BR112015029469B1

BR112015029469B1 - Dispositivo de deposição e método de deposição que usa o mesmo

Info

Publication number: BR112015029469B1
Application number: BR112015029469-3A
Authority: BR
Inventors: Hirofumi Fujii; Toshiki Segawa; Atsushi Ishiyama
Original assignee: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.)
Priority date: 2013-05-27
Filing date: 2014-05-15
Publication date: 2021-12-07
Also published as: EP3006595A1; BR112015029469A2; PT3006595T; EP3006595B1; JP2014227598A; KR20160013128A; US20160068946A1; US10538842B2; WO2014192551A1; TWI546396B; JP5941016B2; CN105247097B; MX2015015411A; CN105247097A; ES2655452T3; TW201446983A; EP3006595A4

Abstract

dispositivo de deposição e método de deposição que usa o mesmo trata-se de um dispositivo de deposição e de método de deposição que podem aumentar a eficiência de resfriamento e que têm risco de vazamentos de refrigerante altamente reduzido. o presente dispositivo de deposição inclui: uma unidade de resfriamento 4 que resfria as peças de trabalho w em um espaço 2e de uma câmara 2; um corpo principal de mesa giratória 11 que gira em torno de um eixo geométrico vertical em um estado no qual as peças de trabalho w são colocadas sobre a mesma, sendo que esse corpo principal de mesa giratória 11 tem uma porção de colocação de unidade de resfriamento 21 na qual a unidade de resfriamento 4 é colocada e porções de colocação de peça de trabalho 22 que estão situadas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento 21 e nas quais as peças de trabalho w são colocadas respectivamente; um mecanismo de elevação 5 que eleva e abaixa a unidade de resfriamento 4, no interior do espaço 2e, entre uma primeira posição na qual a unidade de resfriamento é colocada no corpo principal de mesa giratória 11 e uma segunda posição na qual a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir do corpo principal de mesa giratória 11 e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho w colocadas nas porções de co locação de peça de trabalho 22; e uma tubulação refrigerante 6 que é fixada à câmara 2 e conectada, de maneira removível, à unidade de resfriamento 4 a fim de suprir refrigerante à unidade de resfriamento 4.

Description

CAMPO DA TÉCNICA

[001] A presente invenção refere-se a um dispositivo de deposição e a um método de deposição que usa o mesmo.

TÉCNICA ANTECEDENTE

[002] Quando a superfície de uma peça de trabalho está sujeita ao tratamento de deposição convencional, por exemplo, descarga de arco ou desintegração catódica, a temperatura de peça de trabalho aumenta devido ao fato de que as partículas de alta energia, tais como, íons de metal ou íons de gás colidem com a peça de trabalho. Portanto, o tratamento de deposição precisa ser realizado ao mesmo tempo em que a peça de trabalho é resfriada.

[003] No entanto, as peças de trabalho são colocadas, normalmente, sobre uma mesa giratória e revolvidas ao redor de um eixo geométrico vertical enquanto realizam o tratamento de deposição. Isso significa que as peças de trabalho não permanecem estacionárias nos mesmos locais. Portanto, até mesmo quando uma unidade de resfriamento para resfriar uma câmara é disposta no interior da câmara, a unidade de resfriamento não pode ser colocada em contato com as peças de trabalho rotativas e uma distância constante não pode ser mantida entre a unidade de resfriamento e as peças de trabalho. O problema resultante é que as peças de trabalho não podem ser resfriadas de maneira estável. Consequentemente, foi sugerido um dispositivo de deposição no qual uma unidade de resfriamento é colocada sobre uma mesa giratória no interior de uma câmara de vácuo e as peças de trabalho são resfriadas ao mesmo tempo em que a unidade de resfriamento é girada junto das peças de trabalho, conforme descrito na Literatura de Patente 1. Nesse dispositivo de deposição, uma unidade de resfriamento cilíndrica é instalada verticalmente e afixada no centro da superfície superior da mesa giratória. Uma pluralidade de peças de trabalho está situada lado a lado no lado circunferencial da superfície superior da mesa giratória. Portanto, quando a mesa giratória é girada, a unidade de resfriamento é girada no centro da superfície superior da mesa giratória. Ao mesmo tempo, a pluralidade de peças de trabalho é revolvida ao redor da unidade de resfriamento.

[004] A unidade de resfriamento é conectada a uma tubulação refrigerante fixada à parede de câmara, e um refrigerante, por exemplo, água, circula através da tubulação refrigerante entre a unidade de resfriamento e a câmara. Como resultado, a unidade de resfriamento é resfriada. A superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento cilíndrica funciona como uma superfície de resfriamento que está voltada para as peças de trabalho o tempo todo, absorve o calor radiante das peças de trabalho e resfria as peças de trabalho. Até mesmo quando as peças de trabalho giram junto da mesa giratória, as mesmas estão voltadas para a unidade de resfriamento o tempo todo. Portanto, embora as peças de trabalho e a unidade de resfriamento estejam separadas, o calor radiante das peças de trabalho para a unidade de resfriamento pode ser transferido continuamente para as mesmas.

[005] A tubulação refrigerante e a unidade de resfriamento são conectadas através de uma junta rotatória. Como resultado, o refrigerante, por exemplo, água de resfriamento, é suprido continuamente através da junta rotatória para a unidade de resfriamento que gira junto da mesa giratória, e o refrigerante pode ser descarregado da unidade de resfriamento. A junta rotatória é configurada de modo que um fluido seja circulado entre dois corpos físicos que giram um em relação ao outro.

[006] O dispositivo de deposição tem uma configuração na qual o refrigerante é suprido à unidade de resfriamento e descarregado da mesma, que gira junta da mesa giratória, através da junta rotatória. Visto que a junta rotatória na qual o refrigerante circula é, então, usada no interior da câmara de vácuo, há um alto risco de o refrigerante vazar da junta rotatória. Além disso, a estrutura de dispositivo deve ser mais complexa através da inclusão de um mecanismo de evacuação diferencial a fim de aumentar a capacidade de vedação da junta rotatória.

[007] Ao mesmo tempo em que a mesa giratória gira, a unidade de resfriamento gira no centro da superfície superior da mesa giratória. Ao mesmo tempo, uma pluralidade de peças de trabalho revolve ao redor da periferia da unidade de resfriamento de maneira síncrona com a rotação da unidade de resfriamento. Portanto, a relação posicional relativa entre a unidade de resfriamento e as peças de trabalho situadas na periferia da unidade de resfriamento não muda. Assim, determinadas porções da superfície de resfriamento na circunferência externa da unidade de resfriamento são mantidas em um estado em que estão voltadas para as peças de trabalho, ao passo que outras porções são mantidas em um estado em que não estão voltadas para as peças de trabalho. Portanto, a superfície de resfriamento voltada para as peças de trabalho está exposta o tempo todo ao calor radiante das peças de trabalho e não pode ser mantida em um estado de baixa temperatura. Entretanto, a superfície de resfriamento que não está voltada para as peças de trabalho está no estado de baixa temperatura o tempo todo. Tal estado das superfícies de resfriamento não está em conformidade com o propósito da unidade de resfriamento que é garantir que a superfície de resfriamento com a temperatura mais baixa esteja voltada para as peças de trabalho e resfrie as mesmas. Consequentemente, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento é degradada. Em outras palavras, com a estrutura mencionada acima, a unidade de resfriamento e as peças de trabalho giram juntas. Portanto, as porções da superfície de resfriamento que estão voltadas para as peças de trabalho recebem o calor radiante das peças de trabalho o tempo todo e estão em uma temperatura mais alta que a temperatura da superfície de resfriamento que não está voltada para as peças de trabalho. Entretanto, a superfície que não está voltada para as peças de trabalho não recebe o calor radiante e mantém um estado de baixa temperatura. Como resultado, a eficiência de resfriamento de toda a unidade de resfriamento é degradada. O problema resultante é que a superfície de resfriamento da unidade de resfriamento não é usada de maneira eficaz e é difícil aumentar a eficiência do resfriamento das peças de trabalho com a unidade de resfriamento.

LISTA DE CITAÇÕES LITERATURA DE PATENTE

[008] Literatura de Patente 1: Publicação de Patente Não Examinada no JP 2006-169590 (Figura 2).

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

[009] Um objetivo da presente invenção é fornecer um dispositivo de deposição e um método de deposição que podem aprimorar a eficiência de resfriamento e que têm o risco de vazamentos de refrigerante altamente reduzido.

[010] O dispositivo de deposição em conformidade com a presente invenção realiza o tratamento de deposição ao mesmo tempo em que resfria as peças de trabalho. O dispositivo de deposição inclui: uma câmara que tem um espaço no qual as peças de trabalho são acomodadas e o tratamento de deposição das peças de trabalho é realizado; uma unidade de resfriamento que resfria as peças de trabalho no interior do espaço; uma mesa giratória que gira um eixo geométrico vertical em um estado no qual as peças de trabalho são colocadas sobre a mesma e que tem uma porção de colocação de unidade de resfriamento configurada para permitir que a unidade de resfriamento seja colocada sobre a mesma e porções de colocação de peça de trabalho que estão situadas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento e configuradas para permitir que as peças de trabalho sejam colocadas nas mesmas respectivamente; um mecanismo de elevação que eleva e abaixa a unidade de resfriamento, no interior do espaço, entre uma primeira posição na qual a unidade de resfriamento é colocada sobre a mesa giratória e uma segunda posição na qual a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir da mesa giratória e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho; e uma tubulação refrigerante que é fixada à câmara e conectada, de maneira removível, à unidade de resfriamento para suprir o refrigerante à unidade de resfriamento.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

[011] A Figura 1 é uma vista em corte transversal que ilustra toda a configuração do dispositivo de deposição de acordo com a primeira modalidade da presente invenção.

[012] A Figura 2 é uma vista frontal que ilustra uma unidade de mesa giratória retratada na Figura 1 e as peças de trabalho e uma unidade de resfriamento colocadas nas mesmas.

[013] A Figura 3 é um desenho explicativo que ilustra a etapa para colocar as peças de trabalho e a unidade de resfriamento na unidade de mesa giratória e para inserir a unidade de mesa giratória em uma câmara no método de deposição com o uso do dispositivo de deposição retratado na Figura 1.

[014] A Figura 4 é um desenho explicativo que ilustra um estado no qual a unidade de mesa giratória é inserida na câmara no método de deposição que usa o dispositivo de deposição retratado na Figura 1.

[015] A Figura 5 é um desenho explicativo que ilustra a etapa para conectar a tubulação refrigerante à unidade de resfriamento no método de deposição que usa o dispositivo de deposição retratado na Figura 1.

[016] A Figura 6 é um desenho explicativo que ilustra a etapa para mover a unidade de resfriamento a partir da primeira posição para a segunda posição com o mecanismo de elevação e a etapa de deposição subsequente no método de deposição que usa o dispositivo de deposição retratado na Figura 1.

[017] A Figura 7A é uma vista frontal da unidade de resfriamento retratada na Figura 1, e a Figura 7B é uma vista plana da unidade de resfriamento retratada na Figura 1.

[018] A Figura 8A é uma vista em corte transversal na qual a porção de corpo principal da unidade de resfriamento, que é um exemplo de variação da unidade de resfriamento em conformidade com a presente invenção, é cortada na direção vertical, e a Figura 8B é uma vista em corte transversal na qual a porção de corpo principal da unidade de resfriamento retratada na Figura 8A é cortada na direção transversa.

[019] A Figura 9A é uma vista frontal de outro exemplo de variação da unidade de resfriamento em conformidade com a presente invenção, e a Figura 9B é uma vista plana da unidade de resfriamento retratada na Figura 9A.

[020] A Figura 10 é uma vista em corte transversal que ilustra toda a configuração do dispositivo de deposição de acordo com a segunda modalidade da presente invenção.

[021] A Figura 11 é uma vista frontal que ilustra a unidade de mesa giratória retratada na Figura 10 e as peças de trabalho e uma unidade de resfriamento colocadas nas mesmas.

DESCRIÇÃO DAS MODALIDADES

[022] As modalidades do dispositivo de deposição em conformidade com a presente invenção e de um método de deposição que usa o dispositivo de deposição serão explicadas abaixo no presente documento detalhadamente com referência aos desenhos anexos.

(PRIMEIRA MODALIDADE)

[023] Um dispositivo de deposição 1 retratado na Figura 1 é equipado com uma câmara 2, com uma unidade de mesa giratória 3, com uma unidade de resfriamento 4, com um mecanismo de elevação 5, tubulação de resfriamento 6, um alvo 7, um eletrodo-alvo 8, uma fonte de alimentação de arco 9 e uma fonte de alimentação de polarização 10. O dispositivo de deposição 1 realiza o tratamento de deposição na superfície de uma pluralidade de peças de trabalho W ao mesmo tempo em que resfria as peças de trabalho W com a unidade de resfriamento 4.

[024] A câmara 2 é constituída por um alojamento oco. Mais especificamente, a câmara 2 tem uma parede de topo 2a, uma parede de fundo 2b posicionada abaixo da parede de topo 2a, quatro paredes laterais 2c que conectam as bordas laterais da parede de topo 2a e a parede de fundo 2b, e uma porta 2f. A parede de topo 2a, a parede de fundo 2b e as quatro paredes laterais 2c formam um espaço 2e em que as peças de trabalho W são acomodadas e em que o tratamento de deposição das peças de trabalho W é realizado. Uma abertura 2d é formada em uma dentre as quatro paredes laterais 2c da câmara 2. Na presente modalidade, a abertura 2d é formada sobre toda a parede lateral 2c, conforme retratado na Figura 3, porém a abertura também pode ser formada em parte da parede lateral 2c. A porta 2f é fixada à abertura 2d de modo a abrir e fechar a abertura 2d. A abertura 2d comunica o espaço 2e com o exterior da câmara 2. A abertura 2d tem dimensões de modo que a unidade de mesa giratória 3, a unidade de resfriamento 4 e as peças de trabalho W possam ser avançadas através da abertura 2d no espaço 2e da câmara 2 e possam ser removidas do espaço 2e.

[025] Conforme retratado nas Figuras 1 e 2, a unidade de resfriamento 4 é configurada para resfriar as peças de trabalho W no interior do espaço 2e. A unidade de resfriamento 4 tem uma porção de corpo principal 4a que tem um canal de fluxo em que um refrigerante, por exemplo, água, circula, uma porção de introdução 4b que introduz o refrigerante na porção de corpo principal 4a, uma porção de descarga 4c que descarrega a porção de corpo principal 4a e uma porção de engate 4d que é engatada ao gancho descrito abaixo 23.

[026] A porção de engate 4d é fornecida na extremidade superior da porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4. A porção de engate 4d tem um formato passível de engate ao gancho 23, por exemplo, um formato de arco anular ou circular. A porção de engate 4d tem um furo de inserção 4d1 que é aberto nos lados.

[027] Na presente invenção, o formato do interior da porção de corpo principal 4a não limitado particularmente. Como exemplo da porção de corpo principal 4a, conforme retratado nas Figuras 7A e 7B, é usada a porção de corpo principal 4a de um formato obtido combinando-se concentricamente dois cilindros de diferentes diâmetros e formando-se um canal de fluxo anular 4e. Na porção de corpo principal 4a, a porção de introdução 4b e a porção de descarga 4c estão situadas no interior do canal de fluxo 4e a ser separado na metade da circunferência do canal de fluxo anular 4e. Portanto, o refrigerante introduzido da porção de introdução 4b na porção de corpo principal 4a pode fluir em sentido horário e em sentido anti-horário em relação à porção de descarga 4c através da metade da circunferência do canal de fluxo anular 4e.

[028] Como outro exemplo da porção de corpo principal 4a, conforme retratado nas Figuras 8A e 8B, uma pluralidade de placas-guia 4f que guiam o fluxo de refrigerante na direção vertical pode ser fornecida no interior do canal de fluxo anular 4e da porção de corpo principal 4a. Dentre as placas-guia 4f, aquelas que se projetam para baixo a partir da parede de topo da porção de corpo principal 4a e aquelas que se projetam para cima a partir da parede de fundo estão situadas diferentemente umas das outras. Essas placas-guia 4f possibilitam a obtenção do fluxo de refrigerante no interior do canal de fluxo anular 4e que é uniforme na direção longitudinal da porção de corpo principal 4a. Em ainda outro exemplo da porção de corpo principal 4a, conforme retratado nas Figuras 9A e 9B, a porção de corpo principal 4a pode dotada de um tubo de condução 4g através do qual o refrigerante circula. O tubo de condução 4g tem uma porção reta tubular 4g1 que se comunica com a porção de introdução 4b e uma porção tubular espiral 4g2 conectada entre a extremidade inferior da porção reta tubular 4g1 e a porção de descarga 4c. A porção tubular espiral 4g2 está situada ao longo da superfície circunferencial interior da porção de corpo principal 4a. Portanto, toda a superfície lateral da porção de corpo principal 4a pode ser resfriada de maneira uniforme pelo refrigerante que flui no interior da porção tubular espiral 4g2.

[029] Conforme retratado nas Figuras 1 e 2, a unidade de mesa giratória 3 é dotada de um corpo principal de mesa giratória 11, uma unidade de carreta 12 que sustenta o corpo principal de mesa giratória 11, uma engrenagem rotativa 14, uma engrenagem central 15, uma engrenagem giratória 16 e uma porção-guia circular 17.

[030] A unidade de carreta 12 é dotada de uma base de mesa 12a e uma pluralidade de rodas 12b que é fixada à porção inferior da base de mesa 12a. A unidade de mesa giratória 3 pode ser movida livremente entre o interior da câmara 2 e o exterior rolando-se as rodas 12b em uma superfície plana no exterior da câmara 2 (por exemplo, em uma superfície de colocação para transportar a carreta a fim de transportar a unidade de mesa giratória 3, ou o chão de um prédio). Uma protuberância anular 12a1 é formada na superfície superior da base de mesa 12a.

[031] A engrenagem central 15 é afixada à extremidade superior da protuberância anular 12a1 na superfície superior da base de mesa 12a.

[032] A porção-guia circular 17 é fixada à superfície superior da engrenagem central 15. A porção-guia circular 17 é dotada de uma porção de trilho anular 17a e uma pluralidade de esferas 17b fornecida ao longo da porção de trilho 17a. A porção de trilho 17a é afixada à superfície superior da engrenagem central 15. As esferas 17b estão situadas na superfície superior da porção de trilho 17a de modo a ter capacidade para rolar ao longo da porção de trilho 17a. Além disso, as esferas 17b são interpostas entre a porção de trilho 17a e o corpo principal de mesa giratória 11.

[033] Uma porção de colocação de unidade de resfriamento 21 configurada para permitir que a unidade de resfriamento 4 seja colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento 21 é formada na porção central da superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11 e na periferia do mesmo. Adicionalmente, o corpo principal de mesa giratória 11 tem uma pluralidade de suportes giratórios 13 situados de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento 21. As porções de colocação de peça de trabalho 22 configuradas para permitir que as peças de trabalho W nas porções de colocação de peça de trabalho 22 sejam colocadas respectivamente são formadas na superfície superior dos suportes giratórios 13. Desse modo, a porção de colocação de unidade de resfriamento 21 e as porções de colocação de peça de trabalho 22 que circundam a periferia das mesmas estão situadas na superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11.

[034] O corpo principal de mesa giratória 11 é sustentado na parte inferior pelas esferas 17b da porção- guia circular 17. Portanto, é permitido que o corpo principal de mesa giratória 11 gire em torno de um eixo geométrico vertical C como resultado da rolagem das esferas 17b sobre a porção de trilho 17a. Com o corpo principal de mesa giratória 11 de tal configuração, as peças de trabalho W colocadas sobre as porções de colocação de peça de trabalho 22 podem girar em torno do eixo geométrico vertical C.

[035] O corpo principal de mesa giratória 11 tem uma haste 11a que se estende para baixo a partir da porção central da superfície inferior do corpo principal de mesa giratória 11. A haste 11a se projeta para baixo da base de mesa 12a por meio de furos passantes formados no centro da base de mesa 12a e no centro da engrenagem central 15. Os diâmetros internos desses furos passantes são definidos de modo a permitir que a haste 11a gire. A engrenagem rotativa 14 é afixada à extremidade inferior da haste 11a. A engrenagem rotativa 14 pode se entrelaçar com a engrenagem de acionamento 18 localizada no interior da câmara 2 quando a unidade de mesa giratória 3 é inserida na câmara 2. A engrenagem de acionamento 18 é acoplada a uma haste de acionamento 19a de um motor 19.

[036] Cada suporte giratório 13 tem uma haste 13a que se estende para baixo através do corpo principal de mesa giratória 11. As hastes 13a se projetam para baixo do principal de mesa giratória 11 por meio de furos passantes formados na circunferência externa do corpo principal de mesa giratória 11. O diâmetro interno desses furos passantes é definido de modo a permitir que as hastes 13a girem. A engrenagem giratória 16 é afixada à extremidade inferior da haste 13a. A engrenagem giratória 16 se entrelaça com a engrenagem central 15 afixada à base de mesa 12a. Como resultado, a engrenagem giratória 16 revolve ao torno do centro de rotação (eixo geométrico vertical C) do corpo principal de mesa giratória 11 de maneira síncrona com a rotação do corpo principal de mesa giratória 11 e também gira ao mesmo tempo em que é entrelaçado com a engrenagem central 15. Consequentemente, os suportes giratórios 13 acoplados às engrenagens giratórias 16 também giram, desse modo, possibilitado que as peças de trabalho W colocadas nos suportes giratórios 13 revolvam em torno do eixo geométrico vertical C e girem.

[037] O mecanismo de elevação 5 eleva e abaixa a unidade de resfriamento 4 no interior do espaço 2e entre uma primeira posição I na qual a unidade de resfriamento é colocada sobre o corpo principal de mesa giratória 11 e uma segunda posição II na qual a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir do corpo principal de mesa giratória 11 e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho W colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho 22.

[038] Mais especificamente, o mecanismo de elevação 5 é dotado de um gancho 23 e de uma unidade de elevação superior 24 que eleva e abaixa o gancho 23.

[039] A unidade de elevação superior 24 é fixada à parede de topo 2a da câmara 2.

[040] O gancho 23 está disposto no interior do espaço 2e da câmara 2. O gancho 23 é fornecido na unidade de elevação superior 24 de modo estar pendurado para baixo em direção ao interior do espaço 2e. A porção de extremidade proximal da extremidade superior do gancho 23 é acoplada à porção da unidade de elevação superior 24 que se projeta no espaço 2e através da parede de topo 2a da câmara 2. O gancho 23 é flexionado entre a porção de extremidade proximal e uma porção de extremidade distal 23a, e a porção de extremidade distal 23a está voltada para cima de maneira oblíqua.

[041] O gancho 23 pode ser elevado e abaixado entre uma posição superior (consultar as Figuras 1 e 6) e uma posição inferior (consultar as Figuras 3 a 5) através da unidade de elevação superior 24.

[042] Na posição inferior do gancho 23 que é retratado nas Figuras 3 a 5, o gancho 23 é definido em uma posição na qual o gancho pode ser engatado à porção de engate 4d da unidade de resfriamento 4 localizada na primeira posição I, mais especificamente, o gancho é definido em uma posição de modo que a porção de extremidade distal 23a do gancho 23 e o furo de inserção 4d1 da porção de engate 4d estejam na mesma altura. Portanto, a porção de extremidade distal 23a do gancho 23 é inserida no furo de inserção 4d1 da porção de engate 4d da unidade de resfriamento 4 como resultado da inserção da unidade de mesa giratória 3 na câmara 2 em um estado no qual a unidade de resfriamento 4 é colocada sobre o corpo principal de mesa giratória 11 quando o gancho 23 está na porção inferior. Consequentemente, o gancho 23 pode ser acoplado à porção de engate 4d no topo da unidade de resfriamento 4.

[043] A posição superior do gancho 23 que é retratada nas Figuras 1 e 6 está acima da posição inferior. Nessa posição do gancho 23, a unidade de resfriamento 4 é suspensa na segunda posição II.

[044] A unidade de elevação superior 24 pode ser um mecanismo que pode elevar e abaixar a unidade de resfriamento 4 entre a primeira posição I e a segunda posição II elevando-se e abaixando-se o gancho 23 em um estado no qual o gancho 23 é acoplado à porção de engate 4d no topo da unidade de resfriamento 4. A unidade de elevação superior 24 é fornecida, por exemplo, com um cilindro hidráulico.

[045] A tubulação refrigerante 6 é fixada à parede de topo 2a da câmara 2 e conectada, de maneira removível, à unidade de resfriamento 4 para suprir o refrigerante à unidade de resfriamento 4. Mais especificamente, a tubulação refrigerante 6 tem um cano de introdução 6a para introduzir um refrigerante, por exemplo, água, a partir do exterior da câmara 2 na câmara 2 e um cano de descarga 6b para descarregar o refrigerante a partir do interior da câmara 2 ao exterior da câmara 2. O cano de introdução 6a tem uma porção de conexão 6a1 conectável, de maneira removível, à porção de introdução 4b da unidade de resfriamento 4. O cano de descarga 6b tem uma porção de conexão 6b1 conectável, de maneira removível, à porção de descarga 4c da unidade de resfriamento 4.

[046] O alvo 7 e o eletrodo-alvo 8 são fixados à superfície lateral interior da parede lateral 2c da câmara 2. O alvo 7 é um material de filme que é usado durante a formação de um filme sobre a superfície das peças de trabalho W mediante uma descarga de arco ou um bombardeamento iônico. O alvo 7 é, por exemplo, um metal como titânio e crômio, ou uma liga que inclui esses metais. O eletrodo-alvo 8 é um eletrodo conectado ao alvo 7. A fonte de alimentação de arco 9 aplica um potencial negativo ao alvo 7 através do eletrodo-alvo 8 e gera uma descarga de arco na superfície do alvo 7. Através da geração de uma descarga de arco na superfície do alvo 7, é possível ionizar o material do alvo 7 e causar a emissão de íons positivos no interior da câmara 2.

[047] A fonte de alimentação de polarização 10 é conectada eletricamente ao corpo principal de mesa giratória 11 através de uma fiação. A fonte de alimentação de polarização 10 aplica um potencial de polarização às peças de trabalho W colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho 22 através do corpo principal de mesa giratória 11. Como resultado da aplicação do potencial de polarização às peças de trabalho W, os íons positivos emitidos no interior da câmara 2 aderem facilmente à superfície das de trabalho W.

(EXPLICAÇÃO DO MÉTODO DE DEPOSIÇÃO)

[048] Será explicado um método de deposição que usa o dispositivo de deposição I da primeira modalidade a seguir com referência aos desenhos anexos.

[049] Inicialmente, conforme retratado na Figura 3, a unidade de resfriamento 4 e as peças de trabalho W são colocadas sobre o corpo principal de mesa giratória 11 da unidade de mesa giratória 3 no exterior da câmara 2. Mais especificamente, a unidade de resfriamento 4 é colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento 21 do corpo principal de mesa giratória 11, e uma pluralidade de peças de trabalho W é colocada nas porções de colocação de peça de trabalho 22 na superfície superior dos suportes giratórios 13 que circundam a porção de colocação de unidade de resfriamento 21.

[050] Em seguida, conforme retratado nas Figuras 3 e 4, a unidade de mesa giratória 3 é inserida no espaço 2e da câmara 2. Após a conclusão da inserção da unidade de mesa giratória 3, conforme retratado na Figura 4, a porção de extremidade distal 23a do gancho 23 pendurado para baixo a partir da parede de topo 2a da câmara 2 é inserida no furo de inserção 4d1 da porção de engate 4d da unidade de resfriamento 4.

[051] Em seguida, conforme retratado na Figura 5, a tubulação refrigerante 6 é conectada à unidade de resfriamento 4. Mais especificamente, a porção de conexão 6a1 do cano de introdução 6a na tubulação refrigerante 6 é conectada à porção de introdução 4b da unidade de resfriamento 4, e a porção de conexão 6b1 do cano de descarga 6b é conectada à porção de descarga 4c da unidade de resfriamento 4.

[052] Em seguida, conforme retratado na Figura 6, a unidade de elevação superior 24 do mecanismo de elevação 5 eleva o gancho 23. Como resultado, a unidade de resfriamento 4 é elevada no interior da câmara 2 a partir da primeira posição I, na qual a unidade de resfriamento 4 é colocada no corpo principal de mesa giratória 11, para a segunda posição II, e a unidade de resfriamento 4 é colocada na segunda posição II que é espaçada do corpo principal de mesa giratória 11. A porta 2f da câmara 2 é fechada em seguida. Após isso, o ar localizado no interior do espaço 2e da câmara 2 é descarregado no interior da câmara 2 com uma bomba de vácuo (não retratada na Figura). Como resultado, o espaço 2e da câmara 2 é mantido em um estado de vácuo.

[053] Em seguida, o tratamento de deposição das peças de trabalho W é realizado no interior da câmara 2 ao mesmo tempo em que gira o corpo principal de mesa giratória 11. Ao mesmo tempo, as peças de trabalho W são resfriadas com a unidade de resfriamento 4 no estado estacionário da unidade de resfriamento 4.

[054] Mais especificamente, a engrenagem rotativa 14 que está entrelaçada com a engrenagem de acionamento 18 é girada mediante a rotação da engrenagem de acionamento 18 com o motor de acionamento 19. Como resultado, o corpo principal de mesa giratória 11, que está afixado à engrenagem rotativa 14, gira em torno do eixo geométrico vertical C. Ao mesmo tempo, as engrenagens giratórias 16 revolvem em torno do eixo geométrico vertical C ao mesmo tempo em que se entrelaçam com a engrenagem central 15 afixada à unidade de carreta 12. Como resultado, os suportes giratórios 13 afixados às engrenagens giratórias 16 e as peças de trabalho W colocadas nos suportes giratórios revolvem, durante rotação, em torno do eixo geométrico vertical C. Nesse estado, a fonte de alimentação de arco 9 ioniza o alvo 7 aplicando-se um potencial negativo ao alvo 7 através do eletrodo-alvo 8. Ao mesmo tempo, um gás de reação, por exemplo, nitrogênio é introduzido na câmara 2, e a fonte de alimentação de polarização 10 aplica um potencial de polarização às peças de trabalho W através do corpo principal de mesa giratória 11. Como resultado, os íons de metal emitidos a partir do alvo 7 aderem à superfície da peça de trabalho W, portanto, um filme pode ser formado sobre a superfície das peças de trabalho W. Além disso, enquanto o tratamento de deposição é realizado, a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 é resfriada pelo refrigerante suprido através da tubulação refrigerante 6 em um estado estacionário da porção de corpo principal na segunda posição II na qual a porção de corpo principal é espaçada para cima a partir do corpo principal de mesa giratória 11. Visto que as peças de trabalho W giram ao redor da porção de corpo principal 4a ao mesmo tempo em que está voltada para a superfície circunferencial externa da porção de corpo principal 4a no estado estacionário, o calor radiante das peças de trabalho W é absorvido por toda a superfície circunferencial externa da porção de corpo principal 4a.

[055] A primeira modalidade explicada acima tem os recursos a seguir.

[056] No dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade e no método de posição que usa o mesmo, o mecanismo de elevação 5 eleva e abaixa a unidade de resfriamento 4 no interior do espaço 2e entre a primeira posição I na qual a unidade de resfriamento é colocada sobre o corpo principal de mesa giratória 11 e a segunda posição II na qual a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir do corpo principal de mesa giratória 11 e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho W colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho 22. Portanto, o tratamento de deposição das peças de trabalho W pode realizado em um estado no qual a unidade de resfriamento 4 é espaçada do corpo principal de mesa giratória 11. Desse modo, no estado antes do tratamento de deposição, a unidade de resfriamento 4 está situada na primeira posição I na qual a unidade de resfriamento é colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento 21 na superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11. As peças de trabalho W estão situadas nas porções de colocação de peça de trabalho 22 dispostas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento 21. Em seguida, a operação de conectar a tubulação refrigerante 6 à unidade de resfriamento 4 e a operação de elevar a unidade de resfriamento 4 a partir da primeira posição I para a segunda posição II com o mecanismo de elevação 5 são realizadas no interior do espaço 2e da câmara 2. Na segunda posição II, a unidade de resfriamento 4 é espaçada para cima a partir do corpo principal de mesa giratória 11 e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho W colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho 22. Em seguida, o corpo principal de mesa giratória 11, sobre o qual as peças de trabalho W foram colocadas, é girado e o tratamento de deposição das peças de trabalho W é realizado no estado estacionário da unidade de resfriamento 4 na segunda posição II. Ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado desse modo, a unidade de resfriamento 4 permanece estacionária na segunda posição II que é espaçada do corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, não é necessário usar uma junta rotatória para suprir o refrigerante a partir da tubulação refrigerante 6 para a unidade de resfriamento 4. Consequentemente, o risco de o refrigerante vazar pode ser altamente reduzido.

[057] Além disso, visto que as peças de trabalho W revolvem ao redor da periferia da unidade de resfriamento 4, que está em um estado estacionário, durante a realização do tratamento de deposição, as peças de trabalho W estão voltadas para toda a circunferência da superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento 4. Como resultado, a unidade de resfriamento 4 pode absorver o calor radiante das peças de trabalho W sobre toda a circunferência da superfície circunferencial externa. Consequentemente, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento 4 pode ser aumentada.

[058] Além do mais, no dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, embora a fonte de alimentação de polarização 10 aplique o potencial de polarização às peças de trabalho W através do corpo principal de mesa giratória 11 durante o tratamento de deposição, uma vez que a unidade de resfriamento 4 está localizada na segunda posição II espaçada do corpo principal de mesa giratória 11, não é exigido que a tubulação refrigerante 6 conectada à unidade de resfriamento 4 ser isolada eletricamente da câmara 2. Além disso, não é necessário interpor um material de isolamento entre o corpo principal de mesa giratória 11 e a unidade de resfriamento 4. Como resultado, a estrutura do dispositivo de deposição 1 é simplificada e o dispositivo de deposição 1 de alta confiabilidade pode ser obtido. Adicionalmente, visto que o potencial de polarização não é aplicado à unidade de resfriamento 4 na segunda posição II ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado, o aumento na capacidade de corrente da fonte de alimentação de polarização pode ser suprimido. Além disso, devido à geração de calor causada pela aplicação de potencial de polarização não ocorrer, a unidade de resfriamento 4 pode resfriar de maneira eficaz as peças de trabalho W.

[059] Além do mais, no dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, a câmara 2 tem a abertura 2d que comunica o espaço 2e com o exterior da câmara 2 e através da qual o corpo principal de mesa giratória 11 possa passar. Com tal configuração, antes do tratamento de deposição, a unidade de resfriamento 4 e as peças de trabalho W podem ser colocadas na superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11 no exterior da câmara 2, e o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser inserido, nesse estado, no espaço 2e da câmara 2 através da abertura 2d da câmara 2. Portanto, a operação de montagem da unidade de resfriamento 4 e das peças de trabalho W sobre o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser realizada facilmente. Além disso, o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser removido do espaço 2e através da abertura 2d da câmara 2 em um estado no qual a unidade de resfriamento 4 é colocada no corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, a operação de manutenção da unidade de resfriamento 4 pode ser facilmente realizada no exterior da câmara 2. Por exemplo, até mesmo quando um determinado filme é formado sobre a superfície da unidade de resfriamento 4 durante o tratamento de deposição das peças de trabalho W no interior da câmara 2, a unidade de resfriamento 4 colocada no corpo principal de mesa giratória 11 pode ser removida facilmente da câmara 2 após o tratamento de deposição. Portanto, a operação de remover o filme que aderiu à superfície da unidade de resfriamento 4 pode ser realizada facilmente.

[060] Além disso, no dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, o mecanismo de elevação 5 tem o gancho 23, que está disposto no interior do espaço 2e da câmara 2 e está acoplado à porção superior da unidade de resfriamento 4 em um estado no qual o corpo principal de mesa giratória 11, com a unidade de resfriamento 4 colocada no mesmo, é inserido na câmara 2, e a unidade de elevação superior 24 que é montada na câmara 2 e eleva ou abaixa o gancho 23. A unidade de elevação superior 24 eleva ou abaixa a unidade de resfriamento 4 entre a primeira posição I e a segunda posição II elevando-se ou abaixando-se o gancho 23 em um estado no qual o gancho 23 é acoplado à porção superior da unidade de resfriamento 4. Desse modo, com o mecanismo de elevação 5, visto que o gancho 23 é acoplado à porção superior da unidade de resfriamento 4 para elevar ou abaixar a unidade de resfriamento 4, o mecanismo de elevação 5 pode ser disposto separado do corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, o mecanismo de elevação 5 não pode interferir com o corpo principal de mesa giratória 11. Além disso, o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser projetado livremente sem considerar a disposição do mecanismo de elevação 5, e as mesas giratórias disponíveis presentemente podem ser usadas.

[061] Além disso, no dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, a unidade de elevação superior 24 é montada na parede de topo 2a da câmara 2. O gancho 23 é fornecido na unidade de elevação superior 24 de modo que o gancho esteja pendurado para baixo em direção ao interior do espaço 2e. A porção de engate 4d passível de engate ao gancho 23 é fornecida na extremidade superior da unidade de resfriamento 4. Portanto, através do engate do gancho 23 à porção de engate 4d na extremidade superior da unidade de resfriamento 4, é possível acoplar, de maneira fácil e confiável, o gancho 23 à unidade de resfriamento 4.

[062] Além disso, no dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, o gancho 23 pode ser movido entre a posição superior e a posição inferior. A posição inferior é definida em uma posição na qual o gancho 23 pode ser engatado à porção de engate 4d da unidade de resfriamento 4 que está na primeira posição I. A posição superior é definida em uma posição que está acima da posição inferior e na qual a unidade de resfriamento 4 na segunda posição II está suspensa no gancho 23. Com tal configuração, movendo- se o gancho 23 à posição inferior, é possível engatar o gancho à porção de engate 4d da unidade de resfriamento 4 localizada na primeira posição I. Entretanto, movendo-se o gancho 23 engatado à porção de engate 4d para a posição superior, é possível suspender facilmente a unidade de resfriamento 4 na segunda posição II.

[063] Na primeira modalidade, é explicada uma unidade de mesa giratória que é dotada dos suportes giratórios 13 de modo que as peças de trabalho W possam ser revolvidas em torno do eixo geométrico vertical e também giradas, sendo que tal unidade de mesa giratória é um exemplo da mesa giratória em conformidade com a presente invenção, porém a presente invenção não se limita a tal configuração. Em conformidade com a presente invenção, o efeito de operação descrito acima também pode ser demonstrado com o dispositivo de deposição equipado com uma mesa giratória que não tem os suportes giratórios.

[064] Além disso, na primeira modalidade, é descrita a configuração na qual a câmara 2 tem a abertura 2d que tem o lado aberto e a unidade de mesa giratória 3 pode ser retirada para o exterior da câmara 2 através da abertura 2d, porém a presente invenção não se limita a tal configuração. A presente invenção também pode ser usada com a configuração na qual a mesa giratória é montada de maneira giratória no interior da câmara.

(SEGUNDA MODALIDADE)

[065] Na primeira modalidade, o mecanismo de elevação, equipado com o gancho 23 no qual a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 é suspensa na parte superior e da unidade de elevação superior 24 que move o gancho 23 na direção vertical, é explicado como um exemplo do mecanismo de elevação em conformidade com a presente invenção, porém a presente invenção não se limita a configuração. Desse modo, na presente invenção, pode ser usado um mecanismo de elevação que eleva e abaixa a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 levantando-se a porção de corpo principal 4a a partir da parte inferior.

[066] Conforme retratado na Figura 10, o dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade é equipado com uma unidade de mesa giratória 53, com um mecanismo de elevação 55, com a câmara 2, com a unidade de resfriamento 4, com a tubulação refrigerante 6, com o alvo 7, com o eletrodo-alvo 8, com a fonte de alimentação de arco 9 e com a fonte de alimentação de polarização 10. No presente contexto, a câmara 2, a unidade de resfriamento 4, a tubulação refrigerante 6, o alvo 7, o eletrodo-alvo 8, a fonte de alimentação de arco 9 e a fonte de alimentação de polarização 10 são compartilhados pela configuração do dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade e pela configuração do dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade, e a explicação da câmara 2, etc., é omitida o presente documento.

[067] Conforme retratado na Figura 10 e 11, a unidade de mesa giratória 53 é equipada com o corpo principal de mesa giratória 11, com uma unidade de carreta 12 que sustenta o corpo principal de mesa giratória 11, com a engrenagem rotativa 14, com a engrenagem central 15, com a engrenagem giratória 16 e com a porção-guia circular 17.

[068] A unidade de mesa giratória 53 difere da unidade de mesa giratória 3 da primeira modalidade no fato de que o corpo principal de mesa giratória 11 tem um furo passante 11b que passa através do corpo principal de mesa giratória 11 na direção vertical na porção de colocação de unidade de resfriamento 21.

[069] Em relação a outros recursos, a unidade de mesa giratória 53 é configurada da mesma maneira que a unidade de mesa giratória 3 da primeira modalidade.

[070] O furo passante 11b é formado de modo que a haste 11a do corpo principal de mesa giratória 11 passa através do mesmo. Um tirante de elevação 74 do mecanismo de elevação descrito abaixo 55 é inserido no furo passante 11b.

[071] O furo passante 11b tem um diâmetro interno definido para garantir um vão (g) de modo a impedir o contato entre a parede interna do furo passante 11b e uma porção (ou seja, a porção de corpo principal 74b) do tirante de elevação 74 que foi inserido no furo passante 11b.

[072] Conforme retratado na Figura 10, o mecanismo de elevação 55 é dotado do tirante de elevação 74 que levanta a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 e eleva ou abaixa a porção de corpo principal, e uma unidade de elevação inferior 73 que aciona o tirante de elevação 74 na direção vertical.

[073] O tirante de elevação 74 é dotado de uma porção de corpo principal em formato de tirante 74b, de uma porção de contiguidade 74a acoplada à extremidade superior da porção de corpo principal 74b e uma porção de acoplamento 74c acoplada à extremidade inferior da porção de corpo principal 74b.

[074] A porção de corpo principal em formato de tirante 74b é inserida de modo a ser móvel na direção vertical no interior do furo passante 11b do corpo principal de mesa giratória 11. O comprimento da porção de corpo principal 74b é definido de modo a ser maior que o comprimento do furo passante 11b do corpo principal de mesa giratória 11. Mais especificamente, o comprimento da porção de corpo principal 74b é definido de modo a ser maior que o comprimento do furo passante 11b pelo curso de elevação da porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 (ou seja, pela diferença em altura entre a primeira posição (consultar a Figura 11) na qual a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 é colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento 21 da superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11 e a segunda posição (consultar a Figura 10) na qual a porção de corpo principal 4a é espaçada para cima a do corpo principal de mesa giratória 11).

[075] A porção de contiguidade 74a tem um formato semelhante a um disco e é acoplado à extremidade superior da porção de corpo principal 74b. A porção de contiguidade 74a está disposta dentro da faixa da porção de colocação de unidade de resfriamento 21 da superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11. Em um estado no qual a unidade de resfriamento 4 é colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento 21, a porção de contiguidade 74a está em contiguidade com a superfície de extremidade inferior da porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4.

[076] Na presente invenção, o tamanho da porção de contiguidade 74a não é limitado particularmente, desde que a porção de contiguidade seja maior que o diâmetro interno do furo passante 11b. O diâmetro externo da porção de contiguidade 74a é, de preferência, maior que o diâmetro externo da porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4. Como resultado, a porção de corpo principal 4a pode permanecer estavelmente na porção de contiguidade 74a.

[077] Além disso, a porção de contiguidade 74a é maior que o furo passante 11b e está em contiguidade com a superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, a porção de contiguidade 74a funciona como um batente que impede que o tirante de elevação 74 caia do furo passante 11b.

[078] A porção de acoplamento 74c tem um formato semelhante a um disco e está acoplada à extremidade inferior da porção de corpo principal 74b. Em um estado no qual a porção de acoplamento 74c está acoplada à unidade de elevação inferior 73, a porção de acoplamento está disposta em uma posição espaçada para baixo a partir da engrenagem rotativa 14 na extremidade inferior da haste 11a do corpo principal de mesa giratória 11.

[079] Na presente invenção, a unidade de elevação inferior 73 não é limitada particularmente, desde que seja um mecanismo que aciona o tirante de elevação 74 linearmente na direção vertical. Por exemplo, a unidade de elevação inferior pode ser dotada de um cilindro hidráulico. A unidade de elevação inferior 73 tem uma porção de empuxo 73a que se move linearmente na direção vertical e empurra o tirante de elevação 74 a partir da parte inferior. A porção de empuxo 73a se sobressai no espaço 2e através da parede de fundo 2b da câmara 2. Quando a unidade de mesa giratória 53 é inserida na câmara 2, a porção de empuxo 73a é disposta em uma posição de modo a estar diretamente abaixo da porção de acoplamento 74c do tirante de elevação 74. Como resultado, quando a porção de empuxo 73a é elevada, a mesma pode estar ficar em contiguidade com A porção de acoplamento 74c do tirante de elevação 74 e empurrar o tirante de elevação 74 a partir da parte inferior. Portanto, quando uma força motriz na direção vertical é aplicada pela unidade de elevação inferior 73 ao tirante de elevação 74 em um estado no qual a porção de contiguidade 74a do tirante de elevação 74 está contiguidade com a superfície de extremidade inferior da porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4, a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 pode ser elevada ou abaixada entre a primeira posição I (consultar a Figura 11) e a segunda posição II (consultar a Figura 10).

[080] A segunda modalidade explicada acima tem os recursos a seguir.

[081] O dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade é dotado do mecanismo de elevação 55 que eleva e abaixa a porção de corpo principal 4a da unidade de resfriamento 4 levantando-se a porção de corpo principal 4a a partir da parte inferior. O mecanismo de elevação 55 eleva e abaixa a unidade de resfriamento 4 em um estado no qual o tirante de elevação 74 é inserido no furo passante 11b do corpo principal de mesa giratória 11 e a porção de contiguidade do tirante de elevação 74 está em contiguidade com a superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento 4. Portanto, o mecanismo de elevação 55 pode estar disposto separado da porção superior no interior do espaço 2e da câmara 2. Como resultado, o risco de o mecanismo de elevação 55 interferir, por exemplo, em outras partes dispostas na porção superior no interior da câmara 2 pode ser evitado.

[082] Além do mais, no dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade, até mesmo quando o tirante de elevação 74 não recebe a força motriz a partir da unidade de elevação inferior 73, o tirante de elevação é impedido pela porção de contiguidade 74a, que funciona como um batente, de cair do furo passante 11b do corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, o tirante de elevação 74 pode ser removido da câmara 2 ou montado na câmara 2 junto do corpo principal de mesa giratória 11.

[083] Além disso, no dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade, o furo passante 11b tem o diâmetro interno definido para garantir um vão (g) de modo a impedir o contato entre a parede interna do furo passante 11b e a porção de corpo principal 74b do tirante de elevação 74 que foi inserida no furo passante 11b. Como resultado, visto que é garantido o vão (g) que impe o contato entre a parede interna do furo passante 11b e a porção de corpo principal 74b do tirante de elevação 74 que foi inserido no furo passante 11b, o tirante de elevação 74 é insolado eletricamente pelo vão (g) do corpo principal de mesa giratória 11, e o risco de a corrente de polarização vazar do corpo principal de mesa giratória 11 para o tirante de elevação 74 pode ser evitado. O dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade também pode demonstrar os efeitos de operação específicos em relação à primeira modalidade da mesma maneira que o dispositivo de deposição 1 da primeira modalidade.

[084] Assim, no dispositivo de deposição 51 da segunda modalidade, a unidade de resfriamento 4 também está em um estado estacionário na segunda posição II espaçada do corpo principal de mesa giratória 11 ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição das peças de trabalho W está sendo realizado. Portanto, não é necessário usar uma junta rotatória para suprir o refrigerante a partir da tubulação refrigerante 6 para a unidade de resfriamento 4. Portanto, o risco de o refrigerante vazar pode ser altamente reduzido. Além disso, visto que as peças de trabalho W revolvem ao redor da periferia da unidade de resfriamento 4, que está em um estado estacionário, durante a realização do tratamento de deposição, as peças de trabalho W estão voltadas para toda a circunferência da superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento 4. Como resultado, a unidade de resfriamento 4 pode absorver o calor radiante das peças de trabalho W sobre toda a circunferência da superfície circunferencial externa. Consequentemente, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento 4 pode ser aumentada.

[085] Além do mais, embora a fonte de alimentação de polarização 10 aplique o potencial de polarização às peças de trabalho W através do corpo principal de mesa giratória 11 durante o tratamento de deposição, uma vez que a unidade de resfriamento 4 está localizada na segunda posição II espaçada do corpo principal de mesa giratória 11, não é exigido que a tubulação refrigerante 6 conectada à unidade de resfriamento 4 ser isolada eletricamente da câmara 2. Além disso, não é necessário interpor um material de isolamento entre o corpo principal de mesa giratória 11 e a unidade de resfriamento 4. Como resultado, a estrutura do dispositivo de deposição 1 é simplificada e o dispositivo de deposição 1 de alta confiabilidade pode ser obtido. Adicionalmente, visto que o potencial de polarização não é aplicado à unidade de resfriamento 4 na segunda posição II ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado, o aumento na capacidade de corrente da fonte de alimentação de polarização pode ser suprimido. Além disso, devido à geração de calor causada pela aplicação de potencial de polarização não ocorrer, a unidade de resfriamento 4 pode resfriar de maneira eficaz as peças de trabalho W.

[086] Ademais, antes do tratamento de deposição, a unidade de resfriamento 4 e as peças de trabalho W podem ser colocadas na superfície superior do corpo principal de mesa giratória 11 no exterior da câmara 2, e o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser inserido, nesse estado, no espaço 2e da câmara 2 através da abertura 2d da câmara 2. Portanto, a operação de montagem da unidade de resfriamento 4 e das peças de trabalho W sobre o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser realizada facilmente. Além disso, o corpo principal de mesa giratória 11 pode ser removido do espaço 2e através da abertura 2d da câmara 2 em um estado no qual a unidade de resfriamento 4 é colocada no corpo principal de mesa giratória 11. Portanto, a operação de manutenção da unidade de resfriamento 4 pode ser facilmente realizada no exterior da câmara 2. Por exemplo, até mesmo quando um determinado filme é formado sobre a superfície da unidade de resfriamento 4 durante o tratamento de deposição das peças de trabalho W no interior da câmara 2, a unidade de resfriamento 4 colocada no corpo principal de mesa giratória 11 pode ser removida facilmente da câmara 2 após o tratamento de deposição. Portanto, a operação de remover o filme que aderiu à superfície da unidade de resfriamento 4 pode ser realizada facilmente.

[087] O risco de o refrigerante vazar também pode ser altamente reduzido, igualmente as primeira e segunda modalidades, com a configuração na qual a unidade de resfriamento é suspensa fixamente no interior da câmara e disposta de modo a estar espaçada para cima a partir da mesa giratória, sendo que tal configuração não é abrangida pelo escopo da presente invenção. Além do mais, visto que o calor radiante das peças de trabalho é absorvido por toda a circunferência da superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento é aumentada em relação àquela dos dispositivos de deposição convencionais nos quais a unidade de resfriamento e as peças de trabalho são giradas juntas em uma mesa.

[088] As modalidades específicas descritas acima são principalmente inclusivas da invenção que tem os recursos a seguir.

[089] O dispositivo de deposição das presentes modalidades realiza o tratamento de deposição ao mesmo tempo em que esfria peças de trabalho, sendo que dispositivo de deposição inclui: uma câmara que tem um espaço no qual as peças de trabalho são acomodadas e o tratamento de deposição das peças de trabalho é realizado; uma unidade de resfriamento que resfria as peças de trabalho no interior do espaço; uma mesa giratória que gira um eixo geométrico vertical em um estado no qual as peças de trabalho são colocadas sobre a mesma e que tem uma porção de colocação de unidade de resfriamento configurada para permitir que a unidade de resfriamento seja colocada sobre a mesma e porções de colocação de peça de trabalho que estão dispostas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento e configuradas para permitir que as peças de trabalho sejam colocadas nas mesmas respectivamente; um mecanismo de elevação que eleva e abaixa a unidade de resfriamento, no interior do espaço, entre uma primeira posição na qual a unidade de resfriamento é colocada sobre a mesa giratória e uma segunda posição na qual a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir da mesa giratória e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho; e uma tubulação refrigerante que é fixada à câmara e conectada, de maneira removível, à unidade de resfriamento para suprir o refrigerante à unidade de resfriamento.

[090] Com o dispositivo de deposição de tal configuração, em um estado anterior ao tratamento de deposição, a unidade de resfriamento está disposta na primeira posição na qual a unidade de resfriamento é colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento. As peças de trabalho estão dispostas nas porções de colocação de peça de trabalho dispostas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento. Em seguida, a operação de conectar a tubulação refrigerante à unidade de resfriamento e a operação de elevar a unidade de resfriamento da primeira posição para a segunda posição com o mecanismo de elevação são realizadas no interior do espaço da câmara. Na segunda posição, a unidade de resfriamento é espaçada para cima e está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho. Em seguida, a mesa giratória, sobre a qual as peças de trabalho foram colocadas, é girada e o tratamento de deposição das peças de trabalho W é realizado no estado estacionário da unidade de resfriamento na segunda posição. Ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado desse modo, a unidade de resfriamento permanece estacionária na segunda posição que é espaçada da mesa giratória 11. Portanto, não é necessário usar uma junta rotatória para suprir o refrigerante a partir da tubulação refrigerante para a unidade de resfriamento. Consequentemente, o risco de o refrigerante vazar pode ser altamente reduzido.

[091] Além disso, visto que as peças de trabalho revolvem ao redor da periferia da unidade de resfriamento, que está em um estado estacionário, durante a realização do tratamento de deposição, as peças de trabalho estão voltadas para toda a circunferência da superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento. Como resultado, a unidade de resfriamento pode absorver o calor radiante das peças de trabalho sobre toda a circunferência da superfície circunferencial externa. Consequentemente, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento pode ser aumentada.

[092] Além disso, é preferencial que seja fornecida uma fonte de alimentação de polarização que aplique, através da mesa giratória, um potencial de polarização às peças de trabalho colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho.

[093] Um potencial de polarização foi aplicado convencionalmente a uma peça de trabalho a fim de aprimorar a capacidade de deposição durante uma descarga de arco ou um bombardeamento iônico. Desse modo, o tratamento de deposição tem sido realizado, normalmente, aplicando-se um potencial de polarização negativa à peça de trabalho através da mesa giratória a fim de extrair íons de metal ou íons de gás, que são o material de filme, para a peça de trabalho com o objetivo de formar um filme adesivo denso na superfície de peça de trabalho. No entanto, no dispositivo de deposição descrito na Literatura de Patente 1, a unidade de resfriamento é colocada na mesa giratória, e a tubulação refrigerante na qual o refrigerante circula entre a câmara e a unidade de resfriamento é fixada à parede de câmara. Como resultado, a eletricidade pode fluir entre a mesa giratória e a câmara através da unidade de resfriamento e a tubulação refrigerante. Portanto, pode ser impossível aplicar um potencial de polarização à peça de trabalho sobre a mesa giratória. Por essa razão, a fim de aplicar um potencial de polarização à peça de trabalho, é necessário isolar eletricamente a tubulação refrigerante da câmara, ou usar uma tubulação não condutiva, por exemplo, resina, como a tubulação refrigerante, ou inserir um isolador entre a unidade de resfriamento e a mesa de trabalho. No entanto, quando o tratamento de deposição é realizado na câmara, o filme também é depositado nos materiais de isolamento e na tubulação de resina. Portanto, o material de isolamento e a tubulação de resina se tornam facilmente condutivos. Outro problema é que o material de isolamento e a tubulação de resina têm resistência insatisfatória ao calor gerado durante o tratamento de deposição. Ainda outro problema é que visto que o potencial de polarização também é aplicado à unidade de resfriamento, a área de influxo do potencial de polarização (a então chamada, corrente de íon) aumenta, portanto, a capacidade de corrente da fonte de alimentação de polarização deve ser aumentada desnecessariamente. Ainda outro problema é que visto que a corrente de polarização flui sobre a superfície de resfriamento da unidade de resfriamento, a superfície de resfriamento gera calor e a eficiência de resfriamento é altamente reduzida.

[094] No entanto, nas presentes modalidades, na configuração equipada com a fonte de alimentação de polarização, embora a fonte de alimentação de polarização aplique o potencial de polarização às peças de trabalho através da mesa giratória, a unidade de resfriamento está localizada na segunda posição espaçada a partir da mesa giratória durante o tratamento de deposição. Portanto, não é necessário que a tubulação refrigerante conectada à unidade de resfriamento seja isolada eletricamente da câmara. Além disso, não é necessário interpor um material de isolamento entre a mesa giratória 11 e a unidade de resfriamento. Como resultado, a estrutura do dispositivo de deposição é simplificada e um dispositivo de deposição de alta confiabilidade pode ser obtido. Adicionalmente, visto que o potencial de polarização não é aplicado à unidade de resfriamento na segunda posição ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado, o aumento na capacidade de corrente da fonte de alimentação de polarização pode ser suprimido.

[095] Além disso, devido à geração de calor causada pela aplicação de potencial de polarização não ocorrer, a unidade de resfriamento pode resfriar de maneira eficaz as peças de trabalho.

[096] Além disso, é preferencial que a câmara tenha uma abertura que se comunique com o exterior da câmara e tem um tamanho de modo que a mesa giratória possa ser movida através da mesma.

[097] Com tal configuração, antes do tratamento de deposição, a unidade de resfriamento e as peças de trabalho podem ser colocadas sobre a superfície superior da mesa giratória no exterior da câmara, e a mesa giratória pode ser inserida, nesse estado, no espaço da câmara através da abertura da câmara. Portanto, a operação de montagem da unidade de resfriamento e das peças de trabalho sobre a mesa giratória 11 pode ser realizada facilmente. Além disso, a mesa giratória 11 pode ser removida do espaço através da abertura da câmara em um estado no qual a unidade de resfriamento é colocada na mesa giratória. Portanto, a operação de manutenção da unidade de resfriamento pode ser facilmente realizada no exterior da câmara. Por exemplo, até mesmo quando um determinado filme é formado sobre a superfície da unidade de resfriamento durante o tratamento de deposição das peças de trabalho no interior da câmara, a unidade de resfriamento colocada na mesa giratória pode ser removida facilmente da câmara após o tratamento de deposição. Portanto, a operação de remover o filme que aderiu à superfície da unidade de resfriamento pode ser realizada facilmente.

[098] Além disso, é preferencial que o mecanismo de elevação tenha uma porção de acoplamento superior que está disposta no interior do espaço da câmara e que seja acoplada a uma porção superior da unidade de resfriamento em um estado no qual a unidade de resfriamento é colocada sobre a mesa giratória e a mesa giratória é inserida na câmara; e uma unidade de elevação superior que é montada na câmara e eleva e abaixa a porção de acoplamento superior, e que a unidade de elevação superior eleva e abaixa a unidade de resfriamento entre a primeira posição e a segunda posição elevando-se e abaixando-se a porção de acoplamento superior em um estado no qual a porção de acoplamento superior é acoplada à porção superior da unidade de resfriamento.

[099] Com tal mecanismo de elevação, visto que a porção de acoplamento superior é acoplada à porção superior da unidade de resfriamento para elevar ou abaixar a unidade de resfriamento, o mecanismo de elevação pode ser disposta separado da mesa giratória. Portanto, o mecanismo de elevação não pode interferir com a mesa giratória. Além disso, a mesa giratória pode ser projetada livremente sem considerar a disposição do mecanismo de elevação, e as mesas giratórias disponíveis presentemente podem ser usadas.

[100] É também preferencial que a unidade de elevação superior seja montada na parede de topo da câmara; que a porção de acoplamento superior inclua um gancho fornecido na unidade de elevação superior de modo a estar pendurado em direção ao interior do espaço; e que uma porção de engate passível de engate ao gancho seja fornecida em uma extremidade superior da unidade de resfriamento.

[101] Com tal configuração, através do engate do gancho à porção de engate na extremidade superior da unidade de resfriamento, é possível acoplar, de maneira fácil e confiável, o gancho à unidade de resfriamento.

[102] Além disso, é preferencial que o gancho possa se mover entre uma posição superior e uma posição inferior; que a posição inferior possa ser definida como uma posição na qual o gancho possa se engatar à porção de engate da unidade de resfriamento localizada na primeira posição; e que a posição superior seja definida como uma posição que está acima da posição inferior e na qual o gancho suspende a unidade de resfriamento na segunda posição.

[103] Com tal configuração, movendo-se o gancho para a posição inferior, é possível engatar o gancho à porção de engate da unidade de resfriamento localizada na primeira posição. Entretanto, movendo-se o gancho engatado à porção de engate para a posição superior, é possível suspender facilmente a unidade de resfriamento na segunda posição.

[104] É também preferencial que a mesa giratória tenha um furo passante que passa através da mesa giratória na direção vertical na porção de colocação de unidade de resfriamento, e que o mecanismo de elevação tenha um tirante de elevação que tem uma porção de contiguidade configurada para estar em contiguidade com uma superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento e que é inserida de modo a poder se mover na direção vertical no interior do furo passante da mesa giratória; e que uma unidade de elevação inferior que eleva e abaixa a unidade de resfriamento entre a primeira posição e a segunda posição aplicando-se uma força motriz na direção vertical ao tirante de elevação em um estado no qual a porção de contiguidade do tirante de elevação fica em contiguidade com a superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento.

[105] O mecanismo de elevação eleva e abaixa a unidade de resfriamento em um estado no qual o tirante de elevação é inserido no furo passante da mesa giratória e a porção de contiguidade do tirante de elevação está em contiguidade com a superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento. Portanto, o mecanismo de elevação pode estar disposto separado da porção superior do espaço interior da câmara. Como resultado, o risco de o mecanismo de elevação interferir em outras partes dispostas na porção superior no interior da câmara pode ser evitado.

[106] É também preferencial que o tirante de elevação tenha um batente que impeça que o tirante de elevação caia do furo passante.

[107] Com tal configuração, até mesmo quando o tirante de elevação não recebe a força motriz da unidade de elevação inferior, o batente impede que o tirante de elevação caia do furo passante da mesa giratória. Portanto, o tirante de elevação pode ser removido da câmara ou montado na câmara junto da mesa giratória.

[108] É também preferencial que o furo passante tenha um diâmetro interno definido de modo a garantir um vão que impeça o contato entre uma parede interna do furo passante e uma porção do tirante de elevação que foi inserido no furo passante.

[109] Com tal configuração, visto que é garantido o vão que impe o contato entre a parede interna do furo passante e a porção de corpo principal do tirante de elevação que foi inserido no furo passante, o tirante de elevação é insolado eletricamente pelo vão da mesa giratória, e o risco de a corrente de polarização vazar do corpo principal de mesa giratória para o tirante de elevação pode ser evitado.

[110] O método de deposição das modalidades usa o dispositivo de deposição e inclui: uma etapa para colocar a unidade de resfriamento e as peças de trabalho sobre a mesa giratória e inserir a mesa giratória no espaço da câmara; uma etapa para conectar a tubulação refrigerante à unidade de resfriamento; uma etapa para elevar a unidade de resfriamento no interior da câmara a partir da primeira posição na qual a unidade de resfriamento é colocada sobre a mesa giratória para a segunda posição, e espaçar a unidade de resfriamento da mesa giratória; e uma etapa para realizar o tratamento de deposição das peças de trabalho no interior da câmara, durante rotação da mesa giratória, e também resfriar as peças de trabalho com a unidade de resfriamento em um estado estacionário da unidade de resfriamento.

[111] Com tal método, a unidade de resfriamento e as peças de trabalho são colocadas na superfície superior da mesa giratória no exterior da câmara antes do tratamento de deposição, e a mesa giratória é inserida na câmara. Portanto, a operação de montagem da unidade de resfriamento e das peças de trabalho sobre a mesa giratória 11 pode ser realizada facilmente. Além disso, como resultado da realização da etapa para inserir a mesa giratória na câmara e, em seguida, conectar a tubulação refrigerante à unidade de resfriamento no interior do espaço da câmara, e a etapa para elevar a unidade de resfriamento a partir da primeira posição para a segunda posição com o mecanismo de elevação, a unidade de resfriamento é espaçada para cima a partir da mesa giratória e definida de modo a estar voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho. Em seguida, a mesa giratória, sobre a qual as peças de trabalho foram colocadas, é girada e o tratamento de deposição das peças de trabalho W é realizado no estado estacionário da unidade de resfriamento na segunda posição. Como resultado, ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado, a unidade de resfriamento permanece estacionária na segunda posição que é espaçada da mesa giratória. Portanto, não é necessário usar uma junta rotatória para suprir o refrigerante a partir da tubulação refrigerante para a unidade de resfriamento. Consequentemente, o risco de o refrigerante vazar pode ser altamente reduzido.

[112] Além disso, ao mesmo tempo em que o tratamento de deposição é realizado, as peças de trabalho giram em torno da periferia da unidade de resfriamento que está em um estado estacionário. Portanto, a superfície circunferencial externa da unidade de resfriamento pode absorver o calor radiante das peças de trabalho ao mesmo tempo em que está voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho sobre toda a circunferência. Como resultado, a eficiência de resfriamento da unidade de resfriamento pode ser aumentada.

[113] Conforme descrito acima no presente documento, com o dispositivo de deposição e o método de deposição em conformidade com a presente invenção, o risco de o refrigerante vazar pode ser altamente reduzido. Além disso, a eficiência de resfriamento pode ser aumentada.

Claims

1. Dispositivo de deposição (1) que realiza tratamento de deposição ao mesmo tempo em que resfria peças de trabalho (W), sendo que o dispositivo de deposição compreende: uma câmara (2) que tem um espaço (2e) em que as peças de trabalho (W) estão acomodadas e o tratamento de deposição das peças de trabalho (W) é realizado; uma unidade de resfriamento (4) que resfria as peças de trabalho (W) no interior do espaço (2e); uma mesa giratória (11) que gira em torno de um eixo geométrico vertical (C) em um estado em que as peças de trabalho (W) são colocadas na mesma, CARACTERIZADO pelo fato de que: a mesa giratório tem uma porção de colocação de unidade de resfriamento (21) configurada para permitir que a unidade de resfriamento (4) seja colocada na mesma e porções de colocação de peça de trabalho (22) que estão dispostas de modo a circundar a periferia da porção de colocação de unidade de resfriamento (21) e configuradas para permitir que as peças de trabalho (W) sejam colocadas na mesma respectivamente; e o dispositivo de deposição (1) adicionalmente compreende: um mecanismo de elevação (5) que eleva a abaixa a unidade de resfriamento (4), no interior do espaço (2e), entre uma primeira posição (I) em que a unidade de resfriamento (4) é colocada na mesa giratória (11) e uma segunda posição (II) em que a unidade de resfriamento (4) é espaçada para cima a partir da mesa giratória (11) e voltada para as superfícies laterais das peças de trabalho (W) colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho (22); e tubulação refrigerante (6) que é fixada à câmara (2) e conectada, de maneira removível, à unidade de resfriamento (4) e que supre um refrigerante à unidade de resfriamento (4).

2. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente: uma fonte de alimentação de polarização (10) que aplica, através da mesa giratória (11), um potencial de polarização às peças de trabalho (W) colocadas nas porções de colocação de peça de trabalho (22).

3. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que: a câmara (2) tem uma abertura (2d) que comunica o espaço (2e) com o exterior da câmara (2) e tem um tamanho de modo que a mesa giratória (11) possa ser movida através da mesma.

4. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que: o mecanismo de elevação (5) tem uma porção de acoplamento superior que está disposta no interior do espaço (2e) da câmara (2) e que está acoplada a uma porção superior da unidade de resfriamento (4) em um estado no qual a unidade de resfriamento (4) é colocada sobre a mesa giratória (11) e a mesa giratória (11) é inserida na câmara (2); e uma unidade de elevação superior (24) que é montada na câmara (2) e eleva e abaixa a porção de acoplamento superior, em que a unidade de elevação superior (24) eleva e abaixa a unidade de resfriamento (4) entre a primeira posição (I) e a segunda posição (II) elevando-se e abaixando-se a porção de acoplamento superior em um estado no qual a porção de acoplamento superior é acoplada à porção superior da unidade de resfriamento (4).

5. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 4, CARACTERIZADO pelo fato de que: a unidade de elevação superior (24) é montada em uma parede de topo (2a) da câmara (2); a porção de acoplamento superior inclui um gancho (23) fornecido na unidade de elevação superior (24) de modo a se pendurar para baixo em direção ao interior do espaço (2e); e uma porção de engate (4d) passível de engate com o gancho (23) é fornecida em uma extremidade superior da unidade de resfriamento (4).

6. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADO pelo fato de que: o gancho (23) pode se mover entre uma posição superior e uma posição inferior; a posição inferior é definida em uma posição na qual o gancho (23) pode se engatar à porção de engate (4d) da unidade de resfriamento (4) localizada na primeira posição (I); e a posição superior é definida em uma posição que está acima da posição inferior e na qual o gancho (23) suspende a unidade de resfriamento (4) na segunda posição (II).

7. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a mesa giratória (11) tem um furo passante (11b) que passa através da mesa giratória (11) na direção vertical na porção de colocação de unidade de resfriamento (21), e o mecanismo de elevação (5) tem um tirante de elevação (74) que tem uma porção de contiguidade (74a) configurada para estar em contiguidade com uma superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento (4) colocada na porção de colocação de unidade de resfriamento (21) e que é inserida de modo a poder se mexer na direção vertical no interior do furo passante (11b) da mesa giratória (11); e uma unidade de elevação inferior (73) que eleva e abaixa a unidade de resfriamento (4) entre a primeira posição (I) e a segunda posição (II) aplicando-se uma força motriz na direção vertical ao tirante de elevação (74) em um estado no qual a porção de contiguidade (74a) do tirante de elevação (74) está em contiguidade com a superfície de extremidade inferior da unidade de resfriamento (4).

8. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADO pelo fato de que: o tirante de elevação (74) tem um batente que impede que o tirante de elevação (74) caia do furo passante (11b).

9. Dispositivo de deposição (1), de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADO pelo fato de que: o furo passante (11b) tem um diâmetro interno definido de modo a garantir um vão que impede o contato entre uma parede interna do furo passante (11b) e uma porção do tirante de elevação (74) que foi inserido no furo passante (11b).

10. Método de deposição que usa o Dispositivo de deposição (1) conforme definido na reivindicação 1, sendo que o método de deposição é CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: uma etapa para colocar a unidade de resfriamento (4) e as peças de trabalho (W) sobre a mesa giratória (11) e para inserir a mesa giratória (11) no espaço (2e) da câmara (2); uma etapa para conectar a tubulação refrigerante (6) à unidade de resfriamento (4); uma etapa para elevar a unidade de resfriamento (4) no interior da câmara (2) a partir da primeira posição (I) na qual a unidade de resfriamento (4) é colocada sobre a mesa giratória (11) para a segunda posição (II) e para espaçar a unidade de resfriamento (4) a partir da mesa giratória (11); e uma etapa para realizar o tratamento de deposição das peças de trabalho (W) no interior da câmara (2), ao mesmo tempo em que gira a mesa giratória (11), e também para resfriar as peças de trabalho (W) com a unidade de resfriamento (4) em um estado estacionário da unidade de resfriamento (4).