BRPI0610365A2 - dispositivo e método para encher de gás um duto em um recipiente - Google Patents

Abstract

A presente invenção refere-se a um dispositivo para encher de gás um duto (7) em um recipiente (1) de um tipo retrátil, o dito duto (7) sendo definido por uma primeira e uma segunda paredes laterais (2) do recipiente (1), as paredes laterais (2) sendo ligadas ao longo de uma porção de conexão comum (4), e o dito duto (7) compreendendo uma entrada (15) disposta na primeira parede lateral (2). O dispositivo compreende um ponto de apoio (21) e um módulo de gás (26) com uma saída (28), que é disposta em uma superfície do módulo de gás (26) virada para o ponto de apoio (21), e um meio de fixação (29) disposto fora da saída (28), cujo meio de fixação (29) é aplicável ao ponto de apoio (21) para fixar o recipiente (1), e cuja saída (28), em conexão com a fixação do recipiente (1), é aplicável à dita entrada (15) para suprimento de gás para o duto (7) do recipiente. O dispositivo é caracterizado por uma ranhura (30) formada na dita superfície do módulo de gás (26), cuja ranhura circunda a saída (28) e é posicionada radialmente dentro do dito meio de fixação (29), a dita ranhura (30) sendo disposta para impedir, quando do suprimento de gás para o duto (7) a ser enchido com gás, a formação de uma pressão acima da atmosférica no lado, virado para o módulo de gás, da primeira parede lateral (2) que circunda a dita entrada (15). A invenção também refere-se a um método para encher tal duto com gás.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "DISPOSITIVOE MÉTODO PARA ENCHER DE GÁS UM DUTO EM UM RECIPIENTE".

CAMPO TÉCNICO

A presente invenção refere-se a um dispositivo para encher degás um duto em um recipiente de um tipo retrátil, o dito duto sendo definidopor uma primeira e uma segunda paredes laterais do recipiente, as paredeslaterais sendo ligadas ao longo de uma porção de conexão comum, o ditoduto compreendendo uma entrada disposta na primeira parede lateral. Ainvenção também se refere a um método para encher tal duto com gás.

ANTECEDENTES DA TÉCNICA

Há muito se conhece o uso de recipientes de um tipo retrátil. Osconteúdos podem estar tanto na forma líquida como na forma em pó.

O termo "recipiente de um tipo retrátil" indica o tipo de recipienteque consiste em paredes flexíveis finas que são ligadas em porções de co-nexão para definir um compartimento. O volume do compartimento dependeda relativa distância entre as paredes, o que significa que o volume dependeda taxa de enchimento do recipiente. Este tipo de recipiente pode ter inúme-ros tipos de cabos diferentes, por exemplo, cabos enchidos de gás para umamelhor agarrabilidade.

Recipientes de um tipo retrátil são, via de regra, enchidos atra-vés de um duto/abertura que são definidos por duas paredes opostas do re-cipiente. Tal enchimento ocorre com o recipiente em uma posição vertical,em cujo caso o bocal de enchimento pode atuar essencialmente na direçãovertical e ser introduzido no duto entre as duas paredes. Este é um métodoque é bem-estabelecido e que funciona bem quando do suprimento de flui-dos na forma líquida. O mesmo método, entretanto, causa problemas quan-do do suprimento de fluidos na forma gasosa devido às dificuldades na pro-visão de uma vedação estanque ao gás em torno do bocal enquanto do su-primento do gás. Problemas adicionais surgirão quando o duto enchido degás for vedado.

Uma solução para estes problemas é a de que o duto seja en-chido com gás através de uma válvula integrada no recipiente. Esta técnicaapresenta um custo muito elevado de aplicação a recipientes produzidos emmassa, tais como recipientes para alimentos, onde o duto deve ser enchidoapenas uma vez.

Em WO2005/030599 são descritos um método e um dispositivopara encher de gás e vedar um duto a ser enchido com gás e posicionadoem um recipiente de um tipo retrátil, onde o duto apresenta uma entrada dis-posta em uma de suas paredes laterais. Durante o enchimento com gás,essa parte do recipiente que compreende a entrada é presa entre um pontode apoio e um módulo de gás que é axialmente móvel na direção do pontode apoio de tal maneira que uma das paredes laterais incluídas no duto pos-sa ser abaulada para formar uma passagem livre no duto, em resposta a umfluxo de gás suprido do módulo de gás. Depois do término do enchimento degás, o duto é vedado. Entretanto, é difícil assegurar uma correta taxa de en-chimento dos dutos, isto é, uma pressão repetível e suficientemente alta,uma vez que é difícil vedar a entrada durante o enchimento. Isto pode sercompensado com uma pressão acima da atmosférica da fonte usada de arcomprimido com base na perda de pressão estimada devido ao vazamento.Entretanto, a repetitividade é insuficiente, o que resulta no enchimento insu-ficiente de alguns dutos, ao passo que outros são enchidos a ponto de se-rem rompidos.

Portanto, há necessidade de um método e um dispositivo paraencher de gás tais dutos em recipientes retrateis, independentemente dafinalidade dos dutos enchidos de gás, nos quais a repetitividade necessáriaé assegurada.

OBJETIVOS DA PRESENTE INVENÇÃO

O objetivo da presente invenção é o de prover um dispositivo eum método para encher de gás dutos de recipientes de um tipo retrátil.

O método e o dispositivo devem ser fáceis de serem usados epermitir uma alta taxa de produção e uma grande confiabilidade.

O método e o dispositivo devem ser dispostos de modo que ne-nhum material novo ou componentes na forma de, por exemplo, válvulas deretenção, tenham de ser acrescentados à peça bruta do recipiente ou aorecipiente.

O método e o dispositivo devem também ser aplicáveis a umapeça bruta do recipiente.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

Para se atingir pelo menos um dos objetivos acima e tambémoutros objetivos que se tornarão evidentes a partir da seguinte descrição, umdispositivo e um método apresentando as características mencionadas nasreivindicações de 1 a 10 são providos de acordo com a presente invenção.

Mais especificamente, é provido um dispositivo para encher degás um duto em um recipiente de um tipo retrátil, o dito duto sendo definidopor uma primeira e uma segunda paredes laterais do recipiente, as paredeslaterais sendo ligadas entre si ao longo de uma porção de conexão comum,e o dito duto compreendendo uma entrada disposta na primeira parede late-ral, o dito dispositivo compreendendo um ponto de apoio e um módulo degás com uma saída, que é disposta em uma superfície do módulo de gásvirado para o ponto de apoio, um meio de fixação disposto fora da saída,cujo meio de fixação é aplicável ao ponto de apoio para fixar o recipiente, ecuja saída, em conexão com a fixação do recipiente, é aplicável à dita entra-da para suprimento de gás ao duto do recipiente. O dispositivo é caracteri-zado por uma ranhura formada na dita superfície do módulo de gás, cujaranhura circunda a saída e é posicionada radialmente dentro do dito meio defixação, a dita ranhura sendo disposta para impedir, quando do suprimentode gás ao duto a ser enchido com gás, a formação de uma pressão acimada atmosférica no lado, virado para o módulo de gás, da dita primeira paredelateral que circunda a dita entrada.

Um dispositivo de acordo com a invenção assegura, quando dosuprimento de gás ao duto a ser enchido com gás, devido à prevenção daformação de uma pressão acima da atmosférica no lado, virado para o mó-dulo de gás, da dita primeira parede lateral que encerra a dita entrada, isto é,no lado superior da primeira parede lateral, que a dita primeira parede lateralpode assumir uma posição separada com relação à segunda parede lateral.Isto significa que o duto é aberto, eliminando assim, ou pelo menos minimi-zando, o vazamento de gás em conexão com o enchimento de gás. Isto as-segura uma repetitividade muito alta referente à pressão final do gás em umduto enchido de gás e vedado. Com o uso do dispositivo, a economia deprodução será aumentada por causa de menos refugos.

A construção do dispositivo é muito simples. O módulo de gáspermite a mesma direção de trabalho para todas as funções, isto é, a reten-ção do recipiente, o enchimento de seu duto com gás, e a subseqüente ve-dação. Além disso, o dispositivo não exige nenhum meio extra no recipientena forma de válvulas de retenção, por exemplo. O dispositivo é aplicável arecipientes, bem como a peças em bruto de recipiente.

Um duto pode ser formado no dito módulo de gás, através decujo duto a dita ranhura se comunica com o ambiente. Portanto, é facilmenteconseguido que a ranhura atue para impedir a formação de uma pressãoacima da atmosférica no lado superior da primeira parede lateral.

O ponto de apoio do dispositivo pode ter um rebaixo para permi-tir o abaulamento da segunda parede lateral para prover uma passagem pa-ra o duto a ser enchido com gás, quando a dita saída em conexão com afixação do recipiente for aplicada à dita entrada para suprimento de gás parao duto do recipiente.

O rebaixo no ponto de apoio pode ter tal extensão que, quandoda fixação do recipiente entre o meio de fixação e o ponto de apoio, ele seestenda além do dito meio de fixação. Tal extensão pode ser provida paradar estabilidade extra e orientação do recipiente enquanto está preso, masacima de tudo para impedir que a fixação ponha em risco a passagem livrepara o duto.

O módulo de gás pode ser axialmente aplicável ao ponto de a-poio para prover a dita fixação do recipiente.

O dispositivo pode adicionalmente compreender um meio de ve-dação que é adaptado para desconectar, por meio de vedação, a entrada doduto depois do enchimento do duto com gás. Com um meio de vedação, ne-nhuma válvula ou dispositivo especial é exigido para assegurar uma veda-ção estanque ao gás do duto, e, em particular, nenhuma aplicação extra decusto elevado no recipiente.

O meio de vedação pode compreender uma garra de aqueci-mento disposta fora do ponto de apoio e um mandril disposto no lado de forado módulo de gás, o dito mandril sendo engatável com a dita garra de aque-cimento. Com esta posição fora do módulo de gás e do ponto de apoio, res-pectivamente, o meio de vedação pode ser facilmente sincronizado com omovimento do módulo de gás.

O ponto de apoio pode ser formado de um material com baixacondutividade térmica. Além disso, o ponto de apoio pode compreender ummeio de resfriamento, em particular, se o ponto de apoio for circundado poruma garra de aquecimento. Isto elimina o risco de o ponto de apoio atingir taltemperatura em que o material de recipiente é termicamente afetado e pro-porcione uma ligação descontrolada do material de recipiente.

De acordo com outro aspecto, a invenção se refere a um métodopara encher de gás um duto em um recipiente de um tipo retrátil, o dito dutosendo definido por uma primeira e uma segunda paredes laterais do recipi-ente, cujas paredes laterais são ligadas ao longo de uma porção de conexãocomum, e o dito duto compreendendo uma entrada disposta na primeira pa-rede lateral. O método compreende as etapas de fixar o recipiente entre umponto de apoio e um módulo de gás que é axialmente móvel na direção doponto de apoio, em cuja fixação a primeira parede lateral compreendendo adita entrada é posicionada de tal maneira com relação a uma ranhura forma-da no módulo de gás em uma superfície virada para o ponto de apoio que aranhura circunde a dita entrada, e a segunda parede lateral pode ser abau-lada em resposta a um fluxo de gás suprido para o duto através da dita en-trada para formar uma passagem para encher a mesma com gás, de conec-tar a dita ranhura com o ambiente, de suprir através dê uma saída no módu-lo de gás um fluxo de gás no dito duto através da dita entrada, por meio doque a ranhura conectada com o ambiente impede a formação de uma pres-são acima da atmosférica no lado, virado para o módulo de gás, da dita pri-meira parede lateral que circunda a dita entrada, e de vedar o duto, depoisdo término do enchimento de gás.O método de acordo com a invenção assegura, devido à pre-venção da formação de uma pressão acima da atmosférica no lado superiorda primeira parede lateral, conforme descrito acima, que o duto seja abertoquando for suprido gás, eliminando assim ou pelo menos minimizando assimo vazamento de gás. Isto assegura uma repetitividade muito alta com rela-ção à pressão de gás final em um duto enchido com gás e vedado. Com ométodo, a economia de produção será aumentada devido a uma menorquantidade de refugo.

A fixação do recipiente pode ser provida por um meio de fixaçãodisposto fora da saída.

O duto pode ser enchido em uma pressão acima da atmosféricana faixa de 100-300 kPa (1-3 bar). Será apreciado que a pressão seja sele-cionada com base na função e na rigidez desejada do duto.

Depois do término do enchimento de gás, o duto é vantajosa-mente vedado pela aplicação de calor e pressão. O duto pode ser vedadopor um meio de vedação que compreende um mandril disposto fora do mó-dulo de gás e uma garra de aquecimento disposta fora do ponto de apoio,cuja garra de aquecimento em vedação engata axialmente o dito mandril.

Para facilitar a separação das paredes laterais, quando do en-chimento do duto com gás, e para facilitar o abaulamento da segunda pare-de lateral, a segunda parede lateral, em sua superfície que em fixação podeser abaulada, é vantajosamente provida com um relevo.

DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

A invenção será agora descrita em maiores detalhes por meio deexemplo e com referência aos desenhos anexos que ilustram concretizaçõesatualmente preferidas do dispositivo, do método, de uma peça bruta do reci-piente e de um recipiente formado da mesma.

A Figura 1 mostra um exemplo de um recipiente de um tipo re-trátil que compreende um duto de formação de cabo enchido de gás.

A Figura 2 mostra uma peça bruta do recipiente que correspon-de ao recipiente mostrado na Figura 1.

A Figura 3 é uma vista em seção transversal esquemática dodispositivo da invenção.

A Figura 4 ilustra um ponto de apoio de acordo com a invenção.

A Figura 5 ilustra um recipiente que é preso entre um módulo degás e um ponto de apoio quando do enchimento do duto com gás.

As Figuras 6a-6f ilustram esquematicamente o processo de en-chimento de gás e de vedação de um duto de acordo com o dispositivo e ométodo da invenção.

DESCRIÇÃO TÉCNICA

Com referência à Figura 1, é mostrado um exemplo de um reci-piente retrátil 1, ao qual foram aplicados os presentes dispositivo e método.

O recipiente se destina especialmente a produtos alimentícioslíquidos, mas pode, naturalmente, servir também para produtos em algumaoutra forma ou para outras finalidades.

O recipiente compreende três paredes flexíveis, duas das quaisconstituem paredes laterais 2 e a terceira constitui uma parede inferior 3. Asparedes são ligadas ao longo de porções de conexão 4 para definir um com-partimento 5. As paredes 2, 3 são formadas de um material dobrável e flexí-vel, o que significa que o volume do compartimento 5 depende da relativadistância entre as paredes 2, 3. O volume do compartimento 5 é assim dire-tamente dependente da taxa de enchimento do recipiente 1. Em outras pala-vras, o recipiente é de um tipo retrátil.

Um cabo 6 é disposto na porção de conexão 4 na extremidadetraseira do recipiente 1. O cabo 6 consiste em um duto enchido de gás 7 que /é definido pela porção de conexão 4 e pelas paredes laterais 2 do recipiente1.0 termo "gás" indica preferivelmente ar, mas, podem também ser natu-ralmente usados outros gases ou mesmo líquidos. O cabo 6 apresenta talgeometria e taxa de enchimento de modo a formar um friso de agarre fácil. Ocabo 6 também promove através de sua geometria e enchimento de gásuma rigidez considerável do recipiente 1.

Geralmente, é desejável que o material selecionado do recipien-te consista de um laminado que compreende uma camada de núcleo de en-chimento à base de mineral e um aglutinante de poliolefina. Será apreciadotambém o possível uso de outros materiais.

Com referência à Figura 2, é ilustrada uma peça bruta do recipi-ente 10 correspondendo ao recipiente 1 mostrado na Figura 1.

Na extremidade traseira da peça bruta do recipiente 10, é mos-trado o duto de formação de cabo 7 a ser enchido com gás. Na concretiza-ção ilustrada, o duto 7 é dividido em três segmentos, todos se comunicandoentre si. O primeiro segmento 12 é adaptado para formar o efetivo cabo 6. Oprimeiro segmento 12 é, portanto, o segmento que confere ao recipientecompletado a função desejada, se, como no exemplo mostrado e descrito,ele consistir em um cabo ou prover alguma outra função, tal como um efeitode enrijecimento. Um segundo segmento 13 é diretamente conectado aoprimeiro segmento 12 e constitui um duto estreito que será descrito abaixo.Um terceiro segmento 14 é diretamente conectado ao segundo segmento13. O terceiro segmento 14 consiste em sua forma mais simples de uma á-rea com um orifício 15 em uma parede lateral 2. O orifício 15 constitui umaentrada 15 para o duto 7, através de cuja entrada o duto se comunica com oambiente antes de ser enchido com gás e ser vedado. Na descrição do dis-positivo e do método, a seguir, é usado o termo "superfície livre" 16. Estetermo indica a superfície do terceiro segmento 14 que compreende a entrada15 e que é definida pela porção de conexão 17 em torno do terceiro segmen-to 14.

A segunda parede lateral do terceiro segmento vantajosamenteexibe um relevo (não mostrado). A finalidade deste relevo será descrita a-baixo.

Conforme mencionado acima, o segundo segmento 13 consisteem um duto estreito. Sua função principal é a de formar uma superfície so-bre a qual pode ser disposto um meio para vedar o duto 7 depois do términodo enchimento de gás. A área de seção transversal do segundo segmento13 é substancialmente menor do que a área de seção transversal do primei-ro segmento 12. O termo "área de seção transversal", neste caso, indica aárea de superfície que as paredes laterais podem formar entre elas transver-salmente à direção longitudinal do duto. Esta diferença na área de seçãotransversal indica que a pressão de gás em um duto enchido dé gás e veda-do 7 é capaz de expandir o primeiro segmento 12 com relação ao volumeexigido, mas não o segundo segmento 13. Desse modo, o segundo segmen-to 13 irá constituir uma superfície substancialmente plana também quando oduto 7 for enchido com gás. A vedação do duto 7 transversalmente ao se-gundo segmento 13 pode ser assim executada sem ter que primeiro expeliruma quantidade considerável de gás antes que as duas paredes laterais o-postas 2 que definem o duto 7 possam ser trazidas para contato mútuo paravedação. Para se conseguir este efeito, a taxa da área de seção transversaldo segundo segmento 13 àquela do primeiro segmento 12 deve ser pelomenos de 1:150 em uma geometria circular em seção transversal. Entretan-to, será apreciado que o duto 7 pode ter outras formas e ser vedado de ou-tras maneiras.

A seguir, o dispositivo que se destina a encher o duto acimadescrito com gás será descrito com referência à Figura 3. O dispositivo podeconstituir um módulo no equipamento (não mostrado) que é usado para fa-bricar um recipiente completo a partir de uma peça bruta do recipiente. Odispositivo será descrito em relação a um recipiente. Entretanto, será apreci-ado que o dispositivo possa também ser usado em uma peça bruta do reci-piente.

O dispositivo 20 compreende um ponto de apoio 21 que, em suasuperfície superior 22, apresenta um rebaixo 23, vide as Figuras 3 e 4. Orebaixo 23 apresenta uma geometria que corresponde ao terceiro e ao se-gundo segmentos, 14 e 13, acima descritos do duto 7. Na concretização ilus-trada, o rebaixo 23 apresenta uma primeira porção circular 24 e uma segun-da porção 25 que apresenta uma extensão radial com relação à primeiraporção 24 que coincide com a extensão do segundo segmento 13 do duto 7.A segunda porção 25 do rebaixo 23 é, contudo, mais larga do que o segundosegmento 13 do duto 7.

Embora o rebaixo 23 seja ilustrado com uma geometria na formade copo na superfície 22 do ponto de apoio 21, ele pode ser formado comoum rebaixo que se estende através de toda a espessura do ponto de apoio.O rebaixo é preferivelmente provido com raios suaves para impedir que omaterial de recipiente seja danificado.

O ponto de apoio 21 deve ser formado de um material com baixacondutividade térmica, por exemplo, fibra de vidro isolada. O termo "baixacondutividade térmica" indica aqui que o ponto de apoio, mesmo que ele se-ja circundado por uma garra de aquecimento que apresenta uma temperatu-ra suficientemente alta para fusão do material usado no recipiente, apresen-ta uma temperatura que impede a fusão de um material de recipiente que écontíguo ao ponto de apoio.

O ponto de apoio pode também compreender um meio de esfri-amento (não mostrado) para assegurar uma temperatura adequada.

Com referência uma vez mais à Figura 3, o dispositivo 20 adi-cionalmente compreende um módulo de gás 26 que é axialmente móvel nadireção do ponto de apoio 21 para fixar o recipiente entre o ponto de apoio21 e o módulo de gás 26. Durante a fixação, o recipiente é orientado comrelação ao ponto de apoio, de modo que o segundo segmento do duto sejadisposto sobre a segunda porção do rebaixo e o terceiro segmento do dutoseja disposto sobre a primeira porção do rebaixo.

O módulo de gás 26 apresenta um primeiro duto axial 27 parasuprimento de gás. O duto 27 se abre em sua extremidade inferior viradapara o ponto de apoio 21 para uma saída 28. A saída 28 é preferivelmentecircular na seção transversal. O duto 27 é, em sua outra extremidade, conec-tado a uma fonte de ar comprimento (não mostrada).

O módulo de gás 26 adicionalmente apresenta um meio de fixa-ção 29 que é disposto na superfície do módulo de gás 26 que está viradapara o ponto de apoio 21. O meio de fixação 29 pode consistir em um anelem O de um material flexível que é disposto em uma ranhura na dita superfí-cie. Contudo, o meio de fixação pode também ser projetado de outras ma-neiras, por exemplo, na forma de um ressalto formado em uma peça com omódulo de gás. Durante a fixação, o meio de fixação 29 é adaptado paraatuar sobre uma superfície do ponto de apoio 26 que está radialmente forado rebaixo 23. Será apreciada a não existência de nenhum efeito de fixaçãona área acima da segunda porção do rebaixo.

O módulo de gás 26 apresenta também na mesma superfície,radialmente dentro do meio de fixação 29, uma ranhura 30 que circunda asaída 28. A ranhura 30 é disposta de tal maneira com relação à primeiraporção 24 do rebaixo 23 do ponto de apoio 21 que a ranhura 30, vista noplano mostrado na Figura 3, fique posicionada radialmente dentro da linhade fronteira externa da primeira porção 24.

Com nova referência à Figura 3, a ranhura 30 se comunica como ambiente através de um segundo duto axial 33 que é formado no módulode gás 26.

Agora será feita referência à Figura 5 que mostra que a ranhura30, quando da fixação de um recipiente, é disposta em uma tal posição comrelação à entrada para o duto 7 do recipiente de modo que a ranhura 30 cir-cunde a entrada 15, mas ao mesmo tempo fique posicionada radialmentedentro da porção de conexão 17, vide Figura 1, do recipiente 1 que define oterceiro segmento de duto 14.

A posição da ranhura 30 com relação à entrada 15 indica que,quando um recipiente 1 for preso entre o ponto de apoio 21 e o módulo degás 26 e o gás for suprido através do duto 27, será impedida a formação deuma pressão acima da atmosférica no lado, virado para o módulo de gás, daprimeira parede lateral que circunda a dita entrada 15. A formação de umapressão acima da atmosférica é impedida mais especificamente pelo gásque pode, em uma maneira controlada, vazar para o ambiente através doduto 33, que será descrito em maiores detalhes abaixo.

Quando o duto 7 tiver sido enchido na pressão necessária, oduto será vedado. A vedação pode ocorrer de diversas maneiras. Uma solu-ção simples e preferida é a de usar um meio de vedação 34, vide Figura 3. Omeio de vedação 34 adequadamente compreende um mandril 35 e uma gar-ra de aquecimento 36. O mandril 35 é disposto para concentricamente cir-cundar o módulo de gás 26. O mandril 35 é adicionalmente disposto de mo-do a ficar virado para o ponto de apoio 21 e ser axialmente móvel na direçãodo mesmo para engate com a garra de aquecimento 36. O mandril 35 podeser projetado de diferentes maneiras, por exemplo, com um anel em O flexí-vel 37. Na operação do dispositivo, o mandril 35 é adaptado para formaruma superfície de ponto de apoio para uma projeção 38 da garra de aque-cimento 36. Na concretização mostrada, a garra de aquecimento 36 circundao ponto de apoio 21 concentricamente.

A garra de aquecimento 36 apresenta uma projeção 38, que a-presenta uma extensão que corresponde à superfície de vedação desejada39 do duto 7, vide Figura 1, que é a vedação que desconecta o primeirosegmento 12 do duto 7 do resto do duto 7. No caso mostrado, a projeçãoanular 38 apresenta uma superfície de vedação anular 39 em torno da en-trada 15 no terceiro segmento 14. A superfície de vedação 39 pode se es-tender também sobre parte do segundo segmento 13.

A função do dispositivo e, portanto, também do método, serádescrita, a seguir. Isto ocorre com referência às Figuras 6a-6f.

A partir da Figura 6a, um recipiente (1) é inserido entre o pontode apoio 21 e o módulo de gás 26. O recipiente é orientado (não mostrado)de modo que o segundo segmento do duto seja disposto sobre a segundaporção do rebaixo no ponto de apoio e o terceiro segmento do duto seja dis-posto sobre a primeira porção do rebaixo no ponto de apoio. O recipiente 1 éadicionalmente orientado de modo que a entrada 15 do duto 7 fique viradapara a saída 28 no módulo de gás 26.

Com referência à Figura 6b, o recipiente 1 é preso entre o pontode apoio 21 e o módulo de gás 26 com o módulo de gás 26 sendo movidoaxialmente para o ponto de apoio contra o ponto de apoio 21, por meio doque o meio de fixação 29 em cooperação com a superfície superior 22 doponto de apoio 21 atua para fixar o recipiente 1.

Subseqüentemente, com referência à Figura 6, a fonte de gás(não mostrada) é ativada, por meio do que o gás Pi é suprido para o duto 7através da entrada 15.

O suprimento de gás faz com que inicialmente a primeira e asegunda paredes laterais no terceiro segmento sejam abauladas no rebaixo23 no ponto de apoio 21. Contudo, a segunda parede lateral, que é a paredelateral inferior, é abaulada com relação uma extensão maior do que a primei-ra parede lateral. Para esta finalidade, a segunda parede lateral pode serprovida com um relevo, conforme será descrito baixo. O abaulamento dasegunda parede lateral é também provido pelo gás suprido que invade a su-perfície, exposta pela entrada 15, da segunda parede lateral. Desse modo, osuprimento de gás apresenta uma separação inicial das paredes laterais noterceiro segmento, que, por sua vez, resulta em uma pressão acima da at-mosférica que começa a ser formada no terceiro segmento entre as paredeslaterais. Conforme descrito acima, a ranhura é disposta para impedir a for-mação de uma pressão acima da atmosférica no lado, virado para o módulode gás, da primeira parede lateral que circunda a dita saída 15, isto é, nolado superior da primeira parede lateral. A flexibilidade da primeira paredelateral em combinação com a pressão acima da atmosférica que é formadano terceiro segmento resultará assim no endireitamento da primeira paredelateral, que é mostrado na Figura 6d e que, por sua vez, resulta na aberturado segundo segmento do duto, formando assim uma passagem livre para ogás suprido para o primeiro segmento do duto. Como resultado da ranhura30 que impede a formação de uma pressão acima da atmosférica no ladosuperior da primeira parede lateral, o suprimento de gás poderá assim ocor-rer em uma maneira controlada sem vazamento considerável. Será aprecia-da a ocorrência de um pequeno vazamento de gás antes de a primeira pare-de lateral ter sido endireitada, isto é, enquanto a ranhura atua para impedir aformação de uma pressão acima da atmosférica, mas o endireitamento daprimeira parede lateral ocorre imediatamente tão logo o gás seja acionado.

Com a segunda parede lateral 2 no terceiro segmento, isto é, aparede lateral em oposição à superfície livre 16, sendo ornada com relevo(não mostrado), o abaulamento bem como a separação das duas paredeslaterais 2 serão facilitados, quando do suprimento de gás. O relevo resultamais especificamente em uma ampliação da superfície local que promove oabaulamento.

O suprimento de gás Pi será terminado quando o duto 7 tiveralcançado uma pressão exigida. A pressão exigida poderá ser, por exemplo,de 100-300 kPa (1-3 bar) acima da pressão atmosférica. Depois, o duto 7será vedado, vide Figura 6e. A vedação é preferivelmente executada pelomandril 35 que é movido para o ponto de apoio contra a garra de aqueci-mento 36, formando assim uma superfície de vedação 39.

Finalmente, com referência à Figura 6f, o módulo de gás 26 e oponto de apoio 21 são separados. Ao mesmo tempo também o mandril 35 ea garra de aquecimento 36 são separados. Dessa forma, o recipiente 1 ficalivre para ser removido do dispositivo.

Na descrição acima, a fixação do recipiente ocorreu por meio deum movimento axial do módulo de gás, fixando assim o recipiente entre omeio de fixação do módulo de gás e o ponto de apoio. Será apreciada a fi-xação do recipiente em inúmeras maneiras diferentes.

Na descrição acima, o módulo de gás é axialmente móvel nadireção de um ponto de apoio fixamente disposto. Será apreciado que oprincípio inverso poderá ser aplicado, isto é, que o ponto de apoio é axial-mente móvel na direção de um módulo de gás fixamente disposto.

Na descrição, uma pressão acima da atmosférica de 100-300kPa (1 -3 bar) foi indicada como uma pressão de gás adequada. A pressãoacima da atmosférica depende do material do recipiente usado, especial-mente da espessura do mesmo.

Será apreciado que a presente invenção não é limitada às con-cretizações mostradas. Várias modificações e variantes são assim concebí-veis dentro do escopo da invenção que conseqüentemente é exclusivamentedefinida pelas reivindicações anexas.

Claims (15)

1. Dispositivo (20) para o enchimento de gás de um duto (7) emum recipiente (1) de um tipo retrátil, o dito duto (7) sendo definido por umaprimeira e uma segunda paredes laterais (2) do recipiente (1), as paredeslaterais (2) sendo ligadas ao longo de uma porção de conexão comum (4), eo dito duto (7) compreendendo uma entrada (15) disposta na primeira pare-de lateral (2), o dito dispositivo (20) compreendendo:um ponto de apoio (21), eum módulo de gás (26) com uma saída (28), que é disposta emuma superfície do módulo de gás (26) virada para o ponto de apoio (21), eum meio de fixação (29) disposto fora da saída (28),cujo meio de fixação (29) é aplicável ao ponto de apoio (21) parafixar o recipiente (1), ecuja saída (28), em conexão com a fixação do recipiente (1), éaplicável à dita entrada (15) para suprimento do gás ao duto (7) do recipiente,caracterizado pelo fato de queuma ranhura (30) formada na dita superfície do módulo de gás(26), cuja ranhura circunda a saída (28) e é posicionada radialmente dentrodo dito meio de fixação (29),a dita ranhura (30) sendo disposta, quando do suprimento degás para o duto (7) a ser enchido com gás, para impedir a formação de umapressão acima da atmosférica no lado, virado para o módulo de gás, da ditaprimeira parede lateral (2) que circunda a dita entrada (15).

2. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1, no qual um duto(33) é formado no dito módulo de gás (26), através de cujo duto (33) a ditaranhura (30) se comunica com o ambiente.

3. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, no qual oponto de apoio (21) apresenta um rebaixo (23) para permitir o abaulamentoda segunda parede lateral (2) para prover uma passagem para o duto (7)destinado a ser enchido com gás, quando a dita saída (28), em conexão coma fixação do recipiente (1), for aplicada à dita entrada (15) para suprimentode gás para o duto do recipiente.

4. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 3, no qual o ditorebaixo (23), quando da fixação do recipiente (1) entre o meio de fixação(23) e o ponto de apoio (21), se estenderá além do dito meio de fixação.

5. Dispositivo, de acordo com qualquer das reivindicações ante-riores, no qual o módulo de gás (26) é axialmente aplicável ao ponto de a-poio (21) para prover o dita fixação do recipiente.

6. Dispositivo, de acordo com qualquer das reivindicações ante-riores, que adicionalmente compreende um meio de vedação (34) que é a-daptado para desconectar, por meio de vedação, a entrada (15) do duto (7)depois do enchimento do duto com gás.

7. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 6, no qual o meiode vedação (34) compreende uma garra de aquecimento (36) disposta forado ponto de apoio (21) e um mandril (35) disposto fora do módulo de gás(26), o dito mandril (35) sendo engatável com a dita garra de aquecimento(36).

8. Dispositivo, de acordo com qualquer das reivindicações ante-riores, no qual o ponto de apoio (21) é formado de um material com baixacondutividade térmica.

9. Dispositivo, de acordo com qualquer das reivindicações ante-riores, no qual o ponto de apoio (17) compreende um meio de esfriamento.

10. Método para encher de gás um duto (7) em um recipiente (1)de um tipo retrátil, o dito duto (7) sendo definido por uma primeira e uma se-gunda paredes laterais (2) do recipiente, cujas paredes laterais (2) são liga-do das ao longo de uma porção de conexão comum (4), e o dito duto (7) com-preendendo uma entrada (15) disposta na primeira parede lateral (2), quecompreende as etapas de:fixar o recipiente (1) entre um ponto de apoio (21) e um módulode gás (26) que é axialmente móvel na direção do ponto de apoio (21), emcuja fixação a primeira parede lateral (2) compreendendo a dita entrada (15)é posicionada de tal maneira com relação a uma ranhura (30) disposta nomódulo de gás (26) em uma superfície virada para o ponto de apoio (21) demodo que a ranhura (30) circunde a dita entrada (15), e a segunda paredelateral (2) pode ser abaulada em resposta a um fluxo de gás (P2) supridopara o duto (7) através da dita entrada (15) para formar uma passagem paraenchimento da mesma com gás,conectar a dita ranhura (30) com o ambiente,suprir, através de uma saída (28) no módulo de gás (26), umfluxo de gás (P2) ao dito duto (7) através da dita entrada (15), por meio doque a ranhura (3) conectada com o ambiente impede a formação de umapressão acima da atmosférica no lado, virado para o módulo de gás (26), dadita parede lateral (2) que circunda a dita entrada (15), edepois do término do enchimento de gás, vedar o duto.

11. Método, de acordo com a reivindicação 10, no qual a fixaçãodo recipiente é provida por um meio de fixação (29) disposto fora da saída(28).

12. Método, de acordo com a reivindicação 10 ou 11, no qual oduto (7) é enchido até uma pressão acima da atmosférica na faixa de 100-300 kPa (1-3 bar).

13. Método, de acordo com qualquer das reivindicações de 10 a 12, no qual o duto (7) é vedado pela aplicação de pressão e calor.

14. Método, de acordo com a reivindicação 13, no qual o duto (7)é vedado por um meio de vedação (34) que compreende um mandril (35)disposto fora do módulo de gás (26) e uma garra de aquecimento (36) dis-posta fora do ponto de apoio (21), cuja garra de aquecimento (36) em veda-ção axialmente engata o dito mandril (35).

15. Método, de acordo com a reivindicação 11, no qual a segun-da parede lateral (2), em sua superfície que em fixação pode ser abaulada, éprovida com um relevo.