JP2000143262A - Heating element, frit sintered compact and production of glass enclosure using the same - Google Patents

Heating element, frit sintered compact and production of glass enclosure using the same

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JP2000143262A
JP2000143262A JP31228498A JP31228498A JP2000143262A JP 2000143262 A JP2000143262 A JP 2000143262A JP 31228498 A JP31228498 A JP 31228498A JP 31228498 A JP31228498 A JP 31228498A JP 2000143262 A JP2000143262 A JP 2000143262A
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frit
glass
heating element
sealing
electron
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Kazuo Koyanagi
和夫 小▲柳▼
Shinichi Kawate
信一 河手
Hidehiko Fujimura
秀彦 藤村
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Canon Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06Joining glass to glass by processes other than fusing

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Surface Heating Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing an enclosure which is sealable more rapidly than a sealing method for heating the entire part of the conventional glass enclosures at a sealing temperature, is improved in yield and is easily generally used and a frit sintered compact which is a sealing member. SOLUTION: A frit sintered compact 5 is the frit sintered compact formed by adding a binder and a solvent to frit to prepare a frit paste, coating the surface of a heating element with this frit paste and firing the frit paste. Glass members 1 and 2 are held to face each other across the frit sintered compact 5 and load is applied thereto. The glass members 1 and 2 are then heated at temperature lower than the sealing temperature and the heating element is energized, by which the frit is melted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フリット焼成体及
びガラス部材の封着方法に関し、特に、通電により発熱
する発熱体と、前記発熱体を被覆するフリットとを有す
るフリット焼成体を用いてガラス部材を封着し、真空容
器を製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a frit fired body and a method for sealing a glass member, and more particularly, to a method for frit firing using a frit fired body having a heating element that generates heat by energization and a frit that covers the heating element. The present invention relates to a method for manufacturing a vacuum vessel by sealing members.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、内部を真空維持するガラス外囲器
を製造する際には、ガラス部材の間にシール材であるフ
リットを塗布またはシートフリットを載置して、電気炉
等の封着炉に入れ、またはホットプレートヒーターに載
せ(上下からホットプレートヒーターで挟む場合もあ
る)ガラス外囲器全体を封着温度に加熱して封着部分の
ガラス部材をフリットで融着する封着方法が取られてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, when manufacturing a glass envelope for maintaining the inside of a vacuum, a frit serving as a sealing material is applied or a sheet frit is placed between glass members to seal an electric furnace or the like. A sealing method in which the entire glass envelope is heated to the sealing temperature by filing the glass member in a furnace or placed on a hot plate heater (sometimes sandwiched between the hot plate heaters from above and below) by fritting. Has been taken.

【0003】その他の封着手段としてスループットを向
上させるために被封着物全体を300℃に加熱し封着部
分のみをダイオードレーザーにより局所的に加熱し封着
部分に配置したフリットで融着する方法がある("Photon
ics Spectra"、January、1996、p18)。
[0003] As another sealing means, in order to improve the throughput, the whole object to be sealed is heated to 300 ° C, only the sealed part is locally heated by a diode laser, and is fused with a frit arranged in the sealed part. ("Photon
ics Spectra ", January, 1996, p18).

【0004】また、電子源を用いた平面型画像形成装置
は、冷陰極電子放出素子等を安定に長時間動作させるた
めに、超高真空を必要とするため、複数の電子放出素子
を有する基板とこれに対向する位置に蛍光体を有する基
板を枠を挟んでフリットにより封着され、放出ガスを吸
着して真空維持するゲッタが具備されている。
A flat image forming apparatus using an electron source requires an ultra-high vacuum to stably operate a cold cathode electron-emitting device or the like for a long period of time, so that a substrate having a plurality of electron-emitting devices is required. And a getter that seals a substrate having a phosphor at a position opposed thereto with a frit across a frame, adsorbs a released gas, and maintains a vacuum.

【0005】従来、電子放出素子としては大別して熱電
子放出素子と冷陰極電子放出素子を用いた2種類のもの
が知られている。冷陰極電子放出素子には電界放出型
(以下、「FE型」という。)、金属/絶縁層/金属型
(以下、「MIM型」という。)や表面伝導型電子放出
素子等がある。FE型の例としてはW.P. Dyke&W.
W. Dolan,“Field emission”,Advance in Electoro
n Physics,8,89(1956)あるいはC.A. Spindt,
“PHYSICAL Properties of thin-film field emission
cathodes with molybdenium cones”,J. Appl. Phy
s.,47,5248(1976)等に開示されたものが知られてい
る。
Heretofore, two types of electron-emitting devices using a thermionic electron-emitting device and a cold-cathode electron-emitting device have been known. The cold cathode electron emitting device includes a field emission type (hereinafter, referred to as “FE type”), a metal / insulating layer / metal type (hereinafter, referred to as “MIM type”), a surface conduction type electron emitting device, and the like. An example of the FE type is WP Dyke & W.
W. Dolan, “Field emission”, Advance in Electoro
n Physics, 8, 89 (1956) or CA Spindt,
“PHYSICAL Properties of thin-film field emission
cathodes with molybdenium cones ”, J. Appl. Phy
s., 47, 5248 (1976) and the like.

【0006】MIM型の例としてはC.A. Mead,“Ope
ration of Tunnel-Emission Devices”,J. Apply. Ph
ys.,32,646(1961)等に開示されたものが知られてい
る。
As an example of the MIM type, CA Mead, “Ope
ration of Tunnel-Emission Devices ”, J. Apply. Ph
ys., 32, 646 (1961) and the like.

【0007】表面伝導型電子放出素子型の例としては、
M.I. Elinson,Recio Eng. Electron Phys.,10,129
0,(1965)等に開示されたものがある。
As an example of the surface conduction electron-emitting device type,
MI Elinson, Recio Eng. Electron Phys., 10, 129
0, (1965) and the like.

【0008】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことに
より、電子放出が生ずる現象を利用するものである。こ
の表面伝導型電子放出素子としては、前記エリンソン等
によるSnO2薄膜を用いたもの、Au薄膜によるもの
[G. Dittmer:“Thin Solid Films”,9,317(197
2)],In23/SnO2薄膜によるもの[M. Hartwe
ll and C.G. Fonstad:“IEEE Trans. ED Con
f.”519(1975)]、カーボン薄膜によるもの[荒木久
他:真空、第26巻、第1号、22頁(1983)]等が報告
されている。
The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current flows in a small-area thin film formed on a substrate in parallel with the film surface. Examples of the surface conduction electron-emitting device include a device using an SnO 2 thin film by Elinson et al. And a device using an Au thin film [G. Dittmer: “Thin Solid Films”, 9, 317 (197)
2)], using an In 2 O 3 / SnO 2 thin film [M. Hartwe
ll and CG Fonstad: “IEEE Trans. ED Con
f. "519 (1975)], and those based on carbon thin films [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, p. 22 (1983)] and the like have been reported.

【0009】これら冷陰極電子放出素子から発生した電
子ビームにより蛍光体を発光させるフラットパネルの画
像表示装置の開発が行われている。表面伝導型電子放出
素子は、一部に高抵抗部を有する導電性薄膜に電流を流
すことにより、電子が放出されるもので、本出願人によ
る出願、特開平7−235255号公報にその一例が示
されている。
A flat panel image display device which emits a fluorescent material by an electron beam generated from these cold cathode electron-emitting devices has been developed. A surface conduction electron-emitting device emits electrons by passing a current through a conductive thin film having a high resistance part in one part. An example of such a device is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255. It is shown.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ガラス外囲器の製造方法では、以下の様な欠点があっ
た。
However, the conventional method for manufacturing a glass envelope has the following disadvantages.

【0011】第一に、前述の様に、ガラス外囲器を製造
する際には、ガラス部材の間にシール材であるフリット
を塗布または載置して、電気炉等の封着炉に入れ、また
はホットプレートヒーターに載せ(上下からホットプレ
ートヒーターで挟む場合もある)封着部分以外も含め、
ガラス外囲器全体を封着温度に加熱して封着部分のガラ
ス部材をフリットで融着する封着方法が取られているた
め昇温、降温に時間がかかるという問題があった。
First, as described above, when manufacturing a glass envelope, a frit serving as a sealing material is applied or placed between glass members and placed in a sealing furnace such as an electric furnace. , Or put on the hot plate heater (sometimes sandwiched between the hot plate heater from above and below)
Since a sealing method is used in which the entire glass envelope is heated to the sealing temperature and the glass member at the sealing portion is fused with a frit, there is a problem that it takes time to raise and lower the temperature.

【0012】また、この問題に対しては、レーザーを用
いて局所的に加熱し、ガラス外囲器全体の加熱温度を下
げることで封着時間の短縮をはかる方法が提案されてい
るが、レーザーは通常スポット状に照射されるために、
フリットを配置した部分すべてを同時に一様に加熱する
ことはできず、フリットの溶解した部分と溶解していな
い部分ができるため荷重を一様にかけることが困難で、
配線等、凹凸のある部分での真空気密が不確実となり、
歩留まりが低いという問題があった。また、フリットを
配置した部分を順にスキャンする必要があるため時間が
かかるという問題、および、被封着物の熱容量分布が大
きい場合、これに応じてスキャン速度やパワー等の制御
の必要性がでてくるため、汎用化には新たな制御回路や
プログラムが必要となるという問題があった。
To solve this problem, a method has been proposed in which the sealing time is shortened by locally heating using a laser to lower the heating temperature of the entire glass envelope. Is usually illuminated in the form of a spot,
It is not possible to uniformly heat all parts where the frit is arranged at the same time, and it is difficult to apply load evenly because there are parts where the frit has melted and parts where it has not melted,
Vacuum airtightness in uneven parts such as wiring becomes uncertain,
There was a problem that the yield was low. In addition, it is necessary to scan the portion where the frit is arranged in order, which takes time. In addition, when the heat capacity distribution of the sealed object is large, it is necessary to control the scanning speed, power, and the like accordingly. Therefore, there has been a problem that a new control circuit and a new program are required for generalization.

【0013】そこで、本発明は、従来のガラス外囲器全
体を封着温度で加熱する封着方法よりも短時間で封着可
能であり、レーザーを用いた局所加熱封着に対しても歩
留まりの向上した、より短時間で封着可能な容易に汎用
される外囲器の製造方法、および封着部材であるフリッ
ト焼成体を提供することを課題としている。
Therefore, the present invention can seal in a shorter time than the conventional sealing method in which the entire glass envelope is heated at the sealing temperature, and the yield can be reduced with respect to local heating sealing using a laser. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an envelope that can be easily and widely used and can be sealed in a shorter time, and a frit fired body that is a sealing member.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの本発明のフリット焼成体は、通電により発熱する発
熱体と、前記発熱体を被覆するフリットとを有するフリ
ット焼成体であって、前記フリットにバインダと溶剤を
加えてフリットペーストとし、前記発熱体の表面を前記
フリットペーストで被覆して焼成するようにしている。
A frit fired body according to the present invention for solving the above-mentioned problems is a frit fired body having a heating element that generates heat when energized, and a frit that covers the heating element. A binder and a solvent are added to the frit to form a frit paste, and the surface of the heating element is covered with the frit paste and fired.

【0015】又、本発明のフリット焼成体を用いたガラ
ス部材の封着方法は、通電により発熱する発熱体と、前
記発熱体を被覆するフリットとを有するフリット焼成体
を用いたガラス部材の封着方法であって、前記フリット
焼成体は、前記フリットにバインダと溶剤を加えてフリ
ットペーストとし、前記発熱体の表面を前記フリットペ
ーストで被覆して焼成してなる焼成体であり、前記フリ
ット焼成体を挟んで前記ガラス部材を対峙させて前記ガ
ラス部材に荷重をかけ、前記ガラス部材を、封着温度よ
り低い温度で加熱し、前記発熱体に通電してフリットを
溶融するようにしている。
Further, the method for sealing a glass member using a fired frit body according to the present invention is a method for sealing a glass member using a fired frit body having a heating element that generates heat by energization and a frit that covers the heating element. The frit fired body is a fired body obtained by adding a binder and a solvent to the frit to form a frit paste, covering the surface of the heating element with the frit paste, and firing. A load is applied to the glass member such that the glass member faces each other with the body interposed therebetween, the glass member is heated at a temperature lower than a sealing temperature, and electricity is supplied to the heating element to melt the frit.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について、説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】はじめに、図1を参照して、単純な例とし
て、ガラスフェースプレートと、該ガラスフェースプレ
ートと対向して配置されたリアプレートと、該フェース
プレートと該リアプレートとの間にあって周縁部を包囲
するガラス外枠からなるガラス外囲器の局所加熱封着方
法について説明する。図1(a)〜(c)においては1
はガラスフェースプレート、2はガラスフェースプレー
ト1と対向して配置されたリアプレート、3はフェース
プレート1と該リアプレート2との間にあって周縁部を
包囲するガラス外枠、5は本発明の特徴である発熱体を
具備したフリット焼成体、6はホットプレートヒータ
ー、7は電流源である。
First, referring to FIG. 1, as a simple example, a glass face plate, a rear plate disposed opposite to the glass face plate, and a peripheral portion between the face plate and the rear plate. A method for locally heating and sealing a glass envelope made of a glass outer frame surrounding the above will be described. 1 (a) to 1 (c), 1
Is a glass face plate, 2 is a rear plate disposed opposite to the glass face plate 1, 3 is a glass outer frame which is located between the face plate 1 and the rear plate 2 and surrounds the periphery, and 5 is a feature of the present invention. , A frit fired body having a heating element, 6 is a hot plate heater, and 7 is a current source.

【0018】図1(a)に示したように、本説明ではあ
らかじめ通常の封着においてガラス外枠3およびフェー
スプレート1を一体化したものに、リアプレート2を封
着した例を説明する。また、図1(b)は、封着を横か
ら見た図である。
As shown in FIG. 1 (a), in this description, an example will be described in which the rear plate 2 is sealed to the glass outer frame 3 and the face plate 1 which have been integrated in advance by normal sealing. FIG. 1B is a diagram of the sealing viewed from the side.

【0019】まず図1(a)に示したように、フェース
プレートおよびガラス外枠を一体化したものに、封着部
分に詳細を後述する本発明の特徴である発熱体を具備し
たフリットを配置する。本説明においてはこのフリット
を図の様に4本配置し、リアプレート2を重ねる。これ
を図1(b)に示したように、重り8によりフリットが
流動するように、均一に荷重をかけ、ホットプレート6
により被封着物であるガラス内部の温度分布が均一とな
るように全体を加熱する。そして、発熱体を具備したフ
リット焼成体の取り出し電極間に電流源7より電流を流
すことで、フリット部分を所望の封着温度まで加熱し封
着を行なう。
First, as shown in FIG. 1 (a), a frit provided with a heating element which is a feature of the present invention, which will be described in detail later, is arranged in a sealing portion on a face plate and a glass outer frame integrated. I do. In this description, four frit are arranged as shown in the figure, and the rear plate 2 is overlapped. As shown in FIG. 1B, a uniform load is applied to the hot plate 6 so that the frit flows by the weight 8 as shown in FIG.
Is heated so that the temperature distribution inside the glass to be sealed becomes uniform. Then, a current is passed from the current source 7 between the extraction electrodes of the frit fired body having the heating element, whereby the frit portion is heated to a desired sealing temperature to perform sealing.

【0020】ここで、発熱体を具備したフリット焼成体
とは、フリットの粉末にアクリル樹脂などのバインダと
溶剤とを加えペースト状にしたものを、ディッピング、
ディスペンサーなどで発熱体に塗布し仮焼成をしたもの
である。
Here, the frit fired body provided with a heating element is a frit powder obtained by adding a binder such as an acrylic resin and a solvent to a frit powder to form a paste.
It is applied to a heating element with a dispenser or the like and preliminarily baked.

【0021】発熱体の材質としては、NiCr,Ti,
Niといった、ガラスに対して熱応力が小さくなるよう
に線膨張率がガラスに近く、また、低電流で発熱しやす
いように高抵抗なものが望ましく、材質、線幅などによ
り所望の発熱量の発熱体とすることで、封着部分の熱容
量分布に対応した封着が可能である。
As the material of the heating element, NiCr, Ti,
It is desirable to use a material such as Ni having a coefficient of linear expansion close to that of glass so that thermal stress is reduced with respect to glass, and a material having high resistance so as to easily generate heat at a low current. By using a heating element, sealing can be performed in accordance with the heat capacity distribution of the sealing portion.

【0022】また、形状については、取り出し電極が2
個所あることが必要で、代表的なものとして、図2
(a)のように線状の発熱体の周囲にフリットを塗布仮
焼成したもの、および図2(b)に示すように箔状の発
熱体の面にフリットを塗布焼成したものがあげられる。
それぞれ、図2(c)に示したようにフリットを組み合
わせた際に、フリットの境目で取り出し電極が重なら
ず、かつ、境目がフリットの溶融部となればよく、本説
明においては取り出し電極を発熱体に対して直角方向と
しているが、角度は任意である。
Regarding the shape, the extraction electrode is 2
It is necessary to have some places.
As shown in FIG. 2A, a frit is applied around a linear heating element and temporarily baked, and as shown in FIG. 2B, a frit is applied and fired on a surface of a foil-shaped heating element.
When the frit is combined as shown in FIG. 2 (c), it is sufficient that the extraction electrode does not overlap at the boundary of the frit, and the boundary serves as a melted portion of the frit. Although the direction is perpendicular to the heating element, the angle is arbitrary.

【0023】また、フリット焼成体は直線状のものを示
したが、封着物の形状にあわせて任意の形状とすること
も可能である。
Although the frit fired body is shown as a straight one, it can be formed in any shape according to the shape of the sealed object.

【0024】続いて、封着物全体の加熱について説明す
る。封着の際にガラス部材の温度分布が大きいとガラス
に割れが生じるので、ガラスの割れ防止のために、ガラ
ス外囲器全体は本説明で示したようなホットプレートま
たは不図示の電気炉など封着温度未満に加熱する。これ
以降、この封着温度未満の加熱をアシスト加熱と呼ぶこ
とにする。
Next, the heating of the whole sealed object will be described. If the temperature distribution of the glass member is large at the time of sealing, the glass will crack. Therefore, in order to prevent the glass from cracking, the entire glass envelope is made up of a hot plate as described in this description or an electric furnace (not shown). Heat below sealing temperature. Hereinafter, heating below the sealing temperature will be referred to as assist heating.

【0025】なお、発熱体具備のフリットの取り出し電
極部分は封着後、必要に応じて切断などによって除去を
するのが望ましい。なお、本説明では簡略化するため
に、ガラス外枠およびリアプレートをさきに一体化した
ものにフェースプレートを後から封着する例を示した
が、図1(c)に示したように、リアプレートとガラス
外枠、およびガラス外枠とフェースプレートを同時に封
着することも可能である。
It is desirable to remove the frit extraction electrode portion provided with the heating element after cutting, if necessary, by cutting or the like. In this description, for the sake of simplicity, an example is shown in which the face plate is later sealed with the glass outer frame and the rear plate integrated beforehand, but as shown in FIG. It is also possible to simultaneously seal the rear plate and the glass outer frame, and the glass outer frame and the face plate.

【0026】以上の様にしてガラス外囲器が製造され
る。
The glass envelope is manufactured as described above.

【0027】以上のように複数のガラス部材をシール材
を用いて封着してなる内部を真空維持するガラス外囲器
の製造方法において、ガラス外囲器全体を封着部分の封
着温度未満の温度に加熱する加熱手段と同時に封着部分
を封着温度に外囲器外部から加熱する局所加熱手段を用
いて封着を行うために、全体を加熱する温度をさげるこ
とが可能で、ガラス外囲器全体を封着温度に加熱して封
着部分のガラス部材をフリットで融着する封着方法に比
較して昇温、降温にかかる時間を減らしてガラス外囲器
を製造することができる。
As described above, in the method for manufacturing a glass envelope in which a plurality of glass members are sealed using a sealing material to maintain the inside of the glass envelope in a vacuum, the entire glass envelope is lower than the sealing temperature of the sealing portion. In order to perform sealing using local heating means for heating the sealing portion to the sealing temperature at the same time as the heating means for heating to the sealing temperature from the outside of the envelope, it is possible to reduce the temperature for heating the entire glass. It is possible to manufacture a glass envelope by reducing the time required to raise and lower the temperature as compared to a sealing method in which the entire envelope is heated to the sealing temperature and the glass member of the sealed portion is fused with a frit. it can.

【0028】また、該ガラス外囲器を構成する電子源基
板においては、電子源を駆動するための電極や配線等が
形成されており、該ガラス容器を真空に維持するために
はこの電極や配線といった凹凸のある部分で真空気密を
とるための、フリットの溶融時に一定に押圧しながら封
着することが可能であり、上記レーザーによる局所加熱
封着に対して歩留まりが向上する。また、フリットを配
置した部分全体を同時に溶融させることが可能で、レー
ザースキャンし封着シール部を加熱しフリットを順に溶
融させるという必要がなく、特に大面積パネルに応用展
開する際には、この封着工程の著しい時間短縮が可能と
なる。
In the electron source substrate constituting the glass envelope, electrodes, wirings, etc. for driving the electron source are formed. In order to maintain the glass container in a vacuum, the electrodes and the wiring are provided. In order to obtain vacuum airtightness in a portion having irregularities such as wiring, it is possible to perform sealing while pressing constantly at the time of melting of the frit, and the yield is improved with respect to local heating sealing by the laser. In addition, it is possible to melt the entire part where the frit is arranged at the same time, and there is no need to heat the sealing seal part by laser scanning to melt the frit in order, especially when developing and applying to large area panels. The time required for the sealing step can be significantly reduced.

【0029】また、被封着物であるガラス外囲器の各封
着部分で熱容量に大きな分布がある場合には、これに応
じてスキャン速度やパワー等の制御の必要性がでてくる
ため、汎用化には新たな制御回路やプログラムが必要と
なるという問題があった。しかしながら、本発明におい
ては各封着部分の熱容量に応じて、所望の発熱量となる
発熱体つきのフリットを選択し、これを組み合わせて封
着部分に配置するという簡単な手段のみで対処が可能で
ある。このように本発明のフリットは汎用化が容易であ
る。
Further, when there is a large distribution of heat capacity in each sealed portion of the glass envelope to be sealed, it becomes necessary to control the scanning speed, power, etc. in accordance with the distribution. There has been a problem that general control requires a new control circuit or program. However, in the present invention, it is possible to deal with only a simple means of selecting a frit with a heating element having a desired heat generation amount according to the heat capacity of each sealing portion, and combining these and arranging them in the sealing portion. is there. Thus, the frit of the present invention can be easily generalized.

【0030】本発明のガラス外囲器の製造方法は、好ま
しくはフェースプレートには蛍光体および電子加速電極
が形成され、リアプレートには電子源が形成されている
画像表示装置の製造方法に用いられる。この電子源は、
表面伝導型の電子放出素子が好ましい。そこで本発明が
最も好適に用いられる表面伝導型の電子放出素子を用い
た画像表示装置の製造方法について、以下に説明する
が、本発明の本質はガラス外囲器の封着方法に関する製
造方法であるので、表面伝導型の電子放出素子を用いた
画像表示装置の製造方法に限らず、その他のガラス外囲
器の製造方法にも適用できるのは言うまでもない。
The method for manufacturing a glass envelope according to the present invention is preferably used for a method for manufacturing an image display device in which a phosphor and an electron accelerating electrode are formed on a face plate and an electron source is formed on a rear plate. Can be This electron source
Surface conduction electron-emitting devices are preferred. Therefore, a method of manufacturing an image display device using a surface conduction electron-emitting device, which is most preferably used in the present invention, will be described below. The essence of the present invention is a manufacturing method relating to a method of sealing a glass envelope. Therefore, it goes without saying that the present invention can be applied not only to the method of manufacturing an image display device using a surface conduction electron-emitting device but also to a method of manufacturing another glass envelope.

【0031】ここで本発明に用いられる表面伝導型の電
子放出素子を用いた画像表示装置の製造方法について、
実施形態を図3及び図4を用いて説明する。本実施形態
では、リアプレートには電子放出素子、配線を形成し、
フェースプレートには、蛍光体、メタルバックを形成し
た。
Here, a method of manufacturing an image display device using a surface conduction electron-emitting device used in the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to FIGS. In this embodiment, an electron-emitting device and wiring are formed on the rear plate,
A phosphor and a metal back were formed on the face plate.

【0032】まず、本発明の画像表示装置を図3を用い
て説明し、次にその製造方法を説明する。
First, an image display device according to the present invention will be described with reference to FIG. 3, and then a manufacturing method thereof will be described.

【0033】図3は、本実施形態に用いた画像表示装置
の斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を
切り欠いている。図中、35はリアプレート、36は支
持枠、37はフェイスプレートであり、これらは、表示
パネルの内部を真空に維持するためのガラス外囲器を形
成している。ガラス外囲器を組み立てるにあたっては各
部材の接合に十分な強度と気密性を保持させるため封着
する必要がある。図示しない排気管によりガラス外囲器
内を真空に排気を行う。排気管はプロセス工程中に発生
する活性化工程での活性化ガスのガス導入管としても利
用される。
FIG. 3 is a perspective view of the image display device used in the present embodiment, and a part of the panel is cut away to show the internal structure. In the drawing, reference numeral 35 denotes a rear plate, 36 denotes a support frame, and 37 denotes a face plate. These form a glass envelope for maintaining the inside of the display panel at a vacuum. In assembling the glass envelope, it is necessary to seal the members so as to maintain sufficient strength and airtightness for joining the members. The inside of the glass envelope is evacuated to a vacuum by an exhaust pipe (not shown). The exhaust pipe is also used as a gas introduction pipe for an activation gas in an activation step generated during a process step.

【0034】図中リアプレート35上には、表面伝導型
電子放出素子32が、N×M個形成されている。(N,
Mは2以上の正の整数で、目的とする表示画素数に応じ
適宜設定される。前記N×M個の表面伝導型放出素子で
は、M本の行方向配線33(下配線とも呼ぶ)とN本の
列方向配線34(上配線とも呼ぶ)により単純マトリク
ス配線されている。
In the figure, N × M surface conduction electron-emitting devices 32 are formed on the rear plate 35. (N,
M is a positive integer of 2 or more and is appropriately set according to the target number of display pixels. In the N × M surface conduction electron-emitting devices, simple matrix wiring is performed by M row-directional wirings 33 (also called lower wirings) and N column-directional wirings 34 (also called upper wirings).

【0035】続いて図4を用いて説明する。図4は、表
面伝導型電子放出素子の構成を示す模式図であり、図4
(a)は平面図、図4(b)は断面図である。図4にお
いて41は基板、42と43は素子電極、44は導電性
薄膜、45は電子放出部である。
Next, description will be made with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the surface conduction electron-emitting device.
4A is a plan view, and FIG. 4B is a sectional view. In FIG. 4, 41 is a substrate, 42 and 43 are device electrodes, 44 is a conductive thin film, and 45 is an electron emitting portion.

【0036】ガラス外囲器を排気管31を通して真空に
排気しながら、素子電極42,43を通じて、導電性薄
膜44にフォーミング処理を施すことによって、導電性
薄膜を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的
に高抵抗な状態にした電子放出部35を形成し、さら
に、ガラス外囲器内の圧力が1×10-3Pa以下になっ
たら、ガラス外囲器内に排気管31を通して活性化ガス
としてアセトンを1Pa程度導入し、放出電流を著しく
改善する活性化工程を該表面伝導型電子放出素子の上述
素子電極42,43に電圧を印可し、素子に電流を流す
ことによって、上述の電子放出部45の活性化を行う。
従来技術で述べた特開平7−235255号公報の開示
例と同様のものであるフェースプレート37の下面に
は、蛍光体38が形成されている。本実施形態ではカラ
ー表示装置であるため、蛍光膜38の部分にはCRTの
分野で用いられている赤、緑、青の3原色の蛍光体が塗
り分けられている。蛍光膜38のリアプレート側の面に
は、CRTの分野では公知のメタルバック39を設けて
ある。メタルバック39を設けた目的は、蛍光膜33が
発する光の一部を鏡面反射させて光効率を向上させるこ
とや、負イオンの衝突から蛍光膜38を保護すること
や、電子ビーム加速電圧を印可するための電極として用
いることや、蛍光膜38を励起した電子の導電路として
作用させること等である。メタルバック39は蛍光膜3
8をフェイスプレート基板37上に形成した後、蛍光膜
38を平滑化処理し、その上にAlを真空蒸着する方法
により形成した。また、本実施形態 では用いなかった
が、加速電圧の印加方法や蛍光膜の導電性向上を目的と
して、フェースプレート基板37と蛍光膜38の間に、
例えばITO等の透明導電膜を設けても良い。
By forming the conductive thin film 44 through the device electrodes 42 and 43 while evacuating the glass envelope to a vacuum through the exhaust pipe 31, the conductive thin film is locally broken, deformed or deteriorated. When the pressure inside the glass envelope becomes 1 × 10 −3 Pa or less, the electron emission portion 35 is brought into an electrically high-resistance state. Acetone is introduced as an oxidizing gas at about 1 Pa, and an activation step for remarkably improving the emission current is performed by applying a voltage to the device electrodes 42 and 43 of the surface conduction electron-emitting device and causing a current to flow through the device. The activation of the electron emission section 45 is performed.
A phosphor 38 is formed on the lower surface of a face plate 37 which is the same as the example disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255 described in the prior art. Since the present embodiment is a color display device, phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to a portion of the fluorescent film 38. A metal back 39 known in the field of CRT is provided on the surface of the fluorescent film 38 on the rear plate side. The purpose of providing the metal back 39 is to improve the light efficiency by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film 33, to protect the fluorescent film 38 from the collision of negative ions, and to reduce the electron beam acceleration voltage. It may be used as an electrode for application or may serve as a conductive path for the excited electrons of the fluorescent film 38. Metal back 39 is fluorescent film 3
After 8 was formed on the face plate substrate 37, the fluorescent film 38 was smoothed, and Al was formed thereon by vacuum evaporation. Although not used in the present embodiment, for the purpose of applying an acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film, a gap between the face plate substrate 37 and the fluorescent film 38 is provided.
For example, a transparent conductive film such as ITO may be provided.

【0037】また、Dx1〜Dxm及びDy1〜Dyn
ならびにHvは、当該表示パネルと不図示の電気回路と
を電気的に接続するために設けられた気密容器の電気接
続用端子である。Dx1〜Dxmはマルチ電子ビーム源
の行向配線33と、Dy1〜Dynはマルチ電子ビーム
源の列向配線34と、Hvはフェースプレートのメタル
バック39と、それぞれ電気的に接続されている。
Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn
Hv is an electric connection terminal of an airtight container provided for electrically connecting the display panel to an electric circuit (not shown). Dx1 to Dxm are electrically connected to the row wiring 33 of the multiple electron beam source, Dy1 to Dyn are electrically connected to the column wiring 34 of the multiple electron beam source, and Hv is electrically connected to the metal back 39 of the face plate.

【0038】以上、本発明の製造方法を適用した画像表
示装置を説明した。
The image display device to which the manufacturing method of the present invention is applied has been described above.

【0039】本発明の画像表示装置の製造方法について
具体的に説明する。
The method for manufacturing the image display device of the present invention will be specifically described.

【0040】まず、リアプレートの作成について説明す
る。
First, the creation of the rear plate will be described.

【0041】まず、シリコン酸化膜が表面に形成された
青板ガラス製リアプレート上に下配線23をスクリーン
印刷で形成した。次に、下配線33と上配線34間に層
間絶縁膜を形成する。さらに、上配線34を形成した。
次に、下配線33と上配線34とに接続された素子電極
42,43を形成した。
First, the lower wiring 23 was formed by screen printing on a rear plate made of blue glass having a silicon oxide film formed on the surface. Next, an interlayer insulating film is formed between the lower wiring 33 and the upper wiring 34. Further, an upper wiring 34 was formed.
Next, device electrodes 42 and 43 connected to the lower wiring 33 and the upper wiring 34 were formed.

【0042】次に、PdOからなる導電性薄膜34を形
成した後、パターニングし、所望の形態とした。
Next, after a conductive thin film 34 made of PdO is formed, it is patterned to obtain a desired form.

【0043】次に、外枠を固定するためのフリットを所
望の位置に形成した。
Next, a frit for fixing the outer frame was formed at a desired position.

【0044】以上の工程により、単純マトリクス配線し
た表面伝導型電子放出素子が形成されたリアプレートを
作成した。
Through the above steps, a rear plate was formed on which surface conduction electron-emitting devices having a simple matrix wiring were formed.

【0045】次に、フェースプレートの作成について説
明する。
Next, the creation of the face plate will be described.

【0046】まず、青板ガラス基板に蛍光体、黒色導電
体板を形成し、蛍光膜の内面側表面の平滑性処理を行
い、その後Alメタルバックを形成した。
First, a phosphor and a black conductor plate were formed on a blue plate glass substrate, a smoothing treatment was performed on the inner surface of the phosphor film, and then an Al metal back was formed.

【0047】次に、外枠を固定するためのフリットを所
望の位置に形成した。
Next, a frit for fixing the outer frame was formed at a desired position.

【0048】以上の工程により、3原色の蛍光体がスト
ライプ状に配設された蛍光体をフェースプレートに形成
した。・封着部分の局所加熱によるガラス外囲器作成前
述の「ガラス外囲器の局所加熱封着方法」により画像表
示装置のガラス外囲器が封着された。
Through the above steps, a phosphor in which the phosphors of the three primary colors are arranged in stripes was formed on the face plate. -Creation of glass envelope by local heating of sealed portion The glass envelope of the image display device was sealed by the above-mentioned "method of local heating and sealing of glass envelope".

【0049】次に、真空プロセスによる電子放出素子の
作成について説明する。
Next, the production of an electron-emitting device by a vacuum process will be described.

【0050】まず、前述したように封着されたガラス外
囲器のフェースプレートの図示しない排気管を真空排気
装置に接続し、ガラス外囲器内を真空に排気した。
First, the exhaust pipe (not shown) of the face plate of the glass envelope sealed as described above was connected to a vacuum exhaust device, and the inside of the glass envelope was evacuated to a vacuum.

【0051】次に、ガラス外囲器内の圧力が0.1Pa
以下になったら、容器外端子Dox1〜DoxmとDo
y1〜Doynを通じ電子放出素子に電圧を印可し、導
電性薄膜34にフォーミング工程を行った。
Next, when the pressure in the glass envelope is 0.1 Pa
When the following conditions are met, the external terminals Dox1 to Doxm and Dox
A voltage was applied to the electron-emitting device through y1 to Doyn, and a forming process was performed on the conductive thin film 34.

【0052】続いて、ガラス外囲器内の圧力が1×10
-3Pa以下になったら、素子活性化ガスとしてアセトン
を排気管を通してガラス外囲器内に1Pa導入し、容器
外端子Dox1〜DoxmとDoy1〜Doynを通じ
電子放出素子に電圧を印可し電子放出素子の活性化処理
を行った。
Subsequently, when the pressure in the glass envelope was 1 × 10
When the pressure becomes -3 Pa or less, acetone as an element activating gas is introduced into the glass envelope through an exhaust pipe at a pressure of 1 Pa, and a voltage is applied to the electron-emitting device through the outer terminals Dox1 to Doxm and Doy1 to Doyn to apply a voltage to the electron emitting device. Was activated.

【0053】次に、ガラス外囲器内の脱ガス工程につい
て説明する。
Next, the degassing step in the glass envelope will be described.

【0054】まず、活性化ガスを十分に排気した後、次
にベーキング脱ガス処理をガラス外囲器の排気をしなが
ら、300℃加熱で10時間行った。この後排気管31
の一部を加熱溶融して、封止(チップオフ)を行った。
First, after activating gas was sufficiently exhausted, baking degassing was performed at 300 ° C. for 10 hours while exhausting the glass envelope. After this, the exhaust pipe 31
Was heated and melted to perform sealing (chip-off).

【0055】この様にして、画像表示装置を完成させ
た。
Thus, an image display device was completed.

【0056】[0056]

【実施例】(実施例1)図1(b)、図2(a)、図
3、図4を用いて、本発明の封着方法により作製したガ
ラス外囲器を用いた画像形成装置を作製した例を説明す
る。
(Embodiment 1) Referring to FIGS. 1 (b), 2 (a), 3 and 4, an image forming apparatus using a glass envelope manufactured by the sealing method of the present invention will be described. An example of fabrication will be described.

【0057】使用したフリットは、図2(a)に示した
線状の発熱体のもので、材質がニッケル、径について
は、封着される部分で直径0.3mm、取り出し電極部
分は抵抗が低くなるように直径1mmのものを、4本使
用した。
The frit used was a linear heating element shown in FIG. 2 (a). The material was nickel, and the diameter was 0.3 mm at the portion to be sealed and the resistance was at the extraction electrode portion. Four pieces having a diameter of 1 mm were used so as to be lower.

【0058】まず、リアプレート、フェースプレートを
作製した。
First, a rear plate and a face plate were prepared.

【0059】その後、通常の封着炉において、ガラス外
枠およびフェースプレートを封着した。その後、図1
(a)、図1(b)に準じて、ガラス封着部分上記の発熱
体を具備したフリット4本を配置、アシスト加熱をホッ
トプレートによる加熱とし、封着をおこなった。
Then, the glass outer frame and the face plate were sealed in a usual sealing furnace. Then, FIG.
(a) According to FIG. 1 (b), four frit equipped with the above-mentioned heating element were placed in a glass sealing portion, and the heating was performed by a hot plate as the assist heating, and the sealing was performed.

【0060】このような構成で、まず、上下のヒーター
およびホットプレートにより、4℃/分で300℃まで
全体の加熱をした。次に、4本のフリットの発熱体が直
列になるように取り出し電極同士を接合し、電流源よ
り、0.1A/1sec.の割合で13.5Aまで電流
を流し、5分保持、その後、0.1A/1sec.で0
Aまで下げた。
With such a configuration, first, the entire heater was heated to 300 ° C. at 4 ° C./min by the upper and lower heaters and the hot plate. Next, the take-out electrodes were joined to each other so that the heating elements of the four frit were connected in series, and 0.1 A / 1 sec. At a rate of 13.5 A and maintained for 5 minutes, and then 0.1 A / 1 sec. At 0
Down to A.

【0061】続いて、上下のヒーターおよびホットプレ
ートを1℃/分で降温した。常温に温度がさがったの
ち、取り出し電極部分を切断した。
Subsequently, the upper and lower heaters and the hot plate were cooled at a rate of 1 ° C./min. After the temperature dropped to room temperature, the extraction electrode portion was cut.

【0062】以上のようにして作製したガラス外囲器
は、クラックなどもなく配線との封着部分でも真空気密
が保たれており、真空ガラス容器として問題はなかっ
た。その後、真空プロセスによる電子放出素子を作製、
脱ガス、封止をおこない、画像表示装置を作製した。
The glass envelope produced as described above was free of cracks and the like, and was kept in a vacuum-tight state even at the portion where it was sealed with the wiring, so that there was no problem as a vacuum glass container. After that, an electron-emitting device was manufactured by a vacuum process,
Degassing and sealing were performed to produce an image display device.

【0063】以上の真空容器の作製において、従来の封
着にくらべて、封着時間を短縮することができた。
In the production of the above-described vacuum container, the sealing time was shortened as compared with the conventional sealing.

【0064】(実施例2)図1(c)、図2(b)、図
3、図4を用いて、本発明の封着方法により作製したガ
ラス外囲器を用いた画像形成装置を作製した例を説明す
る。
Embodiment 2 Using FIGS. 1C, 2B, 3 and 4, an image forming apparatus using a glass envelope manufactured by the sealing method of the present invention is manufactured. An example will be described.

【0065】また、用いた支持枠の形状を図5に示す。FIG. 5 shows the shape of the support frame used.

【0066】また、フェースプレートがリアプレートに
比べ厚みがあるものを使用した。そこでフリットは、支
持枠とフェースプレートの封着部分で図2(b)に示し
た箔状の発熱体のもので、材質NiCr、厚さ50μ
m、封着部分の幅0.8mm、取り出し部分のみ幅8m
m、のものをまた、支持枠とリアプレートの封着部分に
ついては、同様に箔状の発熱体のもので、材質NiC
r、厚さ50μm、封着部分の幅1mm、取り出し部分
のみ幅8mmのものを使用した。
A face plate having a thickness greater than that of the rear plate was used. Therefore, the frit is a foil-shaped heating element shown in FIG. 2B at the sealing portion between the support frame and the face plate, and is made of a material NiCr and has a thickness of 50 μm.
m, width of sealing part 0.8mm, width of take-out part only 8m
m, and the sealing portion between the support frame and the rear plate is also made of a foil-like heating element.
r, a thickness of 50 μm, a width of a sealing portion of 1 mm, and a width of only a take-out portion of 8 mm were used.

【0067】また、本実施例において作製した外囲器
は、図5に示したような封着部分の3辺が直線、残る1
辺が曲線状になっている形状のものであるため、封着部
分それぞれにたいして、直線状のものを3本と、曲線状
のものを1本ずつ使用した。
In the envelope manufactured in this embodiment, the three sides of the sealed portion shown in FIG.
Since the sides have a curved shape, three straight lines and one curved line were used for each sealing portion.

【0068】リアプレートとフェースプレートの位置合
わせを行いながら、図1(c)に示したように、フェー
スプレート、フリット、支持枠、フリット、リアプレー
ト、の順に重ねあわせ、これを真空ポンプによる排気が
可能な炉の中で、1℃/分で250℃まで昇温したの
ち、上下の発熱体を具備したフリットの取り出し電極を
それぞれ直列に接続し、電流源より、0.1A/1se
c.の割合で4.5Aまで電流を流し、5分間保持、そ
の後、0.1A/1sec.で0Aまで下げた。
While aligning the rear plate and the face plate, as shown in FIG. 1C, the face plate, the frit, the support frame, the frit, and the rear plate are superimposed in this order, and this is evacuated by a vacuum pump. After heating up to 250 ° C. at a rate of 1 ° C./min in a furnace capable of performing the above, frit extraction electrodes provided with upper and lower heating elements are connected in series, respectively, and a current source supplies 0.1 A / 1 sec.
c. At a rate of 4.5 A and maintained for 5 minutes, and then 0.1 A / 1 sec. And lowered to 0A.

【0069】続いて、炉全体を1℃/分で室温まで降温
した。
Subsequently, the whole furnace was cooled to room temperature at 1 ° C./min.

【0070】常温に温度がさがったのち、取り出し電極
部分を切断した。
After the temperature dropped to room temperature, the extraction electrode portion was cut.

【0071】以上のようにして作製したガラス外囲器
は、クラックなどもなく配線との封着部分でも真空気密
が保たれており、真空ガラス容器として問題はなかっ
た。この後、真空プロセスによる電子放出素子を作製、
脱ガス、封止をおこない、画像表示装置を作製した。
The glass envelope produced as described above was free of cracks and the like, and was maintained in a vacuum-tight state even at the portion where it was sealed with the wiring, so that there was no problem as a vacuum glass container. After that, an electron-emitting device is manufactured by a vacuum process,
Degassing and sealing were performed to produce an image display device.

【0072】以上の真空容器の作製において、従来の炉
にくらべて、封着時間を大幅に短縮することができた。
In the production of the above-mentioned vacuum vessel, the sealing time was significantly reduced as compared with the conventional furnace.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、ガラス外
囲器全体を封着部分の封着温度未満の温度に加熱し、封
着部分のみを封着温度に加熱するので、全体を加熱する
温度をさげることが可能で、ガラス外囲器全体を封着温
度に加熱して封着部分のガラス部材をフリットで融着す
る封着方法に比較して昇温、降温にかかる時間を減らし
てガラス外囲器を製造することができる。
According to the present invention described above, the entire glass envelope is heated to a temperature lower than the sealing temperature of the sealing portion, and only the sealing portion is heated to the sealing temperature. It is possible to reduce the time required to raise and lower the temperature compared to the sealing method of heating the entire glass envelope to the sealing temperature and fusing the glass member of the sealing part with a frit. To produce a glass envelope.

【0074】また、本発明によれば、電子源を駆動する
ための電極や配線等が形成されたリアプレートからなる
ガラス容器を真空に維持すべく、この電極や配線といっ
た凹凸のある部分で真空気密をとるため、フリットの溶
融時に一定に押圧しながら封着することが可能であり、
レーザーによる局所加熱封着に対して歩留まりが向上す
る。また、フリットを配置した部分全体を同時に溶融さ
せることが可能で、レーザースキャンし封着シール部を
加熱しフリットを順に溶融させるという必要がなく、特
に大面積パネルに応用展開する際には、この封着工程の
著しい時間短縮が可能となる。
Further, according to the present invention, in order to maintain a vacuum in a glass container comprising a rear plate on which electrodes and wirings for driving an electron source are formed, a vacuum is applied to the uneven portions such as the electrodes and wirings. It is possible to seal while pressing constantly when the frit is melted in order to take airtightness,
The yield is improved with respect to local heat sealing by laser. In addition, it is possible to melt the entire part where the frit is arranged at the same time, and there is no need to heat the sealing seal part by laser scanning to melt the frit in order, especially when developing and applying to large area panels. The time required for the sealing step can be significantly reduced.

【0075】また、本発明によれば、被封着物であるガ
ラス外囲器の各封着部分で熱容量に大きな分布がある場
合であっても、所望の発熱量となる発熱体つきのフリッ
トを選択し、これを組み合わせて封着することができ
る。
Further, according to the present invention, even if the heat capacity of each sealed portion of the glass envelope to be sealed has a large distribution, a frit with a heating element having a desired calorific value is selected. Then, it can be sealed by combining them.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の封着方法を説明する図。FIG. 1 is a diagram illustrating a sealing method of the present invention.

【図2】発熱体を具備したフリットの代表的な形状を示
す図。
FIG. 2 is a view showing a typical shape of a frit provided with a heating element.

【図3】本発明の画像表示装置の斜視図。FIG. 3 is a perspective view of the image display device of the present invention.

【図4】表面伝導型電子放出素子の基本構成図。FIG. 4 is a basic configuration diagram of a surface conduction electron-emitting device.

【図5】実施例2において用いた支持枠の形状を示す斜
視図。
FIG. 5 is a perspective view showing the shape of a support frame used in Example 2.

【符号の説明】 1 フェースプレート 2 リアプレート 3 カラス外枠 5 発熱体を具備したフリット焼成体 6 ホットプレートヒーター 7 電流源 8 荷重用おもり 21 フリット 22 発熱体 23 取り出し電極 31 排気管 32 表面伝導型電子放出素子 33 行方向配線 34 列方向配線 35 リアプレート 36 支持枠 37 フェースプレート 38 蛍光体 39 メタルバック 41 絶縁性基板 42,43 素子電極 44 導電性薄膜 45 電子放出部[Description of Signs] 1 Face plate 2 Rear plate 3 Crow outer frame 5 Frit fired body provided with heating element 6 Hot plate heater 7 Current source 8 Weight for load 21 Frit 22 Heating element 23 Extraction electrode 31 Exhaust pipe 32 Surface conduction type Electron emission device 33 Row direction wiring 34 Column direction wiring 35 Rear plate 36 Support frame 37 Face plate 38 Phosphor 39 Metal back 41 Insulating substrate 42, 43 Device electrode 44 Conductive thin film 45 Electron emitting portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤村 秀彦 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 3K034 AA02 AA12 AA15 AA37 BB05 BB14 BC02 BC16 BC24 CA02 CA15 CA32 HA01 HA10 JA01 JA02 5C012 AA05 BC03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hidehiko Fujimura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo F-term in Canon Inc. (reference) 3K034 AA02 AA12 AA15 AA37 BB05 BB14 BC02 BC16 BC24 CA02 CA15 CA32 HA01 HA10 JA01 JA02 5C012 AA05 BC03

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 通電により発熱する発熱体に部材間を接
合する接合部材が被覆されたことを特徴とする発熱体。
1. A heating element characterized in that a heating element that generates heat when energized is covered with a joining member that joins the members.
【請求項2】 通電により発熱する発熱体と、前記発熱
体を被覆するフリットとを有するフリット焼成体であっ
て、 前記フリットにバインダと溶剤を加えてフリットペース
トとし、 前記発熱体の表面を前記フリットペーストで被覆して焼
成したことを特徴とするフリット焼成体。
2. A frit fired body having a heating element that generates heat by energization and a frit that covers the heating element, wherein a binder and a solvent are added to the frit to form a frit paste, and the surface of the heating element is A fired frit body coated with a frit paste and fired.
【請求項3】 前記発熱体は、棒状体であることを特徴
とする請求項2記載のフリット焼成体。
3. The frit fired body according to claim 2, wherein the heating element is a rod-shaped body.
【請求項4】 前記発熱体は、箔状体であることを特徴
とする請求項2記載のフリット焼成体。
4. The frit fired body according to claim 2, wherein the heating element is a foil.
【請求項5】 通電により発熱する発熱体と、前記発熱
体を被覆するフリットとを有するフリット焼成体を用い
て、複数のガラス部材を封着し、内部を気密に維持する
ガラス外囲器の製造方法であって、 前記フリット焼成体は、前記フリットにバインダと溶剤
を加えてフリットペーストとし、前記発熱体の表面を前
記フリットペーストで被覆して焼成してなる焼成体であ
り、 前記フリット焼成体を挟んで前記ガラス部材を対峙させ
て前記ガラス部材に荷重をかけ、 前記ガラス部材を、封着温度より低い温度で加熱し、 前記発熱体に通電してフリットを溶融することを特徴と
するガラス外囲器の製造方法。
5. A glass envelope that seals a plurality of glass members and maintains the inside airtight by using a frit fired body having a heating element that generates heat by energization and a frit that covers the heating element. The frit fired body is a fired body obtained by adding a binder and a solvent to the frit to form a frit paste, and covering the surface of the heating element with the frit paste and firing the frit. Applying a load to the glass member such that the glass member faces each other with a body interposed therebetween, heating the glass member at a temperature lower than a sealing temperature, and energizing the heating element to melt the frit. Manufacturing method of glass envelope.
【請求項6】 第1ガラスプレートと、第2ガラスプレ
ートとを、ガラス外枠を介して対峙させ、前記第1ガラ
スプレートと前記第2ガラスプレートと前記ガラス外枠
とを一体に封着することを特徴とする請求項5記載のガ
ラス外囲器の製造方法。
6. A first glass plate and a second glass plate are opposed to each other via a glass outer frame, and the first glass plate, the second glass plate, and the glass outer frame are integrally sealed. The method for manufacturing a glass envelope according to claim 5, wherein
【請求項7】 画像表示装置のガラス外囲器の製造方法
であって、 前記第1ガラスプレートには蛍光体および電子加速電極
が形成され、 前記第2ガラスプレートには、電子源が形成されている
ことを特徴とする請求項6記載のガラス外囲器の製造方
法。
7. A method for manufacturing a glass envelope of an image display device, wherein a phosphor and an electron accelerating electrode are formed on the first glass plate, and an electron source is formed on the second glass plate. 7. The method for manufacturing a glass envelope according to claim 6, wherein
【請求項8】 前記電子源は、表面伝導型電子放出素子
であることを特徴とする請求項7記載のガラス外囲器の
製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the electron source is a surface conduction electron-emitting device.
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