AT505195A3 - Vorrichtung zum übertragen von in einer maske vorgesehenen strukturen auf ein substrat - Google Patents
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007022895A DE102007022895B9 (de) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | Vorrichtung zum Übertragen von in einer Maske vorgesehenen Strukturen auf ein Substrat |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
AT505195A2 AT505195A2 (de) | 2008-11-15 |
AT505195A3 true AT505195A3 (de) | 2011-12-15 |
AT505195B1 AT505195B1 (de) | 2012-07-15 |
Family
ID=39876953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ATA736/2008A AT505195B1 (de) | 2007-05-14 | 2008-05-06 | Vorrichtung zum übertragen von in einer maske vorgesehenen strukturen auf ein substrat |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8212989B2 (de) |
JP (2) | JP2008283196A (de) |
AT (1) | AT505195B1 (de) |
DE (1) | DE102007022895B9 (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2007
- 2007-05-14 DE DE102007022895A patent/DE102007022895B9/de active Active
-
2008
- 2008-05-06 AT ATA736/2008A patent/AT505195B1/de active
- 2008-05-06 US US12/115,587 patent/US8212989B2/en active Active
- 2008-05-13 JP JP2008126363A patent/JP2008283196A/ja active Pending
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2013
- 2013-06-06 JP JP2013119578A patent/JP2013219381A/ja active Pending
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Also Published As
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US8212989B2 (en) | 2012-07-03 |
AT505195A2 (de) | 2008-11-15 |
DE102007022895B9 (de) | 2013-11-21 |
JP2013219381A (ja) | 2013-10-24 |
JP2008283196A (ja) | 2008-11-20 |
DE102007022895B4 (de) | 2013-08-29 |
DE102007022895A1 (de) | 2008-11-27 |
US20080284999A1 (en) | 2008-11-20 |
AT505195B1 (de) | 2012-07-15 |
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