BR8402812A - Processo para eletrodeposicao de uma chapa tecnica de cobre altamente nivelada,ductil,brilhante,substancialmente uniforme,dura e nao recozivel sobre um substrato condutor,e chapa bem como deposito de cobre brilhante - Google Patents

Processo para eletrodeposicao de uma chapa tecnica de cobre altamente nivelada,ductil,brilhante,substancialmente uniforme,dura e nao recozivel sobre um substrato condutor,e chapa bem como deposito de cobre brilhante

Info

Publication number
BR8402812A
BR8402812A BR8402812A BR8402812A BR8402812A BR 8402812 A BR8402812 A BR 8402812A BR 8402812 A BR8402812 A BR 8402812A BR 8402812 A BR8402812 A BR 8402812A BR 8402812 A BR8402812 A BR 8402812A
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
bright
electrosposition
ductile
recoverable
plate
Prior art date
Application number
BR8402812A
Other languages
English (en)
Portuguese (pt)
Inventor
Daniel J Combs
Original Assignee
Omi Int Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omi Int Corp filed Critical Omi Int Corp
Publication of BR8402812A publication Critical patent/BR8402812A/pt

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
BR8402812A 1983-06-10 1984-06-08 Processo para eletrodeposicao de uma chapa tecnica de cobre altamente nivelada,ductil,brilhante,substancialmente uniforme,dura e nao recozivel sobre um substrato condutor,e chapa bem como deposito de cobre brilhante BR8402812A (pt)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US50121283A 1983-06-10 1983-06-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BR8402812A true BR8402812A (pt) 1985-05-21

Family

ID=23992566

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR8402812A BR8402812A (pt) 1983-06-10 1984-06-08 Processo para eletrodeposicao de uma chapa tecnica de cobre altamente nivelada,ductil,brilhante,substancialmente uniforme,dura e nao recozivel sobre um substrato condutor,e chapa bem como deposito de cobre brilhante

Country Status (10)

Country Link
JP (1) JPS609891A (cg-RX-API-DMAC7.html)
AU (1) AU559896B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
BR (1) BR8402812A (cg-RX-API-DMAC7.html)
CA (1) CA1255622A (cg-RX-API-DMAC7.html)
DE (1) DE3421017A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
ES (1) ES533253A0 (cg-RX-API-DMAC7.html)
FR (1) FR2547836A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
GB (1) GB2141141B (cg-RX-API-DMAC7.html)
IT (1) IT1177790B (cg-RX-API-DMAC7.html)
NL (1) NL8401842A (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7556722B2 (en) 1996-11-22 2009-07-07 Metzger Hubert F Electroplating apparatus
US8298395B2 (en) 1999-06-30 2012-10-30 Chema Technology, Inc. Electroplating apparatus
DE10261852B3 (de) 2002-12-20 2004-06-03 Atotech Deutschland Gmbh Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad
JP4644447B2 (ja) * 2004-06-25 2011-03-02 株式会社日立製作所 プリント配線板の製造方法
EP1969160B1 (de) * 2006-01-06 2011-04-27 Enthone, Incorporated Elektrolyt und verfahren zur abscheidung einer matten metallschicht
US9243339B2 (en) 2012-05-25 2016-01-26 Trevor Pearson Additives for producing copper electrodeposits having low oxygen content

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2882209A (en) * 1957-05-20 1959-04-14 Udylite Res Corp Electrodeposition of copper from an acid bath
NL291575A (cg-RX-API-DMAC7.html) * 1962-04-16
US3328273A (en) * 1966-08-15 1967-06-27 Udylite Corp Electro-deposition of copper from acidic baths
ZA708430B (en) * 1970-02-12 1971-09-29 Udylite Corp Electrodeposition of copper from acidic baths
DE2028803C3 (de) * 1970-06-06 1980-08-14 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen Polymere Phenazoniumverbindungen
US3770598A (en) * 1972-01-21 1973-11-06 Oxy Metal Finishing Corp Electrodeposition of copper from acid baths
AU496780B2 (en) * 1975-03-11 1978-10-26 Oxy Metal Industries Corporation Additives in baths forthe electrodeposition of copper
CA1105045A (en) * 1977-05-04 1981-07-14 Hans G. Creutz (Deceased) Electrodeposition of copper
DE2746938C2 (de) * 1977-10-17 1987-04-09 Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und rißfreien Kupferüberzügen und Verwendung dieses Bades
US4272335A (en) * 1980-02-19 1981-06-09 Oxy Metal Industries Corporation Composition and method for electrodeposition of copper
US4336114A (en) * 1981-03-26 1982-06-22 Hooker Chemicals & Plastics Corp. Electrodeposition of bright copper

Also Published As

Publication number Publication date
DE3421017A1 (de) 1984-12-13
IT1177790B (it) 1987-08-26
AU2903484A (en) 1984-12-13
GB2141141A (en) 1984-12-12
GB8414863D0 (en) 1984-07-18
ES8601337A1 (es) 1985-10-16
JPS609891A (ja) 1985-01-18
IT8448356A0 (it) 1984-06-08
ES533253A0 (es) 1985-10-16
FR2547836A1 (fr) 1984-12-28
DE3421017C2 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1987-08-27
JPS6112037B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1986-04-05
AU559896B2 (en) 1987-03-26
GB2141141B (en) 1987-01-07
CA1255622A (en) 1989-06-13
IT8448356A1 (it) 1985-12-08
NL8401842A (nl) 1985-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR8202621A (pt) Processo para a mordentagem de uma folha de aluminio recristalizada para condensadores eletroliticos bem como condensador eletrolitico
BR8304222A (pt) Celula eletrolitica e processo para producao de metal por eletrolise de um eletrolito
IT1110275B (it) Struttura vetro-ceramica per substrati circuitali e relativo processo di fabbricazione
BR8407288A (pt) Processo aperfeicoado para a fabricacao de placas contendo metal duro refratario para catodos de celulas de aluminio
BR8504238A (pt) Processo para a modificacao de um conjunto de montagem eletrico plano
BR8900664A (pt) Processo para o condicionamento de um substrato nao condutor
BR8703391A (pt) Vidraca de transmissao luminosa variavel
BR8007933A (pt) Processo para a regulagem de espessura de laminas em uma instalacao de extrusao de laminas a sopro
BR8704844A (pt) Processo para preparacao de uma composicao de polimero eletricamente condutor,compostos de cianoftalocianato de cobalto polimerico,composto monomerico e composto polimerico
BR8402812A (pt) Processo para eletrodeposicao de uma chapa tecnica de cobre altamente nivelada,ductil,brilhante,substancialmente uniforme,dura e nao recozivel sobre um substrato condutor,e chapa bem como deposito de cobre brilhante
EP2863114A1 (de) LED-Flächenleuchte
BR8005076A (pt) Aperfeicoamento em processo para eletrodeposicao de uma superficie eletricamente condutora que serve como um anodo
BR8306745A (pt) Processo e aparelho aperfeicoados para deposicao de uma pelicula,fina transmissora de luz,eletricamente condutora sobre um substrato
BR8405138A (pt) Dispositivo compensador para paineis de circuito com espessuras variaveis,conectores,e processo para montar simultaneamente uma pluralidade de conectores
BR8700789A (pt) Processo para a obtencao eletronica de uma imagem termica de um objeto,assim como instalacao para a realizacao do processo
BR7908545A (pt) Processo para eletrodepositar uma camada de cobertura de chumbo-estanho sobre a superficie de uma estrutura de mancal,e processo para remover ions de cobre a partir de um banho contendo ions de chumbo,ions de cobre e ions de estanho
BR8304761A (pt) Fechadura eletronica recodificavel, membro de chave, elemento recodificador e processo para recodificacao de uma fechadura eletronica
BR8403257A (pt) Bloco funcional para a montagem de pelo menos uma placa de circuitos sobre um suporte bem como base de fixacao,barra de manutencao,placa e barra de bloqueio empregados no mesmo
BR8506693A (pt) Processo para aplicar ao vidro uma camada de plastico antilacerante
BR8400571A (pt) Processo para preparacao de um material contendo uretana,composicao curavel,processo para eletrodeposicao de uma superficie eletrocondutora
BR8300091A (pt) Processo para eletrodeposicao de cromo sobre um substrato condutor e processo para rejuvenecer um eletrolito aquoso acido de cromo trivalente
BR8707149A (pt) Processo para a formacao em uma fita de vidro plano
BR8704703A (pt) Processo para a laminacao de uma pelicula fotopolimerizavel em um substrato
BR7402908D0 (pt) Processo aperfeicoado para a fabricacao de trilhas de metal sobre laminas isolantes metalizadas bem como instalacao para a realizacao do mesmo
BR8504699A (pt) Processo para encaixar circuitos eletricos e eletronicos e estrutura assim obtida