ATE488345T1 - Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks

Info

Publication number
ATE488345T1
ATE488345T1 AT06829352T AT06829352T ATE488345T1 AT E488345 T1 ATE488345 T1 AT E488345T1 AT 06829352 T AT06829352 T AT 06829352T AT 06829352 T AT06829352 T AT 06829352T AT E488345 T1 ATE488345 T1 AT E488345T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
cleaning
wafer block
outlet port
sawn
basin
Prior art date
Application number
AT06829352T
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Stangl
Hans-Juergen Stangl
Original Assignee
Stangl Semiconductor Equipment Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stangl Semiconductor Equipment Ag filed Critical Stangl Semiconductor Equipment Ag
Application granted granted Critical
Publication of ATE488345T1 publication Critical patent/ATE488345T1/de

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0076Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for removing dust, e.g. by spraying liquids; for lubricating, cooling or cleaning tool or work

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
AT06829352T 2005-12-06 2006-12-06 Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks ATE488345T1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005058269A DE102005058269B4 (de) 2005-12-06 2005-12-06 Vorrichtung zum Reinigen eines gesägten Waferblocks
PCT/EP2006/011724 WO2007065665A1 (de) 2005-12-06 2006-12-06 Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE488345T1 true ATE488345T1 (de) 2010-12-15

Family

ID=37728200

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT06829352T ATE488345T1 (de) 2005-12-06 2006-12-06 Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20080308125A1 (de)
EP (1) EP1957247B1 (de)
AT (1) ATE488345T1 (de)
CA (2) CA2719395A1 (de)
DE (2) DE102005058269B4 (de)
MY (1) MY141037A (de)
WO (1) WO2007065665A1 (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006059810A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Rena Sondermaschinen Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Gegenständen, insbesondere von dünnen Scheiben
DE102007058260A1 (de) 2007-11-27 2009-05-28 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines gesägten Waferblocks
KR101177038B1 (ko) * 2007-12-10 2012-08-27 레나 게엠베하 물품의 세정 장치 및 방법
CN101896994B (zh) * 2007-12-10 2012-04-04 里纳股份有限公司 用于清洁的设备和方法
DE102008004548A1 (de) * 2008-01-15 2009-07-16 Rec Scan Wafer As Waferstapelreinigung
WO2009114043A1 (en) * 2008-03-07 2009-09-17 Automation Technology, Inc. Solar wafer cleaning systems, apparatus and methods
KR101700260B1 (ko) * 2009-09-15 2017-01-26 퀀텀 글로벌 테크놀로지스, 엘엘씨 샤워헤드 세정을 위한 방법 및 장치

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5356813A (en) * 1992-04-30 1994-10-18 Energy Biosystems Corporation Process for the desulfurization and the desalting of a fossil fuel
US5950645A (en) * 1993-10-20 1999-09-14 Verteq, Inc. Semiconductor wafer cleaning system
JPH07249604A (ja) * 1994-03-09 1995-09-26 Fujitsu Ltd 洗浄方法及び洗浄装置
US5772784A (en) * 1994-11-14 1998-06-30 Yieldup International Ultra-low particle semiconductor cleaner
US5950643A (en) * 1995-09-06 1999-09-14 Miyazaki; Takeshiro Wafer processing system
JPH10172947A (ja) * 1996-12-11 1998-06-26 Hitachi Ltd 単槽式洗浄方法およびその装置
JP3209403B2 (ja) * 1996-12-24 2001-09-17 株式会社東京精密 ウェーハ洗浄装置
JP3697063B2 (ja) * 1997-05-15 2005-09-21 東京エレクトロン株式会社 洗浄システム
US6164297A (en) * 1997-06-13 2000-12-26 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying apparatus for objects to be processed
JP3494202B2 (ja) * 1997-09-30 2004-02-09 荒川化学工業株式会社 ウェハー状ワーク洗浄方法並びに当該洗浄方法に用いる洗浄バスケット及び洗浄ハウジング
US6514355B1 (en) * 1999-02-08 2003-02-04 International Business Machines Corporation Method and apparatus for recovery of semiconductor wafers from a chemical tank
US6837253B1 (en) * 2002-04-22 2005-01-04 Imtec Acculine, Inc. Processing tank with improved quick dump valve
US20050061775A1 (en) * 2003-09-19 2005-03-24 Kuo-Tang Hsu Novel design to eliminate wafer sticking

Also Published As

Publication number Publication date
US20080308125A1 (en) 2008-12-18
DE102005058269B4 (de) 2011-12-01
WO2007065665A1 (de) 2007-06-14
DE502006008357D1 (de) 2010-12-30
EP1957247A1 (de) 2008-08-20
DE102005058269A1 (de) 2007-06-14
CA2719395A1 (en) 2007-12-06
MY141037A (en) 2010-02-25
CA2632387C (en) 2012-04-17
EP1957247B1 (de) 2010-11-17
CA2632387A1 (en) 2007-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE488345T1 (de) Vorrichtung und verfahren zum reinigen eines gesägten waferblocks
DE502006009404D1 (de) Verfahren zum lateralen zertrennen eines halbleiterwafers und optoelektronisches bauelement
DE602005014572D1 (de) Verschlussverfahren und Vorrichtung für Teilchenfilter
DE112008000723A5 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Prüfen der Kante eines Halbleiterwafers
DE602005023868D1 (de) Vorrichtung zum Tragen von Audio- und Telefoneinrichtungen
AT504567A3 (de) Verfahren und vorrichtung zum bonden von wafern
DE602006004671D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum schleifen der Rückseite eines Halbleiterwafers
DE502005004321D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum steuern eines injektors
DE602005002860D1 (de) Vorrichtung zum Scannen von Wafern
DE602006000800D1 (de) Vorrichtung zum Öffnen von Beuteln
ATE505970T1 (de) Vorrichtung und verfahren zur reingung eines elektrischen haarschneidegeräts und set mit einem derartigen gerät
DE502007002635D1 (de) Vorrichtung zum thermischen entgraten von werkstücken
DE602005006790D1 (de) Vorrichtung zum umdrehen von sich bewegenden flaschen
DE602006007908D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum polieren von Halbleiterscheiben
DE502006007232D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum bewegen von flüssigkeitsbehältern
ATE410364T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum evakuieren einer kammer
DE112004002049D2 (de) Vorrichtung zur Entkeimung eines Luftstroms durch UV-Licht
ATE511782T1 (de) Vorrichtung und verfahren
DE502005002994D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Konzentrationen von mindestens zwei Liganden
DE602004029535D1 (de) Vorrichtung und Methode zum Trennen von Flanschverbindungen
DE60214901D1 (de) Dreibeinstativ zum tragen eines apparates, insbesondere eines optischen oder photographischen apparates und dergleichen
DE502007004731D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur reinigung von ventilen
NO20055790D0 (no) Method and apparatus for separating particles from a fluid
ATE488326T1 (de) Schleuderstrahlmaschine zur oberflächenbehandlung von produkten
DE502005002988D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Nullposition eines changierbaren Fadenführers