BR112020018471A2 - Chapa de aço elétrico de grão orientado e método para produção da mesma - Google Patents

Chapa de aço elétrico de grão orientado e método para produção da mesma Download PDF

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Haruhiko ATSUMI
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Shin FURUTAKU
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Ryosuke Tomioka
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Abstract

chapa de aço elétrico de grão orientado e método para produção da mesma. a invenção refere-se a uma chapa de aço elétrico de grão orientado que tem uma chapa de silício contendo si e mn, tem uma película de vidro posicionada sobre a superfície da chapa de silício e tem também uma película isolante posicionada sobre a superfície da película de vidro, em que a película de vidro contém um óxido contendo mn.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "CHAPA
DE AÇO ELÉTRICO DE GRÃO ORIENTADO E MÉTODO PARA PRODUÇÃO DA MESMA". Campo da Técnica
[001] A presente invenção refere-se a uma chapa de aço elétrico de grão orientado e a um método para produção da mesma.
[002] Prioridade é reivindicada para o Pedido de Patente Japonês No. 2018-052898, depositado em 20 de março de 2018, e cujo conte- údo é aqui incorporado a título de referência. Técnica Anterior
[003] Uma chapa de aço elétrico de grão orientado inclui uma chapa de aço e silício para chapa de base que é composta de grãos orientados para {110}<001> (daqui em diante, orientação Goss) e que inclui 7% em massa ou menos de Si. A chapa de aço elétrico de grão orientado tem sido aplicada principalmente a materiais de núcleo de ferro de transformador. Quando a chapa de aço elétrico de grão orien- tado é utilizada para os materiais de núcleo de ferro de transformador, em outras palavras, quando as chapas de aço são laminadas no nú- cleo de ferro, é necessário assegurar isolamento interlaminar (isola- mento entre chapas de aço laminadas). Portanto, a fim de assegurar o isolamento para a chapa de aço elétrico de grão orientado, é necessá- rio formar um revestimento primário (película de vidro) e um revesti- mento secundário (revestimento isolante) sobre a superfície de chapa de aço silício. Ainda, a película de vidro e o revestimento isolante têm efeito de melhoria das características magnéticas através da aplicação de tensão à chapa de aço silício.
[004] Um método para formação da película de vidro e do reves- timento isolante e um método típico para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado são como segue. Uma placa de aço e silício incluindo 7% em massa ou menos de Si é laminada a quente, e é la-
minada a frio uma vez ou laminada a frio duas vezes com recozimento intermediário entre elas, de modo que uma chapa de aço tendo uma espessura final é obtida. Em seguida, um recozimento em uma atmos- fera de hidrogênio úmida (recozimento por descarburação) é conduzi- do para descarburação e recristalização primária. No recozimento por descarburação, uma película de óxido (Fe2SiO4, SiO2 e similar) é for- mada sobre a superfície da chapa de aço. Então, um separador de re- cozimento contendo MgO (magnésia) como um componente principal é aplicado à chapa recozida por descarburação. Após secagem do se- parador de recozimento, um recozimento final é conduzido. Através do recozimento final, recristalização secundária ocorre na chapa de aço, e os grãos são alinhados com orientação {110}<001>. Simultaneamente, MgO no separador de recozimento reage com a película de óxido do recozimento por descarburação, de modo que a película de vidro (Mg2SiO4 ou similar) é formada sobre a superfície da chapa de aço. Subsequentemente, uma solução contendo principalmente um fosfato é aplicada sobre a superfície de chapa recozida final, a saber, sobre a superfície de película de vidro, e então, cozimento é conduzido, de modo que o revestimento isolante (revestimento à base de fosfato) é formado.
[005] A película de vidro é importante para assegurar o isolamen- to, mas sua adesão é significantemente afetada por vários fatores. Por exemplo, quando a espessura da chapa de chapa de aço elétrico de grão orientado se torna fina, perda no ferro que é uma das caracterís- ticas magnéticas melhora, mas a adesão de película de vidro tende a não ser assegurada. Portanto, com relação à película de vidro de cha- pa de aço elétrico de grão orientado, a melhoria em adesão e o contro- le estável têm sido problemas. A película de vidro é derivada da pelí- cula de óxido formada pelo recozimento por descarburação e, portan- to, tem sido tentado melhorar a película de vidro através do controle das condições de recozimento por descarburação.
[006] O Documento de Patente 1 revela a técnica para formar a película de vidro excelente em adesão através de decapagem da ca- mada de superfície de chapa de aço elétrico de grão orientado que é laminada a frio para a espessura final antes da condução do recozi- mento por descarburação, através da remoção da acreção da superfí- cie e da camada de superfície de aço de base, e prosseguindo unifor- memente a descarburação e formação de óxido.
[007] Os Documentos de Patentes 2 a 4 revelam a técnica para melhorar a adesão de revestimento através da aplicação da rugosida- de fina à superfície da chapa de aço durante o recozimento por des- carburação e alcançando a película de vidro para a área profunda da chapa de aço.
[008] Os Documentos de Patentes 5 a 8 revelam a técnica para melhoria da adesão de película de vidro através do controle do grau de oxidação de atmosfera de recozimento por descarburação. A técnica é acelerar a oxidação de chapa recozida por descarburação e dessa maneira promover a formação de película de vidro.
[009] Desenvolvimento técnico adicionado progrediu, os Docu- mentos de Patente 9 a 11 revelam a técnica para melhoria da adesão de película de vidro e das características magnéticas através do foco do estágio de aquecimento de recozimento por descarburação e atra- vés do controle da taxa de aquecimento em adição à atmosfera no es- tágio de aquecimento. Documentos da Técnica Relacionados Documentos de Patentes
[0010] Documento de Patente 1 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. S50-71526 Documento de Patente 2 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. S62-133021
Documento de Patente 3 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. S63-7333 Documento de Patente 4 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. S63-310917 Documento de Patente 5 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. H2-240216 Documento de Patente 6 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. H2-259017 Documento de Patente 7 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. H6-33142 Documento de Patente 8 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. H10-212526 Documento de Patente 9 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. H11-61356 Documento de Patente 10 Pedido de Patente Japo- nês Não examinado, Primeira Publicação No. 2000-204450 Documento de Patente 11 Pedido de Patente Japonês Não examinado, Primeira Publicação No. 2003-27194 Documento Não de Patente
[0011] [Documento de Não Patente 1] "Quantitative Analysis of Mineral Phases in Sinter Ore by Rietveld Method", Toru Takayama e outros, General incorporated association- The Iron and Steel Institute of Japan, Tetsu-to-Hagane, Vol.103 (2017) No.6 , p.397-406, DOI: http://dx.doi.org/10.2355/tetsutohagane.TETSU-2016-069. Sumário da Invenção Problema Técnico a ser Resolvido
[0012] No entanto, as técnicas descritas nos Documentos de Pa- tentes 1 a 4 requerem uma etapa adicional no processo e, então, a carga de operação de torna alta. Por essa razão, a melhoria adicional tem sido desejada.
[0013] As técnicas descritas nos Documentos de Patentes 5 a 8 melhoram a adesão de película de vidro, mas a recristalização secun- dária pode ser tornar instável e as características magnéticas (magne- tismo) podem deteriorar.
[0014] As técnicas descritas nos Documentos de Patentes 9 a 11 melhoram as características magnéticas, mas a melhoria para película é ainda insuficiente. Por exemplo, no caso dos materiais de base com espessura de chapa de 0,23 mm ou menos (daqui em diante, chapa de base fina), a adesão de película de vidro é insuficiente. A adesão de película de vidro se torna instável com diminuição na espessura da chapa. Por essa razão, a melhoria adicional para a adesão de película de vidro tem sido requerida.
[0015] A presente invenção foi feita em consideração das situa- ções mencionadas acima. Um objetivo da presente invenção é prover uma chapa de aço elétrico de grão orientado excelente na adesão de revestimento sem deterioração das características magnéticas e mé- todo para produção da mesma. Solução para o Problema
[0016] Os presentes inventores fizeram uma investigação aprofun- dada para resolver as situações mencionadas acima. Como resultado, foi constatado que a adesão de película de vidro é drasticamente me- lhorada quando o óxido contendo Mn é incluído na película de vidro. Além disso, o efeito acima obtido através da técnica se torna notável na chapa de base fina.
[0017] Ainda, os presentes inventores constataram que o óxido contendo Mn é preferivelmente formado na película de vidro contro- lando compreensivamente e inseparavelmente as condições de aque- cimento e as condições de atmosfera no processo de recozimento por descarburação e no processo de formação de revestimento isolante.
[0018] Um aspecto da presente invenção emprega o que segue.
(1) Uma chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com um aspecto da presente invenção inclui: uma chapa de aço silício incluindo, como uma composição química, em % em massa, 2,50 a 4,0% de Si, 0,010 a 0,50% de Mn, 0 a 0,20% de C, 0 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0 a 0,020% de N, 0 a 0,080% de S, 0 a 0,020% de Bi, 0 a 0,50% de Sn, 0 a 0,50% de Cr, 0 a 1,0% de Cu, e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas; uma película de vidro disposta sobre uma superfície da chapa de aço silício; e um revestimento isolante disposto sobre uma superfície da película de vidro, em que a película de vidro inclui um óxido contendo Mn. (2) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com (1), o óxido contendo Mn pode incluir pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em uma Braunita e Mn3O4. (3) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com (1) ou (2), o óxido contendo Mn pode ser disposto em uma inter- face com a chapa de aço silício na película de vidro. (4) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (1) a (3), 0,1 a 30 peças/μm2 do óxido contendo Mn podem ser dispostas na interface na película de vidro. (5) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um e (a) a (4), quando IFor é uma intensidade difratada de um pico origina- do em uma forsterita e ITiN é uma intensidade difratada de um pico ori- ginado em uma nitrida de titânio em uma faixa de 41 < 2 < 43 de um espectro de difração de raio X da película de vidro medido por um mé- todo de difração de raio X a IFor e a ITiN podem satisfazer ITiN < IFor. (6) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (1) a (5), uma fração numérica de grãos recristali- zados secundários cujo diâmetro máximo é 30 a 100 mm pode ser 20 a 80% comparado com os grãos recristalizados secundários totais na chapa de aço silício. (7) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (1) a (6), a espessura média da chapa de aço si- lício pode ser 0,17 mm ou mais e menos do que 0,22 mm. (8) Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (1) a (7), a chapa de aço silício pode incluir, como a composição química, em % em massa, pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em 0,0001 a 0,0050% de C, 0,0001 a 0,0100% de Al solúvel em ácido, 0,0001 a 0,0100% de N, 0,0001 a 0,0100% de S, 0,0001 a 0,0010% de Bi, 0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr e 0,01 a 1,0% de Cu. (9) Um método para produção de uma chapa de aço elétri- co de grão orientado de acordo com um aspecto da presente inven- ção, o método é para produção da chapa de aço elétrico de grão orien- tado de acordo com qualquer um de (1) a (8), e o método pode incluir: um processo de laminação a quente de aquecimento de uma placa para uma faixa de temperatura de 1200 a 1600º C e então laminação a quente da placa para obter uma chapa de aço laminada a quente, a placa incluindo, como a composição química, em % em massa, 2,50 a 4,0% de Si, 0,010 a 0,50% de Mn, 0 a 0,20% de C, 0 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0 a 0,020% de N, 0 a 0,080% de S, 0 a 0,020% de Bi, 0 a 0,50% de Sn, 0 a 0,50% de Cr, 0 a 1,0% de Cu, e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas; um processo de recozimento de banda quente de recozi- mento da chapa de aço laminada a quente para obter uma chapa re- cozida de banda quente; um processo de laminação a frio de laminação a frio da chapa recozida de banda quente através de laminação a frio uma vez ou através de laminação a frio várias vezes com um recozimento in- termediário para obter uma chapa de aço laminada a frio; um processo de recozimento por descarburação de recozi- mento por descarburação da chapa de aço laminada a frio para obter uma chapa galvanizada por descarburação; um processo de recozimento final de aplicação de um sepa- rador de recozimento à chapa recozida por descarburação e então re- cozimento final da chapa recozida por descarburação de modo a for- mar uma película de vidro sobre uma superfície da chapa recozida por descarburação para obter uma chapa recozida final; e um processo de formação de revestimento isolante de apli- cação de uma solução de formação de revestimento isolante à chapa recozida final e então tratamento térmico da chapa recozida final de modo a formar um revestimento isolante sobre uma superfície da cha- pa recozida final, em que, no processo de recozimento por descarburação, quando uma dec-S500-600 é uma taxa de aquecimento médio em unida- o des de C/segundo e uma dec-P500-600 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 500 a 600o C durante aumento de uma temperatura da chapa de aço lamina- do a frio e quando uma dec-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unidades de oC/segundo e uma dec-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 600 a 700º C durante aumento da temperatura da chapa de aço laminada a frio, a dec-S500-600 pode ser 300 a 2000 C/segundo, a dec-S600- 700 pode ser 300 a 3000 C/segundos, a dec-S500-600 e a dec-S600-700 podem satisfazer dec-S500-600 < dec-S600-700, a dec-P500-600 pode ser 0,00010 a 0,50 e a dec-P600-700 pode ser 0,00001 a 0,50,
em que, no processo de recozimento final, a chapa recozi- da por descarburação após aplicar o separador de recozimento pode ser mantida em uma faixa de temperatura de 1000 a 1300º C por 10 a 60 horas, e em que, no processo de formação de revestimento isolante, quando uma ins-S600-700 é uma taxa de aquecimento médio em unida- des de oC/segundo em uma faixa de temperatura de 600 a 700º C e uma ins-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unidades de o C/segundo em uma faixa de temperatura de 700 a 800º C durante aumento de uma temperatura da chapa recozida final, a ins-S600-700 pode ser 10 a 200º C/segundo, a ins-S700-800 pode ser 5 a 100º C/segundo e a ins-S600-700 e a ins-S700-800 podem sa- tisfazer ins-S600-700 > ins-S700-800. (10) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com (9), no processo de recozimento por descarburação, a dec-P500-600 e a dec-P600-700 podem satisfazer dec- P500-600 > dec-P600-700. (11) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com (9) ou (10), no processo de recozimento por descarburação, um primeiro recozimento e um segundo recozimento podem ser conduzidos após aumento da temperatura da chapa de aço lami- nada a frio, e quando uma dec-TI é uma temperatura de permanência em unidades de oC, uma dec-tI é um tempo de permanência em unidades de segundos e uma dec-PI é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o primeiro recozimento e quando uma dec-TII é uma temperatura de permanência em unidades de oC, uma dec-tII é um tempo de permanência em unidades de segundos e uma dec-PII é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o segundo re-
cozimento, a dec-TI pode ser 700 a 900C, a dec-tI pode ser 10 a 1000 segundos, a dec-PI pode ser 0,10 a 1,0, a dec-TII pode ser (dec-TI + 50)C ou mais e 1000C ou menos, a dec-tII pode ser 5 a 500 segun- dos, a dec-PII pode ser 0,00001 a 0,10 e a dec-PI e a dec-PII podem satisfazer dec-PI > dec-PII. (12) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (9) a (11), no processo de recozimento por descarburação, a dec-P500-600, a dec-P600-700, a dec- PI e a dec-PII podem satisfazer dec-P500-600 > dec-P600-700 < dec-PI > dec-PII. (13) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (9) a (12), no processo de formação de revestimento isolante, quando uma ins-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de temperatura de 600 a 700oC e uma ins- P700-800 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de temperatura de 700 a 800ºC durante aumento da temperatura da chapa recozida final, a ins-P600-700 pode ser 1,0 ou mais, a ins-P700-800 pode ser 0,1 a 5,0 e a ins-P600-700 e a ins-P700-800 podem satisfazer ins-P600-700 > ins-P700-800. (14) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (9) a (13), no processo de recozimento final, o separador de recozimento pode incluir um composto Ti de 0,5 a 10% em massa em equivalente de Ti metálico. (15) No método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer um de (9) a (14), a placa pode incluir, como a composição química, em % em massa, pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em 0,01 a 0,20% de C, 0,01 a
0,070% de Al solúvel em ácido, 0,0001 a 0,020% de N, 0,005 a 0,080% de S, 0,001 a 0,020% de Bi, 0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr e 0,01 a 1,0% de Cu. Efeitos da Invenção
[0019] De acordo com os aspectos da presente invenção acima, é possível prover a chapa de aço elétrico de grão orientado excelente na adesão de revestimento sem deterioração das características magné- ticas e método para produção da mesma. Breve Descrição dos Desenhos
[0020] A Fig. 1 é uma ilustração em seção transversal de uma chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com uma modali- dade da presente invenção.
[0021] A Fig. 2 é um fluxograma ilustrando um método para produ- ção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a mo- dalidade. Descrição Detalhada de Modalidades Preferidas
[0022] Daqui em diante, uma modalidade preferida da presente invenção é descrita em detalhes. No entanto, a presente invenção não é limitada apenas à configuração que é revelada na modalidade, a vá- rias modificações são possíveis sem se afastar do aspecto da presen- te invenção. Ainda, a faixa de limitação como descrito abaixo inclui um limite inferior e um limite superior da mesma. No entanto, o valor ex- presso por "mais do que" ou "menos do que" não inclui na faixa de li- mitação. "%" da quantidade de respectivos elementos expressa "% em massa".
[0023] Os detalhes que levam à modalidade são descritos abaixo.
1. Antecedentes que levam a essa modalidade
[0024] Os presentes inventores investigaram a morfologia de pelí- cula de vidro a fim de assegurar a adesão entre a película de vidro e a chapa de aço silício (chapa de aço de base). Para começar, a adesão entre a película de vidro e a chapa de aço depende fortemente da mor- fologia da película de vidro. Por exemplo, no caso da estrutura de mo- do que a película de vidro agarre a chapa de aço silício (daqui em di- ante, estrutura intrusora), a adesão da película de vidro é excelente.
[0025] No entanto, não é fácil assegurar a adesão de película de vidro. Em particular, quando a espessura da chapa se torna muito fina, se torna mais difícil assegurar a adesão de película de vidro. Embora a causa não seja completamente clara, os presentes inventores supõem que o comportamento de formação de película de óxido no recozimen- to por descarburação seja peculiar para a chapa de base fina.
[0026] Para as situações acima, os presentes inventores concebe- ram a técnica para assegurar a adesão de película de vidro através da formação do óxido como uma âncora entre a película de vidro e a cha- pa de aço silício. Além disso, a fim de controlar a formação de óxido- âncora, os presentes inventores focam em e investigam as condições de recozimento (condições de tratamento térmico) no processo de co- zimento por descarburação e o processo de formação de revestimento isolante. Como resultado, os presentes inventores constataram que a adesão de película de vidro é drasticamente melhorada controlando compreensivamente e inseparavelmente as condições de aquecimento e as condições atmosféricas no processo de recozimento por descar- buração e no processo de formação de revestimento isolante.
[0027] Como um resultado de análise do material tendo excelente adesão de película de vidro, é confirmado que o óxido contendo Mn é incluído na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício. Como um resultado de análise do óxido em detalhes através do mi- croscópio eletrônico de transmissão (daqui em diante, TEM) e difração de raio X (daqui em diante, XRD), é constatado que o óxido contendo Mn inclui preferivelmente pelo menos um selecionado do grupo consis- tindo em Braunita (Mn7SiO12) e Tetróxido de manganês (Mn3O4) e que o óxido contendo Mn age como o óxido-âncora. Além disso, como um resultado de investigação do mecanismo de formação de óxido con- tendo Mn, é constatado que o óxido contendo Mn é formado pelo me- canismo que segue.
[0028] Primeiro, quando a taxa de aquecimento e a atmosfera no estágio de aquecimento do recozimento por descarburação são con- troladas, um precursor de óxido contendo Mn (daqui em diante, pre- cursor contendo Mn) é formado próximo da superfície da chapa de aço. Quando a chapa recozida por descarburação acima é submetida ao recozimento final, Mn segrega entre a película de vidro e a chapa de aço silício (daqui em diante, Mn de segregação interfacial).
[0029] Segundo, quando a chapa recozida final acima é submetida à formação de revestimento isolante e quando a taxa de aquecimento no estágio de aquecimento de formação de revestimento isolante é controlada, o óxido contendo Mn é formado a partir do precursor con- tendo Mn e o Mn de segregação interfacial. O óxido contendo Mn (em particular, Braunita ou Tetróxido de manganês) age como a âncora e contribui para a melhoria da adesão de película de vidro.
[0030] Como descrito acima, os presentes inventores investigaram a morfologia de óxido contendo Mn na película de vidro e a sua técnica de controle e, como resultado, chegaram à modalidade.
2. Chapa de aço elétrico de grão orientado
[0031] A chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade é descrita. 2-1. Principais características da chapa de aço elétrico de grão orien- tado
[0032] A Fig. 1 é uma ilustração em seção transversal da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade. A chapa de aço elétrico de grão orientado 1 de acordo com a modalidade inclui uma chapa de aço silício 11 (chapa de aço de base) tendo estrutura recristalizada secundária, uma película de vidro 13 (revestimento pri- mário) disposta sobre a superfície da chapa de aço silício 11 e um re- vestimento isolante 15 (revestimento secundário) disposto sobre a su- perfície da película de vidro 13. A película de vidro 13 inclui o óxido contendo Mn 131. Embora a película de vidro e o revestimento isolante possam ser formados sobre pelo menos uma superfície da chapa de aço silício, esses são formados em ambas as superfícies da chapa de aço silício em geral.
[0033] Daqui em diante, a chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade é explicada focando em elementos ca- racterísticos. As explicações dos elementos conhecidos e dos elemen- tos que podem ser controlados pelo versado são omitidas. (Película de vidro)
[0034] A película de vidro é uma película inorgânica que inclui principalmente silicato de magnésio (MgSiO3, Mg2SiO4 e similar). Em geral, a película de vidro é formada durante recozimento final através da reação do separador de recozimento contendo magnésia com os elementos que estão incluídos na chapa de aço silício ou na película de óxido tal como SiO2 sobre a superfície da chapa de aço silício. Por- tanto, a película de vidro tem a composição derivada dos componentes de separador de recozimento e da chapa de aço silício. Por exemplo, a película de vidro pode incluir espinel (MgAl2O4) e similar. Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, a película de vidro inclui o óxido contendo Mn.
[0035] Como acima descrito, na chapa de aço elétrico de grão ori- entado de acordo com a modalidade, o óxido contendo Mn é proposi- tadamente formado na película de vidro, e dessa maneira a adesão do revestimento é melhorada. Uma vez que a adesão de revestimento é melhorada contanto que o óxido contendo Mn seja incluído na película de vidro, a fração de óxido contendo Mn na película de vidro não é particularmente limitada. Na modalidade, o óxido contendo Mn tem que ser apenas incluído na película de vidro.
[0036] No entanto, na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, é preferível que o óxido contendo Mn inclua pelo menos um selecionado do grupo consistindo em Braunita (Mn7SiO12) e Tetróxido de magnésio (Mn3O4). Em outras palavras, é preferível que pelo menos um selecionado do grupo consistindo em Braunita e Mn3O4 esteja incluído como o óxido contendo Mn na pelícu- la de vidro. Quando Braunita e Tetróxido de manganês está incluído como o óxido contendo Mn na película de vidro, é possível melhorar a adesão de revestimento sem deterioração das características magné- ticas.
[0037] Ainda, quando o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é incluído na película de vidro na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício, o efetor-âncora pode ser preferivelmente obtido. Portanto, é preferível que o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) seja disposto na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício na película de vidro.
[0038] Em adição ao fato que o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é disposto na interface com a chapa de aço silício na película de vidro, é mais preferível que 0,1 a 30 peças/μm2 do óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) sejam dispostos na interface na película de vidro. Quando o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) na densidade de número mencionada acima é incluído na película de vidro na inter- face entre a película de vidro e a chapa de aço silício, é possível obter mais preferivelmente o efeito âncora.
[0039] A fim de preferivelmente obter o efeito âncora, o limite infe- rior de densidade de número do óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é preferivelmente 0,5 peça/μm2, mais preferivelmente 1,0 pe- ça/μm2 e sobretudo preferivelmente 2,0 peças/μm2. Por outro lado, a fim de evitar uma diminuição em características magnéticas causada pela irregularidade da interface, o limite superior de densidade de nú- mero do óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é preferivelmente 20 peças/μm2, mais preferivelmente 15 peças/μm2 e sobretudo preferi- velmente 10 peças/μm2.
[0040] O método para confirmação do óxido contendo Mn (Brauni- ta ou Mn3O4) na película de vidro e o método para medição do óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) incluídos na interface entre a pelícu- la de vidro e a chapa de aço silício na película de vidro são descritos mais tarde em detalhes.
[0041] Ainda, na chapa de aço elétrico de grão orientado conven- cional, a película de vidro pode incluir Ti. No caso, Ti incluído na pelí- cula de vidro reage com N eliminado da chapa de aço silício através de purificação durante o recozimento final para formar TiN na película de vidro. Por outro lado, na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, mesmo quando a película de vidro inclui Ti, quase nenhum TiN está incluído na película de vidro após o recozi- mento final.
[0042] Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, N eliminado da chapa de aço silício durante o recozi- mento final é aprisionado no precursor contendo Mn ou Mn de segre- gação interfacial na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício. Portanto, mesmo quando a película de vidro inclui Ti, N eliminado da placa de aço silício durante o recozimento final tende a não reagir com Ti na película de vidro, de modo que a formação de TiN é suprimida.
[0043] Por exemplo, na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, sem importar se ou não a película de vidro inclui Ti, a forsterita (Mg2SiO4) que é o componente principal na pelícu- la de vidro e a nitrida de titânio (TiN) na película de vidro satisfazem as condições que seguem como produto final.
[0044] Quando IFor é uma intensidade difratada de um pico origi- nado na forsterita e ITiN é uma intensidade difratada de um pico original na nitrida de titânio em uma faixa de 41º > 2θ < 43º de um espectro de difração de raio X da película de vidro medido por um método de difra- ção de raio X, IFor e ITiN satisfazem ITiN < IFor. No caso onde a película de vidro inclui Ti na chapa de aço elétrico de grão orientado convenci- onal, os IFor e ITiN mencionados acima se tornam ITiN > IFor como produ- to final.
[0045] O método para medição do espectro de difração de raio X da película de vidro através do método de difração de raio X é descrito mais tarde em detalhes. (Tamanho de grão recristalizado secundário de chapa de aço silício)
[0046] Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, a chapa de aço silício tem a estrutura recristalizada se- cundária. Por exemplo, quando a densidade de fluxo magnético B8 é 1,89 a 2,00T, a chapa de aço silício é julgada ter a estrutura recristali- zada secundária. É preferível que o tamanho de grão recristalizado secundário de chapa de aço silício seja grosso. Desta maneira, é pos- sível obter mais preferivelmente a adesão do revestimento. Especifi- camente, é preferível que a fração numérica de grãos recristalizados secundários cujo diâmetro máximo é 30 a 100 mm seja 20% ou mais comparado com os grãos recristalizados secundários inteiros na chapa de aço silício. A fração numérica é mais preferivelmente 30% ou mais. Por outro lado, o limite superior de fração numérica não é particular- mente limitado. No entanto, o limite superior pode ser 80% como o va- lor industrialmente controlável.
[0047] Como descrito acima na modalidade, o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é formado como a âncora na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício, e dessa maneira a adesão de película de vidro é melhorada. É preferível que a âncora seja for- mada não no limite de grão recristalizado secundário, mas no grão re- cristalizado secundário. Uma vez que o limite de grãos é um agregado de defeitos de látice, mesmo quando o óxido contendo Mn é formado no limite de grãos, o óxido contendo Mn tende a não ser introduzido na chapa de aço silício como a âncora. Na chapa de aço silício em que grãos recristalizados secundários grossos são principalmente incluí- dos, a possibilidade de formação do óxido contendo Mn dentro do grão aumenta, a dessa maneira a adesão de revestimento pode ser melho- rada mais.
[0048] Na modalidade, o grão recristalizado secundário e o diâme- tro máximo de grão recristalizado secundário são definidos como se- gue. Com relação ao grão de chapa de aço silício, o diâmetro máximo do grão é definido como o segmento de linha mais longo no grão den- tre os segmentos de linha paralelos à direção de laminação e paralelos à direção transversal (direção perpendicular à direção de laminação). Além disso, o grão com o diâmetro máximo de 15 mm ou mais é con- siderado o grão recristalizado secundário.
[0049] O método para medição da fração numérica mencionada acima de grãos recristalizados secundários grossos é descrito mais tarde em detalhes. (Espessura de chapa de chapa de aço silício)
[0050] Na chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, a espessura de chapa de chapa de aço silício não é particularmente limitada. Por exemplo, a espessura média de chapa de aço silício pode ser 0,17 a 0,29 mm. No entanto, na chapa de aço elé- trico de grão orientado de acordo com a modalidade, quando a espes- sura de chapa de chapa de silício é fina, o efeito de melhoria da ade- são de revestimento é notadamente obtido. Portanto, a espessura mé- dia de chapa de aço silício é preferivelmente 0,17 a menos de 0,22 mm e mais preferivelmente 0,17 a 0,20 mm.
[0051] A razão pela qual o efeito de melhoria da adesão de reves- timento é notadamente obtido com a chapa de base fina não é clara no momento, mas o mecanismo que segue é considerado. Como descrito acima, na modalidade, é necessário formar o óxido contendo Mn (par- ticularmente Braunita ou Mn3O4). A formação de óxido contendo Mn é limitada pela situação onde M no aço difunde para a superfície da chapa de aço. Por exemplo, a fração de área de superfície comparado com volume com relação à chapa de base fina é maior do que com relação à chapa de base espessa. Portanto, na chapa de base fina, o comprimento de difusão de Mn a partir do interior para a superfície da chapa de aço é curto. Como resultado, na chapa de base fina, Mn di- funde a partir do interior da chapa de aço e atinge a superfície da cha- pa de aço em um tempo substancialmente curto, e o óxido contendo Mn é facilmente formado comparado com a chapa de base espessa. Por exemplo, embora os detalhes sejam descritos mais tarde, na cha- pa de base fina, é possível formar eficientemente o precursor contendo Mn em faixa de temperatura baixa de 500 a 600º C no estágio de aquecimento de recozimento por descarburação. 2-2. Composição química
[0052] Em seguida, a composição química de chapa de aço silício da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modali- dade é explicada. Na modalidade, a chapa de aço silício inclui, como uma composição química, elementos de base, elementos opcionais conforme necessário e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas.
[0053] Na modalidade, a chapa de aço silício inclui Si e Mn como os elementos de base (principalmente elementos de formação de liga). (2,50 a 4,0% de Si)
[0054] Si (silício) é o elemento de base. Quando o teor de Si é menos de 2,50%, a transformação de fase ocorre no aço durante o recozimento por recristalização secundário, a recristalização secundá- ria não prossegue suficientemente, e a densidade de fluxo magnético excelente e perda por ferro não são obtidas. Portanto, o teor de Si é para 2,50% ou mais. O teor de Si é preferivelmente 3,00% ou mais e mais preferivelmente 3,20% ou mais. Por outro lado, quando o teor de Si é mais de 4,0%, a chapa de aço se torna quebradiça, e a capacida- de de passagem durante a produção deteriora significantemente. Por- tanto, o teor de Si é para 4,0% ou menos. O teor de Si é preferivel- mente 3,80% ou menos e mais preferivelmente 3,60% ou menos. (0,010 a 0,50% de Mn)
[0055] Mn (manganês) é o elemento de base. Quando o teor de Mn é menos do que 0,010%, é difícil incluir o óxido contendo Mn (Braunita e Mn3O4) na película de vidro, mesmo quando o processo de recozimento por descarburação e o processo de formação de revesti- mento isolante são controlados. Portanto, o teor de Mn é ajustado para 0,010% ou mais. O teor de Mn é preferivelmente 0,03% ou mais e mais preferivelmente 0,05% ou mais. Por outro lado, quando o teor de Mn é mais do que 0,5%, a transformação de fase ocorre no aço duran- te o recozimento por recristalização secundário, a recristalização se- cundária não prossegue suficientemente, e a densidade de fluxo mag- nético e perda por ferro excelentes não são obtidas. Portanto, o teor de Mn é para 0,50% ou menos. O teor de Mn é preferivelmente 0,2% ou menos e mais preferivelmente 0,1% ou menos.
[0056] Na modalidade, a chapa de aço silício pode incluir as impu- rezas. As impurezas correspondem a elementos que estão contamina- dos durante produção industrial de aço a partir de minérios e sucata que são usados como uma matéria-prima de aço ou de ambiente de um processo de produção.
[0057] Além disso, na modalidade, a chapa de aço silício pode in- cluir os elementos opcionais em adição aos elementos de base e as impurezas. Por exemplo, como substituição para uma parte de Fe que é o equilíbrio, a chapa de aço e silício pode incluir os elementos opcio- nais tais como C, Al solúvel em ácido, N, S, Bi, Sn, Cr e Cu. Os ele- mentos opcionais podem ser incluídos conforme necessário. Portanto, um limite inferior dos respectivos elementos opcionais não precisa ser limitado, e o limite inferior pode ser 0%. Além disso mesmo se os ele- mentos opcionais puderem ser incluídos como impurezas, os efeitos mencionados acima não são afetados. (0 a 0,20% de C)
[0058] C (carbono) é o elemento opcional. Quando o teor de C é maior do que 0,20%, a transformação de fase pode ocorrer no aço du- rante o recozimento por recristalização secundária, a recristalização secundária pode não prosseguir suficientemente, e a densidade de fluxo magnético e perda por ferro excelentes podem não ser obtidas. Portanto, o teor de C pode ser 0,20% ou menos. O teor de C é preferi- velmente 0,15% ou menos e mais preferivelmente 0,10% ou menos. O limite inferior do teor de C não é particularmente limitado e pode ser 0%. No entanto, uma vez que C tem o efeito de melhoria da densidade de fluxo magnético através do controle da textura recristalizada primá- ria, o limite inferior do teor de C pode ser 0,01%, 0,03% ou 0,06%. Quando C é excessivamente incluído como a impureza no produto fi- nal devido à descarburação insuficiente no recozimento por descarbu- ração, as características magnéticas podem ser afetadas de modo ad- verso. Portanto, o teor de C de chapa de aço silício é preferivelmente 0,0050% ou menos. Embora o teor de C de chapa de aço silício possa ser 0%, não é industrialmente fácil controlar o teor de C para realmen- te 0%, e então o teor de C de chapa de aço silício pode ser 0,0001% ou mais. (0 a 0,070% de Al solúvel em ácido)
[0059] O Al (alumínio) solúvel em ácido (Al sol.) é o elemento ópti-
co. Quando o teor de Al solúvel em ácido é mais de 0,070%, a chapa de aço pode ser tornar quebradiça. Portanto, o teor de Al solúvel em ácido pode ser 0,070% ou menos. O teor de Al solúvel em ácido é pre- ferivelmente 0,05% ou menos, e mais preferivelmente 0,03% ou me- nos. O limite inferior do teor de Al solúvel em ácido não é particular- mente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que o Al solúvel em ácido tem o efeito de desenvolver favoravelmente a recristalização secundária, o limite inferior do teor de Al solúvel em ácido pode ser 0,01% ou 0,02%. Quando A é excessivamente incluído como a impu- reza no produto final devido à purificação insuficiente durante o reco- zimento final, as características magnéticas podem ser afetadas de modo adverso. Portanto, o teor de Al solúvel em ácido de chapa de aço silício é preferivelmente 0,0100% ou menos. Embora o teor de Al de chapa de aço silício possa ser 0%, não é industrialmente fácil con- trolar o teor de A para realmente 0%, e então o teor de Al solúvel em ácido de chapa de aço silício pode ser 0,0001% ou mais. (0 a 0,020% de N)
[0060] N (nitrogênio) é o elemento opcional. Quando o teor de N é mais de 0,020%, bolhas (veios) podem ser formados na chapa de aço durante a laminação a frio, a resistência da chapa de aço pode aumen- tar e a capacidade de passagem durante a produção pode deteriorar. Portanto, o teor de N pode ser 0,020% ou menos. O teor de N é prefe- rivelmente 0,015% ou menos e mais preferivelmente 0,010% ou me- nos. O limite inferior do teor de N não é particularmente limitado e po- de ser 0%. No entanto, uma vez que N forma AlN e tem o efeito como o inibidor para recristalização secundária, o limite inferior do teor de N pode ser 0,0001% ou 0,005%. Quando N é excessivamente incluído como a impureza no produto final devido à purificação insuficiente du- rante o recozimento final, as características magnéticas podem ser afetadas de modo adverso. Portanto, o teor de N de chapa de aço silí-
cio é preferivelmente 0,0100% ou menos. Embora o teor de N de cha- pa de aço silício possa ser 0%, não é industrialmente fácil controlar o teor de N para realmente 0%, e então o teor de N de chapa de aço si- lício pode ser 0,0001% ou mais. (0 a 0,080% de S)
[0061] S (enxofre) é o elemento opcional. Quando o teor de S é mais do que 0,080%, a chapa de aço pode se tornar quebradiça na faixa de temperatura maior, e pode ser difícil conduzir a laminação a quente. Portanto, o teor de S pode ser 0,080% ou menos. O teor de S é preferivelmente 0,04% ou menos e mais preferivelmente 0,03% ou menos. O limite inferior do teor de S não é particularmente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que S forma MnS e tem o efeito como o inibidor de recristalização secundária, o limite inferior do teor de S pode ser 0,005% ou 0,01%. Quando S é excessivamente é inclu- ído como a impureza no produto final devido à purificação insuficiente durante o recozimento final, as características magnéticas podem ser afetadas de modo adverso. Portanto, o teor de S de chapa de aço silí- cio é preferivelmente 0,0100% ou menos. Embora o teor de S de cha- pa de aço silício possa ser 0%, não é industrialmente fácil controlar o teor de S para realmente 0%, e então o teor de S da chapa de aço silí- cio pode ser 0,0001% ou mais. (0 a 0,020% de Bi)
[0062] Bi (bismuto) é o elemento opcional. Quando o teor de Bi é mais do que 0,020%, a capacidade de passagem durante laminação a frio pode deteriorar. Portanto, o teor de Bi pode ser 0,020% ou menos. O teor de Bi é preferivelmente 0,0100% ou menos, e mais preferivel- mente 0,0050% ou menos. O limite inferior do teor de Bi não é particu- larmente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que Bi tem o efeito de melhorar as características magnéticas, o limite inferior do teor de Bi pode ser 0,0005% ou 0,0010%. Quando Bi é excessivamen-
te incluído como a impureza no produto final devido à purificação insu- ficiente durante o recozimento final, as características magnéticas po- dem ser afetadas de modo adverso. Portanto, o teor de Bi de chapa de aço silício é preferivelmente 0,0010% ou menos. Embora o teor de Bi de chapa de aço silício possa ser 0%, não é industrialmente fácil con- trolar o teor de Bi para realmente 0%, e então o teor de Bi de chapa de aço silício pode ser 0,0001% ou mais. (0 a 0,050% de Sn)
[0063] Sn (estanho) é o elemento opcional. Quando o teor de Sn é maior do que 0,50%, a recristalização secundária pode ser tornar ins- tável e as características magnéticas podem deteriorar. Portanto, o teor de Sn pode ser 0,50% ou menos. O teor de Sn é preferivelmente 0,30% ou menos, e mais preferivelmente 0,15% ou menos. O limite inferior do teor de Sn não é particularmente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que Sn tem o efeito de melhorar a adesão do re- vestimento, o limite inferior do teor de Sn pode ser 0,05% ou 0,01%. (0 a 0,50% de Cr)
[0064] Cr (cromo) é o elemento opcional. Quando o teor de Cr é maior do que 0,50%, Cr pode formar o óxido de Cr e as características magnéticas podem deteriorar. Portanto, o teor de Cr pode ser 0,50% ou menos. O teor de Cr é preferivelmente 0,30% ou menos, e mais preferivelmente 0,10% ou menos. O limite inferior do teor de Cr não é particularmente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que Cr tem o efeito de melhorar a adesão do revestimento, o limite inferior do teor de Cr pode ser 0,01% a 0,03%. (0 a 1,0% de Cu)
[0065] Cu (cobre) é o elemento opcional. Quando o teor de Cu é mais do que 1,0%, a chapa de aço pode ser tornar quebradiça durante laminação a frio. Portanto, o teor de Cu pode ser 1,0% ou menos. O teor de Cu é preferivelmente 0,50% ou menos, e mais preferivelmente
0,10% ou menos. O limite inferior do teor de Cu não é particularmente limitado, e pode ser 0%. No entanto, uma vez que Cu tem o efeito de melhoria da adesão de revestimento, o limite inferior do teor de Cu po- de ser 0,01% ou 0,03%.
[0066] Na modalidade, a chapa de aço silício pode incluir, como a composição química, como % em massa, pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em 0,0001 a 0,0050% de C, 0,0001 a 0,0100% de Al solúvel em ácido, 0.0001 a 0,0100% de N, 0,0001 a 0,0100% de S, 0,0001 a 0,0010% de Bi, 0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr e 0,01 a 1,0% de Cu.
[0067] Ainda, na modalidade, a chapa de aço silício pode incluir, como o elemento opcional, pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em Mo, W, In, B, Sb, Au, Ag, Te, Ce, V, Co, Ni, Se, Ca, Re, Os, Nb, Zr, Hf, Ta, Y, La, Cd, Pb e As, como substituição para uma parte de Fe. A chapa de aço silício pode incluir o elemento opcional acima de 5,00% ou menos, preferivelmente 3,00% ou menos e mais preferivelmente 1,00% ou menos no total. O limite inferior da quantida- de do elemento opcional acima não é particularmente limitado, e pode ser 0%. 2-3. Método de medição de elementos técnicos
[0068] Em seguida, o método para medição dos elementos técni- cos mencionados acima da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade é explicado.
[0069] A estrutura em camadas da chapa de aço de grão orientado de acordo com a modalidade pode ser observada e medida como se- gue.
[0070] Uma peça de teste é cortada da chapa de aço elétrico de grão orientado em que a película e revestimento são formados, e a estrutura em camadas da peça de teste é observada com microscopia eletrônica de varredura (SEM) ou microscópio eletrônico de transmis-
são (TEM). Por exemplo, a camada cuja espessura é de 300 nm ou mais pode ser observada com SEM e a camada cuja espessura e de menos de 300 nm pode ser observada com TEM.
[0071] Especificamente, primeiro, uma peça de teste é cortada de modo que a direção de corte seja paralela à direção de espessura (es- pecificamente, a peça de teste é cortada de modo que a direção no plano de seção transversal seja paralela à direção de espessura e a direção normal de seção transversal seja perpendicular à direção de laminação), e a estrutura em seção transversal dessa seção transver- sal é observada com SEM em uma ampliação na qual cada camada é incluída no campo visual observado (por exemplo, ampliação de 2000 vezes). Por exemplo, em observação com uma imagem de composi- ção de elétrons de reflexo (imagem COMP), pode ser inferido quantas camadas a estrutura em seção transversal inclui. Por exemplo, na imagem COMP, a chapa de aço silício pode ser distinguida como cor clara, a película de vidro como cor escura e o revestimento isolante como cor intermediária.
[0072] A fim de identificar cada camada na estrutura em seção transversal, análise de linha é realizada ao longo da direção de espes- sura usando SEM-EDS (espectroscopia de raio X dispersiva de ener- gia), e análise quantitativa da composição química de cada camada é realizada. Os elementos a serem quantitativamente analisados são seis elementos, Fe, P, Si, O, Mg e Al. O dispositivo de análise não é particularmente limitado. Na modalidade, por exemplo, softwares de análise SEM (JEOL JSM-7000F), EDS (AMETEK GENESIS 4000) e EDS (AMETEK GENESIS SPECTRUM Ver. 4.61J) podem ser usados.
[0073] A partir dos resultados de observação na imagem COMP e dos resultados de análise quantitativa através de SEM-EDS, a chapa de aço silício é julgada ser a área que é a camada localizada na posi- ção mais profunda ao longo da direção de espessura, que tem o teor de Fe de % atômica de 80 ou mais e o teor de O de % atômica de 30% ou menos excluindo ruído de medição, e que tem 300 nm ou mais do segmento de linha (espessura) na linha de varredura da análise de li- nha. Além disso, uma área excluindo a chapa de aço silício é julgada ser a película de vidro e o revestimento isolante.
[0074] Com relação à área excluindo a chapa de aço silício identi- ficada acima, a partir dos resultados de observação na imagem COMP e dos resultados de análise quantitativa através de SEM-EDS, o reves- timento à base de fosfato que é um tipo de revestimento isolante é jul- gado ser a área que tem o teor de Fe de menos de 80% atômica, o teor de P de 5% atômica e o teor de O de 30% atômica ou mais exclu- indo o ruído de medição, e que tem 300 nm ou mais do segmento de linha (espessura) na linha de varredura da análise de linha. Além dis- so, o revestimento à base de fosfato pode incluir alumínio, magnésio, níquel, cromo e similar derivado de fosfato em adição aos três elemen- tos acima que são utilizados para o julgamento do revestimento à base de fosfato. Ainda, o revestimento à base de fosfato pode incluir silício derivado de sílica coloidal.
[0075] A fim de julgar a área que é o revestimento à base de fosfa- to, precipitados, inclusões, veios e similar que estejam contidos no re- vestimento não são considerados alvo de julgamento, mas a área que satisfaz a análise quantitativa como a matriz é julgada ser o revesti- mento à base de fosfato. Por exemplo, quando precipitados, inclusões, veios e similar na linha de varredura da análise de linha são confirma- dos a partir da imagem de COMP ou resultados de análise de linha, essa área não é considerada para o julgamento, e o revestimento é determinado pelos resultados de análise quantitativa como a matriz. Os precipitados, inclusões e veios podem ser distinguidos da matriz através de contraste na imagem de COMP e podem ser distinguidos da matriz através de resultados de análise quantitativa de elementos constituintes. Quando julgando o revestimento à base de fosfato, é preferível que o julgamento seja realizado na posição que não inclua precipitados, inclusões e veios na linha de varredura da análise de li- nha.
[0076] A película de vidro é julgada ser a área que exclui a chapa de aço silício e o revestimento isolante (revestimento à base de fosfa- to) identificados acima e que têm 300 nm ou mais do segmento de li- nha (espessura) na linha de varredura da análise de linha. A película de vidro pode satisfazer, como um todo, o teor de Fe médio de menos do que 80% atômico, o teor de P médio de menos do que 5% atômico, o teor de Si médio de 5% atômico ou mais, o teor de O médio de 30% atômico ou mais e o teor de Mg médio de 10% atômico ou mais. O re- sultado de análise quantitativa de película de vidro é o resultado de análise que não inclui o resultado de análise de precipitados, inclu- sões, veios e similar incluídos na película de vidro e que é o resultado de análise como a matriz. Quando julgando a película de vidro, é pre- ferível que o julgamento seja realizado na posição que não inclua pre- cipitados, inclusões e veios na linha de varredura da análise de linha.
[0077] A identificação de cada camada e a medição da espessura através da observação da imagem COMP mencionada acima e análise SEM-EDS quantitativa são realizadas em cinco lugares ou mais en- quanto mudando o campo visual observado. Com relação à espessura de cada camada obtida a partir de cinco lugar ou mais no total, um va- lor médio é calculado excluindo o valor máximo e o valor mínimo dos valores, e esse valor médio é tomado como a espessura média de ca- da camada.
[0078] Ainda, se uma camada em que o segmento de linha (es- pessura) na linha de varredura da análise de linha é menos do que 300 nm for incluída em pelo menos um dos campos visuais observa- dos de cinco lugares ou mais como acima descrito, a camada é obser-
vada em detalhes através de TEM, e a identificação da camada cor- respondente e a medição da espessura são realizadas através de TEM.
[0079] Uma peça de teste incluindo uma camada a ser observada em detalhes usando TEM é cortada através de processamento de fei- xe de íons focados (FIB) de modo que a direção de corte é paralela à direção de espessura (especificamente, a peça de teste é cortada de modo que a direção no plano de seção transversal é paralela à direção de espessura e a direção normal de seção transversal é perpendicular à direção de laminação), e a estrutura em seção transversal dessa se- ção transversal é observada (imagem de campo brilhante) com varre- dura-TEM (STEM) em uma ampliação na qual a camada correspon- dente é incluída no campo visual observado. No caso onde cada ca- mada não é incluída no campo visual observado, a estrutura em seção transversal é observada em uma pluralidade de campos visuais contí- nuos.
[0080] A fim de identificar cada camada na estrutura em seção transversal, análise de linha é realizada ao longo da direção de espes- sura usando TEM-EDS, e análise quantitativa da composição química de cada camada é realizada. Os elementos a serem quantitativamente analisados são seis elementos Fe, P, Si, O, Mg e Al. O dispositivo de análise não é particularmente limitado. Na modalidade, por exemplo, softwares de análise TEM (JEM-2100PLUS fabricado pela JEOL Ltd.), EDS (JED-2100 fabricado pela JEOL Ltd.) e EDS (Genesis Spectrum Version 4.61J) podem ser usados.
[0081] A partir dos resultados de observação da imagem de cam- po brilhante através de TEM descritos acima e dos resultados da aná- lise quantitativa através de TEM-EDS, cada camada é identificada e a espessura de cada camada é medida. O método para julgamento de cada camada usando TEM e o método para medição da espessura de cada camada podem ser realizados de acordo com o método usando SEM como acima descrito.
[0082] No método para julgamento de cada camada como acima descrito, a chapa de aço silício é determinada na área total primeiro, o revestimento isolante (revestimento à base de fosfato) é determinado na área restante e, em seguida, a área restante é determinada ser a película de vidro. Portanto, no caso da chapa de aço elétrico de grão orientado satisfazendo os elementos da modalidade acima, não há ne- nhuma área não determinada diferente das camadas acima descritas na área inteira.
[0083] Se ou não o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) está incluído na película de vidro especificada acima pode ser confirmado através de TEM.
[0084] Pontos de medição com intervalos iguais são fixados em uma linha ao longo da direção de espessura na película de vidro espe- cificada através do método acima, e difração de eixo de elétrons é rea- lizada em pontos de medição. Quando realizando a difração de feixe de elétrons, por exemplo, os pontos de medição com intervalos iguais são fixados na linha ao longo da direção de espessura a partir da inter- face com a chapa de aço silício para a interface com o revestimento isolante, e os intervalos entre os pontos de medição com intervalos iguais são fixados em 1/10 ou menos da espessura média da película de vidro. Além disso, difração de feixe de elétrons de área ampla é realizada sob condições de modo que o diâmetro de feixe de elétrons seja aproximadamente 1/10 da película de vidro.
[0085] Quando é confirmado que a fase cristalina está presente no padrão de difração obtido através da difração de feixe de elétrons de área ampla, a fase cristalina acima é checada através da imagem de campo brilhante. Para a fase cristalina acima, a difração de feixe de elétrons é realizada sob condições de modo que o feixe de elétrons é focado de modo a obter a informação da fase cristalina acima. A estru- tura de cristal, espaçamento de látice e similar da fase cristalina acima são identificados pelo padrão de difração obtido através da difração do feixe de elétrons acima.
[0086] Os dados de cristal tais como a estrutura do cristal e o es- paçamento de látice identificados acima são comparados com PDF (Arquivo de Difração de Pó). Através da comparação, é possível con- firmar se ou não o óxido contendo Mn está incluído na película de vi- dro. Por exemplo, Braunita (Mn7SiO12) pode ser identificado através de JCPDS No. 01-089-5662. Tetróxido de manganês (Mn3O4) pode ser identificado através de JCPDS No. 01-075-0765. É possível obter o efeito da modalidade quando o óxido contendo Mn é incluído na pelí- cula de vidro.
[0087] A linha mencionada acima ao longo da direção de espessu- ra é fixada em intervalos iguais ao longo da direção perpendicular à direção de espessura no campo visual de observação, e a difração de feixe de elétrons como acima descrito é realizada em cada linha. A di- fração de feixe de elétrons é realizada em pelo menos 50 ou mais das linhas fixadas em intervalos iguais ao longo da direção perpendicular à direção de espessura e pelo menos 500 ou mais dos pontos de medi- ção no total.
[0088] Como um resultado da identificação através da difração de feixe de elétrons acima, quando o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) é detectado na linha ao longo da direção de espessura e na área a partir da interface com a chapa de aço silício para 1/5 da es- pessura da película de vidro, o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn 3O4) é julgado ser disposto na interface com a chapa de aço silício na pelí- cula de vidro.
[0089] Ainda, com base na identificação através da difração de feixe de elétrons, um número de óxidos contendo Mn (Braunita ou
Mn3O4) dispostos na área a partir da interface com a chapa de aço silí- cio para 1/5 da espessura da película de vidro é contada. Ao usar o número de óxidos contendo Mn e a área onde o número de óxidos contendo Mn é contado (área a partir da interface com a chapa de aço silício para 1/5 da espessura da película de vidro para contar o número de óxidos contendo Mn), a densidade numérica de óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) disposto na interface com a chapa de aço silício na película de vidro é obtida em unidades em peças/μm2. Especifica- mente, a densidade numérica do óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) disposto na interface na película de vidro é considerada o valor obtido dividindo o número de óxidos contendo Mn (Braunita ou Mn 3O4) dispostos na área a partir da interface com a chapa de aço silício para 1/5 da espessura da película de vidro pela área da película de vidro onde o número acima está contado.
[0090] Em seguida, espectro de difração de raio X da película de vidro mencionada acima pode ser observado e medido como segue.
[0091] A partir da chapa de aço elétrico de grão orientado, a pelí- cula de vidro é extraída através da remoção da chapa de aço silício e do revestimento isolante. Especificamente, primeiro, o revestimento isolante é removido da chapa de aço elétrico de grão orientado através de imersão em solução alcalina. Por exemplo, é possível remover o revestimento isolante a partir da chapa de aço elétrico de grão orienta- do através da imersão da chapa de aço em solução aquosa de hidró- xido de sódio que inclui 30 a 50% em massa de NaOH e 50 a 70% em massa de H2O a 80 a 90º C por 5 a 10 minutos, lavagem com água e então sua secagem. Além disso, o tempo de imersão em solução aquosa de hidróxido de sódio pode ser ajustado dependendo da es- pessura do revestimento isolante.
[0092] Em seguida, uma amostra de 30 x 40 mm que é obtida da chapa de aço elétrico cuja película de isolamento é submetida a trata-
mento de eletrólise, o resíduo extraído por eletrólise correspondendo à película de vidro é apenas coletado, e o resíduo é submetido à difra- ção de raios X. Por exemplo, as condições de eletrólise podem ser ele- trólise de corrente constante a 500 mA, a solução de eletrólise pode ser solução obtida adicionando 1% de cloreto de tetrametilamônio me- tanol a 10% de acetilacetona, o tratamento de eletrólise pode ser con- duzido por 30 a 60 minutos, e a película pode ser coletada como o re- síduo extraído por eletrolise usando peneira com tamanho de malha de Φ 0,2 μm.
[0093] O resíduo extraído por eletrólise acima (película de vidro) é submetido à difração de raios X. Por exemplo, a difração de raios X é conduzida usando raio CuKα (Kαl) como um raio X incidente. A difra- ção de raios X pode ser conduzida usando uma amostra circular de Φ 0,26 mm e um difratômetro de raios X (RIGAKU RINT2500). A tensão do tubo pode ser 40 kV, a corrente no tubo pode ser 200 mA, o ângulo de medição pode ser 5 a 90ºC, o passo pode ser 0,02º, a velocidade de varredura pode ser 4º/minuto, fenda de divergência e espalhamento pode ser 1/2º, fenda limitante de comprimento pode ser 10 mm e fenda de recebimento óptico pode ser 0,15 mm.
[0094] Os espectros de difração de raios X obtido são comparados com PDF (Arquivo de Difração de Raios X). Por exemplo, Forsterita (Mg2SiO4) pode ser identificada através de JCPDS No. 01-084-1402 e Nitrida de titânio (TiN, especificamente TiN0,90) pode ser identificada através de JCPDS No. 031-1403.
[0095] Com base nos resultados de comparação, IFor é a intensi- dade difratada do pico originado na forsterita e ITiN é a intensidade di- fratada do pico originado na nitrida de titânio na faixa de 41º < 2θ < 43º do espectro de difração de raios X.
[0096] A intensidade de pico de difração de raios X é definida co- mo a área do pico difratado após remoção da base. A remoção da ba-
se e a determinação da área de pico podem ser realizadas usando sof- tware típico para análise XRD. Na determinação da área de pico, o es- pectro após remoção da base (valor experimental) pode ser ajustado por meio do perfil, e a área de pico pode ser calculada a partir do es- pectro de ajuste (valor calculado) obtido acima. Por exemplo, o método de ajuste de perfil de espectro de XRD (valor experimental) através de análise Rietveld como descrito do Documento de Não Patente 1 pode ser utilizado.
[0097] Em seguida, o diâmetro máximo e a fração numérica de grãos de recristalização secundários grossos na chapa de aço silício podem ser observados e medidos como segue.
[0098] A partir da chapa de aço elétrico de grão orientado, a chapa de aço silício é obtida removendo a película de vidro e o revestimento isolante. Por exemplo, a fim de remover o revestimento isolante, a chapa de aço elétrico de grão orientado com película e revestimento pode ser imersa em solução alcalina quente como acima descrito. Es- pecificamente, é possível remover o revestimento isolante a partir da chapa de aço elétrico de grão orientado através da imersão da chapa de aço em solução aquosa de hidróxido de sódio que inclui 30 a 50% em massa de NaOH e 50 a 70% em massa de H2O a 80 a 90º C por 5 a 10 minutos, lavagem da mesma com água e então secagem da mesma. Além disso, o tempo de imersão em solução aquosa de hidró- xido de sódio pode ser ajustado dependendo da espessura do reves- timento isolante.
[0099] Além disso, por exemplo, a fim de remover a película de vidro, a chapa de aço de grão elétrico de grão orientado em que o re- vestimento isolante é removido pode ser imersa em ácido clorídrico quente. Especificamente, é possível remover a fibra de vidro através de investigação prévia da concentração preferida de ácido clorídrico para remoção da película de vidro a ser dissolvida, imersão da chapa de aço no ácido clorídrico com a concentração acima tal como 30 a 40% em massa de HCl a 80 a 90º C por 15 minutos, lavagem da mesma com água e, então, secagem da mesma. Em geral, película e revestimento são removidos usando seletivamente a solução, por exemplo, a solução alcalina é usada para remoção do revestimento isolante, e o ácido clorídrico é usado para remoção da película de vi- dro.
[00100] Ao remover o revestimento isolante e a película de vidro, a estrutura metalográfica de chapa de aço silício aparece e se torna ob- servável, e o diâmetro máximo de grão recristalizado secundário pode ser medido.
[00101] A estrutura metalográfica de chapa de aço silício revelada acima é observada. O grão com o diâmetro máximo de 15 mm ou mais é considerado o grão recristalizado secundário, e a fração numérica de grãos recristalizados secundários grossos é considerada como uma fração dos grãos com o diâmetro máximo de 30 a 100 mm nos grãos recristalizados secundários inteiros. Especificamente, a fração numéri- ca de grãos recristalizados secundários grossos é considerada a por- centagem do valor obtido dividindo o número total de grãos com o di- âmetro máximo de 30 a 100 mm pelo número total dos grãos com o diâmetro máximo de 15 mm ou mais.
[00102] Em seguida, a composição química do aço pode ser medi- da através de métodos analíticos típicos.
[00103] A composição de aço de chapa de aço silício pode ser me- dida após remoção da película de vidro e o revestimento isolante da chapa de aço elétrico de grão orientado que é o produto final através do método acima. Além disso, a composição de aço de placa de aço silício (peça de aço) pode ser medida usando uma amostra obtida de aço derretido antes da moldagem ou uma amostra que é a placa de aço silício após moldagem, mas removendo uma película de óxido de superfície. A composição do aço pode ser medida usando ICP-AES (Espectrômetro de Emissão Atômica por Plasma Acoplado Indutiva- mente: espectrometria espectroscopia de emissão de plasma induti- vamente acoplado). Ainda, C e S podem ser medidos através do mé- todo de absorção do infravermelho após combustão, N pode ser medi- do através do método condutométrico térmico após fusão em uma cor- rente de gás inerte e O pode ser medido através do, por exemplo, mé- todo de absorção de infravermelho não dispersivo após fusão em uma corrente de gás inerte.
3. Método para produção de chapa de aço elétrico de grão orientado
[00104] O método para produção de chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade é descrito.
[00105] Um método típico para produção de uma chapa de aço elé- trico de grão orientado é como segue. Uma placa de aço silício de 7% em massa ou menos de Si é laminada a quente, e é recozida por ban- da a quente. A chapa recozida por banda a quente é decapada, e en- tão é laminada a frio uma vez ou laminada a frio duas vezes com reco- zimento intermediário entre elas, de modo que uma chapa de aço ten- do uma espessura final é obtida. Em seguida, um recozimento em at- mosfera de hidrogênio úmida (recozimento por descarburação) é con- duzido para descarburação e recristalização primária. No recozimento por descarburação, uma película de óxido (Fe2SiO4, SiO2 e similar) é formada sobre a superfície da chapa de aço. Então, um separador de recozimento contendo MgO (magnésia) como um componente princi- pal é aplicado à chapa recozida por descarburação. Após secagem do separador de recozimento, um recozimento final é conduzido. Através do recozimento final, recristalização secundária ocorre na chapa de aço, e os grãos são alinhados com orientação {110}<001>. Simultane- amente, MgO no separador de recozimento reage com a película de óxido de recozimento por descarburação, de modo que a película de vidro (Mg2SiO4 e similar) é formada sobre a superfície da chapa de aço. Após lavagem com água ou decapagem, uma solução contendo principalmente um fosfato é aplicada sobre a superfície da chapa re- cozida final, a saber, sobre a superfície da película de vidro e, então, cozimento é conduzido, de maneira que revestimento isolante (reves- timento à base de fosfato) é formado.
[00106] A Fig. 2 é um fluxograma ilustrando um método para produ- ção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a mo- dalidade. O método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade inclui principalmente: um pro- cesso de laminação a quente de laminação a quente de uma placa de aço silício (peça de aço) incluindo composição química predetermina- da para obter uma chapa de aço laminada a quente; um processo de recozimento de banda de recozimento da chapa de aço laminada a quente para obter uma chapa recozida por banda a quente; um pro- cesso de laminação a frio de laminação a frio da chapa recozida com banda a quente através de laminação a frio uma vez ou através de la- minação a frio várias vezes com um recozimento intermediário para obter uma chapa de aço laminada a frio; um processo de recozimento por descarburação de recozimento por descarburação da chapa de aço laminada a frio para obter uma chapa recozida por descarburação; um processo de recozimento final de aplicação de um separador de recozimento à chapa recozida por descarburação e então recozimento final da chapa recozida por descarburação de modo a formar uma pe- lícula de vidro sobre uma superfície da chapa recozida por descarbu- ração para obter uma chapa recozida final; e um processo de forma- ção de revestimento isolante de aplicação de uma solução de forma- ção de revestimento isolante à chapa recozida final e então tratamento térmico da chapa recozida final de modo a formar um revestimento iso- lante sobre uma superfície da chapa recozida final.
[00107] Os processos descritos acima são respectivamente descri- tos em detalhes. Na descrição que segue, quando as condições de cada processo não são descritas, condições conhecidas podem ser apropriadamente aplicadas. 3-1. Processo de laminação a quente
[00108] No processo de laminação a quente, a peça de aço (por exemplo, lingote de aço tal como uma placa) incluindo composição química predeterminada é laminada a quente. A composição química da peça de aço pode ser igual àquela da chapa de aço silício descrita acima.
[00109] Por exemplo, a placa de aço silício (peça de aço) submeti- da ao processo de laminação a quente pode incluir, como a composi- ção química, em % em massa, 2,50 a 4,0% de Si, 0,010 a 0,50% de Mn, 0 a 0,20% de C, 0 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0 a 0,020% de N, 0 a 0,080% de S, 0 a 0,020% de Bi, 0 a 0,50% de Sn, 0 a 0,50% de Cr, 0 a 1,0% de Cu e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas.
[00110] Na modalidade a placa de aço silício (peça de aço) pode incluir, como a composição química, em % em massa, pelo menos um selecionado do grupo consistindo em 0,01 a 0,20% de C, 0,01 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0,0001 a 0,020% de N, 0,005 a 0,080% de S, 0,001 a 0,020% de Bi, 0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr e 0,01 a 1,0% de Cu.
[00111] No processo de laminação a quente, a peça de aço é aque- cida. A temperatura de aquecimento pode ser 1200 a 1600º C. O limite inferior de temperatura de aquecimento é preferivelmente 1280º C. O limite superior de temperatura de aquecimento é preferivelmente 1500º C. Subsequentemente, a peça de aço aquecida é laminada a quente. A espessura da chapa de aço laminada a quente após laminação a quente está preferivelmente dentro da faixa de 2,0 a 3,0 mm. 3-2. Processo de recozimento de banda a quente
[00112] No processo de recozimento de banda a quente, a chapa de aço laminada a quente após o processo de laminação a quente é recozida. Através do recozimento de banda a quente, a recristalização ocorre na chapa de aço e, finalmente, as excelentes características magnéticas podem ser obtidas. As condições de recozimento de ban- da a quente não são particularmente limitadas. Por exemplo, a chapa de aço laminada a quente pode ser submetida a recozimento na faixa de temperatura de 900 a 1200º C por 10 segundos a 5 minutos. Além disso, após o recozimento de banda a quente e antes da laminação a frio, a superfície de chapa recozida por banda a quente pode ser de- capada. 3-3. Processo de laminação a frio
[00113] No processo de laminação a frio, a chapa recozida por banda a quente após o processo de recozimento de banda a quente é laminada a frio uma vez ou várias vezes com um recozimento interme- diário. Uma vez que o formato da chapa de chapa recozido por banda a quente é excelente devido a recozimento de banda a quente, é pos- sível reduzir a possibilidade tal como aquela que a chapa de aço seja fraturada na primeira laminação a frio. Quando o recozimento interme- diário é conduzido no intervalo de laminação a frio, o método de aque- cimento para recozimento intermediário não é particularmente limitado. Embora a laminação a frio possa ser conduzida três ou mais vezes com o recozimento intermediário, é preferível conduzir a laminação a frio uma ou duas vezes porque o custo de produção aumenta.
[00114] Redução por laminação a frio final em laminação a frio (re- dução por laminação a frio cumulativa sem recozimento intermediário ou redução por laminação a frio cumulativa após recozimento interme- diário) pode estar dentro da faixa de 80 a 95%. Através do controle da redução por laminação a frio final para estar dentro da faixa acima, é possível finalmente aumentar o grau de orientação de {110}<001> e suprimir a instabilidade de recristalização secundária. Em geral, a es- pessura da chapa de aço laminada a frio após a laminação a frio se tornar a espessura (espessura final) de chapa de aço silício na chapa de aço elétrico de grão orientado que é finalmente obtida. 3-4. Processo de recozimento por descarburação
[00115] No processo de recozimento por descarburação, o aço la- minado a frio após o processo de laminação a frio é recozido por des- carburação. (1) Condições de aquecimento
[00116] Na modalidade, as condições de aquecimento para aque- cimento da chapa de aço laminada a frio são controladas. Especifica- mente, a chapa de aço laminada a frio é aquecida sob as condições que seguem. Quando dec-S500-600 é uma taxa de aquecimento média em unidades de oC/segundo e dec-P500-600 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 500 a 600º C durante aumento de uma temperatura da chapa de aço lamina- da a frio e quando dec-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em o unidades de C/segundo e dec-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 600 a 700º C durante aumento da temperatura da chapa de aço laminada a frio, a dec-S500-600 é 300 a 2000 oC/segundos, a dec-S600-700 é 300 a 3000 oC/segundos, a dec-S500-600 e a dec-S600-700 satisfazem dec-S500-600 < dec- S600-700, a dec-P500-600 é 0.00010 a 0,50, e a dec-P600-700 é 0.00001 a 0,50.
[00117] No estágio de aquecimento de recozimento por descarbu- ração, película de óxido de SiO2 tende a ser facilmente formada na fai- xa de temperatura de 600 a 700º C. Parece que a razão acima é que a velocidade de difusão de Si e a velocidade de difusão de O em aço são equilibradas na superfície da chapa de aço na faixa de temperatu- ra. Por outro lado, o precursor de óxido contendo Mn (precursor con- tendo Mn) tende a ser facilmente formado na faixa de temperatura de 500 a 600ºC. A modalidade se refere à forma do precursor contendo Mn durante o recozimento por descarburação e dessa maneira para melhorar a adesão a revestimento do produto final. Portanto, é neces- sário prolongar o tempo de detenção na faixa de 500 a 600º C onde o precursor contendo Mn se forma, comparado com o tempo de deten- ção na faixa de 600 a 700º c onde a película de óxido de SiO2 se for- ma.
[00118] Portanto, é necessário satisfazer dec-S500-600 < dec-S600-700, em adição ao controle da dec-S500-600 ser 300 a 2000 C/Segundo e a - S600-700 ser 300 a 3000 C/segundo. O tempo de detenção na faixa de 500 a 600°C no estágio de aquecimento se refere à quantidade de precursor contendo Mn formado, e o tempo de detenção na faixa de 600 a 700oC no estágio de aquecimento se refere à quantidade de pe- lícula de óxido de SiO2 formada. Quando o valor de dec-S500-600 é mais do que aquele de dec-S600-700, a quantidade de precursor contendo Mn formado se torna menos do que aquela de película de óxido de SiO2 formada. No caso, pode ser difícil controlar o óxido contendo Mn em película de vidro de produto final. O dec-S600-700 é preferivelmente 1,2 a 5,0 vezes comparado com o dec-S500-600.
[00119] Quando a dec-S500-600 é menos do que 300o C/segundo, ca- racterísticas magnéticas excelentes não são obtidas. A dec-S500-600 é preferivelmente 400º C/segundo ou mais. Por outro lado, quando a dec-S500-600 é mais do que 2000º C/segundo, o precursor contendo Mn não é preferivelmente formado. A dec-S500-600 é preferivelmente 1700º C/segundo ou menos.
[00120] Ainda, é importante controlar a dec-S600-700. Por exemplo,
quando a quantidade de película de óxido de SiO2 formada é signifi- cantemente insuficiente, a formação de película de vidro pode ser ins- tável, e os defeitos tais como furos podem ocorrer na película de vidro. Portanto, a dec-S600-700 deve ser 300 a 3000o C/Segundo. A dec-S600- 700 é preferivelmente 500o C/segundo ou mais. A fim de suprimir o ex- cesso, a dec-S600-700 é preferivelmente 2500o C/segundo ou menos.
[00121] No caso onde a permanência isotérmica é conduzida a 600oC no estágio de aquecimento de recozimento por descarburação, a dec-S500-600 e a dec-S600-700 podem ser tornar não claras, respectiva- mente. Na modalidade, no caso onde a permanência isotérmica é conduzida a 600º C no estágio de aquecimento de recozimento por descarburação, a dec-S500-600 é definida como a taxa de aquecimento com base no ponto de atingir 500o C e o ponto de iniciar a permanên- cia isotérmica a 600o C. Similarmente, a dec-S600-700 é definida como a taxa de aquecimento com base no ponto de finalização da permanên- cia térmica a 600º C e o ponto de atingir 700ºC.
[00122] Na modalidade, em adição à taxa de aquecimento, a at- mosfera é controlada no recozimento por descarburação. Como acima descrito, o precursor contendo Mn tende a ser facilmente formado na faixa de temperatura de 500 a 600ºC, e a película de óxido de SiO2 tende a ser facilmente formada na faixa de temperatura de 600 a 700ºC. O grau de oxidação PH2O/PH2 em cada uma das faixas de temperatura afeta a estabilidade termodinâmica de precursor contendo Mn formado e película de óxido de SiO2 formada. Portanto, a fim de equilibrar a quantidade de precursor contendo Mn formado e a quanti- dade de película de óxido de SiO2 formada, e controlar a estabilidade termodinâmica de precursor contendo Mn formado e película de óxido de SiO2 formada, é necessário controlar o grau de oxidação em cada uma das faixas de temperatura.
[00123] Especificamente, é necessário controlar a dec-P500-600 para ser 0,00010 a 0,50 e a dec-P600-700 para ser 0,0001 a 0,50. Quando a dec-P500-600 ou a dec-P600-700 está fora da faixa acima, pode ser difícil controlar preferivelmente a quantidade e a estabilidade termodinâmica de precursor contendo Mn formado e película de óxido de SiO2 forma- da, e controlar o óxido contendo Mn em película de vidro de produto final.
[00124] O grau de oxidação PH2O/PH2 é definido como a razão de pressão parcial de vapor de água PH2O para pressão parcial de hidro- gênio PH2 na atmosfera. Quando a dec-P500-600 é mais de 0,50, a faiali- ta (Fe2SiO4) pode ser excessivamente formada, e dessa maneira a formação de precursor contendo Mn pode ser suprimida. O limite su- perior de dec-P500-600 é preferivelmente 0,3. Por outro lado, o limite infe- rior de dec-P500-600 não é particularmente limitado. No entanto, o limite inferior pode ser 0,00010. O limite inferior de dec-P500-600 é preferivel- mente 0,0005.
[00125] Quando a dec-P600-700 é mais do que 0,050, Fe2SiO4 pode ser formado em excesso, a película de óxido de SiO2 pode tender a não ser uniformemente formada, e dessa maneira os defeitos na pelí- cula de vidro podem ser formados. O limite superior de dec-P600-700 é preferivelmente 0,3. Por outro lado, o limite inferior de dec-P600-700 não é particularmente limitado. No entanto, o limite inferior pode ser 0,00001. O limite inferior de dec-P600-700 é preferivelmente 0,00005.
[00126] Em adição a controlar a dec-P500-600 e a dec-P600-700 para serem as faixas acima, é preferível que a dec-P500-600 e a dec-P600-700 satisfaçam dec-P500-600 > dec-P600-700. Quando o valor de dec-P600-700 é menos do que aquele de dec-P500-600, é possível controlar mais preferi- velmente a quantidade e a estabilidade termodinâmica de precursor contendo Mn formado e película de óxido de SiO2 formada.
[00127] Embora o precursor de óxido contendo Mn (precursor con- tendo Mn) que é formado no processo de recozimento por descarbura-
ção da modalidade não seja claro no momento, parece que o precur- sor contendo Mn é composto de vários óxidos de manganês tais como MnO, Mn2O3, MnO2, MnO3 e Mn2O7 e/ou vários óxidos complexos ba- seados em Mn-Si tais como tefroíte (Mn2SiO4) e knebelita ((Fe, Mn)2SiO4).
[00128] No caso onde a permanência térmica é conduzida a 600o C no estágio de aquecimento de recozimento por descarburação, a dec- P500-600 é definida como o grau de oxidação PH2O/PH2 com base no ponto de atingimento de 500o C e no ponto de término da permanência térmica a 600o C. Similarmente, a dec-P600-700 é definida como o grau de oxidação PH2O/PH2 com base no ponto de término da permanência térmica a 600o C e o ponto de atingimento de 700o C. (2) Condições de permanência
[00129] No processo de recozimento por descarburação, é impor- tante satisfazer a taxa e a atmosfera de aquecimento no estágio de aquecimento acima, e as condições de permanência na temperatura de recozimento por descarburação não são particularmente limitadas. Em geral, no estágio de permanência de recozimento por descarbura- ção, a permanência é conduzida na faixa de temperatura de 700 a 1000º C por 10 segundos a 10 minutos. Recozimento em múltiplas etapas pode ser conduzido. Na modalidade, recozimento em duas etapas como explicado abaixo pode ser conduzido no estágio de per- manência de recozimento por descarburação.
[00130] Por exemplo, no processo de recozimento por descarbura- ção, a chapa de aço laminada a frio é mentida sob as condições que seguem. O primeiro recozimento e o segundo recozimento são condu- zidos após aumento da temperatura da chapa de aço laminada a frio. Quando dec-T1 é uma temperatura de permanência em unidades de o C, dec-t1 é um tempo de permanência em unidades de segundos e dec-PI é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o primeiro recozimento e quando dec-TII é uma temperatura de perma- nência em unidades de oC, dec-tII é um tempo de permanência em unidades de segundos e dec-PII é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o segundo recozimento. a dec-TI é 700 a 900C, a dec-tI é 10 a 1000 segundos, a dec-PI é 0,10 a 1,0, a dec-TII é (dec-TI + 50)C ou mais e 1000C ou menos, a dec-tII é 5 a 500 segundos, a dec-PII é 0,00001 a 0,10, e a dec-PI e a dec-PII satisfazem dec-PI > dec-PII.
[00131] Na modalidade, embora seja importante controlar a forma- ção do precursor de óxido contendo Mn (precursor contendo Mn0 no estágio de aquecimento de recozimento por descarburação, a forma- ção de precursor contendo Mn pode ser preferivelmente controlada conduzindo o recozimento de duas etapas onde o primeiro recozimen- to é conduzido em temperatura menor e o segundo recozimento é conduzido em temperatura maior no estágio de permanência.
[00132] Por exemplo, no primeiro recozimento, dec-TI (temperatura da chapa) pode ser 700 a 900º C, e a det-tI pode ser 10 segundos ou mais para melhoria da descarburação. O limite inferior de dec-TI é pre- ferivelmente 780ºC. O limite superior de dec-TI é preferivelmente 860ºC. O limite inferior de dec-tI é preferivelmente 50 segundos. O limi- te superior de dec-tI não é particularmente limitado, mas pode ser 1000 segundos para a produtividade. O limite superior de dec-tI é preferi- velmente 300 segundos.
[00133] No primeiro recozimento, a dec-PI pode ser 0,10 a 1,0 para controle do precursor contendo Mn. Em adição ao acima, é preferível controlar a dec-PI para ser valor grande comparado com a dec-P500-600 e a dec-P600-700. No primeiro recozimento, quando o grau de oxidação é suficientemente grande, é possível suprimir a substituição do precur- sor contendo Mn com SiO2. Além disso, quando o grau de oxidação é suficientemente grande, é possível suficientemente prosseguir a rea- ção de descarburação. No entanto, quando a dec-PI é excessivamente grande, o precursor contendo Mn pode ser substituído com faialita (Fe2SiO4). Fe2SiO4 deteriora a adesão de película de vidro. O limite inferior de dec-PI é preferivelmente 0,2. O limite superior de dec-PI é preferivelmente 0,8.
[00134] Mesmo quando o primeiro recozimento é controlado, é difí- cil suprimir perfeitamente a formulação de Fe2SiO4. Portanto, é preferí- vel controlar o recozimento de segundo estágio. Por exemplo, no se- gundo recozimento, a dec-TII (temperatura da chapa) pode ser (dec-TI + 50)oC ou mais e 1000º C ou menos, e a dec-tII pode ser 5 a 500 se- gundos. Quando o segundo recozimento é conduzido sob as condi- ções acima, Fe2SiO4 é reduzido para o precursor contendo Mn durante o segundo recozimento, mesmo se Fe2SiO4 for formado durante o pri- meiro recozimento. O limite inferior de dec-TII é preferivelmente (dec-TI + 100)oC. O limite inferior de dec-tII é preferivelmente 10 segundos. Quando a dec-tII é mais do que 500 segundos, o precursor contendo Mn pode ser reduzido para SiO2. O limite superior de dec-tII é preferi- velmente 100 segundos.
[00135] A fim de controlar o segundo recozimento para ser atmosfe- ra de redução, é preferível satisfazer dec-PI > dec-PII, em adição ao controle da dec-PII para ser 0,00001 a 0,10. Ao conduzir o o segundo recozimento sob as condições de atmosfera acima, é possível preferi- velmente obter excelente adesão de revestimento como o produto fi- nal.
[00136] Ainda, na modalidade, é preferível controlar o grau de oxi- dação PH2O/PH2 através do estágio de aquecimento e o estágio de permanência de recozimento por descarburação. Especificamente, no processo de recozimento por descarburação, é preferivelmente a dec- P500-600, a dec-P600-700, a dec-PI e a dec-PII satisfaçam dec-P500-600 > dec-P600-700 < dec-PI > dec-PII. Isto é, é preferível que: o grau de oxida- ção seja mudado para valor menor no momento de troca da faixa de temperatura de 500 para 600º C para a faixa de temperatura de 600 a 700ºC no estágio de aquecimento; o grau de oxidação é mudado para valor maior no momento de troca da faixa de temperatura de 600 para 700ºC no estágio de aquecimento para o primeiro recozimento no es- tágio de permanência; e o grau de oxidação é mudado para valor me- nor no momento de troca do primeiro recozimento para o segundo re- cozimento no estágio de permanência. Ao controlar o grau de oxidação como descrito acima, é possível controlar preferivelmente a formação de precursor contendo Mn.
[00137] Ainda, no método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a modalidade, nitridação pode ser conduzida após o recozimento por descarburação e antes da aplica- ção do separador de recozimento. Na nitridação, a chapa de aço após o recozimento por descarburação é submetida à nitridação, e então a chapa de aço nitridada é obtida.
[00138] A nitridação pode ser conduzida sob condições conhecidas. Por exemplo, as condições preferíveis para nitridação são como se- gue. Temperatura de nitridação: 700 a 850ºC Atmosfera no forno de nitridação (atmosfera de nitridação): atmosfera incluindo gás com habilidade de nitridação tais como hidrogênio, nitro- gênio e amônia.
[00139] Quando a temperatura de nitridação é 700ºC ou mais, ou quando a temperatura de nitridação é 850ºC ou menos, nitrogênio ten- de a penetrar na chapa de aço durante a nitridação. Quando a nitrida- ção é conduzida dentro da faixa de temperatura, é possível preferivel-
mente assegurar a quantidade de nitrogênio na chapa de aço. Portan- to, o AlN fino é preferivelmente formado na chapa de aço antes da re- cristalização secundária. Como resultado, a recristalização secundária ocorre preferivelmente durante o recozimento final. O tempo para per- manência da chapa de aço durante a nitridação não é particularmente limitado, mas pode ser 10 a 60 segundos. 3-5. Processo de recozimento final
[00140] No processo de recozimento final, o separador de recozi- mento é aplicado à chapa recozida descarbonetada após o processo de recozimento por descarburação, e então o recozimento final é con- duzido. No recozimento final, a chapa de aço enrolada pode ser reco- zida por um tempo longo. A fim de suprimir a adesão de chapa de aço enrolada durante o recozimento final, o separador de recozimento é aplicado à chapa recozida por descarburação e seco antes do recozi- mento final.
[00141] O separador de recozimento pode incluir a magnésia (MgO) como componente principal. Além disso, o separador de recozimento pode incluir o composto Ti de 0,5 a 10% em massa em equivalente de Ti metálico. Durante o recozimento final, MgO no separador de reco- zimento reage com a película de óxido de recozimento por descarbu- ração, de maneira que película de vidro (Mg2SiO4 e similar) é forma- da. Em geral, quando o separador de recozimento inclui Ti, TiN é for- mado na película de vidro. Por outro lado, na modalidade, uma vez que o precursor contendo Mn e o Mn de segregação interfacial estão presentes, ele é suprimido para formar TiN na película de vidro.
[00142] As condições de recozimento de recozimento final não são particularmente limitadas, e condições conhecidas podem ser aplica- das apropriadamente. Por exemplo, no recozimento final, a chapa re- cozida por descarburação após aplicação e secagem do separador de recozimento pode ser mantida na faixa de temperatura de 1000 a
1300ºC por 10 a 60 horas. Ao conduzir o recozimento final sob as con- dições acima, a recristalização secundária ocorre, e Mn segrega entre a película de vidro e a chapa de aço silício. Como resultado, é possível melhorar a adesão do revestimento sem deteriorar as caraterísticas magnéticas. A atmosfera durante o recozimento final pode ser atmos- fera de nitrogênio ou atmosfera mista de nitrogênio e hidrogênio. Quando a atmosfera durante o primeiro recozimento é atmosfera mista de nitrogênio e hidrogênio, o grau de oxidação pode ser ajustado para 0,5 ou menos.
[00143] Através do recozimento final, a recristalização secundária ocorre na chapa de aço, e os grãos são alinhados com orientação {110}<001>. Na estrutura recristalizada secundária, o eixo fácil de magnetização é alinhado na direção de laminação, e os grãos são grossos. Devido à estrutura recristalizada secundária, é possível obter as excelentes características magnéticas. Depois do recozimento final e antes da formação do revestimento isolante, a superfície da chapa recozida final pode ser lavada com água ou decapada para remover pó e similar.
[00144] Na modalidade, Mn no aço difunde durante recozimento final, e Mn segrega na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício (Mn de segregação interfacial). A razão pela qual Mn segre- ga na interface não é clara no momento, parece que a segregação de Mn acima é afetada pela presença do precursor contendo Mn próximo da superfície de chapa recozida por descarburação. No caso onde o precursor contendo Mn não existe próximo da superfície de chapa re- cozida por descarburação como a técnica convencional, Mn tende a não segregar na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício. Mesmo quando Mn segrega na interface, é difícil obter o Mn de segregação interfacial como na modalidade. 3-6. Processo de formação de revestimento isolante
[00145] No processo de formação de revestimento isolante, a solu- ção de formação de revestimento isolante é aplicada à chapa recozida final após o processo de recozimento final, e então o tratamento térmi- co é conduzido. Através de tratamento térmico, o revestimento isolante é formado sobre a superfície da chapa recozida final. Por exemplo, a solução de formação de revestimento isolante pode incluir sílica coloi- dal e fosfato. A solução de formação de revestimento isolante também pode incluir cromo. (1) Condições de aquecimento
[00146] Na modalidade, as condições de aquecimento para aque- cimento da chapa recozida final à qual a solução de formação de re- vestimento isolante é aplicada são controladas. Especificamente, a chapa recozida final é aquecida sob as condições que seguem. Quan- do ins-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unidades de o C/segundo em uma faixa de temperatura de 600 a 700ºC e ins-S700-800 é uma taxa de aquecimento média em unidades de oC/segundo em uma faixa de temperatura de 700 a 800º C durante aumento de uma temperatura da chapa recozida final, a ins-S600-700 é 10 a 200 C/segundos, a ins-S700-800 é 5 a 100 C/segundos, e a ins-S600-700 e a ins-S700-800 satisfaz ins-S600-700 > ins-S700-
800.
[00147] Como descrito acima, na chapa recozida final, o precursor contendo Mn existe e Mn segrega na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silício (chapa de aço de base). No momento após o recozimento final e antes da formação do revestimento isolante, Mn pode existir na interface com o precursor contendo Mn ou como o Mn de segregação interfacial (átomo de Mn sozinho). Quando o revesti- mento isolante é formado sob as condições de aquecimento acima usando a chapa recozida final acima, o óxido contendo Mn (Braunita e
Tetróxido de manganês) é formado a partir do precursor contendo Mn e o Mn de segregação interfacial.
[00148] A fim de preferivelmente formar o óxido contendo Mn, em particular Mn7SiO12 (Braunita) e Tetróxido de manganês (Mn3O4), é necessário suprimir a formação de SiO2 ou óxido baseado em Fe du- rante o estágio de aquecimento para formação do revestimento isolan- te. SiO2 ou óxido à base de Fe tem formato altamente simétrico tal como esfera ou retângulo. Portanto, SiO2 ou óxido à base de Fe não age suficientemente como a âncora, e difícil contribuir para a melhoria de adesão de revestimento. SiO2 ou óxido à base de Fe se forma pre- ferivelmente na faixa de temperatura de 600 a 700ºC durante o estágio de aquecimento para formação do revestimento isolante. Por outro la- do, o óxido contendo Mn (Braunita e Mn3O4) se forma preferivelmente na faixa de temperatura de 700 a 800ºC. Portanto, é necessário encur- tar o tempo de detenção na faixa de 600 a 700ºC onde SiO2 ou óxido à base de Fe se forma, comparado com o tempo de detenção na faixa de 700 a 800º C onde o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) se forma.
[00149] Portanto, é necessário satisfazer ins-S600-700 > ins-S700-800, em adição a controlar a ins-S600-700 para ser 10 a 200C/segundos e a ins-S700-800 ser5 a 100C/segundos. Quando o valor de ins-S700-800 é mais do que aquele de ins-S600-700, a quantidade de SiO2 ou óxido à base de Fe formado se torna maior do que aquela de óxido contendo Mn formado (Braunita ou Mn3O4). No caso, pode ser difícil melhorar a adesão do revestimento. A ins-S600-700 é preferivelmente 1,2 a 20 vezes comparado com a ins-S700-800.
[00150] Quando a ins-S600-700 é menos do que 10º C/segundo, SiO2 ou óxido à base de Fe se forma excessivamente, e então é difícil pre- ferivelmente controlar o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4). A ins- S600-700 é preferivelmente 40º C/segundo ou mais. A fim de suprimir ex-
cesso, a ins-S600-700 pode ser 200º C/segundo.
[00151] Ainda, é importante controlar a ins-S700-800. Na faixa de temperatura, o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) se forma prefe- rivelmente. Portanto, a fim de assegurar o tempo de detenção na faixa de temperatura, é necessário diminuir o valor de ins-S700-800. Quando a ins-S700-800 é mais do que 100º C/segundo, o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) não se forma suficientemente. A ins-S700-800 é pre- ferivelmente 50º C/segundo ou menos. O limite inferior de ins-S700-800 não é particularmente limitado, mas pode ser 5º C/segundo para a produtividade.
[00152] No processo de formação de revestimento isolante, é prefe- rível controlar o grau de oxidação de atmosfera no estágio de aqueci- mento, em adição à taxa de aquecimento acima. Especificamente, a chapa recozida final é preferivelmente aquecida sob as condições que seguem. Quando ins-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de temperatura de 600 a 700º C e ins-P700-800 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de tempe- ratura de 700 a 800º C durante aumento da temperatura da chapa re- cozida final, a ins-P600-700 é 1,0 ou mais, a ins-P700-800 é 0,1 a 5,0, e a ins-P600-700 e a ins-P700-800 satisfazem ins-P600-700 > ins-P700-800.
[00153] Embora o revestimento isolante mostre resistência à oxida- ção, a sua estrutura pode ser danificada em atmosfera de redução, e dessa maneira pode ser difícil obter a tensão e adesão de revestimen- to desejadas. Portanto, o grau de oxidação é preferivelmente valor maior na faixa de temperatura de 600 a 700º C onde parece que o re- vestimento isolante começa a ser seco e ser solidificado. Especifica- mente, o grau de oxidação ins-P600-700 é preferivelmente 1,0 ou mais.
[00154] Por outro lado, o grau de oxidação maior é desnecessário na faixa de temperatura de 700ºC ou mais. Ao contrário, quando o aquecimento é conduzido no grau de oxidação maior tal como 5,0 ou mais, pode ser difícil obter a tensão de revestimento e adesão de re- vestimento desejadas. Embora o mecanismo detalhado não seja claro no momento, parece que: a cristalização de revestimento isolante prossegue; os limites de grão são formados; o gás atmosférica passa através dos limites de grão; o grau de oxidação aumenta na película de vidro ou na interface entre a película de vidro e a chapa de aço silí- cio; e os óxidos prejudiciais para a adesão de revestimento tal como óxido à base de Fe são formados. O grau de oxidação na faixa de temperatura de 700 a 800º C é preferivelmente menor do que aquele na faixa de temperatura de 600 a 700ºC.
[00155] Especificamente, é preferível satisfazer ins-P600-700 > ins- P700-800, em adição ao controle de ins-P600-700 ser 1,0 ou mais e a ins- P700-800 ser 0,1 a 5,0.
[00156] No caso onde o recozimento é conduzido na atmosfera sem hidrogênio, o valor de PH2O/PH2 diverge indefinidamente. Portanto, o limite superior de grau de oxidação ins-P600-700 não é particularmente limitado, mas pode ser 100.
[00157] Quando a ins-P700-800 é mais do que 5,0, SiO2 ou óxido à base de Fe pode se formar excessivamente. Dessa maneira, o limite superior de ins-P700-800 é preferivelmente 5,0. Por outro lado, o limite inferior de ins-P700-800 não é particularmente limitado, mas pode ser 0. O limite inferior de ins-P700-800 pode ser 0,1.
[00158] No caso onde a permanência em 700º C ou o resfriamento primário é conduzido no estágio de aquecimento para formação do re- vestimento isolante, a ins-P600-700 é definida como a taxa de aqueci- mento com base no ponto de atingimento de 600ºC e o ponto de início da permanência em 700ºC ou o ponto de início do resfriamento. Simi-
larmente, a ins-P600-700 é definida como a taxa de aquecimento com base no ponto de acabamento da permanência a 700º C ou o ponto de atingimento de 700º C através de novo aquecimento após o resfria- mento e o ponto de atingimento de 800ºC. (2) Condições de permanência
[00159] No processo de formação de revestimento isolante, as con- dições de permanência na temperatura de formação de revestimento isolante não são particularmente limitadas. Em geral, no estágio de permanência para formação do revestimento isolante, a permanência é conduzida na faixa de temperatura de 800º a 1000º C por 5 a 100 segundos. O tempo de permanência é preferivelmente 50 segundos ou menos.
[00160] É possível produzir a chapa de aço elétrico de grão orienta- do de acordo com a modalidade através do método de produção aci- ma. Na chapa de aço elétrico de grão orientado produzido através do método de produção acima, o óxido contendo Mn (Braunita ou Mn3O4) está incluído na película de vidro e, desta maneira, a adesão do reves- timento é preferivelmente melhorada sem deteriorar as características magnéticas. Exemplos
[00161] Daqui em diante, os efeitos de um aspecto da presente in- venção são descritos em detalhes com referência aos exemplos que seguem. No entanto, a condição nos exemplos é uma condição de exemplo empregada para confirmar a operabilidade e os efeitos da presente invenção, de modo que a presente invenção não é limitada à condição exemplar. A presente invenção pode empregar vários tipos de condições contanto que as condições não se afastem do escopo da presente invenção e possam atingir o objeto da presente invenção. (Exemplo 1)
[00162] Uma placa de aço silício (peça de aço) tendo a composição mostrada nas Tabelas 1 a 10 foi aquecida na faixa de 1280 a 1400º C e então laminada a quente para obter uma chapa de aço laminada a quente tendo a espessura de 2,3 a 2,8 mm. A chapa de aço laminada a quente foi recozida na faixa de 900 a 1200º C, e então laminada a frio uma vez ou laminada a frio várias vezes com um recozimento in- termediário para obter uma chapa de aço laminada a frio tendo a es- pessura final. A chapa de aço laminada a frio foi recozida por descar- buração em atmosfera de hidrogênio úmida. Em seguida, um separa- dor de recozimento incluindo magnésia como componente principal foi aplicado e, então, um recozimento final foi conduzido para obter uma chapa recozida final.
[00163] Um revestimento isolante foi formado através da aplicação da solução de formação de revestimento isolante incluindo sílica coloi- dal e fosfato à superfície de chapa recozida final e então sendo cozida, e dessa maneira uma chapa de aço elétrico de grão orientado foi pro- duzida. Os elementos técnicos de chapa de aço elétrico de grão orien- tado foram avaliados com base no método acima. Além disso, com relação à chapa de aço elétrico de grão orientado, a adesão de reves- timento do revestimento isolante e as características magnéticas (den- sidade de fluxo magnético) foram avaliadas.
[00164] As características magnéticas foram avaliadas com base no método Epstein regulado pela JIS C2550: 2011. A densidade de fluxo magnético B8 foi medida. B8 é a densidade de fluxo magnético ao lon- go da direção de laminação sob o campo e magnetização de 800A/m, e se torna os critérios de julgamento se a recristalização secundária ocorre apropriadamente. Quando B8 é 1,89T ou mais, a recristalização secundária foi julgada ocorrer apropriadamente.
[00165] A adesão de revestimento do revestimento isolante foi ava- liada através de laminação de uma peça de teste ao redor de cilindro com 20 mm de diâmetro e através da medição de uma fração de área de revestimento restante após dobra de 180º. A fração de área de re- vestimento restante foi obtida com base em uma área da chapa de aço que contatava o cilindro. A área da chapa de aço que contatava com o cilindro foi obtida através de cálculo. A área de revestimento restante foi obtida tirando uma fotografia da chapa de aço após o teste acima e conduzindo análise de imagem na imagem fotográfica. Em relação à fração de área de revestimento restante, a fração de área de 98% ou mais foi jugada ser "Excelente", a fração de área de 95% a menos de 98% foi julgada ser "Muito Boa (VG)", a fração de área de 90% a me- nos de 95% foi julgada ser "Boa", a fração de área de 85% a menos de 90% foi julgada ser "Razoável", a fração de área de 80% a menos de 85% foi julgada ser "Pobre" e a fração de área de menos de 80% foi julgada ser "Ruim". Quando a fração de área de revestimento restante era 85% ou mais, a adesão foi julgada ser aceitável.
[00166] As condições de produção, resultados de produção e resul- tados de avaliação são mostrados nas Tabelas 1 a 40. Nas tabelas "-" com relação à composição química indica que nenhum elemento de formação de liga foi intencionalmente adicionado ou que o teor era menos do que o limite de detecção. Nas tabelas, "-" exceto os compo- nentes químicos indica que o teste foi realizado. Além disso, nas tabe- las, o valor sublinhado indica fora da faixa da presente invenção.
[00167] Nas tabelas, "S1" indica a dec-S500-600, ''S2'' indica a dec- S600-700, ''P1'' indica a dec-P500-600, ''P2'' indica a dec-P600-700, ''TI'' indica a dec-TI, ''TII'' indica a dec-TII, ''tI'' indica a dec-tI, ''tII'' indica a dec-tII, ''PI'' indica a dec-PI, ''PII'' indica a dec-PII, ''S3'' indica a ins-S600-700, ''S4'' indica a ins-S700-800, ''P3'' indica a ins-P600-700 e ''P4'' indica a ins- P700-800. Além disso, nas tabelas, "CONTROLE DE GRAU DE OXIDA- ÇÃO TOTAL" indica se ou não dec-P500-600 > dec-P600-700 < dec-PI > dec-PII é satisfeita. Nas tabelas, "FRAÇÃO NUMÉRICA DE GRÃOS RECRISTALIZADOS SECUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RE-
CRISTALIZADOS SECUNDÁRIOS" indica uma fração numérica de grãos recristalizados secundários com o diâmetro máximo de 30 a 100 mm nos grãos recristalizados secundários totais. Nas tabelas, tipo "B" de "ÓXIDO CONTENDO Mn" indica Braunita, tipo "M" de "ÓXIDO CONTENDO Mn" indica Mn3O4. Além disso, nas tabelas, "INTENSI- DADE DIFRATADA DE IFor E ITiN BY XRD'' indica se ITiN < IFor é satisfei- ta ou não.
[00168] Nos testes Nos. B4 e B48, a ruptura ocorreu durante lami- nação a frio. Nos testes Nos. B11 e B51, a ruptura ocorreu durante la- minação a quente. Nos testes Nos. A131 a A133 e B43, o separador de recozimento incluía o composto Ti de 0,5 a 10% em massa em equivalente de Ti metálico. No teste No. A127, Braunita ou Mn3O4 não foi incluído como o óxido contendo Mn, e os óxidos complexos basea- dos em MnSi e os óxidos de manganês tal como MnO foram incluídos. Além disso, a avaliação exceto da densidade de fluxo magnético não foi realizada para a chapa de aço mostrando a densidade de fluxo magnético B8 de menos do que 1,89T.
[00169] Nos testes Nos. A1 a A133 que são exemplos da invenção, os exemplos mostram excelentes características de adesão de reves- timento e magnéticas excelentes. Por outro lado, nos testes Nos. B1 a B53 que são os exemplos comparativos, características magnéticas suficientes não são obtidas, adesão de revestimento suficiente não é obtida ou a ruptura ocorreu durante laminação a frio.
Tabela 1 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURA-
ÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em ESTÁGIO DE AQUECIMENTO massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SO- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
LÚVEM MÉDIA EM ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON-
DE DE TROLE DE DE TROLE TEM- TEM- DE TEMPE- DE TEM- PERA- TAXA RATURA GRAU PERA- PERA- DE 600 A DE
TURA DE DE 500 TURA AQUE- TURA 700º C OXI- A 600º DE 600 CIMEN- DE 500 DA- 58/98 C S1 A 700º C TO A 600º C ÇÃO S2 S1˂S2 P1 P2 P1>P2 °C/s °C/s - - - - A1 2, 65 0, 030 0,012 0,019 0,017 0, 009 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A2 2, 82 0, 040 0,192 0,019 0,018 0, 007 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A3 2, 65 0, 040 0, 035 0,018 0,018 0, 008 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A4 3, 95 0, 030 0,152 0,017 0,018 0, 009 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A5 2, 91 0, 040 0,122 0,011 0,019 0, 008 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A6 2, 94 0, 320 0, 038 0, 067 0,016 0, 055 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A7 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A8 3, 85 0, 010 0,015 0, 066 0,013 0, 052 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A9 3,81 0, 490 0, 036 0, 064 0,014 0, 051 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A10 2, 72 0, 330 0, 028 0, 062 0,015 0, 006 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A11 2, 95 0, 170 0,121 0,014 0,011 0, 078 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A12 3, 25 0, 160 0,156 0,015 0,013 0, 009 - 0, 006 - - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A13 3,21 0, 120 0,171 0,017 0,011 0, 009 - 0, 48 - - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A14 3, 30 0, 180 0,186 0, 055 0,015 0, 041 - - 0,01 - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A15 3, 28 0, 140 0,152 0, 054 0,015 0, 043 - - 0, 48 - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A16 3, 25 0, 160 0,122 0, 062 0,014 0, 008 - - - 0, 01 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A17 3,21 0, 150 0,112 0, 051 0,015 0, 009 - - - 0, 95 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A18 3, 25 0, 180 0,116 0, 055 0,012 0, 008 0, 018 - - - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A19 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM
Tabela 2 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO 700º C S2 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s P1 °C/s - - - - 59/98 A20 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM A21 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM A22 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM A23 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A24 3, 27 0, 075 0, 051 0, 047 0, 005 0, 022 - - 0, 06 0, 15 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A25 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A26 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A27 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0, 12 0, 03 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A28 3, 35 0, 078 0, 056 0, 046 0, 006 0, 032 - 0, 33 - 0, 11 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A29 3, 36 0, 065 0, 042 0, 042 0, 009 0,011 0, 001 - 0, 37 - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM A30 3, 39 0, 092 0, 041 0, 048 0, 005 0,017 0, 007 0,28 0, 035 - 800 1000 BOM 0, 1 0, 05 BOM B1 3, 23 0, 060 0, 007 0, 023 0, 008 0,013 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B2 3, 25 0, 040 0,215 0, 031 0, 007 0,017 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B3 2, 45 0, 060 0, 042 0, 045 0, 007 0,015 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B4 4, 10 0, 070 0, 048 0, 026 0, 007 0, 008 - - - - - - - - - - B5 3, 20 0, 080 0, 056 0, 008 0, 006 0, 008 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B6 3, 12 0, 050 0, 062 0, 077 0, 008 0, 052 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B7 3, 20 0, 480 0, 055 0, 022 0, 025 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B8 3,31 0, 009 0, 031 0, 045 0, 008 0, 066 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM
Tabela 3 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO 700º C S1˂S2 S2 P1 °C/s P2 P1>P2 °C/s - - - - B9 3, 36 0, 520 0, 078 0, 032 0, 007 0, 024 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM 60/98 B10 3, 34 0, 440 0, 062 0, 020 0, 008 0, 004 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B11 3, 35 0,210 0, 062 0, 022 0, 007 0, 082 - - - - - - - - - - B12 2, 65 0, 030 0,012 0,019 0,017 0, 009 - - - - 620 3700 BOM 0, 00007 0, 00005 BOM B13 2,51 0, 040 0, 035 0,018 0,018 0, 008 - - - - 360 3500 BOM 0, 00009 0, 00005 BOM B14 2, 91 0, 040 0,122 0,011 0,019 0, 008 - - - - 1850 3150 BOM 0,14 0,1 BOM B15 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 310 310 RUIM 0,13 0,1 BOM B16 3,81 0, 490 0, 036 0, 064 0,014 0, 051 - - - - 1880 3890 BOM 0, 00009 0, 00005 BOM B17 2, 72 0, 330 0, 028 0, 062 0,015 0, 006 - - - - 420 450 BOM 0, 00001 0, 00001 - A31 2, 95 0, 170 0,121 0,014 0,011 0, 078 - - - - 360 420 BOM 0, 49 0, 49 - B18 3, 25 0, 160 0,156 0,015 0,013 0, 009 - 0, 006 - - 380 470 BOM 0, 00007 0, 00005 BOM B19 3,21 0, 120 0,171 0,017 0,011 0, 009 - 0, 48 - - 390 480 BOM 0, 00009 0, 00005 BOM B20 3, 30 0, 180 0,186 0, 055 0,015 0, 041 - - 0,01 - 400 490 BOM 0, 00007 0, 00005 BOM B21 3,21 0, 150 0,112 0, 051 0,015 0, 009 - - - 0, 95 1550 3900 BOM 0,16 0,1 BOM B22 3, 25 0, 180 0,116 0, 055 0,012 0, 008 0, 018 - - - 410 1400 BOM 0, 00007 0, 00005 BOM A32 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 860 2700 BOM 0,19 0,1 BOM A33 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 410 700 BOM 0,13 0,1 BOM B23 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 490 980 BOM 0, 00008 0, 00005 BOM B24 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 770 1100 BOM 0, 00006 0, 00005 BOM
Tabela 4 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO 700º C S2 P1 °C/s S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - B25 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 900 1450 BOM 0, 00009 0, 00005 BOM 61/98 A34 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 550 2550 BOM 0, 0002 0, 0001 BOM A35 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 780 2600 BOM 0, 085 0, 05 BOM A36 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 720 1200 BOM 0, 0005 0, 0001 BOM A37 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 810 1180 BOM 0, 0012 0, 0005 BOM A38 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 1100 1590 BOM 0, 0031 0, 001 BOM A39 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 1500 2100 BOM 0, 0012 0, 0005 BOM A40 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 820 990 BOM 0,15 0,1 BOM A41 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 520 1550 BOM 0, 08 0, 05 BOM A42 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 1700 2400 BOM 0,12 0, 05 BOM A43 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 780 950 BOM 0, 15 0,1 BOM A44 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 500 1600 BOM 0, 08 0,01 BOM A45 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 1600 2500 BOM 0, 12 0, 05 BOM A46 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 810 1000 BOM 0, 15 0,1 BOM A47 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 550 1600 BOM 0, 09 0, 05 BOM A48 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 1500 2200 BOM 0, 12 0, 05 BOM A49 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 1200 2550 BOM 0, 15 0,1 BOM A50 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 780 2600 BOM 0, 005 0, 001 BOM A51 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0, 12 0, 03 1550 1900 BOM 0, 003 0, 001 BOM
Tabela 5 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO °C/s 700º C S2 P1 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - A52 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0,12 0, 03 410 1400 BOM 0, 25 0,15 BOM 62/98 A53 3, 35 0, 078 0, 056 0, 046 0, 006 0, 032 - 0, 33 - 0,11 900 2700 BOM 0, 27 0,2 BOM A54 3, 36 0, 065 0, 042 0, 042 0, 009 0,011 0, 001 - 0, 37 - 410 800 BOM 0, 25 0,2 BOM A55 3, 36 0, 065 0, 042 0, 042 0, 009 0,011 0, 001 - 0, 37 - 800 2400 BOM 0, 29 0, 25 BOM A56 3, 39 0, 092 0, 041 0, 048 0, 005 0,017 0, 007 0, 28 0, 035 - 790 2500 BOM 0, 28 0,2 BOM B26 3, 28 0, 140 0,152 0, 054 0,015 0, 043 - - 0, 48 - 590 450 RUIM 0, 005 0, 001 BOM B27 3, 25 0, 160 0,122 0, 062 0,014 0, 008 - - - 0, 01 270 480 BOM 0, 004 0, 001 BOM B28 3,21 0, 150 0,112 0, 051 0,015 0, 009 - - - 0, 95 2200 2700 BOM 0, 006 0, 001 BOM B29 3, 25 0, 180 0,116 0, 055 0,012 0, 008 0, 018 - - - 310 280 RUIM 0, 007 0, 001 BOM B30 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 460 880 BOM 0,51 0, 45 BOM B31 3, 28 0, 140 0,152 0, 054 0,015 0, 043 - - 0, 48 - 620 1700 BOM 0, 0009 0, 0001 BOM B32 3, 25 0, 160 0,122 0, 062 0,014 0, 008 - - - 0, 01 350 1500 BOM 0, 0008 0, 0001 BOM B33 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 550 2500 BOM 0, 08 0, 05 BOM A57 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A58 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A59 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A60 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A61 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A62 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM
Tabela 6 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO °C/s 700º C S2 P1 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - A63 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM 63/98 A64 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A65 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1300 BOM 0, 1 0, 05 BOM A66 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1300 BOM 0, 1 0, 05 BOM A67 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A68 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A69 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A70 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A71 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A72 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A73 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A74 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A75 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1300 BOM 0, 1 0, 05 BOM A76 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1300 BOM 0, 1 0, 05 BOM A77 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A78 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1300 BOM 0,1 0, 05 BOM A79 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1500 BOM 0,1 0, 05 BOM A80 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1500 BOM 0,1 0, 05 BOM A81 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 600 1500 BOM 0,1 0, 05 BOM
Tabela 7 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO °C/s 700º C S2 P1 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - A82 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1500 BOM 0,1 0, 05 BOM 64/98 A83 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A84 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A85 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A86 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A87 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A88 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A89 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0, 12 0, 03 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A90 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0, 12 0, 03 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A91 3, 35 0, 078 0, 056 0, 046 0, 006 0, 032 - 0, 33 - 0,11 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A92 3, 35 0, 078 0, 056 0, 046 0, 006 0, 032 - 0, 33 - 0, 11 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A93 3, 36 0, 065 0, 042 0, 042 0, 009 0,011 0, 001 - 0, 37 - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A94 3, 39 0, 092 0, 041 0, 048 0, 005 0,017 0, 007 0, 28 0, 035 - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A95 3, 39 0, 092 0, 041 0, 048 0, 005 0,017 0, 007 0, 28 0, 035 - 600 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM A96 2, 65 0, 030 0,012 0,019 0,017 0, 009 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A97 2, 82 0, 040 0,192 0,019 0,018 0, 007 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A98 2,51 0, 040 0, 035 0,018 0,018 0, 008 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A99 3, 95 0, 030 0,152 0,017 0,018 0, 009 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A100 2, 91 0, 040 0,122 0,011 0,019 0, 008 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM
Tabela 8 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO °C/s 700º C S2 P1 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - A101 2, 94 0, 320 0, 038 0, 067 0,016 0, 055 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM 65/98 A102 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A103 3, 85 0, 010 0,015 0, 066 0,013 0, 052 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A104 3,81 0, 490 0, 036 0, 064 0,014 0, 051 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A105 2, 72 0, 330 0, 028 0, 062 0,015 0, 006 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A106 2, 95 0, 170 0,121 0,014 0,011 0, 078 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A107 3, 25 0, 160 0,156 0,015 0,013 0, 009 - 0, 006 - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A108 3,21 0, 120 0,171 0,017 0,011 0, 009 - 0, 48 - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A109 3, 30 0, 180 0,186 0, 055 0,015 0, 041 - - 0,01 - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A110 3, 28 0, 140 0,152 0, 054 0,015 0, 043 - - 0, 48 - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A111 3, 25 0, 160 0,122 0, 062 0,014 0, 008 - - - 0, 01 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A112 3,21 0, 150 0,112 0, 051 0,015 0, 009 - - - 0, 95 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A113 3, 25 0, 180 0,116 0, 055 0,012 0, 008 0, 018 - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A114 3, 22 0, 051 0, 042 0, 045 0, 006 0, 038 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A115 3, 26 0, 052 0, 091 0, 042 0, 006 0,017 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A116 3, 26 0, 095 0, 071 0, 032 0, 006 0, 033 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A117 3, 28 0, 081 0, 081 0, 022 0, 007 0, 023 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A118 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A119 3, 27 0, 075 0, 051 0, 047 0, 005 0, 022 - - 0, 06 0, 15 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM
Tabela 9 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, EQUILÍ- ESTÁGIO DE AQUECIMENTO BRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM MÉDIA
ÁCIDO FAIXA FAIXA CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- DE TROLE TEMPE- TROLE DE TEM- TEMPE- TEMPE- DE TAXA RATURA DE RATURA PERA- DE RATURA DE 600 A GRAU DE 500 A TURA DE AQUE- DE 500 A 700º C DE 600º C 600 A CIMEN- OXIDA- 600º C S1 TO ÇÃO °C/s 700º C S2 P1 S1˂S2 P2 P1>P2 °C/s - - - - A120 3, 25 0, 085 0, 060 0, 025 0, 008 0, 028 0, 002 - - 0, 08 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM 66/98 A121 3, 25 0, 091 0, 052 0, 022 0, 005 0, 038 - 0,14 0, 02 - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A122 3, 25 0, 092 0, 052 0, 031 0, 009 0, 039 - 0, 02 0, 12 0, 03 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A123 3, 35 0, 078 0, 056 0, 046 0, 006 0, 032 - 0, 33 - 0,11 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A124 3, 36 0, 065 0, 042 0, 042 0, 009 0,011 0, 001 - 0, 37 - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A125 3, 39 0, 092 0, 041 0, 048 0, 005 0,017 0, 007 0, 28 0, 035 - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B34 3, 23 0, 060 0, 007 0, 023 0, 008 0,013 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B35 3, 25 0, 040 0,215 0, 031 0, 007 0,017 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B36 2, 45 0, 060 0, 042 0, 045 0, 007 0,015 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B37 3, 20 0, 080 0, 056 0, 008 0, 006 0, 008 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B38 3, 12 0, 050 0, 062 0, 077 0, 008 0, 052 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B39 3, 20 0, 480 0, 055 0, 022 0, 025 0, 045 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B40 3,31 0, 009 0, 031 0, 045 0, 008 0, 066 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B41 3, 36 0, 520 0, 078 0, 032 0, 007 0, 024 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM B42 3, 34 0, 440 0, 062 0, 020 0, 008 0, 004 - - - - 700 1100 BOM 0, 05 0,01 BOM A126 2, 73 0, 010 0,015 0,019 0,019 0, 009 - - - - 900 1000 BOM 0,3 0,3 - A127 2, 95 0,310 0, 045 0, 025 0, 007 0, 023 - - - - 310 2500 BOM 0, 0001 0, 0001 - A128 3, 90 0, 490 0, 039 0, 047 0, 009 0, 039 - - - - 310 350 BOM 0,4 0,4 - A129 2,51 0, 495 0, 041 0, 044 0,011 0, 040 - - - - 310 2500 BOM 0, 0001 0, 0001 -
Tabela 10 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO
TESTE PROCESSO DE LAMINAÇÃO A QUENTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE PLACA DE AÇO SILÍCIO (PEÇA DE AÇO): (UNIDADE: % em massa, ESTÁGIO DE AQUECIMENTO EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E IMPUREZAS) Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu TAXA DE AQUECIMENTO MÉDIA GRAU DE OXIDAÇÃO
VEM EM ÁCIDO FAIXA DE FAIXA DE CON- FAIXA DE FAIXA DE CON- TEMPE- TROLE TEMPERA- TROLE TEMPERA- TEMPE-
RATURA DE TAXA TURA DE DE DE 500 A TURA DE DE RATURA 600 A 700º GRAU 600º C S1 600 A 700º AQUECI- DE 500 A C DE °C/s C MENTO OXIDA- 600º C S1˂S2 P2 ÇÃO S2 P1 P1>P2 67/98 °C/s - - - - A130 2, 78 0, 080 0, 051 0, 031 0, 005 0,010 - - - - 1800 2700 BOM 0, 0001 0, 0001 - A131 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0,1 - A132 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM A133 3, 25 0, 051 0, 072 0, 025 0, 009 0, 022 0, 001 0,11 - - 500 1500 BOM 0, 1 0, 05 BOM B43 2, 90 0, 450 0,187 0, 061 0,018 0, 045 - - - - 800 800 RUIM 0,1 0, 05 BOM B44 2, 68 0, 001 0,013 0, 021 0,017 0,010 - - - - 900 1000 BOM 0,3 0,2 BOM B45 3, 10 0, 050 0, 220 0, 029 0, 011 0, 022 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B46 3, 07 0, 045 0, 055 0, 081 0,012 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B47 3, 15 0, 055 0, 048 0,018 0, 031 0, 045 - - - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B48 2, 95 0, 065 0, 050 0,018 0, 009 0,018 0, 021 - - - - - - - - - B49 3, 10 0, 053 0, 049 0, 022 0,015 0, 040 - 0, 53 - - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B50 3, 02 0, 045 0, 045 0, 020 0,012 0, 035 - - 0,51 - 800 1000 BOM 0,1 0, 05 BOM B51 3, 07 0, 043 0, 039 0,017 0,017 0, 040 - - - 1,05 - - - - - - B52 3, 08 0, 038 0, 046 0, 026 0,010 0, 035 - - - - 800 1000 BOM 0, 0005 0, 000003 BOM B53 3, 10 0, 045 0, 030 0, 038 0,011 0, 044 - - - - 800 1000 BOM 0, 48 0,51 -
Tabela 11 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- DE RECO- TO DE MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE DE TROLE DE DE TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL TEM- RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE TEM- DE TEM- TEM- DE ÇÃO TO PERA- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TOTAL FINAL TURA TO TO TO TO DE DE 600 TURA DE TURA TURA DE OXIDA- A 700º DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO C A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO 68/98
C TO C C TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A1 820 - 160 - 0,5 - — - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A2 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A3 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A4 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A5 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A6 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A7 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A8 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A9 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A10 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A11 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A12 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A13 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A14 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A15 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A16 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A17 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A18 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A19 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 12 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- DE RECO- TO DE MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE DE TROLE DE DE TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL TEM- RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE TEM- DE TEM- TEM- DE ÇÃO TO PERA- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TOTAL FINAL TURA TO TO TO TO DE DE 600 TURA DE TURA TURA DE OXIDA- A 700º DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO C A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO 69/98
C TO C C TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A20 820 - 160 - 0,5 - — - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A21 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A22 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A23 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A24 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A25 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A26 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM Ml 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A28 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A29 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A30 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM B1 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B2 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B3 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B4 - - - - - - - - - - - - - - - - B5 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B6 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B7 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B8 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 13 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 70/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - B9 820 - 160 - 0,5 - — - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B10 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 2 60 10 BOM 1,2 1,2 - B11 - - - - - - - - - - - - - - - - B12 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 17 15 BOM 1,2 1,2 - B13 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 17 15 BOM 1,2 1,2 - B14 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 190 20 BOM 1,2 1,2 - B15 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 200 15 BOM 1,2 1,2 - B16 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 160 45 BOM 1,2 1,2 - B17 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 110 48 BOM 1,2 1,2 - A31 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 130 42 BOM 1,2 1,2 - B18 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 50 50 RUIM 1,2 1,2 - B19 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 200 5 BOM 1,2 1,2 - B20 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 11 7 BOM 1,2 1,2 - B21 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 180 95 BOM 1,2 1,2 - B22 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 32 17 BOM 1,2 1,2 - A32 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 24 14 BOM 1,2 1,2 - A33 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 29 19 BOM 1,2 1,2 - B23 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 29 15 BOM 1,2 1,2 - B24 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 31 22 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 14 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 71/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - B25 830 - 150 - 0,4 - — - 1200 20 180 78 BOM 1,2 1,2 - A34 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 160 92 BOM 2,0 1,5 BOM A35 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 120 56 BOM 2,0 1,5 BOM A36 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 189 72 BOM 2,0 1,5 BOM A37 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 150 78 BOM 2,0 1,5 BOM A38 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 180 65 BOM 2,0 1,5 BOM A39 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 190 90 BOM 2,0 1,5 BOM A40 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A41 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 55 15 BOM 2,0 1,5 BOM A42 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 68 29 BOM 2,0 1,5 BOM A43 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A44 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 62 13 BOM 2,0 1,5 BOM A45 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 58 30 BOM 2,0 1,5 BOM A46 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 60 10 BOM 2,0 1,5 BOM A47 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 70 14 BOM 2,0 1,5 BOM A48 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 55 28 BOM 2,0 1,5 BOM A49 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 180 40 BOM 2,0 1,5 BOM A50 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 175 40 BOM 2,0 1,5 BOM A51 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 192 11 BOM 2,0 1,5 BOM
Tabela 15 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 72/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A52 830 - 150 - 0,4 - — - 1200 20 185 15 BOM 2,0 1,5 BOM A53 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 190 15 BOM 2,0 1,5 BOM A54 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 195 14 BOM 2,0 1,5 BOM A55 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 188 15 BOM 2,0 1,5 BOM A56 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 190 10 BOM 2,0 1,5 BOM B26 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 180 71 BOM 1,2 1,2 - B27 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 190 65 BOM 1,2 1,2 - B28 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 45 15 BOM 1,2 1,2 - B29 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 56 18 BOM 1,2 1,2 - B30 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 28 19 BOM 1,2 1,2 - B31 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 80 85 RUIM 1,2 1,2 - B32 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 9 6 BOM 1,2 1,2 - B33 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 150 102 BOM 1,2 1,2 - A57 715 800 38 7 0, 86 0, 73 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A58 895 965 36 8 0, 93 0, 68 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A59 772 857 12 8 0, 86 0, 61 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A60 883 958 995 7 0, 89 0, 52 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A61 872 952 324 7 0, 12 0, 11 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A62 771 854 318 8 0, 96 0,51 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 16 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 73/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A63 772 824 335 140 0,81 0, 55 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A64 773 843 342 5 0, 16 0, 13 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 1,2 1,2 - A65 879 950 338 490 0, 18 0, 15 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A66 864 947 336 120 0, 15 0, 14 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A67 785 860 37 7 0, 17 0, 11 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A68 843 913 347 140 0, 84 0, 53 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A69 767 850 52 230 0, 91 0, 55 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A70 864 932 293 7 0, 82 0, 65 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A71 744 823 32 8 0, 20 0, 16 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A72 869 939 310 180 0, 79 0, 30 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A73 862 967 37 7 0, 17 0, 15 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A74 871 993 353 165 0, 87 0, 55 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A75 864 948 44 12 0, 18 0, 11 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A76 883 955 345 98 0, 89 0, 12 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A77 872 938 42 7 0, 15 0, 00003 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A78 762 845 315 240 0, 09 0, 08 BOM BOM 1200 20 22 20 BOM 2,0 1,5 BOM A79 820 925 180 25 0, 59 0, 006 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A80 820 920 150 30 0, 22 0, 005 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A81 840 940 120 25 0, 75 0, 003 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM
Tabela 17 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 74/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A82 830 930 140 40 0, 78 0, 008 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A83 835 935 160 20 0, 43 0, 002 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A84 840 940 150 30 0, 55 0, 004 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A85 830 940 120 15 0, 67 0, 008 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A86 825 975 140 20 0, 71 0, 006 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A87 800 920 65 13 0, 24 0, 05 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A88 810 930 275 25 0, 59 0, 02 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A89 820 940 72 50 0, 45 0, 05 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A90 843 950 288 75 0, 33 0, 03 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A91 849 950 292 90 0, 78 0, 05 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A92 851 960 65 72 0, 49 0, 15 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A93 845 950 150 83 0,51 0, 23 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A94 800 920 172 33 0, 63 0, 24 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A95 823 980 180 20 0, 65 0, 35 BOM BOM 1200 20 70 10 BOM 2,0 1,5 BOM A96 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A97 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A98 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A99 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A100 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 18 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 75/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A101 820 - 130 - 0,5 - — - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A102 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A103 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A104 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A105 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A106 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A107 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A108 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A109 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A110 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A111 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A112 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A113 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A114 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A115 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A116 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A117 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - A118 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A119 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM
Tabela 19 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- DE RECO- TO FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL DE DE TROLE DE DE TROLE RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE ÇÃO TO TEM- TEM- DE TEM- TEM- DE ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU TOTAL FINAL PERA- PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TO TO TO TO DE TURA TURA DE TURA TURA DE OXIDA- DE 600 DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO A 700º A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C C TO C C 76/98 TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °Cc s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A120 820 - 130 - 0,5 - — - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A121 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A122 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A123 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A124 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM A125 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 2,0 1,5 BOM B34 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B35 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B36 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - B37 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B38 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B39 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B40 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - B41 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 20 65 30 BOM 1,2 1,2 - B42 820 - 130 - 0,5 - - - 1200 2 65 30 BOM 1,2 1,2 - A126 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 100 20 BOM 1,2 1,2 - A127 720 780 15 8 0, 1 0, 00005 BOM - 1200 20 190 100 BOM 0,2 0,2 - A128 880 990 800 450 0, 9 0, 1 BOM - 1070 10 20 10 BOM 4,5 4,5 - A129 720 780 15 8 0, 1 0, 00005 BOM - 1220 50 180 10 BOM 1,0 1,0 -
Tabela 20 Nº DO CONDIÇÕES DE PRODUÇÃO TESTE PROCESSO DE RECOZIMENTO POR DESCARBURAÇÃO PROCESSO DE PROCESSO DE FORMAÇÃO DE REVESTIMENTO ISO-
RECOZIMENTO LANTE FINAL ESTÁGIO DE PERMANÊNCIA CON- TEM- TEMPO ESTÁGIO DE AQUECIMENTO TEMPERATURA TEMPO DE GRAU DE OXIDAÇÃO TROLE PERA- DE TAXA DE AQUECIMENTO GRAU DE OXIDAÇÃO DE PERMANÊN- PERMANÊNCIA DE TURA RECO- MÉDIA CIA GRAU DE ZIMEN- PRI- SE- PRI- SE- PRIMEI- SEGUN- CON- FAIXA FAIXA CON- FAIXA FAIXA CON- DE RECO- TO DE MEIRO GUNDO MEIRO GUNDO RO RE- DO RE- TROLE DE TROLE DE DE TROLE OXIDA- ZIMEN- FINAL TEM- RECO- RECO- RECO- RECO- COZI- COZI- DE TEM- DE TEM- TEM- DE ÇÃO TO PERA- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- ZIMEN- MENTO MENTO GRAU PERA- TAXA PERA- PERA- GRAU
TOTAL FINAL TURA 77/98 TO TO TO TO DE DE 600 TURA DE TURA TURA DE OXIDA- A 700º DE 700 AQUE- DE 600 DE 700 OXIDA- ÇÃO C A 800º CIMEN- A 700º A 800º ÇÃO
C TO C C TI TIl tl tII PI PII PI>PII S3 S4 S3>S4 P3 P4 P3>P4 °C °C s s - - — - °C hora °C/s °C/s - - - - A130 750 - 75 - 0,2 - — - 1110 10 15 8 BOM 4,0 4,0 - A131 820 - 160 - 0,5 - — - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A132 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - A133 840 940 150 30 0, 55 0, 004 BOM BOM 1200 20 100 10 BOM 2,0 1,5 BOM B43 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B44 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 100 20 BOM 1,2 1,2 - B45 820 - 3 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B46 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B47 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B48 - - - - - - - - - - - - - - - - B49 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B50 820 - 160 - 0,5 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B51 - - - - - - - - - - - - - - - - B52 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 - B53 830 - 150 - 0,4 - - - 1200 20 60 10 BOM 1,2 1,2 -
Tabela 21 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % mm Si Mn C Al SOLÚ- N S Bi Sn Cr Cu 78/98
VEL EM
ÁCIDO A1 2, 55 0, 030 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 21 0, 22 A2 2, 74 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0005 — — — — 25 0, 22 A3 2,51 0, 040 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0003 — — — — 20 0, 22 A4 3,85 0, 030 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 28 0, 22 A5 2, 85 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 25 0, 22 A6 2, 89 0, 320 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 20 0, 22 A7 2, 75 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 22 0, 22 A8 3, 68 0,010 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0004 — — — — 27 0, 22 A9 3, 75 0, 490 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 25 0, 22 A10 2, 65 0, 330 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 24 0, 22 A11 2, 85 0, 170 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 32 0, 22 A12 3, 19 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — 0, 006 — — 22 0, 22 A13 3, 18 0, 120 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — 0, 48 — — 23 0, 22 A14 3, 26 0, 180 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0004 — — 0,01 — 20 0, 22 A15 3, 25 0, 140 0, 002 0, 001 0, 003 0, 0002 — — 0, 48 — 27 0, 22 A16 3, 18 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 01 25 0, 22 A17 3, 15 0, 150 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 95 26 0, 22 A18 3, 19 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — — 34 0, 22 A19 3, 21 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 41 0, 22
Tabela 22 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 79/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A20 3, 25 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 36 0, 22 A21 3, 18 0, 095 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 29 0, 22 A22 3, 15 0, 081 0, 002 0, 001 0, 003 0, 0002 — — — — 25 0, 22 A23 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 0, 11 — — 28 0, 22 A24 3, 16 0, 075 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — 0, 06 0, 15 24 0, 22 A25 3, 15 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — 0, 08 33 0, 22 A26 3, 20 0, 091 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 14 0, 02 — 51 0, 22 A27 3, 15 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 02 0, 12 0, 03 31 0, 22 A28 3, 22 0, 078 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 33 — 0, 11 27 0, 22 A29 3, 19 0, 065 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 — 0, 37 — 34 0, 22 A30 3, 22 0, 092 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 0, 0010 0, 28 0, 035 — 28 0, 22 B1 3, 16 0, 060 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — — 0, 22 B2 3, 14 0, 040 0,013 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — — 0, 22 B3 2, 35 0, 060 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — — 0, 22 B4 — — — — — — — — — — — — B5 3,08 0, 080 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0001 — — — — — 0, 22 B6 3,09 0, 050 0, 002 0, 018 0, 001 0, 0001 — — — — — 0, 22 B7 3, 10 0, 480 0, 002 0, 001 0,015 0, 0002 — — — — — 0, 22 B8 3, 24 0, 009 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 22
Tabela 23 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 80/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO B9 3, 26 0, 520 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — — 0, 22 B10 3, 19 0, 440 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — — 0, 22 B11 — — — — — — — — — — — — B12 2, 55 0, 030 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 15 0, 22 B13 2, 41 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 18 0, 22 B14 2, 81 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 19 0, 22 B15 2, 75 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 15 0, 22 B16 3, 71 0, 490 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 15 0, 22 B17 2, 65 0, 330 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 18 0, 22 A31 2, 81 0, 170 0, 002 0, 001 0, 003 0, 0002 — — — — 19 0, 22 B18 3, 12 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 006 — — 25 0, 22 B19 3, 11 0, 120 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 48 — — 28 0, 22 B20 3, 15 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — 0,01 — 28 0, 22 B21 3, 10 0, 150 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 95 29 0, 22 B22 3, 14 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — — 25 0, 22 A32 3, 12 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 15 0, 19 A33 3, 14 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 17 0, 19 B23 3, 16 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 19 0, 19 B24 3,09 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 18 0, 19
Tabela 24 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 81/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO B25 3, 15 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 18 0, 19 A34 3, 17 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 35 0, 19 A35 3, 16 0, 052 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 36 0, 19 A36 3, 12 0, 052 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 32 0, 19 A37 3, 14 0, 081 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 37 0, 19 A38 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 32 0, 19 A39 3, 15 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 33 0, 19 A40 3, 18 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 32 0, 22 A41 3, 24 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 35 0, 22 A42 3, 26 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 51 0, 22 A43 3, 16 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 0, 11 — — 33 0, 22 A44 3, 15 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 0, 11 — — 35 0, 22 A45 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0003 0, 0005 0, 11 — — 42 0, 22 A46 3, 12 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0010 — — 0, 08 36 0, 22 A47 3, 17 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0010 — — 0, 08 39 0, 22 A48 3, 13 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0010 — — 0, 08 42 0, 22 A49 3, 12 0, 091 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0004 — 0, 14 0, 02 — 35 0, 22 A50 3, 11 0, 091 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — 0, 14 0, 02 — 45 0, 22 A51 3, 20 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 02 0, 12 0, 03 51 0, 22
Tabela 25 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 82/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A52 3, 14 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — 0, 02 0, 12 0, 03 41 0, 22 A53 3, 25 0, 078 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 33 — 0, 11 35 0, 19 A54 3, 26 0, 065 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 — 0, 37 — 36 0, 19 A55 3, 27 0, 065 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 — 0, 37 — 41 0, 19 A56 3, 27 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0010 0, 28 0, 035 — 50 0, 19 B26 3, 14 0, 140 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — 0, 48 — 43 0, 22 B27 3, 20 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 01 52 0, 22 B28 3, 15 0, 150 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 95 65 0, 22 B29 3, 12 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — — 43 0, 22 B30 3,09 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 29 0, 22 B31 3, 11 0, 140 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — 0, 48 — 36 0, 22 B32 3, 11 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 01 42 0, 22 B33 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 51 0, 22 A57 3,08 0, 051 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 18 0, 22 A58 3,09 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 19 0, 22 A59 3, 14 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 18 0, 22 A60 3, 12 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 19 0, 22 A61 3, 13 0, 095 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — — 18 0, 22 A62 3, 17 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 25 0, 22
Tabela 26 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS 83/98 % mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A63 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 24 0, 22 A64 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 25 0, 22 A65 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 0, 11 — — 25 0, 22 A66 3, 11 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 0, 11 — — 28 0, 22 A67 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 18 0, 19 A68 3, 15 0, 051 0, 002 0, 001 0, 003 0, 0003 — — — — 17 0, 19 A69 3, 18 0, 052 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0004 — — — — 19 0, 19 A70 3, 13 0, 052 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0004 — — — — 19 0, 19 A71 3, 12 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 19 0, 19 A72 3, 12 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 18 0, 19 A73 3, 14 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 51 0, 19 A74 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 38 0, 19 A75 3, 11 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 0, 0005 0, 11 — — 42 0, 19 A76 3, 16 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 0, 0005 0, 11 — — 39 0, 19 A77 3, 14 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 35 0, 19 A78 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0003 — — — — 35 0, 19 A79 3, 15 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 37 0, 22 A80 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 34 0, 19 A81 3, 12 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 68 0, 22
Tabela 27 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 84/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A82 3, 11 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 0,11 — — 34 0, 19 A83 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 0,11 — — 55 0, 22 A84 3, 11 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 0, 0005 0, 11 — — 56 0, 19 A85 3, 11 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 0, 0010 — — 0, 08 71 0, 22 A86 3, 11 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — 0, 08 49 0, 19 A87 3,09 0, 091 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — 0, 14 0, 02 — 35 0, 22 A88 3, 11 0, 091 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 14 0, 02 — 37 0, 19 A89 3, 14 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 02 0, 12 0, 03 34 0, 22 A90 3, 15 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 02 0, 12 0, 03 68 0, 19 A91 3, 25 0, 078 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — 0, 33 — 0, 11 34 0, 22 A92 3, 25 0, 078 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — 0, 33 — 0, 11 55 0, 19 A93 3, 22 0, 065 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 — 0, 37 — 56 0, 22 A94 3, 24 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 0, 28 0, 035 — 71 0, 19 A95 3, 25 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 0, 28 0, 035 — 49 0, 22 A96 2,51 0, 030 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 29 0, 19 A97 2, 71 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 26 0, 19 A98 2, 50 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 21 0, 19 A99 3,82 0, 030 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 35 0, 19 A100 2, 81 0, 040 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 22 0, 19
Tabela 28 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPESSU- IMPUREZAS) NUMÉRICA RA MÉDIA
DE GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 85/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A101 2, 87 0, 320 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0003 — — — — 25 0, 19 A102 2, 77 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 28 0, 19 A103 3, 67 0,010 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 37 0, 19 A104 3,59 0, 490 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 24 0, 19 A105 2, 58 0, 330 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 27 0, 19 A106 2, 77 0, 170 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — 42 0, 19 A107 3, 12 0, 160 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 006 — — 34 0, 19 A108 3,05 0, 120 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 48 — — 26 0, 19 A109 3, 24 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — 0,01 — 28 0, 19 A110 3, 11 0, 140 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — 0, 48 — 22 0, 19 A111 3, 12 0, 160 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — — — 0, 01 31 0, 19 A112 3, 15 0, 150 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — 0, 95 28 0, 19 A113 3, 11 0, 180 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 0, 0010 — — — 33 0, 19 A114 3, 14 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 55 0, 19 A115 3, 16 0, 052 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 41 0, 19 A116 3, 11 0, 095 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 29 0, 19 A117 3, 21 0, 081 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 26 0, 19 A118 3, 16 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 0, 11 — — 45 0, 19 A119 3, 19 0, 075 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — 0, 06 0, 15 28 0, 19
Tabela 29 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPES- IMPUREZAS) NUMÉRICA SURA
DE GRÃOS MÉDIA RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS % 86/98 mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A120 3, 15 0, 085 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0010 — — 0, 08 46 0, 19 A121 3, 13 0, 091 0, 002 0, 001 0, 002 0, 0002 — 0,14 0, 02 — 42 0, 19 A122 3, 14 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 02 0, 12 0, 03 38 0, 19 A123 3, 22 0, 078 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 33 — 0, 11 27 0, 19 A124 3, 29 0, 065 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0005 — 0, 37 — 34 0, 19 A125 3, 22 0, 092 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 0, 0010 0, 28 0, 035 — 26 0, 19 B34 3, 18 0, 060 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 19 B35 3, 11 0, 040 0,015 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 19 B36 2, 30 0, 060 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — — 0, 19 B37 3,09 0, 080 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0001 — — — — — 0, 19 B38 3,01 0, 050 0, 002 0, 019 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 19 B39 3,08 0, 480 0, 002 0, 001 0,018 0, 0003 — — — — — 0, 19 B40 3, 14 0, 009 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0001 — — — — — 0, 19 B41 3, 20 0, 520 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — — 0, 19 B42 3, 20 0, 440 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 19 A126 2, 55 0,010 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 21 0, 23 A127 2, 78 0,310 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 20 0, 22 A128 3, 69 0, 490 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 21 0, 22 A129 2,51 0, 495 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 17 0, 22
Tabela 30 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO
TESTE
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE CHAPA DE AÇO SILÍCIO (UNIDADE: % em massa, EQUILÍBRIO CONSISTINDO EM Fe E FRAÇÃO ESPES- IMPUREZAS) NUMÉRICA SURA
DE GRÃOS MÉDIA RECRISTALI- ZADOS SE- CUNDÁRIOS GROSSOS EM GRÃOS RECRISTALI- ZADOS SE-
CUNDÁRIOS 87/98 % mm Si Mn C Al SOLÚ-VEL N S Bi Sn Cr Cu
EM ÁCIDO A130 2, 54 0, 080 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 19 0, 19 A131 2, 71 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 22 0, 22 A132 2, 68 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 23 0, 22 A133 3, 11 0, 051 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 0, 0005 0, 11 — — 54 0, 19 B43 2, 74 0, 450 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 22 0, 22 B44 2, 55 0, 001 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 20 0, 23 B45 3,05 0, 050 0, 210 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — — 0, 22 B46 2, 97 0, 045 0, 002 0, 072 0, 001 0, 0003 — — — — — 0, 22 B47 3,04 0, 055 0, 002 0, 001 0, 022 0, 0004 — — — — — 0, 22 B48 — — — — — — — — — — — — B49 3,00 0, 053 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — 0, 53 — — — 0, 22 B50 2, 95 0, 045 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0003 — — 0,51 — — 0, 22 B51 — — — — — — — — — — — — B52 2, 88 0, 038 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0002 — — — — 22 0, 22 B53 3,07 0, 045 0, 002 0, 001 0, 001 0, 0004 — — — — 28 0, 22
Tabela 31 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE PELÍCULA DE FLUXO
DIFRATADA DE MAGNÉTICO EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE IFOR E ITIN B8 BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA NA INTER- ATRAVÉS DE
FACE XRD (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A1 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A2 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,01 — RAZOÁVEL 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A3 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 02 — RAZOÁVEL 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A4 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,01 — RAZOÁVEL 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO 88/98 A5 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 04 — RAZOÁVEL 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A6 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A7 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A8 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,01 — RAZOÁVEL 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A9 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A10 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 02 — RAZOÁVEL 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A11 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A12 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A13 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A14 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A15 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A16 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A17 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 1 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A18 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A19 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 32 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
MAGNÉTICO
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A20 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A21 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A22 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO 89/98 A23 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,0 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A24 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 7 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A25 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A26 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A27 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,5 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A28 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,2 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A29 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A30 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,9 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO B1 — — — — — — 1, 65 EXEMPLO COMPARATIVO B2 — — — — — — 1, 71 EXEMPLO COMPARATIVO B3 — — — — — — 1, 66 EXEMPLO COMPARATIVO B4 — — — — — — — EXEMPLO COMPARATIVO B5 — — — — — — 1, 77 EXEMPLO COMPARATIVO B6 — — — — — — 1, 76 EXEMPLO COMPARATIVO B7 — — — — — — 1, 75 EXEMPLO COMPARATIVO B8 — — — — — — 1, 74 EXEMPLO COMPARATIVO
Tabela 33 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE PELÍCULA DE FLUXO
DIFRATADA DE MAGNÉTICO EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE IFOR E ITIN B8 BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA NA INTER- ATRAVÉS DE
FACE XRD (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T B9 — — — — — — 1, 72 EXEMPLO COMPARATIVO B10 — — — — — — 1, 75 EXEMPLO COMPARATIVO B11 — — — — — — — EXEMPLO COMPARATIVO B12 NENHUMA — — — — POBRE 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO 90/98 B13 NENHUMA — — — — POBRE 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO B14 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO B15 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO B16 NENHUMA — — — — POBRE 1, 91 EXEMPLO COMPARATIVO B17 NENHUMA — — — — POBRE 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO A31 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 04 — RAZOÁVEL 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO B18 NENHUMA — — — — POBRE 1, 91 EXEMPLO COMPARATIVO B19 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO B20 NENHUMA — — — — POBRE 1, 93 EXEMPLO COMPARATIVO B21 NENHUMA — — — — POBRE 1, 93 EXEMPLO COMPARATIVO B22 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO A32 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A33 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO B23 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO B24 NENHUMA — — — — POBRE 1, 91 EXEMPLO COMPARATIVO
Tabela 34 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDA-
MAGNÉTICO DE DIFRA- EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE B8
TADA DE IFOR BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA E ITIN ATRA- NA INTER- VÉS DE XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T B25 NENHUMA — — — — POBRE 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO A34 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,5 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A35 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,9 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO 91/98 A36 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,3 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A37 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A38 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,5 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A39 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,8 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A40 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 6 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A41 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,0 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A42 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,4 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A43 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,6 — V, G, 1, 97 EXEMPLO DA INVENÇÃO A44 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,2 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A45 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,8 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A46 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A47 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A48 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 7 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A49 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,8 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A50 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A51 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 35 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVA- OBSERVAÇÕES
TESTE LIAÇÃO
RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DENSIDADE DE PELÍ- DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE CULA MAGNÉTI-
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE CO B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A52 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,7 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A53 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,4 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A54 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO 92/98 A55 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,3 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A56 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 6 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO B26 NENHUMA — — — — RUIM 1, 95 EXEMPLO COMPARATIVO B27 — — — — — — 1, 79 EXEMPLO COMPARATIVO B28 NENHUMA — — — — RUIM 1, 92 EXEMPLO COMPARATIVO B29 NENHUMA — — — — RUIM 1, 91 EXEMPLO COMPARATIVO B30 NENHUMA — — — — RUIM 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO B31 NENHUMA — — — — RUIM 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO B32 NENHUMA — — — — RUIM 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO B33 NENHUMA — — — — RUIM 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO A57 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 1 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A58 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A59 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A60 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A61 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A62 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 36 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
MAGNÉTICO
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A63 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A64 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 1 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A65 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,8 — V, G, 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO 93/98 A66 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,4 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A67 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A68 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 7 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A69 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A70 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,5 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A71 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 — V, G, 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A72 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,0 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A73 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 7 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A74 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 7 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A75 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,0 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A76 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,3 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A77 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 7,5 — EXCELENTE 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A78 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 2 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A79 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 5, 6 — EXCELENTE 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A80 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 8, 9 — EXCELENTE 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A81 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 2,5 — EXCELENTE 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 37 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
MAGNÉTICO
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A82 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 5,4 — EXCELENTE 1, 97 EXEMPLO DA INVENÇÃO A83 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 9,3 — EXCELENTE 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A84 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 3,3 — EXCELENTE 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO 94/98 A85 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 4,8 — EXCELENTE 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A86 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 5, 1 — EXCELENTE 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A87 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 6, 9 — EXCELENTE 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A88 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 4, 2 — EXCELENTE 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A89 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 3,8 — EXCELENTE 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A90 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 5,4 — EXCELENTE 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A91 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 8, 7 — EXCELENTE 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A92 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 9 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A93 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 2 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A94 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,4 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A95 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,8 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A96 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A97 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A98 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A99 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A100 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 38 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
MAGNÉTICO
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A101 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A102 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A103 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO 95/98 A104 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A105 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A106 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A107 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A108 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 1 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A109 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A110 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A111 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A112 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 1 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A113 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A114 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 97 EXEMPLO DA INVENÇÃO A115 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 2 — BOM 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A116 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,4 — BOM 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A117 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0,3 — BOM 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO A118 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,8 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A119 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,5 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 39 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALIA- OBSERVAÇÕES
TESTE ÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDADE
PELÍCULA DE FLUXO ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
MAGNÉTICO
DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA NA DENSIDADE B8
IFOR E ITIN BRAUNITA) INTERFACE NUMÉRICA ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A120 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,7 — V, G, 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO A121 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 6 — V, G, 1, 95 EXEMPLO DA INVENÇÃO A122 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,4 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO 96/98 A123 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 9 — V, G, 1, 93 EXEMPLO DA INVENÇÃO A124 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,6 — V, G, 1, 94 EXEMPLO DA INVENÇÃO A125 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1,3 — V, G, 1, 92 EXEMPLO DA INVENÇÃO B34 — — — — — — 1, 66 EXEMPLO COMPARATIVO B35 — — — — — — 1, 73 EXEMPLO COMPARATIVO B36 — — — — — — 1,55 EXEMPLO COMPARATIVO B37 — — — — — — 1, 77 EXEMPLO COMPARATIVO B38 — — — — — — 1, 76 EXEMPLO COMPARATIVO B39 — — — — — — 1, 75 EXEMPLO COMPARATIVO B40 — — — — — — 1, 74 EXEMPLO COMPARATIVO B41 — — — — — — 1, 72 EXEMPLO COMPARATIVO B42 — — — — — — 1, 75 EXEMPLO COMPARATIVO A126 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 02 — RAZOÁVEL 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A127 EXISTÊNCIA OUTRA EXISTÊNCIA 0, 03 — RAZOÁVEL 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A128 EXISTÊNCIA B EXISTÊNCIA 0, 04 — BOM 1, 91 EXEMPLO DA INVENÇÃO A129 EXISTÊNCIA M EXISTÊNCIA 0, 03 — BOM 1,89 EXEMPLO DA INVENÇÃO
Tabela 40 Nº DO RESULTADOS DE PRODUÇÃO RESULTADOS DE AVALI- OBSERVAÇÕES
TESTE AÇÃO RESULTADOS DE PRODUÇÃO DE PELÍCULA DE VIDRO ADESÃO DE DENSIDA-
PELÍCULA DE DE ÓXIDO CONTENDO Mn INTENSIDADE
FLUXO DIFRATADA DE EXISTÊNCIA TIPO (B: EXISTÊNCIA DENSIDADE MAGNÉTI-
IFOR E ITIN BRAUNITA) NA INTERFACE NUMÉRICA CO B8
ATRAVÉS DE NA INTER- XRD
FACE (M : Mn3O4) PEÇAS/μm2 T A130 EXISTÊNCIA B &M NONE — — RAZOÁVEL 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A131 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 0, 03 BOM BOM 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO A132 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 1, 1 BOM BOM 1, 90 EXEMPLO DA INVENÇÃO 97/98 A133 EXISTÊNCIA B &M EXISTÊNCIA 3,5 BOM EXCELENTE 1, 96 EXEMPLO DA INVENÇÃO B43 NENHUMA — — — RUIM RUIM 1, 90 EXEMPLO COMPARATIVO B44 NENHUMA — — — — RUIM 1, 90 EXEMPLO COMPARATIVO B45 — — — — — — 1, 69 EXEMPLO COMPARATIVO B46 — — — — — — 1, 73 EXEMPLO COMPARATIVO B47 — — — — — — 1, 71 EXEMPLO COMPARATIVO B48 — — — — — — — EXEMPLO COMPARATIVO B49 — — — — — — 1, 70 EXEMPLO COMPARATIVO B50 — — — — — — 1, 72 EXEMPLO COMPARATIVO B51 — — — — — — — EXEMPLO COMPARATIVO B52 NENHUMA — — — — POBRE 1, 91 EXEMPLO COMPARATIVO B53 NENHUMA — — — — RUIM 1,89 EXEMPLO COMPARATIVO
Aplicabilidade Industrial
[00170] De acordo com os aspectos da presente invenção acima, é possível prover a chapa de aço elétrico de grão oriental excelente na adesão de revestimento sem deterioração das características magné- ticas e método para produção da mesma. Portanto, a presente inven- ção tem aplicabilidade industrial significante. Lista de Sinais de Referência 1 chapa de aço elétrico de grão orientado 11 Chapa de aço silício (chapa de aço de base) 13 Película de vidro (revestimento primário) 131 Óxido contendo Mn (Braunita, Mn3O4 ou similar) 15 Revestimento isolante (revestimento secundário)

Claims (15)

REIVINDICAÇÕES
1. Chapa de aço elétrico de grão orientado, caracterizada pelo fato de que compreende: uma chapa de aço silício incluindo, como uma composição química, em % em massa, 2,50 a 4,0% de Si, 0,010 a 0,50% de Mn, 0 a 0,20% de C, 0 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0 a 0,020% de N, 0 a 0,080% de S, 0 a 0,020% de Bi, 0 a 0,50% de Sn, 0 a 0,50% de Cr, 0 a 1,0% de Cu, e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas; uma película de vidro disposta sobre uma superfície da chapa de aço silício; e um revestimento isolante disposto sobre uma superfície da película de vidro, em que a película de vidro inclui um óxido contendo Mn.
2. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o óxido contendo Mn pode incluir pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em uma Braunita e Mn3O4.
3. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 1 ou reivindicação 2, caracterizada pelo fato de que o óxido contendo Mn está disposto em uma interface com a chapa de aço silício na película de vidro.
4. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 3, caracterizada pelo fato de que 0,1 a 30 peças/μm2 do óxido contendo Mn podem ser dispostas na interface na película de vidro.
5. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizada pelo fato de que quando IFor é uma intensidade difratada de um pico origina- do em uma forsterita e ITiN é uma intensidade difratada de um pico ori- ginado em uma nitrida de titânio em uma faixa de 41 < 2 < 43 de um espectro de difração de raio X da película de vidro medido por um mé- todo de difração de raio X a IFor e a ITiN satisfazem ITiN < IFor.
6. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizada pelo fato de que uma fração numérica de grãos recristalizados secundários cujo diâmetro máximo é 30 a 100 mm pode é 20 a 80% comparado com os grãos recristalizados secundários totais na chapa de aço silí- cio.
7. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizada pelo fato de que a espessura média da chapa de aço silício pode ser 0,17 mm ou mais e menos do que 0,22 mm.
8. Chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizada pelo fato de que a chapa de aço silício inclui, como a composição química, em % em massa, pelo menos um selecionado de um grupo consistindo em 0,0001 a 0,0050% de C, 0,0001 a 0,0100% de Al solúvel em ácido, 0,0001 a 0,0100% de N, 0,0001 a 0,0100% de S, 0,0001 a 0,0010% de Bi,
0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr, e 0,01 a 1,0% de Cu.
9. Método para produção de uma chapa de aço elétrico de grão orientado como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que compreende: um processo de laminação a quente de aquecimento de uma placa para uma faixa de temperatura de 1200 a 1600º C e então laminação a quente da placa para obter uma chapa de aço laminada a quente, a placa incluindo, como a composição química, em % em massa, 2,50 a 4,0% de Si, 0,010 a 0,50% de Mn, 0 a 0,20% de C, 0 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0 a 0,020% de N, 0 a 0,080% de S, 0 a 0,020% de Bi, 0 a 0,50% de Sn, 0 a 0,50% de Cr, 0 a 1,0% de Cu, e um equilíbrio consistindo em Fe e impurezas; um processo de recozimento de banda quente de recozi- mento da chapa de aço laminada a quente para obter uma chapa re- cozida de banda quente; um processo de laminação a frio de laminação a frio da chapa recozida de banda quente através de laminação a frio uma vez ou através de laminação a frio várias vezes com um recozimento in- termediário para obter uma chapa de aço laminada a frio; um processo de recozimento por descarburação de recozi-
mento por descarburação da chapa de aço laminada a frio para obter uma chapa galvanizada por descarburação; um processo de recozimento final de aplicação de um sepa- rador de recozimento à chapa recozida por descarburação e então re- cozimento final da chapa recozida por descarburação de modo a for- mar uma película de vidro sobre uma superfície da chapa recozida por descarburação para obter uma chapa recozida final; e um processo de formação de revestimento isolante de apli- cação de uma solução de formação de revestimento isolante à chapa recozida final e então tratamento térmico da chapa recozida final de modo a formar um revestimento isolante sobre uma superfície da cha- pa recozida final, em que, no processo de recozimento por descarburação, quando uma dec-S500-600 é uma taxa de aquecimento médio em unida- o des de C/segundo e uma dec-P500-600 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 500 a 600o C durante aumento de uma temperatura da chapa de aço lamina- do a frio e quando uma dec-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unidades de oC/segundo e uma dec-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera em uma faixa de temperatura de 600 a 700º C durante aumento da temperatura da chapa de aço laminada a frio, a dec-S500-600 é 300 a 2000 C/segundo, a dec-S600-700 é 300 a 3000 C/segundo, a dec-S500-600 e a dec-S600-700 satisfazem dec-S500-600 < dec- S600-700, a dec-P500-600 é 0,00010 a 0,50 e a dec-P600-700 é 0,00001 a 0,50, em que, no processo de recozimento final, a chapa recozida por descarburação após aplicar o separa-
dor de recozimento é mantida em uma faixa de temperatura de 1000 a 1300º C por 10 a 60 horas, e em que, no processo de formação de revestimento isolante, quando uma ins-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unida- des de oC/segundo em uma faixa de temperatura de 600 a 700º C e uma ins-S600-700 é uma taxa de aquecimento média em unidades de o C/segundo em uma faixa de temperatura de 700 a 800º C durante aumento de uma temperatura da chapa recozida final, a ins-S600-700 é 10 a 200º C/segundo, a ins-S700-800 é 5 a 100º C/segundo, e a ins-S600-700 e a ins-S700-800 satisfazem ins-S600-700 > ins- S700-800.
10. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 9, caracterizada pelo fato de que no processo de recozimento por descarburação, a dec-P500-600 e a dec-P600-700 satisfazem dec-P500-600 > dec-P600-700.
11. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 9 ou 10, caracterizada pelo fato de que no processo de recozimento por descarburação, um primeiro recozimento e um segundo recozimento são conduzidos após aumento da temperatura da chapa de aço laminada a frio, e quando uma dec-TI é uma temperatura de permanência em unidades de oC, uma dec-tI é um tempo de permanência em unidades de segundos e uma dec-PI é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o primeiro recozimento e quando uma dec-TII é uma temperatura de permanência em unidades de oC, uma dec-tII é um tempo de permanência em unidades de segundos e uma dec-PII é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera durante o segundo re-
cozimento, a dec-TI é 700 a 900C, a dec-tI é 10 a 1000 segundos, a dec-PI é 0,10 a 1,0, a dec-TII é (dec-TI + 50)C ou mais e 1000C ou menos, a dec-tII é 5 a 500 segundos, a dec-PII é 0,00001 a 0,10, e a dec-PI e a dec-PII satisfazem dec-PI > dec-PII.
12. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que no processo de recozimento por descarburação, a dec-P500-600, a dec-P600-700, a dec-PI e a dec-PII satisfazem dec-P500-600 > dec-P600-700 < dec-PI > dec-PII.
13. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 12, ca- racterizado pelo fato de que no processo de formação de revestimento isolante, quando uma ins-P600-700 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de temperatura de 600 a 700oC e uma ins- P700-800 é um grau de oxidação PH2O/PH2 de uma atmosfera na faixa de temperatura de 700 a 800ºC durante aumento da temperatura da chapa recozida final, a ins-P600-700 é 1,0 ou mais, a ins-P700-800 é 0,1 a 5,0, e a ins-P600-700 e a ins-P700-800 satisfazem ins-P600-700 > ins- P700-800.
14. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 13, ca- racterizado pelo fato de que no processo de recozimento final, o sepa- rador de recozimento pode incluir um composto Ti de 0,5 a 10% em massa em equivalente de Ti metálico.
15. Método para produção da chapa de aço elétrico de grão orientado de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 14, ca- racterizado pelo fato de que placa inclui, como a composição química, em % em massa, pelo menos um selecionado de um grupo consistin- do em 0,01 a 0,20% de C, 0,01 a 0,070% de Al solúvel em ácido, 0,0001 a 0,020% de N, 0,005 a 0,080% de S, 0,001 a 0,020% de Bi, 0,005 a 0,50% de Sn, 0,01 a 0,50% de Cr, e 0,01 a 1,0% de Cu.
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