AT159803B - Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen für Rakeltiefdruck. - Google Patents

Description

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  Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen für Rakeltiefdruek. 
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   Rebtelvorlage auf   die lichtempfindliche Schicht des   Metalls der Druckform   so lange Zeit zu belichten, bis Sicherheit dafür erlangt ist, dass die lichtempfindliche Schicht an den belichteten Stellen bis zu   ihrem   Grund so   durchgehärtet   ist, dass die lichtempfindliche Schicht dem Ätzprozess mit Sicherheit widersteht. 
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 form vor der Projektion des Halbtonbildes auf diese vorgenommen werden, so kann man nicht nur die Aufbringung der lichtempfindlichen Schicht auf das   Metall ;

   sondern   auch das Einkopieren des Rasters auf Vorrat ausführen, indem man sich Metallplatten od. dgl., die mit der lichtempfindlichen und berasterten Schicht versehen sind, vor Licht geschützt in Vorrat hält. Es braucht dann nur zur gegebenen Zeit das Halbtonbild nach Berichtigung der Farbwerte von der Vorlage durch Projektion auf diese lichtempfindliche Schicht übertragen zu werden, worauf die Fertigstellung der Druckform 
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 arbeiten.

Claims (1)

1. PATENT-ANSPRUCH : Verfahren zur photo mechanischen Herstellung von Druckformen für Rakeltiefdruek, wobei die positive Halbtonvorlage und die Rastervorlage nacheinander auf die mit einer lichtempfindlichen Eolloidsehieht überzogene Metallunterlage übertragen werden, nach Patent Xr. 57819, dadurch EMI2.3 Projektion erfolgt und die Rastervorlage unmittelbar auf die Schicht kopiert wird, worauf die Metallunterlage ohne die sonst übliche Entwicklung geätzt wird.