JP2002008569A - Image forming device - Google Patents

Image forming device

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JP2002008569A
JP2002008569A JP2000193338A JP2000193338A JP2002008569A JP 2002008569 A JP2002008569 A JP 2002008569A JP 2000193338 A JP2000193338 A JP 2000193338A JP 2000193338 A JP2000193338 A JP 2000193338A JP 2002008569 A JP2002008569 A JP 2002008569A
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JP
Japan
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image forming
plate
forming apparatus
spacer
electron
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Application number
JP2000193338A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Tagawa
昌宏 多川
Shinya Koyama
信也 小山
Matsuya Hayashida
松也 林田
宣之 ▲高▼橋
Noriyuki Takahashi
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming device capable of surely keeping vacuum in an envelope (container) without causing exfoliation at the part joined to a metal member even at reduced pressure. SOLUTION: The image forming device is equipped with an image forming member which forms an image by using a back plate comprising a plurality of electron emission elements and the first metal member bonded to its peripheral part, and electron beam emitted from the electron emission elements, further, the image forming device comprises at least a front plate with the second metal member bonded at a peripheral part opposing to the peripheral part of the back plate, a support member arranged between both peripheral parts, surrounding and prescribing the distance between them, and a spacer arranged between the back panel and the front panel as an atmospheric pressure supporting structure. The height of the spacer is shorter than the distance subscribed by the support member, and at least one end part of the spacer is fixed to the back plate or the front plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平板型の画像形成
装置に関し、特に、冷陰極電子放出素子を用いた平板型
の画像形成装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel type image forming apparatus, and more particularly to a flat panel type image forming apparatus using cold cathode electron-emitting devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】平板型の画像形成装置として、近年、ア
クティブマトリクス型液晶が、CRTに代わって用いら
れるようになってきた。このアクティブマトリクス型液
晶は、自発光型でないために、バックライトを用いて、
表示するものであるが、光の利用効率が低いという問題
があり、更に明るい画像形成装置が望まれていた。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix type liquid crystal has been used as a flat panel type image forming apparatus instead of a CRT. Since this active matrix liquid crystal is not self-luminous, it uses a backlight to
For display, there is a problem that light utilization efficiency is low, and a brighter image forming apparatus has been desired.

【0003】このため、プラズマディスプレー、電界電
子放出素子、表面伝導型電子放出素子(例えば、特開平
7−235255号公報を参照)などの冷陰極電子放出
素子から放出した電子を加速し、衝突させ、蛍光体を発
光させて、画像表示する自発光型画像形成装置の開発が
提案され、既に実用化されてきている。そして、これら
平板型の画像形成装置は、数十インチの大面積化も実現
され、これに対応する、高精度で容易な組立方法も研究
されている。
For this reason, electrons emitted from cold cathode electron-emitting devices such as plasma displays, field electron-emitting devices, and surface conduction electron-emitting devices (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255) are accelerated and collided. Development of a self-luminous image forming apparatus for displaying an image by causing a phosphor to emit light has been proposed and has already been put to practical use. In addition, these flat plate type image forming apparatuses have been realized to have a large area of several tens of inches, and corresponding high-precision and easy assembling methods have been studied.

【0004】従来これらプラズマディスプレイ、フィー
ルドエミッションディスプレイなどの平板型の画像形成
装置での外囲器の封着には、低融点ガラス(フリットガ
ラス)を前面板と背面板との接合部に塗布し、400〜
500℃で加圧焼成する方法が採用されており、そのた
め、封着時の高温下において、厳しいアライメント精度
が要求される。そのために、画像形成装置の複雑化や、
加熱温度分布の不均一によるガラス基板などの破損、或
いは、画像形成装置内の電子放出素子やゲッター材など
の内部部品の、熱による劣化など、種々の問題が発生
し、画像形成装置としての、高品位な表示を得ることが
極めて困難であった。
Conventionally, a low melting glass (frit glass) is applied to a joint between a front plate and a back plate to seal an envelope in a flat type image forming apparatus such as a plasma display and a field emission display. , 400-
A method of baking under pressure at 500 ° C. is adopted, and therefore, strict alignment accuracy is required at a high temperature during sealing. Therefore, the complexity of the image forming apparatus,
Various problems occur, such as breakage of a glass substrate due to uneven heating temperature distribution, or deterioration of internal components such as electron-emitting devices and getter materials in an image forming apparatus due to heat. It was extremely difficult to obtain a high-quality display.

【0005】この問題に対して、特公平3−28773
号公報に所載の方法では、低温で封着する方法が提案さ
れ、その1例であるレーザ溶接を用いた平面型画像形成
装置が開示されている。
[0005] To deal with this problem, Japanese Patent Publication No. 3-28773.
In the method described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-260, a method of sealing at low temperature has been proposed, and a flat-type image forming apparatus using laser welding as one example is disclosed.

【0006】その内容について、図9を参照して以下に
説明する。まず、表容器91に、低融点ガラス97を介
して、金属板92を加熱・接合し、次に、金属板94と
枠体93、リード線96、裏板95を、それぞれ、低融
点ガラス97を介して、加熱・接合する。このようにし
て、画像表示装置の容器(外囲器)として、互いに封止
される表容器91と枠体93および裏板95で構成され
る裏容器98とが構成される。
The contents will be described below with reference to FIG. First, the metal plate 92 is heated and joined to the front container 91 via the low-melting glass 97, and then the metal plate 94 and the frame 93, the lead wire 96, and the back plate 95 are respectively connected to the low-melting glass 97. Heating and bonding. In this way, a front container 91 and a back container 98 composed of a frame 93 and a back plate 95 are sealed as a container (envelope) of the image display device.

【0007】次いで、裏容器98の内部に収容する電極
構体(図示せず)を裏板95に設け、それら電極構体の
電極端子をリード線96と接続した後、金属板92、9
4を合わせるようにして、表容器91と裏容器98とを
向かい合わせ、最後に金属板92、94の周辺縁部にレ
ーザービームを当てて、封着のための、連続的な溶接が
なされる。
Next, an electrode assembly (not shown) to be accommodated in the back container 98 is provided on the back plate 95, and the electrode terminals of these electrode assemblies are connected to the lead wires 96.
4, the front container 91 and the rear container 98 face each other, and finally, the peripheral edges of the metal plates 92 and 94 are irradiated with a laser beam to perform continuous welding for sealing. .

【0008】このようにすることで、精度よく確実に封
着が行えると共に、溶接に際して、その熱による高い温
度分布が、極めて限定された狭い範囲に収まることか
ら、組立精度のずれ、容器および部品の反り、割れを極
力小さくすることができ、その結果、高品位な画像表示
装置を得ることができると考えられている。
By doing so, the sealing can be performed accurately and reliably, and the high temperature distribution due to the heat during welding falls within a very limited narrow range. It is considered that warpage and cracking can be minimized, and as a result, a high-quality image display device can be obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た画像形成装置では、その製造段階で、金属板92、9
4の間に隙間が生じる場合があり、画像形成装置(外囲
器)内を減圧した際に、表容器(または裏容器)と金属
板の接合部、または、金属板相互の接合部分に、大気圧
が加わり、接着部の剥離、マイクロクラックなどが発生
する畏れがあり、どの製品についても、確実な真空度を
維持することが困難であった。
However, in the image forming apparatus described above, the metal plates 92, 9
4 may occur, and when the inside of the image forming apparatus (envelope) is decompressed, the joint between the front container (or the back container) and the metal plate, or the joint between the metal plates, Atmospheric pressure is applied, and there is a fear that peeling of an adhesive portion and micro cracks may occur, and it has been difficult to maintain a certain degree of vacuum for all products.

【0010】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的とするところは、減圧下でも、金属部材
との接合個所において、剥離が生じることなく、容器
(外囲器)内の真空を確実に保つことのできる画像形成
装置を提供するにある。
[0010] The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to prevent the peeling from occurring at a joint portion with a metal member even under reduced pressure without causing peeling in a container (envelope). An object of the present invention is to provide an image forming apparatus capable of surely maintaining a vacuum.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
平面基板上に形成された複数の電子放出素子を有し、周
縁部に第1の金属部材を接着している背面板と、該背面
板と対向するように配置されると共に前記電子放出素子
から放出される電子線の照射により画像が形成される画
像形成部材を搭載し、前記周縁部に対向する周縁部に第
2の金属部材を接着している前面板と、前記背面板と前
面板との間にあって両者の周縁を包囲すると共に両者の
間隔を規定する支持部材と、耐大気圧支持構造として前
記背面板と前面板との間に配されたスペーサとを、少な
くとも具備する画像形成装置において、前記スペーサの
高さは、前記支持部材により規定される前記背面板と前
面板との間隔よりも短く、前記スペーサの少なくとも一
端が、前記背面板もしくは前面板に固定されていること
を特徴とする。
Therefore, in the present invention,
A back plate having a plurality of electron-emitting devices formed on a flat substrate, a first metal member being adhered to a peripheral portion, and a back plate disposed so as to face the back plate, and A front plate on which an image forming member on which an image is formed by irradiation of the emitted electron beam is mounted, and a second metal member is adhered to a peripheral portion facing the peripheral portion; and the rear plate and the front plate. An image forming apparatus comprising at least a support member interposed between the rear plate and the front plate to surround the peripheral edges of the two and define the distance between the two, and a spacer disposed between the back plate and the front plate as an anti-atmospheric pressure support structure. The height of the spacer is shorter than the distance between the back plate and the front plate defined by the support member, and at least one end of the spacer is fixed to the back plate or the front plate. I do.

【0012】この場合、本発明の実施の形態として、前
記支持部材により規定される前記背面板と前面板との間
隔と、前記スペーサの高さとの差は、50〜500μm
の範囲にあること、前記金属部材と、前記背面板及び前
面板との熱膨張率の差が、10%以内であること、前記
金属部材と、前記背面板又は前面板の接合に、低融点ガ
ラスを用いること、前記背面板に形成された複数の電子
放出素子が、冷陰極電子放出素子であること、前記画像
形成部材が、蛍光体であることは、それぞれ、有効であ
る。
In this case, as an embodiment of the present invention, the difference between the distance between the back plate and the front plate defined by the support member and the height of the spacer is 50 to 500 μm.
, The difference in the coefficient of thermal expansion between the metal member and the rear plate and the front plate is within 10%, and the joining of the metal member and the rear plate or the front plate has a low melting point. It is effective to use glass, that the plurality of electron-emitting devices formed on the back plate are cold cathode electron-emitting devices, and that the image forming member is a phosphor.

【0013】このように、本発明の画像形成装置の構成
によれば、スペーサの高さが支持部材により規定される
背面板と前面板との間隔よりも短いために、背面板に接
着されている第1の金属部材と前面板に接着されている
第2の金属部材を接合する際に金属部材間に生じる隙間
を最小限にすることができる上、画像形成装置内を真空
に引いた際に、スペーサによって、背面板や前面板の撓
みが抑制され、金属部材に大気圧による負荷が作用せ
ず、接着部の剥離、マイクロクラックなど発生を低減す
ることができる。
As described above, according to the structure of the image forming apparatus of the present invention, since the height of the spacer is shorter than the distance between the back plate and the front plate defined by the support member, the spacer is bonded to the back plate. When the first metal member is bonded to the second metal member bonded to the front plate, a gap generated between the metal members can be minimized, and when the inside of the image forming apparatus is evacuated to vacuum. In addition, the deformation of the back plate and the front plate is suppressed by the spacer, the load due to the atmospheric pressure does not act on the metal member, and the occurrence of peeling of the bonding portion, micro cracks, and the like can be reduced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明は、以下の実施の形態で述
べるように、電界電子放出素子、表面伝導型電子放出素
子などの電子放出素子を複数配置し、蛍光体などの画像
形成部材を発光して、画像表示する平板型の画像形成装
置の新規な構成を提供する。そこで、まず、本発明の画
像形成装置の主要な構成例を、図1を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described in the following embodiments, the present invention arranges a plurality of electron-emitting devices such as a field electron-emitting device and a surface conduction electron-emitting device to form an image forming member such as a phosphor. A novel configuration of a flat plate type image forming apparatus that emits light and displays an image is provided. Therefore, first, a main configuration example of the image forming apparatus of the present invention will be described with reference to FIG.

【0015】図1は、本発明の画像形成装置であり、容
器(外囲器)内部を減圧する前の状態を示している。こ
こで、図1の(a)は平面図であり、図1の(b)は、
(a)のA−A部に沿う断面図である。また、図2は、
図1の(b)を更に拡大した部分断面図である。
FIG. 1 shows an image forming apparatus according to the present invention, and shows a state before the pressure inside a container (envelope) is reduced. Here, FIG. 1A is a plan view, and FIG.
It is sectional drawing which follows the AA part of (a). Also, FIG.
It is the fragmentary sectional view which expanded (b) of FIG. 1 further.

【0016】図中、符号1は前面板、2は背面板、3は
支持枠(支持部材)、4−1、4−2は金属部材、5は
耐大気圧支持部材、6は前面板1、背面板2、支持枠3
及び金属部材4−1、4−2をそれぞれ接合する接着材
である。
In the drawing, reference numeral 1 denotes a front plate, 2 denotes a rear plate, 3 denotes a support frame (support member), 4-1 and 4-2 denote metal members, 5 denotes an atmospheric pressure resistant support member, and 6 denotes a front plate 1. , Back plate 2, support frame 3
And an adhesive for joining the metal members 4-1 and 4-2.

【0017】図1に示すように、画像形成装置内部を減
圧する前は、前面板1と耐大気圧支持部材5の間に隙間
が存在する。前面板1は、ガラスなどで構成されたフェ
ースプレートであり、電極、配線などのパターンと共
に、電子が衝突し、発光する蛍光体が形成される。ま
た、背面板2はガラスなどで構成されたリアプレートで
あり、電極、配線などのパターンと共に、電子放出素子
が形成される。
As shown in FIG. 1, before the inside of the image forming apparatus is depressurized, a gap exists between the front plate 1 and the atmospheric pressure supporting member 5. The front plate 1 is a face plate made of glass or the like, and forms a phosphor that emits light by colliding with electrons along with patterns such as electrodes and wirings. The back plate 2 is a rear plate made of glass or the like, on which electron-emitting devices are formed together with patterns such as electrodes and wiring.

【0018】支持枠3は、通常、前面板及び背面板と同
様な材料で形成され、前面板、背面板及び支持枠で、基
本的な容器(外囲器)が構成される。なお、支持枠3に
は、印刷で形成された隔壁を用いても良く、また、前面
板および背面板のどちらに接合されているのであって、
更には、前面板および背面板と一体化された構造でもよ
く、必ずしも、前面板、背面板と別部材である必要はな
い。
The support frame 3 is usually made of the same material as the front plate and the back plate, and the front plate, the back plate and the support frame constitute a basic container (envelope). In addition, the support frame 3 may use a partition formed by printing, and is bonded to either the front plate or the back plate.
Furthermore, a structure integrated with the front plate and the back plate may be used, and it is not always necessary to be a separate member from the front plate and the back plate.

【0019】耐大気圧支持部材5は、前面板、背面板及
び支持枠と熱膨張係数が同程度であること、電子ビーム
の軌道に、影響を与えないものなどが望まれるが、形状
などは特に限定されるものではない。
The anti-atmospheric pressure support member 5 is desired to have the same thermal expansion coefficient as the front plate, the back plate, and the support frame, and to have no influence on the trajectory of the electron beam. There is no particular limitation.

【0020】接着材6は、無機系、有機系接着剤など限
定されるものではないが、真空気密性を保持し得るこ
と、放出ガスが少ないこと、後熱処理工程における耐熱
性を持ち得ること、接合後の機械的強度が十分であるこ
と、などの条件を満たすことが必要である。また、通
常、低融点ガラスが多く用いられるが、それ以外にも、
2種類の接着剤を用いて、機能を分担させることで、上
記条件を満たすような構成をとることも可能である。
The adhesive 6 is not limited to an inorganic or organic adhesive, but can maintain vacuum tightness, emit less gas, and have heat resistance in a post heat treatment step. It is necessary to satisfy conditions such as sufficient mechanical strength after joining. Also, usually, low melting glass is often used, but in addition,
By using two types of adhesives to share functions, it is possible to adopt a configuration that satisfies the above conditions.

【0021】図2は、支持部材3により規定される前面
板1と背面板2との間隔L1と、耐大気圧支持部材5の
高さL2の関係を示している。画像形成装置(外囲器)
の内部を真空に引く前に、金属部材4−1、4−2の間
に生じる空隙を最小限にするため、L1−L2で規定さ
れる隙間を設ける。この隙間は、使用する部材の厚み、
材質などにより異なるが、50〜500μmとすること
が好ましい。
FIG. 2 shows the relationship between the distance L 1 between the front plate 1 and the rear plate 2 defined by the support member 3 and the height L 2 of the atmospheric pressure resistant support member 5. Image forming device (envelope)
Before vacuuming the inside of the device, a gap defined by L1-L2 is provided in order to minimize a gap generated between the metal members 4-1 and 4-2. This gap depends on the thickness of the member used,
Although it depends on the material and the like, it is preferably 50 to 500 μm.

【0022】隙間が50μm以下になってしまうと、前
面板、背面板のうねり、耐大気圧支持部材の加工精度に
より、全ての耐大気圧支持部材に隙間を設けられなくな
ってしまう畏れがあるからである。また、隙間が500
μm以上になった場合、画像形成装置(外囲器)内を減
圧した際に、前面板、背面板が変形を起こし、前面板、
背面板、耐大気圧支持部材が破壊してしまう畏れがある
からである。
If the gap becomes 50 μm or less, there is a fear that the gaps cannot be provided in all the atmospheric pressure supporting members due to the undulation of the front plate and the back plate and the processing accuracy of the atmospheric pressure supporting members. It is. Also, if the gap is 500
μm or more, when the inside of the image forming apparatus (envelope) is decompressed, the front plate and the rear plate are deformed,
This is because there is a fear that the back plate and the anti-atmospheric pressure support member may be broken.

【0023】図3は、本発明に適用可能な表面伝導型電
子放出素子の構成を示す模式図であって、その(a)は
平面図、(b)は断面図である。図3において、符号3
1は基板、32と33は素子電極、34は導電性薄膜、
35は電子放出部である。
FIGS. 3A and 3B are schematic views showing the structure of a surface conduction electron-emitting device applicable to the present invention, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG. 3B is a cross-sectional view. In FIG.
1 is a substrate, 32 and 33 are device electrodes, 34 is a conductive thin film,
Reference numeral 35 denotes an electron emission unit.

【0024】素子電極32、33を通じて、導電性薄膜
34にフォーミング処理を施すことにより、導電性薄膜
34を局所的に破壊、変形もしくは変質させて、電気的
に高抵抗な状態にした電子放出部35を形成し、さら
に、放出電流を著しく改善する活性化工程を行う。これ
は、表面伝導型電子放出素子の上述導電性薄膜34に電
圧を印加し、素子に電流を流すことにより、上述の電子
放出部35より電子を放出させる工程である。
An electron emitting portion in which the conductive thin film 34 is locally broken, deformed or deteriorated by subjecting the conductive thin film 34 to a forming process through the device electrodes 32 and 33, thereby bringing the conductive thin film 34 into an electrically high-resistance state. Then, an activation step for significantly improving the emission current is performed. This is a step in which a voltage is applied to the conductive thin film 34 of the surface conduction electron-emitting device and a current flows through the device, so that the above-described electron-emitting portion 35 emits electrons.

【0025】図4は、本発明に用いた画像形成部材の一
例であり、前面板、即ち、フェースプレート1の下面に
は、蛍光膜とメタルバックからなる画像表示部が形成さ
れる。なお、この実施の形態では、画像表示にカラーを
用いている表示装置である。このため、蛍光膜の部分に
は、CRTの分野で用いられる赤、緑、青、の3原色の
蛍光体が塗り分けられている。各色の蛍光体は、例え
ば、図4の(a)に示すように、ストライプ状に塗り分
けられ、蛍光体のストライプの間に、黒色の導電体を設
けている。黒色の導電体を設ける目的は、電子ビームの
照射位置に多少のずれがあっても、表示色にずれが生じ
ないようにすること、外光の反射を防止して表示コント
ラストの低下を防ぐこと、電子ビームによる蛍光膜のチ
ャージアップを防止することなどである。なお、黒色の
導電体には、黒鉛を主成分として用いたが、上記の目的
に適するものであれば、これ以外の材料を用いても良
い。
FIG. 4 shows an example of an image forming member used in the present invention. An image display section comprising a fluorescent film and a metal back is formed on a front plate, that is, a lower surface of the face plate 1. In this embodiment, the display device uses color for image display. For this reason, phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to the fluorescent film portion. For example, as shown in FIG. 4A, the phosphor of each color is separately applied in a stripe shape, and a black conductor is provided between the stripes of the phosphor. The purpose of providing the black conductor is to prevent the display color from being shifted even if the electron beam irradiation position is slightly shifted, and to prevent the reflection of external light to prevent the display contrast from being lowered. And preventing charge-up of the fluorescent film by an electron beam. Although graphite is used as a main component of the black conductor, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.

【0026】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は、図
4の(a)に示したストライプ状の配列に限られるもの
ではなく、例えば、図4の(b)に示すような、デルタ
状配列や、それ以外の配列であってもよい。なお、モノ
クロームの表示パネルを作製する場合には、単色の蛍光
体材料を蛍光膜に用いればよく、また黒色導電材料は必
ずしも用いなくともよい。
The method of applying the three primary color phosphors is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 4A, but may be, for example, a delta as shown in FIG. 4B. It may be a state arrangement or another arrangement. When a monochrome display panel is manufactured, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film, and a black conductive material is not necessarily used.

【0027】また、蛍光膜のリアプレート側の面には、
CRTの分野では公知のメタルバックを設けてある。メ
タルバックを設けた目的は、蛍光膜が発する光の一部を
鏡面反射して光利用率を向上させること、負イオンの衝
突から蛍光膜を保護すること、電子ビーム加速電圧を印
加するための電極として作用させること、蛍光膜を励起
した電子の導電路として作用させることなどである。な
お、蛍光膜に低電圧用の蛍光体材料を用いた場合には、
メタルバックを用いない。
Also, the surface of the phosphor film on the rear plate side is
A known metal back is provided in the field of CRT. The purpose of the metal back is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film, to protect the fluorescent film from the collision of negative ions, and to apply the electron beam acceleration voltage. The function may be to function as an electrode, or to function as a conductive path for excited electrons of the fluorescent film. When a low-voltage fluorescent material is used for the fluorescent film,
Do not use metal back.

【0028】また、この実施の形態では用いなかった
が、加速電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的とし
て、フェースプレート基板1と蛍光膜との間に、例え
ば、ITOを材料とする透明電極を設けてもよい。
Although not used in this embodiment, for example, ITO is used as a material between the face plate substrate 1 and the fluorescent film for the purpose of applying an acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film. A transparent electrode may be provided.

【0029】次に、本発明に係わる画像形成装置の製造
方法について、その1例を、図5を用いて概略、説明す
る。
Next, an example of a method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention will be schematically described with reference to FIG.

【0030】(1)金属部材4−1を前面板1に、金属
部材4−2を、支持枠3を介して背面板2にそれぞれ接
着する(図5の(a)を参照)。
(1) The metal member 4-1 is bonded to the front plate 1 and the metal member 4-2 is bonded to the back plate 2 via the support frame 3 (see FIG. 5A).

【0031】(2)前面板1と背面板2を位置合わせし
ながら重ね合わせ、固定する(図5の(b)を参照)。
(2) The front plate 1 and the back plate 2 are overlapped while being positioned and fixed (see FIG. 5B).

【0032】(3)金属部材4−1、4−2の周縁を、
接合手段を用いて接着する。ここでの接合手段とは、そ
れが、金属部材4−1、4−2を接着できればよく、レ
ーザー溶接などが上げられるが、何らこれに限定される
ものではない。
(3) The peripheral edges of the metal members 4-1 and 4-2 are
Adhesion is performed using joining means. The joining means here may be any one as long as it can bond the metal members 4-1 and 4-2, and includes laser welding, but is not limited thereto.

【0033】(4)排気管(図示せず)により、画像形
成装置内を排気し、真空が形成された後、排気管を封止
する方法、もしくは、真空チャンバー中で容器を封着す
る排気管レスの方法で密閉する(図5の(c)を参
照)。
(4) The inside of the image forming apparatus is evacuated by an exhaust pipe (not shown), and after a vacuum is formed, a method of sealing the exhaust pipe or an exhaust for sealing a container in a vacuum chamber. Seal in a tubeless manner (see FIG. 5 (c)).

【0034】このようにして、画像形成装置の容器が作
成される。なお、上記作成工程には、適宜、電子放出素
子を形成するための工程、活性化処理などを行う工程が
挿入される。
Thus, the container of the image forming apparatus is prepared. Note that a step for forming an electron-emitting device, a step for performing an activation process, and the like are appropriately inserted into the above-described forming process.

【0035】[0035]

【実施例】(実施例1)ここでは、図1に示す構成が採
用される。なお、図1の(b)は、図1の(a)のA−
A断面図であり、組立後は、フェースプレート1とスペ
ーサ5の間に隙間が設けられている。また、図2は、図
1の(b)の部分拡大図である。フェースプレート(前
面板)1と金属部材4−1、リアプレート(裏面板)2
と支持枠3、支持枠3と金属部材4−2は、それぞれ、
接着材6によって固定されている。また、7は画像形成
部材、8は配線を含む電子放出部である。
Embodiment (Embodiment 1) Here, the configuration shown in FIG. 1 is adopted. Note that FIG. 1B is a cross-sectional view of FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG. 1A, where a gap is provided between a face plate 1 and a spacer 5 after assembly. FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG. Face plate (front plate) 1, metal member 4-1, rear plate (back plate) 2
And the support frame 3, and the support frame 3 and the metal member 4-2 are respectively
It is fixed by the adhesive 6. Reference numeral 7 denotes an image forming member, and reference numeral 8 denotes an electron emitting portion including wiring.

【0036】本実施例では、電子放出素子として、冷陰
極電子放出素子である表面伝導型電子放出素子を複数
個、リアプレートに形成しておき、フェースプレートに
は、蛍光体を配設し、有効表示エリアを、対角10イン
チとする縦:横比=3:4のカラー画像形成装置を作成
した。
In this embodiment, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, are formed on the rear plate as the electron-emitting devices, and a phosphor is provided on the face plate. A color image forming apparatus having an effective display area of 10 inches diagonally and a length: width ratio of 3: 4 was prepared.

【0037】次に、図5を用いて、本発明の画像形成装
置の作成方法を説明する。
Next, a method for producing the image forming apparatus of the present invention will be described with reference to FIG.

【0038】・工程−1(リアプレートの作成):青板
ガラス上に、シリコン酸化膜をスパッタ法で形成した
後、その上に素子電極、下配線、層間絶縁層、上配線
を、順次、印刷法で形成した。なお、下配線と上配線と
は、素子電極に接続するように形成してある。導電性薄
膜は、有機金属化合物の水溶液の液滴を、インクジェッ
ト法で付与した後、基板を350℃で焼成し、有機金属
化合物を熱分解することで得られる金属酸化物の薄膜で
ある。
Step-1 (formation of a rear plate): After forming a silicon oxide film on a soda lime glass by a sputtering method, an element electrode, a lower wiring, an interlayer insulating layer, and an upper wiring are sequentially printed thereon. Formed by the method. Note that the lower wiring and the upper wiring are formed so as to be connected to the device electrodes. The conductive thin film is a metal oxide thin film obtained by applying a droplet of an aqueous solution of an organometallic compound by an ink jet method, baking the substrate at 350 ° C., and thermally decomposing the organometallic compound.

【0039】更に、スペーサ5を固定するためのフリッ
トガラス層を、上配線上の規定された箇所に、ディスペ
ンサによって塗布し、380℃で10分前処理(仮焼
成)することで形成した。なお、フリットガラスには、
導電性のフリットガラスを用いた。
Further, a frit glass layer for fixing the spacer 5 was formed by applying a pre-treatment (pre-baking) at 380 ° C. for 10 minutes to a specified place on the upper wiring with a dispenser. In addition, the frit glass has
Conductive frit glass was used.

【0040】・工程−2(フェースプレートの作成):
青板ガラス基板に、蛍光体、黒色導電体を、印刷法によ
り形成した。蛍光膜の内面側では、表面の平滑化処理を
行い、その後、Alを真空蒸着などを用いて堆積させ、
メタルバックを形成した。更に、ディスペンサによっ
て、金属部材を固定するためのフリットガラス層をフェ
ースプレート周縁の接合部に塗布し、380℃で、10
分前処理(仮焼成)する。なお、フリットガラスは、日
本電気硝子社製LS−3081をペーストとして用い
た。
Step-2 (creation of face plate):
A phosphor and a black conductor were formed on a blue plate glass substrate by a printing method. On the inner surface side of the fluorescent film, a surface smoothing process is performed, and then, Al is deposited using vacuum evaporation or the like,
A metal back was formed. Further, a frit glass layer for fixing the metal member is applied to the joint at the periphery of the face plate with a dispenser,
Perform pretreatment (temporary firing) for one minute. The frit glass used was LS-3081 manufactured by NEC Corporation as a paste.

【0041】・工程−3(支持枠の作成):青板ガラス
で作製した厚み1mmの支持枠の両面に、ディスペンサ
によってリアプレートおよび金属部材と接合するための
フリットガラス層を塗布し、380℃で10分、前処理
(仮焼成)を行った。なお、フリットガラスはフェース
プレートと同様、日本電気硝子社製のLS−3081を
ペーストとして用いた。
Step-3 (preparation of support frame): A frit glass layer for bonding to a rear plate and a metal member is applied by a dispenser to both sides of a support frame having a thickness of 1 mm and made of soda lime glass. Pretreatment (temporary firing) was performed for 10 minutes. As the frit glass, LS-3081 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. was used as a paste similarly to the face plate.

【0042】・工程−4(金属部材金属膜形成):外寸
がフェースプレートの外寸より全周において1.2cm
大きく、内寸が支持枠の内寸より全周において0.5c
m小さい、厚さ:0.2mmの426合金板(フェース
プレート用金属部材)と、外寸がフェースプレートの外
寸より全周において1.5cm大きく、内寸が支持枠の
内寸より全周において0.5cm小さい、厚さ:0.2
mmの426合金(リアプレート用金属部材)の2種を
用意し、各々の低融点金属の封着部分に、電解メッキ法
によって、予めNi膜を下地とするAu膜を形成した。
これらの膜厚は、下地のNi膜を2〜4μm、Au膜を
1〜3μm程度とした。
Step-4 (formation of metal film of metal member): The outer dimension is 1.2 cm over the entire circumference of the face plate.
Large, the inner size is 0.5c over the entire circumference than the inner size of the support frame
A 426 alloy plate (metal member for face plate) having a thickness of 0.2 mm and a thickness of 0.2 mm, and the outer dimension is 1.5 cm larger than the outer dimension of the face plate and the inner dimension is greater than the inner dimension of the support frame. At 0.5 cm smaller, thickness: 0.2
A 426 alloy (metal member for a rear plate) having a thickness of 426 mm was prepared, and an Au film with a Ni film as a base was formed in advance on each low-melting-point metal sealing portion by electrolytic plating.
These film thicknesses were about 2 to 4 μm for the underlying Ni film and about 1 to 3 μm for the Au film.

【0043】・工程−5(スペーサの取り付け):前記
リアプレートの上配線上におけるスペーサ接合部にスペ
ーサを位置合わせし、加圧加熱することで、スペーサを
接合した。接合温度は450℃である。なお、スペーサ
はガラス製で、厚み:200μm、高さ:1.8mmの
平板状スペーサであり、その表面に、2次電子放出効率
が小さく、高抵抗な膜(本実施例ではCrOxを用い
た)を形成した。
Step-5 (Attachment of spacer): The spacer was aligned with the spacer joint on the upper wiring of the rear plate, and the spacer was joined by heating under pressure. The joining temperature is 450 ° C. The spacer is made of glass, is a flat spacer having a thickness of 200 μm and a height of 1.8 mm, and has a surface with a low secondary electron emission efficiency and high resistance (CrOx is used in this embodiment). ) Formed.

【0044】・工程−6(フェースプレートと金属部材
の接合):図5の(a)に示すように、前記フェースプ
レートと前記フェースプレート用金属部材とを所定の位
置に配設し、加圧加熱することで、フリットガラスを介
して、接合した。接着は410℃の温度で行ない、金属
部材が極力撓まないように、均一加圧した。
Step-6 (joining of the face plate and the metal member): As shown in FIG. 5 (a), the face plate and the metal member for the face plate are arranged at predetermined positions and pressurized. By heating, they were joined via the frit glass. Bonding was performed at a temperature of 410 ° C., and uniform pressing was performed so that the metal member was not bent as much as possible.

【0045】・工程−7(リアプレートと支持枠、金属
部材の接合):同じく、図5の(a)に示すように、前
記スペーサ接合したリアプレートと前記支持枠と前記リ
アプレート用金属部材とを所定の位置に配設し、工程−
6と同様に、加圧加熱することで、フリットガラスを介
して、各々を接合した。接着は410℃の温度で行なっ
た。
Step-7 (Joining the rear plate with the support frame and the metal member): Similarly, as shown in FIG. 5A, the rear plate joined with the spacer, the support frame, and the metal member for the rear plate. Are arranged at predetermined positions, and
As in the case of No. 6, each was joined via the frit glass by heating under pressure. The bonding was performed at a temperature of 410 ° C.

【0046】・工程−8(ビーム溶接による封着):図
5の(b)に示すように、フェースプレート部とリアプ
レート部とを位置合わせし、重ね合わせた後、レーザー
ビームを金属部材の貼り合わせ部に照射し、連続的に縁
に沿って、溶接を行った。
Step-8 (sealing by beam welding): As shown in FIG. 5B, after the face plate portion and the rear plate portion are positioned and overlapped, the laser beam is applied to the metal member. Irradiation was performed on the bonded portion, and welding was performed continuously along the edge.

【0047】本発明は、このように、フェースプレート
とリアプレートを位置合わせし、重ね合わせた後は、フ
ェースプレートとスペーサの間に隙間(本実施例では1
00μmに設定)が生じているので、フェースプレート
上方より荷重を加えることにより、容易に、金属部材の
貼り合わせ部に隙間を生じないようすることができた。
なお、本実施例ではYAGレーザーを用い、溶接を行っ
た。
According to the present invention, after the face plate and the rear plate are positioned and overlapped, a gap (1 in this embodiment) is provided between the face plate and the spacer.
(Set to 00 μm), it was possible to easily prevent a gap from being formed in the bonded portion of the metal member by applying a load from above the face plate.
In this example, welding was performed using a YAG laser.

【0048】・工程−9:また、図5の(c)に示すよ
うに、完成した画像形成装置内の雰囲気を、真空ポンプ
にて、排気管(図示せず)を通じて排気し、十分な真空
度に達した後、画像形成装置外端子(図示せず)を通じ
て、電子放出素子に電圧を印加し、電子放出部を、導電
性薄膜のフォーミング工程、活性化工程を経て、作成し
た。さらに、一連の工程を終了した後、250℃で、1
0時間、ベーキングを行った。
Step-9: Further, as shown in FIG. 5C, the atmosphere in the completed image forming apparatus is evacuated by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown) to provide a sufficient vacuum. After the temperature reached, a voltage was applied to the electron-emitting device through an external terminal (not shown) of the image forming apparatus, and an electron-emitting portion was formed through a conductive thin film forming step and an activation step. Further, after a series of steps is completed, at 250 ° C., 1
Baking was performed for 0 hours.

【0049】・工程−10:次に、排気管(図示せず)
をガスバーナーで熱することで、溶着し、画像形成装置
(外囲器)の封止を行った。そして、最後に、封止後の
真空度を維持するために、高周波加熱法でゲッター処理
を行った。
Step-10: Next, an exhaust pipe (not shown)
Was heated by a gas burner to fuse and seal the image forming apparatus (envelope). Finally, gettering was performed by a high-frequency heating method in order to maintain the degree of vacuum after sealing.

【0050】図6は、本発明の画像形成装置の斜視図で
あり、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠いて
示している。ここで、基体64は、ガラスなどで構成さ
れたリアプレートであり、電極、配線などのパターンが
形成されている。更に、電子放出素子を用いた画像形成
装置では、表面伝導型放出素子61が配置される。
FIG. 6 is a perspective view of the image forming apparatus of the present invention, in which a part of the panel is cut away to show the internal structure. Here, the base 64 is a rear plate made of glass or the like, on which patterns such as electrodes and wirings are formed. Further, in the image forming apparatus using the electron-emitting device, the surface-conduction electron-emitting device 61 is provided.

【0051】基体69は、ガラスなどで構成されたフェ
ースプレートであり、ガラス基板66に蛍光体67、メ
タルバック68が形成されている。支持枠65は、基体
64および69と同様の材料で構成され、基体64、6
9、支持枠65の三者によって、画像表示装置(外囲
器)が構成される。
The base 69 is a face plate made of glass or the like, and a phosphor 67 and a metal back 68 are formed on a glass substrate 66. The support frame 65 is made of the same material as the bases 64 and 69,
9. An image display device (envelope) is constituted by the three members of the support frame 65.

【0052】リアプレート64上には、表面伝導型放出
素子61がN×M個形成されている。N、Mは2以上の
正の整数であり、それは、目的とする表示画素数に応じ
て適宜設定される。たとえば、高品位テレビジョンの表
示を目的とした表示装置においては、N=3000、M
=1000以上の数を設定することが望ましい。N×M
個の表面伝導型放出素子は、M本の行方向配線62(上
配線と述べる場合もある)とN本の列方向配線63(下
配線と述べる場合もある)により、単純マトリクス配線
されている。
On the rear plate 64, N × M surface conduction type emission elements 61 are formed. N and M are positive integers of 2 or more, which are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, in a display device for displaying high-definition television, N = 3000, M
It is desirable to set a number equal to or greater than 1000. N × M
The surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix by M row-directional wirings 62 (sometimes described as upper wirings) and N column-directional wirings 63 (sometimes described as lower wirings). .

【0053】M行・N列の、行列状にマトリクス配線さ
れた表面伝導型放出素子を、端子Dx1〜Dxm、端子
Dy1〜Dynに走査信号を印加することで駆動し、画
像を形成することができる。
A surface conduction electron-emitting device having M rows and N columns and arranged in a matrix in a matrix is driven by applying a scanning signal to terminals Dx1 to Dxm and terminals Dy1 to Dyn to form an image. it can.

【0054】スペーサ60は、画像形成装置の容器を真
空にした場合に、大気圧を支持する支持体であり、大気
圧に耐える様に設計される。なお、スペーサは直線配
置、ちどり配置など、種々の形態が適用される。また、
スペーサを構成する材料は、ガラス、有機ポリマー、セ
ラミクスやその表面に2次電子放出係数が1に近く導電
性材料であるSi、CrO、CuOなどの半導体、金
属酸化物などが、1層あるいは複数層、積層される。
The spacer 60 is a support that supports the atmospheric pressure when the container of the image forming apparatus is evacuated, and is designed to withstand the atmospheric pressure. In addition, various forms, such as a linear arrangement and a spot arrangement, are applied to the spacer. Also,
The material constituting the spacer is a single layer or a glass, an organic polymer, a ceramic, a semiconductor such as a conductive material such as Si, CrO 2 , CuO, or a metal oxide having a secondary electron emission coefficient close to 1 on the surface thereof. Multiple layers are stacked.

【0055】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子Dx1な
いしDxm,Dy1ないしDynを通じ、走査信号およ
び変調信号を信号発生手段(図示せず)によりそれぞ
れ、印加することにより、電子放出させ、高圧端子Hv
を通じ、メタルバック68に数kV以上の高圧を印加
し、電子ビームを加速し、蛍光膜67に衝突させ、励起
・発光させることで画像を表示した。
In the image display device of the present invention completed as described above, each electron-emitting device transmits a scanning signal and a modulation signal to signal generating means (not shown) through terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn outside the container. To apply electrons to emit electrons, respectively, and the high voltage terminal Hv
, A high voltage of several kV or more was applied to the metal back 68 to accelerate the electron beam, collide with the fluorescent film 67, and excite and emit light to display an image.

【0056】本実施例では、組立時にフェースプレート
とスペーサとの間に隙間が生じているので、フェースプ
レートとリアプレートとの位置決めを行う際に、スペー
サにより画像形成部材(蛍光体など)を傷付けることな
く、位置決めを行うことができた。 (実施例2)図7は本発明の実施例2を示した図であ
り、組立後(真空引き前)の画像形成装置を示してい
る。なお、実施例1と同じものは、同一符号で表してい
る。本実施例では、組立後において、リアプレート2と
スペーサ5との間に、隙間が生じる構成を取っている。
In this embodiment, since a gap is formed between the face plate and the spacer during assembly, the spacer damages the image forming member (such as a phosphor) when positioning the face plate and the rear plate. Positioning could be performed without any problems. (Embodiment 2) FIG. 7 is a view showing Embodiment 2 of the present invention, and shows an image forming apparatus after assembly (before evacuation). The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. In the present embodiment, a configuration is adopted in which a gap is formed between the rear plate 2 and the spacer 5 after assembly.

【0057】即ち、本実施例では、電子放出素子とし
て、冷陰極電子放出素子である表面伝導型電子放出素子
を、複数個、リアプレートに形成し、フェースプレート
には蛍光体を配設し、有効表示エリアを対角33インチ
とする縦、横比が9:16のカラー画像形成装置を作成
した。
That is, in this embodiment, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, are formed on the rear plate as the electron-emitting devices, and a phosphor is disposed on the face plate. A color image forming apparatus having an effective display area of 33 inches diagonally and an aspect ratio of 9:16 was produced.

【0058】次に、図8を用いて、この画像形成装置の
作成方法を説明する。
Next, a method for producing the image forming apparatus will be described with reference to FIG.

【0059】・工程−1(リアプレートの作成):青板
ガラス上に、スパッタ法でシリコン酸化膜を形成した
後、その上に、素子電極を形成し、次に、スクリーン印
刷で下配線を形成した。次いで、層間絶縁層を形成し、
さらに、上配線を形成した。下配線と上配線とは、素子
電極に接続するように形成した。その後、スパッタ法で
導電性薄膜を形成してから、パターニングし、所望の形
態として、電子放出素子群を形成した。
Step-1 (formation of rear plate): After forming a silicon oxide film on a blue sheet glass by a sputtering method, an element electrode is formed thereon, and then a lower wiring is formed by screen printing. did. Next, an interlayer insulating layer is formed,
Further, an upper wiring was formed. The lower wiring and the upper wiring were formed so as to be connected to the device electrodes. Thereafter, a conductive thin film was formed by a sputtering method, and then patterned to form an electron-emitting device group as a desired form.

【0060】更に、ディスペンサによって、金属部材を
固定するためのフリットガラス層をリアプレート周縁の
接合部に塗布し、380℃で10分、前処理(仮焼成)
する。なお、フリットガラスは、日本電気硝子社製のL
S−3081をペーストとし用いた。
Further, a frit glass layer for fixing the metal member is applied to the joint at the peripheral edge of the rear plate by a dispenser, and pre-treated at 380 ° C. for 10 minutes (temporary firing).
I do. The frit glass is manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.
S-3081 was used as a paste.

【0061】・工程−2(フェースプレートの作成):
青板ガラス基板に印刷法により蛍光体、黒色導電体を形
成した。蛍光膜の内面側表面の平滑化処理を行い、その
後、真空蒸着などを用いて、Alを堆積させ、メタルバ
ックを形成した。更に、ディスペンサによって、スペー
サ5を固定するためのフリットガラス層をメタルバック
での所定箇所に塗布し、380℃で10分間、前処理
(仮焼成)した。なお、フリットガラスは、導電性のフ
リットガラスを用いた。
Step-2 (creation of face plate):
A phosphor and a black conductor were formed on a blue plate glass substrate by a printing method. A smoothing treatment was performed on the inner surface of the fluorescent film, and thereafter, Al was deposited using vacuum evaporation or the like to form a metal back. Further, a frit glass layer for fixing the spacer 5 was applied to a predetermined portion of the metal back with a dispenser, and pre-treated (pre-baked) at 380 ° C. for 10 minutes. The frit glass used was conductive frit glass.

【0062】・工程−3(支持枠の作成):ディスペン
サによって、青板ガラスで作成した、厚み:1mmの支
持枠の両面に、リアプレートおよび金属部材と接合する
ためのフリットガラス層を塗布し、380℃で10分、
前処理(仮焼成)を行った。フリットガラスは、リアプ
レートと同様に、日本電気硝子社製のLS−3081を
ペーストとして用いた。
Step-3 (preparation of support frame): A frit glass layer for bonding to a rear plate and a metal member is applied to both surfaces of a support frame having a thickness of 1 mm and made of blue sheet glass with a dispenser. 10 minutes at 380 ° C,
Pretreatment (temporary firing) was performed. As the frit glass, LS-3081 manufactured by NEC Corporation was used as a paste similarly to the rear plate.

【0063】・工程−4(金属部材金属膜形成):外寸
がフェースプレートの外寸より全周について1.2cm
大きく、内寸が支持枠の内寸より全周について0.5c
m小さい、厚さ:0.2mmの426合金板(フェース
プレート用金属部材)と、外寸がフェースプレートの外
寸より全周について1.5cm大きく、内寸が支持枠の
内寸より全周について0.5cm小さい、厚さ:0.2
mmの426合金(リアプレート用金属部材)との2種
を用意し、各々の低融点金属の封着部分に、電解メッキ
法によって、予めNi膜を下地とするAu膜を形成し
た。なお、これらの膜厚は、下地のNi膜を2〜4μ
m、Au膜を1〜3μm程度とした。
Step-4 (formation of metal film of metal member): The outer dimension is 1.2 cm over the entire circumference from the outer dimension of the face plate.
Large, the inner dimension is 0.5c over the entire circumference than the inner dimension of the support frame
426 alloy plate (metal member for face plate) with a thickness of 0.2 mm and a thickness of 0.2 mm, the outer dimension is 1.5 cm larger than the outer dimension of the face plate, and the inner dimension is greater than the inner dimension of the support frame. About 0.5 cm smaller, thickness: 0.2
426 alloy (metal member for rear plate) having a thickness of 2 mm was prepared, and an Au film with a Ni film as a base was formed in advance on each low-melting-point metal sealing portion by electrolytic plating. In addition, these film thicknesses can be obtained by forming the underlying Ni film by 2 to 4 μm.
m, Au film is about 1 to 3 μm.

【0064】・工程−5(スペーサの取り付け):前記
フェースプレートのメタルバック上におけるスペーサ接
合部に、スペーサを位置合わせし、加圧加熱すること
で、スペーサを接合した。接合温度は450℃である。
なお、スペーサはガラス製で、厚み:200μm、高
さ:1.8mmの平板状スペーサであり、その表面に、
2次電子放出効率が小さく高抵抗な膜(本実施例ではC
rOxを用いた)を形成した。
Step-5 (Attachment of spacer): The spacer was aligned with the spacer joint on the metal back of the face plate, and the spacer was joined by heating under pressure. The joining temperature is 450 ° C.
The spacer is a flat spacer having a thickness of 200 μm and a height of 1.8 mm made of glass.
A film having a small secondary electron emission efficiency and a high resistance (in this embodiment, C
(using rOx).

【0065】・工程−6(フェースプレートと金属部材
の接合):図8の(a)に示すように、前記スペーサ接
合したフェースプレートと前記フェースプレート用金属
部材とを所定の位置に配設し、加圧加熱することで、フ
リットガラスを介して接合した。この接着は410℃で
行ない、実施例1と同様に、金属部材が極力撓まないよ
うに均一加圧した。
Step-6 (Joining of the face plate and the metal member): As shown in FIG. 8A, the face plate and the metal member for the face plate which are joined by the spacer are arranged at predetermined positions. By heating under pressure, they were joined via the frit glass. This bonding was performed at 410 ° C., and a uniform pressure was applied so that the metal member was not bent as much as possible in the same manner as in Example 1.

【0066】・工程−7(リアプレートと支持枠、金属
部材の接合):同様に、図8の(a)に示すように、前
記リアプレートと前記支持枠と前記リアプレート用金属
部材とを所定の位置に配設し、工程−6と同様に、加圧
加熱することで、フリットガラスを介して、各々を接合
した。接着は410℃で行なった。
Step-7 (Joining the rear plate, the support frame, and the metal member): Similarly, as shown in FIG. 8A, the rear plate, the support frame, and the rear plate metal member are connected to each other. They were arranged at predetermined positions, and each was joined through a frit glass by applying pressure and heating in the same manner as in Step-6. Bonding was performed at 410 ° C.

【0067】・工程−8(ビーム溶接による封着):図
8の(b)に示すように、フェースプレート部およびリ
アプレート部を位置合わせし、重ね合わせた後、レーザ
ービームを金属部材の貼り合わせ部に照射し、連続的に
縁に沿って、溶接を行った。
Step-8 (sealing by beam welding): As shown in FIG. 8B, after the face plate portion and the rear plate portion are aligned and overlapped, a laser beam is attached to a metal member. The joint was irradiated and welded continuously along the edge.

【0068】本発明では、このように、フェースプレー
トとリアプレートとを位置合わせし、重ね合わせた後
は、リアプレートとスペーサとの間に隙間(本実施例で
は、100μmに設定)が生じているので、フェースプ
レート上方より荷重を加えることにより、容易に金属部
材の貼り合わせ部に隙間を生じないようにすることがで
きた。なお、本実施例では、炭酸ガスレーザーを用い
て、溶接を行った。
In the present invention, after the face plate and the rear plate are positioned and overlapped, a gap (set to 100 μm in the present embodiment) is generated between the rear plate and the spacer. Therefore, by applying a load from above the face plate, it was possible to easily prevent a gap from being generated in the bonded portion of the metal member. In this example, welding was performed using a carbon dioxide laser.

【0069】・工程−9:図8の(c)に示すように、
完成した画像形成装置内の雰囲気を、真空ポンプにて、
排気管(図示せず)を通じて、排気し、十分な真空度に
達した後、画像形成装置外端子(図示せず)を通じて、
電子放出素子に電圧を印加し、電子放出部を、導電性薄
膜のフォーミング工程、活性化工程を経て、作成した。
さらに、一連の工程を終了した後、250℃で、10時
間ベーキングを行った。
Step-9: As shown in FIG. 8C,
The atmosphere in the completed image forming apparatus is
After exhausting through an exhaust pipe (not shown) and reaching a sufficient degree of vacuum, through an external terminal (not shown) of the image forming apparatus,
A voltage was applied to the electron-emitting device, and an electron-emitting portion was formed through a conductive thin film forming step and an activation step.
Furthermore, after a series of steps was completed, baking was performed at 250 ° C. for 10 hours.

【0070】・工程−10:次に、排気管(図示せず)
をガスバーナーで熱することで溶着し、画像形成装置の
封止を行った。そして、最後に、封止後の真空度を維持
するために、高周波加熱法でゲッター処理を行った。そ
して、実施例1で説明した作成方法を用いて、画像形成
装置を作成した。
Step-10: Next, an exhaust pipe (not shown)
Were welded by heating with a gas burner, and the image forming apparatus was sealed. Finally, gettering was performed by a high-frequency heating method in order to maintain the degree of vacuum after sealing. Then, an image forming apparatus was created using the creation method described in the first embodiment.

【0071】本実施例では、組立時にリアプレートとス
ペーサとの間に隙間が生じているので、フェースプレー
トとリアプレートとの位置決めを行う際に、スペーサに
より、電子放出素子群(電子放出素子、素子電極及び配
線等)を傷付けることなく、位置決めを行うことができ
た。
In this embodiment, since a gap is formed between the rear plate and the spacer at the time of assembling, when positioning the face plate and the rear plate, the spacer causes the electron-emitting device group (electron-emitting device, Positioning could be performed without damaging the device electrodes and wiring).

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明の画像形成装置の構成によれば、
スペーサの高さが支持部材により規定される背面板と前
面板との間隔よりも短いため、画像形成装置内を真空に
引いた際に金属部材に大気圧が作用せず、接着部の剥
離、マイクロクラックなどの発生を避けることができ
る。また、組立時に、スペーサによる画像形成部材、電
子放出素子群(電子放出素子、素子電極及び配線など)
を傷つけずに位置合わせができる。そのために、歩留ま
りの高い画像形成装置を提供することができる。
According to the structure of the image forming apparatus of the present invention,
Because the height of the spacer is shorter than the distance between the back plate and the front plate defined by the support member, when the inside of the image forming apparatus is evacuated, the atmospheric pressure does not act on the metal member, and the peeling of the adhesive portion, The occurrence of microcracks and the like can be avoided. Also, at the time of assembly, an image forming member and an electron-emitting device group (electron-emitting device, device electrode, wiring, etc.) using spacers
Can be positioned without damaging the camera. Therefore, an image forming apparatus with a high yield can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の画像形成装置の構成を示した図であ
る。
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of an image forming apparatus of the present invention.

【図2】本発明の画像形成装置の部分拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of the image forming apparatus of the present invention.

【図3】実施例1、2で用いた冷陰極の表面伝導型電子
放出素子を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a cold cathode surface conduction electron-emitting device used in Examples 1 and 2.

【図4】実施例1、2で用いた蛍光膜の例を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a fluorescent film used in Examples 1 and 2.

【図5】本発明の画像形成装置の作成方法を示した図で
ある。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method for producing the image forming apparatus of the present invention.

【図6】本発明の画像形成装置の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the image forming apparatus of the present invention.

【図7】実施例2の画像形成装置の部分拡大図である。FIG. 7 is a partially enlarged view of an image forming apparatus according to a second embodiment.

【図8】実施例2の画像形成装置の作成方法を示した図
である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a method for creating the image forming apparatus according to the second embodiment.

【図9】従来例を示した図である。FIG. 9 is a diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フェースプレート(前面板) 2 リアプレート(背面板) 3 支持枠 4−1,4−2 金属部材 5 スペーサ(耐大気圧支持部材) 6 接着材 7 画像形成部材 8 電子放出部 31 基板 32,33 素子電極 34 導電性薄膜 35 電子放出部 60 スペーサ 61 表面伝導型電子放出素子 62 上配線 63 下配線 64 リアプレート 65 支持枠 66 ガラス基板 67 蛍光体 68 メタルバック 69 フェースプレート REFERENCE SIGNS LIST 1 face plate (front plate) 2 rear plate (rear plate) 3 support frame 4-1, 4-2 metal member 5 spacer (atmospheric pressure-resistant support member) 6 adhesive 7 image forming member 8 electron emission section 31 substrate 32 Reference Signs List 33 element electrode 34 conductive thin film 35 electron emitting portion 60 spacer 61 surface conduction electron emitting element 62 upper wiring 63 lower wiring 64 rear plate 65 support frame 66 glass substrate 67 phosphor 68 metal back 69 face plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林田 松也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 ▲高▼橋 宣之 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 5C032 AA01 BB16 BB18 CC10 CD04 5C036 EE17 EF01 EF06 EF09 EG01 EG05 EH01 EH23 5C094 AA32 AA42 AA43 BA21 CA19 EC04 FA02 FB02 FB15 FB20 JA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Matsuya Hayashida 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor ▲ Taka ▼ Nobuyuki Bridge 3-30 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo No.2 Canon Corporation F term (reference) 5C032 AA01 BB16 BB18 CC10 CD04 5C036 EE17 EF01 EF06 EF09 EG01 EG05 EH01 EH23 5C094 AA32 AA42 AA43 BA21 CA19 EC04 FA02 FB02 FB15 FB20 JA08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面基板上に形成された複数の電子放出
素子を有し、周縁部に第1の金属部材を接着している背
面板と、 該背面板と対向するように配置されると共に前記電子放
出素子から放出される電子線の照射により画像が形成さ
れる画像形成部材を搭載し、前記周縁部に対向する周縁
部に第2の金属部材を接着している前面板と、 前記背面板と前面板との間にあって両者の周縁を包囲す
ると共に両者の間隔を規定する支持部材と、 耐大気圧支持構造として前記背面板と前面板との間に配
されたスペーサとを、少なくとも具備する画像形成装置
において、 前記スペーサの高さは、前記支持部材により規定される
前記背面板と前面板との間隔よりも短く、前記スペーサ
の少なくとも一端が、前記背面板もしくは前面板に固定
されていることを特徴とする画像形成装置。
A back plate having a plurality of electron-emitting devices formed on a flat substrate and having a first metal member adhered to a peripheral portion thereof; a back plate disposed to face the back plate; A front plate on which an image forming member on which an image is formed by irradiation of an electron beam emitted from the electron-emitting device is mounted, and a second metal member is adhered to a peripheral portion facing the peripheral portion; A support member is provided between the face plate and the front plate, surrounding the peripheral edges of the two and defining the space therebetween, and at least a spacer disposed between the back plate and the front plate as an atmospheric pressure resistant support structure. In the image forming apparatus, the height of the spacer is shorter than the distance between the back plate and the front plate defined by the support member, and at least one end of the spacer is fixed to the back plate or the front plate. Being An image forming apparatus comprising.
【請求項2】 前記支持部材により規定される前記背面
板と前面板との間隔と、前記スペーサの高さとの差は、
50〜500μmの範囲にあることを特徴とする請求項
1に記載の画像形成装置。
2. The difference between the distance between the back plate and the front plate defined by the support member and the height of the spacer is:
2. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the distance is in a range of 50 to 500 [mu] m.
【請求項3】 前記金属部材と、前記背面板及び前面板
との熱膨張率の差が、10%以内であることを特徴とす
る請求項1あるいは2に記載の画像形成装置。
3. The image forming apparatus according to claim 1, wherein a difference in a coefficient of thermal expansion between the metal member and the rear plate and the front plate is within 10%.
【請求項4】 前記金属部材と、前記背面板又は前面板
の接合に、低融点ガラスを用いることを特徴とする請求
項1あるいは2に記載の画像形成装置。
4. The image forming apparatus according to claim 1, wherein a low melting point glass is used for joining the metal member and the back plate or the front plate.
【請求項5】 前記背面板に形成された複数の電子放出
素子が、冷陰極電子放出素子であることを特徴とする請
求項1〜4の何れか1項に記載の画像形成装置。
5. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the plurality of electron-emitting devices formed on the back plate are cold cathode electron-emitting devices.
【請求項6】 前記画像形成部材が、蛍光体であること
を特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の画像形
成装置。
6. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the image forming member is a phosphor.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007026853A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Hitachi Displays Ltd Image display device
JP2007128852A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Samsung Sdi Co Ltd Vacuum vessel and electron emission display device
JP2010073542A (en) * 2008-09-19 2010-04-02 Sony Corp Flat-surface display and spacer
WO2013172034A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass
WO2013172033A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007026853A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Hitachi Displays Ltd Image display device
JP2007128852A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Samsung Sdi Co Ltd Vacuum vessel and electron emission display device
JP4502981B2 (en) * 2005-10-31 2010-07-14 三星エスディアイ株式会社 Vacuum container and electron emission display
JP2010073542A (en) * 2008-09-19 2010-04-02 Sony Corp Flat-surface display and spacer
JP5821011B2 (en) * 2012-05-18 2015-11-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Method for producing double-glazed glass
WO2013172033A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass
CN104302593A (en) * 2012-05-18 2015-01-21 松下知识产权经营株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass
CN104302592A (en) * 2012-05-18 2015-01-21 松下知识产权经营株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass
WO2013172034A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing multiple-pane glass
JP5821010B2 (en) * 2012-05-18 2015-11-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Method for producing double-glazed glass
JP5875020B1 (en) * 2012-05-18 2016-03-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Multi-layer glass manufacturing method and multi-layer glass
JP2016029020A (en) * 2012-05-18 2016-03-03 パナソニックIpマネジメント株式会社 Production method of multiple pane
CN104302592B (en) * 2012-05-18 2017-03-29 松下知识产权经营株式会社 The preparation method of compound glass
US10024098B2 (en) 2012-05-18 2018-07-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Production method of multiple panes
US10036194B2 (en) 2012-05-18 2018-07-31 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Production method of multiple panes
US10808453B2 (en) 2012-05-18 2020-10-20 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Production method of multiple panes
US11021906B2 (en) 2012-05-18 2021-06-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Production method for forming multiple pane and multiple panes

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