ATE346290T1 - Verfahren zur herstellung einer integrierten sensormatrixanordung - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer integrierten sensormatrixanordung

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ATE346290T1
ATE346290T1 AT00850013T AT00850013T ATE346290T1 AT E346290 T1 ATE346290 T1 AT E346290T1 AT 00850013 T AT00850013 T AT 00850013T AT 00850013 T AT00850013 T AT 00850013T AT E346290 T1 ATE346290 T1 AT E346290T1
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AT
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shadow mask
coatings
openings
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resist
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AT00850013T
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German (de)
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Per-Erik Faegerman
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Appliedsensor Sweden Ab
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    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403—Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414—Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7232694B2 (en) * 2004-09-28 2007-06-19 Advantech Global, Ltd. System and method for active array temperature sensing and cooling
JP5384752B2 (ja) * 2010-12-27 2014-01-08 シャープ株式会社 蒸着膜の形成方法及び表示装置の製造方法
JP5384751B2 (ja) 2010-12-27 2014-01-08 シャープ株式会社 蒸着膜の形成方法及び表示装置の製造方法
US8673791B2 (en) 2012-05-25 2014-03-18 International Business Machines Corporation Method and apparatus for substrate-mask alignment
WO2024025475A1 (en) * 2022-07-29 2024-02-01 Ams-Osram Asia Pacific Pte. Ltd. Method of manufacturing an optical device, and optical device

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2857251A (en) 1953-01-28 1958-10-21 Atlantic Refining Co Process and dual-detector apparatus for analyzing gases
US3595621A (en) 1968-09-30 1971-07-27 Anthony John Andreatch Catalytic analyzer
US4169126A (en) 1976-09-03 1979-09-25 Johnson, Matthey & Co., Limited Temperature-responsive device
US4321322A (en) 1979-06-18 1982-03-23 Ahnell Joseph E Pulsed voltammetric detection of microorganisms
DE3151891A1 (de) 1981-12-30 1983-07-14 Zimmer, Günter, Dr.rer. nat., 4600 Dortmund Halbleiter-sensor fuer die messung der konzentration von teilchen in fluiden
CS231026B1 (en) 1982-09-27 1984-09-17 Lubomir Serak Method of voltmetric determination of oxygen and sensor to perform this method
CH665908A5 (de) 1983-08-30 1988-06-15 Cerberus Ag Vorrichtung zum selektiven detektieren der gasfoermigen bestandteile von gasgemischen in luft mittels eines gassensors.
US4897162A (en) 1986-11-14 1990-01-30 The Cleveland Clinic Foundation Pulse voltammetry
DE3729286A1 (de) 1987-09-02 1989-03-16 Draegerwerk Ag Messgeraet zur analyse eines gasgemisches
JPH0695082B2 (ja) 1987-10-08 1994-11-24 新コスモス電機株式会社 吸引式オゾンガス検知器
US4875083A (en) 1987-10-26 1989-10-17 North Carolina State University Metal-insulator-semiconductor capacitor formed on silicon carbide
US5120421A (en) * 1990-08-31 1992-06-09 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Electrochemical sensor/detector system and method
JPH0572163A (ja) 1990-11-30 1993-03-23 Mitsui Mining Co Ltd 半導体式ガスセンサー
NL9002750A (nl) 1990-12-13 1992-07-01 Imec Inter Uni Micro Electr Sensor van het diode type.
GB9114018D0 (en) * 1991-06-28 1991-08-14 Philips Electronic Associated Thin-film transistor manufacture
JPH05240838A (ja) 1992-02-27 1993-09-21 Kagome Co Ltd 加工飲食品に含まれるジアセチルの測定方法
US5332681A (en) 1992-06-12 1994-07-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of making a semiconductor device by forming a nanochannel mask
US5285084A (en) 1992-09-02 1994-02-08 Kobe Steel Usa Diamond schottky diodes and gas sensors fabricated therefrom
US5323022A (en) 1992-09-10 1994-06-21 North Carolina State University Platinum ohmic contact to p-type silicon carbide
JP3266699B2 (ja) 1993-06-22 2002-03-18 株式会社日立製作所 触媒の評価方法及び触媒効率制御方法ならびにＮＯｘ浄化触媒評価装置
JP3496307B2 (ja) 1994-02-18 2004-02-09 株式会社デンソー 触媒劣化検知法及び空燃比センサ
SE503265C2 (sv) 1994-09-23 1996-04-29 Forskarpatent Ab Förfarande och anordning för gasdetektion
WO1997021094A1 (en) * 1995-12-01 1997-06-12 Innogenetics N.V. Impedimetric detection system and method of production thereof
US5691215A (en) 1996-08-26 1997-11-25 Industrial Technology Research Institute Method for fabricating a sub-half micron MOSFET device with insulator filled shallow trenches planarized via use of negative photoresist and de-focus exposure
SE524102C2 (sv) 1999-06-04 2004-06-29 Appliedsensor Sweden Ab Mikro-hotplate-anordning med integrerad gaskänslig fälteffektsensor

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Publication number Publication date
SE523918C2 (sv) 2004-06-01
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SE9900239D0 (sv) 1999-01-25
DE60031899D1 (de) 2007-01-04

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