KR20170005410A - Method of Pumping in a Pumping System And Vacuum Pump System - Google Patents
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Abstract
본 발명은 펌핑 시스템(SP,SPP)에서의 펌핑 방법에 관한 것으로서, 이것은 진공 챔버(1)에 연결된 기체 유입 개구(2) 및, 펌핑 시스템(SP,SPP)의 기체 출구(8)로의 개방 이전에 도관(5)으로 개방되는 기체 유출 개구(4)를 가진 제 1 윤활 베인 스크류 진공 펌프(3), 기체 유출 개구(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)에 위치된 역지 밸브(6) 및, 역지 밸브(6)와 병렬로 연결된 이젝터(7)를 포함한다. 상기 방법에 따라서, 제 1 윤활 베인 스크류 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 기체 유출 개구(4)를 통해 펌핑하기 위하여 작동된다; 동시에, 이젝터(7)에는 작동 매체가 공급되고, 제 1 윤활 스크류 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 시간 내내 그리고/또는 제 1 윤활 스크류 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안의 미리 정해진 압력을 유지하는 시간 내내 이젝터(7)에는 계속 기동 매체가 공급된다. 본 발명은 상기 방법을 구현하기 위하여 사용되기에 적절한 펌핑 시스템(SP,SPP)에 관한 것이다. The present invention relates to a pumping method in a pumping system (SP, SPP) which comprises a gas inlet opening (2) connected to a vacuum chamber (1) and a pre- A first lubricating vane screw vacuum pump 3 having a gas outlet opening 4 opening to the conduit 5 at the outlet 5 and a check valve 5 located at the conduit 5 between the gas outlet opening 4 and the gas outlet 8, (6), and an ejector (7) connected in parallel with the check valve (6). According to the above method, the first lubricating vane screw vacuum pump 3 is operated to pump the gas contained in the vacuum chamber 1 through the gas outlet opening 4; At the same time, the working medium is supplied to the ejector 7, and the first lubrication screw vacuum pump 3 and the first lubrication screw vacuum pump 3 are purged during the time that the gas contained in the vacuum chamber 1 is pumped and / The ejector 7 is continuously supplied with the starting medium over the period of maintaining the predetermined pressure in the vacuum chamber 1. [ The present invention relates to a pumping system (SP, SPP) suitable for use in implementing the method.
Description
본 발명은 주 펌프가 윤활 로터리 베인 진공 펌프인 펌핑 시스템에서 유량 및 최종 진공과 관련된 성능을 향상시킬 뿐만 아니라 전기 에너지의 소비를 감소시킬 수 있는 펌핑 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법을 달성하는데 이용될 수 있는 펌핑 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a pumping method capable of reducing the consumption of electrical energy as well as improving performance associated with flow rate and final vacuum in a pumping system in which the main pump is a lubricating rotary vane vacuum pump. The present invention also relates to a pumping system which can be used to achieve the method according to the invention.
산업 분야에서 진공 펌프의 성능을 향상시키고, 설치 비용을 감소시키며 에너지 소비를 감소시키려는 일반적인 경향은 구동부등에서의 성능, 에너지 경제, 부피와 관련하여 현저한 발전을 가져왔다. The general tendency to improve the performance of vacuum pumps, reduce installation costs and reduce energy consumption in the industrial sector has led to significant advances in terms of performance, energy economy, and volume at the drives.
현재의 기술은 최종 진공을 향상시키고 에너지 보충 단계들의 소비를 줄이는 것을 다단 루트 유형(multi-stage Roots type) 또는 다단계 클로우 유형 (multi-stage claw type) 의 진공 펌프들에 추가되어야만 한다는 점을 나타낸다. 스크류 진공 펌프들에 대하여, 스크류의 추가적인 회전이 있어야 하고 그리고/또는 내부 압축의 비율이 증가되어야 한다. 윤활 로터리 베인 진공 펌프들에 대하여 하나 이상의 보충적인 단계들이 직렬로 추가되어야 하고 내부 압축의 비율이 증가되어야 한다. The current technology indicates that to improve the final vacuum and to reduce the consumption of energy replenishment steps must be added to multi-stage Roots type or multi-stage claw type vacuum pumps. For screw vacuum pumps, there must be additional rotation of the screw and / or the rate of internal compression must be increased. One or more supplemental steps must be added in series for the lubrication rotary vane vacuum pumps and the rate of internal compression must be increased.
최종 진공을 향상시키고 유량을 증가시키려는 목적을 가진 펌핑 시스템에 관한 현재 기술은 제 1 윤활 로터리 베인 펌프들로부터 상류측에 배치된 루트 유형의 부스터 펌프들은 나타낸다. 이러한 유형의 시스템들은 부피가 크고, 신뢰성의 문제를 나타내는 바이패스 밸브로써 작동되거나 또는 측정, 제어, 조절 또는 서보 제어의 수단을 채용함으로써 작동된다. 그러나, 이러한 제어, 조절 또는 서보 제어의 수단은 능동적인 방식으로 제어되어야만 하는데, 이것은 필연적으로 시스템 구성 요소들, 복잡성 및 비용의 증가를 초래한다. Current techniques for pumping systems with the goal of improving the final vacuum and increasing the flow rate are root type booster pumps located upstream from the first lubrication rotary vane pumps. These types of systems are operated by bypass valves that are bulky and exhibit reliability problems, or by employing measures, controls, adjustments or servo control means. However, the means of such control, regulation or servo control must be controlled in an active manner, which inevitably leads to an increase in system components, complexity and cost.
본 발명의 목적은 출구 기체의 온도를 감소시킬 뿐만 아니라, 챔버를 진공하에 두고 상기 챔버에서 진공을 유지하는데 필요한 전기 에너지를 감소시킬 수 있는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. It is an object of the present invention to propose a pumping method of a pumping system which not only reduces the temperature of the outlet gas but also can reduce the electrical energy required to keep the chamber under vacuum and to maintain the vacuum in the chamber.
또한 본 발명의 목적은 진공 챔버의 펌핑중에 단일의 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 도움으로 얻을 수 있는 유량보다 높은 유량을 저압에서 얻을 수 있는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. It is also an object of the present invention to propose a pumping system pumping method capable of achieving a higher flow rate at a lower pressure than can be obtained with the aid of a single lubrication rotary vane vacuum pump during pumping of the vacuum chamber.
더욱이 본 발명의 목적은 진공 챔버에서 단일의 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 도움으로 얻을 수 있는 진공보다 더 우수한 진공을 얻을 수 있게 하는 펌핑 시스템의 펌핑 방법을 제안하는 것이다. It is a further object of the present invention to propose a pumping system pumping method which allows a vacuum to be obtained in a vacuum chamber that is superior to that obtainable with the aid of a single lubrication rotary vane vacuum pump.
본 발명의 상기 목적들은 펌핑 시스템의 구조에서 이루어지는 펌핑 방법의 도움으로 달성되는데, 상기 펌핑 시스템의 구성은 진공 챔버에 연결된 기체 유입 포트 및, 대기(atmosphere)로 또는 다른 장치들로 나오기 이전에 역지 밸브에 설치된 도관으로 이어지는 기체 유출 포트가 설치되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프로 이루어진다. 이젝터의 흡입 단부는 상기 역지 밸브에 병렬로 연결되고, 그것의 출구는 역지 밸브 이후에 제 1 펌프의 도관에 다시 접합되거나 또는 대기로 간다.The above objects of the present invention are achieved with the aid of a pumping method in the structure of a pumping system which comprises a gas inlet port connected to a vacuum chamber and a check valve, And a first lubrication rotary vane vacuum pump in which a gas outlet port leading to a conduit provided in the first lubrication rotary vane vacuum pump is installed. The suction end of the ejector is connected in parallel to the check valve and its outlet is connected again to the conduit of the first pump after the check valve or to the atmosphere.
그러한 펌핑 방법은 특히 독립 청구항 제 1 항의 주제이다. 본 발명의 상이한 바람직한 실시예들은 종속 청구항들의 주제이다.Such a pumping method is in particular the subject of
상기 방법은 실질적으로 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 진공 챔버 안에 포함된 기체를 기체 유입 포트를 통하여 펌핑하는 동안 내내 이젝터에 작동 유체를 공급하고 그것을 연속적으로 작동시키는 것으로 이루어지지만, 또한 유출부를 통하여 상승하는 기체를 배출함으로써 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 정해진 압력(예를 들어 최종 진공)을 챔버 안에 유지시키는 내내 그렇게 되는 것으로 이루어진다. The method consists essentially of supplying a working fluid to the ejector and continuously operating it while the first lubrication rotary vane vacuum pump is pumping the gas contained in the vacuum chamber through the gas inlet port, Thereby allowing the first lubricating rotary vane vacuum pump to do so throughout the duration of maintaining the predetermined pressure (e.g., the final vacuum) in the chamber.
제 1 양상에 따르면, 본 발명은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프 및 이젝터의 결합이 측정 및 특정 장치들(예를 들어, 압력, 온도, 전류등의 센서들), 서보 제어, 또는 데이터 관리 및 계산을 필요로 하지 않는 점에 있다. 결국, 본 발명에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌핑 시스템은 최소한의 구성 요소들을 포함하고, 매우 단순하며 현존 시스템보다 훨씬 저렴하다. According to a first aspect, the present invention provides a method of controlling a vacuum pump comprising the steps of: coupling a first lubrication rotary vane vacuum pump and an ejector to a first lubrication apparatus, Is not required. As a result, a pumping system suitable for implementing the pumping method according to the present invention includes minimal components, is very simple, and is much cheaper than existing systems.
그 특징에 의하여, 펌핑 시스템에 통합되는 이젝터는 현재의 펌핑 방법에 따른 손상 없이 항상 작동될 수 있다. 그것의 치수 설정은 장치의 작동을 위한 작동 유체의 최소 소비에 의해 결정된다. 이것은 정상적으로는 단일 단계(single staged)이다. 공칭 유량은 역지 밸브에 의해 한정되는, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 체적에 따라서 선택된다. 이러한 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 일 수 있지만, 이러한 값들보다 크거나 작을 수도 있다. 이젝터를 위한 작동 유체는 압축 공기일 수 있지만, 다른 기체일 수도 있으며, 예를 들어 질소일 수 있다. With that feature, the ejector incorporated in the pumping system can always be operated without damage due to the current pumping method. Its dimensioning is determined by the minimum consumption of working fluid for operation of the device. This is normally single staged. The nominal flow rate is selected according to the volume of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump, which is defined by the check valve. This flow rate may be 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump, but may be larger or smaller than these values. The working fluid for the ejector may be compressed air, but it may be other gas, for example nitrogen.
역지 밸브는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부에서 도관내에 배치되는 것으로서, 상업적으로 이용 가능한 표준 요소일 수 있다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 공칭 유량에 따라서 그 치수가 정해질 수 있다. 특히, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 흡입 단부에서의 압력이 500 mbar absolute 내지 최종 압력(예를 들어, 100 mbar) 사이일 때 역지 밸브가 폐쇄되는 것이 예상된다. The check valve is disposed within the conduit at the outlet of the first lubrication rotary vane vacuum pump and may be a commercially available standard element. The dimension can be determined according to the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump. In particular, it is expected that the check valve will close when the pressure at the suction end of the first lubricating rotary vane vacuum pump is between 500 mbar absolute and the final pressure (e.g., 100 mbar).
다른 변형예에 따라서, 이젝터는 다중 단계이다. According to another variant, the ejector is multi-stage.
다른 변형예에 따르면, 이젝터는 다중 단계 이젝터에서와 같이 단일 단계 이젝터 변형예에서도, 화학 산업 및 반도체 산업에서 통상적으로 이용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 저항성을 가지는 재료로 만들어질 수 있다. According to another variant, the ejector can be made of a material which is chemically resistant to gases and materials commonly used in the chemical and semiconductor industries, even in the single stage ejector variants, such as in multi-stage ejectors.
이젝터가 바람직스럽게는 소형이다.The ejector is preferably small.
다른 변형예에 따르면, 이젝터는 역지 밸브를 포함하는 카트리지에 일체화된다. According to another variant, the ejector is integrated into the cartridge including the check valve.
다른 변형예에 따르면, 이젝터는 역지 밸브를 포함하는 카트리지에 일체화되고, 상기 카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기에 수용된다. According to another variant, the ejector is integrated into the cartridge including the check valve, and the cartridge itself is housed in the oil separator of the first lubrication rotary vane vacuum pump.
본 발명의 방법의 다른 변형예에 따르면, 특정의 요건을 충족시키도록, 이젝터의 작동에 필요한 압력에서의 기체 유량은 "전부 또는 전무" 방식(all or nothing way)으로 제어된다. 실제로, 제어는 하나 이상의 파라미터들을 측정하고 특정의 미리 정해진 규칙에 따라서 이젝터를 작동시키거나 정지시키는 것으로 이루어진다. 적절한 센서들에 의해 제공되는 파라미터들은, 예를 들어 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 모터 전류, 역지 밸브에 의해 한정되는, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간내 기체 압력이나 온도, 또는 이들 파라미터들의 조합이다. According to another variant of the method of the invention, the gas flow rate at the pressure required for the operation of the ejector is controlled in an "all or nothing way" manner to meet certain requirements. In practice, control consists in measuring one or more parameters and activating or deactivating the ejector in accordance with certain predefined rules. The parameters provided by the appropriate sensors are, for example, the motor current of the lubricating rotary vane vacuum pump, the gas pressure or temperature in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump, defined by the check valve, Lt; / RTI >
챔버를 비우는 사이클로 시작하여, 그 안의 압력은 상승되며, 예를 들어 대기 압력과 같게 상승된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에서 압축이 이루어지면, 그것의 유출부에서 배출되는 기체의 압력은 (만약 제 1 펌프의 유출부에서의 기체가 대기로 직접 배출된다면) 대기 압력보다 높거나, 또는 하류측에 연결된 다른 장치의 유입부에서의 압력보다 높다. 이것은 역지 밸브의 개방을 일으킨다. Beginning with a cycle of emptying the chamber, the pressure therein rises and rises, for example, to atmospheric pressure. When compression is effected in the first lubricating rotary vane vacuum pump, the pressure of the gas exiting the outlet is higher than the atmospheric pressure (if the gas at the outlet of the first pump is discharged directly into the atmosphere) Is higher than the pressure at the inlet of the other device connected to the outlet. This causes the check valve to open.
상기 역지 밸브가 개방될 때, 이젝터의 작용은 그것의 유입부에서의 압력이 그것의 유출부에서의 압력과 거의 같으므로 매우 약하게 느껴진다. 대조적으로, 역지 밸브가 특정 압력에서 폐쇄될 때(챔버 안의 압력이 그 사이에 강하하기 때문에), 이젝터의 작용은 역지 밸브 이후의 도관과 챔버 사이의 압력 차이를 점진적으로 감소시키게 된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부에서의 압력은 이젝터의 유입부에서의 압력이 되며, 그것의 유출부에서의 압력은 항상 역지 밸브 이후의 도관에서의 압력이다. 이젝터가 더 펌핑될수록, (역지 밸브에 의해 한정되는) 폐쇄 공간에 있는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구에서의 압력 강하는 커지고, 결국 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 유출부와 챔버 사이의 압력 차이는 감소한다. 이러한 약간의 차이는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에서의 내부 누설을 감소시키고 동시에 챔버에서의 압력 감소를 일으키는데, 이것은 최종적인 진공을 향상시킬 수 있게 한다. 더욱이, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프는 압축을 위하여 에너지를 덜 소비하고, 압축열을 덜 발생시킨다. When the check valve is opened, the action of the ejector feels very weak because the pressure at its inlet is almost the same as the pressure at its outlet. In contrast, the action of the ejector progressively reduces the pressure difference between the conduit and the chamber after the check valve when the check valve is closed at a certain pressure (because the pressure in the chamber falls between them). The pressure at the outlet of the first lubricating rotary vane vacuum pump is the pressure at the inlet of the ejector and the pressure at its outlet is always the pressure in the conduit after the check valve. As the ejector is further pumped, the pressure drop at the outlet of the first lubrication rotary vane vacuum pump (defined by the check valve) in the closed space is increased and eventually the pressure between the outlet of the first lubrication rotary vane vacuum pump and the chamber The difference decreases. This slight difference reduces the internal leakage in the first lubrication rotary vane vacuum pump and at the same time causes a reduction in pressure in the chamber, which makes it possible to improve the final vacuum. Moreover, the first lubrication rotary vane vacuum pump consumes less energy for compression and less heat of compression.
이젝터의 제어의 경우에, 센서들이 정해진 상태에 있거나 또는 초기 값을 제공할 때 펌핑 시스템을 시동시키기 위한 초기 위치가 존재한다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프가 진공 펌프의 기체를 펌핑하므로, 그것의 모터의 전류, 출구 도관의 공간에 있는 기체의 압력 및 온도와 같은 파라미터는 변화하기 시작하고 센서들에 의해 검출된 쓰레숄드 값에 도달한다. 이것은 이젝터에서의 스위치 작용을 일으킨다. 이러한 파라미터들이 시간 지체와 함께 (설정된 값들을 벗어나서) 초기 범위로 복귀되었을 때, 이젝터는 정지된다. In the case of control of the ejector, there is an initial position for starting the pumping system when the sensors are in a predetermined state or provide an initial value. As the first lubrication rotary vane vacuum pump pumps the gas of the vacuum pump, parameters such as the current of its motor, the pressure and temperature of the gas in the space of the outlet conduit begin to change and the threshold value Lt; / RTI > This causes a switch action in the ejector. When these parameters return to the initial range with time lag (out of set values), the ejector is stopped.
본 발명의 다른 변형에 따르면, 이젝터의 작동에 필요한 압력에서의 기체 유동은 콤프레서에 의해 제공된다. 주목할만한 방식으로, 이러한 콤프레서는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프에 의해서, 또는 대안으로서 또는 추가적으로, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프와 독립적으로 자율적인 방식에 의해 구동될 수 있다. 이러한 콤프레서는 역지 밸브 이후에 기체 출구 도관에서 대기의 공기 또는 기체를 흡입할 수 있다. 그러한 콤프레서의 존재는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프 시스템을 압축 기체 소스(compressed gas source)와 독립적이게 하며, 이것은 특정의 산업적 환경들의 수요를 충족시킬 수 있다. 콤프레서는 복수개의 이젝터들의 작동에 필요한 압력에서 기체의 유동을 제공할 수 있으며, 이들은 각각 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프를 가지는 복수개의 진공 펌프 시스템들의 일부를 형성한다. 콤프레서는 적절한 센서들에 의하여 제어되는, 파라미터들에 따른 제어의 경우뿐만 아니라, 이젝터의 연속 작동의 경우에도 시스템의 일부를 형성한다. According to another variant of the invention, the gas flow at the pressure required for the operation of the ejector is provided by the compressor. In a noteworthy manner, such a compressor can be driven by a first lubrication rotary vane vacuum pump, or alternatively or additionally, in an autonomous manner independent of the first lubrication rotary vane vacuum pump. Such a compressor is capable of sucking air or gas in the atmosphere from the gas outlet conduit after the check valve. The presence of such a compressor makes the first lubrication rotary vane vacuum pump system independent of the compressed gas source, which can meet the needs of specific industrial environments. The compressor can provide a flow of gas at the pressure required to operate the plurality of ejectors, each of which forms part of a plurality of vacuum pump systems having a first lubricating rotary vane vacuum pump. The compressor forms part of the system in the case of continuous operation of the ejector, as well as in the case of control according to parameters, which are controlled by appropriate sensors.
다른 한편으로, 기계적인 개념에 대한 연구는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 기체 유출 포트와 역지 밸브 사이의 공간에서 보다 신속하게 압력을 낮출 목적을 가지고 상기 공간의 감소를 추구한다는 점이 명백하다. On the other hand, it is clear that the study of the mechanical concept seeks to reduce the space with the aim of lowering the pressure more quickly in the space between the gas outlet port of the first lubricating rotary vane vacuum pump and the check valve.
본 발명의 특징 및 장점들은 상세한 설명에 있는 세부 내용들로써 제시될 것이며, 상기 상세 설명은 첨부된 도면을 참조하여 예시적으로 그리고 비제한적으로 주어진 실시예들과 함께 설명된다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예들에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 2 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 3 은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 펌핑 방법의 구현에 적절한 펌핑 시스템을 개략적으로 도시한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The features and advantages of the present invention will be more fully understood from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, which illustrate, by way of example and not limitation,
1 schematically illustrates a pumping system suitable for implementation of the pumping method according to the first embodiment of the present invention.
Figure 2 schematically illustrates a pumping system suitable for implementation of the pumping method according to the second embodiment of the present invention.
Figure 3 schematically illustrates a pumping system suitable for implementation of the pumping method according to the third embodiment of the present invention.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌프 시스템(SP)을 나타낸다. 1 shows a pump system SP suitable for implementing the pumping method according to the first embodiment of the present invention.
펌프 시스템(SP)은 챔버(1)를 포함하고, 이것은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 포트(2)에 연결된다. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 기체 유출 포트는 도관(5)에 연결된다. 역지 배출 밸브(non-return discharge valve, 6)는 도관(5) 안에 배치되는데, 상기 도관은 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)으로 계속된다. 역지 밸브(6)는 폐쇄되었을 때 제 1 진공 펌프(3)의 기체 출구 포트와 자체 사이에 포함된 공간(4)의 형성을 허용한다. 펌프 시스템(SP)은 이젝터(ejector, 7)도 포함하고, 이것은 역지 밸브(6)와 병렬로 연결된다. 이젝터의 흡입 포트는 도관(5)의 공간(4)에 연결되고, 배출 포트는 도관(8)에 연결된다. 공급 도관(9)은 이젝터(7)를 위한 작동 유체를 제공한다. The pump system SP comprises a
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 시작으로부터, 이젝터(7)를 위한 작동 유체는 공급 도관(9)을 통해 주입된다. 다음에 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)는 챔버(1) 안의 기체를 그것의 유입부에 연결된 포트(2)를 통해 흡입하고 기체를 압축하여 이후에 도관(5)에 있는 유출부에서 역지 밸브(6)를 통해 배출한다. 역지 밸브(6)의 폐쇄 압력에 도달되었을 때, 역지 밸브는 폐쇄된다. 이러한 순간으로부터 시작하여 이젝터(7)의 펌핑은 공간(4)내의 압력을 그것의 제한 압력 값으로 점진적으로 감소시킨다. 병행하여, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)에 의해 소비되는 동력이 점진적으로 감소된다. 이것은 짧은 기간에 발생되며, 예를 들어 5 내지 10 초의 특정 사이클 동안 발생된다. From the start of the first lubricating rotary
챔버(1)의 공간 및 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 유량의 함수로서 역지 밸브(6)의 폐쇄 압력 및 이젝터(7)의 유량을 현명하게 조절함으로써, 비움 사이클(evacuation cycle)의 지속 기간과 관련하여 역지 밸브(6)의 폐쇄 이전의 시간을 감소시킬 수 있고 따라서 펌핑에 영향을 미치지 않으면서 이젝터(7)의 작동 시간 동안 작동 유체의 손실을 감소시킬 수 있다. 더욱이 이러한 "손실" 은 적으며, 에너지 소비의 평가에 참작된다. 다른 한편으로, 프로그래머블 자동 제어 및/또는 스피드 콘트롤러, 제어된 밸브, 센서등이 설치된 유사한 펌프들과 비교하여, 단순성의 장점은 저렴한 가격 뿐만 아니라 우수한 신뢰성을 시스템에 부여한다. By wisely adjusting the closing pressure of the
도 2 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하기에 적절한 펌핑 시스템(SP)을 도시한다. Fig. 2 shows a pumping system SP suitable for implementing the pumping method according to the second embodiment of the present invention.
도 1 에 도시된 시스템과 관련하여, 도 2 에 도시된 시스템은 이젝터(7)의 작동에 필요한 압력에서 기체의 유동을 제공하는 콤프레서(10)를 더 포함한다. 실제로, 이러한 콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구(8)에 있는 기체 또는 대기의 공기를 흡입할 수 있다. 그것의 존재는 펌핑 시스템이 압축된 기체 소스(gas source)와 독립적이도록 하며, 이는 특정의 산업적 환경의 요건을 충족시킬 수 있다. 콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 펌프(3) 또는 그 자체의 전기 모터에 의해 구동될 수 있으며, 따라서 펌프(3)로부터 완전하게 독립적인 방식으로 구동될 수 있다. 모든 경우에, 이젝터(7)를 작동시키는데 필요한 압력으로 기체 유동을 제공할 때의 콤프레서(10)의 에너지 소비는 주 펌프(3)의 에너지 소비에서 달성되는 장점과 비교하여 실질적으로 작다. With regard to the system shown in Figure 1, the system shown in Figure 2 further includes a
도 3 은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 펌핑 방법을 수행하는데 적절한 진공 펌프(SPP) 의 시스템을 도시한다. 3 shows a system of a vacuum pump (SPP) suitable for carrying out the pumping method according to the third embodiment of the present invention.
도 1 및 도 2 에 도시된 시스템과 관련하여, 도 3 에 도시된 시스템은 제어되는 펌핑 시스템에 대응하는데, 이것은 센서(11,12,13)들을 더 포함하며, 이것은 예를 들어 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 모터 전류(센서 11), (역지 밸브(6)에 의해 제한된) 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간에 있는 기체의 압력(센서 13), (역지 밸브(6)에 의해 제한된) 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간에 있는 기체의 온도(센서 12) 또는 이들 파라미터들의 조합을 제어한다. 실제로, 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1)의 기체를 펌핑하기 시작할 때, 상기 파라미터들(특히, 모터의 전류, 도관(4)의 출구의 공간에 있는 기체의 압력 및 온도)은 변화하기 시작하고, 대응 센서(11,12,13)에 의해 검출되는 쓰레숄드 값들에 도달한다. 이것은 (특정의 시간 지체 이후에) 이젝터(7)의 개시를 일으킨다. 상기 파라미터들이 (설정값 밖의) 초기 범위에 복귀될 때, 이젝터는 (다시 특정의 시간 지체 이후에) 정지한다. 물론 제어된 펌핑 시스템(SSP)은 도 2 에 도시된 조건에서 콤프레서(10) 또는 공급 네트워크를 압축 기체 소스로서 가질 수 있다. In the context of the system shown in Figures 1 and 2, the system shown in Figure 3 corresponds to a controlled pumping system, which further comprises
특히 본 발명은 그것의 구현예에 관하여 다양한 변형을 가질 수 있다. 비록 여러가지 실시예들이 설명되었지만, 모든 가능한 실시예들을 모두 다 설명하는 방식으로 나타내도록 생각될 수 없다는 점이 이해될 것이다. 물론 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않으면서 설명된 수단을 등가의 수단과 교체하는 것이 생각될 수 있다. 이들 모든 변형예는 진공 기술 분야의 당업자의 통상적인 지식의 일부를 형성한다.In particular, the present invention may have various modifications as regards its implementation. Although various embodiments have been described, it will be appreciated that not all possible embodiments may be conceived to be described in a manner that fully explains them. It is, of course, contemplated to replace the described means with equivalent means without departing from the scope of the present invention. All these variations form part of the common knowledge of those skilled in the art of vacuum technology.
1. 진공 펌프 3. 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프
4. 기체 유출 포트 5. 도관
6. 역지 밸브 7. 이젝터(ejector)1.
4.
6. Check
Claims (34)
기체 유출 포트(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)내에 위치된 역지 밸브(6) 및,
역지 밸브(6)와 병렬로 연결된 이젝터(ejector, 7)를 포함하는 펌핑 시스템(SP,SPP)의 펌핑 방법으로서,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 기체 유출 포트(4)를 통하여 펌핑하기 위하여 작동되고;
동시에 이젝터(7)에는 작동 유체가 공급되고;
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 동안 내내 그리고/또는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안의 정해진 압력을 유지하는 동안 내내, 이젝터(7)에는 작동 유체가 계속 공급되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. A first lubrication rotary vane 2 having a gas inlet port 2 connected to the vacuum chamber 1 and a gas outlet port 4 leading to the conduit 5 before exiting the gas outlet 8 of the pumping system SP, SPP, The vacuum pump 3,
A check valve (6) located in the conduit (5) between the gas outlet port (4) and the gas outlet (8)
A pumping system (SP, SPP) comprising an ejector (7) connected in parallel with a check valve (6)
The first lubrication rotary vane vacuum pump 3 is operated to pump the gas contained in the vacuum chamber 1 through the gas outlet port 4;
At the same time, the ejector 7 is supplied with working fluid;
The first lubrication rotary vane vacuum pump 3 maintains a predetermined pressure in the vacuum chamber 1 during the pumping of the gas contained in the vacuum chamber 1 and / or while the first lubrication rotary vane vacuum pump 3 maintains the predetermined pressure in the vacuum chamber 1 , The working fluid is continuously supplied to the ejector (7).
이젝터(7)의 유출부는 역지 밸브(6) 이후에 도관(5)과 다시 접합되는 것을 특징으로 하는 펌핑 방법. The method according to claim 1,
And the outlet of the ejector (7) is again joined to the conduit (5) after the check valve (6).
이젝터(7)의 치수는 작동 유체를 최소로 소비하도록 정해지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 3. The method according to claim 1 or 2,
Characterized in that the dimensions of the ejector (7) are set so as to consume minimal working fluid.
이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은 역지 밸브(6)에 의해 제한되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 출구 도관(5)의 체적에 따라서 선택되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Characterized in that the nominal flow rate of the ejector (7) is selected according to the volume of the outlet conduit (5) of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) limited by the check valve (6) Way.
이젝터의 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 5. The method of claim 4,
Characterized in that the flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
이젝터(7)의 작동 유체는 압축 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Characterized in that the working fluid of the ejector (7) is compressed air and / or nitrogen.
이젝터(7)는 단일 스테이지(single-staged) 또는 다중 스테이지(multi-staged)인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Characterized in that the ejector (7) is single-stage or multi-stage.
제1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 단부에서의 압력이 500 mbar absolute 와 최종 진공 사이에 있을 때 역지 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Characterized in that the check valve (6) is closed when the pressure at the suction end of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) is between 500 mbar absolute and the final vacuum.
이젝터(7)는 화학 산업 및/또는 반도체 산업에서 통상적으로 사용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 고저항성(高抵抗性)을 가지는 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Characterized in that the ejector (7) is made of a material which is chemically and / or highly resistant to gases and materials commonly used in the chemical and / or semiconductor industries.
이젝터(7)는 역지 밸브(6)에 포함된 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Characterized in that the ejector (7) is incorporated into a cartridge contained in the check valve (6).
카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기에 수용되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 11. The method of claim 10,
Characterized in that the cartridge itself is received in an oil separator of a first lubricating rotary vane vacuum pump.
이젝터(7)의 작동에 필요한 압력에서의 기체 유동은 콤프레서(10)에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법.12. The method according to any one of claims 1 to 11,
Characterized in that the gas flow at the pressure required for the operation of the ejector (7) is provided by the compressor (10).
콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 13. The method of claim 12,
Characterized in that the compressor (10) is driven by a first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)에 독립적으로, 자율 구동되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 13. The method of claim 12,
Characterized in that the compressor (10) is autonomously driven independently of the first lubrication rotary vane vacuum pump (3).
콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)에 있는 대기 공기 또는 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 15. The method according to any one of claims 12 to 14,
Characterized in that the compressor (10) sucks atmospheric air or gas in the gas outlet conduit (8) after the check valve (6).
적어도 하나의 작동 파라미터가 측정되어 이젝터(7)를 시동시키거나 정지시키는데 이용되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 16. The method according to any one of claims 1 to 15,
Characterized in that at least one operating parameter is measured and used to start or stop the ejector (7).
적어도 하나의 작동 파라미터는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 모터 전류, 역지 밸브(6)에 의해 제한된 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간내 기체 압력, 또는 역지 밸브(6)에 의해 제한된 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간내 기체 온도이거나, 또는 상기 파라미터들의 조합인 것을 특징으로 하는, 펌핑 방법. 17. The method of claim 16,
At least one operating parameter is determined by the motor current of the first lubricating rotary vane vacuum pump 3, the gas pressure in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump limited by the check valve 6, Is the temperature of the gas in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump limited by the temperature of the gas, or is a combination of the above parameters.
기체 유출 포트(4)와 기체 출구(8) 사이에서 도관(5)에 위치된 역지 밸브(non-return valve, 6) 및,
역지 밸브(6)에 병렬로 연결된 이젝터(7)를 포함하고,
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 안에 포함된 기체를 펌핑하는 동안 내내, 그리고/또는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1)에서 정해진 압력을 유지하는 동안 내내, 이젝터에 작동 유체가 공급될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템(SP, SPP). A first lubrication rotary vane vacuum having a gas inlet port 2 connected to the vacuum chamber 1 and a gas outlet port 4 leading to the conduit 5 before exiting the gas outlet 8 of the system of the vacuum pump SP The pump 3,
A non-return valve 6 located in the conduit 5 between the gas outlet port 4 and the gas outlet 8,
And an ejector (7) connected in parallel to the check valve (6)
The first lubrication rotary vane vacuum pump 3 maintains the predetermined pressure in the vacuum chamber 1 while the first lubrication rotary vane vacuum pump 3 pumps the gas contained in the vacuum chamber 1 and / (SP, SPP), characterized in that the working fluid is supplied to the ejector during operation of the pump (SP, SPP).
이젝터(17)의 유출부는 역지 밸브(6) 이후에 도관(5)과 다시 접합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 19. The method of claim 18,
Characterized in that the outlet of the ejector (17) is reattached to the conduit (5) after the check valve (6).
이젝터(7)의 치수는 작동 유체를 최소로 소비하도록 정해지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 20. The method according to claim 18 or 19,
Characterized in that the dimensions of the ejector (7) are set so as to consume minimal working fluid.
이젝터(7)의 공칭 유량은 역지 밸브(6)에 의해 제한되는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 출구 도관(5)의 체적에 따라서 선택되는 것을 특징으로 하는, 펌프 시스템. 21. The method according to any one of claims 18 to 20,
Characterized in that the nominal flow rate of the ejector (7) is selected according to the volume of the outlet conduit (5) of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) limited by the check valve (6).
이젝터의 유량은 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 22. The method of claim 21,
Characterized in that the flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
이젝터(7)의 작동 유체는 압축 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 23. The method according to any one of claims 18 to 22,
Characterized in that the working fluid of the ejector (7) is compressed air and / or nitrogen.
이젝터(7)는 단일 단계 또는 다중 단계인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 24. The method according to any one of claims 18 to 23,
Characterized in that the ejector (7) is a single stage or multiple stages.
제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 흡입 단부에서의 압력이 500 mbar absolue 와 최종 진공 사이일 때 역지 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 25. The method according to any one of claims 18 to 24,
Characterized in that the check valve (6) is closed when the pressure at the suction end of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) is between 500 mbar absolute and the final vacuum.
이젝터(7)는 화학 산업 및/또는 반도체 산업에서 통상적으로 사용되는 기체 및 물질에 대하여 화학적 고저항성을 가진 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 26. The method according to any one of claims 18 to 25,
Characterized in that the ejector (7) is made of a material with high chemical resistance to gases and materials commonly used in the chemical and / or semiconductor industries.
이젝터(7)는 역지 밸브(6)를 포함하는 카트리지에 통합되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 27. The method according to any one of claims 18 to 26,
Characterized in that the ejector (7) is incorporated in a cartridge comprising a check valve (6).
카트리지 자체는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 오일 분리기 안에 수용되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 28. The method of claim 27,
Characterized in that the cartridge itself is received in an oil separator of a first lubricating rotary vane vacuum pump.
펌핑 시스템은 이젝터(7)의 작동에 필요한 압력에서 기체 유동을 제공하는 콤프레서(10)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.29. The method according to any one of claims 18 to 28,
Characterized in that the pumping system comprises a compressor (10) which provides a gas flow at a pressure necessary for the operation of the ejector (7).
콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 30. The method of claim 29,
Characterized in that the compressor (10) is driven by a first lubricating rotary vane vacuum pump (3).
콤프레서(10)는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)와 독립적으로, 자율 구동되는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 30. The method of claim 29,
Characterized in that the compressor (10) is autonomously driven independently of the first lubrication rotary vane vacuum pump (3).
콤프레서(10)는 역지 밸브(6) 이후에 기체 출구 도관(8)에 있는 대기 공기 또는 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 32. The method according to any one of claims 29 to 31,
Characterized in that the compressor (10) sucks atmospheric air or gas in the gas outlet conduit (8) after the check valve (6).
적어도 하나의 작동 파라미터를 측정하고 이젝터(7)를 시동시키거나 또는 정지시키기 위하여 작동 파라미터를 사용하는 적어도 하나의 센서(11,12,13)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템. 32. The method according to any one of claims 18 to 32,
Characterized in that it comprises at least one sensor (11, 12, 13) which measures at least one operating parameter and which uses operating parameters to start or stop the ejector (7).
적어도 하나의 작동 파라미터는 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 모터 전류, 역지 밸브(6)에 의해 제한된 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프의 출구 도관의 공간내 기체 압력, 또는 역지 밸브(6)에 의해 제한된 제 1 윤활 로터리 베인 진공 펌프(3)의 출구 도관의 공간내 기체 온도이거나, 또는 상기 파라미터들의 조합인 것을 특징으로 하는, 펌핑 시스템.
35. The method of claim 34,
At least one operating parameter is determined by the motor current of the first lubricating rotary vane vacuum pump 3, the gas pressure in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump limited by the check valve 6, Is the temperature of the gas in the space of the outlet conduit of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3) limited by the temperature of the first lubricating rotary vane vacuum pump (3), or a combination of the above parameters.
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---|---|---|---|---|
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08178438A (en) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | Engine heat pump |
KR20010031863A (en) * | 1997-11-06 | 2001-04-16 | 메리제인 마호니 | Oil and refrigerant pump for centrifugal chiller |
US20030068233A1 (en) * | 2001-10-09 | 2003-04-10 | Applied Materials, Inc. | Device and method for reducing vacuum pump energy consumption |
US20050232783A1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-10-20 | Peter Tell | Vacuum pump and method for generating sub-pressure |
JP2007100562A (en) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shinko Seiki Co Ltd | Vacuum device |
KR20120101000A (en) * | 2009-11-18 | 2012-09-12 | 아딕슨 배큠 프로덕츠 | Pumping method and device with low power consumption |
WO2014012896A2 (en) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Adixen Vacuum Products | Method and device for pumping of a process chamber |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52128885A (en) * | 1976-04-22 | 1977-10-28 | Fujitsu Ltd | Treatment in gas phase |
US4426450A (en) * | 1981-08-24 | 1984-01-17 | Fermentec Corporation | Fermentation process and apparatus |
DE3721611A1 (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-19 | Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh | MECHANICAL VACUUM PUMP WITH A SPRING-LOADED CHECK VALVE |
SU1700283A1 (en) * | 1989-05-05 | 1991-12-23 | Предприятие П/Я А-3634 | Vacuum pump |
KR100876318B1 (en) * | 2001-09-06 | 2008-12-31 | 가부시키가이샤 아루박 | Operation method of vacuum exhaust device and vacuum exhaust device |
US7254961B2 (en) * | 2004-02-18 | 2007-08-14 | Denso Corporation | Vapor compression cycle having ejector |
US7655140B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-02-02 | Cummins Filtration Ip Inc. | Automatic water drain for suction fuel water separators |
US8807158B2 (en) * | 2005-01-20 | 2014-08-19 | Hydra-Flex, Inc. | Eductor assembly with dual-material eductor body |
DE102005008887A1 (en) * | 2005-02-26 | 2006-08-31 | Leybold Vacuum Gmbh | Single-shaft vacuum displacement pump has two pump stages each with pump rotor and drive motor supported by the shaft enclosed by a stator housing |
DE102008019472A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | vacuum pump |
JP5389419B2 (en) * | 2008-11-14 | 2014-01-15 | 株式会社テイエルブイ | Vacuum pump device |
GB2465374A (en) * | 2008-11-14 | 2010-05-19 | Mann & Hummel Gmbh | Centrifugal separator with venturi |
GB201007814D0 (en) * | 2010-05-11 | 2010-06-23 | Edwards Ltd | Vacuum pumping system |
US20120261011A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Young Man Cho | Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08178438A (en) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | Engine heat pump |
KR20010031863A (en) * | 1997-11-06 | 2001-04-16 | 메리제인 마호니 | Oil and refrigerant pump for centrifugal chiller |
US20030068233A1 (en) * | 2001-10-09 | 2003-04-10 | Applied Materials, Inc. | Device and method for reducing vacuum pump energy consumption |
US20050232783A1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-10-20 | Peter Tell | Vacuum pump and method for generating sub-pressure |
JP2007100562A (en) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shinko Seiki Co Ltd | Vacuum device |
KR20120101000A (en) * | 2009-11-18 | 2012-09-12 | 아딕슨 배큠 프로덕츠 | Pumping method and device with low power consumption |
WO2014012896A2 (en) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Adixen Vacuum Products | Method and device for pumping of a process chamber |
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