BRPI0721139A2

BRPI0721139A2 - Líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica.

Info

Publication number: BRPI0721139A2
Application number: BRPI0721139-2A
Authority: BR
Inventors: Toshio Inbe; Hiroshi Kameda; Thomas Kolberg
Original assignee: Chemetall Gmbh
Priority date: 2006-12-20
Filing date: 2007-12-20
Publication date: 2014-04-01
Also published as: JP4276689B2; ES2581988T3; EP2112251A1; PL2112251T3; EP2112251B1; MX2009006618A; CA2672854C; AU2007335382A1; EP2112251A4; AU2007335382B2; CA2672854A1; BRPI0721139B1; US20080230394A1; JP2008291345A; WO2008075738A1

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "LÍQUIDO PARA TRATAMENTO DE SUPERFÍCIE METÁLICA PARA REVESTI- MENTO DE ELETRODEPOSIÇÃO CATIÔNICA".

CAMPO TÉCNICO

A presente invenção refere-se a um líquido para tratamento de

superfície metálica, especificamente a um líquido para tratamento de super- fície metálica apropriado para revestimento de eletrodeposição catiônica e um método para tratamento de superfície metálica.

ANTECENTES DA TÉCNICA A fim de fornecer propriedades anticorrosão aos vários materiais

de base metálica, os tratamentos de superfície vêm sendo realizados há muito tempo. Especificamente, um tratamento com fosfato de zinco geral- mente é empregado nos materiais de base metálica que constituem os au- tomóveis. Contudo, este tratamento com fosfato de zinco possui um proble- 15 ma de geração de lama como um subproduto. Consequentemente existe a demanda de um tratamento de superfície sem uso de fosfato de zinco para uma próxima geração e um tratamento de superfície com íons zircônio é um de tais tratamentos (vide, por exemplo, Documento de patente 1).

Neste ínterim, materiais de base metálica que constituem os au- 20 tomóveis e necessitam de propriedades altas de anticorrosão são submeti- dos ao revestimento de eletrodeposição catiônica seguindo-se o tratamento de superfície. O revestimento de eletrodeposição catiônica é realizado com base no fato de que a película revestida obtida por revestimento de eletro- deposição catiônica possui propriedades anticorrosão superiores e possui 25 "poder de arremesso" geralmente referido, que é uma propriedade que per- mite aos corpos dos automóveis que possuem uma forma complicada serem completamente revestidos.

Contudo foi recentemente provado que, quando um material de base metálica que teve a superfície tratada com os íons zircônio é submetido ao revestimento de eletrodeposição catiônica pode haver um caso em que nenhum efeito significativo em termos de poder de arremesso seja obtido, por exemplo, o poder de arremesso pode não ser suficiente para placas de aço laminadas a frio, em alguns casos. Consequentemente, quando o reves- timento de eletrodeposição catiônica é realizado, propriedades anticorrosão suficientes não podem ser obtidas se o poder de arremesso não for suficien- te.

Documento de Patente 1: Publicação do Pedido de Patente Ja-

ponês Não-examiinado Número 2004-218070,

REVELAÇÃO DA INVENÇÃO

Problemas a Serem Resolvidos pela Invenção

Um objetivo da presente invenção é prover um tratamento de superfície com íons zircônio que permita poder de arremesso suficiente e exiba propriedades anticorrosão superiores, quando o material de base me- tálica tratado na superfície é submetido ao revestimento de eletrodeposição catiônica.

Meios para Solucionar os Problemas

Os aspectos da presente invenção são como se seguem. Em

um primeiro aspecto da presente invenção, um líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica contém íons zircônio e possui um pH na faixa de 1,5 a 6,5 onde: a concentração de íons zircônio está na faixa de 10 a 10.000 ppm; e a razão de concentração 20 de íons de estanho para íons zircônio é de 0,005 a 1 em uma base de mas- sa.

Em um segundo aspecto da presente invenção, um líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica de acordo com o primeiro aspecto inclui, adicionalmente, um composto de poliamina.

Em um terceiro aspecto da presente invenção, um líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica de acordo com o primeiro ou segundo aspecto inclui, adicionalmente, íons de cobre.

Em um quarto aspecto da presente invenção, um líquido para

tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica, de acordo com qualquer um dos primeiro ao terceiro aspectos inclui adicionalmente, íons de flúor, nos quais a quantidade de íons de flúor livre em um pH de 3,0 está na faixa de 0,1 a 50 ppm.

Em um quinto aspecto da presente invenção, um líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- 5 ônica, de acordo com qualquer um dos primeiro ao quarto aspectos inclui, adicionalmente um composto quelato.

Em um sexto aspecto do líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica de acordo com o quinto aspecto da presente invenção, o composto quelato é ácido sulfônico. Em um sétimo aspecto da presente invenção, um líquido para

tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica, de acordo com qualquer um do primeiro ao sexto aspectos adicionais inclui um agente oxidante.

Em um oitavo aspecto da presente invenção, um líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica, de acordo com qualquer um do primeiro ao sétimo aspectos adicio- nais inclui, pelo menos um íon selecionado do grupo consistindo em íons de alumínio e íons de índio.

Em um nono aspecto da presente invenção, a método para tra- tamento de superfície metálica inclui uma etapa de sujeição de um material de base metálica a um tratamento de superfície com o líquido para tratamen- to de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica, de acordo com qualquer um do primeiro ao oitavo aspectos.

Em um décimo aspecto da presente invenção, um material de base metálica inclui uma película de revestimento formada por um tratamen- to de superfície obtido pelo método para tratamento de superfície metálica de acordo com o nono aspecto.

Em um décimo primeiro aspecto da presente invenção, um ma- terial de base metálica inclui uma película de revestimento possuindo uma razão de elemento de zircônio/estanho em uma base de peso sendo de 1/10 a 10/1 formado no material de base metálica de acordo com o décimo as- pecto. Em um décimo segundo aspecto da presente invenção, um mé- todo de revestimento de eletrodeposição catiônica inclui: a etapa de sujeição de um material de base metálica a um tratamento de superfície com o líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição 5 catiônica, de acordo com qualquer um do primeiro ao oitavo aspectos; e uma etapa de sujeição de material de base metálica tratado na superfície ao re- vestimento de eletrodeposição catiônica.

Em um décimo terceiro aspecto da presente invenção, um mate- rial de base metálica revestido por eletrodeposição catiônica é obtido com o método de revestimento de eletrodeposição catiônica de acordo com o dé- cimo segundo aspecto.

Consequentemente, o líquido para tratamento de superfície me- tálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da presente invenção é um líquido de tratamento para conversão química contendo íons zircônio e 15 íons de estanho, e possuindo um pH na faixa de 1,5 a 6,5, onde a concen- tração de íons zircônio está na faixa de 10 a 10,000 ppm, e o teor de íons de estanho com relação aos íons zircônio é de 0,005 a 1 em uma base de peso. Além disso, o líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica pode conter, adicionalmente, um com- 20 posto de poliamina, íons de cobre, íons de flúor, um composto quelato, um agente oxidante, e um agente de prevenção de ferrugem. Quando os íons de flúor estão incluídos, a quantidade de íons de flúor livre em um pH de 3,0 poderá ser de 0,1 a 50 ppm.

O método para tratamento de superfície metálica da presente invenção inclui a etapa de sujeição de um material de base metálica a um tratamento de superfície com o líquido para tratamento de superfície metáli- ca mencionado acima.

Uma película de revestimento obtida pelo tratamento de superfí- cie é formada no material de base metálica tratado na superfície da presente invenção. A razão de elemento de zircônio/estanho com base no peso na película de revestimento pode ser de 1/10 a 10/1.

O método de revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- sente invenção inclui uma etapa de sujeição de um material de base metáli- ca a um tratamento de superfície com o líquido para tratamento de superfície metálica mencionado acima e uma etapa de sujeição de material de base metálica tratado na superfície ao revestimento de eletrodeposição catiônica.

5 O material de base metálica revestido por eletrodeposição cati-

ônica da presente invenção é obtido pelo método de revestimento mencio- nado acima.

Efeitos da Invenção

Acredita-se que o poder de arremesso atingido pelo líquido para 10 tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição cati- ônica da presente invenção possa ser aperfeiçoado por inclusão dos íons de estanho além dos íons zircônio quando o revestimento de eletrodeposição catiônica for realizado após formação de uma película de revestimento de conversão com este liquido de tratamento. Embora não-claras, as bases po- 15 dem ser concebidas como se segue.

Quando os íons zircônio são empregados sozinhos, acredita-se que a formação de sua película de revestimento de óxido seja executada simultaneamente com gravação do material de base metálica em um meio ácido. Contudo, uma vez que os materiais de segregação e semelhantes dos 20 compostos contendo silício ou carbono além da sílica podem estar presentes nas placas de aço laminadas a frio, tais partes não são suscetíveis à grava- ção. Portanto, a película de revestimento não pode ser formada uniforme- mente com óxido de zircônio, pelo que, porções sem formação de película de revestimento podem estar presentes. Uma vez que se acredita que uma 25 diferença no fluxo da corrente elétrica seja gerada entre as partes com e sem formação da película de revestimento, a eletrodeposição não é execu- tada uniformemente e, consequentemente, o poder de arremesso não pode ser suficientemente atingido.

Quando os íons de estanho estão adicionalmente presentes, is- to é adicionalmente considerado como se segue. Uma vez que os íons de estanho são menos prováveis de serem afetados na placa de aço em com- paração aos íons zircônio, sua película de revestimento de óxido pode ser mais facilmente formada sobre o material de base. Embora a formação da película de revestimento de íons de estanho não seja específica para as par- tes onde os íons zircônio não são significativamente depositados, a forma- ção da película de revestimento de óxido dos íons de estanho não é restrita 5 a uma parte específica, enquanto apresenta outra parte que permanece sem formação da película. Como resultado, os íons de estanho formariam a pelí- cula de revestimento, tal que ela cobrisse a parte onde o íon de zircônio não pudesse formar a película de revestimento.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- 10 mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode aperfeiçoar a adesividade à película revestida por eletrodeposição catiônica através da inclusão do composto de poliamina e, consequentemente, pode passar no teste SDT em condições mais estringentes. Além disto, o líquido para trata- mento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica 15 da presente invenção pode aperfeiçoar as propriedades anticorrosão por inclusão do íon de cobre. Embora as bases não sejam claras, acredita-se que alguma interação possa ocorrer entre o cobre e o zircônio na formação dia película de revestimento. Adicionalmente, o líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- 20 sente invenção pode formar uma película de revestimento de óxido zircônio em um modo estável por inclusão de um composto quelato, quando um me- tal diferente de zircônio é incluído em grande quantidade. Acredita-se que esta ocorrência resulte da captura pelo composto quelato dos íons metálicos que mais provavelmente serão depositados que o zircônio.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

A figura 1 mostra uma vista em perspective ilustrando um exem- plo da caixa para uso na avaliação do poder de arremesso; e

A figura 2 mostra uma vista ilustrando esquematicamente a ava- liação do poder de arremesso.

MODO PREFERIDO DE REALIZAR A INVENÇÃO

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção é um líquido de tratamento para conversão química que contém íons zircônio e íons de esta- nho, e possui um pH na faixa de 1,5 a 6,5.

Os íons zircônio estão incluídos em uma concentração na faixa de 10 a 10,000 ppm. Quando a concentração for inferior a 10 ppm, proprie- 5 dades anticorrosão suficientes não podem ser obtidas, uma vez que a depo- sição da película de revestimento de zircônio não é suficiente. Além disto, mesmo que a concentração possa exceder 10,000 ppm, um efeito para justi- ficar a quantidade não pode ser exibido, uma vez que a quantidade de depo- sição da película revestida de zircônio não é aumentada e a adesividade da 10 película revestida pode ser deteriorada, pelo que, conduzindo ao desempe- nho de anticorrosão inferior, tal como aquele em SDT. O limite inferior e o limite mais alto da concentração são, preferivelmente 100 ppm e 500 ppm, respectivamente.

A concentração de íons metal no presente documento, quando um complexo ou óxido do mesmo for formado, é representada pela concen- tração com base no elemento metálico, levando-se em consideração apenas

o átomo de metal no complexo ou óxido. Por exemplo, a concentração com base no elemento metálico de zircônio de 100 ppm de íons complexos ZrF62' (peso molecular: 205) é calculada para ser de 44 ppm pela fórmula de 100 x 20 (91/205). No líquido para tratamento de superfície metálica para revestimen- to de eletrodeposição catiônica da presente invenção o composto metálico (composto de zircônio, composto de estanho, composto de cobre e outros compostos metálicos) está incluído apenas em uma proporção leve, se pre- sente, no estado não-iônico, tal como uma porção de óxido, e acredita-se 25 que esteja presente quase na forma do íon metálico. Portanto, a concentra- ção do íon metálico referida no presente documento é, independente da pre- sença na forma da porção não-iônica, a concentração do íon metálico quan- do se presume que o mesmo esteja presente como o íon metálico dissocia- do em um nível de 100%.

O íon de estanho incluído no líquido para tratamento de super-

fície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da presente invenção é preferivelmente um cátion bivalente. Quando o íon de estanho possuir outra valência, o efeito pretendido não será exibido. Contudo, o íon de estanho não está limitado ao cátion bivalente, porém pode ser usado na presente invenção à medida que puder ser depositado sobre o material de base metálica. Por exemplo, quando os íons de estanho formarem um com- 5 plexo, este poderá ser um cátion quadrivalente, que também poderá ser u- sado na presente invenção. A concentração de íons de estanho é de 0,005 a

1 em uma base de peso com relação à concentração de íons zircônio. Quando a razão for inferior a 0,005 o efeito por adição não será exibido, em- bora zircônio possa não ser significativamente depositado quando a razão 10 exceder 1. O limite mais baixo e o limite mais alto da concentração são pre- ferivelmente de 0,02 e 0,2, respectivamente. Contudo, quando a quantidade total do íon de zircônio e íon de estanho for muito pequena o efeito da pre- sente invenção pode não ser exibido. Portanto, a concentração total do íon de zircônio e do íon de estanho no líquido para tratamento de superfície me- 15 tálica da presente invenção preferivelmente não será inferior a 15 ppm.

O teor dos íons de estanho no líquido para tratamento de super- fície metálica da presente invenção é preferivelmente é preferivelmente de 1 a 100 ppm. Quando o teor for inferior a 1 ppm, a deposição de estanho na porção onde zircônio não formaria a película de revestimento pode ser insu- 20 ficiente, e as propriedades anticorrosão tais como aquelas no SDT serão provavelmente inferiores. Quando o teor exceder 100 ppm, a deposição da película de revestimento de zircônio poderá ser difícil, pelo que as proprie- dades anticorrosão e o aspecto de revestimento serão provavelmente inferi- ores. A concentração é mais preferivelmente de 5 a 100 ppm, e ainda mais 25 preferivelmente de 5 a 50 ppm.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção possui um pH na faixa de 1,5 a 6,5. Quando o pH for inferior a 1,5, o material de base metálica não poderá ser suficientemente gravado de modo a diminuir a quantidade da 30 película de revestimento, e propriedades anticorrosão suficientes não pode- rão ser obtidas. Além disto, a estabilidade do líquido para tratamento pode não ser suficiente. Em contraste, quando o pH for superior a 6,5, gravação em excesso pode conduzir à falha na formação de película de revestimento suficiente ou uma quantidade de adesão não-uniforme e espessura de pelí- cula da película de revestimento pode afetar adversamente o aspecto do revestimento e semelhantes. O limite mais baixo e o limite mais alto do pH 5 são preferivelmente de 2,0 e 5,5, e ainda mais preferivelmente de 2,5 e 5,0, respectivamente.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode incluir, adi- cionalmente, um composto de poliamina para aperfeiçoar a adesividade à 10 película revestida por eletrodeposição de cátion que é formada após o tra- tamento da superfície. O composto de poliamina empregado na presente invenção é tido como sendo fundamentalmente significante sendo uma mo- lécula orgânica possuindo um grupo amino. Embora especulativo, o grupo amino é dito como sendo incorporado à película de revestimento por uma 15 ação química com óxido de zircônio depositado como uma película de reves- timento sobre a placa de base metálica, ou com a placa de base metálica. Além disto, o composto de poliamina que é uma molécula orgânica é tido como sendo responsável pela adesividade em relação à película revestida provida sobre a placa de base metálica possuindo a película de revestimento 20 formada sobre a mesma. Portanto, quando o composto de poliamina que é uma molécula orgânica possuindo um grupo amino é empregado, a adesivi- dade entre a placa de base metálica e a película revestida é significativa- mente aperfeiçoada e resistência à corrosão superior pode ser obtida. E- xemplos de composto de poliamina incluem condensados de hidrólise de 25 aminossilano, polivinilamina, polialilamina, resinas fenólicas solúveis em á- gua possuindo um grupo amino, e semelhantes. Uma vez que a quantidade de amina pode ser ajustada livremente, o condensado de hidrólise de ami- nossilano é preferido. Portanto, exemplos de líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- 30 sente invenção incluem, por exemplo, os líquidos para tratamento de super- fície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de estanho, e um condensado de hidrólise de aminossila- no; os líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de estanho e polia-

v

lilamina; e os líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de esta- 5 nho, e uma resina fenólica solúvel em água possuindo um grupo amino. A- lém disto, estes líquidos para tratamento de superfície metálica para reves- timento de eletrodeposição catiônica podem conter flúor conforme descrito mais adiante.

O condensado de hidrólise de aminossilano é obtido por realiza- 10 ção de condensação de hidrólise de um composto aminossilano. Exemplos do composto aminossilano incluem vinil triclorossilano, vinil trimetoxissilano, vinil trietoxissilano, 2-(3,4 epoxiciclohexil)-etil trimetoxissilano, 3- glicidoxipropil trimetoxissilano, 3-glicidoxipropil metildietoxissilano, 3- glicidoxipropil trietoxissilano, p-estiril trimetoxissilano, 3-metacriloxipropil me- 15 tildimetoxissilano, 3-metacriloxipropil trimetoxissilano, 3-

metacriloxipropilmetildietoxissilano, 3-metacriloxipropil trietoxissilano, 3- acriloxipropil trimetoxissilano, N-2-(aminoetil)-3-aminopropilmetil dimetoxissi- lano, N-2-(aminoetil)-3-aminopropil trimetoxissilano, N-2-(aminoetil)-3- aminopropil trietoxissilano, 3-aminopropil trimetoxissilano, 3-aminopropil trie- toxissilano, 3-trietoxissilil-N-(1,3-dimetil-butilideno)-propilamina, N-fenil-3- aminopropil trimetoxissilano, cloridrato de N-(vinilbenzil)-2-aminoetil-3- aminopropil trimetoxissilano, 3-ureidepropil trietoxissilano, 3-cloropropil trime- toxissilano, 3-mercaptopropil metildimetoxissilano, 3-mercaptopropil trimeto- xissilano, bis(trietoxissililpropil)tetrassulfeto, e propil trietoxissilano de 3- isocianato, que são agentes de acoplamento de silano possuindo um grupo amino. Além disto, exemplos de produtos comercialmente disponíveis que podem ser empregados incluem "KBM-403", "KBM-602", "KBM-603", "KBE- 603", "KBM-903", "KBE-903", "KBE-9103", "KBM-573", "KBP-90" (todas as marcas registradas, fabricadas pela Shin-Etsu Chemical Co.,), "XS1003" (marca registrada, fabricada pela Chisso Corporation), e semelhantes.

A condensação hidrolítica do aminossilano mencionado anteri- ormente pode ser realizada por um método bem conhecido dos versados na técnica. Especificamente, a condensação hidrolítica pode ser realizada por adição de água necessária à hidrólise do grupo alcoxissilila para pelo menos um tipo de composto aminossilano e agitação da mistura enquanto aque- cendo conforme necessário. O grau de condensação pode ser regulado com a quantidade de água usada.

Um grau maior de condensação de condensado de hidrólise de aminossilano é preferido, uma vez que neste caso, quando o zircônio é de- positado como um óxido, o condensado de hidrólise de aminossilano acima tende a ser facilmente incorporado ao presente documento. Por exemplo, a 10 porção em uma base de peso do dímero ou multímeros de ordem maior do aminossilano na quantidade total do aminossilano é preferivelmente não- inferior a 40%, mais preferivelmente não-inferior a 50%, ainda mais preferi- velmente não-inferior a 70%, e mesmo mais preferivelmente não-inferior a 80%. Portanto, quando aminossilano é deixado reagir na reação de conden- 15 sação hidrolítica é preferido permitir a reação sob condições onde o aminos- silano será mais provavelmente hidrolisado e condensado, tais como aque- las onde é empregado um solvente aquoso contendo um catalisador, tal co- mo, ácido acético e álcool como o solvente. Além disto, quando se permite uma reação sob condições com uma concentração de aminossilano compa- 20 rativamente alta, um condensado de hidrólise possuindo um alto grau de condensação é obtido. Especificamente é preferido que se permita a con- densação hidrolítica em uma concentração de aminossilano na faixa de 5% a 50% em peso. O grau de condensação pode ser determinado por medição de 29Si-NMR.

Assim como a polivinilamina e polialilamina podem ser empre-

gados produtos comercialmente disponíveis. Exemplos de polivinilamina in- cluem "PVAM-0595B" (marca registrada, fabricado pela Mitsubishi Chemical Corporation) e semelhantes e exemplos de polialilamina incluem "PAA-01", "PAA-10C", "PAA-H-10C", "PAA-D-41HCI" (todas as marcas registradas fa- bricadas pela Nitto Boseki Co., Ltd.) e semelhantes.

O peso molecular do composto de poliamina está preferivelmen- te na faixa de 150 a 500.000, Quando o peso molecular for inferior a 150, a película de revestimento de conversão possuindo adesividade suficiente po- de não ser obtida. Quando o peso molecular exceder 500.000, a formação da película de revestimento pode ser inibida. O limite mais baixo e o limite ^ mais alto são mais preferivelmente de 5.000 e 70.000, respectivamente.

5 Quando o composto de poliamina possuir o grupo amino em quantidade mui- to grande, isto pode influenciar adversamente a película de revestimento, embora o efeito de aperfeiçoamento da adesividade com a película de reves- timento provido pelo grupo amino não é significativamente obtido quando a quantidade é muito pequena. Portanto, o composto de poliamina possui, pre- 10 ferivelmente, um grupo amino primário e/ou secundário não-inferior a 0,1 mmol e não-superior a 17 mmol por grama de teor sólido e, mais preferivel- mente um grupo amino primário e/ou secundário não-inferior a 3 mmol e não-superior a 15 mmol por grama do teor de sólido.

O número de mois do grupo amino primário e/ou secundário por grama de teor sólido do composto de poliamina pode ser determinado de acordo com a fórmula (1) que se segue.

Quantidade do grupo amino = (mX-nY)/(m+n)..Fórmula (1) on- de a razão em peso do teor de sólidos do composto de poliamina e do com- posto possuindo um grupo funcional A e/ou um grupo funcional B é definida 20 como m:n; o número de mmols do grupo funcional A e/ou do grupo funcional B por grama do composto possuindo o grupo funcional A e/ou o grupo fun- cional B é definido como Y; e o número de mmols do grupo amino primário e/ou secundário incluído por grama do composto de poliamina quando o composto possuindo o grupo funcional A e/ou o grupo funcional B não está 25 incluído na composição para o tratamento da superfície metálica é definido como X.

O teor do composto de poliamina no liquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- sente invenção pode estar na faixa de 1 a 200% com base no peso do metal 30 de zircônio incluído no líquido para tratamento da superfície. Quando o teor for inferior a 1%, o efeito pretendido poderá não ser exibido, embora o teor excedendo a 200% pode conduzir a uma falha na formação suficiente da película de revestimento. O limite mais alto do teor é mais preferivelmente de 120%, mais preferivelmente 100%, ainda mais preferivelmente 80%, e mes- mo mais preferivelmente 60%.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode conter, adi- cionalmente, um íon de cobre para aperfeiçoar as propriedades anticorrosão. Com relação à quantidade de íons de cobre, a concentração preferivelmente responde por 10 a 100% com relação à concentração de íons de estanho. Quando a concentração for inferior a 10%, o efeito pretendido poderá não ser exibido, embora deposição de zircônio possa ser difícil, similarmente ao caso dos íons de estanho quando exceder a concentração de íons de esta- nho. Exemplos de líquidos para tratamento de superfície metálica para re- vestimento de eletrodeposição catiônica da presente invenção incluem, por exemplo, os líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimen- to de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de estanho e íons de cobre. Neste caso, os íons de flúor descritos mais tarde podem ser adicionalmente incluídos e o composto de poliamina mencionado anterior- mente pode ser incluído.

É preferido que o líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da presente invenção conte- nha íons de flúor. Uma vez que a concentração de íons de flúor varia depen- dendo do pH, a quantidade de íons de flúor livres é definida em um pH es- pecífico. Na presente invenção, a quantidade de íons de flúor livres em um pH de 3,0 está na faixa de 0,1 a 50 ppm. Quando a quantidade for inferior a 0,1 ppm, o material de base metálica não poderá ser suficientemente grava- do, de modo que a quantidade da película de revestimento é diminuída e propriedades de anticorrosão suficientes não poderão ser obtidas. Além dis- to, o líquido para tratamento pode não ter estabilidade suficiente. Em con- traste, quando a quantidade estiver acima de 50 ppm, gravação em excesso pode conduzir à falha na formação de película de revestimento suficiente ou uma quantidade de adesão irregular e a espessura da película da de reves- timento podem afetar adversamente a aparência do revestimento e seme- lhantes. O limite mais baixo e o limite mais alto são preferivelmente de 0,5 ppm e 10 ppm, respectivamente. Exemplos de líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- sente invenção incluem, por exemplo, os líquidos para tratamento de super- 5 fície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de estanho e íons de flúor.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode incluir um composto quelato. Por inclusão do composto quelato, a deposição de outros 10 metais além de zircônio pode ser suprimida no líquido para tratamento e a película de revestimento de óxido de zircônio pode ser formada estavelmen- te. Podem ser exemplificados como composto quelato, aminoácido, ácido aminocarboxílico, composto fenólico, ácido carboxílico aromático, ácido sul- fônico, ácido ascórbico e semelhantes. O ácido carboxílico possuindo um 15 grupo hidroxila, tal como, ácido cítrico e ácido glicônico, convencionalmente conhecidos como agentes quelantes, não pode exercer a sua função de for- ma suficiente na presente invenção.

Podem ser extensivamente empregados como o aminoácido, vários aminoácidos ocorrendo naturalmente e aminoácidos sintéticos, bem 20 como aminoácidos possuindo pelo menos um grupo amino e pelo menos um grupo ácido (grupo carboxila, grupo ácido sulfônico ou semelhantes) em uma molécula. Dentre estes, pelo menos um selecionado do grupo consistindo em alanina, glicina, ácido glutâmico, ácido aspártico, histidina, fenilalanina, asparagina, arginina, glutamina, cisteína, leucina, lisina, prolina, serina, trip- 25 tofano, valina e tirosina e um sal dos mesmos pode ser preferivelmente em- pregado. Adicionalmente, quando existe um isômero óptico do aminoácido, qualquer um pode ser apropriadamente usado, independente das formas, isto é, forma L, forma D ou corpos racêmicos.

Além disto, podem ser extensivamente usado como o ácido a- minocarboxílico, um composto possuindo ambos os grupos funcionais, um grupo amino e um grupo carboxila em uma molécula diferente do aminoáci- do descrito acima. Dentre estes pelo menos um selecionado do grupo con- sistindo em ácido dietilenotriamina penta acético (DTPA)1 ácido hidroxietileti- Ienodiamina triacético (HEDTA), ácido trietilenotetraamina hexa acético (T- THA), ácido 1,3-propanodiamina tetra acético (PDTA)1 ácido 1,3-diamino-6- hidroxipropano tetra acético (DPTA-OH), ácido hidroxietilimino diacético (Hl- 5 DA), dihidroxietilglicina (DHEG), ácido glicoléter diamina tetra acético (GED- TA), ácido dicarboximetil glutâmico (CMGA), ácido (S,S)-etilenodiamina di- succínico (EDDS), ácido etilenodiamina tetra acético (EDTA), ácido nitrilo triacético (NTA), e um sal do mesmo pode ser preferivelmente empregado.

Adicionalmente, exemplos de composto fenólico incluem com- 10 postos possuindo dois ou mais grupos hidroxila fenólicos e grupos fenólicos incluindo os mesmos como um esqueleto básico. Exemplos do primeiro in- cluem catecol, ácido gálico, pirogalol, ácido tânico e semelhantes. Neste ín- terim, exemplos do ultimo incluem flavonoides, tais como, flavona, isoflavo- na, flavonol, flavonona, flavanol, antocianina, aurona, calcona, gaiato de epi- 15 galocatequina, galocatequina, teaflavina, daidzina, genistina, rutina e mirici- trina, compostos polifenólicos incluindo tanina, catequina e semelhantes, polivinilfenol, resol solúvel em água, resinas novolak, Iignina e semelhantes. Dentre estes, tanina, ácido gálico, catequina e pirogalol são especificamente preferidos.

Como o ácido sulfônico pode ser preferivelmente empregado,

pelo menos um selecionado do grupo consistindo em ácido metanossulfôni- co, ácido isetiônico, taurino, ácido naftalenodissulfônico, ácido aminonaftale- nodissulfônico, ácido sulfosalicílico, um condensado de ácido naftalenossul- fônico-aldeído fórmico, ácido alquilnaftalenossulfônico e semelhantes e um sal dos mesmos.

Quando ácido sulfônico for empregado, o desempenho de re- vestimento e resistência à corrosão do objeto, seguindo-se o tratamento de conversão química pode ser melhorado. Embora o mecanismo não esteja claro, as bases que se seguem foram concebidas.

Primeiro, uma vez que existem produtos de segregação de sílica

e semelhantes na superfície do objeto, tal como, placas de aço que tornam a composição de superfície não-uniforme, uma porção não suscetível a grava- ção no tratamento de conversão química pode estar presente. Contudo, es- pecula-se que tal porção que não é suscetível à gravação possa ser especi- ficamente gravada por adição de ácido sulfônico e, consequentemente, uma película de óxido de metal uniforme provavelmente será formada na superfí- 5 cie do objeto. Em outras palavras, acredita-se que o ácido sulfônico atue como um acelerador da gravação.

Em segundo lugar, é possível que no tratamento de conversão química, o gás hidrogênio que pode ser gerado por reação de conversão química iniba a reação na interface, sendo especulado que o ácido sulfônico remove o gás hidrogênio através da ação de despolarização, pelo que acele- rando a reação.

Destes o uso de taurino é preferido, uma vez que ele possui ambos um grupo amino e um grupo sulfona. O teor do ácido sulfônico está preferivelmente na faixa de 0,1 a 10.000 ppm, e mais preferivelmente na fai- 15 xa de 1 a 1.000 ppm. Quando o teor for inferior a 0,1 ppm, o efeito não será significativamente exibindo, embora deposição de zircônio possa ser inibida quando o teor exceder 10.000 ppm.

O emprego de ácido ascórbico conduz à formação uniforme da película de óxido de metal, tal como, óxido de zircônio, óxido de estanho e semelhantes sobre a superfície do objeto por tratamento de conversão quí- mica e o desempenho do revestimento e resistência à corrosão podem ser melhorados. Embora o mecanismo não esteja claro, a ação de gravação no tratamento de conversão química é executado de forma uniforme sobre o objeto, tal como, placas de aço e, consequentemente, especula-se que óxido de zircônio e/ou óxido de estanho seja depositado na parte gravada para formar película de óxido de metal totalmente uniforme. Além disto, especula- se que o estanho se torne apto a ser depositado na forma de metal de esta- nho na interface de metal devido a alguma influência e como uma conse- qüência o óxido de zircônio é depositado na parte onde o metal de estanho foi depositado, pelo que, a dissimulação da superfície no objeto pode ser aperfeiçoada como um todo. O teor de ácido ascórbico está preferivelmente na faixa de 5 a 5.000 ppm, e mais preferivelmente na faixa de 20 a 200 ppm. Quando o teor for inferior a 5 ppm, o efeito não será significativamente exibi- do, embora deposição de zircônio possa ser inibida quando o teor exceder

5.000 ppm.

Quando o agente quelante é incluído, seu teor é preferivelmente 5 0,5 a 10 vezes a concentração da concentração total de outros íons metáli- cos, exceto para zircônio, tal como íon de estanho e íon de cobre. Quando a concentração for inferior a 0,5 vezes, o efeito pretendido poderá não ser exi- bido, embora uma concentração excedendo 10 vezes possa influenciar ad- versamente a formação da película de revestimento.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode conter adi- cionalmente um agente de prevenção de ferrugem nitrogenado, sulfuroso e/ou fenólico. O agente de prevenção de ferrugem pode inibir a corrosão através da formação de uma película de revestimento anticorrosão na super- fície metálica. Como o agente de prevenção de ferrugem nitrogenado, sulfu- roso, fenólico, pode ser empregado pelo menos um selecionado do grupo consistindo em hidroquinona, etileno ureia, quinolol, tioureias, benzotriazol e semelhantes e um sal do mesmo. O emprego do agente de prevenção de ferrugem nitrogenado, sulfuroso, fenólico no líquido para tratamento de su- perfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da presente invenção conduz à formação uniforme da película de óxido de metal, tal co- mo, óxido de zircônio, óxido de estanho e semelhantes na superfície do ob- jeto pelo tratamento de conversão química, pelo que, o desempenho do re- vestimento e resistência à corrosão podem ser melhorados. Embora o me- canismo não esteja claro, o que se segue é concebido.

Isto é, uma vez que existem produtos de segregação de sílica e semelhantes sobre a superfície da placa de aço para render uma composi- ção de superfície não-uniforme, podem estar presentes uma porção possu- indo a película de revestimento de conversão química e uma porção sem 30 formação da película de revestimento de conversão devido ao comporta- mento de gravação diferente, pelo que, possuindo óxido de ferro. O agente de prevenção de ferrugem nitrogenado, sulfuroso, fenólico aperfeiçoa as propriedades de prevenção de corrosão primárias através da absorção em relação à porção sem formação da película de revestimento de conversão no tratamento de conversão química para cobrir a interface do metal. Especula- se que o desempenho do revestimento, resistência à corrosão do objeto se- 5 guindo-se o tratamento de conversão química possa ser consequentemente aperfeiçoado.

Além disto, quando o cobre é excessivamente depositado sobre a película de revestimento de conversão, este cobre pode servir como um ponto de base de cátodo para formar uma película de revestimento de con- 10 versão. Contudo, deixando-se que o agente de prevenção de ferrugem seja absorvido na porção onde uma quantidade excessiva do cobre é depositada, espera-se que o aperfeiçoamento da resistência à corrosão possa agir ob- tendo a propriedade de revestimento de eletrodeposição uniforme sobre o objeto, seguindo-se o tratamento de conversão química.

O teor do agente de prevenção de ferrugem nitrogenado, sulfu-

roso e/ou fenólico está preferivelmente na faixa de 0,1 a 10.000 ppm, e mais preferivelmente na faixa de 1 a 1.000 ppm. Quando o teor for inferior a 0,1 ppm, o efeito não será significativamente exibido, embora a deposição de zircônio possa ser inibida quando o teor exceder 10.000 ppm.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode conter, adi- cionalmente, íons de alumínio e/ou íons de índio. Uma vez que estes cátions possuem funções semelhantes a dos íons de estanho, eles podem ser em- pregados em combinação quando o uso dos íons de estanho sozinhos não 25 puder exibir o efeito. Destes o alumínio é o mais preferido. O teor de íons de alumínio e/ou de íons de índio está preferivelmente na faixa de 10 a 1.000 ppm, mais preferivelmente na faixa de 50 a 500 ppm e ainda mais preferi- velmente na faixa de 100 a 300 ppm. A quantidade de íons de alumínio e íons de índio pode ser uma concentração responsável, por exemplo, por 2 a 30 1.000% da concentração de íon de zircônio. Exemplos de líquidos para tra- tamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiô- nica da presente invenção incluem, por exemplo, os líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica que contêm íons zircônio, íons de estanho e íons de alumínio. Estes podem con- ter, adicionalmente, flúor conforme descrito mais adiante e podem também conter o composto de poliamina descrito adiante.

5 O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode conter vários cátions além dos componentes já mencionados. Exemplos de cátion incluem magnésio, zinco, cálcio, gálio, ferro, manganês, níquel, cobalto, prata e se- melhantes. Além disto, existem cátions e ânions que são derivados de uma 10 base ou um ácido adicionado para ajuste do pH ou estão incluídos como o contra-íon dos componentes mencionados anteriormente.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode ser produzi- do por colocação de cada um dos seus componentes e/ou composto con- tendo os mesmos em água, seguido por mistura.

Exemplos do composto para fornecimento dos íons zircônio in- cluem ácido fluorzircônico, sais de ácido fluorzircônico, tais como, fluorzirco- nato de potássio e fluorzirconato de amônio, fluoreto de zircônio, óxido de zircônio, coloide de óxido de zircônio, nitrato de zirconila, carbonato de zir- cônio e semelhantes.

Exemplos do composto que fornece os íons de estanho incluem sulfato de estanho, acetato de estanho, fluoreto de estanho, cloreto de esta- nho, nitrato de estanho e semelhantes. Por outro lado, como o composto que fornece os íons de flúor, por exemplo, podem ser citados os íons de flúor, por 25 exemplo, fluoretos, tais como, ácido fluorídrico, fluoreto de amônio, ácido fluorbórico, fluoreto de hidrogênio amônio, fluoreto de sódio, fluoreto de hi- drogênio sódio e semelhantes. Adicionalmente, um fluoreto complexo pode também ser usado como a fonte, e seus exemplos incluem sais de ácido he- xafluorssilícico, especialmente, ácido hidrofluorssilílico, hidrofluorssilicicato 30 de zinco, hidrofluorssilicato de manganês, hidrofluorssilicato de magnésio, hirofluorssilicato de níquel, hidrofluorssilicato de ferro, hidrofluorssilicato de cálcio e semelhantes. Adicionalmente, um composto que fornece íons zircô- nio e é um fluoreto complexo é também aceitável. Além disto, acetato de co- bre, nitrato de cobre, sulfato de cobre, cloreto de cobre e semelhantes como o composto que fornece íons de cobre; nitrato de alumínio, fluoreto de alu- mínio e semelhantes como o composto que fornece íons alumino; e nitrato 5 de índio, cloreto de íon e semelhantes como o composto que fornece íons de índio podem ser exemplificados, respectivamente.

Após mistura destes componentes, o líquido para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- sente invenção pode ser regulado para possuir um valor de pH predetermi- 10 nado empregando um composto ácido, tal como, ácido nítrico ou ácido sulfú- rico e um composto básico, tal como, hidróxido de sódio, hidróxido de potás- sio ou amônia.

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção pode conter um 15 agente oxidante. O agente oxidante é específico e preferivelmente pelo me- nos um selecionado do grupo consistindo em ácido nítrico, ácido nitroso, peróxido de hidrogênio, ácido brômico e seus sais. O agente oxidante permi- te que uma película de óxido de metal seja formada uniformemente na su- perfície de um objeto, pelo que, a capacidade de revestimento e resistência 20 à corrosão do objeto podem ser aperfeiçoadas.

Embora o mecanismo não esteja claro, especula-se que o em- prego do agente oxidante na quantidade especificada permite que a ação de gravação no tratamento de conversão química seja executada de forma uni- forme sobre um objeto, tal como uma placa de aço, pelo que, óxido de zircô- 25 nio e/ou óxido de estanho é depositado na parte gravada para formar uma película de óxido de metal totalmente uniforme. Também se especula que o agente de oxidação na quantidade especificada torne o estanho pronto para ser depositado como um metal de estanho na interface do metal e assim ó- xido de zircônio é depositado nas porções de deposição do metal de esta- 30 nho, pelo que, a dissimulação da superfície do objeto como um todo é aper- feiçoada.

De modo a afetar tal ação, o teor de cada agente oxidante é como se segue. Consequentemente, o teor de ácido nítrico está preferivel- mente na faixa de 100 a 100.000 ppm, mais preferivelmente na faixa de

1.000 a 20.000 ppm e ainda mais preferivelmente na faixa de 2.000 a 10.000 ppm. O teor de ácido nitroso e ácido brômico está preferivelmente na faixa 5 de 5 a 5.000 ppm e mais preferivelmente na faixa de 20 a 200 ppm. O teor de ácido nitroso e ácido brômico está preferivelmente na faixa de 5 a 5.000 ppm e mais preferivelmente na faixa de 20 a 200 ppm. O teor de peróxido de hidrogênio está preferivelmente na faixa de 1 a 1.000 ppm, e mais preferi- velmente na faixa de 5 a 100 ppm. Quando o teor de cada um for inferior ao 10 limite mais baixo, o efeito mencionado anteriormente não é significativamen- te exibido, embora a deposição de zircônio possa ser exibida quando o teor exceder o limite mais alto.

O método de tratamento da superfície metálica da presente in- venção inclui uma etapa de sujeição de um material de base metálica a um tratamento de superfície empregando o líquido para tratamento de superfície metálica descrito acima.

O material de base metálica não está especificamente limitado à medida que o mesmo pode ser o cátion eletrodepositado e, por exemplo, um material de base metálica com base em ferro, material de base metálica com base em alumínio, material de base metálica com base em zinco e seme- lhantes podem ser exemplificados.

Exemplos de material de base metálica com base em ferro in- cluem placas de aço laminada a frio, placas de aço laminadas a quente, pla- cas de aço doce, placas de aço de alta tensão e semelhantes. Além disto, 25 exemplos de material de base metálica com base de alumínio incluem ligas de alumínio série 5.000, ligas de alumino série 6.000 e placas de aço reves- tidas com alumínio tratadas por eletrogalvanização à base de alumínio, i- mersão a quente ou galvanização por deposição de vapor. Adicionalmente, exemplos de material de base metálica à base de zinco ou placas de aço 30 revestidas com liga à base de zinco tratadas por eletrogalvanização à base de zinco, imersão a quente ou galvanização por deposição de vapor, tal co- mo, placa de aço revestida com zinco, placa de aço revestida com zinco- níquel, placa de aço revestida com zinco-titânio, placa de aço revestida com zinco-magnésio, placa de aço revestida com zinco-manganês e semelhan- tes. Existem várias classificações de placa de aço de alta tensão dependen- do da resistência e método de fabricação e seus exemplos incluem 5 JSC400J, JSC440P, JSC440W, JSC590R, JSC590T, JSC590Y, JSC780T, JSC780Y, JSC980Y, JSC1180Y e semelhantes.

Materiais de base metálica incluindo uma combinação de múlti- plos tipos de metais, tais como, metais à base de ferro, de alumínio, de zinco e semelhantes (incluindo a área de junta e área de contato dos diferentes tipos de metais) podem ser aplicados simultaneamente como o material de base metálica.

A etapa de tratamento de superfície pode ser realizada por colo- cação do líquido para tratamento de superfície metálica em contato com o material de base metálica. Exemplos específicos do método incluem um mé- todo de imersão, um método de aspersão, um método de revestimento por laminação, um método de derramamento e semelhantes.

A temperatura de tratamento na etapa de tratamento da superfí- cie preferivelmente se encontra na faixa de 20 a 70°C. Quando a temperatu- ra for inferior a 20°C, será possível causar a falha na formação de uma pelí- 20 cuia de revestimento suficiente, embora um efeito correspondente não possa ser esperado em uma temperatura acima de 70°C. O limite mais baixo e o limite mais alto são mais preferivelmente de 30°C e 50°C, respectivamente.

O período de tempo de tratamento na etapa de tratamento de superfície é preferivelmente de 2 a 1.100 segundos. Quando o período de 25 tempo for inferior a 2 segundos, uma quantidade de película de revestimento suficiente não poderá ser obtida, embora um efeito correspondente não pos- sa ser esperado, mesmo se for mais longo que 1.100 segundos. O limite mais baixo e o limite mais alto são ainda mais preferivelmente de 30 segun- dos e 120 segundos, respectivamente. Consequentemente, uma película de 30 revestimento é formada no material de base metálica.

O material de base metálica tratado na superfície da presente invenção é obtido pelo método de tratamento de superfície descrito acima. Na superfície do material de base metálica é formada uma película de reves- timento que contém zircônio e estanho. A razão de elemento de zircô- nio/estanho na película de revestimento está preferivelmente na faixa de 1/10 a 10/1 em uma base de peso. Quando a razão estiver fora desta faixa, o desempenho pretendido pode não ser obtido.

O teor de zircônio na película de revestimento preferivelmente não é inferior a 10 mg/m2 no caso de materiais de base metálica à base de ferro. Quando o teor for inferior a 10 mg/m2, propriedades anticorrosão sufi- cientes podem não ser obtidas. O teor preferivelmente não é inferior a 20 10 mg/m2 e, ainda preferivelmente não é inferior a 30 mg/m2. Embora o limite mais alto não seja especificamente definido, uma quantidade muito alta da película de revestimento pode conduzir a uma probabilidade aumentada de geração de rachaduras da película de revestimento de prevenção de ferru- gem e pode tornar difícil a obtenção de uma película de revestimento uni- 15 forme. Com relação a isto, o teor de zircônio na película de revestimento pre- ferivelmente não é superior a 1 g/m2, e mais preferivelmente não é superior a 800 mg/m2.

Quando a película de revestimento for formada empregando o líquido para tratamento de superfície metálica que contém íons de cobre, o teor de cobre na película de revestimento preferivelmente não será inferior a 0,5 mg/m2 de modo a obter o efeito pretendido.

O método de revestimento de eletrodeposição catiônica da pre- sente invenção inclui uma etapa de sujeição de um material de base metáli- ca a um tratamento de superfície empregando o líquido para tratamento de 25 superfície metálica descrito acima e uma etapa de sujeição de material de base metálica tratado na superfície ao revestimento de eletrodeposição cati- ônica.

A etapa de tratamento de superfície no revestimento de eletro- deposição catiônica mencionado anteriormente é a mesma que a etapa de tratamento de superfície no método de tratamento de superfície descrito a- cima. O material de base metálica tratado na superfície obtido na etapa de tratamento de superfície pode ser submetido à etapa de revestimento de ele- trodeposição catiônica diretamente ou após a lavagem.

Na etapa de revestimento de eletrodeposição catiônica, o mate- rial de base metálica tratado na superfície é submetido ao revestimento de eletrodeposição catiônica. No revestimento de eletrodeposição catiônica, o 5 material de base metálica tratado na superfície é imerso na solução de re- vestimento de eletrodeposição catiônica e uma tensão de 50 a 450 V é apli- cada empregando o mesmp como um cátodo por um determinado período de tempo. Embora o período de tempo de aplicação da tensão possa variar dependendo das condições da eletrodeposição, ele é geralmente de 2 a 4 10 minutos. *

Como a solução de revestimento de eletrodeposição catiônica, pode ser usada uma bem conhecida. Especificamente, tais soluções de re- vestimento geral são preparadas por combinação de: um Iigante cationizado através da adição de amina ou sulfeto a um grupo epóxi transportado por 15 uma resina epóxi ou uma resina acrílica, seguido por adição ao mesmo de um ácido neutralizante, tal como, ácido acético; isocianato de bloco como um agente de cura; e uma pasta de dispersão de pigmento incluindo um pig- mento de prevenção de ferrugem disperso em uma resina.

Após o término da etapa de revestimento de eletrodeposição ca- 20 tiônica, uma película revestida enrijecida pode ser obtida por cozimento a uma temperatura predeterminada diretamente ou após lavagem com água. Embora as condições de cozimento possam variar dependendo do tipo de solução de revestimento de eletrodeposição catiônica empregada, geralmen- te o cozimento pode ser conduzido na faixa de 120 a 260°C e preferivelmen- 25 te na faixa de 140 a 220°C. O período de tempo do cozimento pode ser de 10 a 30 minutos. O material de base metálica resultante revestido pela ele- trodeposição catiônica também constitui um aspecto da presente invenção.

EXEMPLOS

Exemplo de Produção 1: Produção do Condensado de Hidrólise de Aminossilano. Parte 1

Cinto partes em peso de KBE603 (3-aminopropil-trietoxissilano, concentração efetiva: 100%, fabricado pela Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) foram adicionadas gota-a-gota, como o aminossilano, empregando um funil de adição a um solvente misturado (temperatura do solvente: 25°C) conten- do 47,5 partes em peso de água deionizada e 47,5 partes em peso de álcool 5 isopropílico por 60 minutos em um estado homogêneo, seguido por perma- nência da reação em atmosfera de nitrogênio a 25°C por 24 horas. Então, a solução de reação foi submetida a uma pressão reduzida para permitir eva- poração do álcool isopropílico e água deionizada foi acrescentada à mesma, pelo que, foi obtido um condensado de hidrólise de aminossilano incluindo 10 5% do ingrediente ativo.

Exemplo de Produção 2: Produção do Condensado de Hidrólise de Aminossilano. Parte 2

Em um modo semelhante ao Exemplo de Produção 1, exceto que as quantidades foram alteradas para 20 partes em peso de KBE603, 40 partes em peso de água deionizada, e 40 partes em peso de álcool isopropí- lico, um condensado de hidrólise de aminossilano incluindo 20% de do in- grediente ativo foi obtido.

Exemplo 1

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- 20 mento de eletrodeposição catiônica foi obtido por: mistura de uma solução ácida aquosa a 40% de zircônio como uma fonte de íon de zircônio, sulfato de estanho como uma fonte de íon de estanho, e ácido fluorídrico; diluição da mistura de modo a fornecer uma concentração de íon de zircônio de 500 ppm, e uma concentração de íon de estanho de 30 ppm; e ajuste do pH para 25 3,5 empregando ácido nítrico e hidróxido de sódio. A medição da concentra- ção de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 2

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 1 exceto que: o condensado de hidrólise de aminossilano obtido no Exemplo de Produção 1 foi acrescentado adicionalmente para ser de 200 ppm; sulfato de estanho foi trocado por acetato de estanho de modo a forne- cer uma concentração de íon de estanho de 10 ppm; e o pH foi ajustado pa- ra 2,75. A medição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 3

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 1 exceto que: polialilamina "PAA-H-10C" (marca registrada, fabricada 10 pela Nitto Boseki Co., Ltd.) foi acrescentada adicionalmente para ser de 25 ppm; a concentração de íon de zircônio foi alterada para 250 ppm; e o pH foi ajustado para 3,0. A medição da concentração de íon de flúor livre empre- gando um medidor de íon de flúor neste líquido de tratamento revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 4

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 1, exceto que: nitrato de cobre foi também acrescentado de modo a fornecer uma concentração de íon de cobre de 10 ppm; a concentração de 20 íon de estanho foi alterada para 10 ppm; e o pH foi ajustado para 3,0. A me- dição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor neste líquido de tratamento revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 5

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- 25 mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 4, exceto que: o condensado de hidrólise de aminossilano obtido no Exemplo de Produção 2 foi acrescentado adicionalmente para ser de 200 ppm; e a concentração de íon de estanho foi alterada para 30 ppm. A medi- ção da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de 30 flúor neste líquido de tratamento revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 6

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 2, exceto que: nitrato de alumínio foi também acrescentado de modo a fornecer uma concentração de íon de alumínio de 200 ppm; e sulfato de estanho foi trocado por acetato de estanho de modo a fornecer uma concen- 5 tração de íon de estanho de 30 ppm. A medição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 5 ppm.

Exemplos 7 e 8

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos de modo semelhante ao Exemplo 6, exceto que o pH foi ajustado para 3,5 e 4,0. A concentração de íon de flúor livre medida empregando um medidor de íon de flúor, após ajus- te do pH deste líquido de tratamento para 3,0 é mostrada na Tabela 1.

Exemplos 9 a 16

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos de modo semelhante ao Exemplo 7, exceto que a quantidade adicionada de solução ácida aquosa de zircônio a 40%, sulfato de estanho, e nitrato de alumínio foi alterada de mo- do a fornecer uma concentração de íon de zircônio, uma concentração de 20 íon de estanho, e uma concentração de íon de alumínio conforme mostrado na Tabela 1. A concentração de íon de flúor livre medida empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para

3,0 é mostrada na Tabela 1.

Exemplo 17

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 2, exceto que: nitrato de índio foi também acrescentado de modo a fornecer uma concentração de íon índio de 200 ppm; sulfato de estanho foi trocado por fluoreto de estanho de modo a fornecer uma concentração de 30 íon de estanho de 30 ppm; e o pH foi ajustado para 3,5. A medição da con- centração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 18

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- 5 xemplo 2, exceto que: ácido de dietilenotriamina penta acético (DTPA) foi também acrescentado como um agente quelante para fornecer uma concen- tração de 100 ppm; acetato de estanho foi trocado por sulfato de estanho, desta forma alterando a concentração de íon de estanho para 30 ppm; e adi- cionalmente, a concentração de íon de zircônio foi alterada para 1.000 ppm. 10 A medição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 10 ppm.

Exemplo 19

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- 15 mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 2, exceto que: nitrato de sódio foi também acrescentado de modo a fornecer uma concentração de íon de sódio de 5.000 ppm; e a concentração de íon de estanho foi alterada para 30 ppm. A medição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH 20 deste líquido de tratamento para 3,0 revelou um valor de 5 ppm.

Exemplo 20

Um líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foi obtido de modo semelhante ao E- xemplo 5, exceto que: glicina como agente quelante e nitrato de cobre foram 25 adicionados de modo a fornecer uma concentração de 50 ppm e concentra- ção de íon de cobre de 10 ppm, respectivamente; e a concentração de poli- amina foi alterada para 100 ppm. A medição da concentração de íon de flúor livre empregando um medidor de íon de flúor neste líquido de tratamento revelou um valor de 5 ppm.

Exemplos 21 a 31

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: poliamina conforme descrita na Tabela 1 foi adicionada em uma quantidade especificada; e a concentração do outro componente foi alterada conforme mostrado na Tabela 1. As con- centrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de 5 flúor nestes líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostra- das em conjunto na Tabela 1.

Exemplos 32 a 50

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- 10 do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: o ácido sulfônico descrito na Ta- bela 2 foi adicionado em uma quantidade especificada; e a poliamina e o outro componente foram trocados conforme mostrado na Tabela 2. As con- centrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de flúor nestes líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostra- 15 das em conjunto na Tabela 2. Na Tabela 2, o condensado de ácido naftaleno sulfônico-aldeído fórmico empregado era DEMOL NL fabricado pela Kao Corporation; alquilnaftaleno sulfonato de sódio era PELEX NBL fabricado pela Kao Corporation; e poliestireno sulfonato de sódio era P-NASS-1 fabri- cado pela Tosoh Corporation.

Exemplos 51

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: ácido ascórbico conforme descrito na Tabela 3 foi adicionado em uma quantidade especificada; e a poliamina e 25 o outro componente foram trocados conforme mostrado na Tabela 3. As con- centrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de flúor nestes líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostra- das em conjunto na Tabela 3.

Exemplos 52 a 59

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti-

mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: o agente oxidante descrito na Ta- bela 3 foi adicionado em uma quantidade especificada; e a poliamina e o outro componente foram trocados conforme mostrado na Tabela 3. As con- centrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de flúor nestes líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostra- das em conjunto na Tabela 3.

Exemplos 60 a 74

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: o agente de prevenção de ferru- 10 gem com base em nitrogênio, o agente de prevenção de ferrugem com base em enxofre, ou o agente de prevenção de ferrugem com base em fenol des- crito na Tabela 3 foi adicionado em uma quantidade especificada; e a polia- mina e o outro componente foram trocados conforme mostrado na Tabela 3. As concentrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de 15 íon de flúor nestes líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostradas em conjunto na Tabela 3.

Exemplos 75 a 77

Líquidos para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica foram obtidos, respectivamente, de mo- 20 do semelhante ao Exemplo 1, exceto que: ao invés da placa de aço lamina- da a frio (SPC) uma placa de aço de alta tensão foi empregada como a placa de base que é o objeto; e a poliamina e o outro componente descrito na Ta- bela 3 foram trocados conforme mostrado na Tabela 3. As concentrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de flúor nestes 25 líquidos de tratamento sob uma condição de pH 3,0 são mostradas em con- junto na Tabela 3.

Exemplos 78 a 106

Com relação a Exemplos 2, 3 e 5 a 31, líquidos para tratamento de superfície metálica para revestimento de eletrodeposição catiônica foram obtidos de modo semelhante a cada Exemplo, exceto que poliamina não foi adicionada. As concentrações de íon de flúor livre medidas empregando um medidor de íon de flúor, após ajuste do pH dos líquidos para tratamento para 3,0 são mostradas na Tabela 4.

Exemplos Comparativos 1 a 6: Preparação de Líquido Compara- tivo para Tratamento de Superfície Metálica

De acordo com a descrição na Tabela 1 e Tabela 3, líquidos comparativos para tratamento de superfície metálica foram obtidos, respecti- vamente, com base nos Exemplos mencionados anteriormente. Assim os líquidos para tratamento de superfície metálica resultantes são resumidos na Tabela 1 e Tabela 3. Tabela 1 Concentra¬ Composto de forneci¬ Concentra¬ Razão PH Componente adicionado (concentração entre Concentração ção de Zr mento de íon estanho ção de Sn de Sn/Zn parêntesis (ppm) de íon flúor Composto de poliam ida Outros Exemplo 1 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3,5 ausente 5 Exemplo 2 500 Sulfato de estanho 10 0,02 2,75 Exemplo de produção 1(200) 5 Exemplo 3 250 Sulfato de estanho 30 0,12 3 poli alilamina(25) 5 Exemplo 4 500 Sulfato de estanho 10 0,02 3 ausente Nitrato de cobre(10) 5 Exemplo 5 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 Exemplo de produção 2(200) Nitrato de cobre(10) 5 Exemplo 6 500 acetato de estanho 30 0,06 2,75 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(200) Exemplo 7 500 acetato de estanho 30 0,06 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(200) Exemplo 8 500 acetato de estanho 30 0,06 4 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(200) Exemplo 9 1000 acetato de estanho 30 0,03 3,5 Exemplo de produção 1(200] nitrato de 7 alumínio(200) Exemplo 10 500 acetato de estanho 30 0,06 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(500) Exemplo 11 500 acetato de estanho 30 0,06 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(IOOO) Exemplo 12 500 acetato de estanho 10 0,02 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(500) Exemplo 13 500 acetato de estanho 200 0,4 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de alumínio(500) Tabela 1 - continuação Exemplo 14 200 acetato de estanho 10 0,05 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 7 alumínio(200) Exemplo 15 200 acetato de estanho 30 0,15 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(200) Exemplo 16 200 acetato de estanho 70 0,35 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 alumínio(200) Exemplo 17 500 fluoreto de estanho 30 0,06 3,5 Exemplo de produção 1(200) nitrato de índio(50) 5 Exemplo 18 1000 Sulfato de estanho 30 0,03 2,75 Exemplo de produção 1(200) DTPA(100) 10 Exemplo 19 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 Exemplo de produção 1(200) nitrato de sódio(5000) 5 Exemplo 20 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 Exemplo de produção 2(100) sulfato de cobre(10), 5 glicina(50) Exemplo 21 20 Sulfato de estanho 5 0,25 3 Exemplo de produção 1(10) 2 Exemplo 22 500 Sulfato de estanho 20 0,04 2 Exemplo de produção 1(200) 1 Exemplo 23 500 Sulfato de estanho 30 0,06 5,5 Exemplo de produção 1(200) 20 Exemplo 2 4 5000 Sulfato de estanho 25 0,005 3 Exemplo de produção 10 1(2000) Exemplo 25 50 Sulfato de estanho 10 0,2 3 Exemplo de produção 2(50) 3 Exemplo 2 6 50 Sulfato de estanho 50 1 3 Exemplo de produção 2(25) 1 Exemplo 27 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 Exemplo de produção 1(50) 0 Exemplo 28 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 Exemplo de produção 2(50) 0,1 Exemplo 29 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 Exemplo de produção 2(50) 0,6 Exemplo 30 500 Sulfato de estanho 30 0,06 4 Exemplo de produção 1(200) 20 Exemplo 31 500 Sulfato de estanho 30 0,06 4,5 Exemplo de produção 1(200) 50 Exemplo com¬ 500 ausente 0 0 3,5 Exemplo de produção 1(200) 7 parativo 1 Exemplo com¬ 500 3 Exemplo de produção 1(200) nitrato de 5 parativo 2 alumínio(500) Exemplo com¬ 50 ausente 0 0 3,5 Exemplo de produção 1(200) 5 parativo 3 Exemplo com¬ 500 Sulfato de estanho 250 0,5 1 Exemplo de produção 1(200) 5 parativo 4 Exemplo com¬ 500 Sulfato de estanho 250 0,5 r Exemplo de produção 1(200) 5 parativo 5 Tabela 2 Concentração Composto de Concentra¬ Razão PH Componente adicionado (concentração entre parêntesis) Concentração de Zn (ppm) fornecimento de ção (ppm) de Sn/Zn (ppm) de íon flúor Composto de po- Outros metais Outros Iiamidas Exemplo 32 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ taurino(100) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 33 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Acido metanossulfônico 5 tanho dução 1(200) (100) Exemplo 34 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ ácido isetiônico(100) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 35 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Acido naftalenodissul- 5 tanho dução 1 (200) fonato de sódio (100) Exemplo 36 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Amino naftalenodissul- 5 tanho dução 1(200) fonato de sódio (100) Exemplo 37 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Acido sulfosalicílico 5 tanho dução 1(200) (100) Exemplo 38 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Condensado de ácido 5 tanho dução 1(200) naftalenossulfônico- aldeído fórmico (100) Exemplo 39 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Alquilnaftaleno sulfona- 5 tanho dução 1(200) to de sódio Exemplo 40 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Nitrato de taurino(100) 5 tanho dução 1 (200) cobre Exemplo 41 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de taurino (100) 5 tanho cobre (10) Exemplo 42 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3, 5 nitrato de Acido metanossulfônico 5 tanho alumínio (200) (100) Exemplo 43 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de ácido isetiônico(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 44 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Acido naftalenodissul- 5 tanho alumínio (200) fonato de sódio (100) Tabela 2 - continuação Exemplo 45 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Amino naftalenodissul- 5 tanho cobre (10) fonato de sódio (100) Exemplo 46 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 nitrato de Ácido sulfosalicílico 5 tanho alumínio (200) (100) Exemplo 47 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Condensado de ácido 5 tanho cobre (10) naftalenossulfônico- aldeído fórmico (100) Exemplo 48 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Alquilnaftaleno sulfona- 5 tanho alumínio (200) to de sódio Exemplo 49 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Estirenossulfonato de 5 tanho cobre(10) sódio (100) Exemplo 50 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 nitrato de Pol iestirenossu Ifonato 5 tanho alumínio (200) de sódio(100) Tabela 3 Concentra¬ Composto de Concentra¬ Razão pH Componente adicionado (concentração entre parêntesis) Concentração ção de Zn fornecimento ção (ppm) de Sn/Zn (ppm) de íon flúor Composto de Outros metais Outros políamidas Exemplo 51 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ - Ascorbato de sódio 5 tanho dução 1(200) (50) Exemplo 52 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ - Como nitrato de sódio 5 tanho dução 1(200) (10000) Exemplo 53 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ " Peróxido de hidrogÊnio 5 tanho dução 1(200) (10) Exemplo 54 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ - Nitrato de sódio (50) 5 tanho dução 1 (200) Exemplo 55 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ ■ Brometo de sódio (IOQ) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 56 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 ■ Nitrato de Como nitrato de sódio 5 tanho bronze (10) (10000) Exemplo 57 500 sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 - Nitrato de Peróxido de hidrogênio 5 tanho alumínio (200) (10) Exemplo 58 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 - Nitrato de Nitrato de sódio(50) 5 tanho bronze(10) Exemplo 59 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 - Nitrato de Brometo de sódio (100) 5 tanho alumínio(200) Exemplo 60 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ hidroquinona(OO) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 61 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Etileno ureia(100) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 62 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ QuinoIinoI(IOO) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 63 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro- Tioreia(100) 5 tanho dução1(200) CO

Ο) Tabela 3 - continuação Exemplo 64 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Benzotriazol(100) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 65 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Mercaptobenzotiazol 5 tanho dução 1 (200) (100) Exemplo 66 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ KBM803(100) 5 tanho dução 1(200) Exemplo 67 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro¬ Nitrato de Benzotriazol(100) 5 tanho dução 1(200) cobre(10) Exemplo 68 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Hidroquinona(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 69 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Etileno ureia(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 70 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de QuinoIinoI(IOO) 5 tanho cobre(10) Exemplo 71 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Tioreia(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 72 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Benzotriazol(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 73 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de Mercaptobenzotiazol 5 tanho cobre (10) (100) Exemplo 74 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Nitrato de KBM803(100) 5 tanho cobre(10) Exemplo 75 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro- Nitrato de Como nitrato de sódio 5 tanho dução1(200) cobre(10) (10000) Exemplo 76 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro- Nitrato de taurino(100) 5 tanho dução1(200) cobre(10) Exemplo 77 500 Sulfato de es¬ 30 0,06 3,5 Exemplo de pro- Nitrato de benzotriazol(100) 5 tanho dução1(200) cobre(10) Exemplo com¬ 500 3,5 Exemplo de pro- 5 parativo 6 dução1(200) Tabela 4 Concentração Composto de Concen¬ Razão de PH Componente adicionado (concentração entre parênte- Concentração de Zn (ppm) fornecimento de íon tração Sn/Zn sis) (ppm) de íon flúor estanho (ppm) livre Composto de poliamidas Outros Exemplo 78 500 Sulfato de estanho 10 0,02 2,75 - 5 Exemplo 79 250 Sulfato de estanho 30 0,12 3 - 5 Exemplo 80 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 - Nitrato de cobre(10) 5 Exemplo 81 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 - Nitrato de alumínio(200) 5 Exemplo 82 500 Acetato de estanho 30 0,06 3,5 - Nitrato de alumínio{200) 5 Exemplo 83 500 Acetato de estanho 30 0,06 4 - Nitrato de alumínio(200) 5 Exemplo 84 1000 Acetato de estanho 30 0,03 3,5 - Nitrato de alumínio{200) 7 Exemplo 85 500 Acetato de estanho 30 0,06 3,5 - Nitrato de alumínio(500) 5 Exemplo 86 500 Acetato de estanho 30 0,06 3,5 - Nitrato de alumínio(IOOO) 5 Exemplo 87 500 Acetato de estanho 10 0,02 3,5 - Nitrato de alumínio(500) 5 Exemplo 88 500 Acetato de estanho 200 0,4 3,5 - Nitrato de alumínio(500) 5 Exemplo 89 200 Acetato de estanho 10 0,05 3,5 - Nitrato de alumínio(200) 7 Exemplo 90 200 Acetato de estanho 30 0,15 3,5 - Nitrato de alumínio(200) 5 Exemplo 91 200 Acetato de estanho 70 0,35 3,5 - Nitrato de alumínio(200) 5 Exemplo 92 500 Fluoreto de estanho 30 0,06 3,5 - Nitrato de índio(50) 5 Exemplo 93 1000 Sulfato de estanho 30 0,03 2,75 - DTPA(100) 10 Exemplo 94 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 - Nitrato de sódio(5000) 5 Exemplo 95 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 - Nitrato de cobre (101, 5 glicina (50) w

OO Tabela 4 - continuação Exemplo 96 20 Sulfato de estanho 5 0,25 3 - 2 Exemplo 97 500 Sulfato de estanho 20 0,04 2 1 Exemplo 98 500 Sulfato de estanho 30 0,06 5,5 - 20 Exemplo 99 5000 Sulfato de estanho 25 0,005 3 - 10 Exemplo 100 50 Sulfato de estanho 10 0,2 3 - 3 Exemplo 101 50 Sulfato de estanho 50 1 3 - 1 Exemplo 102 500 Sulfato de estanho 30 0,06 3 - 0 Exemplo 103 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 - 0,1 Exemplo 104 500 Sulfato de estanho 30 0,06 2,75 - 0,6 Exemplo 105 500 Sulfato de estanho 30 0,06 4 - 20 Exemplo 106 500 Sulfato de estanho 30 0,06 4,5 - 50 Tratamento da Superfície

Como materiais de base metálica foram providas, uma placa de aço laminada a frio disponível comercialmente (SPC, fabricada pela Nippon Testpanel Co., Ltd., 70 mm x 150 mm x 0,8 mm) para os Exemplos 1 a 74, 5 Exemplos 78 a 106, e Exemplos Comparativos 1 a 5 e uma placa de aço de alta tensão (70 mm x 150 mm x 1, 0 mm) para os Exemplos 75 a 77, e E- xemplo Comparativo 6. Estas placas foram submetidas ao tratamento de retirada de graxa empregando "SURFCLEANER EC92" (marca registrada, fabricado pela Nippon Paint Co., Ltd.) como um agente de tratamento alcali- 10 no para retirada de graxa a 40°C por 2 minutos. Esta placa foi imersa e lava- da em um banho de lavagem de água e então lavada por aspersão de água de torneira por aproximadamente 30 segundos.

O material de base metálica após o tratamento para retirada da graxa foi submetido a um tratamento de superfície por imersão do mesmo no 15 líquido para tratamento de superfície metálica preparado nos Exemplos e Exemplos Comparativos a 40°C por 90 segundos. Contudo, o período de tempo de tratamento foi de 240 segundos e 15 segundos, respectivamente, nos Exemplos 21 e 22. Após término do tratamento de superfície, a placa foi seca a 40°C por 5 minutos e o material de base metálica tratado na superfí- 20 cie foi obtido. A menos que de outra forma declarado, este material de base metálica tratado na superfície foi empregado como uma placa de teste na avaliação seguinte.

Medição do Teor de Elemento na Película de Revestimento O teor de cada elemento incluído na película de revestimento foi medido empregando um espectrômetro de fluorescência de raio-x "XRF1700" fabricado pela Shimadzu Corporation.

Prevenção de Ferrugem Primária

Após imersão da placa de teste em água pura a 25°C por 5 ho- ras, o estado de geração de ferrugem foi observado visualmente.

A: nenhuma geração de ferrugem observada

B: leve formação de ferrugem observada C: formação de ferrugem claramente observada Observação da Lama

Empregando 10 L dos líquidos para tratamento de superfície dos Exemplos e Exemplos Comparativos, 200 painéis de teste foram submetidos ao tratamento de superfície e avaliação foi realizada de acordo com o pa- 5 drão que se segue através de observação visual se o líquido para tratamento de superfície se tornou turvo devido à geração de lama seguindo-se período de 30 dias a temperatura ambiente.

A: líquido transparente B: ligeiramente turvo C: turvo

D: precipitado (lama) gerado Avaliação do Poder de Arremesso

O poder de arremesso foi avaliado de acordo com um "método de caixa de quatro placas" descrito no Pedido de Patente Japonês não- 15 examiinado, primeira publicação número 2000-038525. Mais especificamen- te, conforme mostrado na figura 1, as placas de teste 1 a 4 foram dispostas em pé em paralelo com intervalos de 20 mm para produzir uma caixa 10 ve- dada com um isolador, tal como, uma fita de tecido adesiva na parte de bai- xo de ambas as faces laterais e face inferior. Orifícios passantes 5 possuindo 20 um diâmetro de 8 mm foram providos na parte inferior dos materiais metáli- cos 1, 2 e 3, exceto para o material metálico 4.

Esta caixa 10 foi imersa em um recipiente para revestimento de eletrodeposição 20, cheio com uma solução para revestimento de eletrode- posição catiônica "POWERNICS 110" (marca registrada, fabricada pela Nip- pon Paint Co., Ltd.). Neste caso, a solução para revestimento de eletrodepo- sição catiônica entrou dentro da caixa 10 apenas pelos orifícios passantes 5.

Cada uma das placas de teste 1 a 4 foi eletricamente conectada enquanto agitando a solução para revestimento de eletrodeposição catiônica com um agitador magnético e um contraelétrodo 21 foi disposto, tal que, a 30 distância da placa de teste 1 se tornou de 150 mm. Tensão foi aplicada com cada uma das placas de teste 1 a 4 como cátodos, e o contraelétrodo 21 como um anodo para executar o revestimento de eletrodeposição catiônica. O revestimento foi realizado por elevação à tensão pretendida (210 V e 160 V) por 30 segundos a partir do início da aplicação e após isto mantendo a tensão por 150 segundos. A temperatura do banho neste processo foi regu- lada a 30°C.

5 Após lavagem de cada uma das placas de teste 1 a 4 com água

após o revestimento, elas foram cozidas a 170°C por 25 minutos, seguido por resfriamento com ar. O poder de arremesso foi então avaliado por medi- ção da espessura da película da película revestida formada no lado A da placa de teste 1 que está mais próxima do contraelétrodo 21, e a espessura 10 da película revestida formada no lado G da placa de teste 4 que está mais longe do contraelétrodo 21 para determinar uma razão da espessura da pe- lícula (lado G)/espessura da película (lado A). Conforme este valor se torna maior, melhor a avaliação do poder de arremesso pode ser obtida. O nível aceitável era superior a 40%.

Tensão de Revestimento

Empregando os líquidos para tratamento de superfície dos E- xemplos e Exemplos Comparativos, placas de aço laminadas a frio e placas de aço revestidas com zinco foram submetidas a um tratamento de superfí- cie, pelo que placas de teste foram obtidas. Empregando a solução de re- 20 vestimento de eletrodeposição catiônica "POWERNICS 110" descrita acima nestas placas de teste, foi determinada a tensão necessária para obtenção de uma película de revestimento de eletrodeposição de 20 pm. A diferença na tensão de revestimento necessária para obtenção da película de revesti- mento de eletrodeposição de 20 pm foi então determinada entre o caso onde 25 o material de base metálica era uma placa de aço revestida com zinco e o caso da placa de aço laminada a frio. Conforme a diferença se torna menor, a superioridade como uma película de revestimento tratada na superfície é sugerida. Uma diferença não-superior a 40 V é aceitável.

A tensão necessária para obtenção de uma película revestida de eletrodeposição de 20 pm foi determinada como a seguir. Sob uma condição de eletrodeposição, a tensão foi elevada a uma tensão específica por 30 se- gundos, e após isto mantendo por 150 segundos. A espessura da película resultante foi medida. Tal procedimento foi conduzido por 150 V, 200 V, e 250 V. Assim, a tensão para fornecer uma espessura de película de 20 pm deri- vou da fórmula de relação entre a tensão determinada e a espessura da pe- lícula.

Aparência do Revestimento

A placa de teste foi submetida ao revestimento de eletrodeposi- ção catiônica e a aparência da película de revestimento de eletrodeposição resultante foi avaliada de acordo com o padrão que se segue. Os resultados são mostrados nas Tabelas 5 a 8.

A: obtida película revestida uniformemente

B: obtida película quase uniformemente revestida C: obtida película quase não-uniformemente revestida D: obtida película não-uniformemente revestida Teste de Adesão Secundária (SDT)

Após formação de uma película de revestimento de eletrodepo-

sição de 20 pm, as placas de teste sofreram incisões para prover duas linhas de corte paralelas que correram paralelamente, com a profundidade de al- cance do material de base metálica e então foram imersas em uma solução aquosa de cloreto de sódio a 5% a 55°C por 240 horas. Após lavagem com 20 água e secagem ao ar, uma fita adesiva "L-PACK LP-24" (marca registrada, fabricada pela Nichiban Co., Ltd.) foi aderida à porção incluindo os cortes. Então, a fita adesiva foi retirada abruptamente. A largura máxima (um lado) do revestimento aderido à fita adesiva retirada foi medida.

A: 0 mm

B: inferior a 2 mm

C: pelo menos 2 mm a menos de 5 mm

D: não-inferior a 5 mmTeste de Corrosão em Ciclo (CCT)

Após formação da película de revestimento de eletrodeposição de 20 pm sobre a placa de teste, a borda e face posterior foram vedadas com uma fita, desta forma provendo cortes transversais que alcançaram o material de base metálica. Uma solução aquosa de cloreto de sódio a 5% incubada a 35°C foi aspergida continuamente por 2 horas sobre esta amos- tra no aparelho para teste de aspersão de sal mantida a 35°C e com a umi- dade de 95%. Subsequentemente, a mesma foi seca sob condições de 60°C e com uma umidade de 20 a 30% por 4 horas. Tal seqüência de procedimen- tos repetida três vezes em 24 horas foi definida como um ciclo e 200 ciclos 5 foram realizados. Após isto, a largura da porção intumescida da película re- vestida (ambos os lados) foi medida.

A: inferior a 6 mm

B: pelo menos 6 mm a menos de a 8 mm

C: pelo menos 8 mm a menos de a 10 mm D: não-inferior a 10 mm

Teste de Aspersão de Sal (SST)

Após formação da película de revestimento de eletrodeposição de 20 pm sobre a placa de teste, a borda e face posterior foram vedadas com uma fita, desta forma provendo cortes transversais que alcançaram o 15 material de base metálica. Uma solução aquosa de cloreto de sódio a 5% incubada a 35°C foi aspergida continuamente por 840 horas sobre esta a- mostra no aparelho para teste de aspersão de sal mantida a 35°C e com a umidade de 95%. Após lavagem com água e secagem ao ar, uma fita adesi- va "L-PACK LP-24" (marca registrada, fabricada pela Nichiban Co., Ltd.) foi 20 aderida à porção incluindo os cortes. Então, a fita adesiva foi retirada rapi- damente. A largura máxima (um lado) do revestimento aderido à fita adesiva retirada foi medida.

A: inferior a 2 mm

B: pelo menos 2 mm a menos de a 5 mm C: não-inferior a 5 mm

Os resultados de avaliação são resumidos nas Tabelas 5 a 8. Tabela 5 Teor do elemento Prevenção de Observação Poder do arremesso (%) Diferença na tenção Aparência do SDT CCT SST Zr SI Sn Cu 21OV 160 V Exemplo 1 45 22 A B 60% 52% 30 A B A Exemplo 2 51 3,3 13 A B 57% 25% 40 B A B A Exemplo 3 44 24 A B 57% 44% 40 A B B A Exemplo 4 55 16 8 A B 58% 51% 40 A A A A Exemplo 5 46 6,2 27 11 A B 61% 55% 20 A A A A Exemplo 6 42 3,5 19 A B 57% 47% 40 A A B A Exemplo 7 56 3,7 15 - A B 53% 42% 30 B A B A Exemplo 8 62 4,1 12 - A C 51% 39% 30 B A B A Exemplo 9 41 2,3 16 - A B 53% 41% 30 B B B A Exemplo 10 72 2,4 15 - A C 54% 43% 30 B A B A Exemplo 11 62 2,4 15 - A C 53% 43% 30 B B B A Exemplo 12 75 3,2 10 - A C 49% 40% 30 B A A A Exemplo 13 32 2,1 31 - A B 59% 51% 20 B B B A Exemplo 14 52 2,5 12 - A B 58% 30% 40 B A B A Exemplo 15 38 2,3 18 A B 59% 48% 20 B B B A Exemplo 16 31 2,1 23 A B 62% 50% 20 B B B A Exemplo 17 55 3 22 A B 59% 50% 20 A A B A Exemplo 18 51 3,3 19 A A 56% 51% 30 A B B A Exemplo 19 44 2,5 23 A B 56% 49% 30 A A B A Exemplo 20 48 4,8 22 6 A A 58% 52% 20 A B A A cn Tabela 5 - continuação Exemplo 21 28 1,8 21 A B 52% 44% 30 B B B A Exemplo 22 63 4,2 28 A B 55% 49% 30 B B B A Exemplo 23 44 2,9 26 A B 60% 43% 30 B B B A Exemplo 24 77 5,1 31 A B 52% 52% 20 B A A A Exemplo 25 34 2,6 26 A B 51% 41% 30 B B B A Exemplo 26 42 2,6 27 A B 62% 48% 20 B B B A Exemplo 27 38 2,7 18 A B 52% 29% 40 B B B A Exemplo 28 38 3,5 21 A B 53% 36% 30 B B B A Exemplo 29 41 3 26 A B 55% 42% 30 B B B A Exemplo 30 44 3 22 A B 58% 41% 30 B A A A Exemplo 31 47 3,5 25 A B 57% 48% 20 B A A A Exemplo com¬ 52 3,5 B B 21% 12% 80 C B C A parativo 1 Exemplo com¬ 55 3,3 B B 36% 15% 50 B D C B parativo 2 Exemplo com¬ 5,2 0,1 38 A B 60% 55% 30 B D D C parativo 3 Exemplo com¬ 1,2 0,1 0,2 C D 57% 45% 30 B D D C parativo 4 Exemplo com¬ 0 0 0 C 38% B D D C parativo 5 ■ts·

σ> Tabela 6 Teor do elemento Prevenção de Observação Poder do arremesso (%) Diferença na tenção Aparência do SDT CCT SST Zr Si Sn Cu 21OV 160V Exemplo 32 42 3,2 18 A B 6900% 6100% 10 A A A A Exemplo 33 45 3,3 16 A B 6200% 5700% 20 A A A A Exemplo 34 41 3 15 A B 6200% 5500% 20 A A A A Exemplo 35 38 2,9 16 A B 6400% 5100% 30 A A A A Exemplo 36 44 3,1 19 A B 6100% 5300% 30 A A A A Exemplo 37 51 3,6 21 A B 5900% 5200% 30 A A A A Exemplo 38 48 3,5 16 A B 6000% 4700% 30 A A A A Exemplo 39 42 32 22 A B 6000% 4600% 20 A A A A Exemplo 4 0 55 3,8 18 8 A B 6900% 6200% 10 A A A A Exemplo 41 48 18 8 A B 6800% 6500% 10 A A A A Exemplo 42 41 16 A B 6500% 6000% 20 A B B A Exemplo 43 52 17 7 A B 6500% 6000% 20 A B A A Exemplo 44 43 18 A B 6200% 5500% 30 A B B A Exemplo 4 5 55 18 9 A B 6000% 5600% 30 A B A A Exemplo 4 6 43 16 A B 5900% 5300% 30 A B B A Exemplo 47 56 20 6 A B 6100% 4900% 30 A B A A Exemplo 4 8 45 19 A B 6200% 4700% 30 A B B A Exemplo 4 9 56 17 7 A B 5800% 4400% 40 A B A A Exemplo 50 41 16 A B 5800% 4500% 40 A B B A ■vl Tabela 7 Teor do elemento Prevenção de Observação Poder do arremesso (%) Diferença na tenção Aparência do SDT CCT SST Zr SI Sn Cu 21OV 160V Exemplo 51 91 5,7 19 A B 6200% 5500% 30 A A A A Exemplo 52 75 5,1 21 A B 5700% 5000% 30 A A A A Exemplo 53 81 5,3 18 A B 5600% 5100% 30 A A A A Exemplo 54 88 5,7 14 A B 5900% 4700% 30 A A A A Exemplo 55 72 4,8 17 A B 6000% 5000% 30 A A A A Exemplo 56 72 18 6 A B 5900% 5100% 20 A B B A Exemplo 57 85 21 A B 5700% 4800% 30 A B B A Exemplo 58 91 20 7 A B 5900% 5100% 20 A B B A Exemplo 59 94 18 A B 6000% 5200% 30 A B B A Exemplo 60 44 3,2 15 A B 6200% 5500% 30 A A A A Exemplo 61 46 3,1 19 A B 6100% 5100% 30 A A A A Exemplo 62 49 3,6 18 A B 6000% 5300% 30 A A A A Exemplo 63 38 3 20 A B 6500% 5700% 20 A A A A Exemplo 64 44 3,2 16 A B 6600% 5500% 20 A A A A Exemplo 65 41 3,5 17 A B 6100% 5800% 20 A A A A Exemplo 6 6 49 3,2 16 A B 6200% 5500% 30 A A A A Exemplo 67 41 3,2 15 7 A B 6800% 5900% 20 A A A A Exemplo 68 51 18 7 A B 5900% 5300% 30 A B A A Exemplo 69 52 18 5 A B 6300% 5100% 30 A B A A CO Tabela 7 - continuação Exemplo 7 0 48 19 9 A B 6100% 5300% 30 A B A A Exemplo 71 55 n 6 A B 6500% 5500% 30 A B A A Exemplo 72 43 16 10 A B 6200% 5800% 20 A B A A Exemplo 7 3 49 20 7 A B 6600% 5400% 20 A B A A Exemplo 74 52 17 5 A B 6200% 5200% 30 A B A A Exemplo 75 67 4,7 18 A B 5900% 5200% 30 A A A A Exemplo 76 54 3,2 16 A B 6200% 5800% 20 A A A A Exemplo 77 48 2,8 17 A B 5900% 5000% 30 A A A A Exemplo com¬ 58 4,2 B B 2200% 1000% 80 C B D B parativo 6 ■ϋ»

CD Tabela 8 Teor do elemento Prevenção de Observação Poder do arremesso (%) Diferença na tenção Aparência do SDT CCT SST Zr SI Sn Cu 21OV 160V Exemplo 7 8 55 13 A B 5800* 5000% 40 B C B B Exemplo 7 9 44 24 A B 58001 2500% 40 B C B B Exemplo 80 49 21 A B 6900% 5500% 30 A C A B Exemplo 81 45 18 a B 5900% 5000% 20 A C A B Exemplo 82 38 26 A B 6000% 5000% 20 A C A B Exemplo 83 45 9 A B 5900% 5100% 20 A C A B Exemplo 84 51 18 A B 5800% 5200% 20 A C A B Exemplo 85 43 21 A B 6000% 5400% 20 A C A B Exemplo 86 18 A B 6100% 5300% 10 A C A B Exemplo 87 47 23 A B 5900% 5100% 10 A C A B Exemplo 88 32 33 A B 6000% 5300% 20 A C A B Exemplo 89 52 12 A B 6100% 5300% 20 A C A B Exemplo 90 42 21 A B 6000% 5100% 20 A C A B Exemplo 91 36 28 A B 5900% 5300% 20 A C A B Exemplo 92 50 22 A B 6000% 5100% 30 A C B B Exemplo 93 50 24 A A 5500% 4800% 30 B C B B Exemplo 94 46 26 A B 5800% 4900% 30 B C B B Exemplo 95 46 15 A A 6000% 5100% 20 A C A B Exemplo 96 30 21 A B 5600% 4800% 40 B C B B Ol

ο Tabela 5 - continuação Exemplo 97 65 26 A B 5700% 4700% 30 A C B B Exemplo 98 42 19 A B 5300% 5000% 30 A C B B Exemplo 99 72 21 A B 5200% 4900% 30 A C B B Exemplo 100 33 10 A B 5600% 3200% 40 B C B B Exemplo 101 43 22 A B 5200% 5200% 20 A C B B Exemplo 102 40 24 A B 5800% 4200% 20 A C B B Exemplo 103 43 16 A B 5700% 4800% 30 B C B B Exemplo 104 41 17 A B 5400% 3400% 30 A C B B Exemplo 105 40 21 A B 5700% 3300% 30 A C B B Exemplo 106 40 11 A B 5500% 4500% 30 A C B B APLICABILIDADE INDUSTRIAL

O líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica da presente invenção se aplica aos ma- teriais de base metálica, tais como, chassis de automóveis e peças a serem submetidas à eletrodeposição catiônica

Claims

1. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica compreendendo íons zircônio e íons de estanho e possuindo um pH de 1,5 a 6,5, onde: uma concentração de íons zircônio está na faixa de 10 a 10.000 ppm; e uma taxa de concentração de íons de estanho para íons zircônio está na faixa de 0,005 a 1 com base no peso.

2. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com a reivindicação 1, com- preendendo, adicionalmente, um composto poliamina.

3. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com a reivindicação 1 ou 2, compreendendo, adicionalmente, íons de cobre.

4. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com qualquer uma das reivin- dicações 1 a 3, compreendendo, adicionalmente, íons de flúor, onde a quan- tidade de íons de flúor livres a um pH de 3,0 está na faixa de 0,1 a 50 ppm.

5. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com qualquer uma das reivin- dicações 1 a 4, compreendendo, adicionalmente, um composto quelato.

6. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com a reivindicação 5, onde o composto quelato é ácido sulfônico.

7. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com qualquer uma das reivin- dicações 1 a 6, compreendendo, adicionalmente, um agente oxidante.

8. Líquido para tratamento de superfície metálica para revesti- mento de eletrodeposição catiônica de acordo com qualquer uma das reivin- dicações 1 a 7, compreendendo, adicionalmente, pelo menos um íon sele- cionado do grupo consistindo em íons de alumínio e íons de índio.

9. Método para tratamento de superfície metálica compreenden- do uma etapa de sujeição de um material de base metálica a um tratamento de superfície com o líquido para tratamento de superfície metálica para re- vestimento de eletrodeposição catiônica como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 8.

10. Material de base metálica compreendendo uma película de revestimento formada por um tratamento de superfície obtido pelo método como definido na reivindicação 9.

11. Material de base metálica como definido na reivindicação 10, onde uma taxa elementar de zircônio/estanho com base no peso da película de revestimento está na faixa de 1/10 a 10/1.

12. Método de revestimento de eletrodeposição catiônica com- preendendo as etapas de: sujeição de urin material de base metálica a um tratamento de superfície com o líquido para tratamento de superfície metálica como defini- do na qualquer uma das reivindicações 1 a 8; e sujeição do material de base metálica tratado na superfície ao revestimento de eletrodeposição catiônica.

13. Material de base metálica revestido por eletrodeposição ca- tiônica obtido pelo método de acordo com a reivindicação 12.