KR102235562B1 - Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System - Google Patents

Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System Download PDF

Info

Publication number
KR102235562B1
KR102235562B1 KR1020167030629A KR20167030629A KR102235562B1 KR 102235562 B1 KR102235562 B1 KR 102235562B1 KR 1020167030629 A KR1020167030629 A KR 1020167030629A KR 20167030629 A KR20167030629 A KR 20167030629A KR 102235562 B1 KR102235562 B1 KR 102235562B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ejector
vacuum pump
pumping
rotary vane
check valve
Prior art date
Application number
KR1020167030629A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20170005410A (en
Inventor
디디에 뮬러
장-에릭 라흐쉬
테오도르 일쉐브
Original Assignee
아뜰리에 부쉬 에스.아.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아뜰리에 부쉬 에스.아. filed Critical 아뜰리에 부쉬 에스.아.
Publication of KR20170005410A publication Critical patent/KR20170005410A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102235562B1 publication Critical patent/KR102235562B1/en

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C23/00Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C23/005Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of dissimilar working principle
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/10Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
    • F04B37/14Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C18/00Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C18/30Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members
    • F04C18/34Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members
    • F04C18/344Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members with vanes reciprocating with respect to the inner member
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C25/00Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
    • F04C25/02Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/06Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/0021Systems for the equilibration of forces acting on the pump
    • F04C29/0028Internal leakage control
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/02Lubrication; Lubricant separation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/14Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
    • F04F5/16Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
    • F04F5/20Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/54Installations characterised by use of jet pumps, e.g. combinations of two or more jet pumps of different type

Abstract

본 발명은 펌핑 시스템(SP,SPP)에서의 펌핑 방법에 관한 것으로서, 이것은 진공 챔버(1)에 연결된 기체 유입 개구(2) 및, 펌핑 시스템(SP,SPP)의 기체 출구(8)로의 개방 이전에 도관(5)으로 개방되는 기체 유출 개구(4)를 가진 제 1 윤활 베인 스크류 진공 펌프(3), 기체 유출 개구(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)에 위치된 역지 밸브(6) 및, 역지 밸브(6)와 병렬로 연결된 이젝터(7)를 포함한다. 상기 방법에 따라서, 제 1 윤활 베인 스크류 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 기체 유출 개구(4)를 통해 펌핑하기 위하여 작동된다; 동시에, 이젝터(7)에는 작동 매체가 공급되고, 제 1 윤활 스크류 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 시간 내내 그리고/또는 제 1 윤활 스크류 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안의 미리 정해진 압력을 유지하는 시간 내내 이젝터(7)에는 계속 기동 매체가 공급된다. 본 발명은 상기 방법을 구현하기 위하여 사용되기에 적절한 펌핑 시스템(SP,SPP)에 관한 것이다. The present invention relates to a pumping method in a pumping system (SP, SPP), which is a gas inlet opening 2 connected to the vacuum chamber 1 and prior to opening of the pumping system SP, SPP to the gas outlet 8 A first lubrication vane screw vacuum pump (3) with a gas outlet opening (4) that opens to the conduit (5), a check valve located in the conduit (5) between the gas outlet opening (4) and the gas outlet (8) (6) And, it includes an ejector (7) connected in parallel with the check valve (6). According to the method, the first lubrication vane screw vacuum pump 3 is operated to pump the gas contained in the vacuum chamber 1 through the gas outlet opening 4; At the same time, the ejector 7 is supplied with a working medium, the first lubrication screw vacuum pump 3 is pumping the gas contained in the vacuum chamber 1 throughout the time and/or the first lubrication screw vacuum pump 3 is The starting medium is continuously supplied to the ejector 7 throughout the period of maintaining the predetermined pressure in the vacuum chamber 1. The present invention relates to a pumping system (SP, SPP) suitable for use in implementing the method.

Description

펌핑 시스템에서의 펌핑 방법 및 진공 펌프 시스템{Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System}Pumping method and vacuum pump system in a pumping system {Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System}

본 발명은 주 펌프가 윤활 로터리 베인 진공 펌프인 펌핑 시스템에서 유량 및 최종 진공과 관련된 성능을 향상시킬 뿐만 아니라 전기 에너지의 소비를 감소시킬 수 있는 펌핑 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법을 달성하는데 이용될 수 있는 펌핑 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a pumping method capable of reducing the consumption of electrical energy as well as improving the performance related to flow rate and final vacuum in a pumping system in which the main pump is a lubricated rotary vane vacuum pump. The invention also relates to a pumping system that can be used to achieve the method according to the invention.

산업 분야에서 진공 펌프의 성능을 향상시키고, 설치 비용을 감소시키며 에너지 소비를 감소시키려는 일반적인 경향은 구동부등에서의 성능, 에너지 경제, 부피와 관련하여 현저한 발전을 가져왔다. The general trend of improving the performance of vacuum pumps in the industrial field, reducing installation costs and reducing energy consumption has resulted in remarkable developments in terms of performance, energy economy, and volume in driving parts.

현재의 기술은 최종 진공을 향상시키고 에너지 보충 단계들의 소비를 줄이는 것을 다단 루트 유형(multi-stage Roots type) 또는 다단계 클로우 유형 (multi-stage claw type) 의 진공 펌프들에 추가되어야만 한다는 점을 나타낸다. 스크류 진공 펌프들에 대하여, 스크류의 추가적인 회전이 있어야 하고 그리고/또는 내부 압축의 비율이 증가되어야 한다. 윤활 로터리 베인 진공 펌프들에 대하여 하나 이상의 보충적인 단계들이 직렬로 추가되어야 하고 내부 압축의 비율이 증가되어야 한다. Current technology indicates that improving the final vacuum and reducing the consumption of energy replenishment stages must be added to vacuum pumps of the multi-stage roots type or multi-stage claw type. For screw vacuum pumps, there must be an additional rotation of the screw and/or the rate of internal compression must be increased. For lubricated rotary vane vacuum pumps, one or more supplementary steps have to be added in series and the rate of internal compression has to be increased.

최종 진공을 향상시키고 유량을 증가시키려는 목적을 가진 펌핑 시스템에 관한 현재 기술은 제 1 윤활 로터리 베인 펌프들로부터 상류측에 배치된 루트 유형의 부스터 펌프들은 나타낸다. 이러한 유형의 시스템들은 부피가 크고, 신뢰성의 문제를 나타내는 바이패스 밸브로써 작동되거나 또는 측정, 제어, 조절 또는 서보 제어의 수단을 채용함으로써 작동된다. 그러나, 이러한 제어, 조절 또는 서보 제어의 수단은 능동적인 방식으로 제어되어야만 하는데, 이것은 필연적으로 시스템 구성 요소들, 복잡성 및 비용의 증가를 초래한다.
한편, 국제 공개 공보 WO 2014/012896 에는 "프로세스 챔버의 펌핑을 위한 방법과 장치"가 개시되고, 프랑스 출원 FR 2 952 683 에는 "전력 소비가 적은 펌핑 방법 및 장치"가 개시되고, 일본 공개 특허공보 특개 2007-100562 에는 "진공 장치가 개시되어 있다.
The current technology for pumping systems with the aim of improving the final vacuum and increasing the flow rate refers to booster pumps of the route type arranged upstream from the first lubricating rotary vane pumps. Systems of this type are bulky and operate as bypass valves that present a problem of reliability, or by employing means of measuring, controlling, regulating or servo control. However, this means of control, regulation or servo control must be controlled in an active manner, which inevitably leads to an increase in system components, complexity and cost.
On the other hand, international publication WO 2014/012896 discloses a "method and apparatus for pumping a process chamber", and French application FR 2 952 683 discloses a "pumping method and apparatus with low power consumption", and Japanese Laid-Open Patent Publication In Japanese Unexamined Patent Publication 2007-100562, "a vacuum device is disclosed.

본 발명의 목적은 출구 기체의 온도를 감소시킬 뿐만 아니라, 챔버를 진공하에 두고 상기 챔버에서 진공을 유지하는데 필요한 전기 에너지를 감소시킬 수 있는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. It is an object of the present invention to propose a pumping method of a pumping system capable of not only reducing the temperature of the outlet gas, but also reducing the electrical energy required to keep the chamber under vacuum and maintain the vacuum in the chamber.

또한 본 발명의 목적은 진공 챔버의 펌핑중에 단일의 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 도움으로 얻을 수 있는 유량보다 높은 유량을 저압에서 얻을 수 있는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. It is also an object of the present invention to propose a pumping method of a pumping system capable of obtaining a flow rate higher than that obtained with the aid of a single lubricating rotary vane vacuum pump during pumping of a vacuum chamber at a low pressure.

더욱이 본 발명의 목적은 진공 챔버에서 단일의 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 도움으로 얻을 수 있는 진공보다 더 우수한 진공을 얻을 수 있게 하는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. Moreover, it is an object of the present invention to propose a pumping method of a pumping system that makes it possible to obtain a vacuum better than that obtained with the aid of a single lubricating rotary vane vacuum pump in a vacuum chamber.

본 발명의 상기 목적들은 펌핑 시스템의 구조에서 이루어지는 펌핑 방법의 도움으로 달성되는데, 상기 펌핑 시스템의 구성은 진공 챔버에 연결된 기체 유입 포트 및, 대기(atmosphere)로 또는 다른 장치들로 나오기 이전에 역지 밸브에 설치된 도관으로 이어지는 기체 유출 포트가 설치되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프로 이루어진다. 이젝터의 흡입 단부는 상기 역지 밸브에 병렬로 연결되고, 그것의 출구는 역지 밸브 이후에 제 1 펌프의 도관에 다시 접합되거나 또는 대기로 간다.The above objects of the present invention are achieved with the help of a pumping method made in the structure of the pumping system, wherein the configuration of the pumping system includes a gas inlet port connected to the vacuum chamber, and a check valve before exiting to the atmosphere or other devices. It consists of a first lubricating rotary vane vacuum pump installed with a gas outlet port leading to a conduit installed in the. The suction end of the ejector is connected in parallel to the check valve, and its outlet is bonded back to the conduit of the first pump after the check valve or goes to the atmosphere.

그러한 펌핑 방법은 특히 독립 청구항 제 1 항의 주제이다. 본 발명의 상이한 바람직한 실시예들은 종속 청구항들의 주제이다.Such pumping methods are in particular the subject of independent claim 1. Different preferred embodiments of the invention are the subject of the dependent claims.

상기 방법은 실질적으로 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 진공 챔버 안에 포함된 기체를 기체 유입 포트를 통하여 펌핑하는 동안 내내 이젝터에 작동 유체를 공급하고 그것을 연속적으로 작동시키는 것으로 이루어지지만, 또한 유출부를 통하여 상승하는 기체를 배출함으로써 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 정해진 압력(예를 들어 최종 진공)을 챔버 안에 유지시키는 내내 그렇게 되는 것으로 이루어진다. The method consists essentially of supplying a working fluid to the ejector and continuously operating it while the first lubricating rotary vane vacuum pump pumps the gas contained in the vacuum chamber through the gas inlet port, but also rises through the outlet. It consists in doing so throughout the first lubricating rotary vane vacuum pump maintaining a defined pressure (eg final vacuum) in the chamber by discharging the gas.

제 1 양상에 따르면, 본 발명은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프 및 이젝터의 결합이 측정 및 특정 장치들(예를 들어, 압력, 온도, 전류등의 센서들), 서보 제어, 또는 데이터 관리 및 계산을 필요로 하지 않는 점에 있다. 결국, 본 발명에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌핑 시스템은 최소한의 구성 요소들을 포함하고, 매우 단순하며 현존 시스템보다 훨씬 저렴하다. According to the first aspect, the present invention is a combination of a first lubrication rotary vane vacuum pump and an ejector measuring and specific devices (for example, sensors such as pressure, temperature, current), servo control, or data management and calculation. It is in that it does not need. Consequently, a pumping system suitable for implementing the pumping method according to the present invention contains a minimum of components, is very simple and is much cheaper than existing systems.

그 특징에 의하여, 펌핑 시스템에 통합되는 이젝터는 현재의 펌핑 방법에 따른 손상 없이 항상 작동될 수 있다. 그것의 치수 설정은 장치의 작동을 위한 작동 유체의 최소 소비에 의해 결정된다. 이것은 정상적으로는 단일 단계(single staged)이다. 공칭 유량은 역지 밸브에 의해 한정되는, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 체적에 따라서 선택된다. 이러한 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 일 수 있지만, 이러한 값들보다 크거나 작을 수도 있다. 이젝터를 위한 작동 유체는 압축 공기일 수 있지만, 다른 기체일 수도 있으며, 예를 들어 질소일 수 있다. Due to its feature, the ejector integrated into the pumping system can be operated at all times without damage according to the current pumping method. Its dimensional setting is determined by the minimum consumption of working fluid for the operation of the device. This is normally single staged. The nominal flow rate is selected according to the volume of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump, defined by a check valve. This flow rate may be 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump, but may be greater or less than these values. The working fluid for the ejector may be compressed air, but may be other gases, for example nitrogen.

역지 밸브는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부에서 도관내에 배치되는 것으로서, 상업적으로 이용 가능한 표준 요소일 수 있다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 공칭 유량에 따라서 그 치수가 정해질 수 있다. 특히, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 흡입 단부에서의 압력이 500 mbar absolute 내지 최종 압력(예를 들어, 100 mbar) 사이일 때 역지 밸브가 폐쇄되는 것이 예상된다. The non-return valve is disposed in the conduit at the outlet of the first lubricating rotary vane vacuum pump, and may be a commercially available standard element. The dimension can be determined according to the nominal flow rate of the first lubrication rotary vane vacuum pump. In particular, it is expected that the check valve closes when the pressure at the suction end of the first lubrication rotary vane vacuum pump is between 500 mbar absolute and the final pressure (eg 100 mbar).

다른 변형예에 따라서, 이젝터는 다중 단계이다. According to another variant, the ejector is multi-stage.

다른 변형예에 따르면, 이젝터는 다중 단계 이젝터에서와 같이 단일 단계 이젝터 변형예에서도, 화학 산업 및 반도체 산업에서 통상적으로 이용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 저항성을 가지는 재료로 만들어질 수 있다. According to another variant, the ejector may be made of a material having chemical resistance to gases and substances commonly used in the chemical industry and the semiconductor industry, even in a single stage ejector variant, such as in a multi-stage ejector.

이젝터가 바람직스럽게는 소형이다.The ejector is preferably compact.

다른 변형예에 따르면, 이젝터는 역지 밸브를 포함하는 카트리지에 일체화된다. According to another variant, the ejector is integrated into a cartridge comprising a check valve.

다른 변형예에 따르면, 이젝터는 역지 밸브를 포함하는 카트리지에 일체화되고, 상기 카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기에 수용된다. According to another variant, the ejector is integrated into a cartridge including a check valve, and the cartridge itself is accommodated in the oil separator of the first lubricating rotary vane vacuum pump.

본 발명의 방법의 다른 변형예에 따르면, 특정의 요건을 충족시키도록, 이젝터의 작동에 필요한 압력에서의 기체 유량은 "전부 또는 전무" 방식(all or nothing way)으로 제어된다. 실제로, 제어는 하나 이상의 파라미터들을 측정하고 특정의 미리 정해진 규칙에 따라서 이젝터를 작동시키거나 정지시키는 것으로 이루어진다. 적절한 센서들에 의해 제공되는 파라미터들은, 예를 들어 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 모터 전류, 역지 밸브에 의해 한정되는, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간내 기체 압력이나 온도, 또는 이들 파라미터들의 조합이다. According to another variant of the method of the present invention, the gas flow rate at the pressure required for operation of the ejector is controlled in an "all or nothing" way to meet certain requirements. In practice, control consists of measuring one or more parameters and activating or stopping the ejector according to certain predetermined rules. The parameters provided by suitable sensors are, for example, the motor current of the lubricating rotary vane vacuum pump, the gas pressure or temperature in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump, defined by a check valve, or these parameters. It is a combination of them.

챔버를 비우는 사이클로 시작하여, 그 안의 압력은 상승되며, 예를 들어 대기 압력과 같게 상승된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에서 압축이 이루어지면, 그것의 유출부에서 배출되는 기체의 압력은 (만약 제 1 펌프의 유출부에서의 기체가 대기로 직접 배출된다면) 대기 압력보다 높거나, 또는 하류측에 연결된 다른 장치의 유입부에서의 압력보다 높다. 이것은 역지 밸브의 개방을 일으킨다. Beginning with the cycle of emptying the chamber, the pressure in it rises, e.g. equal to atmospheric pressure. When compression is performed in the first lubrication rotary vane vacuum pump, the pressure of the gas discharged from its outlet is higher than the atmospheric pressure (if the gas from the outlet of the first pump is discharged directly to the atmosphere), or downstream Higher than the pressure at the inlet of other devices connected to the side. This causes the check valve to open.

상기 역지 밸브가 개방될 때, 이젝터의 작용은 그것의 유입부에서의 압력이 그것의 유출부에서의 압력과 거의 같으므로 매우 약하게 느껴진다. 대조적으로, 역지 밸브가 특정 압력에서 폐쇄될 때(챔버 안의 압력이 그 사이에 강하하기 때문에), 이젝터의 작용은 역지 밸브 이후의 도관과 챔버 사이의 압력 차이를 점진적으로 감소시키게 된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부에서의 압력은 이젝터의 유입부에서의 압력이 되며, 그것의 유출부에서의 압력은 항상 역지 밸브 이후의 도관에서의 압력이다. 이젝터가 더 펌핑될수록, (역지 밸브에 의해 한정되는) 폐쇄 공간에 있는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구에서의 압력 강하는 커지고, 결국 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부와 챔버 사이의 압력 차이는 감소한다. 이러한 약간의 차이는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에서의 내부 누설을 감소시키고 동시에 챔버에서의 압력 감소를 일으키는데, 이것은 최종적인 진공을 향상시킬 수 있게 한다. 더욱이, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프는 압축을 위하여 에너지를 덜 소비하고, 압축열을 덜 발생시킨다. When the check valve is open, the action of the ejector feels very weak as the pressure at its inlet is approximately equal to the pressure at its outlet. In contrast, when the check valve is closed at a certain pressure (because the pressure in the chamber drops in between), the action of the ejector will gradually reduce the pressure difference between the conduit and the chamber after the check valve. The pressure at the outlet of the first lubrication rotary vane vacuum pump becomes the pressure at the inlet of the ejector, and the pressure at its outlet is always the pressure in the conduit after the check valve. The more the ejector is pumped, the greater the pressure drop at the outlet of the first lubricating rotary vane vacuum pump in the closed space (defined by the check valve), and eventually the pressure between the outlet and the chamber of the first lubricating rotary vane vacuum pump. The difference decreases. This slight difference reduces internal leakage in the first lubricating rotary vane vacuum pump and at the same time causes a pressure reduction in the chamber, which makes it possible to improve the final vacuum. Moreover, the first lubricating rotary vane vacuum pump consumes less energy for compression and generates less compression heat.

이젝터의 제어의 경우에, 센서들이 정해진 상태에 있거나 또는 초기 값을 제공할 때 펌핑 시스템을 시동시키기 위한 초기 위치가 존재한다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 진공 펌프의 기체를 펌핑하므로, 그것의 모터의 전류, 출구 도관의 공간에 있는 기체의 압력 및 온도와 같은 파라미터는 변화하기 시작하고 센서들에 의해 검출된 쓰레숄드 값에 도달한다. 이것은 이젝터에서의 스위치 작용을 일으킨다. 이러한 파라미터들이 시간 지체와 함께 (설정된 값들을 벗어나서) 초기 범위로 복귀되었을 때, 이젝터는 정지된다. In the case of the control of the ejector, there is an initial position for starting the pumping system when the sensors are in a defined state or provide an initial value. As the first lubrication rotary vane vacuum pump pumps the gas from the vacuum pump, parameters such as the current of its motor, the pressure and temperature of the gas in the space of the outlet conduit begin to change and the threshold value detected by the sensors. Reach. This causes a switch action in the ejector. When these parameters return to their initial range (out of the set values) with a time lag, the ejector stops.

본 발명의 다른 변형에 따르면, 이젝터의 작동에 필요한 압력에서의 기체 유동은 콤프레서에 의해 제공된다. 주목할만한 방식으로, 이러한 콤프레서는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에 의해서, 또는 대안으로서 또는 추가적으로, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프와 독립적으로 자율적인 방식에 의해 구동될 수 있다. 이러한 콤프레서는 역지 밸브 이후에 기체 출구 도관에서 대기의 공기 또는 기체를 흡입할 수 있다. 그러한 콤프레서의 존재는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프 시스템을 압축 기체 소스(compressed gas source)와 독립적이게 하며, 이것은 특정의 산업적 환경들의 수요를 충족시킬 수 있다. 콤프레서는 복수개의 이젝터들의 작동에 필요한 압력에서 기체의 유동을 제공할 수 있으며, 이들은 각각 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프를 가지는 복수개의 진공 펌프 시스템들의 일부를 형성한다. 콤프레서는 적절한 센서들에 의하여 제어되는, 파라미터들에 따른 제어의 경우뿐만 아니라, 이젝터의 연속 작동의 경우에도 시스템의 일부를 형성한다. According to another variant of the invention, the gas flow at the pressure required for operation of the ejector is provided by the compressor. In a notable way, this compressor can be driven by a first lubricating rotary vane vacuum pump, or alternatively or additionally, in an autonomous manner independently of the first lubricating rotary vane vacuum pump. Such a compressor can draw atmospheric air or gas from the gas outlet conduit after the check valve. The presence of such a compressor makes the first lubricating rotary vane vacuum pump system independent of the compressed gas source, which can meet the needs of certain industrial environments. The compressor can provide a flow of gas at the pressure required for operation of a plurality of ejectors, which form part of a plurality of vacuum pump systems each having a first lubricating rotary vane vacuum pump. The compressor forms part of the system not only in the case of parameter dependent control, controlled by suitable sensors, but also in the case of continuous operation of the ejector.

다른 한편으로, 기계적인 개념에 대한 연구는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 기체 유출 포트와 역지 밸브 사이의 공간에서 보다 신속하게 압력을 낮출 목적을 가지고 상기 공간의 감소를 추구한다는 점이 명백하다. On the other hand, it is clear that the study of the mechanical concept seeks to reduce the space with the aim of lowering the pressure more quickly in the space between the gas outlet port of the first lubricating rotary vane vacuum pump and the check valve.

본 발명의 특징 및 장점들은 상세한 설명에 있는 세부 내용들로써 제시될 것이며, 상기 상세 설명은 첨부된 도면을 참조하여 예시적으로 그리고 비제한적으로 주어진 실시예들과 함께 설명된다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예들에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 2 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 3 은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다.
Features and advantages of the present invention will be presented as details in the detailed description, which are described with reference to the accompanying drawings, by way of example and not limitation, with the given embodiments.
1 schematically shows a pumping system suitable for implementing a pumping method according to first embodiments of the present invention.
2 schematically shows a pumping system suitable for implementing a pumping method according to a second embodiment of the present invention.
3 schematically shows a pumping system suitable for implementing a pumping method according to a third embodiment of the present invention.

도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌프 시스템(SP)을 나타낸다. 1 shows a pump system SP suitable for implementing a pumping method according to a first embodiment of the present invention.

펌프 시스템(SP)은 챔버(1)를 포함하고, 이것은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 포트(2)에 연결된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 기체 유출 포트는 도관(5)에 연결된다. 역지 배출 밸브(non-return discharge valve, 6)는 도관(5) 안에 배치되는데, 상기 도관은 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)으로 계속된다. 역지 밸브(6)는 폐쇄되었을 때 제 1 진공 펌프(3)의 기체 출구 포트와 자체 사이에 포함된 공간(4)의 형성을 허용한다. 펌프 시스템(SP)은 이젝터(ejector, 7)도 포함하고, 이것은 역지 밸브(6)와 병렬로 연결된다. 이젝터의 흡입 포트는 도관(5)의 공간(4)에 연결되고, 배출 포트는 도관(8)에 연결된다. 공급 도관(9)은 이젝터(7)를 위한 작동 유체를 제공한다. The pump system SP comprises a chamber 1, which is connected to the suction port 2 of the first lubricating rotary vane vacuum pump 3. The gas outlet port of the first lubrication rotary vane vacuum pump 3 is connected to the conduit 5. A non-return discharge valve 6 is arranged in the conduit 5 which continues after the check valve 6 to the gas outlet conduit 8. The non-return valve 6 allows the formation of a space 4 contained between itself and the gas outlet port of the first vacuum pump 3 when closed. The pump system SP also includes an ejector 7, which is connected in parallel with a check valve 6. The suction port of the ejector is connected to the space 4 of the conduit 5 and the discharge port is connected to the conduit 8. The supply conduit 9 provides the working fluid for the ejector 7.

제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 시작으로부터, 이젝터(7)를 위한 작동 유체는 공급 도관(9)을 통해 주입된다. 다음에 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)는 챔버(1) 안의 기체를 그것의 유입부에 연결된 포트(2)를 통해 흡입하고 기체를 압축하여 이후에 도관(5)에 있는 유출부에서 역지 밸브(6)를 통해 배출한다. 역지 밸브(6)의 폐쇄 압력에 도달되었을 때, 역지 밸브는 폐쇄된다. 이러한 순간으로부터 시작하여 이젝터(7)의 펌핑은 공간(4)내의 압력을 그것의 제한 압력 값으로 점진적으로 감소시킨다. 병행하여, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)에 의해 소비되는 동력이 점진적으로 감소된다. 이것은 짧은 기간에 발생되며, 예를 들어 5 내지 10 초의 특정 사이클 동안 발생된다. From the start of the first lubrication rotary vane vacuum pump 3, the working fluid for the ejector 7 is injected through the supply conduit 9. Next, the first lubrication rotary vane vacuum pump (3) sucks the gas in the chamber (1) through a port (2) connected to its inlet and compresses the gas, which is then checked at the outlet in the conduit (5) It is discharged through the valve (6). When the closing pressure of the check valve 6 is reached, the check valve is closed. Starting from this moment, the pumping of the ejector 7 gradually reduces the pressure in the space 4 to its limiting pressure value. In parallel, the power consumed by the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 is gradually reduced. This occurs in a short period of time, for example during a specific cycle of 5 to 10 seconds.

챔버(1)의 공간 및 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 유량의 함수로서 역지 밸브(6)의 폐쇄 압력 및 이젝터(7)의 유량을 현명하게 조절함으로써, 비움 사이클(evacuation cycle)의 지속 기간과 관련하여 역지 밸브(6)의 폐쇄 이전의 시간을 감소시킬 수 있고 따라서 펌핑에 영향을 미치지 않으면서 이젝터(7)의 작동 시간 동안 작동 유체의 손실을 감소시킬 수 있다. 더욱이 이러한 "손실" 은 적으며, 에너지 소비의 평가에 참작된다. 다른 한편으로, 프로그래머블 자동 제어 및/또는 스피드 콘트롤러, 제어된 밸브, 센서등이 설치된 유사한 펌프들과 비교하여, 단순성의 장점은 저렴한 가격 뿐만 아니라 우수한 신뢰성을 시스템에 부여한다. By wisely adjusting the closing pressure of the check valve 6 and the flow rate of the ejector 7 as a function of the space of the chamber 1 and the flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump 3, the evacuation cycle is It is possible to reduce the time before closing of the check valve 6 in relation to the duration and thus reduce the loss of the working fluid during the operating time of the ejector 7 without affecting pumping. Moreover, these "losses" are small and are taken into account in the assessment of energy consumption. On the other hand, compared to similar pumps equipped with programmable automatic control and/or speed controllers, controlled valves, sensors, etc., the advantage of simplicity imparts excellent reliability as well as low cost to the system.

도 2 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌핑 시스템(SP)을 도시한다. 2 shows a pumping system SP suitable for implementing the pumping method according to the second embodiment of the present invention.

도 1 에 도시된 시스템과 관련하여, 도 2 에 도시된 시스템은 이젝터(7)의 작동에 필요한 압력에서 기체의 유동을 제공하는 콤프레서(10)를 더 포함한다. 실제로, 이러한 콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구(8)에 있는 기체 또는 대기의 공기를 흡입할 수 있다. 그것의 존재는 펌핑 시스템이 압축된 기체 소스(gas source)와 독립적이도록 하며, 이는 특정의 산업적 환경의 요건을 충족시킬 수 있다. 콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 펌프(3) 또는 그 자체의 전기 모터에 의해 구동될 수 있으며, 따라서 펌프(3)로부터 완전하게 독립적인 방식으로 구동될 수 있다. 모든 경우에, 이젝터(7)를 작동시키는데 필요한 압력으로 기체 유동을 제공할 때의 콤프레서(10)의 에너지 소비는 주 펌프(3)의 에너지 소비에서 달성되는 장점과 비교하여 실질적으로 작다. With respect to the system shown in FIG. 1, the system shown in FIG. 2 further comprises a compressor 10 that provides a flow of gas at the pressure required for operation of the ejector 7. In practice, such a compressor 10 can suck in gas or atmospheric air at the gas outlet 8 after the check valve 6. Its presence makes the pumping system independent of the compressed gas source, which can meet the requirements of certain industrial environments. The compressor 10 can be driven by the first lubricating rotary vane pump 3 or its own electric motor, and thus can be driven in a completely independent manner from the pump 3. In all cases, the energy consumption of the compressor 10 in providing the gas flow at the pressure required to operate the ejector 7 is substantially small compared to the advantages achieved in the energy consumption of the main pump 3.

도 3 은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 펌핑 방법을 수행하는데 적절한 진공 펌프(SPP) 의 시스템을 도시한다. 3 shows a system of a vacuum pump (SPP) suitable for carrying out the pumping method according to the third embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2 에 도시된 시스템과 관련하여, 도 3 에 도시된 시스템은 제어되는 펌핑 시스템에 대응하는데, 이것은 센서(11,12,13)들을 더 포함하며, 이것은 예를 들어 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 모터 전류(센서 11), (역지 밸브(6)에 의해 제한된) 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간에 있는 기체의 압력(센서 13), (역지 밸브(6)에 의해 제한된) 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간에 있는 기체의 온도(센서 12) 또는 이들 파라미터들의 조합을 제어한다. 실제로, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1)의 기체를 펌핑하기 시작할 때, 상기 파라미터들(특히, 모터의 전류, 도관(4)의 출구의 공간에 있는 기체의 압력 및 온도)은 변화하기 시작하고, 대응 센서(11,12,13)에 의해 검출되는 쓰레숄드 값들에 도달한다. 이것은 (특정의 시간 지체 이후에) 이젝터(7)의 개시를 일으킨다. 상기 파라미터들이 (설정값 밖의) 초기 범위에 복귀될 때, 이젝터는 (다시 특정의 시간 지체 이후에) 정지한다. 물론 제어된 펌핑 시스템(SSP)은 도 2 에 도시된 조건에서 콤프레서(10) 또는 공급 네트워크를 압축 기체 소스로서 가질 수 있다. With respect to the system shown in Figs. 1 and 2, the system shown in Fig. 3 corresponds to a controlled pumping system, which further comprises sensors 11, 12, 13, which for example a first lubrication rotary Motor current of the vane vacuum pump 3 (sensor 11), the pressure of the gas in the space of the outlet conduit of the first lubrication rotary vane vacuum pump (limited by the check valve 6) (sensor 13), (return valve ( 6) controlled by the temperature of the gas in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump (sensor 12) or a combination of these parameters. In fact, when the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 starts pumping the gas in the vacuum chamber 1, the above parameters (especially the current of the motor, the pressure of the gas in the space at the outlet of the conduit 4 and the Temperature) starts to change and reaches the threshold values detected by the corresponding sensors 11,12,13. This causes the start of the ejector 7 (after a certain time lag). When the above parameters return to the initial range (outside the set value), the ejector stops (again after a certain time lag). Of course, the controlled pumping system SSP may have the compressor 10 or the supply network as the compressed gas source under the conditions shown in FIG. 2.

특히 본 발명은 그것의 구현예에 관하여 다양한 변형을 가질 수 있다. 비록 여러가지 실시예들이 설명되었지만, 모든 가능한 실시예들을 모두 다 설명하는 방식으로 나타내도록 생각될 수 없다는 점이 이해될 것이다. 물론 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않으면서 설명된 수단을 등가의 수단과 교체하는 것이 생각될 수 있다. 이들 모든 변형예는 진공 기술 분야의 당업자의 통상적인 지식의 일부를 형성한다.In particular, the present invention may have various modifications with respect to its implementation. Although various embodiments have been described, it will be understood that it cannot be construed to present all possible embodiments in an exhaustive manner. Of course, it is conceivable to replace the described means with equivalent means without departing from the scope of the invention. All of these variations form part of the common knowledge of those skilled in the vacuum arts.

1. 진공 펌프 3. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프
4. 기체 유출 포트 5. 도관
6. 역지 밸브 7. 이젝터(ejector)
1. Vacuum pump 3. First lubrication rotary vane vacuum pump
4. Gas outlet port 5. Conduit
6. Check valve 7. Ejector

Claims (34)

진공 챔버(1)에 연결된 기체 유입 포트(2) 및 펌핑 시스템(SP,SPP)의 기체 출구(8)로 나오기 전에 도관(5)으로 이어진 기체 유출 포트(4)를 가지는, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3),
기체 유출 포트(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)내에 위치된 역지 밸브(6),
역지 밸브(6)와 병렬로 연결된 이젝터(ejector, 7) 및,
콤프레서(10)를 포함하는 펌핑 시스템(SP,SPP)의 펌핑 방법으로서,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 기체 유출 포트(4)를 통하여 펌핑하기 위하여 작동되고;
동시에, 상기 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)를 구동하는 힘에 의해 구동되는 상기 콤프레서(10)에 의하여 이젝터(7)에 작동 유체가 공급되고;
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 동안 내내 또는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안의 정해진 압력을 유지하는 동안 내내, 이젝터(7)에는 작동 유체가 계속 공급되고,
이젝터(7)의 작동 유체는 압축 공기인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
A first lubrication rotary vane having a gas inlet port 2 connected to the vacuum chamber 1 and a gas outlet port 4 leading to a conduit 5 before exiting the gas outlet 8 of the pumping system SP, SPP Vacuum pump (3),
A non-return valve (6) located in the conduit (5) between the gas outlet port (4) and the gas outlet (8),
An ejector (7) connected in parallel with the check valve (6) and,
As a pumping method of a pumping system (SP, SPP) including a compressor 10,
The first lubrication rotary vane vacuum pump 3 is operated to pump the gas contained in the vacuum chamber 1 through the gas outlet port 4;
At the same time, the working fluid is supplied to the ejector 7 by the compressor 10 driven by the force driving the first lubrication rotary vane vacuum pump 3;
While the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 pumps the gas contained in the vacuum chamber 1 or while the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 maintains a predetermined pressure in the vacuum chamber 1 , The operating fluid is continuously supplied to the ejector 7,
Pumping method, characterized in that the working fluid of the ejector (7) is compressed air.
제 1 항에 있어서,
이젝터(7)의 유출부는 역지 밸브(6) 이후에 도관(5)과 다시 접합되는 것을 특징으로 하는 펌핑 방법.
The method of claim 1,
Pumping method, characterized in that the outlet of the ejector (7) is re-joined with the conduit (5) after the check valve (6).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이젝터(7)의 치수는 작동 유체를 최소로 소비하도록 정해지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Pumping method, characterized in that the dimensions of the ejector (7) are determined to consume a minimum of working fluid.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은 역지 밸브(6)에 의해 제한되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 출구 도관(5)의 체적에 따라서 선택되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Pumping, characterized in that the nominal flow rate of the ejector 7 is selected in accordance with the volume of the outlet conduit 5 of the first lubricated rotary vane vacuum pump 3 limited by the check valve 6 Way.
제 4 항에 있어서,
이젝터의 공칭 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method of claim 4,
Pumping method, characterized in that the nominal flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이젝터(7)는 단일 스테이지(single-staged) 또는 다중 스테이지(multi-staged)인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Pumping method, characterized in that the ejector 7 is single-staged or multi-staged.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
제1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 단부에서의 압력이 절대 압력(absolute pressure)으로서의 500 mbar 와 최종 진공 사이에 있을 때 역지 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Pumping method, characterized in that the check valve 6 is closed when the pressure at the suction end of the first lubrication rotary vane vacuum pump 3 is between 500 mbar as absolute pressure and the final vacuum.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이젝터(7)는 화학 산업 또는 반도체 산업에서 통상적으로 사용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 고저항성(高抵抗性)을 가지는 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The ejector 7 is a pumping method, characterized in that it is made of a material having high chemical resistance to gases and substances commonly used in the chemical industry or the semiconductor industry.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이젝터(7)는 역지 밸브(6)에 포함된 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Pumping method, characterized in that the ejector (7) is integrated into a cartridge (cartridge) included in the check valve (6).
제 9 항에 있어서,
카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기에 수용되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method of claim 9,
The pumping method, characterized in that the cartridge itself is accommodated in the oil separator of the first lubricating rotary vane vacuum pump.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)에 있는 대기 공기 또는 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The pumping method, characterized in that the compressor (10) sucks atmospheric air or gas in the gas outlet conduit (8) after the check valve (6).
진공 챔버(1)에 연결된 기체 유입 포트(2) 및 진공 펌프(SP)의 시스템의 기체 출구(8)로 나오기 전에 도관(5)으로 이어지는 기체 유출 포트(4)를 가지는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3),
기체 유출 포트(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)에 위치된 역지 밸브(non-return valve, 6),
역지 밸브(6)에 병렬로 연결된 이젝터(7) 및,
콤프레서(10)를 포함하고,
상기 콤프레서(10)는 상기 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)를 구동하는 힘에 의해 구동되고,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(3)내에 포함된 기체를 개스 유출 포트(4)를 통해 펌핑하기 위하여 작용됨과 동시에, 이젝터(7)에 콤프레서에 의하여 작동 유체가 공급되도록 구성되고,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 동안 내내, 또는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1)에서 정해진 압력을 유지하는 동안 내내, 상기 콤프레서(10)에 의하여 이젝터(7)에 작동 유체가 공급되도록 구성되고,
이젝터(7)의 작동 유체는 압축 공기인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템(SP, SPP).
A first lubricated rotary vane vacuum having a gas inlet port 2 connected to the vacuum chamber 1 and a gas outlet port 4 leading to a conduit 5 before exiting the gas outlet 8 of the system of the vacuum pump SP. Pump (3),
A non-return valve 6 located in the conduit 5 between the gas outlet port 4 and the gas outlet 8,
An ejector 7 connected in parallel to the check valve 6 and,
Including a compressor (10),
The compressor 10 is driven by a force driving the first lubrication rotary vane vacuum pump 3,
The first lubrication rotary vane vacuum pump 3 acts to pump the gas contained in the vacuum chamber 3 through the gas outlet port 4, and at the same time, the working fluid is supplied to the ejector 7 by the compressor. Become,
While the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 pumps the gas contained in the vacuum chamber 1, or while the first lubricating rotary vane vacuum pump 3 maintains a predetermined pressure in the vacuum chamber 1 Throughout, it is configured to supply a working fluid to the ejector 7 by the compressor 10,
Pumping system (SP, SPP), characterized in that the working fluid of the ejector 7 is compressed air.
제 12 항에 있어서,
이젝터(7)의 유출부는 역지 밸브(6) 이후에 도관(5)과 다시 접합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12,
Pumping system, characterized in that the outlet of the ejector (7) is re-joined with the conduit (5) after the check valve (6).
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
이젝터(7)의 치수는 작동 유체를 최소로 소비하도록 정해지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
Pumping system, characterized in that the dimensions of the ejector (7) are set so as to consume a minimum of working fluid.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
이젝터(7)의 공칭 유량은 역지 밸브(6)에 의해 제한되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 출구 도관(5)의 체적에 따라서 선택되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
Pumping system, characterized in that the nominal flow rate of the ejector (7) is selected in accordance with the volume of the outlet conduit (5) of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) limited by the check valve (6).
제 15 항에 있어서,
이젝터의 공칭 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 15,
Pumping system, characterized in that the nominal flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
이젝터(7)는 단일 단계 또는 다중 단계인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
Pumping system, characterized in that the ejector (7) is single-stage or multi-stage.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 단부에서의 압력이 절대 압력(absolute pressure)으로서의 500 mbar 와 최종 진공 사이일 때 역지 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
Pumping system, characterized in that the check valve (6) is closed when the pressure at the suction end of the first lubrication rotary vane vacuum pump (3) is between 500 mbar as absolute pressure and the final vacuum.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
이젝터(7)는 화학 산업 또는 반도체 산업에서 통상적으로 사용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 고저항성을 가진 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
The ejector 7 is a pumping system, characterized in that it is made of a material having high chemical resistance to gases and substances commonly used in the chemical industry or the semiconductor industry.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
이젝터(7)는 역지 밸브(6)를 포함하는 카트리지에 통합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 12 or 13,
Pumping system, characterized in that the ejector (7) is integrated into a cartridge comprising a check valve (6).
제 20 항에 있어서,
카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기 안에 수용되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
The method of claim 20,
The pumping system, characterized in that the cartridge itself is housed in the oil separator of the first lubricating rotary vane vacuum pump.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)에 있는 대기 공기 또는 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.

The method of claim 12 or 13,
A pumping system, characterized in that the compressor (10) sucks atmospheric air or gas in the gas outlet conduit (8) after the check valve (6).

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020167030629A 2014-05-01 2014-05-01 Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System KR102235562B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2014/058948 WO2015165544A1 (en) 2014-05-01 2014-05-01 Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170005410A KR20170005410A (en) 2017-01-13
KR102235562B1 true KR102235562B1 (en) 2021-04-05

Family

ID=50639522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167030629A KR102235562B1 (en) 2014-05-01 2014-05-01 Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System

Country Status (15)

Country Link
US (1) US20170045051A1 (en)
EP (1) EP3137771B1 (en)
JP (1) JP6410836B2 (en)
KR (1) KR102235562B1 (en)
CN (1) CN106255828A (en)
AU (1) AU2014392229B2 (en)
BR (1) BR112016024380B1 (en)
CA (1) CA2944825C (en)
DK (1) DK3137771T3 (en)
ES (1) ES2797400T3 (en)
PL (1) PL3137771T3 (en)
PT (1) PT3137771T (en)
RU (1) RU2666379C2 (en)
TW (1) TWI698585B (en)
WO (1) WO2015165544A1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK3123030T3 (en) * 2014-03-24 2019-10-14 Ateliers Busch S A PROCEDURE FOR PUMPING IN A SYSTEM OF VACUUM PUMPS AND SYSTEM OF VACUUM PUMPS
FR3094762B1 (en) * 2019-04-05 2021-04-09 Pfeiffer Vacuum Dry type vacuum pump and pumping installation
CN113621936A (en) * 2021-10-12 2021-11-09 陛通半导体设备(苏州)有限公司 Working method of vacuum pump system in vacuum coating and vacuum pump system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030068233A1 (en) * 2001-10-09 2003-04-10 Applied Materials, Inc. Device and method for reducing vacuum pump energy consumption
US20050232783A1 (en) * 2002-05-03 2005-10-20 Peter Tell Vacuum pump and method for generating sub-pressure
JP2007100562A (en) * 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd Vacuum device
WO2014012896A2 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Method and device for pumping of a process chamber

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52128885A (en) * 1976-04-22 1977-10-28 Fujitsu Ltd Treatment in gas phase
US4426450A (en) * 1981-08-24 1984-01-17 Fermentec Corporation Fermentation process and apparatus
DE3721611A1 (en) * 1987-06-30 1989-01-19 Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh MECHANICAL VACUUM PUMP WITH A SPRING-LOADED CHECK VALVE
SU1700283A1 (en) * 1989-05-05 1991-12-23 Предприятие П/Я А-3634 Vacuum pump
JPH08178438A (en) * 1994-12-21 1996-07-12 Yanmar Diesel Engine Co Ltd Engine heat pump
US5848538A (en) * 1997-11-06 1998-12-15 American Standard Inc. Oil and refrigerant pump for centrifugal chiller
WO2003023229A1 (en) * 2001-09-06 2003-03-20 Ulvac, Inc. Vacuum pumping system and method of operating vacuum pumping system
US7254961B2 (en) * 2004-02-18 2007-08-14 Denso Corporation Vapor compression cycle having ejector
US7655140B2 (en) * 2004-10-26 2010-02-02 Cummins Filtration Ip Inc. Automatic water drain for suction fuel water separators
US8807158B2 (en) * 2005-01-20 2014-08-19 Hydra-Flex, Inc. Eductor assembly with dual-material eductor body
DE102005008887A1 (en) * 2005-02-26 2006-08-31 Leybold Vacuum Gmbh Single-shaft vacuum displacement pump has two pump stages each with pump rotor and drive motor supported by the shaft enclosed by a stator housing
DE102008019472A1 (en) * 2008-04-17 2009-10-22 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh vacuum pump
GB2465374A (en) * 2008-11-14 2010-05-19 Mann & Hummel Gmbh Centrifugal separator with venturi
JP5389419B2 (en) * 2008-11-14 2014-01-15 株式会社テイエルブイ Vacuum pump device
FR2952683B1 (en) * 2009-11-18 2011-11-04 Alcatel Lucent METHOD AND APPARATUS FOR PUMPING WITH REDUCED ENERGY CONSUMPTION
GB201007814D0 (en) * 2010-05-11 2010-06-23 Edwards Ltd Vacuum pumping system
US20120261011A1 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Young Man Cho Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030068233A1 (en) * 2001-10-09 2003-04-10 Applied Materials, Inc. Device and method for reducing vacuum pump energy consumption
US20050232783A1 (en) * 2002-05-03 2005-10-20 Peter Tell Vacuum pump and method for generating sub-pressure
JP2007100562A (en) * 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd Vacuum device
WO2014012896A2 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Method and device for pumping of a process chamber

Also Published As

Publication number Publication date
PT3137771T (en) 2020-05-29
CA2944825A1 (en) 2015-11-05
AU2014392229B2 (en) 2018-11-22
BR112016024380B1 (en) 2022-06-28
AU2014392229A1 (en) 2016-11-03
PL3137771T3 (en) 2020-10-05
EP3137771A1 (en) 2017-03-08
KR20170005410A (en) 2017-01-13
RU2666379C2 (en) 2018-09-07
JP2017515031A (en) 2017-06-08
CN106255828A (en) 2016-12-21
JP6410836B2 (en) 2018-10-24
RU2016142607A (en) 2018-06-01
TWI698585B (en) 2020-07-11
TW201608134A (en) 2016-03-01
RU2016142607A3 (en) 2018-06-01
BR112016024380A2 (en) 2017-08-15
EP3137771B1 (en) 2020-05-06
US20170045051A1 (en) 2017-02-16
ES2797400T3 (en) 2020-12-02
CA2944825C (en) 2021-04-27
WO2015165544A1 (en) 2015-11-05
DK3137771T3 (en) 2020-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11725662B2 (en) Method of pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps
KR102330815B1 (en) Pumping system for generating a vacuum and method for pumping by means of this pumping system
KR102235562B1 (en) Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System
AU2014406724B2 (en) Vacuum-generating pumping system and pumping method using this pumping system
KR102190221B1 (en) Method for pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant