AT502301A2 - Röntgenanode und verfahren zur herstellung derselben - Google Patents

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AT502301A2
AT502301A2 AT0054505A AT5452005A AT502301A2 AT 502301 A2 AT502301 A2 AT 502301A2 AT 0054505 A AT0054505 A AT 0054505A AT 5452005 A AT5452005 A AT 5452005A AT 502301 A2 AT502301 A2 AT 502301A2
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Description


  DIPL.-ING. WALTER HOLZER
DIPL.-ING. OTTO PFEIFER
DIPL.-ING. DR. TECHN. ELISABETH SCHOBER
A-1010 WIEN, SCHO[pi]ENRING 16, BORSEGEBAUDE
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft im allgemeinen eine Röntgenanode und insbesondere eine Röntgenanode mit einen Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aufweisenden Materialschichten zwischen dem Substrat und dem Targetmaterial .
Hintergrund der Erfindung
In der medizinischen Bildgebungsindustrie besteht Bedarf, dem erhöhten Kundenwunsch nach kürzeren Scanzeiten in Computertomographie (CT) -Röntgenscannern entgegenzukommen. Um kürzere Scanzeiten zu erzielen, wird die Röntgenröhre auf dem CTScanner bei erhöhten Geschwindigkeiten um einen Träger gedreht und die momentane Leistung der auf das Targetmaterial der Anode gerichteten Röntgenröhre erhöht, um den Röntgenstrahlenfluss aufrechtzuerhalten.

   Diese zwei Voraussetzungen erfordern, dass der Targetdurchmesser an der Anode innerhalb des zulässigen Entwurfsumfanges maximiert und die Anodendrehgeschwindigkeit erhöht wird, damit das Target die durch die kürzeren Scanzeiten erforderlichen hohen Leistungen beherrscht.
Da die Röntgenröhre auf dem CT-Scanner um einen Träger bei erhöhten Geschwindigkeiten gedreht wird, erhöht sich die Hertzsche Last an den Anodenlagern beträchtlich. Auch durch Erhöhen der momentanen Leistung der Anode entsteht eine Erh[delta] _<[phi]>[phi] [phi] [phi] [phi] [phi] [phi] [phi] [phi] [phi] [phi]
hung der örtlichen Temperatur an dem Anodentarget und eine Erhöhung der Temperaturschwankung entlang der Anode. Die derzeitigen Anodenbaumaterialien begrenzen die zulässige Beanspruchbarkeit und die momentane Leistung, welcher die Anode unterliegen kann.

   Daher sind die Parameter (Targetdurchmesser und Anodendrehgeschwindigkeit) durch die übermässige Masse begrenzt, die beispielsweise durch ein festes Targetmaterial gebildet wird, oder durch die unannehmbare Berstfestigkeit des Targetmaterials an der Anode. Die übermässige Masse erhöht die Last an den Anodenlagern. Daher ist es wünschenswert, ein leichteres Targetmaterial zu verwenden. Die örtliche Temperatur und die Temperaturschwankung beeinflussen die Berstfestigkeit.

   Daher ist es wünschenswert, eine Anode zu haben, die durch Erhöhen ihrer Stärke (Berstfestigkeit) weniger anfällig für Temperaturschwankungen ist .
Das US-Patent Nr. 6,554,179 lehrt ein Verfahren zum Reaktionshartlöten eines festen Targetmaterials, welches aus hitzebeständigen Metallen hergestellt wird, mit einem Kohlenstoffkomposit, um zwischen den Materialien Phasenstabilität und eine hohe chemische Leitfähigkeit zu schaffen, welche die in dem Targetmaterial erzeugte örtliche Wärme ableitet. Eine Schlammschicht wird auf das Graphit oder Kohlenstoffkomposit aufgetragen, welches reaktive Metallcarbide, hitzebeständige Metallboride und Metallpulver aufweist, um eine Schicht zu bilden, auf der das feste hitzebeständige Metall der Legierung hartgelötet werden kann.

   Das Targetmaterial ist aus festen 4 [Phi] [Phi] [phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [phi]
hitzebeständigen Metalllegierungen wie Wolfram (W) oder Molybdän (Mo) hergestellt. Es wird bevorzugt, dass das kohlenstoffhaltige Material einen auf die Wärmedehnung des Targetmaterials abgestimmten Koeffizienten aufweist, andernfalls ergeben sich während der erwarteten Temperaturabweichungen hohe Spannungen zwischen den Materialien. Das feste Targetmaterial erhöht das Gewicht der Anode beträchtlich, daher erhöht sich die Gesamtdichte der Anode. Darüber hinaus werden verschiedene Verfahren zur Herstellung der Schlammbeschichtung offenbart, welche das Auftragen des Schlammes auf die Röntgenanode umfassen.

   Zum Verbinden der verschiedenen hitzebeständigen Metallen mit dem kohlenstoffhaltigen Träger werden auch Wärmebehandlungstemperaturen und Bearbeitungszeiten dargestellt.
Es wäre daher wünschenswert, eine Röntgenanode zu schaffen, welche einen erhöhten Targetdurchmesser und Anodendrehgeschwindigkeiten beherrscht, durch Schaffen einer leichteren Anode aus Materialien mit einer hohen Festigkeit (Berstfestigkeit) , einer thermischen Leitfähigkeit und verringerten Spannungen zwischen den Materialschichten, während die Phasenstabilität des Targetbereiches während der Lebensdauer der Anode gesichert wird.
Zusammenfassung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung schafft eine Röntgenanode zur Anwendung in einer Röntgenröhre.

   Die Röntgenanode umfasst ein Substratmaterial, ein Targetmaterial und ein oder mehrere Ma [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] . [Phi] .. "
terialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten. Das Targetmaterial ist mit einem oder mehreren Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten (CTE) verbunden und die Schichten des abgestuften CTE-Materials sind mit dem Substratmaterial verbunden.
Ein erstes Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode umfasst das Schaffen eines Substrates mit einem Targetort, das Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammmischung, um eine oder mehrere Materialschichten mit einem abgestuften CTE zu bilden, das Trocknen der Schicht und das Ablagern eines Targetmaterials auf der äussersten Oberfläche eines oder mehrer Materialschichten mit einem abgestuften CTE.

   Das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial werden anschliessend erhitzt, um alle zu verbinden.
Ein zweites Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode umfasst das Schaffen eines Substrates mit einem Targetort, das Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammmischung, um eine oder mehrere Materialschichten mit einem abgestuften CTE zu bilden, das Sintern der Beschichtung und das Ablagern eines Targetmaterials auf der äussersten Oberfläche eines oder mehrerer Materialschichten mit einem abgestuften CTE und anschliessendes Erhitzen, um das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial miteinander zu verbinden.
Ein Vorteil der Erfindung besteht darin, dass eine kleine Gesamtdichte der Anode erreicht wird. Das ermöglicht das Erh[delta] hen des Durchmessers der Anode ohne die Lager zu überlasten.

   Zusätzlich kann das leichte Target mit dem grossen Durchmesser in Drehgeschwindigkeitsbereichen weit über den üblichen Anoden betrieben werden, da die Anode geschaffen wurde, um den höheren Spannungen und den Beanspruchungen standzuhalten, welche durch die Last verursacht werden. Die Chemie der Materialschichten mit dem abgestuften CTE verringert zusätzlich die Neigung zu einer unerwünschten Bildung von beispielsweise Wolfram-Carbid, wodurch die Zuverlässigkeit der Anode über ihre Lebensdauer verbessert wird.

   Die Targethaftung und die Zuverlässigkeit des Targets während der Lebensdauer der Röntgenröhre werden auch durch Abstufen der Schlammischungsschichten mit verschiedenen CTEs derart verbessert, dass auch ein Substrat mit einem sehr niedrigen oder hohen CTE, das hitzebeständige Metalltarget intakt hält.
Andere Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden anhand der folgenden ausführlichen Beschreibung und der beigefügten Ansprüche unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen verständlich.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Fig. 1 ist eine Teilquerschnittsansicht einer Röntgenanode gemäss einer Ausführung der vorliegenden Erfindung.
Fig. 2 ist eine Teilquerschnittsansicht einer Röntgenanode gemäss einer anderen Ausführung der vorliegenden Erfindung.

   Fig. 3 zeigt ein Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode gemäss der vorliegenden Erfindung.
Fig. 4 zeigt ein alternatives Verfahren zur Herstellung der Röntgenanode gemäss der vorliegenden Erfindung.
Ausführliche Beschreibung der Erfindung
In den folgenden Figuren werden die gleichen Bezugszeichen verwendet, um die gleichen Komponenten in verschiedenen Ansichten darzustellen. Die vorliegende Erfindung wird hinsichtlich einer Computertomographievorrichtung beschrieben. Für den Fachmann ist es aber klar, dass die vorliegende Erfindung zahlreiche Anwendungen innerhalb des medizinischen Bildgebungsfeldes und ausserhalb des medizinischen Bildgebungsfeldes aufweist. Die vorliegende Erfindung ist für Anwendungen geeignet, welche rotierende R[delta]ntgenanoden einsetzen.

   Die vorliegende Erfindung ist auch für Anwendungen geeignet, welche eine unbewegliche Röntgenanode mit einem Substratmaterial mit verschiedenen physikalischen Eigenschaften des Targetmaterials erfordern.
In Fig. 1 ist eine Teilquerschnittsansicht einer Röntgenanode 10 mit einem Substratmaterial 12 und einem Targetmaterial 14 dargestellt, welche durch ein oder mehrere Materialschichten 16 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten (CTE) verbunden sind. Obwohl eine Röntgenanode 10 dargestellt ist, ist die vorliegende Erfindung gleichermassen auf alle anderen Arten von Röntgenanoden anwendbar, welche zum Einsatz in Röntgenröhren kommen.
Das Substratmaterial 12 dieser Ausführung wird aus geeigneten Materialien zum Einsatz in der Unterstützung eines hitzebeständigen Metalls zum Einsatz in einer Röntgenanodenanwendung hergestellt.

   Das Substratmaterial 12 ist wegen seiner Bindefestigkeit ausgewählt. Das Substratmaterial 12 weist eine maximierte thermische Leitfähigkeit auf, hauptsächlich in der Axialrichtung wie ein Fachmann von Röntgenanoden erkennen würde. Es wird auch das Material mit anderen Eigenschaften wie beispielsweise einer geringen Dichte und einer höheren Strahlungsleistung ausgewählt. Obwohl es nicht erforderlich ist, wird das Substratmaterial 12 idealerweise aus einem leichteren Material hergestellt. Das Substratmaterial 12 kann aus einem Komposit oder einem monolytischen Material hergestellt werden. Abhängig vom ausgewählten Material kann das Substratmaterial 12 einen Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten (CTE) um 0 oder Ixl0<"6>/[deg.]C haben und bis zu 9xlO"<6>/[deg.]C reichen. Der CTE des Substratmaterials ist nicht entscheidend und kann einen beliebigen Wert haben.

   Das CTE des Substratmaterials wird eingesetzt, um das erwünschte CTE jeder der Schichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten zu bestimmen, welche eingesetzt werden, um das Substrat mit dem Target zu verbinden.
Das Substratmaterial 12 kann ein kohlenstoffhaltiges oder Kohlenstoffasermaterial sein. Das auf Kohlenstoff basierende Substratmaterial 12 kann einen gewebten Aufbau von hochfesten [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi]  . .. .. .
Kohlenstoffasern mit einem geringen Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten in der Ebene der Targetoberfläche haben.

   Alternativ ist das auf Kohlenstoff basierende Substratmaterial 12 zugeschnitten auf einen gewebten Komposit für eine maximale Bindefestigkeit durch den Einsatz einer zylindrischen Bindung von hochfesten Fasern, und mit einer maximalen thermischen Leitfähigkeit in der axialen und der radialen Richtung mit Fasern mit einer hohen thermischen Leitfähigkeit in diesen Richtungen.

   Andere kohlenstoffhaltige Materialien werden auch für das Substratmaterial 12 in Betracht gezogen, umfassend Carbid, Pyrolysegraphit, faserverstärktem Pyrolysegraphit und Kohlenstoff-Kohlenstoff-Komposite .
Das Substratmaterial 12 ist darüber hinaus als Röntgenanode 10 einsatzbereit und umfasst zwischen dem ersten Ort 13 und dem zweiten Ort 15 eine vorbearbeitete Oberfläche zum Verbinden mit einem oder mehreren Materialschichten 16 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten und mit einem Targetmaterial 14. Der Targetort oder die Fläche zwischen einem ersten Ort 13 und einem zweiten Ort 15 wird hauptsächlich als ebene Fläche mit einer kleinen Seitenwand gezeigt, wobei die eine oder mehrere Materialschichten 16 mit Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten unmittelbar an dem Substratmaterial 12 an der ersten Stelle 13 angrenzen.

   Alternativ kann die Fläche des Substratmaterials 12 zwischen dem ersten Ort 13 und dem zweiten Ort 15 eine im wesentlichen gerade Fläche sein. Auch wenn es bei diesem Beispiel anders gezeigt ist, müssen die Materialschichten 16 mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten nicht direkt an das Substratmaterial 12 an der ersten Stelle 13 angrenzen. Trotzdem ist die erste Schicht 17 von einem oder mehreren Materialschichten 16 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten mit dem Substratmaterial 12 zwischen der ersten Stelle 13 und der zweiten Stelle 15 verbunden.
Das Targetmaterial 14 ist bei diesem Ausführungsbeispiel ist aus einem hitzebeständigen Metall hergestellt, welches für den Einsatz in einer Röntgenanodenanwendung geeignet ist. Das Targetmaterial 14 kann auch einem elementaren Wolfram oder elementarem Molybdän hergestellt werden.

   Das Targetmaterial 14 kann aus einer Molybdänlegierung hergestellt werden, beispielsweise aus TZM oder TZC (beispielsweise 99% Mo und 1% Ti+Zr+C) . Das Targetmaterial 14 kann auch aus einer Wolframlegierung umfassend eine Menge Rhenium Re (beispielsweise 95% Wolfram und 5% Re) hergestellt werden. Diese Einzelkristalloder polykristallinen Materialien haben üblicherweise Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten im Bereich von 4 bis 6xlO"<6>/[deg.]C.

   Das Targetmaterial 14 ist mit einem oder mehreren Materialschichten 16 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten verbunden.
Bei diesem Ausführungsbeispiel der Erfindung kann das Targetmaterial 14 durch chemisches Aufdampfen (CVD) , physikalisches Aufdampfen (PVD) oder Plasmasprühen mit geringem Druck (LPPS) hergestellt werden, um die Legierung oder das elementare hitzebeständige Metall mit den Wärmedehnungs-Material s (, . . schichten 16 zu verbinden, welche mit dem Substratmaterial 12 der Röntgenanode 10 verbunden sind.

   Ein leichtes Target wird durch Anwendung von CVD, PVD oder LPPS Verfahren geschaffen, um ein leichtes Komposit oder ein monolytisches Material (mit einer insgesamt geringeren Dichte der Anode) auf dem Targetmaterial 14 zu bilden, wodurch sich eine auf Maximalbruchfestigkeit und thermischer Leitfähigkeit zugeschnittene Röntgenanode ergibt, während die gewünschten Eigenschaften der geringeren Spannung und Beanspruchung wegen der im vorgesehenen Betrieb zu erwarteten Temperaturschwankungen ohne Gefährdung des CTE ausgesetzt sind.

   Die geringere Gesamtdichte der Röntgenanode ermöglicht, dass der Entwurfsumfang für grössere Leistungen vergrössert wird.
Das Targetmaterial 14 kann alternativ aus einem festen Einzelkristall oder einem polykristallinen Material hergestellt werden, was die Festigkeit der Röntgenanode 10 verbessert, falls das Targetmaterial 14 mit den Wärmedehnungs-Materialschichten 16 verbunden wird, indem dieses weniger anfällig gegenüber Spannung und Beanspruchung gemacht wird, welche durch thermische Schwankungen verursacht werden, ohne die Gefährdung der CTEs der Materialschichten.
Die Materialschichten 16 mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten, welche das Substratmaterial 12 mit dem Targetmaterial 14 verbinden, werden aus einer Schlammischung hergestellt.

   Die Materialschichten 16 mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten bestehen bei dieser Ausführungsform der vorlie genden Erfindung aus drei Schichten, das sind eine erste Schicht 17, eine zweite Schicht 18 und eine dritte Schicht 19. Obwohl drei Schichten gezeigt sind, sind eine oder mehrere Schichten zulässig. Die Schlammverbindung umfasst in jeder Verbindung die nicht auf die folgenden beschränkten Materialien Wolfram, Wolframboride, Wolframcarbide, Molybdän, Molybdänboride, Molybdäncarbide, Zirkonium, Hafnium, Hafniumcarbide, Bindemittel oder andere gemäss dem Stand der Technik bekannten Materialien. Die hitzebeständigen Metalle und ihre Bestandteile Karbide und Boride sind üblicherweise in der Schlammischung als feine Pulverpartikel (üblicherweise mit einer Partikelgrösse kleiner als 50 [mu]m) vorgesehen.

   Anschliessend werden Kohlenstoffasern der Schlammischung in ausreichenden Mengen zugesetzt, um ein gewünschtes CTE zu erzielen. Verschiedene Schlammischungen werden für jede abgestufte Schicht 17, 18, 19 mit verschiedenen CTEs hergestellt. Die der Schlammischung zugesetzten Kohlenstoffe können geschnittene Kohlenstoffasern, Kohlenstoffasern oder andere Materialien mit den die gewünschten CTEs erhöhenden oder verringernden Eigenschaften sein.

   Insbesondere kann der Wärmedehnungs-Stufenkoeffizient der Schlammischung für jede getrocknete Schicht der Materialschicht bzw. der von mehreren Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten durch Erhöhen oder Verringern der Kohlenstoffasern in der Mischung verändert werden, d.h. der Weg zum Abstufen der Wärmedehnung ist durch das Verändern der Kohlenstoffasern in der Schlammischung für jeden der abgestuften Schichten.
Die Kohlenstoffasern können eine beliebige Form haben, umfassend geschnittene und faserförmige Kohlenstoffasern. Die Kohlenstoffasern können teilgeschnittene Fasern mit einem CTE längs der Faserachse im Bereich 0 bis Ixl0"<6>/[deg.]C sein. Die Kohlenstoffasern können wie erforderlich zu der Schlammischung hinzugefügt werden, um den erforderlichen WärmedehnungsStufenkoeffizienten zu erzielen.

   Zum Beispiel für eine Wärmedehnungs-Materialschicht 16 umfassend drei Schichten können die Kohlenstoffasern in der Grösse von 67%, 50% und 32% zu der Schlammischung für die drei Schichten hinzugefügt werden. In einem anderen Beispiel mit lediglich zwei Materialschichten mit einer Wärmedehnung können die Kohlenstoffasern in einer Grösse von 67% und 33% hinzugefügt werden. Selbstverständlich hängt die zu jeder Schicht hinzugefügte Grösse der Kohlenstoffasern von der erwünschten CTE jeder Schicht ab. Diese Ausführungen schaffen eine Schicht 16 mit abgestuften CTEs.
Jede der bzw. jede von mehreren Materialschichten 16 mit dem Warmedehnungs-Stufenkoeffizienten ist dreifach mit dem Substrat verbunden. Wie insbesondere in dieser Ausführung gezeigt ist, ist die erste Schicht 17 mit dem Substratmaterial 12 zwischen dem ersten Ort 13 und dem zweiten Ort 15 verbunden.

   Die dritte Schicht 19 ist mit der zweiten Schicht 18 verbunden, welche mit der ersten Schicht 17 verbunden ist. Zu . "
[Phi][Phi] [Phi][Phi] [Phi][Phi] sätzlich kann jede der Schichten 17, 18, 19 horizontal auf die Substratfläche gelegt werden.
In dieser Ausführung der vorliegenden Erfindung weist jede der Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten einen ungefähren Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten (CTE) auf, welcher der Durchschnittswert der angrenzenden Materialien ist, beispielweise wird jeder der drei abgestuften Schichten 17, 18, 19 einen CTE von 2, 3 bzw. 4xlO"[deg.]7[deg.]C aufweisen, die Röntgenanode 10 mit dem Substratmaterial 12 einen CTE von Ixl0"<6>/[deg.]C und das Spurenmaterial 14 mit einem CTE von 5xlO<"6>/[deg.]C aufweisen. Andernfalls würde man verstehen, dass der Gradient in die andere Richtung zeigen kann.

   Auch würde man verstehen, dass der gewünschte CTE jeder Materialschicht von der gewünschten Anzahl der Materialschichten und des CTE des Substrates und des Spurenmaterials abhängt.
Wahlweise kann jede Materialschicht bzw. jede von mehreren Materialschichten 16 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten verschiedene CTE haben. Beispielsweise können das Substratmaterial 12, das Targetmaterial 14, die erste Schicht 17, die zweite Schicht 18 und die dritte Schicht 19 CTEs von 1, 6, 1,5, 4 und 5xlO<¯6>/[deg.]C aufweisen. Der CTE jeder Schicht kann verschieden sein. Vorzugsweise weist jede Schicht der Röntgenanode einen CTE auf, der sich durch 2xlO<¯6>/[deg.]C und insbesondere durch Ixl0<¯6>/[deg.]C unterscheidet. Es kann auch jede Schicht der Röntgenanode einen CTE haben, der sich um weniger als Ixl0<"6>/[deg.]C unterscheidet.

   In den beschriebenen Ausführungen ist die Röntgenanode 10 eine R[delta]ntgendrehanode . Alternativ kann die Röntgenanode auch eine beliebige andere Art von Röntgenanoden sein.
In Fig. 2 ist eine Teilquerschnittansicht einer Röntgenanode 20 gemäss einer anderen Ausführung der vorliegenden Erfindung mit einem Substratmaterial 22 und einem Targetmaterial 24 dargestellt, welche zusammen mittels einem oder mehrerer Materialschichten 26 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten verbunden sind.

   Obwohl wieder eine Röntgenanode 20 dargestellt ist, ist die vorliegende Erfindung gleichermassen auf andere Arten von Röntgenanoden für den Einsatz in Röntgenröhren anwendbar.
Das Substratmaterial 22 ist für den Einsatz als Röntgenanode vorbereitet und weist eine vorbearbeitete Oberfläche auf,., d.i. ein Targetort zwischen einer ersten Stelle 23 und einer zweien Stelle 25 zum Verbinden von einer oder mehreren Materialschichten 26 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten und einem Targetmaterial 24. Die Oberfläche des Substratmaterials 22 mit einer ersten Stelle 23 und einer zweien Stelle 25 ist mit einer gekrümmten Oberfläche dargestellt (nicht mit einer Seitenwand wie in Fig. 1 dargestellt) .

   Alternativ wird man verstehen, dass die Oberfläche zwischen einer ersten Stelle 23 und einer zweien Stelle 25 gerade oder im wesentlichen gerade sein kann.
Die Materialschicht 26 mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten weist in dieser Ausführung der vorliegenden Erfindung [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi] [Phi]
zwei Schichten auf, d.s. eine erste Schicht 27 und eine zweite Schicht 28. Obwohl zwei Schichten gezeigt sind, sind eine oder mehrere Schichten zulässig.
In dieser Ausführung der vorliegenden Erfindung umfasst jede der Materialschichten mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten einen Ungefährkoeffizienten der Wärmedehnung (CTE) , welcher mittelwertmässig zwischen jedem der angrenzenden Materialien liegt. Beispielsweise werden die zwei abgestuften Schichten 27 und 28 eine CTE von 2,5 bzw. 4xlO<¯6>/[deg.]C haben.

   An der Röntgenanode 20 mit einem Substratmaterial 22 einen CTE von Ixl0"<6>/[deg.]C haben und das Spurenmaterial 24 einen CTE von 5,5xlO<¯6>/[deg.]C haben. Alternativ versteht sich, dass der Gradient in die andere Richtung zeigen kann. Es versteht sich auch, dass der gewünschte CTE von jeder Materialschicht von der gewünschten Anzahl der Materialschichten und der CTE von dem Substrat und den Spurmaterialien abhängen würde.
Wahlweise kann jede der bzw. jede von mehreren Materialschichten 26 mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten verschiedene CTEs aufweisen. Beispielsweise können das Substratmaterial 22, das Targetmaterial 24, die erste Schicht 27 und die zweite Schicht 28 CTE von 1, 6, 2 bzw. 5xlO<">[deg.]7[deg.]C haben. Der CTE jeder Schicht kann verschieden sein.

   Vorzugsweise weist jede Schicht der Röntgenanode einen CTE auf, der sich von 2xlO"[deg.]7[deg.]C unterscheidet und insbesondere durch Ixl0<¯6>/[deg.]C. Es kann auch jede Schicht der Röntgenanode einen CTE haben, der sich um weniger als lxlO"^/[deg.]C unterscheidet. [phi]
In den beschriebenen Ausführungen ist die Röntgenanode 20 eine Röntgendrehanode . Alternativ kann die Röntgenanode jede andere Art von Röntgenanoden sein.
Fig. 3 zeigt ein Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode gemäss der vorliegenden Erfindung. Das Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode umfasst das Vorsehen eines Substrates mit einem Targetort, das Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung, welche die Materialschicht bzw. jede von mehreren Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten bildet und das Trocknen des Materials jeder CTE Schicht.

   Anschliessend wird das Targetmaterial auf der äussersten Fläche der Materialschicht bzw. jede von mehreren Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aufgetragen. Zum Abschluss wird das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial erhitzt, um diese zu verbinden. Es wird ein Substrat und ein Material in einer Form ausgewählt, welches für den Einsatz als Röntgenanode geeignet ist .
Jede einzelne der Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten wird durch Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung (wie oben beschrieben) mit einem spezifischen CTE für jede Schicht gebildet. Jede Beschichtung ist mit den dem Fachmann bekannten Techniken aufgetragen. Wahlweise kann man jede Beschichtung der Schlammischung trocknen lassen bevor die nächste Beschichtung aufgetragen wird.

   Das Trocknen wird bei 125[deg.]C oder bei [phi] [phi] [phi] einer dem Fachmann bekannten zulässigen Temperatur vollzogen. In manchen Fällen muss die Trocknungstemperatur zu einer Sintertemperatur erhöht werden bevor die nächste Schicht aufgetragen wird.
Das Targetmaterial wird anschliessend auf die Materialschichten mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aufgetragen. Das Targetmaterial kann durch den Einsatz von CVD, PVD oder einem anderen dem Fachmann bekannten Verfahren aufgetragen werden.

   Falls das Targetmaterial wahlweise fest ist, muss seine Form derart ausgebildet sein, um an das Substrat mit den dazwischen angeordneten abgestuften CTE Schichten angepasst zu sein.
Der letzte Schritt in diesem Verfahren bildet das Erhitzen der Röntgenanode bei einer Temperatur, bei der das Targetmaterial die Materialschichten mit dem Warmedehnungs-Stufenkoeffizienten und das Substratmaterial verbunden werden. Die Temperatur und die Dauer der Wärmebehandlung sind von der Materialkombination des Substrates, dem zur Bildung der abgestuften CTE Schichten eingesetzten Schlamm und dem Target abhängig. Ein Verfahren zur Wärmebehandlung ist in dem genannten Patent (siehe oben) erwähnt und den Fachleuten bekannt.

   Eine übliche Wärmebehandlungstemperatur für Hf-Bestandteile umfassende Schichten ist 1865[deg.]C und für keine Hf-Bestandteile umfassende Schichten 2350[deg.]C.
Ein Beispiel für die Herstellung einer Röntgenanode ist durch Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 2350[deg.]C nach dem die Röntgenanode hergestellt wird.

   Die Röntgenanode ist aus einem Substrat mit einem verwobenen Aufbau von hochfesten Kohlenstoffasern, drei auf das Substrat aufgetragene CTE-Materialschichten, welche die abgestufte CTE Schicht bilden, wobei jede dieser drei Schichten aus einer Schlammischung (umfassend W, W2B, WC, zugeschnittene Kohlenstoffasern und Bindemittel) mit einem verschiedenen CTE in jeder Schicht hergestellt sind und jede Schicht nach dem Auftragen getrocknet wird und ein aus einer Wolframlegierung (95% W, 5% Re) hergestelltes Target, welches ein CVD Verfahren anwendet, um das Targetmaterial auf die Oberfläche der abgestuften CTE Schicht aufzutragen.
Wahlweise kann die Wärmebehandlung ein auf das Targetmaterial angewendetes Gewicht umfassen, um den Verbindungsprozess der Materialien zu erleichtern.
Fig. 4 zeigt ein anderes Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode gemäss der vorliegenden Erfindung.

   Das Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode umfasst das Ausbilden eines Substrates mit einem Targetort und anschliessend das Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung, welche die Materialschicht bzw. oder mehrere Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten bildet. Anschliessend wird die Beschichtung gesintert und das Targetmaterial auf der äussersten Fläche der Materialschicht mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aufgetragen. Am Schluss werden das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial erhitzt, um diese zu verbinden.Jede MaterialSchicht bzw. jede von mehreren Materialschichten mit einem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten wird durch Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung (wie oben beschrieben) mit einer spezifischen CTE für jede Schicht gebildet.

   Die Beschichtungen werden nach dem Auftragen der Schlammischung für jede der erforderlichen Schichten gesintert. Wahlweise kann jede Beschichtung der Schlammischung nach ihrem Auftragen gesintert werden. Die Sintertemperatur hängt von den ausgewählten Materialien, ihrem Schlamm und dem Substrat ab. Das Sintern kann bei 1865[deg.]C oder bei einer dem Fachmann bekannten zulässigen Temperatur erfolgen.

   Beispielsweise kann die Sintertemperatur bei 1865[deg.]C erfolgen, bei der die Röntgenanode aus einem verwobenen Aufbau von hochfesten Kohlenstoffasern hergestellt ist, und die eine oder mehreren Schichten mit eine Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aus einer Schlammischung (umfassend W, W2B, HfC, Hf, geschnittene Kohlenstoffasern und Bindemittel) mit verschiedenen CTEs in jeder Schicht hergestellt sind.
Das Targetmaterial wird anschliessend auf die Materialschichten mit den Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten aufgetragen. Das Targetmaterial kann durch Anwendung von CVD, PVD, LPPS oder anderen dem Fachmann bekannte Verfahren aufgetragen werden. Falls das Targetmaterial fallweise fest ist, muss seine Form derart ausgebildet sein, um sich an das Substrat mit dem dazwischen angeordneten abgestuften CTE Schichten anzupassen.

   Der letzte Schritt in diesem Verfahren ist das Erhitzen der Röntgenanode auf eine Temperatur, welche das Targetmaterial, die Materialschichten mit dem Wärmedehnungs-Stufenkoeffizienten und das Substratmaterial verbinden. Die Temperatur und die Dauer der Wärmebehandlung ist von der Materialkombination des Substrates, den zur Bildung des abgestuften CTE Schichten eingesetzten Schlammes und dem Target abhängig. Ein Verfahren zur Wärmebehandlung ist in dem genannten Patent (siehe oben) angegeben und ist dem Fachmann bekannt. Eine übliche Wärmebehandlungstemperatur für Hf-Bestandteile umfassende Schichten ist 1865[deg.]C und für keine Hf-Bestandteile umfassende Schichten 2350[deg.]C.
Ein Ausführungsbeispiel zur Herstellung einer Röntgenanode ist durch Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 1865[deg.]C nach der Herstellung der Röntgenanode.

   Die Röntgenanode wird hergestellt aus einem Substrat mit einem verwobenen Aufbau von hochfesten Kunststoffasern, drei auf das Substrat zur Bildung der abgestuften CTE Schicht aufgetragenen CTE Materialschichten, bei welchen jede der drei Schichten aus einer Schlammmischung (umfassend W, W2B, HfC, Hf, geschnittene Teilfaserkohlenstoffe und Bindemittel) mit verschiedenen CTE in jeder Schicht umfasst, und jede Schicht nach dem Auftragen gesintert wird, und ein aus einer Wolframlegierung (95% W, 5% Re) unter Anwendung eines PVD Verfahrens hergestelltes Target, um das Targetmaterial auf die Oberfläche der abgestuften CTE Schicht aufzutragen. Ein weiteres Beispiel zur Herstellung einer Röntgenanode ist durch Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 2350[deg.]C nachdem die Röntgenanode hergestellt ist.

   Die Röntgenanode wird aus einem Substrat mit einem verwobenen Aufbau von hochfesten Kohlenstoffasern hergestellt, zwei auf das Substrat zur Bildung der abgestuften CTE Schicht aufgetragenen CTE Materialschichten, bei welchen jede der drei Schichten aus einer Schlammischung (umfassend W, W2B, WC, geschnittene Kohlenstoffaser und Bindemittel) mit verschiedenen CTEs in jeder Schicht hergestellt sind und jede Schicht nach dem Auftragen gesintert wird, und ein Target unter Anwendung der LPPS Verfahren aus einer Wolframlegierung (95% W, 5% Re) , um das Targetmaterial auf die Oberfläche der abgestuften CTE Schicht aufzutragen.
Wahlweise kann die Wärmebehandlung ein auf das Targetmaterial angewendetes Gewicht umfassen, um den Verbindungsprozess der Materialien zu erleichtern.
Während die Erfindung anhand einer oder mehrerer Ausführungen beschrieben wurde, versteht sich,

   dass die Erfindung auf diese Ausführungen nicht beschränkt ist. Im Gegenteil zielt die Erfindung darauf ab, alle Alternativen, Modifikationen und Äquivalente zu umfassen, die im Schutzbereich der beigeschlossenen Ansprüche liegen. Die Offenbarungen aller vorstehend erwähnten Patente werden durch Bezug hierauf in der vorliegenden Beschreibung ausdrücklich mit einbezogen.

Claims (10)

Ansprüche :
1. Röntgenanode (10) umfassend: ein Substratmaterial (12) , ein Targetmaterial (14) und eine oder mehrere abgestufte CTE Materialschichten (16) , welche das Substratmaterial mit dem Targetmaterial verbinden.
2. Röntgenanode (10) nach Anspruch 1, bei welcher das Targetmaterial eine Wolframlegierung ist.
3. Röntgenanode (10) nach Anspruch 1, bei welcher jede der abgestuften CTE-Materialschichten (16) einen ungefähren Wärmedehnungskoeffizienten hat, der mittelwertmässig zwischen jedem der angrenzenden Materialien liegt.
4. Röntgenanode (10) nach Anspruch 1, bei welcher jede der abgestuften CTE-Materialschichten (16) einen verschiedenen Wärmedehnungskoeffizienten aufweist .
5. Röntgenanode (10) nach Anspruch 4, bei welchem der abweichende Wärmedehnungskoeffizient lxl0<¯>^/[deg.]C ist.
6. Röntgenanode (10) nach Anspruch 1, bei welcher jede der abgestuften CTE-Materialschichten (16) Wolfram, Wolframboride, Wolframcarbide, Molybdän, Molybdänboride, Molybdäncarbide, Hafnium, Hafniumcarbide oder Bindemittel zusammen mit geschnittenen Kohlenstoffasern umfassen, wobei das Variieren des Wärmedehnungskoeffizienten durch Verändern der Proportionen des Materials erzielt wird.
7. Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode, umfassend: Vorsehen eines Substrates mit einem Targetort, Beschich > [Phi] [Phi][Phi] [Phi][Phi]* [Phi] ten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung, um eine oder mehrere abgestufte CTE-Materialschichten zu bilden, Trocknen der Beschichtung, Auftragen eines Targetmaterials auf die letzte der abgestuften CTE-Materialschichten und Erhitzen, um das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial zu verbinden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, bei welchem das Substrat aus verwobenen Kohlenstoffasern hergestellt wird, die abgestuften CTE-Materialschichten W, W2B, WC, geschnittene Kohlenstoffasern und Bindemittel umfassen, das Trocknen bei 125[deg.]C erfolgt, das Targetmaterial aus 95% W und 5% Rh gebildet ist, und das Verbinden durch Erhitzen auf 2350[deg.]C erfolgt.
9. Verfahren zur Herstellung einer Röntgenanode, umfassend: Vorsehen eines Substrates mit einem Targetort, Beschichten des Targetortes des Substrates mit einer Schlammischung, um ein oder mehrere abgestufte CTE-Materialschichten zu bilden, Sintern der Beschichtung, Auftragen eines Targetmaterials auf die letzte der abgestuften CTE-Materialschichten und Erhitzen, um das Targetmaterial, die Materialschichten und das Substratmaterial zu verbinden.
10. Verfahren nach Anspruch 9, bei welchem das Substrat aus verwobenen Kohlenstoffasern hergestellt wird, die abgestuften CTE-Materialschichten W, W2B, HfC, Hf, geschnittene Kohlenstoffasern und Bindemittel umfassen, das Sintern bei 1900[deg.]C erfolgt, das Targetmaterial aus 95% W und 5% Rh gebildet ist und das Verbinden durch Erhitzen bei 1865[deg.]C erfolgt.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006038417B4 (de) * 2006-08-17 2012-05-24 Siemens Ag Röntgenanode
DE102006062375B4 (de) * 2006-12-19 2017-05-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung und Verfahren zur Entfernung von Verunreinigungen oder Modifizierung von Oberflächen von Substraten mittels elektrischer Bogenentladung
US8428222B2 (en) * 2007-04-20 2013-04-23 General Electric Company X-ray tube target and method of repairing a damaged x-ray tube target
US8553844B2 (en) * 2007-08-16 2013-10-08 Koninklijke Philips N.V. Hybrid design of an anode disk structure for high prower X-ray tube configurations of the rotary-anode type
US7720200B2 (en) * 2007-10-02 2010-05-18 General Electric Company Apparatus for x-ray generation and method of making same
US8699667B2 (en) * 2007-10-02 2014-04-15 General Electric Company Apparatus for x-ray generation and method of making same
WO2009043344A1 (de) 2007-10-02 2009-04-09 Hans-Henning Reis Röntgen-drehanodenteller und verfahren zu seiner herstellung
DE102007054665B4 (de) 2007-11-14 2018-03-29 H.C. Starck Hermsdorf Gmbh Metallpulver und Verfahren zur Herstellung des Metallpulvers
US7672433B2 (en) * 2008-05-16 2010-03-02 General Electric Company Apparatus for increasing radiative heat transfer in an x-ray tube and method of making same
US20120093292A1 (en) * 2009-06-29 2012-04-19 Koninklijke Philips Electronics N.V. X-ray tube with adjustable focal track
US8580593B2 (en) * 2009-09-10 2013-11-12 Micron Technology, Inc. Epitaxial formation structures and associated methods of manufacturing solid state lighting devices
DE102009053636A1 (de) 2009-11-18 2011-05-19 Wolfgang Brode Drehanodenteller für Röntgenröhren und Verfahren zu seiner Herstellung
US8509386B2 (en) * 2010-06-15 2013-08-13 Varian Medical Systems, Inc. X-ray target and method of making same
JP2013239317A (ja) * 2012-05-15 2013-11-28 Canon Inc 放射線発生ターゲット、放射線発生装置および放射線撮影システム
DE102012210355A1 (de) * 2012-06-20 2013-12-24 Siemens Aktiengesellschaft Drehanode und Verfahren zu deren Herstellung
CN112563092B (zh) * 2020-12-08 2022-09-23 佛山宁宇科技股份有限公司 单晶化抗蒸发的x射线球管阳极靶的制造工艺
US20240167352A1 (en) * 2022-11-17 2024-05-23 Saudi Arabian Oil Company Woven sleeves and related methods of constraining a well tool

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT278184B (de) 1967-08-28 1970-01-26 Plansee Metallwerk Drehanode für Röntgenröhren
AT278983B (de) 1968-08-12 1970-02-25 Plansee Metallwerk Verfahren zur Herstellung von Drehanoden für Röntgenröhren
AT300140B (de) 1970-06-02 1972-07-10 Metallwerk Plansee Ag & Co Kom Drehanode für Röntgenröhren
US3887723A (en) * 1972-03-22 1975-06-03 Richard B Kaplan Method of fabrication of composite anode for rotating-anode x-ray tubes
AT346981B (de) 1976-03-18 1978-12-11 Plansee Metallwerk Roentgendrehanode und verfahren zu deren herstellung
US4109058A (en) * 1976-05-03 1978-08-22 General Electric Company X-ray tube anode with alloyed surface and method of making the same
NL8101697A (nl) * 1981-04-07 1982-11-01 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een anode en zo verkregen anode.
AT376064B (de) 1982-02-18 1984-10-10 Plansee Metallwerk Roentgenroehren-drehanode
FR2535344A1 (fr) * 1982-10-29 1984-05-04 Thomson Csf Procede de depot selectif d'une couche de metal refractaire sur une piece en graphite
US4573185A (en) * 1984-06-27 1986-02-25 General Electric Company X-Ray tube with low off-focal spot radiation
AT389832B (de) 1988-08-01 1990-02-12 Plansee Metallwerk Loetverbindung
FR2655191A1 (fr) * 1989-11-28 1991-05-31 Genral Electric Cgr Sa Anode pour tube a rayons x.
FR2655190B1 (fr) * 1989-11-28 1995-11-17 Gen Electric Cgr Anode pour tube a rayons x a resistance mecanique elevee.
US4972449A (en) * 1990-03-19 1990-11-20 General Electric Company X-ray tube target
JPH05266838A (ja) * 1992-03-16 1993-10-15 Toshiba Corp X線管
JP3277226B2 (ja) * 1992-07-03 2002-04-22 株式会社アライドマテリアル X線管用回転陽極及びその製造方法
US5825848A (en) * 1996-09-13 1998-10-20 Varian Associates, Inc. X-ray target having big Z particles imbedded in a matrix
US5875228A (en) * 1997-06-24 1999-02-23 General Electric Company Lightweight rotating anode for X-ray tube
US6395220B1 (en) * 1999-11-02 2002-05-28 Ucar Carbon Technology Corporation Carbon fiber binder pitch
US6256376B1 (en) * 1999-12-17 2001-07-03 General Electric Company Composite x-ray target
US6480571B1 (en) * 2000-06-20 2002-11-12 Varian Medical Systems, Inc. Drive assembly for an x-ray tube having a rotating anode
US6400800B1 (en) * 2000-12-29 2002-06-04 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc Two-step brazed x-ray target assembly
US6554179B2 (en) * 2001-07-06 2003-04-29 General Atomics Reaction brazing of tungsten or molybdenum body to carbonaceous support
DE10147473C2 (de) * 2001-09-25 2003-09-25 Siemens Ag Drehanodenröntgenröhre
DE10301069B4 (de) * 2003-01-14 2007-08-02 Siemens Ag Thermisch belastbarer Werkstoffverbund aus einem faserverstärkten und einem weiteren Werkstoff

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AT502301A3 (de) 2007-08-15

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