AT208673B - Netzmittel für galvanische Bäder - Google Patents
Netzmittel für galvanische BäderInfo
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Description
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Netzmittel für galvanische Bäder
Es ist bekannt, galvanischen Bädern zur Herstellung von Nickel-, Kupfer-oder Zinküberzügen Netzmittel zuzusetzen. Diese Zusätze bewirken, dass der Wasserstoff, der sich während des Galvanisierungsprozesses an der Kathode bildet, schnell und möglichst vollständig entbunden wird. Bei längerer Verweilzeit auf dem Kathodenmaterial verursacht der Wasserstoff eine störende Porenbildung in den galvanischen Metallilberzügen.
Die Verhinderung der Porenbildung ist in der Galvanotechnik im Hinblick auf die erstrebte Korrosionsfestigkeit der Metallauflagen von grosser Bedeutung. Eine weitere Aufgabe der Netzmittel liegt darin, das elektrophoretische Aufziehen kleiner Verunreinigungspartikel auf die Metalloberflächen zu unterbinden, da die Korrosionsfestigkeit durch den Einbau von Fremdstoffen in die galvanischen Niederschläge. ebenfalls leidet.
In neuerer Zeit hat man auch Netzmittel in Chrombädern verwendet. Dadurch wird erreicht, dass die in den Chrombädern infolge der schlechten Stromausbeuten entbundenen Sauerstoff- und Wasserstoffmengen nicht in Nebelform auftreten, sondern eine Schaumdecke auf der Chrombadflüssigkeit bilden. Hiedurch werden beträchtliche Verluste an relativ teurer Chrombadflüssigkeit durch laufendes Absaugen der Nebel verhindert, so dass vielfach auch auf die Badabsaugung verzichtet werden kann.
Trotz der Vielzahl an bekannten Netzmitteln ist die Auswahl an brauchbaren Substanzen für die Galvanotechnik verhältnismässig gering. So gelangen in Nickelbädern Alkylsulfonate, Alkylsulfate und Aralkylsulfonate bzw. -sulfate bevorzugt zum Einsatz, während man sich auf dem Gebiet der sauren und cyanidischen Verkupferung der Alkylpolyglykoläther bedient. Als in Chrombäder beständige Netzmittel sind perfluorierte Alkylsulfonate bekannt.
Es wurde nun gefunden, dass die sauren Alkyl- und Alkylarylphosphorsäureester sowie Alkylpolyglykol- ätherphosphorsäureester oder deren Salze in den verschiedensten galvanischen Bädern mit Vorteil zu verwenden sind. Diese Verbindungen haben neben ihren guten Netzmitteleigenschaften gegenüber den entsprechenden Sulfonaten bzw. Sulfaten den Vorteil, dass sie in den Bädern beträchtlich beständiger sind.
Ferner weisen sie gegenüber den Alkylpolyglykoläthern die Vorteile auf, dass sie keinen Trübungspunkt haben und selbst in cyanidischen Heisskupferbädern nicht ausgesalzen werden. In cyanidischen Bädern besitzen die Phosphorsäureester sogar glanzgebende Eigenschaften. In Chrombädern weisen besonders die Alkylphosphate eine ausgezeichnete Beständigkeit auf, so dass sie an Stelle der teuren und schwierig herstellbaren perfluorierten organischen Sulfonsäuren zum Einsatz gelangen können.
Verbindungen der beanspruchten Art sind z. B. die sauren Mono- oderDiphosphorsäureester des Octyl-, Decyl-, Dodecyl-, Octadecyl-, Octadecenylalkohole oder des Hexyl-, Octyl- oder Dodecylphenols bzw. deren wasserlöslichen Salze, sowie die Phosphorsäureester von Alkylpolyglykoläthern der allgemeinen For-
EMI1.1
EMI1.2
in der n = 8-20 und m = 0-50 betragen, und X Wasserstoff oder eine anorganische oder organische Base bedeutet.
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EMI2.1
und Silberüber-Beispiel l :
Löst man in einem cyanidischen Kupferbad, welches 105 g/l Kupfercyanid, 128 g/l Natriumcyanid und 30 g/l Natriumhydroxyd enthält, 0, 01-0,2 g/l Dodecyl-phosphorsäureester, so erhält man bei der Galvanisierung von Gegenständen aus Eisen oder Stahl zwischen 60 und 800 C im Stromdichtebereich von zirka 1 bis 6 A/dm2 porenfreie Kupferniederschläge. Diese Niederschläge zeichnen sich gegenüber solchen, die ohne Alkylphosphatzusatz und unter sonst gleichen Bedingungen erzielt werden, durch eine deutliche Kornverfeinerung aus.
Beispiel 2 : In einem mit 290g/lCrO. angesetzten Glanzchrombad werden 0, 02-0,1 g/l Octyl- phosphorsäureester gelöst. Bei der Verchromung glanzvernickelter Objekte mit Stromdichten von 10 bis 20 A/dm2 bei 35-40 C bildet sich eine Schaumdecke von zirka 1 bis 2 cm Dicke, die das Auftreten von
EMI2.2
äthylamino-3-chlorpropanol-2 als glanzgebende Mittel enthält, mit. 0, 01-0, 3 g/l der Verbindung H2 (CH2CH0) -CH2CHOPONa2, so erhält man in diesem Bad bei der Galvanisierung von Eisen- oder Messinggegenständen im Stromdichtebereich von 0, 5 bis 7, 5 A/dm2 hochglänzende Kupferniederschläge, welche völlig porenfrei sind.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH : Verwendung der sauren Ortho-Phosphorsäureester höhermolekularer aliphatischer, aromatischer oder gemischt aliphatisch-aromatischer Hydroxylverbindungen oder deren wasserlöslicher Salze als Netzmittel in galvanischen Bädern.
Applications Claiming Priority (1)
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