WO2025200413A1 - 复合材料及其制备方法和应用 - Google Patents

复合材料及其制备方法和应用

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刘明川
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Definitions

  • the present disclosure relates to the field of film coating, and in particular to a composite material and a preparation method and application thereof.
  • Stainless steel has good chemical stability and can be directly processed by PVD (Physical Vapor Deposition).
  • PVD Physical Vapor Deposition
  • aluminum alloys it is generally necessary to form a layer of aluminum oxide film on the surface of the aluminum substrate.
  • the purpose of the present disclosure is to overcome the problems existing in the above-mentioned related technologies and provide a composite material with good wear resistance and corrosion resistance.
  • the first aspect of the present disclosure provides a composite material, which includes a substrate and an anodized film layer, a basic coating layer, a functional coating layer and a color coating layer arranged on a surface of the substrate in sequence from the inside to the outside, the functional coating layer including a plurality of first functional coating layers and a plurality of second functional coating layers arranged alternately; a first functional coating layer in the plurality of first functional coating layers and a second functional coating layer in the plurality of second functional coating layers meet one of the following conditions: the metal element in the first functional coating layer is different from the metal element in the second functional coating layer; or, the first functional coating layer contains a metal element and the second functional coating layer does not contain a metal element; the metal element is selected from one or more of Group IVB metals, Group VB metals, Group VIB metals and Group IVA metals.
  • the number of layers of the plurality of first functional coating layers and the number of layers of the plurality of second functional coating layers are each independently 2-10 layers.
  • the number of layers of the plurality of first functional coating layers and the number of layers of the plurality of second functional coating layers are each independently 3-8 layers.
  • the first functional coating layer and the second functional coating layer satisfy at least one of the following conditions: a thickness of the first functional coating layer is 100-300 nm; or a thickness of the second functional coating layer is 50-150 nm.
  • the first functional coating layer includes a first element and a second element, the first element is selected from at least one of Cr, Ti, Zr, W, Nb, Mo, Ta or Ge, and the second element is selected from at least one of C or N.
  • the first element in the first functional coating layer is partially or entirely the same as an element in the basic coating layer.
  • the first functional coating layer further contains O element.
  • the anodized film layer satisfies at least one of the following: the anodized film layer has a porous structure; the pore size of the pores in the anodized film layer is 15-35 nm; the porosity of the anodized film layer is 10%-20%; or the thickness of the anodized film layer is 5-15 ⁇ m.
  • the substrate is an aluminum alloy; and the element of the base coating is selected from at least one of Cr, Ti, Zr, W, Nb, Mo, Ta, or Ge.
  • the color coating includes a third element and an optional fourth element, the third element is selected from at least one of Cr, Ti, W, or Si, and the fourth element includes at least one of C or N.
  • the base coating layer satisfies at least one of the following conditions: the thickness of the base coating layer is 100-300 nm; or the thickness of the color coating layer is 300-800 nm.
  • the composite material of this embodiment includes an aluminum alloy substrate and an anodic oxide film layer, a basic coating layer, a functional coating layer and a color coating layer arranged on one surface of the substrate from the inside to the outside;
  • the functional coating layer includes five layers of first functional coating layers (TiN layers) and five layers of second functional coating layers ( Al2O3 layers ) arranged alternately.
  • the aluminum alloy substrate was washed, degreased, and neutralized in sequence, and then the cleaned aluminum alloy substrate was placed in 125g/L sulfuric acid and oxidized at 8V for 45 minutes, washed with water for 180 seconds, and then placed in a 6wt% phosphoric acid solution for pore expansion for 5 minutes.
  • the expanded aluminum alloy substrate was baked at 80°C for 30 minutes; the aluminum oxide film obtained by anodization had a thickness of 10 ⁇ m, a micropore diameter of 25nm, and a porosity of 10%;
  • Ti layer a base coating (Ti layer) on the surface of the aluminum oxide film layer of the aluminum alloy substrate.
  • the thickness of the Ti layer is 150 nm;
  • TiN layer The thickness of the TiN layer was 150 nm.
  • the second functional coating layer (Al 2 O 3 layer) on the surface of the first functional coating layer.
  • the thickness of the Al 2 O 3 layer is 75 nm.
  • steps (4) and (5) five times in sequence to alternately stack the first functional coating layer and the second functional coating layer; then, introduce argon gas into the vacuum furnace, turn on the sputtering power supply of the Cr target and the Ti target, and deposit a color coating layer (CrTi layer) on the surface of the second functional coating layer.
  • the thickness of the CrTi layer is 550 nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in embodiment 1, except that: the basic coating layer is a Cr layer; the first functional coating layer is a CrN layer, and the thickness of the CrN layer is 120 nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the thickness of the anodic oxide film layer is 15 ⁇ m.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the functional coating includes two first functional coating layers of TiN layers and two second functional coating layers of Al2O3 layers arranged alternately, and the thickness of the first functional coating layer TiN layer is 400nm, and the thickness of the second functional coating layer Al2O3 layer is 100nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the functional coating includes three first functional coating layers of TiN and three second functional coating layers of Al2O3 arranged alternately ; the thickness of the first functional coating layer of TiN is 300nm, and the thickness of the second functional coating layer of Al2O3 is 150nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in embodiment 1, except that the functional coating layer includes 8 layers of first functional A TiN layer and 8 second functional coating layers of Al 2 O 3 can be plated, and the thickness of the first functional coating layer CrN layer is 150 nm, and the thickness of the second functional coating layer Al 2 O 3 layer is 75 nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the functional coating layer includes 10 first functional coating layers of TiN and 10 second functional coating layers of Al 2 O 3 arranged alternately, and the thickness of the first functional coating layer of TiN is 100 nm, and the thickness of the second functional coating layer of Al 2 O 3 is 50 nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the functional coating layer includes four first functional coating layers of TiN and four second functional coating layers of Al2O3 , which are alternately arranged.
  • the thickness of the first functional coating layer of TiN is 100 nm
  • the thickness of the second functional coating layer of Al2O3 is 175 nm.
  • the method for preparing the composite material in this embodiment is the same as that in Example 1, except that the second functional coating is a SiO2 layer; the color coating is a CrCN layer; the thickness of the second functional coating is 75 nm, and the thickness of the color coating is 550 nm.
  • the method for preparing the composite material in this comparative example is the same as that in Example 1, except that the functional coating layer of the composite material is a TiN layer, and the thickness of the TiN layer is 1125 nm.
  • the method for preparing the composite material in this comparative example is the same as that in Example 1, except that the functional coating layer of the composite material is a CrN layer, and the thickness of the CrN layer is 1200 nm.
  • the composite material samples prepared in Examples 1-9 and Comparative Examples 1-2 were subjected to performance tests, including a water boiling test, an artificial sweat test, a salt spray test, and a vibration wear test.
  • the 100-grid test for composite materials is conducted in accordance with GB/T 9286-2021.
  • the 100-grid test is conducted at a temperature of 23 ⁇ 2°C and a relative humidity of 50 ⁇ 5%.
  • Test conditions A grid of 10 x 10 continuous 1mm x 1mm squares is drawn on the composite material sample at 1mm intervals. Each grid line extends to the substrate, and the gridded area is clean. A section of tape approximately 75mm long is applied to the gridded area (pressure-sensitive adhesive tape), with the tape extending at least 20mm beyond the grid line to ensure effective contact between the tape and the sample coating. Allow the tape to stand for 3 minutes. Holding the dangling end of the tape, hold it at a 60° angle to the sample as much as possible and gently peel it off within 0.5-1.0 seconds. The film shedding condition is then inspected and the result is assessed on a scale of 0 to 5.
  • Preparation method of artificial sweat 1L of water, 19.5g of 85% lactic acid, 5 ⁇ 0.01g of urea, 20 ⁇ 0.01g of sodium chloride, 17.50 ⁇ 0.01g of NH 4 Cl and 2.62g of anhydrous acetic acid were stirred evenly, and sodium hydroxide powder was added to make the pH value of the solution reach 4.7.
  • Test conditions Before the test, check the appearance of the sample and wipe the surface of the sample clean. Then, place the composite material sample in the test machine at a 45-degree angle to the horizontal plane, with half of the sample facing up and half facing up.
  • the conditions of a single test cycle include: temperature of 35 ⁇ 2°C, humidity of more than 85%, and continuous salt spraying of the composite material with a NaCl solution with a pH value of 6.8 and a concentration of 5wt% for 24 hours. Take a portion of the sample facing up and the sample facing up at room temperature for 2 hours, then check the appearance of the sample. The remaining samples are placed at 40°C and 95% humidity for 168 hours, then restored to room temperature for 2 hours, and the test surface is checked.
  • Test conditions Before testing, check the appearance of the sample and wipe the surface clean; heat pure water to 100°C and place the sample in a water bath, ensuring that the sample does not overlap, collide, or directly contact the heating rod; the water bath time is 180 minutes. After the test is completed, cool naturally to room temperature; inspect the appearance of the sample, and then perform the adhesion test in accordance with the above-mentioned item (1). Record the maximum time that the sample's appearance has no obvious corrosion, blistering, pitting, cracking, deformation, or other adverse changes, as well as the maximum water boiling (100°C) treatment time that the sample reaches level 1 or below in the 100-grid test.
  • Vibration wear tester R180/530TE30 (equipment frequency: 50 ⁇ 0.5HZ, amplitude 1.65 ⁇ 0.1mm).
  • the volume ratio of mixed abrasive 15L: RKF10K (yellow cylinder) and RKK15P (green cone) is 3:1.
  • Rosler FC120 Rosler FC120.
  • the detergent (FC120) used in the test was diluted with water at a dilution ratio of 1:50 (volume ratio).
  • the standards for wear levels 0-2 are:
  • Level 1 The specimen has no major surface wear, with only minor scratches and wear visible on the composite film layer at the corners and ridges. However, the wear does not expose the base material, and the area of a single scratch is less than 1 mm2 .
  • Level 2 A small amount of point wear occurs on the large surface of the specimen, with the largest single wear area less than 1mm2 , or wear-through occurs at the edges and corners (exposing the base material), with the largest wear-through line width less than 1mm.
  • the composite materials provided in some embodiments of the present disclosure have good bonding strength between the film layer and the substrate, and have excellent wear resistance and corrosion resistance.
  • the overall performance of the film layer is related to the thickness of the first functional coating layer and the second functional coating layer.
  • the first functional coating layer has a suitable thickness, which is beneficial to improving its bonding strength with the base coating layer; the second functional coating layer with a suitable thickness can increase the overall resistance and hardness of the film layer and improve the wear resistance of the film layer.

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Abstract

本发明涉及一种复合材料及其制备方法和应用，所述复合材料包括基材以及由内至外依次设置于所述基材的一个表面上的阳极氧化膜层、基础镀层、功能镀层和颜色镀层，所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同，或者，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素。其中，所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。

Description

复合材料及其制备方法和应用
本申请要求于2024年03月29日提交的、申请号为202410396077.9的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本公开涉及镀膜领域，尤其是涉及一种复合材料及其制备方法和应用。
背景技术
随着手机等智能电子产品以及其他领域的发展，对不锈钢和铝合金等金属产品的需求不断增长，不锈钢的化学稳定性较好，可以直接进行PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)加工，而对于铝合金，一般需要在铝基材的表面形成一层氧化铝膜。
公开内容
本公开的目的在于克服上述相关技术中存在的问题，提供一种耐磨和耐腐蚀性能好的复合材料。
为了实现上述目的，本公开的第一方面提供了一种复合材料，所述复合材料包括基材以及由内至外依次设置于所述基材的一个表面上的阳极氧化膜层、基础镀层、功能镀层和颜色镀层，所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同；或者，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
在一些实施例中，所述多个第一功能镀层的层数和所述多个第二功能镀层的层数各自独立地为2-10层。
在一些实施例中，所述多个第一功能镀层的层数和所述多个第二功能镀层的层数各自独立地为3-8层。
在一些实施例中，所述第一功能镀层与所述第二功能镀层满足如下至少之一：所述第一功能镀层的厚度为100-300nm；或者所述第二功能镀层的厚度为50-150nm。
在一些实施例中，所述第一功能镀层包括第一元素和第二元素，所述第一元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，所述第二元素选自C或N中的至少一种。
在一些实施例中，所述第一功能镀层中的所述第一元素与所述基础镀层的元素部分相同或全部相同。
在一些实施例中，所述第一功能镀层中还含有O元素。
在一些实施例中，所述第二功能镀层选自氧化铝层、氧化硅层和氮化硅层中的一种或多种。
在一些实施例中，所述阳极氧化膜层满足如下至少之一：所述阳极氧化膜层具有多孔结构；所述阳极氧化膜层中孔的孔径为15-35nm；所述阳极氧化膜层的孔隙率为10％-20％；或者所述阳极氧化膜层的厚度为5-15μm。
在一些实施例中，所述基材为铝合金；所述基础镀层的元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种。
在一些实施例中，所述颜色镀层包括第三元素和选择性的第四元素，所述第三元素选自Cr、Ti、W或Si中的至少一种，所述第四元素包括C或N中的至少一种。
在一些实施例中，所述基础镀层满足如下至少之一：所述基础镀层的厚度为100-300nm；或者所述颜色镀层的厚度为300-800nm。
在一些实施例中，所述复合材料的抗磨损性能满足下列要求的至少一种：在振动磨损测试中，磨损测试结果在1级以下的最大振动磨损时间为4小时以上；或者所述复合材料的耐腐蚀性能满足下列子要求的至少一种：在水煮测试中，划格测试结果为1级以下的最大水煮处理时间为1.5小时以上；在中性盐雾测试中，划格测试结果为1级以下的最大中性盐雾处理时间为48小时以上；或者在人工汗测 试中，划格测试结果为1级以下的最大人工汗处理时间为96小时以上。
本公开的第二方面提供了一种制备复合材料的方法，该方法包括：在基材上进行阳极氧化，得到附着有阳极氧化膜层的基材；在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行物理气相沉积；所述物理气相沉积包括以下步骤：在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行第一磁控溅射，以在所述阳极氧化膜层的表面沉积基础镀层；在所述基础镀层上多次交替进行第二磁控溅射和第三磁控溅射，以在所述基础镀层的表面沉积功能镀层；所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；在所述功能镀层的表面进行第四磁控溅射，以在所述功能镀层的表面沉积颜色镀层；所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同，或者，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
在一些实施例中，所述阳极氧化包括以下步骤：在硫酸溶液中，采用石墨为阴极，以所述基材为阳极进行阳极氧化处理，得到附着有所述第一阳极氧化膜层的基材。
在一些实施例中，阳极氧化处理的时间为30-60min；电压为8-15V；硫酸浓度为100-200g/L。
在一些实施例中，所述阳极氧化还包括：将附着有所述第一阳极氧化膜层的基材置于磷酸溶液中进行扩孔处理，得到形成有第二阳极氧化膜层的基材。
在一些实施例中，磷酸溶液的浓度为3-10wt％；扩孔处理的时间为2-10min。
在一些实施例中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为2-10次。
在一些实施例中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为3-8次。
在一些实施例中，所述第一磁控溅射、所述第二磁控溅射、所述第三磁控溅射和所述第四磁控溅射满足如下至少之一：所述第一磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种；所述第二磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，反应气体为氮气和乙炔中的一种；所述第三磁控溅射的条件包括：靶材为Al和Si中的一种；反应气体为氧气和氮气中的一种；或者所述第四磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、W或Si中的至少一种；反应气体为氮气或乙炔中的至少一种。
在一些实施例中，所述第一功能镀层的金属元素与所述基础镀层的金属元素部分相同或完全相同。
本公开的第三方面提供了一种壳体，该壳体包括本公开第一方面提供的复合材料。
本公开的第四方面提供了一种电子设备，该电子设备包括本公开第三方面提供的壳体。
通过上述技术方案，本公开的复合材料通过交替设置多个第一功能镀层和第二功能镀层，增大了功能镀层的纵向阻值，减弱了腐蚀测试时发生原电池腐蚀，同时又不影响膜层的原有性能；交替设置的第一功能镀层和第二功能镀层使得功能镀层的致密性得到了提高，减少了膜层的缺陷，增强了复合材料耐腐蚀的性能。与此同时，通过在基材表面先设置表面自生长形成的阳极氧化膜层，阳极氧化膜层与基材之间的热膨胀系数差别小，增强了膜层整体与基材的结合力，可以更好地配合基础镀层、功能镀层和颜色镀层，提高了复合材料的抗磨损性能。
本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：
图1是本公开提供的一些实施例的复合材料的局部结构的截面图。
附图标记：
1、基材；2、阳极氧化膜层；3、基础镀层；4、功能镀层；41、第一功能镀层；42、第二功能镀层；
5、颜色镀层。
具体实施方式
以下对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。
目前，铝合金等基材的表面一般设置三层镀膜，相关技术公开了一种铝材真空镀膜，其铝材本体的表面由内向外依次镀有三层膜，第一层为氧化铝膜，第二层为由金属铬和钛组成的钛铬膜，第三层膜为氮化钛膜或碳化钛膜。该镀膜方法利用具有超硬特性的氧化铝作为纯铝材制品的基础层，再用真空镀膜镀上钛铬膜层、氮化钛膜或碳化钛膜层，使镀膜基材具有耐磨损、抗腐蚀和多种装饰色彩的效果。然而这种膜层结构存在以下缺陷：第一、由于镀层和金属硬度热胀系数差别较大，采用真空镀膜的方式在金属表面制备氧化铝膜层导致膜层的附着力较差；第二、第二层镀层为铬和钛金属单层膜，由于镀层的结构单一，腐蚀性测试时腐蚀液渗入可能会腐蚀基材，且膜层金属电阻率低，极易与铝基材通过腐蚀液连通，发生原电池腐蚀，进而导致镀膜基材的整体抗腐蚀性能较差。
本公开实施例的第一方面提供了一种复合材料，所述复合材料包括基材以及由内至外依次设置于所述基材的一个表面上的阳极氧化膜层、基础镀层、功能镀层和颜色镀层；所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同，以及，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
在本公开的一些实施例中，通过交替设置第一功能镀层和第二功能镀层，增大了功能镀层的纵向阻值，减弱了腐蚀测试时发生的原电池腐蚀，同时又不影响膜层的原有性能；交替设置的第一功能镀层和第二功能镀层使得功能镀层的致密性得到了提高，减少了膜层的缺陷，增强了复合材料耐腐蚀的性能。与此同时，通过在基材表面先设置表面自生长形成的阳极氧化膜层，阳极氧化膜层与基材之间的热膨胀系数差别小，增强了膜层整体与基材的结合力，可以更好地配合基础镀层、功能镀层和颜色镀层，提高了复合材料的抗磨损性能。
参见图1，图1为本公开一些实施例的复合材料的局部结构的截面图，复合材料包括基材1以及形成于基材表面的阳极氧化膜层2，阳极氧化膜层2的表面通过磁控溅射依次形成有基础镀层3、功能镀层4和颜色镀层5，功能镀层4包括交替设置的2-10层的第一功能镀层41和第二功能镀层42。
在本公开的一些实施例中，所述多个第一功能镀层的层数和所述多个第二功能镀层的层数各自独立地为2-10层。在本公开的一些实施例中，“交替设置”可以理解为第一功能镀层41和第二功能镀层42依次叠加设置，例如，第一功能镀层41层叠于基础镀层3之上，第二功能镀层42层叠第一功能镀层41之上，如此第一功能镀层41和第二功能镀层42各自的层数为1层。在前述基础上，再在第二功能镀层42之上层叠一层第一功能镀层41，并在第一功能镀层41之上层叠一层第二功能镀层42，则第一功能镀层41和第二功能镀层42的层数各自为2层；以此类推，可以根据所需要达到的效果各自设置2-10层的第一功能镀层41和第二功能镀层42。
在一些实施例中，第一功能镀层和第二功能镀层各自的层数可以为2层、3层、4层、5层、6层、7层、8层、9层或10层。这样，能够简化功能镀层的结构，通过将第一功能镀层和第二功能镀层交替层叠上述层数，提高了功能镀层的致密性，减少了膜层的缺陷，从而提高了膜层的抗腐蚀性能。在一些实施例中，第一功能镀层和第二功能镀层各自的层数独立地为3-8层。通过将第一功能镀层和第二功能镀层交替层叠设置3-8次，既能够增大膜层本身的纵向电阻值，提高复合材料的抗腐蚀性能，又能够有效减少复合材料的整体厚度。
在本公开的一些实施例中，基材1可以为铝合金，相应地，阳极氧化膜层2为通过阳极氧化方法生长于所述铝合金表面的氧化铝膜层。
在本公开的一些实施例中，阳极氧化膜层2具有多孔结构。例如，所述阳极氧化膜层的孔隙率可以为10％-20％，所述阳极氧化膜层中孔的孔径可以为15-35nm，所述阳极氧化膜层的厚度可以为5-15μm。具有上述结构的阳极氧化膜层与基材以及基础镀层的结合效果好，耐磨性能好，且不影响复合材料的外观和金属质感。
在本公开的一些实施例中，基础镀层3的元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种。例如，基础镀层选自Cr、Ti、W或Nb中的至少一种，例如基础镀层3可以为Cr层、Ti层、W层、Nb层或CrTi层。基础镀层3置于阳极氧化膜层2与功能镀层4之间，用于增加功能镀层4与阳极氧化膜层2之间的附着力，采用这些材料制成的基础镀层3可以有效避免复合材料的膜层从基材的表面脱落，从而提高了复合材料的耐磨性能。
在本公开的一些实施例中，基础镀层3的厚度为100-300nm。例如，基础镀层的厚度可以为100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、170nm、180nm、190nm、200nm、210nm、220nm、240nm、260nm、280nm、300nm或前述范围内的任意数值。基础镀层3的厚度适中，不仅有利于增强功能镀层4与阳极氧化膜层2之间的附着力，还有利于减小复合材料的整体厚度。
在本公开的一些实施例中，第一功能镀层41包括第一元素和第二元素，所述第一元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，所述第二元素选自C或N中的至少一种。第一元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，可以提高膜层的耐磨和耐腐蚀性能。例如，第一元素选自Cr、Ti、W或Nb中的至少一种，例如第一功能镀层41可以为CrC层、CrN层、TiC层、TiN层、CrTiWC层或CrTiWN层。第一功能镀层与基础镀层之间的附着力好，且能够与颜色镀层过渡，从而使复合材料的表面呈现均匀的颜色。
在本公开的一些实施例中，第一功能镀层41的厚度为100-300nm。例如，第一功能镀层41的厚度可以为100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、170nm、180nm、190nm、200nm、210nm、220nm、240nm、260nm、280nm、300nm或前述范围内的任意数值。这样，在实现复合材料的抗腐蚀性能、耐磨性能的同时，第一功能镀层的不仅与基础镀层具有较好的附着力，与颜色镀层配合呈现视觉感官好的效果，还有利于控制复合材料的整体厚度。
在本公开中，循环交替层叠的各第一功能镀层41的第一元素和第二元素可以相同也可以不同。例如，为了降低工艺难度，各第一功能镀层41的第一元素和第二元素相同。
在一些实施例中，基于节约成本和降低工艺难度，所述第一元素与所述基础镀层中的元素相同。例如，所述第一功能镀层41中的所述第一元素与所述基础镀层3的元素部分相同或全部相同。即，第一功能镀层中的金属元素与基础镀层中的元素部分相同或全部相同，使得第一功能镀层和基础镀层的结合力增加。
在本公开的一些实施例中，所述第一功能镀层中还含有O元素。氮氧化物的电阻更大，与金属或金属化合物的结合力更好，在保持结合力的同时能够进一步提升膜层的耐腐蚀性能。通过将氮氧化物与第一功能镀层交替层叠，在保持结合力的同时进一步提升了复合材料的抗腐蚀性能。
在本公开的一些实施例中，所述第二功能镀层42选自氧化铝层、氧化硅层和氮化硅层中的一种或多种。这些材料能够满足功能镀层的硬度要求，且这些材料的前驱体容易获得。氧化铝层具有维氏硬度大以及电阻大的性质，通过采用氧化铝层以及具有类似性质的氧化硅层和氮化硅层与第一功能镀层交替层叠，进一步增大了复合膜层的纵向电阻值。循环交替层叠的各第二功能镀层的元素可以相同也可以不同。例如，为了降低工艺难度，各第二功能镀层的元素相同。
在本公开的一些实施例中，第二功能镀层42的厚度为50-150nm。例如，第二功能镀层42的厚度可以为50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm、105nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm或前述范围内的任意数值。第二功能镀层42具有较高的维氏硬度，这些厚度的第二功能镀层电阻大，有利于降低复合材料整体的厚度，同时提高复合材料的耐腐蚀性能和抗磨性能。
在本公开的一些实施例中，所述颜色镀层5包括第三元素和选择性的第四元素，所述第三元素选自Cr、Ti、W或Si中的至少一种，所述第四元素包括C或N中的至少一种。所述颜色镀层中的第三元素还有利于增强膜层间的附着力，且第三元素和第四元素配合有利于使复合材料呈现均匀的颜色。例如，颜色镀层5可以为Cr层、Ti层、W层、Si层、CrTi层、TiN层、TiCN层、CrCN层或CrSiCN层。颜色镀层用于调整复合材料的颜色，根据所需要的颜色效果，通过调整物理气相沉积的工艺过程或颜色镀层的厚度，能够使颜色镀层的颜色更加丰富，且颜色镀层和前述基础镀层、功能镀层配合，可以使复合材料呈现更加均匀的颜色。
在本公开的一些实施例中，颜色镀层的厚度为300-800nm。例如，颜色镀层的厚度可以为300nm、350nm、400nm、450nm、500nm、550nm、600nm、650nm、700nm、750nm、800nm或前述范围内的任意数值。这样，在保证复合材料耐磨、抗腐蚀和抗划伤的同时，有利于使复合材料呈现均匀的金属光泽，并能够降低颜色镀层的用料成本。
在一些实施例中，基础镀层、功能镀层和颜色镀层共同作用，不仅能够使基材表面呈现均匀的颜色，还具有较好的耐磨和耐腐蚀性。
在本公开的一些实施例中，所述复合材料的抗磨损性能满足下列要求中的至少之一：在振动磨损测试中，磨损测试结果在1级以下的最大振动磨损时间为4小时以上；或者所述复合材料的耐腐蚀性能满足下列子要求的至少一种：在水煮测试中，划格测试结果为1级以下的最大水煮处理时间为1.5小时以上；在中性盐雾测试中，划格测试结果为1级以下的最大中性盐雾处理时间为48小时以上；或者在人工汗测试中，划格测试结果为1级以下的最大人工汗处理时间为96小时以上。
所述振动磨损的操作为：将试样放入rosler振动耐磨仪中，所述rosler振动耐磨仪中还放置了磨粒、水和洗涤剂；磨粒包括3份的RKF 10K(黄色圆锥体)和1份的RKK 15P(绿色棱锥体)，总共约15L，水的量为1L，洗涤剂的量为200mL；运行过程中每半个小时添加0.5L的纯净水；每半小时后进行拍照观察。按照如下标准判定磨损测试结果的等级：0级：试样大面与边角、棱边均无明显磨损和碰伤，颜色清晰如初；1级：试样大面无磨损，仅边角棱线位置复合膜层可见细微碰伤、磨损，但磨损不露出基材，且单个碰伤面积小于1mm2；2级：试样大面出现少量点状磨损，最大单个磨损面积小于1mm2，或者边角出现磨穿(漏出基材)，最大磨穿线宽小于1mm。
水煮处理是指将试样置于100℃纯净水中加热水煮；中性盐雾处理是指35±2℃、湿度>85％条件下盐雾(NaCl溶液浓度为5wt％、pH值为6.8)喷洒24h；人工汗处理是指45℃、相对湿度95％的条件下包覆含人工汗液的材料48h，人工汗液包括：1000重量份水、85％乳酸19.5重量份、尿素5±0.01重量份、氯化钠20±0.01重量份、NH4Cl(氯化铵)17.50±0.01重量份、无水乙酸2.62重量份和适量氢氧化钠粉末，人工汗液的pH值为4.7。
划格测试按照GB/T 9286-2021进行。例如，在复合材料样品上以1mm的间距划方格，形成10×10个连续的1mm×1mm的正方形小格，每一条划线都延伸至基材，清洁划格区域。取一段长约75mm的胶带，然后在划格区域贴上胶带(压敏粘胶带)，胶带的长度至少超过网格20mm，使胶带与样品的涂层有效接触。静置3min，拿住胶带悬空的一端，尽可能与样品呈60°的角度并在1.0s内平稳地撕离胶带，检查膜层脱落状况进行结果评定。结果评定包括：0级：切口边缘完全光滑，格子边缘没有任何剥落；1级：切口相交处小片剥落，划格区内实际破损面积不超过5％；2级：切口边缘和相交处有剥落现象，划格区内实际破损面积为5％-15％。
本公开的第二方面提供了一种制备复合材料的方法，该方法包括：在基材上进行阳极氧化，得到附着有阳极氧化膜层的基材；在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行物理气相沉积；所述物理气相沉积包括以下步骤：在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行第一磁控溅射，以在所述阳极氧化膜层的表面沉积基础镀层；在所述基础镀层上多次交替进行第二磁控溅射和第三磁控溅射，以在所述基础镀层的表面沉积功能镀层；所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；在所述功能镀层的表面进行第四磁控溅射，以在所述功能镀层的表面沉积颜色镀层；所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同，或者，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
为了提高复合材料的耐腐蚀性能和基于节约成本考虑，本公开的一些实施例采用磁控溅射技术在氧化膜层的表面依次形成基础镀层、功能镀层和颜色镀层。磁控溅射技术的沉积速率，加工成本低，形成的PVD膜层与阳极氧化膜层结合较好。在本公开的一些实施例中，通过多次交替进行第二磁控溅射和第三磁控溅射，可以在第一磁控溅射形成的基础镀层上形成交替设置的第一功能镀层和第二功能镀层，以增大膜层本身的纵向电阻值，减少膜层缺陷，提高复合材料的抗腐蚀性能。
在本公开的一些实施例中，所述阳极氧化包括以下步骤：在硫酸溶液中，采用石墨为阴极，以所述 基材为阳极进行阳极氧化处理，得到附着有所述第一阳极氧化膜层的基材。
在本公开的一些实施例中，阳极氧化处理的时间为30-60min；电压为8-15V；硫酸浓度为100-200g/L。
所述阳极氧化还包括：将附着有所述第一阳极氧化膜层的基材置于磷酸溶液中进行扩孔处理，得到形成有第二阳极氧化膜层的基材。
在本公开的一些实施例中，磷酸溶液的浓度为3-10wt％；扩孔处理的时间为2-10min。通过对基材表面进行上述的阳极氧化处理，以在基材表面得到与基材的热膨胀系数差别小的阳极氧化膜，可以增强基材与基材上的复合膜层整体的结合力，提高复合材料的抗磨损性能。
在本公开的一些实施例中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为2-10次。在本公开的一些实施例中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为3-8次。
在本公开的一些实施例中，所述第一磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种。通过在阳极氧化膜上磁控溅射形成基础镀层，增加了基础镀层与阳极氧化膜的结合力，进一步增强了基材与PVD膜层之间的结合力。
在本公开的一些实施例中，所述第二磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，反应气体为氮气或乙炔。
在本公开的一些实施例中，所述第一功能镀层的金属元素与所述基础镀层的金属元素部分相同或完全相同，使得第一功能镀层和基础镀层的结合力增加。
在本公开的一些实施例中，所述第三磁控溅射的条件包括：靶材为Al或Si，反应气体为氧气或氮气。采用磁控溅射的方法形成交替设置的第一功能镀层和第二功能镀层，形成的膜层致密且均匀性好，有利于进一步提高功能镀层的耐腐蚀性能和耐磨损性能。
在本公开的一些实施例中，所述第四磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、W或Si中的至少一种；反应气体为氮气或乙炔中的至少一种。进行第四磁控溅射时，若颜色镀层中不含有C或N中的至少一种，则不通入反应气体。采用PVD工艺在功能镀层形成的颜色镀层具有硬度高的特点，且颜色镀层的耐磨损、耐腐蚀和抗划伤的性能较优。
本公开的一些实施例中，所述复合材料的制备方法包括以下步骤：
(1)将铝合金基材放入100-200g/L浓度硫酸中，并用8-15V电压氧化30-60min，水洗，然后放入浓度为3-10wt％的磷酸溶液中扩孔处理2-10min，将扩孔处理后的铝合金基材在80-120℃条件下烘烤30-40min；例如，氧化铝膜层的厚度为5-15μm，微孔孔径为15-35nm，孔隙率为10％-20％；
(2)将氧化处理后的基材置于真空炉内并抽真空，加热至80-180℃后向机台中充入氩气，打开离子源，对铝合金基材表面以及靶材表面进行离子清洗；
(3)将离子清洗后的基材置于真空炉内并抽真空，加热至60-90℃后向机台中充入氩气，同时打开Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种靶材中频溅射电源；在铝合金基材氧化铝膜层的表面沉积基础镀层，例如，基础镀层的厚度为100-300nm；
(4)向真空炉通入氩气，打开Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种靶材的中频溅射电源，通入反应气体氮气或乙炔，在基础镀层的表面沉积第一功能镀层，例如，第一功能镀层的厚度为100-300nm；
(5)向真空炉通入氩气，打开Al和Si中的一种靶材的溅射电源，通入氧气或氮气，在第一功能镀层的表面沉积第二功能镀层，例如，第二功能镀层的厚度为50-150nm；
(6)依次重复步骤(4)和步骤(5)2-10次，以交替层叠第一功能镀层和第二功能镀层，然后向真空炉通入氩气，打开Cr、Ti、W或Si中的至少一种靶材的溅射电源，以及选择性通入反应气体氮气或乙炔中的至少一种，在第二功能镀层的表面沉积颜色镀层，例如，颜色镀层的厚度为300-800nm。
在本公开的一些实施例中，对基材进行阳极氧化前可以对基材进行预处理，以去除基材表面的油污，如依次进行水洗、除油和中和等处理。
本公开的复合材料制备过程简单，可重复性高，形成的复合膜层稳定性好，可广泛应用于现代智能终端壳体结构产品中。
本公开的第三方面提供了一种壳体，该壳体包括本公开第一方面提供的复合材料。例如，所述壳体的部分或全部可以由前述复合材料构成。
本公开还提供了一种电子设备，该电子设备包括本公开第三方面提供的壳体。本公开的壳体可以应用于电子设备，例如，在本公开的一些实施例中，电子设备可以为手机、笔记本电脑、平板电脑、手表、照相机、监控设备、AR设备或者VR设备。所述壳体可以为电子设备的后盖、中框或者是其他的装饰结构。
以下通过实施例进一步详细说明本公开，但本公开并不仅限于下述实施例。
实施例1
本实施例的复合材料包括铝合金基材以及由内至外设置于基材的一个表面上的阳极氧化膜层、基础镀层、功能镀层和颜色镀层；功能镀层包括交替设置的5层第一功能镀层(TiN层)和5层第二功能镀层(Al2O3层)。
本实施例制备复合材料的方法包括以下步骤：
(1)将铝合金基材依次进行水洗、除油、中和清洗干净，然后将清洗后的铝合金基材放入125g/L浓度硫酸中并用8V电压氧化45min，水洗180s，然后放入浓度为6wt％的磷酸溶液中扩孔处理5min，将扩孔处理后的铝合金基材在80℃条件下烘烤30min；阳极氧化得到的氧化铝膜层的厚度为10μm，微孔孔径为25nm，孔隙率为10％；
(2)将氧化处理后的基材置于真空镀膜机内，对基材和靶材表面进行离子清洗；
(3)向真空炉中通入氩气，打开Ti靶材中频溅射电源，在铝合金基材氧化铝膜层的表面沉积基础镀层(Ti层)，Ti层的厚度为150nm；
(4)向真空炉通入氩气，打开Ti靶材溅射电源，然后通入反应气体氮气，在基础镀层的表面沉积第一功能镀层(TiN层)，TiN层的厚度为150nm；
(5)向真空炉通入氩气，打开Al靶材溅射电源，然后通入反应气体氧气，在第一功能镀层的表面沉积第二功能镀层(Al2O3层)，Al2O3层的厚度为75nm；
(6)依次重复步骤(4)和步骤(5)5次以交替层叠第一功能镀层和第二功能镀层；然后向真空炉通入氩气，打开Cr靶材、Ti靶材溅射电源，在第二功能镀层的表面沉积颜色镀层(CrTi层)，CrTi层的厚度为550nm。
实施例2
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：基础镀层为Cr层；第一功能镀层为CrN层，且CrN层的厚度为120nm。
实施例3
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：阳极氧化膜层的厚度为15μm。
实施例4
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：功能镀层包括交替设置的2层第一功能镀层TiN层和2层第二功能镀层Al2O3层，且第一功能镀层TiN层的厚度为400nm，第二功能镀层Al2O3层的厚度为100nm。
实施例5
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：功能镀层包括交替设置的3层第一功能镀层TiN层和3层第二功能镀层Al2O3层；且第一功能镀层TiN层的厚度为300nm，第二功能镀层Al2O3层的厚度为150nm。
实施例6
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：功能镀层包括交替设置的8层第一功 能镀层TiN层和8层第二功能镀层Al2O3层，且第一功能镀层CrN层的厚度为150nm，第二功能镀层Al2O3层的厚度为75nm。
实施例7
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：功能镀层包括交替设置的10层第一功能镀层TiN层和10层第二功能镀层Al2O3层，且第一功能镀层TiN层的厚度为100nm，第二功能镀层Al2O3层的厚度为50nm。
实施例8
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：功能镀层包括交替设置的4层第一功能镀层TiN层和4层第二功能镀层Al2O3层，且第一功能镀层TiN层的厚度为100nm，第二功能镀层Al2O3层的厚度为175nm。
实施例9
本实施例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：第二功能镀层为SiO2层；颜色镀层为CrCN层，第二功能镀层的厚度为75nm，颜色镀层的厚度为550nm。
对比例1
本对比例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：复合材料的功能镀层为TiN层，且该TiN层的厚度为1125nm。
对比例2
本对比例制备复合材料的方法与实施例1相同，区别在于：复合材料的功能镀层为CrN层，且该CrN层的厚度为1200nm。
测试实施例
分别对实施例1-9以及对比例1-2制备得到的复合材料样品进行性能测试，包括水煮测试、人工汗液测试、盐雾测试和振动磨损测试。
(1)百格测试
对复合材料的百格测试参考GB/T 9286-2021进行。百格测试在温度为23±2℃、相对湿度为50±5％的条件下进行。
测试条件：在复合材料样品上以1mm的间距划方格，形成10×10个连续的1mm×1mm的正方形小格，每一条划线都延伸至基材，清洁划格区域。取一段长约75mm的胶带，然后在划格区域贴上胶带(压敏粘胶带)，胶带的长度至少超过网格20mm，使胶带与样品的涂层有效接触。静置3min，拿住胶带悬空的一端，尽可能与样品呈60°的角度并在0.5-1.0s内平稳地撕离胶带，检查膜层脱落状况进行结果评定，结果评定包括0级至5级。
其中：
0级：切口边缘完全光滑，格子边缘没有任何剥落。
1级：切口相交处小片剥落，划格区内实际破损不超过5％。
2级：切口边缘和相交处有剥落现象，面积5％-15％。
3级：切口边缘剥落，大片整片剥落，甚至部分格子整片剥落，被剥落面积15％-35％。
4级：切口边缘大片剥落，部分格子全部剥落，被剥落面积35％-65％。
5级：超过上一个等级。
(2)人工汗液测试
测试条件：测试前检查样品外观无异常，并将样品表面擦拭干净，然后采用人工汗液浸泡后的无尘布来回擦拭(擦拭力度约3-6N)样品表面2min，之后用无尘布完全浸湿汗液后，半包裹样品(小部件完全包裹)，放入45℃、相对湿度95％的温箱中48h(单个测试循环时长)；测试结束后取出样品，水洗并在室温条件下恢复2h。然后检查样品的外观，并参照前述第(1)项进行附着力百格测试。记录样品膜层无异常、外观无明显变化(变色、锈蚀、脱落、起泡、龟裂等)进行盐雾测试的最长时间，以 及百格测试达到1级以下的最大人工汗液处理时间。
人工汗的配制方法：水1L、85％乳酸19.5g、尿素5±0.01g、氯化钠20±0.01g、NH4Cl 17.50±0.01g和无水乙酸2.62g，搅拌均匀，并加入氢氧化钠粉末使溶液pH值达到4.7。
(3)中性盐雾测试
测试条件：测试前检查样品外观，并将样品表面擦拭干净，然后将复合材料样品与水平面呈45度夹角置于测试机内，样品一半正面朝上、一半背面朝上；单个测试循环的条件包括：温度为35±2℃、湿度为85％以上，用pH值为6.8、浓度为5wt％的NaCl溶液连续对复合材料进行盐水喷雾24h。分别取一部分正面朝上和背面朝上的样品常温放置2h后检查样品外观，剩余的置于40℃，95％的湿度环境下保存168h后常温恢复2h，检查测试表面。记录样品膜层外观无异常、外观无明显变化(变色、锈蚀、脱落、起泡、龟裂等)进行盐雾测试的最长时间。并参照前述第(1)项进行附着力百格测试。记录样品百格测试达到1级以下的最大中性盐雾处理时间。
(4)水煮测试
测试条件：测试前检查样品外观，并将样品表面擦拭干净；将纯净水加热至温度100℃，将样品投入水浴锅，确保样品不叠层、碰撞也不会直接接触加热棒；水浴时间180min，试验完成后在室温条件下自然冷却恢复至室温；检验样品外观，然后参照前述第(1)项进行附着力百格测试。记录样品外观无明显腐蚀、起泡、麻点、开裂、变形等不良变化的最长时间，以及百格测试达到1级以下的最大水煮(100℃)处理时间。
(5)振动磨损测试
测试条件：
a.振动耐磨仪：R180/530TE30(设备频率：50±0.5HZ，振幅1.65±0.1mm)。
混合磨料15L：RKF10K(黄色圆柱体)和RKK15P(绿色锥体)的体积比为3：1。
洗涤剂：Rosler清洁剂FC120。测试时所使用的清洁剂(FC120)用水稀释后使用，稀释比为1：50(体积比)。
b.测试方法
向放置有磨粒的rosler振动耐磨仪中倒入1L水和200mL稀释后的洗涤剂，然后将试样放入rosler振动耐磨仪中，并保持头部朝上插入磨粒中，开启振动耐磨仪，运行过程中每半个小时添加0.5L的纯净水并调整复合材料插入磨粒的方向；每半小时后进行拍照观察。记录样品磨损等级达到1级以下的最大振动磨损处理时间。
磨损等级0-2级的标准为：
0级：试样大面与边角、棱边均无明显磨损和碰伤，颜色清晰如初。
1级：试样大面无磨损，仅边角棱线位置复合膜层可见细微碰伤、磨损，但磨损不露出基材，且单个碰伤面积小于1mm2。
2级：试样大面出现少量点状磨损，最大单个磨损面积小于1mm2，或者边角出现磨穿(漏出基材)，最大磨穿线宽小于1mm。
测试结果如表1所示。
表1

通过实施例和对比例可以看出，本公开一些实施例提供的复合材料中膜层与基材之间的结合力好，具有优异的抗磨损性能和耐腐蚀性能。
从对比例1-2和实施例可知，只设置一层功能镀层时，复合材料的耐磨损性能和耐腐蚀性能均有所下降，增加第二功能镀层Al2O3镀层后，利用Al2O3镀层维氏硬度高和电阻大的性质，复合膜层的耐腐蚀性能得到了增强。
从实施例4和实施例8可知，膜层整体的性能与第一功能镀层和第二功能镀层各自的厚度相关，第一功能镀层具有合适的厚度，有利于提高其与基础镀层的结合力；合适厚度的第二功能镀层可以增加膜层整体的电阻和硬度，提高膜层的耐磨性。
以上详细描述了本公开的一些实施方式，但是，本公开并不限于上述实施方式中的细节，在本公开的技术构思范围内，可以对本公开的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本公开的保护范围。
另外需要说明的是，在上述实施方式中所描述的各个技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本公开对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本公开的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本公开的思想，其同样应当视为本公开所公开的内容。

Claims (24)

  1. 一种复合材料，包括：基材，以及由内至外依次设置于所述基材的一个表面上的阳极氧化膜层、基础镀层、功能镀层和颜色镀层，所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；
    其中，所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：
    所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同；或者，
    所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；
    其中，所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
  2. 根据权利要求1所述的复合材料，其中，所述多个第一功能镀层的层数和所述多个第二功能镀层的层数各自独立地为2-10层。
  3. 根据权利要求2所述的复合材料，其中，所述多个第一功能镀层的层数和所述多个第二功能镀层的层数各自独立地为3-8层。
  4. 根据权利要求1所述的复合材料，其中，所述第一功能镀层与所述第二功能镀层满足如下至少之一：
    所述第一功能镀层的厚度为100-300nm；或者
    所述第二功能镀层的厚度为50-150nm。
  5. 根据权利要求1-4中任意一项所述的复合材料，其中，所述第一功能镀层包括第一元素和第二元素，所述第一元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，所述第二元素选自C或N中的至少一种。
  6. 根据权利要求5所述的复合材料，其中，所述第一功能镀层中的所述第一元素与所述基础镀层的元素部分相同或全部相同。
  7. 根据权利要求5所述的复合材料，其中，所述第一功能镀层中还含有O元素。
  8. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述第二功能镀层选自氧化铝层、氧化硅层和氮化硅层中的一种或多种。
  9. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述阳极氧化膜层满足如下至少之一：
    所述阳极氧化膜层具有多孔结构；
    所述阳极氧化膜层中孔的孔径为15-35nm；
    所述阳极氧化膜层的孔隙率为10％-20％；或者
    所述阳极氧化膜层的厚度为5-15μm。
  10. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述基材为铝合金；所述基础镀层的元素选自Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种。
  11. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述颜色镀层包括第三元素和选择性的第四元素，所述第三元素选自Cr、Ti、W或Si中的至少一种，所述第四元素包括C或N中的至少一种。
  12. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述基础镀层满足如下至少之一：
    所述基础镀层的厚度为100-300nm；或者
    所述颜色镀层的厚度为300-800nm。
  13. 根据权利要求1-4、6和7中任意一项所述的复合材料，其中，所述复合材料的抗磨损性能满足下列要求的至少一种：
    在振动磨损测试中，磨损测试结果在1级以下的最大振动磨损时间为4小时以上；或者
    所述复合材料的耐腐蚀性能满足下列子要求的至少一种：
    在水煮测试中，划格测试结果为1级以下的最大水煮处理时间为1.5小时以上；
    在中性盐雾测试中，划格测试结果为1级以下的最大中性盐雾处理时间为48小时以上；或者
    在人工汗测试中，划格测试结果为1级以下的最大人工汗处理时间为96小时以上。
  14. 一种制备复合材料的方法，包括：在基材上进行阳极氧化，得到附着有阳极氧化膜层的基材；在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行物理气相沉积；
    所述物理气相沉积包括以下步骤：
    在所述附着有阳极氧化膜层的基材上进行第一磁控溅射，以在所述阳极氧化膜层的表面沉积基础镀层；
    在所述基础镀层上多次交替进行第二磁控溅射和第三磁控溅射，以在所述基础镀层的表面沉积功能镀层；所述功能镀层包括交替设置的多个第一功能镀层和多个第二功能镀层；以及
    在所述功能镀层的表面进行第四磁控溅射，以在所述功能镀层的表面沉积颜色镀层；
    其中，所述多个第一功能镀层中的一个第一功能镀层与所述多个第二功能镀层中的一个第二功能镀层满足如下之一：所述第一功能镀层中的金属元素与所述第二功能镀层中的金属元素不同，或者，所述第一功能镀层中含有金属元素而所述第二功能镀层中不含有金属元素；
    其中，所述金属元素选自IVB族金属、VB族金属、VIB族金属、IVA族金属中的一种或几种。
  15. 根据权利要求14所述的方法，其中，所述阳极氧化包括以下步骤：
    在硫酸溶液中，采用石墨为阴极，以所述基材为阳极进行阳极氧化处理，得到附着有所述第一阳极氧化膜层的基材。
  16. 根据权利要求15所述的方法，其中，阳极氧化处理的时间为30-60min；电压为8-15V；硫酸浓度为100-200g/L。
  17. 根据权利要求15或16所述的方法，其中，所述阳极氧化还包括：将附着有所述第一阳极氧化膜层的基材置于磷酸溶液中进行扩孔处理，得到形成有第二阳极氧化膜层的基材。
  18. 根据权利要求17所述的方法，其中，磷酸溶液的浓度为3-10wt％；扩孔处理的时间为2-10min。
  19. 根据权利要求14所述的方法，其中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为2-10次。
  20. 根据权利要求19所述的方法，其中，所述多次第二磁控溅射的次数和所述多次第三磁控溅射的次数各自独立地为3-8次。
  21. 根据权利要求14所述的方法，其中，所述第一磁控溅射、所述第二磁控溅射、所述第三磁控溅射和所述第四磁控溅射满足如下至少之一：
    所述第一磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种；
    所述第二磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、Zr、W、Nb、Mo、Ta或Ge中的至少一种，反应气体为氮气和乙炔中的一种；
    所述第三磁控溅射的条件包括：靶材为Al和Si中的一种；反应气体为氧气和氮气中的一种；或者
    所述第四磁控溅射的条件包括：靶材为Cr、Ti、W或Si中的至少一种；反应气体为氮气或乙炔中的至少一种。
  22. 根据权利要求14所述的方法，其中，所述第一功能镀层的金属元素与所述基础镀层的金属元素部分相同或完全相同。
  23. 一种壳体，包括如权利要求1-13中任意一项所述的复合材料。
  24. 一种电子设备，包括权利要求23所述的壳体。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102345089A (zh) * 2010-08-05 2012-02-08 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制作方法
CN102644101A (zh) * 2012-04-27 2012-08-22 中国科学院电工研究所 一种在硅衬底上制备大孔径薄壁阳极氧化铝模板的方法
TW201506207A (zh) * 2013-08-12 2015-02-16 龍華科技大學 具耐磨潤滑特性之金屬基材及其製造方法
US20160312374A1 (en) * 2013-12-20 2016-10-27 Dublin Institute Of Technology Method for forming a multi-layer anodic coating
CN106987803A (zh) * 2017-04-27 2017-07-28 深圳金曜来科技有限公司 铝合金基材的镀膜
CN110055504A (zh) * 2019-05-24 2019-07-26 深圳金曜来科技有限公司 一种铜合金镀层及其制备方法
CN113316333A (zh) * 2021-05-24 2021-08-27 Oppo广东移动通信有限公司 电子设备壳体及其制作方法和电子设备
CN115261948A (zh) * 2021-04-30 2022-11-01 比亚迪股份有限公司 一种镀膜件及其制备方法、壳体及电子产品

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102345089A (zh) * 2010-08-05 2012-02-08 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制作方法
CN102644101A (zh) * 2012-04-27 2012-08-22 中国科学院电工研究所 一种在硅衬底上制备大孔径薄壁阳极氧化铝模板的方法
TW201506207A (zh) * 2013-08-12 2015-02-16 龍華科技大學 具耐磨潤滑特性之金屬基材及其製造方法
US20160312374A1 (en) * 2013-12-20 2016-10-27 Dublin Institute Of Technology Method for forming a multi-layer anodic coating
CN106987803A (zh) * 2017-04-27 2017-07-28 深圳金曜来科技有限公司 铝合金基材的镀膜
CN110055504A (zh) * 2019-05-24 2019-07-26 深圳金曜来科技有限公司 一种铜合金镀层及其制备方法
CN115261948A (zh) * 2021-04-30 2022-11-01 比亚迪股份有限公司 一种镀膜件及其制备方法、壳体及电子产品
CN113316333A (zh) * 2021-05-24 2021-08-27 Oppo广东移动通信有限公司 电子设备壳体及其制作方法和电子设备

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