperature of the gases in the volume of the outlet of the lubricated vane primary vacuum pump limited by the valve anti-return 6 or a combination of these parameters.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2014/058948 WO2015165544A1 (en) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CA2944825A1 CA2944825A1 (en) | 2015-11-05 |
| CA2944825C true CA2944825C (en) | 2021-04-27 |
Family
ID=50639522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CA2944825A Active CA2944825C (en) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20170045051A1 (en) |
| EP (1) | EP3137771B1 (en) |
| JP (1) | JP6410836B2 (en) |
| KR (1) | KR102235562B1 (en) |
| CN (1) | CN106255828A (en) |
| AU (1) | AU2014392229B2 (en) |
| BR (1) | BR112016024380B1 (en) |
| CA (1) | CA2944825C (en) |
| DK (1) | DK3137771T3 (en) |
| ES (1) | ES2797400T3 (en) |
| PL (1) | PL3137771T3 (en) |
| PT (1) | PT3137771T (en) |
| RU (1) | RU2666379C2 (en) |
| TW (1) | TWI698585B (en) |
| WO (1) | WO2015165544A1 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3123030B1 (en) * | 2014-03-24 | 2019-08-07 | Ateliers Busch S.A. | Method for pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps |
| FR3094762B1 (en) * | 2019-04-05 | 2021-04-09 | Pfeiffer Vacuum | Dry type vacuum pump and pumping installation |
| CN113621936A (en) * | 2021-10-12 | 2021-11-09 | 陛通半导体设备(苏州)有限公司 | Working method of vacuum pump system in vacuum coating and vacuum pump system |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128885A (en) * | 1976-04-22 | 1977-10-28 | Fujitsu Ltd | Treatment in gas phase |
| US4426450A (en) * | 1981-08-24 | 1984-01-17 | Fermentec Corporation | Fermentation process and apparatus |
| DE3721611A1 (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-19 | Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh | MECHANICAL VACUUM PUMP WITH A SPRING-LOADED CHECK VALVE |
| SU1700283A1 (en) * | 1989-05-05 | 1991-12-23 | Предприятие П/Я А-3634 | Vacuum pump |
| JPH08178438A (en) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | Engine heat pump |
| US5848538A (en) * | 1997-11-06 | 1998-12-15 | American Standard Inc. | Oil and refrigerant pump for centrifugal chiller |
| KR100876318B1 (en) * | 2001-09-06 | 2008-12-31 | 가부시키가이샤 아루박 | Operation method of vacuum exhaust device and vacuum exhaust device |
| US6589023B2 (en) * | 2001-10-09 | 2003-07-08 | Applied Materials, Inc. | Device and method for reducing vacuum pump energy consumption |
| SE0201335L (en) * | 2002-05-03 | 2003-03-25 | Piab Ab | Vacuum pump and ways to provide vacuum |
| US7254961B2 (en) * | 2004-02-18 | 2007-08-14 | Denso Corporation | Vapor compression cycle having ejector |
| US7655140B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-02-02 | Cummins Filtration Ip Inc. | Automatic water drain for suction fuel water separators |
| US8807158B2 (en) * | 2005-01-20 | 2014-08-19 | Hydra-Flex, Inc. | Eductor assembly with dual-material eductor body |
| DE102005008887A1 (en) * | 2005-02-26 | 2006-08-31 | Leybold Vacuum Gmbh | Single-shaft vacuum displacement pump has two pump stages each with pump rotor and drive motor supported by the shaft enclosed by a stator housing |
| JP4745779B2 (en) * | 2005-10-03 | 2011-08-10 | 神港精機株式会社 | Vacuum equipment |
| DE102008019472A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | vacuum pump |
| JP5389419B2 (en) * | 2008-11-14 | 2014-01-15 | 株式会社テイエルブイ | Vacuum pump device |
| GB2465374A (en) * | 2008-11-14 | 2010-05-19 | Mann & Hummel Gmbh | Centrifugal separator with venturi |
| FR2952683B1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-11-04 | Alcatel Lucent | METHOD AND APPARATUS FOR PUMPING WITH REDUCED ENERGY CONSUMPTION |
| GB201007814D0 (en) * | 2010-05-11 | 2010-06-23 | Edwards Ltd | Vacuum pumping system |
| US20120261011A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Young Man Cho | Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump |
| FR2993614B1 (en) * | 2012-07-19 | 2018-06-15 | Pfeiffer Vacuum | METHOD AND APPARATUS FOR PUMPING A CHAMBER OF PROCESSES |
-
2014
- 2014-05-01 CN CN201480078447.9A patent/CN106255828A/en active Pending
- 2014-05-01 US US15/306,175 patent/US20170045051A1/en not_active Abandoned
- 2014-05-01 ES ES14721361T patent/ES2797400T3/en active Active
- 2014-05-01 KR KR1020167030629A patent/KR102235562B1/en active IP Right Grant
- 2014-05-01 CA CA2944825A patent/CA2944825C/en active Active
- 2014-05-01 BR BR112016024380-3A patent/BR112016024380B1/en active IP Right Grant
- 2014-05-01 PT PT147213615T patent/PT3137771T/en unknown
- 2014-05-01 JP JP2016559425A patent/JP6410836B2/en active Active
- 2014-05-01 RU RU2016142607A patent/RU2666379C2/en active
- 2014-05-01 WO PCT/EP2014/058948 patent/WO2015165544A1/en active Application Filing
- 2014-05-01 PL PL14721361T patent/PL3137771T3/en unknown
- 2014-05-01 EP EP14721361.5A patent/EP3137771B1/en active Active
- 2014-05-01 DK DK14721361.5T patent/DK3137771T3/en active
- 2014-05-01 AU AU2014392229A patent/AU2014392229B2/en active Active
-
2015
- 2015-05-01 TW TW104114058A patent/TWI698585B/en active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL3137771T3 (en) | 2020-10-05 |
| JP2017515031A (en) | 2017-06-08 |
| CA2944825A1 (en) | 2015-11-05 |
| RU2016142607A3 (en) | 2018-06-01 |
| AU2014392229A1 (en) | 2016-11-03 |
| EP3137771A1 (en) | 2017-03-08 |
| PT3137771T (en) | 2020-05-29 |
| DK3137771T3 (en) | 2020-06-08 |
| BR112016024380A2 (en) | 2017-08-15 |
| JP6410836B2 (en) | 2018-10-24 |
| RU2666379C2 (en) | 2018-09-07 |
| US20170045051A1 (en) | 2017-02-16 |
| AU2014392229B2 (en) | 2018-11-22 |
| BR112016024380B1 (en) | 2022-06-28 |
| KR102235562B1 (en) | 2021-04-05 |
| TWI698585B (en) | 2020-07-11 |
| ES2797400T3 (en) | 2020-12-02 |
| EP3137771B1 (en) | 2020-05-06 |
| CN106255828A (en) | 2016-12-21 |
| TW201608134A (en) | 2016-03-01 |
| RU2016142607A (en) | 2018-06-01 |
| WO2015165544A1 (en) | 2015-11-05 |
| KR20170005410A (en) | 2017-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2501936B1 (en) | Method and device for pumping with reduced power use | |
| EP3201469B1 (en) | Pumping system for generating a vacuum and method for pumping by means of this pumping system | |
| EP3161318B1 (en) | Method of pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps | |
| CA2944825C (en) | Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system | |
| EP3198148B1 (en) | Vacuum-generating pumping system and pumping method using this pumping system | |
| WO2020078689A1 (en) | Method for controlling the temperature of a vacuum pump, and associated vacuum pump and installation | |
| CA2943315C (en) | Method for pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps | |
| WO2013131911A1 (en) | Improved pumping unit and method for controlling such a pumping unit |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EEER | Examination request |
Effective date: 20190314 |