ATE229229T1 - Verfahren zur erzeugung einer struktur und verfahren zum vorbereiten einer halbleitenden anordnung mit hilfe dieses verfahrens - Google Patents
Verfahren zur erzeugung einer struktur und verfahren zum vorbereiten einer halbleitenden anordnung mit hilfe dieses verfahrensInfo
- Publication number
- ATE229229T1 ATE229229T1 AT95203233T AT95203233T ATE229229T1 AT E229229 T1 ATE229229 T1 AT E229229T1 AT 95203233 T AT95203233 T AT 95203233T AT 95203233 T AT95203233 T AT 95203233T AT E229229 T1 ATE229229 T1 AT E229229T1
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- semiconducting
- preparing
- generating
- arrangement
- semiconducting arrangement
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
- H10P50/71—Etching of wafers, substrates or parts of devices using masks for conductive or resistive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/167—Coating processes; Apparatus therefor from the gas phase, by plasma deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
- H10P50/69—Etching of wafers, substrates or parts of devices using masks for semiconductor materials
- H10P50/691—Etching of wafers, substrates or parts of devices using masks for semiconductor materials for Group V materials or Group III-V materials
- H10P50/692—Etching of wafers, substrates or parts of devices using masks for semiconductor materials for Group V materials or Group III-V materials characterised by their composition, e.g. multilayer masks or materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
- H10P50/73—Etching of wafers, substrates or parts of devices using masks for insulating materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117644A JP2709175B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | エッチングパターンの形成方法 |
| JP2118675A JP2966036B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | エッチングパターンの形成方法 |
| JP15868790A JPH0449623A (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 光処理装置 |
| JP2174443A JP2849458B2 (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 半導体装置の製造方法および製造装置 |
| JP2308550A JPH04181712A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 選択照射光を用いたパターン形成装置 |
| EP91304134A EP0456479B1 (de) | 1990-05-09 | 1991-05-08 | Erzeugung von Mustern und Herstellungsverfahren für Halbleiteranordnungen mit diesem Muster |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE229229T1 true ATE229229T1 (de) | 2002-12-15 |
Family
ID=27545582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT95203233T ATE229229T1 (de) | 1990-05-09 | 1991-05-08 | Verfahren zur erzeugung einer struktur und verfahren zum vorbereiten einer halbleitenden anordnung mit hilfe dieses verfahrens |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | ATE229229T1 (de) |
-
1991
- 1991-05-08 AT AT95203233T patent/ATE229229T1/de not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATA49589A (de) | Verfahren zum trocknen einer materialbahn und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens | |
| DE69327063D1 (de) | Zahnbürste und verfahren zum herstellen einer zahnbürste | |
| DE69213134D1 (de) | Apparatus und Verfahren zur Auswertung einer feinen Struktur | |
| DE69719030D1 (de) | Verfahren zum konfigurieren und zur benutzung einer sonde | |
| DE69429034D1 (de) | Verfahren und Gerät zur Erstellung und zum Erhalten der Rahmensynchronisation in einer Satelliten Kommunikationsanordnung | |
| DE69217255D1 (de) | Verfahren zum kaltstarten einer freikolbenmaschine und freikolbenmaschine angepasst zur durchführung des verfahrens | |
| DE3772659D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten unter anwendung einer cvd-beschichtungstechnik. | |
| DE69123644D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung mit einer Umkehrosmose-Membran zum Konzentrieren einer Lösung | |
| DE3689498D1 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer Röntgenaufnahme mittels eines Fotoleiters und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. | |
| DE69529526D1 (de) | Verfahren zum biegen mit einer abkantpresse und abkantpresse zum ausführen dieses verfahrens | |
| DE69126644D1 (de) | Verfahren zum Erzeugen eines Zuglaufplanes | |
| DE59107556D1 (de) | Reflektor und Verfahren zum Erzeugen einer Reflektorform | |
| DE69634721D1 (de) | Anordnung und Verfahren zum Erzeugen einer Hintergrund-Textur | |
| DE68926143D1 (de) | Struktur zur Aufbringung eines Metallisationsmusters darauf und Verfahren zur Bildung einer solchen Struktur | |
| DE69839002D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen einer Farbumwandlungstabelle mit Interpolation | |
| DE69019923D1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Erzeugung einer zur Umsetzung einer Bildreproduktionscharakteristik verwendbaren Umsetzungscharakteristik. | |
| AT372843B (de) | Verfahren zum instandsetzen einer zahnprothese und ausruestung zur durchfuehrung des verfahrens | |
| DE69208378D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Beleimen einer Bahn | |
| DE69226887D1 (de) | Halbleiteranordnung und Verfahren zum Herstellen einer derartigen Halbleiteranordnung | |
| DE69720237D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum erzielen einer digital-analalog-umwandlungsarchitektur mit hochleistungsfähigkeit | |
| DE69730291D1 (de) | Verfahren zum herstellen einer justiermarke in einer harzschablone und so hergestellte schablone | |
| DE68926213D1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Erzeugung eines gerasterten Halbtonbildes | |
| DE68911973D1 (de) | Anordnung und Verfahren zum Herstellen einer Anordnung. | |
| DE69816365D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Produzieren einer Farbumwandlungstabelle | |
| DE58909019D1 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer Röntgenaufnahme mittels eines Photoleiters und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RER | Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties |