WO2024257762A1 - 光学シート、シート物品、偏光板、タッチパネル部材、表示装置、光学シートの選定方法、及び光学シートの製造方法 - Google Patents

光学シート、シート物品、偏光板、タッチパネル部材、表示装置、光学シートの選定方法、及び光学シートの製造方法 Download PDF

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史哲 岡崎
祐太 新庄
裕介 橋本
賢一 塚田
治 渡邉
恵実子 加藤
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Definitions

  • This disclosure relates to optical sheets, sheet articles, polarizing plates, touch panel members, display devices, methods for selecting optical sheets, and methods for manufacturing optical sheets.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose an optical sheet including a functional layer.
  • the functional layer includes a cured product of an ultraviolet-curable resin composition.
  • the functional layer functions as a so-called hard coat layer.
  • the functional layer imparts high hardness to the surface of the optical sheet.
  • the optical sheet including the functional layer can be incorporated into various display devices. By using an optical sheet including a functional layer, the occurrence of scratches due to rubbing can be suppressed.
  • the functional layer is further provided with a blue light blocking function.
  • Blue light can increase the burden and fatigue of the viewer, such as eye strain. Blue light can deteriorate the polarizers in liquid crystal display panels and the EL elements in organic EL display panels.
  • the functional layer described in Patent Document 1 contains a yellow pigment.
  • the yellow pigment can absorb some blue light.
  • the yellow pigment cannot provide the optical sheet with sufficient blue-cutting functionality.
  • an optical sheet containing a yellow pigment changes the color of an image observed through the light.
  • the functional layer described in Patent Document 2 contains an ultraviolet absorbing agent.
  • the ultraviolet absorbing agent can absorb blue light.
  • the functional layer described in Patent Document 2 blocks light of about 410 nm as blue light. Therefore, problems caused by blue light can be suppressed.
  • an ultraviolet absorbing agent that exhibits blue light blocking function is contained in an ultraviolet curable resin composition.
  • the ultraviolet absorbing agent can absorb ultraviolet light when a coating film of the curable resin composition is exposed to ultraviolet light. Therefore, ultraviolet irradiation of the coating film is inhibited, and the functional layer does not cure sufficiently.
  • Patent Document 1 JP6641105B
  • Patent Document 2 JP6696562B
  • the present disclosure aims to improve the hardness of an optical sheet that includes a layer containing a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber.
  • the optical sheet according to the first embodiment of the present disclosure is An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface,
  • the functional layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm is 1% or less
  • the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 70% or more
  • An indentation hardness HA1 at a first position on the cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer satisfy the following relationship: HA3 ⁇ HA2 ⁇ HA1 HA1/HA2 ⁇ HA2/HA3 the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface
  • the sheet article according to the first embodiment of the present disclosure includes a plurality of optical sheets according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the polarizing plate according to the first embodiment of the present disclosure is An optical sheet according to a first embodiment of the present disclosure; and a polarizer superimposed on the optical sheet.
  • the touch panel member according to the first embodiment of the present disclosure includes: An optical sheet according to a first embodiment of the present disclosure; and an electrode layer overlaid on the optical sheet.
  • the display device includes: An optical sheet according to a first embodiment of the present disclosure; and a display element superimposed on the optical sheet.
  • the method for selecting an optical sheet according to the first embodiment of the present disclosure includes: An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface,
  • the functional layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, Measuring a spectral transmittance at a wavelength of 380 nm and a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm; Measuring an indentation hardness HA1 at a first position on a cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer; selecting an optical sheet based on the measured spectral transmittance and the measured indentation hardness; the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface portion close
  • a method for producing a first optical sheet according to a first embodiment of the present disclosure includes: An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface, A step of preparing an optical sheet, the functional layer including a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber; selecting an optical sheet based on a spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, an indentation hardness HA1 at a first position on a cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer; the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface portion close to the second surface in the cross section, A method for manufacturing an optical
  • the method for producing the second optical sheet according to the first embodiment of the present disclosure includes: A step of applying a first curable resin composition containing an ultraviolet absorber onto a substrate film; A step of curing a coating film of a first curable resin composition to produce a first portion on the base film; applying a second curable resin composition onto the first portion; and curing the coating of the second curable resin composition to produce a second part bonded to the first part.
  • the optical sheet according to the second embodiment of the present disclosure is A first layer and a second layer adjacent to the first layer,
  • the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the thickness ratio is 1.5 or more and 7.5 or less, the thickness ratio is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer;
  • the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm is 15% or less,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • the sheet article according to the second embodiment of the present disclosure includes a plurality of optical sheets according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the polarizing plate according to the second embodiment of the present disclosure is An optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure; and a polarizer superimposed on the optical sheet.
  • the touch panel member according to the second embodiment of the present disclosure includes: An optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure; and an electrode layer overlaid on the optical sheet.
  • the display device includes: An optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure; and a display element superimposed on the optical sheet.
  • a method for selecting an optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure includes: A first layer and a second layer adjacent to the first layer,
  • the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, measuring a thickness ratio, which is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer; Measuring the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm; Measuring the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm; selecting an optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • a method for producing a first optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure includes: A first layer and a second layer adjacent to the first layer, preparing an optical sheet, the first layer including a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber; selecting an optical sheet based on a thickness ratio, which is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer, a spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • a method for producing a second optical sheet according to a second embodiment of the present disclosure includes: A step of applying a first curable resin composition containing an ultraviolet absorber onto a substrate film; A step of forming a first portion on the substrate film by curing a coating film of a first curable resin composition; applying a second curable resin composition onto the first portion; and curing the coating of the second curable resin composition to produce a second part bonded to the first part.
  • the optical sheet according to the third embodiment of the present disclosure is A first layer and a second layer adjacent to the first layer,
  • the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the thickness ratio is 1.2 or more and 7.5 or less, the thickness ratio is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer;
  • the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm is less than 1%,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 70% or more,
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less,
  • the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is the value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength
  • the sheet article according to the third embodiment of the present disclosure includes a plurality of optical sheets according to the third embodiment of the present disclosure.
  • the polarizing plate according to the third embodiment of the present disclosure is An optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure; and a polarizer superimposed on the optical sheet.
  • the touch panel member according to the third embodiment of the present disclosure includes: An optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure; and an electrode layer overlaid on the optical sheet.
  • a display device includes: An optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure; and a display element superimposed on the optical sheet.
  • a method for selecting an optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure includes: A first layer and a second layer adjacent to the first layer, The first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, measuring a thickness ratio, which is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer; measuring the spectral transmittance at each wavelength in 0.5 nm intervals within a wavelength range of 379.5 nm or more and 440.5 nm or less; selecting an optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, and a slope of the spectral transmittance at wavelengths every 0.5 nm within a wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less;
  • the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is the value obtained by subtracting the spectral transmitt
  • a method for producing a first optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure includes: A first layer and a second layer adjacent to the first layer, preparing an optical sheet, the first layer including a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber; selecting an optical sheet based on a thickness ratio, which is a ratio of a thickness ( ⁇ m) of the first layer to a thickness ( ⁇ m) of the second layer, a spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, and a slope of the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within a wavelength range of 380 nm to 440 nm,
  • the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is the value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm).
  • a method for producing a second optical sheet according to a third embodiment of the present disclosure includes: A step of applying a first curable resin composition containing an ultraviolet absorber onto a substrate film; A step of forming a first portion on the substrate film by curing a coating film of a first curable resin composition; applying a second curable resin composition onto the first portion; and curing the coating of the second curable resin composition to produce a second part bonded to the first part.
  • the hardness can be improved in an optical sheet including a layer containing a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining the first embodiment, and is a cross-sectional view showing an example of an optical sheet.
  • FIG. 2A is an enlarged view of FIG. 1, illustrating the measurement positions of the indentation hardness.
  • FIG. 2B is a graph showing an example of a load-displacement curve obtained by the nanoindentation method.
  • FIG. 3 is a perspective view showing an example of a sheet article including an optical sheet.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a polarizing plate including the optical sheet shown in FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a touch panel member including the optical sheet shown in FIG.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a display device including the optical sheet shown in FIG.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining the first embodiment, and is a cross-sectional view showing an example of an optical sheet.
  • FIG. 2A is an enlarged view of FIG. 1, illustrating the measurement positions
  • FIG. 7 is a graph showing an example of the spectral transmittance and the slope of the spectral transmittance of an optical sheet.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining the second embodiment, and is a cross-sectional view showing an example of an optical sheet.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining the third embodiment, and is a cross-sectional view showing an example of an optical sheet.
  • FIG. 10 is a graph showing another example of the spectral transmittance and the slope of the spectral transmittance of the optical sheet.
  • the first to third embodiments of this disclosure relate to the following [1] to [75].
  • An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface,
  • the functional layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm is 1% or less
  • the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 70% or more
  • An indentation hardness HA1 at a first position on the cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer satisfy the following relationship: HA3 ⁇ HA2 ⁇ HA1 HA1/HA2 ⁇ HA2/HA3 the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface portion close to the second surface in the cross section, The second
  • An intermediate layer is provided between the functional layer and the base material layer, an indentation hardness HB of the intermediate layer at a cross section is smaller than an indentation hardness HC of the base layer at a cross section;
  • the optical sheet according to any one of [1] to [10], wherein the intermediate layer has a thickness of 4.2 ⁇ m or less.
  • An intermediate layer is provided between the functional layer and the base material layer,
  • the optical sheet according to any one of [1] to [11], wherein the indentation hardness HB of the cross section of the intermediate layer is 120 MPa or more.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less
  • the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is a value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm).
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is -3.0 or more and -1.6 or less;
  • the optical sheet according to any one of [1] to [18], wherein the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is 3.5 or more and 6.0 or less.
  • a first layer and a second layer adjacent to the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the thickness ratio is 1.5 or more and 7.5 or less, the thickness ratio is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer;
  • the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm is 15% or less,
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [28] to [31], wherein the ratio of silicon element to carbon element measured on the first surface by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.02 or more.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [28] to [32], wherein the ratio of elemental fluorine on the first surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.1% or less.
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is -3.0 or more and -1.6 or less;
  • the optical sheet according to any one of [28] to [33], wherein the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is 3.5 or more and 6.0 or less.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface; [28] to [42], wherein the pencil hardness of the first surface is 2H or more as measured in accordance with JIS K 5600-5-4:1999 at a load of 500 g and a speed of 1.4 mm/sec.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [28] to [43], wherein the load capacity of the first surface in a steel wool scratch resistance test under the following conditions is 200 g or more.
  • a first layer and a second layer adjacent to the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber,
  • the thickness ratio is 1.2 or more and 7.5 or less, the thickness ratio is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer;
  • the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm is less than 1%,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 70% or more,
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less,
  • An optical sheet in which the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is a value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [45] to [50], wherein the ratio of silicon element to carbon element measured on the first surface by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.02 or more.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [45] to [51], wherein the ratio of elemental fluorine on the first surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.1% or less.
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is -3.0 or more and -1.6 or less;
  • the optical sheet according to any one of [45] to [52], wherein the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light is 3.5 or more and 6.0 or less.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of [45] to [60], wherein the indentation hardness of the first surface at an indentation depth of 100 nm is 330 MPa or more.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface; [45] to [61], wherein the pencil hardness of the first surface is 2H or more as measured in accordance with JIS K 5600-5-4:1999 at a load of 500 g and a speed of 1.4 mm/sec.
  • a first surface and a second surface opposed to the first surface, the first layer and the second layer are disposed in this order from the first surface to the second surface;
  • the optical sheet according to any one of items [45] to [62], wherein the load capacity of the first surface in a steel wool scratch resistance test under the following conditions is 150 g or more.
  • Steel wool scratch resistance test Steel wool #0000 is used and moved back and forth 10 times at a moving speed of 100 mm/sec and a one-way moving distance of 120 mm.
  • a sheet article comprising a plurality of the optical sheets according to any one of [1] to [63].
  • a polarizing plate comprising the optical sheet and a polarizer superimposed thereon.
  • a touch panel member comprising the optical sheet and an electrode layer overlapped therewith.
  • a display device comprising the optical sheet and a display element overlapped therewith.
  • An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface,
  • the functional layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, Measuring a spectral transmittance at a wavelength of 380 nm and a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm; Measuring an indentation hardness HA1 at a first position on a cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer; selecting an optical sheet based on the measured spectral transmittance and the measured indentation hardness; the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface portion close to the second surface in the cross section, The second position is located at a center
  • An optical sheet including a first surface and a second surface opposite to the first surface, a base layer and a functional layer in this order from the second surface to the first surface, A step of preparing an optical sheet, the functional layer including a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber; selecting an optical sheet based on a spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, an indentation hardness HA1 at a first position on a cross section of the functional layer, an indentation hardness HA2 at a second position on the cross section of the functional layer, and an indentation hardness HA3 at a third position on the cross section of the functional layer; the first position is located in a surface portion close to the first surface in the cross section, the third position is located in a surface portion close to the second surface in the cross section, A method for manufacturing an optical sheet, wherein the second position is located at a center between the first position and the
  • a step of applying a first curable resin composition containing an ultraviolet absorber onto a substrate film A step of forming a first portion on the substrate film by curing a coating film of a first curable resin composition; applying a second curable resin composition onto the first portion; and curing a coating of a second curable resin composition to produce a second portion bonded to the first portion.
  • a first layer and a second layer adjacent to the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, measuring a thickness ratio, which is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer; Measuring the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm; Measuring the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm; selecting an optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • a first layer and a second layer adjacent to the first layer preparing an optical sheet, the first layer including a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber; selecting an optical sheet based on a thickness ratio, which is a ratio of a thickness ( ⁇ m) of the first layer to a thickness ( ⁇ m) of the second layer, a spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • the first layer includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber, measuring a thickness ratio, which is the ratio of the thickness ( ⁇ m) of the first layer to the thickness ( ⁇ m) of the second layer; measuring the spectral transmittance at each wavelength in 0.5 nm intervals within a wavelength range of 379.5 nm or more and 440.5 nm or less; selecting an optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, and a slope of the spectral transmittance at wavelengths every 0.5 nm within a wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less; A method for selecting an optical sheet, wherein the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is a value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-
  • the numerical range may be formed by combining any one upper limit candidate with any one lower limit candidate.
  • Parameter B may be A1 or more, A2 or more, or A3 or more.
  • Parameter B may be A4 or less, A5 or less, or A6 or less.”
  • the numerical range of parameter B may be A1 or more and A4 or less, A1 or more and A5 or less, A1 or more and A6 or less, A2 or more and A4 or less, A2 or more and A5 or less, A2 or more and A6 or less, A3 or more and A4 or less, A3 or more and A5 or less, or A3 or more and A6 or less.
  • FIG. 1 In order to clarify the directional relationships between the drawings, several drawings show a first direction D1, a second direction D2, and a third direction D3 with arrows that have the same symbol.
  • the tip of the arrow is the first side of each direction.
  • the side opposite the tip of the arrow is the second side of each direction.
  • Arrows that point perpendicular to the paper surface and toward the back of the paper surface are shown by a symbol of an x in a circle, as shown in Figure 1, for example.
  • the optical sheet 10 includes a first surface 11 and a second surface 12.
  • the optical sheet 10 includes, in the order from the second surface 12 toward the first surface 11, a base layer 40 and a functional layer 20.
  • the functional layer 20 includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber.
  • the functional layer 20 including the ultraviolet absorber can provide at least one of an ultraviolet cut function and a blue light cut function to the optical sheet 10.
  • the optical sheet 10 has the following characteristics (X) and (Y) with respect to the spectral transmittance.
  • (X) The spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm is 1% or less.
  • (Y) The spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • the optical sheet 10 can adequately block light with a wavelength of around 380 nm. This can reduce problems caused by ultraviolet rays and blue light.
  • the image light emitted from the display device 60 can be transmitted through the optical sheet 10.
  • the optical sheet 10 can block light with a wavelength of about 380 nm from the image light. By sufficiently blocking light with a wavelength of about 380 nm from the image light, it is possible to reduce the burden on the observer of the image, such as eye strain.
  • External light such as sunlight can enter the optical sheet 10.
  • deterioration of the display element 61 can be suppressed.
  • deterioration of the EL element (organic electroluminescence element) of an organic EL panel (organic electroluminescence panel) can be suppressed.
  • deterioration of the polarizer 52 of the polarizing plate 50 can be suppressed.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm may be 1% or less, or may be less than 1%. There is no particular lower limit set for the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm may be 0% or more, or may be greater than 0%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm may be 0% or more and 1% or less, or 0% or more and less than 1%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm may be greater than 0% or more and 1% or less, or 0% or more and less than 1%.
  • light with a wavelength of 440 nm or more can pass through the optical sheet 10 with high transmittance.
  • the optical sheet 10 may transmit light with a wavelength of 440 nm or more with high transmittance. This makes it possible to suppress changes and deterioration in the color of an image observed through the optical sheet 10.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more, 75% or more, 80% or more, or 85% or more.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and 100% or less, 75% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 85% or more and 100% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and less than 100%, 75% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 85% or more and less than 100%.
  • the optical sheet 10 may have the following feature (Z) in addition to the above-mentioned features (X) and (Y).
  • (Z) The slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 is measured for each wavelength in 0.5 nm intervals within the wavelength range of 379.5 nm to 440.5 nm. The results of the spectral transmittance measurements are used to determine whether or not characteristic (Z) is satisfied. Note that the above-mentioned characteristic (X) is evaluated based on the measured value of the spectral transmittance at a wavelength of 380.0 nm. The above-mentioned characteristic (Y) is evaluated based on the measured value of the spectral transmittance at a wavelength of 440.0 nm.
  • the slope of the spectral transmittance indicates the increase in transmittance (%) per 1 nm of wavelength.
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength X is the value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm).
  • the optical sheet 10 is determined to have characteristic (Z). If the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is maximum is 395.5 nm or less, the optical sheet 10 is determined to not have characteristic (Z). If the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is maximum is 420.5 or more, the optical sheet 10 is determined to not have characteristic (Z).
  • Characteristic (Z) specifies the manner in which the spectral transmittance increases with increasing wavelength.
  • the slope of the spectral transmittance has the same meaning as the value of the differential equation of the function that represents the spectral transmittance. Therefore, at the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is at its maximum value and at wavelengths around that wavelength, the spectral transmittance increases rapidly with increasing wavelength.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance defined by characteristic (Z) is obtained may be 405 nm or more, 408 nm or more, 410 nm or more, 412 nm or more, or 415 nm or more.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance defined by characteristic (Z) is obtained may be 419 nm or less.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained may be 400 nm or more and 420 nm or less, 405 nm or more and 420 nm or less, 408 nm or more and 420 nm or less, 410 nm or more and 420 nm or less, 412 nm or more and 420 nm or less, or 415 nm or more and 420 nm or less.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained may be 400 nm or more and 419 nm or less, 405 nm or more and 419 nm or less, 408 nm or more and 419 nm or less, 410 nm or more and 419 nm or less, 412 nm or more and 419 nm or less, or 415 nm or more and 419 nm or less.
  • a lower limit may be set for the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in characteristic (Z), i.e., the maximum value of the slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm to 440 nm.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in characteristic (Z) may be 2.0 (%/nm) or more, 2.5 (%/nm) or more, 3.0 (%/nm) or more, 3.5 (%/nm) or more, or 4.0 (%/nm) or more.
  • An upper limit may be set for the maximum value of the slope of the spectral transmittance defined by characteristic (Z). By setting an upper limit for the maximum value of the spectral transmittance, color changes and deterioration can be suppressed more naturally.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance defined by characteristic (Z) may be 8.0 (%/nm) or less, 7.0 (%/nm) or less, 6.0 (%/nm) or less, 5.5 (%/nm) or less, or 5.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm).
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less.
  • FIG. 7 is a graph showing the spectral transmittance and the slope of the spectral transmittance of the optical sheets for sample A1 and sample A2.
  • Sample A1 has feature (Z) in addition to feature (X) and feature (Y).
  • the spectral transmittance (%) may increase monotonically with increasing wavelength.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength in 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm to 440 nm may be greater than 0. According to these examples, color changes and deterioration of the image observed through the optical sheet 10 can be more naturally suppressed.
  • the optical sheet 10 may have the following feature (W) in addition to the feature (X) and the feature (Y).
  • W The spectral transmittance at a wavelength of 410 nm is 15% or less.
  • condition (W) By satisfying condition (W), light with a wavelength of 410 nm or less can be sufficiently blocked. This allows ultraviolet rays and blue light to be blocked more effectively.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be 15% or less, 14% or less, 13% or less, 12% or less, or 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be 0% or more, greater than 0%, 2% or more, or 5% or more.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be 0% or more and 15% or less, 0% or more and 14% or less, 0% or more and 13% or less, 0% or more and 12% or less, or 0% or more and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be greater than 0% and 15% or less, greater than 0% and 14% or less, greater than 0% and 13% or less, greater than 0% and 12% or less, or greater than 0% and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be 2% or more and 15% or less, greater than 2% and 14% or less, greater than 2% and 13% or less, greater than 2% and 12% or less, or greater than 2% and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 410 nm may be 5% or more and 15% or less, 5% or more and 14% or less, 5% or more and 13% or less, 5% or more and 12% or less, or 5% or more and 10% or less.
  • Spectral transmittance is the arithmetic mean of five measured values measured in accordance with JIS Z8722:2009.
  • the geometric condition e specified in JIS Z8722:2009 is adopted in measuring spectral transmittance.
  • the five measured values are measured at five measurement positions on the sample of the optical sheet to be evaluated. The five measurement positions are located at least 10 mm apart from each other.
  • the test environment when measuring spectral transmittance is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%.
  • the sample is placed in the test environment for 16 hours before starting the test. Before measuring the spectral transmittance, the light source of the measuring device is turned on for 15 minutes to stabilize the output of the light source.
  • the functional layer 20 further includes a cured product of the curable resin composition.
  • the cured product of the curable resin composition is also referred to as a resin cured product.
  • the resin cured product can impart high hardness to the functional layer 20 and the optical sheet 10.
  • the functional layer 20 functions as a so-called hard coat layer.
  • the optical sheet 10 with improved hardness has excellent scratch resistance. When the optical sheet 10 is in use, scratches on the optical sheet 10 can be suppressed.
  • the optical sheet 10 is also suitable for a touch panel member 55 (see Figure 5) that is expected to come into contact with a finger or a pen during use.
  • the functional layer containing the cured resin is obtained by curing a coating film of a curable resin composition.
  • the coating film can be cured by exposure to light, which promotes a crosslinking reaction. High-energy short-wavelength light is usually used for exposure.
  • the UV absorber added to the curable resin composition can absorb the light used in the curing process of the coating film. In other words, the UV absorber can inhibit the curing process of the curable resin composition.
  • the hardness of the functional layer containing the cured resin is low, scratch resistance may be significantly reduced. If the hardness of the functional layer containing the cured resin is low, the UV absorber may bleed out from the functional layer when the optical sheet is used. If the UV absorber bleeds out, the UV blocking function and blue light blocking function of the optical sheet 10 may also become insufficient.
  • the indentation hardness HA1, the indentation hardness HA2, and the indentation hardness HA3 satisfy the following condition (A) and condition (B).
  • the indentation hardnesses HA1 to HA3 are the indentation hardnesses of the functional layer 20 in the cross section of the optical sheet 10.
  • the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness is measured is a cross section along the thickness direction of the optical sheet 10.
  • the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness is measured is a cross section along the first direction D1, which is the stacking direction of the functional layer 20 and the base layer 40.
  • the indentation hardness HA1 is the indentation hardness at a first position 26 in the cross section of the functional layer 20.
  • the first position 26 is located in the surface layer of the functional layer 20 close to the first surface 11 in the cross section of the functional layer 20.
  • the first position 26 is a position shifted 1.2 ⁇ m from the first side surface 21 to the second side surface 22 along the thickness direction of the optical sheet 10, i.e., the normal direction of the optical sheet 10.
  • the indentation hardness at the first position 26 is an indicator of the hardness of the functional layer 20 in the vicinity of the first side surface 21.
  • the first side 21 and the second side 22 are a pair of main surfaces of the functional layer 20.
  • the first side 21 is located on the first side in the first direction D1, which is the normal direction of the functional layer 20.
  • the first side 21 is a surface closer to the first surface 11 in the first direction D1.
  • the first side 21 of the functional layer 20 constitutes the first surface 11 of the optical sheet 10.
  • the second side 22 is located on the second side in the first direction D1.
  • the second side 22 is a surface closer to the second surface 12 in the first direction D1.
  • the indentation hardness HA3 is the indentation hardness at a third position 28 in the cross section of the functional layer 20.
  • the third position 28 is located in the surface layer of the functional layer 20 close to the second surface 12 in the cross section of the functional layer 20.
  • the third position 28 is a position shifted 1.2 ⁇ m from the second side surface 22 to the first side surface 21 along the thickness direction of the optical sheet 10, i.e., the normal direction of the optical sheet 10.
  • the indentation hardness at the third position 28 is an indicator of the hardness of the functional layer 20 in the vicinity of the second side surface 22.
  • the indentation hardness HA2 is the indentation hardness at the second position 27 in the cross section of the functional layer 20.
  • the indentation hardness at the second position 27 is an indicator of the hardness at the center of the thickness direction of the functional layer 20. As shown in FIG. 2A, the second position 27 is located in the center of the first position 26 and the third position 28 along the thickness direction of the optical sheet 10, i.e., the normal direction of the optical sheet 10.
  • Indentation hardness is the hardness measured by the nanoindentation method using a nanoindenter.
  • the nanoindentation method is a method for measuring hardness based on a load-displacement curve.
  • the load-displacement curve is obtained by loading and unloading the evaluation object using an indenter.
  • the load-displacement curve shows the relationship between the indentation load and the indentation depth.
  • the nanoindentation method makes it possible to evaluate the hardness of a microscopic area.
  • a test piece made from the optical sheet to be evaluated is used.
  • a sample is cut out from the optical sheet 10 to be evaluated.
  • This sample is embedded in an embedding resin.
  • the embedding resin is a cold-curing type two-component epoxy hardening resin.
  • the embedding resin is left at room temperature for 24 hours or more to harden, and an embedded sample is produced.
  • the embedded sample is cut with a microtome to expose the cross section of the optical sheet 10 along the first direction D1, which corresponds to the normal direction of the optical sheet.
  • An indenter is pressed into the exposed cross section of the functional layer 20 to measure the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20.
  • the indenter used to measure the indentation hardness at the cross section of the optical sheet 10 is a Berkovich indenter having a triangular pyramid shape.
  • the indenter is pressed into the cross section of the sample that is to be evaluated from a direction perpendicular to the surface to be evaluated.
  • the indenter is pressed at a pressing speed of 10 nm/sec.
  • the indenter is pressed into the sample until the indentation depth reaches 100 nm.
  • the indenter is held in a state in which it is pressed 100 nm into the optical sheet 10 from the surface to be evaluated for 5 seconds.
  • the indenter is then retracted from the surface to be evaluated, and the load is removed from the optical sheet 10.
  • the indenter is moved along a direction perpendicular to the surface to be evaluated.
  • the indenter is retracted at a pressing speed of 10 nm/sec.
  • the above-described movement of the indenter results in a load-displacement curve C.
  • the load-displacement curve C is a graph showing the magnitude of the load applied to the surface to be evaluated via the indenter and the pressing depth of the indenter.
  • Figure 2B shows an example of the load-displacement curve C.
  • the indentation hardness H IT is determined by the following formula (1) using the maximum load Fmax and the contact projection area Ap.
  • HIT Fmax/Ap...(1)
  • the maximum load Fmax and the contact projection area Ap are obtained by analyzing the load-displacement curve.
  • the maximum load Fmax is the maximum indentation load.
  • the contact projection area Ap is the projected area on a plane perpendicular to the indentation direction of the region where the indenter and the sample are in contact at the maximum indentation load.
  • the contact projection area Ap is determined by a correction formula created by the standard method for the device using a standard sample of fused quartz.
  • the indentation hardness is the arithmetic average of 10 measurements taken at 10 measurement positions on the optical sheet being evaluated.
  • Condition (A) requires that the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases from the second side to the first side in the first direction D1. In other words, condition (A) requires that the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases from the second surface 12 to the first surface 11.
  • Condition (B) requires that the gradient of change in indentation hardness in the cross section of the functional layer 20 is smaller on the first side in the first direction D1 than on the second side. In other words, condition (B) requires that the indentation hardness in the cross section of the functional layer 20 changes significantly in the vicinity of the second side 22 (second surface 12).
  • condition (A) and condition (B) By combining condition (A) and condition (B), in the region away from the first surface 11 of the functional layer 20, the hardness increases rapidly from the first surface 11 to the second surface 12. Sufficient hardness is ensured in the region close to the first surface 11 of the functional layer 20. Furthermore, even in the region close to the first surface 11 of the functional layer 20, the hardness can increase from the second surface 12 to the first surface 11. Therefore, by combining condition (A) and condition (B), the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved, and the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved. In addition, the ultraviolet absorbing agent contained in the functional layer 20 can be suppressed from bleeding out from the first surface 11. This allows the optical sheet 10 to stably exhibit its ultraviolet ray blocking function and blue light blocking function.
  • condition (C) including the indentation hardness HA1 and the indentation hardness HA2 may further be satisfied.
  • condition (C) which sets the upper limit of "HA1/HA2"
  • the indentation hardness HA2 at the second position 27 can be made sufficiently larger than the indentation hardness HA1 at the first position 26.
  • the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases from the second side surface 22 toward the first side surface 21.
  • condition (C) is satisfied, the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases sufficiently at the center of the second side surface 22 and the first side surface 21.
  • the functional layer 20 has a sufficiently large indentation hardness in the region from the center in the thickness direction to the first side surface 21. This effectively improves the hardness at the first surface 11 of the optical sheet 10, and effectively improves the scratch resistance at the first surface 11.
  • the "HA1/HA2" ratio specified in condition (C) may be 1.7 or less, 1.5 or less, 1.2 or less, or 1.1 or less. There is no particular lower limit for "HA1/HA2". "HA1/HA2" may be 1.0 or more, or may be greater than 1.0.
  • condition (D) including the indentation hardness HA2 and the indentation hardness HA3 may further be satisfied.
  • condition (D) which sets the lower limit of "HA2/HA3"
  • the indentation hardness HA2 at the second position 27 can be made sufficiently larger than the indentation hardness HA3 at the third position 28.
  • the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases from the second side surface 22 toward the first side surface 21.
  • condition (D) is satisfied, the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 increases sufficiently at the center of the second side surface 22 and the first side surface 21.
  • the functional layer 20 has a sufficiently large indentation hardness in the region from the center in the thickness direction to the first side surface 21. This effectively improves the hardness at the first surface 11 of the optical sheet 10, and effectively improves the scratch resistance at the first surface 11.
  • the "HA2/HA3" defined in condition (D) may be 1.2 or more, 1.7 or more, 2.0 or more, 2.4 or more, or 2.7 or more. No upper limit is set for "HA2/HA3". "HA2/HA3" may be 5.0 or less. "HA2/HA3” may be 1.2 or more and 5.0 or less, 1.7 or more and 5.0 or less, 2.0 or more and 5.0 or less, 2.4 or more and 5.0 or less, or 2.7 or more and 5.0 or less.
  • condition (E) including the indentation hardness HA1 and the indentation hardness HA3 may be further satisfied.
  • condition (D) which sets the lower limit of "HA1/HA3"
  • the indentation hardness HA1 at the first position 26 can be made sufficiently larger than the indentation hardness HA3 at the third position 28.
  • the indentation hardness at the cross section of the functional layer 20 becomes sufficiently larger from the second side surface 22 to the first side surface 21. This effectively improves the hardness at the first surface 11 of the optical sheet 10, and effectively improves the scratch resistance at the first surface 11.
  • the "HA1/HA3" defined in condition (E) may be 1.4 or more, 2.0 or more, 2.5 or more, 3.0 or more, or 3.2 or more. No upper limit is set for "HA1/HA3". "HA1/HA3" may be 5.5 or less. "HA1/HA3” may be 1.4 or more and 5.5 or less, 2.0 or more and 5.5 or less, 2.5 or more and 5.5 or less, 3.0 or more and 5.5 or less, or 3.2 or more and 5.5 or less.
  • condition (F) including the indentation hardness HA2 and the indentation hardness HC may further be satisfied.
  • the indentation hardness HC is the indentation hardness of the base layer 40 at a cross section of the optical sheet 10. As shown in FIG. 2A, the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness HC is measured is a cross section along the thickness direction of the optical sheet 10. In the illustrated example, the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness HC is measured is a cross section along the first direction D1, which is the stacking direction of the functional layer 20 and the base layer 40.
  • the indentation hardness HC is the indentation hardness at the central position 41 of the base material layer 40 in the cross section of the base material layer 40. As shown in FIG. 2A, the central position 41 is located in the center in the thickness direction in the cross section of the base material layer 40.
  • condition (F) which sets the upper limit of "HA2/HC"
  • deformation such as curling or warping of the optical sheet 10 can be suppressed.
  • the "HA2/HC” defined in condition (F) may be 1.3 or less, 1.2 or less, or 1.1 or less. No lower limit is set for “HA2/HC”. "HA2/HC” may be 0.73 or more, 0.90 or more, or 0.95 or more.
  • HA2/HC may be 0.73 or more and 1.3 or less, 0.73 or more and 1.2 or less, or 0.73 or more and 1.1 or less.
  • HA2/HC may be 0.90 or more and 1.3 or less, 0.90 or more and 1.2 or less, or 0.90 or more and 1.1 or less.
  • HA2/HC may be 0.95 or more and 1.3 or less, 0.95 or more and 1.2 or less, or 0.95 or more and 1.1 or less.
  • condition (G) including the indentation hardness HA1 and the indentation hardness HC may be further satisfied.
  • condition (G) that sets the upper limit of "HA1/HC” deformation of the optical sheet 10 such as curling and warping can be suppressed.
  • the "HA1/HC” specified in condition (G) may be 1.5 or less, 1.3 or less, or 1.2 or less. There is no particular lower limit for “HA1/HC”. "HA1/HC” may be 1.0 or more, 1.1 or more, or 1.2 or more.
  • HA1/HC may be 1.0 or more and 1.5 or less, or 1.0 or more and 1.3 or less, or 1.0 or more and 1.2 or less.
  • HA1/HC may be 1.1 or more and 1.5 or less, or 1.1 or more and 1.3 or less, or 1.1 or more and 1.2 or less.
  • HA1/HC may be 1.2 or more and 1.5 or less, or 1.2 or more and 1.3 or less.
  • condition (H) including the indentation hardness HA and the indentation hardness HC may be further satisfied.
  • H the condition that sets the upper limit of "HA/HC”
  • HA/HC defined in condition (H) may be 1.2 or less, 1.1 or less, or 0.90 or less. No lower limit is set for “HA/HC”. "HA/HC” may be 0.78 or more, 0.84 or more, or 0.86 or more.
  • HA/HC may be 0.78 or more and 1.2 or less, 0.78 or more and 1.1 or less, or 0.78 or more and 0.90 or less.
  • HA/HC may be 0.84 or more and 1.2 or less, 0.84 or more and 1.1 or less, or 0.84 or more and 0.90 or less.
  • HA/HC may be 0.86 or more and 1.2 or less, 0.86 or more and 1.1 or less, or 0.86 or more and 0.90 or less.
  • a lower limit for the indentation hardness HA1 at the first position 26 may be set. By setting a lower limit for the indentation hardness HA1, the hardness at the first surface 11 of the optical sheet 10 can be effectively improved, and the scratch resistance at the first surface 11 can be effectively improved.
  • the indentation hardness HA1 at the first position 26 may be 340 MPa or more, 342 MPa or more, 387 MPa or more, 409 MPa or more, 414 MPa or more, 417 MPa or more, 483 MPa or more, 500 MPa or more, or 522 MPa or more.
  • the indentation hardness HA1 may be 600 MPa or less.
  • the indentation hardness HA1 may be 340 MPa or more and 600 MPa or less, 342 MPa or more and 600 MPa or less, 387 MPa or more and 600 MPa or less, 409 MPa or more and 600 MPa or less, 414 MPa or more and 600 MPa or less, 417 MPa or more and 600 MPa or less, 483 MPa or more and 600 MPa or less, 500 MPa or more and 600 MPa or less, or 522 MPa or more and 600 MPa or less.
  • a lower limit for the indentation hardness HA2 at the second position 27 may be set.
  • the indentation hardness HA2 at the second position 27 may be 240 MPa or more, 243 MPa or more, 298 MPa or more, 313 MPa or more, 348 MPa or more, 360 MPa or more, 424 MPa or more, or 453 MPa or more.
  • the indentation hardness HA2 may be 550 MPa or less.
  • the indentation hardness HA2 may be 240 MPa or more and 550 MPa or 243 MPa or more and 550 MPa or 298 MPa or more and 550 MPa or 313 MPa or more and 550 MPa or 348 MPa or more and 550 MPa or 360 MPa or more and 550 MPa or 424 MPa or more and 550 MPa or 453 MPa or more and 550 MPa.
  • a lower limit for the indentation hardness HA3 at the third position 28 may be set.
  • the indentation hardness HA3 at the third position 28 may be 120 MPa or more, 122 MPa or more, 126 MPa or more, 129 MPa or more, 132 MPa or more, 147 MPa or more, 241 MPa or more, or 264 MPa or more.
  • the indentation hardness HA3 may be 350 MPa or less.
  • the indentation hardness HA3 may be 120 MPa or more and 350 MPa or less, 122 MPa or more and 350 MPa or less, 126 MPa or more and 350 MPa or less, 129 MPa or more and 350 MPa or less, 132 MPa or more and 350 MPa or less, 147 MPa or more and 350 MPa or less, 241 MPa or more and 350 MPa or less, or 264 MPa or more and 350 MPa or less.
  • the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved, and the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10 can also be improved.
  • the pencil hardness of the first surface 11 can be made 2H or more.
  • the load capacity of the first surface 11 in a steel wool scratch resistance test can be made 100 g or more.
  • Pencil hardness is an index showing resistance to defects such as scratches that occur when a pencil lead is pressed against a sample to be evaluated and moved. Pencil hardness is measured using a pencil hardness tester.
  • the optical sheet sample to be evaluated is rectangular in shape. The short side of the rectangular shape is 50 mm, and the long side is 100 mm.
  • the test environment is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%.
  • the sample is placed in the test environment for 16 hours before the start of the test.
  • the rectangular sample is spread out on the pencil hardness tester so as not to cause wrinkles or warping.
  • the two short sides of the spread sample are fixed to the pencil hardness tester using mending tape over the entire length of the short sides.
  • the mending tape may be 3M's product name "810-3-18".
  • the load applied to the pencil during the test is 500 g.
  • the pencil movement speed is 1.4 mm/sec.
  • the pencil movement length is 10 mm.
  • the pencil movement direction is parallel to the long side of the sample.
  • the pencil is a UNI made by MITSU-BISHI. Five tests are performed on the same sample using pencils of the same hardness. The five tests are performed at locations on the same sample that are at least 10 mm apart. A re-sharpened pencil is used for each of the five tests.
  • test count is four or more times without defects on the first surface 11, the sample is deemed to have passed the evaluation.
  • a defect is a scratch of 3 mm or more.
  • the presence or absence of defects is confirmed by visually inspecting the surface of the sample removed from the pencil hardness tester. The sample surface is observed under indoor lighting. The observation distance is 30 cm. The illuminance on the sample surface to be observed is 800 Lx or more and 1200 Lx or less.
  • the pencil hardness of the sample to be evaluated shall be the highest of the pencil hardnesses used in the tests that were judged to have passed.
  • Other conditions for the pencil hardness test shall conform to JIS K 5600-5-4:1999.
  • the steel wool scratch resistance test is an index showing resistance to defects such as scratches that occur when steel wool is pressed against a sample to be evaluated and moved relative to it.
  • the optical sheet sample to be evaluated is rectangular in shape.
  • the short side of the rectangle is 30 mm, and the long side is 250 mm.
  • the rectangular sample is spread out on the test machine so that no wrinkles or warping occurs.
  • the two short sides of the spread sample are fixed to the test machine using mending tape over the entire length of the short sides.
  • the mending tape is not particularly limited. As an example, the mending tape may be "810-3-18" manufactured by 3M.
  • the steel wool as a sliding piece is brought into contact with the surface of the sample that is constituted by the first side of the optical sheet.
  • the steel wool is "Bonstar B-204" with a count of #0000 manufactured by Japan Steel Wool Co., Ltd.
  • the Bonstar B-204 is a commercial size with a width of approximately 390 mm, length of approximately 75 mm, and thickness of approximately 110 mm.
  • the contact area between the test sample and the sliding piece is 20 mm x 20 mm.
  • a load is applied to the sliding piece from the vertical direction, and the sample that is spread out along the horizontal surface is pressed against the sliding piece. With the sliding piece pressed against the sample, the sliding piece and the sample are moved relative to each other in the horizontal direction.
  • the sliding piece and the test sample are moved relative to each other in a direction perpendicular to the direction in which the steel wool fibers mainly extend.
  • the load pressing the sliding piece against the sample is a minimum of 50 g.
  • the relative movement is a reciprocating movement along a linear path.
  • the reciprocating movement cycle is 10 times.
  • the test environment is 23°C ⁇ 2°C in temperature and 50% ⁇ 5% in relative humidity.
  • the sample is placed in the test environment for 16 hours before the start of the test.
  • the reciprocating speed is 100 mm/sec.
  • the stroke of the reciprocating motion is 120 mm for both the forward and return paths.
  • the reciprocating motion is parallel to the long side of the sample.
  • the preparation sample is a polyethylene terephthalate film.
  • the preparation sample is rectangular with short sides of 30 mm and long sides of 250 mm.
  • the steel wool is rubbed against the untreated surface of the polyethylene terephthalate film.
  • the preparation sample is spread along a horizontal plane, and the two short sides of the preparation sample are fixed to the testing machine with mending tape.
  • the steel wool is pressed against the preparation sample from above in the vertical direction.
  • the contact area between the preparation sample and the steel wool is 20 mm x 20 mm.
  • the load used to press the steel wool against the preparation sample is 500 g.
  • the steel wool and the preparation sample are moved relative to each other in the horizontal direction.
  • the steel wool and the preparation sample are moved relative to each other in a direction perpendicular to the direction in which the steel wool fibers mainly extend.
  • the relative movement is a reciprocating movement.
  • the reciprocating movement is performed 200 times.
  • the reciprocating movement speed is 100 mm/sec.
  • the stroke of the reciprocating movement is 120 mm for both the forward and return paths.
  • the steel wool pressed against the preparation sample in this manner is used in the test to be evaluated.
  • the sample is removed from the testing machine and the surface of the sample, which is made up of the first side of the optical sheet, is observed with the naked eye.
  • the sample surface is observed under indoor lighting. The observation distance is 30 cm.
  • the illuminance on the surface of the sample being evaluated is 800 Lx or more and 1200 Lx or less.
  • the steel wool scratch resistance test is performed five times on the optical sheet to be evaluated. A test that does not observe scratches on the first surface 11 four or more times is considered to have passed the test. The five tests are performed on different samples cut out from the same optical sheet. The steel wool is replaced after each of the five tests. The above-mentioned break-in of the steel wool is performed after each of the five tests.
  • the load with which the sliding piece is pressed against the sample is increased by 50g up to 300g.
  • the load with which the sliding piece is pressed against the sample is increased by 50g each time: 100g, 150g, 200g, 250g, 300g.
  • the maximum load in the test that is judged as a pass is regarded as the load capacity of the steel wool scratch resistance test for that sample. For example, an evaluation object that is evaluated as having a load capacity of 200g is judged to pass in all tests with a pressing load of 50g, 100g, 150g, and 200g.
  • condition (A) and condition (B) by satisfying other conditions in addition to condition (A) and condition (B), the hardness and scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved.
  • the pencil hardness of the first surface 11 may be 2H or more, 3H or more, or 4H or more.
  • the load capacity of the first surface 11 in a steel wool scratch resistance test may be 100g or more, 150g or more, 200g or more, 250g or more, or 300g or more.
  • the pencil hardness of the first surface 11 may be 2H or more and 8H or less, 3H or more and 8H or less, or 4H or more and 8H or less.
  • the load capacity in the steel wool scratch resistance test on the first surface 11 may be 100 g or more and 300 g or less, 150 g or more and 300 g or less, 200 g or more and 300 g or less, or 300 g.
  • the functional layer 20 may be in contact with the substrate layer 40.
  • the functional layer 20 may be formed by applying a curable resin composition onto the substrate layer 40.
  • the substrate layer 40 may be a substrate film.
  • the optical sheet 10 may further include an intermediate layer 30.
  • the intermediate layer 30 is located between the functional layer 20 and the base layer 40 in the first direction D1, which is the thickness direction.
  • the intermediate layer 30 is in contact with the functional layer 20.
  • the intermediate layer 30 is in contact with the base layer 40.
  • the base layer 40 and intermediate layer 30 may both be constituted by a base film 45 to which a curable resin composition for producing the functional layer 20 is applied.
  • the intermediate layer 30 may be constituted by a portion of the base film 45 that is permeated with the curable resin composition.
  • the base layer 40 may be constituted by a portion of the base film 45 that is not permeated with the curable resin composition.
  • the intermediate layer 30 as a permeation layer may contain at least a portion of the same resin component as that contained in the base layer 40. According to this example, the adhesion between the intermediate layer 30 and the base layer 40 can be improved. The adhesion between the intermediate layer 30 and the base layer 40 can also contribute to improving the hardness at the first surface 11.
  • the intermediate layer 30 as a permeation layer may contain at least a portion of the same resin component as that contained in the functional layer 20. According to this example, the adhesion between the intermediate layer 30 and the functional layer 20 can be improved. The adhesion between the intermediate layer 30 and the functional layer 20 can also contribute to improving the hardness at the first surface 11.
  • the intermediate layer 30 may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the functional layer 20. By including an ultraviolet absorbing agent in the intermediate layer 30, the blue light blocking function can be enhanced.
  • the intermediate layer 30 As a permeation layer, the adhesion between the base film 45 and the functional layer 20 is improved. This improves the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10, and improves the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10.
  • Fourier transform infrared spectroscopy allows for quantitative analysis of the chemical bonds contained in each layer 20, 30, 40. By using Fourier transform infrared spectroscopy, it is possible to determine whether or not the intermediate layer 30 contains the resin component contained in the functional layer 20. By using Fourier transform infrared spectroscopy, it is possible to determine whether or not the intermediate layer 30 contains the resin component contained in the base layer 40.
  • the presence of the permeation layer can be confirmed by observing the cross section of the optical sheet along the first direction with a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • An observation image of the cross section of the optical sheet 10 to be evaluated is obtained by observing a thickness measurement sample, described below, with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is stained before observation with the scanning transmission electron microscope. Osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, phosphotungstic acid, etc. may be used for staining.
  • the substrate film 45 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the acrylic resin and the cellulose resin are easily permeated with the curable resin composition. Therefore, the intermediate layer 30, which is a mixed layer of the resin components of the functional layer 20 and the resin components of the substrate layer 40, can be easily produced. From this point of view, the substrate layer 40 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the intermediate layer 30 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the indentation hardness HB of the intermediate layer 30 at the cross section may be smaller than the indentation hardness HC of the base layer 40 at the cross section.
  • the intermediate layer 30 with a small indentation hardness can flexibly deform in accordance with the deformation of the functional layer 20 when the functional layer 20 cures and shrinks. By positioning this intermediate layer 30 between the base layer 40 and the functional layer 20, deformation such as curling and warping of the optical sheet 10 can be suppressed.
  • the indentation hardness HB at the cross section of the intermediate layer 30 is the indentation hardness of the intermediate layer 30 at the cross section of the optical sheet 10.
  • the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness is measured is a cross section along the thickness direction of the optical sheet 10.
  • the cross section of the optical sheet 10 where the indentation hardness is measured is a cross section along the first direction D1, which is the stacking direction of the functional layer 20 and the base layer 40.
  • the indentation hardness HB is the indentation hardness at the central position 31 of the intermediate layer 30 at the cross section of the intermediate layer 30. As shown in FIG. 2A, the central position 31 is located at the center in the thickness direction at the cross section of the intermediate layer 30.
  • the intermediate layer 30 may contain a monomer.
  • the intermediate layer 30 may contain at least a portion of the monomer contained in the curable resin composition for producing the functional layer 20. According to these examples, an intermediate layer 30 with low hardness can be stably formed.
  • the intermediate layer 30 functions as a deformation absorbing layer and can suppress deformation such as curling and warping of the optical sheet 10.
  • Whether the intermediate layer 30 contains a monomer is determined by staining with osmium tetroxide.
  • a cross-sectional sample is cut out from the optical sheet 10 by cutting. The thickness of the sample is about 80 nm. The cut out sample is collected on a Cu mesh. This sample is stained with osmium tetroxide for 30 minutes by a vapor-phase staining method. The portion of the stained sample corresponding to the intermediate layer 30 is observed using a scanning transmission electron microscope (STEM). Unsaturated double bonds that may be contained in the intermediate layer 30 are colored by the staining process. Therefore, if the observed sample is colored by staining, it is determined that the intermediate layer 30 contains a monomer. Whether the monomer contained in the intermediate layer 30 is the same as the monomer contained in the curable resin composition for producing the intermediate layer 30 is determined by quantitatively analyzing the chemical bonds using Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR).
  • FT-IR Fourier transform infrared spect
  • a lower limit for the indentation hardness HB at the cross section of the intermediate layer 30 may be set. By setting a lower limit for the indentation hardness HB, the hardness at the first surface 11 of the optical sheet 10 can be effectively improved.
  • the indentation hardness HB at the cross section of the intermediate layer 30 may be 120 MPa or more, 124 MPa or more, 138 MPa or more, 142 MPa or more, 151 MPa or more, or 156 MPa or more.
  • An upper limit may be set for the indentation hardness HB at the cross section of the intermediate layer 30.
  • the indentation hardness HB at the cross section of the intermediate layer 30 may be 240 MPa or less, 237 MPa or less, 200 MPa or less, or 180 MPa or less.
  • the indentation hardness HB may be 120 MPa or more and 240 MPa or less, 124 MPa or more and 240 MPa or less, 138 MPa or more and 240 MPa or less, 142 MPa or more and 240 MPa or less, 151 MPa or more and 240 MPa or less, or 156 MPa or more and 240 MPa or less.
  • the indentation hardness HB may be 120 MPa or more and 237 MPa or less, 124 MPa or more and 237 MPa or less, 138 MPa or more and 237 MPa or less, 142 MPa or more and 237 MPa or less, 151 MPa or more and 237 MPa or less, or 156 MPa or more and 237 MPa or less.
  • the indentation hardness HB may be 120 MPa or more and 200 MPa or less, 124 MPa or more and 200 MPa or less, 138 MPa or more and 200 MPa or less, 142 MPa or more and 200 MPa or less, 151 MPa or more and 200 MPa or less, or 156 MPa or more and 200 MPa or less.
  • the indentation hardness HB may be 120 MPa or more and 180 MPa or less, 124 MPa or more and 180 MPa or less, 138 MPa or more and 180 MPa or less, 142 MPa or more and 180 MPa or less, 151 MPa or more and 180 MPa or less, or 156 MPa or more and 180 MPa or less.
  • a lower limit may be set for the thickness T20 of the functional layer 20.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 4.0 ⁇ m or more, 4.2 ⁇ m or more, 5.2 ⁇ m or more, or 5.5 ⁇ m or more.
  • An upper limit may be set for the thickness T20 of the functional layer 20.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 10 ⁇ m or less, 9.5 ⁇ m or less, 8.7 ⁇ m or less, or 7.4 ⁇ m or less.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 4.0 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, 4.2 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, or 5.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 4.0 ⁇ m or more and 9.5 ⁇ m or less, 4.2 ⁇ m or more and 9.5 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 9.5 ⁇ m or less, or 5.5 ⁇ m or more and 9.5 ⁇ m or less.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 4.0 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, 4.2 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, or 5.5 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less.
  • the thickness T20 of the functional layer 20 may be 4.0 ⁇ m or more and 7.4 ⁇ m or less, 4.2 ⁇ m or more and 7.4 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 7.4 ⁇ m or less, or 5.5 ⁇ m or more and 7.4 ⁇ m or less.
  • An upper limit may be set for the thickness T30 of the intermediate layer 30.
  • an upper limit may be set for the thickness T30 of the intermediate layer 30.
  • the thickness T30 of the intermediate layer 30 may be 4.2 ⁇ m or less, 3.1 ⁇ m or less, 2.7 ⁇ m or less, 2.4 ⁇ m or less, 2.3 ⁇ m or less, or 2.0 ⁇ m or less.
  • the intermediate layer 30 is not essential and can be omitted from the optical sheet 10.
  • the thickness T30 of the intermediate layer 30 may be greater than 0, may be 0.5 ⁇ m or more, may be 1.0 ⁇ m or more, or may be 1.4 ⁇ m or more.
  • the thickness T30 of the intermediate layer 30 may be 0.5 ⁇ m or more and 4.2 ⁇ m or less, 0.5 ⁇ m or more and 3.1 ⁇ m or less, 0.5 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, 0.5 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 0.5 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, or 0.5 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T30 of the intermediate layer 30 may be 1.0 ⁇ m or more and 4.2 ⁇ m or less, 1.0 ⁇ m or more and 3.1 ⁇ m or less, 1.0 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, 1.0 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.0 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, or 1.0 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T30 of the intermediate layer 30 may be 1.4 ⁇ m or more and 4.2 ⁇ m or less, 1.4 ⁇ m or more and 3.1 ⁇ m or less, 1.4 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, 1.4 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.4 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, or 1.4 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T40 of the base layer 40 may be thicker than the thickness T20 of the functional layer 20.
  • the thickness T40 of the base layer 40 may be thicker than the thickness T30 of the intermediate layer 30.
  • the thickness T40 of the base layer 40 may be thicker than the total thickness of the thickness T20 of the functional layer 20 and the thickness T30 of the intermediate layer 30.
  • a base layer 40 having such a thickness T40 can stably support the functional layer 20 and the intermediate layer 30.
  • the intermediate layer 30 as a permeation layer is not essential for the optical sheet 10 of the first embodiment.
  • the intermediate layer 30 itself is not essential for the optical sheet 10 of the first embodiment. Regardless of the presence or absence of the intermediate layer 30, the hardness and scratch resistance of the first surface 11 can be improved by satisfying the above-mentioned conditions (A) and (B) regarding the indentation hardness in the cross section of the functional layer 20.
  • the thicknesses T20, T30, and T40 of each layer 20, 30, and 40 included in the optical sheet 10 are determined using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 10 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thickness is measured from the image observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the thicknesses T20, T30, and T40 are determined as the arithmetic mean of the ten thickness measurements taken at ten measurement positions.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 10 to be evaluated is obtained by observing the thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained by the following first and second steps.
  • a cut sample is cut out from the optical sheet to be evaluated.
  • the cut sample is visually checked for any abnormalities such as dirt or scratches.
  • the cut sample is embedded in resin to prepare an embedded sample.
  • the embedded sample is prepared as follows. First, the cut sample is placed in a silicon embedding plate. Embedding resin is poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin is hardened inside the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin that encases it are removed from the silicon embedding plate to obtain the embedded sample. The embedded sample is shaped like a block.
  • the embedding resin is epoxy resin.
  • the block-shaped embedded sample is cut to prepare a slice sample.
  • the slice sample includes a surface along a first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • a slice sample that is free of defects such as holes and has a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm is used as a thickness measurement sample.
  • the imaging conditions of the scanning transmission electron microscope are as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • the a * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 10 measured by transmitted light may be -3.0 or more and -1.6 or less.
  • the b * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 10 measured by transmitted light may be 3.5 or more and 6.0 or less.
  • the L * a * b * color system is a color coordinate defined as the CIE 1976 L * a * b * color space, and is also defined in JIS Z8781-4:2013.
  • the a * value and b * value in the L * a * b * color system are obtained based on the transmittance measured at 0.5 nm intervals in the range of 300 nm to 780 nm.
  • the light source of the measuring device is turned on for 15 minutes to stabilize the output of the light source.
  • the incident surface when measuring the a* value and the b * value is the second surface 12 of the optical sheet 10.
  • the test environment when measuring the a* value and the b * value is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%.
  • the sample is placed in the test environment for 16 hours before the start of the test.
  • the a * value is the arithmetic average of five measured values.
  • the five measured values are measured at five measurement positions on the optical sheet to be evaluated. The five measurement positions are located 10 mm or more apart from each other.
  • the b * value is the arithmetic average of the five measured values.
  • the five measured values for the b * value are the values measured at the five measurement positions where the five measured values for the a * value were measured.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 10 may be 12 or less, 11 or less, 10 or less, or 9.0 or less.
  • the yellowness index is an index showing the degree of yellow coloring of the optical sheet 10.
  • the yellowness (YI value) of the optical sheet 10 may be equal to or greater than 0.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 10 may be 0 or more and 12 or less, 0 or more and 11 or less, 0 or more and 10 or less, or 0 or more and 9.0 or less.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 10 may be 0 or more and 12 or less, 0 or more and 11 or less, 0 or more and 10 or less, or 0 or more and 9.0 or less.
  • Yellowness is measured by transmitted light.
  • auxiliary illuminant C and a 2-degree visual field are used to measure transmittance at 0.5 nm intervals in the range of 300 nm to 780 nm, and tristimulus values X, Y, and Z in the XYZ color system are calculated based on the measured transmittance.
  • the geometrical optical condition e of JIS Z 8722:2009 is adopted as the geometrical optical condition when measuring the yellowness.
  • the diameter of the incident light beam on the test piece is made smaller than the diameter of the opening.
  • the light source of the measuring device is turned on for 15 minutes to stabilize the output of the D65 light source.
  • the incident surface when measuring the yellowness is the second surface 12 of the optical sheet 10.
  • the test environment when measuring the yellowness is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%. The sample is placed in the test environment for 16 hours before the start of the test.
  • the yellowness index (YI value) is the arithmetic average of five measured values.
  • the five measured values are measured at five measurement positions on the optical sheet to be evaluated.
  • the five measurement positions are located at least 10 mm apart from each other.
  • Other measurement conditions when measuring the yellowness index (YI value) are in accordance with JIS K7373-1:2006.
  • the total light transmittance of the optical sheet 10 may be 50% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the total light transmittance of the optical sheet 10 does not have a particular upper limit.
  • the total light transmittance of the optical sheet 10 may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the total light transmittance of the optical sheet 10 may be 50% or more and 100% or less, 70% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 90% or more and 100% or less.
  • the total light transmittance of the optical sheet may be 50% or more and less than 100%, 70% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 90% or more and less than 100%.
  • a D65 light source is used to measure the total light transmittance. Before measuring the total light transmittance, the D65 light source is turned on for 15 minutes to stabilize the output of the D65 light source. The angle of incidence on the sample when measuring the total light transmittance is 0°. The incident surface when measuring the total light transmittance of the optical sheet 10 is the second surface of the optical sheet.
  • the test environment when measuring the total light transmittance is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%. The sample is placed in the test environment for 16 hours before starting the test. Other measurement conditions when measuring the total light transmittance are in accordance with JIS K7361-1:1997.
  • the total light transmittance is the arithmetic average of five measured values.
  • the five measured values are measured at five measurement positions on the optical sheet to be evaluated.
  • the five measurement positions are located at least 10 mm apart from each other.
  • the transmission haze of the optical sheet 10 may be 1.1% or less, 0.5% or less, or 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 10 has no particular lower limit.
  • the transmission haze of the optical sheet 10 may be 0% or more, or may be greater than 0%.
  • the transmission haze of the optical sheet 10 may be 0% or more and 1.1% or less, 0% or more and 0.5% or less, or 0% or more and 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 10 may be greater than 0% and 1.1% or less, greater than 0% and 0.5% or less, or greater than 0% and 0.2% or less.
  • a D65 light source is used to measure the transmission haze. Before measuring the transmission haze, the D65 light source is turned on for 15 minutes to stabilize the output of the D65 light source. The angle of incidence on the sample when measuring the transmission haze is 0°. The incident surface when measuring the transmission haze of the optical sheet 10 is the second surface 12 of the optical sheet 10. The test environment when measuring the transmission haze is a temperature of 23°C ⁇ 2°C and a relative humidity of 50% ⁇ 5%. The sample is placed in the test environment for 16 hours before the start of the test. Other measurement conditions when measuring the transmission haze are in accordance with JIS K7136:2000.
  • the transmission haze is the arithmetic average of five measured values.
  • the five measured values are measured at five measurement positions on the optical sheet to be evaluated.
  • the five measurement positions are located at least 10 mm apart from each other.
  • the ratio of silicon element to carbon element measured on the first surface 11 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.02 or more.
  • the amount of silicon element may be 0.02 or more when the amount of carbon element is 1.
  • the silicon element is the sum of an inorganic component (silica) and an organic component (silicone).
  • the functional layer 20 may contain inorganic particles as a lubricant.
  • the curable resin composition for producing the functional layer 20 may contain a leveling agent.
  • a Si-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of silicon elements to carbon elements can be set to 0.02 or more.
  • the ratio of elemental fluorine measured on the first surface 11 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.1% or less. In other words, the ratio of the amount of elemental fluorine to the total amount of elements detected by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.001 or less. In this example, substantially no fluorine is detected in the surface layer of the optical sheet 10. By not using an F-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of elemental fluorine can be 0.1% or less.
  • X-ray photoelectron spectroscopy allows for quantitative analysis of the elements present on the surface layer of the optical sheet 10.
  • X-ray photoelectron spectroscopy uses an X-ray photoelectron spectroscopy device (XPS).
  • the X-ray photoelectron spectrum of the C1s orbital, O1s orbital, Si2p orbital, and F1s orbital of the low refractive index layer surface of each measurement sample is measured under the conditions described below. Peak separation is performed for each X-ray photoelectron spectrum to determine the ratio of F element to all elements.
  • Measurement conditions Measurement method: Wide/Narrow X-ray source: Monochrome A1K ⁇ X-ray output: 150W Emission current: 10mA Acceleration voltage: 15 kV Charge neutralization mechanism: ON Measurement area: 300 ⁇ m x 700 ⁇ m Pass Energy: Survey: 160eV, Narrow: 40eV Photoelectron capture angle: 90° Auto Z: ON Peak shift correction: Correction was made so that the C-C peak in the C1s peak was 285.0 eV. Waveform separation of narrow peaks: Executed using the GL function in the analysis software attached to the device. Etching ions: Ar monoatomic ions
  • the base layer 40, the intermediate layer 30, and the functional layer 20 are stacked in the first direction D1.
  • the first direction D1 is the stacking direction.
  • the base layer 40, the intermediate layer 30, and the functional layer 20 extend in the second direction D2 and the third direction D3 perpendicular to the first direction D1.
  • the second direction D2 and the third direction D3 are perpendicular to each other.
  • the first direction D1 is the thickness direction and normal direction of the optical sheet 10.
  • the first direction D1 is also the thickness direction and normal direction of each layer 40, 30, and 20 included in the optical sheet 10.
  • the first surface 11 is composed of the functional layer 20.
  • the second surface 12 is composed of the base layer 40.
  • the functional layer 20 and the intermediate layer 30 are adjacent to each other in the first direction D1.
  • the intermediate layer 30 and the base layer 40 are adjacent in the first direction D1.
  • the optical sheet 10 may include layers other than the functional layer 20, the intermediate layer 30, and the substrate layer 40.
  • the optical sheet 10 may include one or more of a low-reflection layer, an antistatic layer, an antifouling layer, etc.
  • a layer other than the functional layer 20 may constitute the first surface 11.
  • the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer are thin layers. Therefore, even in an example in which the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer, constitute the first surface 11, the combination of the functional layer 20 and the intermediate layer 30 can improve the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10 and improve the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10.
  • the base layer 40 supports the functional layer 20 together with the intermediate layer 30.
  • the base layer 40 may be transparent. Transparent means that the total light transmittance in accordance with JIS K7361-1:1997 is 50% or more, and may be 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the material of the base layer 40 is not particularly limited.
  • the material of the base layer 40 may be resin or glass. Resin is preferable because it is lightweight and easy to manufacture.
  • the resin used in the base layer 40 may be a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene.
  • the resin used in the base layer 40 may be a vinyl resin such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, or ethylene-vinyl alcohol copolymer.
  • the resin used in the base layer 40 may be a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polybutylene terephthalate.
  • the resin used in the base layer 40 may be an acrylic resin such as polymethyl (meth)acrylate or polyethyl (meth)acrylate.
  • the resin used in the base layer 40 may be a styrene resin such as polystyrene, a polyamide resin such as nylon 6 or nylon 66, or a cellulose resin such as triacetyl cellulose. Further examples of the resin used in the base layer 40 include resins such as polycarbonate, polyimide resins, and cycloolefin resins obtained from cycloolefins such as norbornene and dicyclopentadiene.
  • the substrate layer 40 may contain only one of the above-mentioned resins, or may contain two or more of the above-mentioned resins.
  • the thickness of the resin substrate layer 40 is not particularly limited. From the viewpoint of ease of handling, the thickness of the resin substrate layer 40 may be 10 ⁇ m or more, 20 ⁇ m or more, or 50 ⁇ m or more. The thickness of the resin substrate layer 40 may be 500 ⁇ m or less, 400 ⁇ m or less, or 300 ⁇ m or less. The thickness of the glass substrate layer 40 may be 500 ⁇ m or more.
  • the substrate layer 40 may be flexible.
  • the thickness of the resin substrate layer 40 may be 10 ⁇ m or more and 40 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin substrate layer 40 may be 40 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less from the viewpoint of preventing the glass from shattering.
  • the substrate layer 40 may be prepared as a substrate film 45.
  • This substrate film 45 may include only a single layer or may include multiple layers.
  • the substrate layer 40 may include a primer layer such as an easy-adhesion layer.
  • the surface of the substrate film 45 may be subjected to one or more of sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, etching treatment such as oxidation, and undercoat treatment. These treatments can improve the adhesion between the substrate film 45 and the layer adjacent to the substrate film 45.
  • the surface of the substrate film 45 may be subjected to a cleaning treatment such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning.
  • the functional layer 20 includes a binder resin 23 and an ultraviolet absorbing agent.
  • the functional layer 20 exhibits a blue light blocking function by including the ultraviolet absorbing agent.
  • the binder resin 23 includes a cured product of a curable resin composition.
  • the functional layer 20 includes a cured product of a curable resin composition, which contributes to improving the hardness of the first surface 11 and the functional layer 20.
  • the curable resin composition may be an ionizing radiation curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include one or more of an ultraviolet ray curable resin composition and an electron beam curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include an ionizing radiation curable compound and a photopolymerization initiator.
  • the ionizing radiation curable compound may include one or more of an ultraviolet ray curable compound and an electron beam curable compound.
  • the ultraviolet ray curable compound is a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.
  • the electron beam curable compound is a resin that is cured by irradiation with an electron beam.
  • the cured product of the curable resin composition may be a cured curable compound.
  • the ionizing radiation curable compound contains an ionizing radiation curable functional group.
  • the ionizing radiation curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups, as well as epoxy groups and oxetanyl groups.
  • the ionizing radiation curable compound may contain two or more ionizing radiation curable functional groups.
  • the ionizing radiation curable compound may be a compound having an ethylenically unsaturated bond group.
  • the ionizing radiation curable compound may be a (meth)acrylate-based compound having a (meth)acryloyl group.
  • the ionizing radiation curable compound may be a siloxane compound containing a siloxane bond.
  • (meth)acrylate compounds containing four or more ethylenically unsaturated bond groups are referred to as "polyfunctional (meth)acrylate compounds.”
  • (Meth)acrylate compounds containing two to three ethylenically unsaturated bond groups are referred to as “low-functional (meth)acrylate compounds.”
  • the (meth)acrylate compound may be a monomer or an oligomer.
  • An ionizing radiation curable compound containing a low-functionality (meth)acrylate compound can suppress uneven shrinkage during curing and smooth the surface of the functional layer 20.
  • the proportion of the low-functional (meth)acrylate compound in the ionizing radiation curable compound may be 60% by mass or more, 80% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 100% by mass.
  • the low-functional (meth)acrylate compound may be a (meth)acrylate compound containing two ethylenically unsaturated bond groups.
  • examples of bifunctional (meth)acrylate compounds include isocyanuric acid di(meth)acrylate, polyalkylene glycol di(meth)acrylates such as ethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol diacrylate, and polybutylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxy diacrylate, bisphenol A tetrapropoxy diacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate.
  • examples of trifunctional (meth)acrylate compounds include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate.
  • polyfunctional (meth)acrylate compounds having 4 or more functional groups include pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and dipentaerythritol tetra(meth)acrylate.
  • the (meth)acrylate compound may be modified as described below.
  • Examples of (meth)acrylate oligomers include acrylate polymers such as urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyether (meth)acrylate.
  • Urethane (meth)acrylate can be obtained, for example, by reacting polyhydric alcohol and organic diisocyanate with hydroxy (meth)acrylate.
  • Epoxy (meth)acrylate may be a (meth)acrylate obtained by reacting trifunctional or higher aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, etc. with (meth)acrylic acid.
  • Epoxy (meth)acrylate may be a (meth)acrylate obtained by reacting difunctional or higher aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, etc. with polybasic acid and (meth)acrylic acid.
  • Epoxy (meth)acrylate may be a (meth)acrylate obtained by reacting difunctional or higher aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, etc. with phenols and (meth)acrylic acid.
  • the (meth)acrylate compound may have a part of its molecular skeleton modified in order to suppress uneven shrinkage caused by crosslinking.
  • the (meth)acrylate compound may be modified with, for example, ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, etc.
  • the (meth)acrylate compound may be modified with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide.
  • the proportion of the alkylene oxide-modified (meth)acrylate compound in the ionizing radiation curable compound may be 60% by mass or more, 80% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 100% by mass.
  • the alkylene oxide-modified (meth)acrylate compound may be a low-functional (meth)acrylate compound or a (meth)acrylate compound having two ethylenically unsaturated bond groups.
  • Examples of (meth)acrylate compounds having two alkylene oxide-modified ethylenically unsaturated bond groups include bisphenol F alkylene oxide-modified di(meth)acrylate, bisphenol A alkylene oxide-modified di(meth)acrylate, isocyanuric acid alkylene oxide-modified di(meth)acrylate, and polyalkylene glycol di(meth)acrylate.
  • the average repeating units of the alkylene glycol contained in the polyalkylene glycol di(meth)acrylate may be 3 to 5.
  • the alkylene glycol contained in the polyalkylene glycol di(meth)acrylate may be ethylene glycol and/or polyethylene glycol.
  • Examples of (meth)acrylate compounds having three ethylenically unsaturated bond groups modified with alkylene oxide include trimethylolpropane alkylene oxide-modified tri(meth)acrylate and isocyanuric acid alkylene oxide-modified tri(meth)acrylate.
  • One type of ionizing radiation curable compound may be used alone, or two or more types of ionizing radiation curable compounds may be used in combination. That is, the curable resin composition may contain one type of ionizing radiation curable compound, or two or more types of ionizing radiation curable compounds.
  • the curable resin composition may contain a solvent-drying type resin.
  • a solvent-drying type resin is a resin that becomes a coating simply by drying the solvent added to adjust the solid content during coating.
  • An example of a solvent-drying type resin is a thermoplastic resin.
  • the solvent-drying type resin is not particularly limited. Examples of the solvent-drying type resin include styrene-based resins, (meth)acrylic-based resins, alicyclic olefin-based resins, polyester-based resins, and cellulose derivatives such as cellulose esters.
  • the curable resin composition may contain one or more of these solvent-drying type resins.
  • the curable resin composition may contain a thermosetting compound.
  • a thermosetting compound is a resin that hardens when heated. There are no particular limitations on the thermosetting compound. Examples of thermosetting compounds include phenolic resins, urea resins, diallyl phthalate resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, aminoalkyd resins, melamine-urea co-condensation resins, and silicon resins.
  • the curable resin composition may contain one or more of these thermosetting compounds.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited.
  • Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoyl benzoate, ⁇ -amyloxime ester, thioxanthones, propiophenones, benzils, benzoins, acylphosphine oxides, etc.
  • the curable resin composition may contain one or more of these photopolymerization initiators.
  • the photopolymerization initiator may be acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, etc.
  • the curable resin composition may contain one or more of these photopolymerization initiators together with an ionizing radiation curable compound having a radically polymerizable unsaturated group.
  • the photopolymerization initiator may be an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonate ester, or the like.
  • the curable resin composition may contain one or more of these photopolymerization initiators together with an ionizing radiation curable compound having a cationically polymerizable functional group.
  • the curable resin composition may contain a photosensitizer.
  • photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc.
  • the curable resin composition may contain one or more of these photosensitizers.
  • the content of the photopolymerization initiator may be 1 part by mass or more, or 2 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the ionizing radiation curable compound.
  • the content of the photopolymerization initiator may be 10 parts by mass or less, or 8 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the ionizing radiation curable compound. This content can improve the hardness of the functional layer 20.
  • the ultraviolet absorber may be dispersed in the first direction D1, the second direction D2, and the third direction D3 in the functional layer 20.
  • the ultraviolet absorber may be included in a liquid curable resin composition.
  • the ultraviolet absorber included in the curable resin composition may be dispersed in the functional layer 20 after a coating film of the curable resin composition is subjected to a drying process and a curing process.
  • the ultraviolet absorber imparts a blue light cut function to the functional layer 20 and the optical sheet 10.
  • the characteristics of the blue light cut function can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber. Therefore, the blue light cut function caused by the ultraviolet absorber can make the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm 70% or more, while making the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm 15% or less.
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the yellowness YI value measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the type and content of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
  • the type and content of the ultraviolet absorber can be selected so as to obtain the desired blue light cut function and the desired a * value and b * value.
  • Examples of ultraviolet absorbers include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, and benzotriazole-based ultraviolet absorbers.
  • Examples of triazine-based ultraviolet absorbers include “TINUVIN 460" and “TINUVIN 477” available from BASF.
  • Examples of triazine-based ultraviolet absorbers include “LA-46” available from ADEKA Corporation.
  • Examples of benzophenone-based ultraviolet absorbers include “CHMASSORB 81/FL” available from BASF.
  • Examples of benzotriazole-based ultraviolet absorbers include "KEMISORB 71D" and “KEMISORB 79" available from Chemipro Chemical Co., Ltd.
  • benzotriazole-based ultraviolet absorbers examples include “JF-80” and “JAST-500” available from Johoku Chemical Industry Co., Ltd.
  • benzotriazole-based ultraviolet absorbers examples include “ULS-1933D” available from Lion Specialty Chemicals Co., Ltd. and “RUVA-93” available from Otsuka Chemical Co., Ltd.
  • the ultraviolet absorber contained in the curable resin composition may be polymerized or oligomerized.
  • the curable resin composition may contain a polymer or oligomer having a benzotriazole, triazine, or benzophenone skeleton as an ultraviolet absorber.
  • the curable resin composition may contain an ultraviolet absorber obtained by thermally copolymerizing a (meth)acrylate having a benzotriazole or benzophenone skeleton with methyl methacrylate (MMA) in any ratio.
  • MMA methyl methacrylate
  • the content of the ultraviolet absorber is not particularly limited.
  • the content of the ultraviolet absorber may be 1 part by mass or more, or 2 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the solid content of the curable resin composition.
  • the content of the ultraviolet absorber may be 35 parts by mass or less, or 12 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the solid content of the curable resin composition.
  • the curable resin composition may contain a sesamol-type benzotriazole monomer represented by the following general formula (1):
  • R 1 in formula (1) represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 in formula (1) represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched oxyalkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • sesamol-type benzotriazole monomer is not particularly limited.
  • Specific examples of the sesamol-type benzotriazole monomer include the following: 2-[2-(6-hydroxybenzo[1,3]dioxol-5-yl)-2H-benzotriazol-5-yl]ethyl methacrylate, 2-[2-(6-hydroxybenzo[1,3]dioxol-5-yl)-2H-benzotriazol-5-yl]ethyl acrylate, 3-[2-(6-hydroxybenzo[1,3]dioxol-5-yl)-2H-benzotriazol-5-yl]propyl methacrylate, 3-[2-(6-hydroxybenzo[1,3]dioxol-5-yl)-2H-benzotriazol-5-yl]propyl acrylate, 4-[2-(6-hydroxybenzo[1,3]dioxol-5-yl)-2H-benzotriazol-5
  • the sesamol-type benzotriazole monomer may be contained in the functional layer 20 at a content of 5% by mass or more and 20% by mass or less. With such a content, it is easy to adjust the spectral transmittance to a preferred range.
  • the sesamol-type benzotriazole monomer may react with the resin component constituting the functional layer 20 and be included as part of the resin component.
  • the sesamol-type benzotriazole monomer may be included alone without reacting with the resin component constituting the functional layer 20.
  • the curable resin composition may contain particles as a lubricant.
  • the particles as a lubricant may be inorganic particles or metal oxide particles.
  • the particles as a lubricant may be silica.
  • the particles as a lubricant may be silica without a reactive group.
  • the average primary particle diameter of the silica without a reactive group may be 100 nm or more and 600 nm or less, or 100 nm or more and 350 nm or less. By setting the average primary particle diameter of the particles as a lubricant to 100 nm or more, an excellent blocking prevention function can be exhibited. By setting the average primary particle diameter of the particles as a lubricant to 600 nm or more, the transmission haze can be reduced.
  • the particle diameter of the particles contained in the functional layer 20 is a value specified by the following (1) to (3).
  • a cross section of an optical sheet containing particles is observed with a scanning transmission electron microscope (STEM) to obtain an observation image.
  • the observation image is obtained by preparing a sample similar to the above-mentioned thickness measurement sample and observing this sample with a scanning transmission electron microscope.
  • (2) 30 particles are randomly selected from the observed image, and the particle diameter of each particle is measured.
  • the measurement values of the largest 10 particles and the smallest 10 particles are excluded from the measurement values of the 30 particles, to select the particle diameter measurement values of 10 particles.
  • the particle diameter (nm) is the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the particle is sandwiched between the two lines.
  • the particle diameter is the maximum length of the particle in the observed image.
  • the above steps (1) and (2) are repeated five times for the same optical sheet to be measured.
  • the arithmetic mean value of the particle diameter measurements for a total of 50 particles is regarded as the average particle diameter (nm) of the particles.
  • the curable resin composition may contain a Si-based leveling agent as an additive.
  • the functional layer coating liquid contains a Si-based leveling agent
  • the surface of the functional layer 20 can be made smoother.
  • the Si-based leveling agent can impart excellent slip properties and excellent anti-fouling properties to the surface of the functional layer 20.
  • the curable resin composition may contain other additives.
  • additives include antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants, silane coupling agents, thickeners, coloring inhibitors, colorants (pigments, dyes), defoamers, flame retardants, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, and surface modifiers.
  • the curable resin composition may contain one or more of these additives.
  • the curable resin composition may contain a solvent.
  • the solvent can be selected and used according to the type and solubility of the resin component used.
  • Examples of the type of solvent include ketones, ethers, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, halogenated carbons, esters, water, alcohols, cellosolves, cellosolve acetates, sulfoxides, and amides.
  • ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and diacetone alcohol.
  • ether solvents include dioxane, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • aliphatic hydrocarbon solvents include hexane.
  • alicyclic hydrocarbon solvents include cyclohexane.
  • aromatic hydrocarbon solvents include toluene and xylene.
  • halogenated carbon solvents include dichloromethane and dichloroethane.
  • ester solvents include methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate.
  • alcohol solvents include ethanol, isopropanol, butanol, and cyclohexanol.
  • the curable resin composition may contain one or more of the solvents listed above.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition i.e., the solid content ratio, is not particularly limited.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 5% by mass or more, or 25% by mass or more.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 70% by mass or less, or 60% by mass or less.
  • the functional layer 20 is produced using a liquid curable resin composition containing an ultraviolet absorber.
  • the prepared curable resin composition is applied to the surface on which the functional layer 20 is to be produced to form a coating film of the curable resin composition.
  • the coating film of the curable resin composition is dried and the dried coating film is cured to obtain the functional layer 20.
  • the method for preparing the curable resin composition is not particularly limited.
  • the curable resin composition may be prepared using known devices such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer.
  • the method for applying the curable resin composition is not particularly limited.
  • the curable resin composition may be applied by a known method such as spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coating, meniscus coating, flexographic printing, screen printing, or pad coating.
  • the curing treatment of the curable resin composition may be performed by irradiation with ionizing radiation.
  • the ionizing radiation may be ultraviolet light or an electron beam.
  • ultraviolet light sources include ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arc lamps, black light fluorescent lamps, metal halide lamps, etc.
  • the wavelength of the ultraviolet light may be in the wavelength range of 190 nm to 420 nm. It is preferable that the wavelength of the ultraviolet light used in the curing treatment is the central absorption wavelength of the photopolymerization initiator contained in the curable resin composition, or is close to the central absorption wavelength.
  • the wavelength of the ultraviolet light used in the curing treatment is away from the central absorption wavelength of the ultraviolet absorber contained in the curable resin composition.
  • the functional layer 20 can be sufficiently cured by the curing treatment by ultraviolet light irradiation.
  • the intermediate layer 30 is a layer adjacent to the functional layer 20 and the substrate layer 40.
  • the intermediate layer 30 may be a resin layer.
  • the intermediate layer 30 may be a layer having high adhesion to the substrate layer 40.
  • the intermediate layer 30 may be a layer having high adhesion to the functional layer 20.
  • the indentation hardness HB measured on the cross section of the intermediate layer 30 may be smaller than the indentation hardness HC measured on the cross section of the substrate layer 40.
  • the indentation hardness HB measured on the cross section of the intermediate layer 30 may be smaller than the indentation hardness HA1 measured on the cross section of the functional layer 20 at the first position 26.
  • the indentation hardness HB measured on the cross section of the intermediate layer 30 may be smaller than the indentation hardness HA2 measured on the cross section of the functional layer 20 at the second position 27.
  • the indentation hardness HB measured on the cross section of the intermediate layer 30 may be smaller than the indentation hardness HA measured on the cross section of the functional layer 20.
  • the indentation hardness HA is the arithmetic average of the indentation hardness HA1 at the first position 26, the indentation hardness HA2 at the second position 27, and the indentation hardness HA3 at the third position 28.
  • the presence of such intermediate layers 30 can improve the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10, and can improve the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10.
  • the material of the intermediate layer 30 may be selected as follows.
  • the intermediate layer 30 may contain a thermoplastic resin.
  • the intermediate layer 30 may contain the same resin component as at least a portion of the resin component contained in the functional layer 20.
  • the intermediate layer 30 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the intermediate layer 30 may contain a monomer.
  • the intermediate layer 30 may contain at least a portion of the monomer contained in the curable resin composition for producing the functional layer 20.
  • the intermediate layer 30 may be a mixed layer of the resin component of the functional layer 20 and the resin component of the base layer 40.
  • the intermediate layer 30 By forming the intermediate layer 30 as a mixed layer of the resin component of the functional layer 20 and the resin component of the base layer 40, the hardness of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved, and the scratch resistance of the first surface 11 of the optical sheet 10 can be improved.
  • the intermediate layer 30 as a mixed layer may be a permeation layer in which the curable resin composition for producing the functional layer 20 is permeated into the base film 45.
  • the base film 40 and the intermediate layer 30 may both be composed of the base film 45 to which the curable resin composition for producing the functional layer 20 is applied.
  • the intermediate layer 30 may be composed of a portion of the base film 45 into which the curable resin composition has permeated (permeation layer).
  • the base layer 40 may be composed of a portion of the base film 45 into which the curable resin composition has not permeated.
  • the solvent contained in the curable resin composition easily penetrates the base film 45, so that the intermediate layer 30 can be stably formed as a penetration layer.
  • the solvent easily penetrates the base film 45.
  • the solvent easily penetrates cellulose-based resins, particularly triacetylcellulose (TAC).
  • TAC triacetylcellulose
  • the solvent also easily penetrates acrylic resins. Therefore, the base layer 40 and the base film 45 may contain one or more acrylic resins and cellulose resins.
  • the intermediate layer 30, which is a mixed layer of the resin components of the functional layer 20 and the resin components of the base layer 40 can be stably produced.
  • the produced intermediate layer 30 contains one or more acrylic resins and cellulose resins.
  • the ease of forming the penetration layer varies depending on the relationship between the curable resin compound and solvent contained in the curable resin composition and the substrate film 45.
  • the ease of forming the penetration layer also varies depending on the viscosity of the curable resin composition, the drying conditions of the coating of the curable resin composition, and the curing conditions of the coating of the curable resin composition. Therefore, the thickness T30 of the intermediate layer 30 as the penetration layer can be adjusted depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the substrate film 45, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, etc.
  • the intermediate layer may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the functional layer.
  • the method for manufacturing the optical sheet 10 may include the following four steps.
  • the manufacturing method may further include a step of drying the coating film of the first curable resin composition before the step of curing the coating film of the first curable resin composition.
  • the manufacturing method may further include a step of drying the coating film of the second curable resin composition before the step of curing the coating film of the second curable resin composition.
  • the functional layer 20 can be formed by the first portion 20A and the second portion 20B.
  • the curable resin composition permeates the base film 45, thereby forming the intermediate layer 30 as a part of the base film 45.
  • the base layer 40 can be formed by the portion of the base film 45 that is not permeated by the curable resin composition.
  • the second portion 20B constitutes the surface portion of the functional layer 20.
  • the surface portion of the functional layer 20 is located near the first surface 11 or constitutes the first surface 11.
  • the first portion 20A constitutes the portion of the functional layer 20 that is bonded to the base film 45.
  • the first portion 20A is separated from the first surface 11.
  • the first curable resin composition and the second curable resin composition may be the same as the curable resin composition described above. However, the second curable resin composition may not contain an ultraviolet absorber.
  • the second curable resin composition may contain an ultraviolet absorber in a content smaller than the content of the first curable resin composition.
  • the second curable resin composition may contain an ultraviolet absorber in a content smaller than the content of the first curable resin composition.
  • the first curable resin composition contains more UV absorber. Therefore, the hardness of the first portion 20A is reduced.
  • the second curable resin composition does not contain UV absorber or contains only a small amount of UV absorber.
  • the coating film of the second curable resin composition can be irradiated with a sufficient amount of ionizing radiation, such as UV radiation, with sufficient strength. Therefore, the crosslinking reaction in the second portion 20B is promoted, and the hardness of the second portion 20B becomes hard. This allows the hardness of the first side 21 of the functional layer 20 to be improved while providing the functional layer 20 with UV cut function and blue light cut function due to the UV absorber.
  • the first portion 20A to which the first curable resin composition is applied may have a low hardness due to the inclusion of an ultraviolet absorber, which halts the crosslinking reaction. Therefore, the second curable resin composition may penetrate into the first portion 20A.
  • the first curable resin composition and the second curable resin composition are mixed, and the interface between the first portion 20A and the second portion 20B becomes inconspicuous. This significantly improves the adhesion between the first portion 20A and the second portion 20B.
  • the indentation hardness distribution defined by the above-mentioned condition (A) can then be imparted to the functional layer 20.
  • the indentation hardness gradient characteristic defined by condition (B) can be imparted to the functional layer 20.
  • the amount of the second curable resin composition applied may be greater than the amount of the first curable resin composition applied.
  • the UV absorbent is mainly dispersed in the first portion 20A.
  • the first portion 20A is covered by the high-hardness second portion 20B. Therefore, the UV absorbent can be effectively prevented from passing through the second portion 20B and bleeding out.
  • the second curable resin composition can penetrate not only into the first portion 20A but also into the base layer 40.
  • the amount of penetration of the first and second curable resin compositions into the base film 45 can be adjusted by the materials contained in the first and second curable resin compositions, the material of the base film 45, the preparation conditions of the first and second curable resin compositions, the drying conditions of the first and second curable resin compositions, the curing conditions of the first and second curable resin compositions, etc. Therefore, the thickness T30 of the intermediate layer 30 as a penetration layer can be adjusted with a high degree of freedom.
  • the above manufacturing method allows the spectral transmittance characteristics to be adjusted with a high degree of freedom.
  • the spectral transmittance characteristics can be adjusted by factors other than the type and total content of the ultraviolet absorbents contained in the first and second curable resin compositions.
  • the wavelength of the ultraviolet light used in the curing process is preferably away from the central absorption wavelength of the ultraviolet absorber contained in the curable resin composition. For this reason, in many conventional curable resin compositions, particularly ultraviolet curable resin compositions, contain only one type of ultraviolet absorber.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by factors other than the type of UV absorbent and the total content of the UV absorbent.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by the ratio of the content of the UV absorbent in the first curable resin composition to the content of the UV absorbent in the second curable resin composition.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by the ratio of the content of the UV absorbent in the first curable resin composition to the content of the curable resin composition in the second curable resin composition.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by one or more of the thickness of the first portion 20A, the thickness of the second portion 20B, and the ratio of the thickness of the first portion 20A to the thickness of the second portion 20B.
  • the coating of the second curable resin composition can be cured while avoiding the influence of the ultraviolet absorber contained in the first portion 20A.
  • the type, content, and content ratio of the ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition and the first portion 20A of the functional layer 20 can be selected with a high degree of freedom. This allows the functional layer 20 and the optical sheet 10 to be given the desired spectral transmittance characteristics.
  • the ultraviolet absorber can be unevenly distributed in a portion of the functional layer 20 in the thickness direction, for example, the first portion 20A. Therefore, the ultraviolet absorber can be effectively utilized to efficiently capture ultraviolet light and blue light. From this point of view, the desired spectral transmission characteristics can be imparted to the functional layer 20 and the optical sheet 10. Furthermore, while imparting the desired spectral transmission characteristics to the optical sheet 10, the hardness and scratch resistance of the first surface 11 can be improved.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 380 nm is 1% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 10 at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • a long sheet product 5 including a large number of optical sheets 10 can be manufactured as shown in Fig. 3.
  • the long sheet product 5 is cut to a predetermined size to obtain the optical sheets 10.
  • optical sheets 10 having various dimensions can be obtained from the long sheet product 5 in accordance with needs. Therefore, optical sheets 10 having various dimensions can be provided in a timely manner.
  • Fig. 3 by handling the sheet product 5 as a roll 7 wound around a winding core 6 centered on a winding axis RA, the handling of the sheet product 5 can be improved.
  • the method for manufacturing the optical sheet may further include a step of selecting the manufactured optical sheet 10.
  • the step of selecting the optical sheet 10 may include a step of measuring the spectral transmittance, a step of measuring the indentation hardness, and a step of selecting the optical sheet based on the measurement results.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm may be measured.
  • the indentation hardness in the cross section of the functional layer 20 may be measured. More specifically, the indentation hardness HA1 at the first position 26, the indentation hardness HA2 at the second position 27 at the cross section of the functional layer 20, and the indentation hardness HA3 at the third position 28 at the cross section of the functional layer 20 may be measured.
  • the first position 26 is located at the surface layer close to the first surface in the cross section.
  • the third position 28 is located at the surface layer close to the second surface in the cross section.
  • the second position 27 is located in the middle between the first position 26 and the third position 28.
  • the optical sheet may be selected based on the measured spectral transmittance and the measured indentation hardness.
  • a spectral transmittance of 1% or less at a wavelength of 380 nm may be acceptable.
  • a spectral transmittance of 70% or more at a wavelength of 440 nm may be acceptable.
  • the condition for acceptance may be that the functional layer 20 has the following characteristics (X) and (Y) regarding the indentation hardness HA1 at the first position 26 on the cross section of the functional layer 20, the indentation hardness HA2 at the second position 27 on the cross section of the functional layer 20, and the indentation hardness HA3 at the third position 28 on the cross section of the functional layer 20.
  • the optical sheet 10 selected as a good product has excellent ultraviolet blocking function and excellent blue light blocking function, and has high hardness on the first surface 11. This selection step makes it possible to select an optical sheet with excellent scratch resistance with high precision without performing scratch tests using felt or steel wool.
  • the optical sheet 10 according to the first embodiment may be applied to a polarizing plate 50.
  • An optical sheet 110 according to a second embodiment and an optical sheet 210 according to a third embodiment, which will be described later, may also be applied to the polarizing plate 50.
  • the polarizing plate 50 includes a first protective sheet 51, a polarizer 52, and a second protective sheet 53.
  • the first protective sheet 51 and the second protective sheet 53 sandwich the polarizer 52 between them and cover both sides.
  • At least one of the first protective sheet 51 and the second protective sheet 53 may include an optical sheet 10, 110, or 210.
  • the first protective sheet 51 includes the optical sheet 10, 110, or 210.
  • the optical sheet 10, 110, or 210 may block light with a wavelength of 380 nm or less contained in the light incident on the polarizing plate 50 with high efficiency. This can suppress deterioration of the polarizer 52 caused by blue light.
  • the polarizer 52 transmits one linearly polarized component and blocks the other linearly polarized component.
  • the polarizer 52 may be an absorptive polarizer that absorbs the other linearly polarized component.
  • the polarizer 52 may be a reflective polarizer that reflects the other linearly polarized component.
  • the polarizer 52 may be a sheet-type polarizer such as a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, or an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film that has been dyed with iodine or the like and stretched.
  • the polarizer 52 may be a wire-grid type polarizer made of a large number of metal wires arranged in parallel.
  • the polarizer 52 may be a coating type polarizer coated with lyotropic liquid crystal or a dichroic guest-host material.
  • the polarizer 52 may be a multilayer thin-film type polar
  • the polarizing plate 50 is not limited to the configuration shown in FIG. 4.
  • the polarizing plate 50 may include a quarter-phase plate in addition to the optical sheets 10, 110, and 210 and the polarizer 52.
  • This polarizing plate 50 functions as a circular polarizing plate.
  • the polarizing plate 50 as a circular polarizing plate has the function of suppressing reflection.
  • the optical sheet 10 according to the first embodiment may be applied to a touch panel member 55.
  • An optical sheet 110 according to a second embodiment and an optical sheet 210 according to a third embodiment, which will be described later, may also be applied to the touch panel member 55.
  • the touch panel member 55 has optical sheets 10, 110, 210 and an electrode layer 56.
  • the touch panel member 55 is a member that constitutes a touch panel.
  • the touch panel member 55 outputs the approach or contact of a detection object such as a finger or pen as an electrical state change.
  • a controller electrically connected to the touch panel member 55 can identify the position of the detection object based on the output from the touch panel member 55.
  • the first surface of the optical sheets 10, 110, 210 has high hardness and excellent scratch resistance. Therefore, when the detection object is rubbed against the first surface, scratches on the first surface can be suppressed.
  • the electrode layer 56 includes a conductor for detecting the contact position.
  • the configuration of the conductor is appropriately selected depending on the method by which the touch panel detects contact.
  • the electrode layer 56 may include a conductor that spreads in a planar shape without being divided into regions.
  • the electrode layer 56 may include multiple conductors. The multiple conductors may be arranged in one direction, and each conductor may extend in a direction perpendicular to the one direction.
  • the conductor included in the electrode layer 56 may be a film formed from a transparent conductive material.
  • transparent conductive materials include metal oxides such as indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • the conductor included in the electrode layer 56 may include metal wires arranged in a mesh pattern.
  • the optical sheet 10 according to the first embodiment may be applied to the display device 60.
  • An optical sheet 110 according to a second embodiment and an optical sheet 210 according to a third embodiment, which will be described later, may also be applied to the display device 60. .
  • the display device 60 includes a display element 61 and optical sheets 10, 110, 210.
  • the display element 61 has a display surface 61a that displays an image.
  • the optical sheets 10, 110, 210 are overlaid on the display element 61 with their second surfaces facing the display surface 61a.
  • the optical sheets 10, 110, 210 may be bonded to the display element 61 via a bonding layer including an adhesive, a sticky material, or the like.
  • the optical sheets 10, 110, 210 may be incorporated into the display device 60 as part of the polarizing plate 50 or the touch panel member 55.
  • the image light emitted from the display element 61 passes through the optical sheets 10, 110, and 210.
  • the optical sheets 10, 110, and 210 may block light with wavelengths of 380 nm or less contained in the image light with high efficiency. This can reduce the burden on the observer, such as eye strain.
  • the optical sheets 10, 110, and 210 block light with wavelengths of 410 nm or less from the external light entering the display device 60. This can prevent the polarizer 52 of the polarizing plate 50 and the EL elements of the organic EL panel from being deteriorated by blue light contained in the external light.
  • the first surface of the optical sheets 10, 110, and 210 has a sufficiently high hardness. Therefore, the optical sheets 10, 110, and 210 can protect the display surface 61a of the display device 60. In addition, since scratches on the first surface can be suppressed, the display device 60 can display high-quality images.
  • the display element 61 is not particularly limited. Examples of the display element 61 include a liquid crystal display element, an EL display element, a plasma display element, an electronic paper element, etc.
  • the first curable resin composition 1A was applied onto a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 ⁇ m, and a first coating film was formed on the substrate film.
  • the method for producing the first curable resin composition 1A will be described later.
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the first coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 66 mJ/cm 2.
  • the first coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the first portion of the functional layer was formed on the substrate film.
  • the amount of application of the first curable resin composition 1A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 3.4 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • the second curable resin composition 1A having the following formulation was applied onto the first portion to form a second coating film on the substrate film.
  • the solid content of the second curable resin composition 1A was 45%.
  • the second curable resin composition 1A did not contain an ultraviolet absorber.
  • the second coating film was dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the second coating film was dried under the conditions of 70°C x 20 seconds (drying air speed 0.3 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the second coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 288 mJ/ cm2 .
  • the second coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the second portion of the functional layer was prepared on the substrate film and the first portion.
  • the amount of application of the second curable resin composition 1A was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate layer or the first portion.
  • Example 11 As a result of the above, an optical sheet according to Example 11 was obtained.
  • the first portion and the second portion constituted a functional layer.
  • the cross section of the optical sheet of Example 11 was observed during the thickness measurement described below.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used to observe the cross section.
  • the cross section was observed at an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, it was found that the curable resin composition had penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer. Furthermore, the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • the contents in the four-neck flask were refluxed and dehydrated at 110-115°C for 4 hours.
  • 30 mL of water and 0.6 g (0.006 mol) of sodium carbonate were added to the four-neck flask.
  • the four-neck flask was then left to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed.
  • 0.2 g of activated carbon was added to the four-neck flask, and the contents were refluxed and stirred to decolorize.
  • the contents removed from the four-neck flask were then filtered. 40 mL of toluene was collected from the obtained filtrate under reduced pressure.
  • An intermediate composition was prepared by mixing the following: - Multifunctional monomer (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded (a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded to MMA and an ultraviolet absorber at a mass ratio X of 40 parts by mass) Solvent (a mixture of MEK and toluene in a mass ratio of 30:70) The polyfunctional monomer and the acrylic polymer (1) were mixed in a solid content mass ratio of 30:70.
  • - Multifunctional monomer PT-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively
  • the obtained intermediate composition was mixed with a photopolymerization initiator (4 parts by mass of Irgacure 819, manufactured by BASF) and a leveling agent (0.2 parts by mass of LE-304, manufactured by Kyoeisha) and thoroughly stirred to prepare a first curable resin composition 1A.
  • the obtained first curable resin composition 1A contained 25% solids.
  • UV-curable acrylate-containing composition 50 parts by mass (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50 parts by mass of ultraviolet-curable urethane acrylate-containing composition (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577")
  • Leveling agent 0.4 parts by mass (Kyoeisha, product name "LE-304”)
  • Photopolymerization initiator 4 parts by mass IGM Resins, trade name "Omnirad184”
  • Lubricant 20 parts by mass (CIK Nanotech, SIRMIBK15WT%-E65)
  • Solvent a mixture of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone in a mass ratio of 55:48)
  • Example 12 differs from the above-mentioned Example 11 in that the coating amount of the first curable resin composition 1A was increased, but otherwise the optical sheet of Example 12 was obtained using the same materials and the same method as in Example 11.
  • the coating amount of the first curable resin composition 1A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • Example 12 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 12 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 13 differs from Example 11 in that the solid content ratio of the first curable resin composition was changed, the solid content ratio of the second curable resin composition was changed, and the amount of the second curable resin composition applied was increased.
  • the optical sheet of Example 13 was obtained using the same materials and the same method as Example 11.
  • a first curable resin composition having a solid content of 35% was used.
  • the first curable resin composition used in Example 13 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the first curable resin composition 1A.
  • a second curable resin composition having a solid content of 50% was used.
  • the second curable resin composition used in Example 13 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the second curable resin composition 1A.
  • the amount of the second curable resin composition applied was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 6.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film and the first portion.
  • Example 13 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 13 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 14 differs from Example 11 above in that the solid content ratio of the first curable resin composition and the solid content ratio of the second curable resin composition were changed, and the optical sheet of Example 14 was obtained by the same materials and the same method as Example 11 in other respects.
  • a first curable resin composition having a solid content of 20% was used.
  • the first curable resin composition used in Example 14 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the first curable resin composition 1A.
  • a second curable resin composition having a solid content of 40% was used.
  • the second curable resin composition used in Example 14 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the second curable resin composition 1A.
  • Example 14 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 14 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 15 differs from Example 11 above in that the amount of the first curable resin composition 1A applied was reduced and the amount of the second curable resin composition 1A applied was reduced.
  • the optical sheet of Example 15 was obtained by using the same materials and the same method as Example 11.
  • the amount of the first curable resin composition 1A applied was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 1.7 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition applied was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film and the first portion.
  • Example 15 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 15 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 16 differs from Example 11 in that the composition of the first curable resin composition was changed, the amount of the first curable resin composition applied was increased, and the amount of the second curable resin composition 1A applied was increased.
  • the optical sheet of Example 16 was obtained using the same materials and methods as Example 11.
  • the first curable resin composition 1A used in Example 11 contained a polyfunctional monomer and an acrylic polymer (1) mixed in a solid content mass ratio of 30:70.
  • the first curable resin composition used in Example 16 was obtained by mixing a polyfunctional monomer and an indole-based ultraviolet absorber mixed in a mass ratio of 95:5 instead of the polyfunctional monomer and acrylic polymer (1) of the first curable resin composition 1A.
  • the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition used in Example 16 was the same as the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition 1A.
  • the indole-based ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition used in Example 16 was a product name "BONASORB UA-3912" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.
  • the solid content of the first curable resin composition used in Example 16 was 25%, which was the same as the solid content of the first curable resin composition 1A.
  • the amount of the first curable resin composition applied was set to an amount that would create a first portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 1A applied was set to an amount that would create a second portion with a dry thickness of 7.0 ⁇ m, assuming no penetration into the base film or the first portion.
  • Example 16 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 16 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 17 differs from Example 11 above in that the amount of the first curable resin composition 1A applied was increased and the amount of the second curable resin composition 1A applied was decreased, and the optical sheet of Example 15 was obtained by the same materials and the same method as Example 11 in other respects.
  • the amount of the first curable resin composition 1A applied was an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 5.1 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition applied was an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 3.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film and the first portion.
  • Example 17 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 17 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Example 18 differs from Example 11 in that the leveling agent of the first curable resin composition 1A was omitted and that the leveling agent of the second curable resin composition 1A was changed, and the optical sheet of Example 18 was obtained using the same materials and the same method as Example 11 in other respects.
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differs from the first curable resin composition 1A described above in that the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.2 parts by mass" was omitted, and the other respects were the same as the first curable resin composition 1A described above.
  • Example 18 the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the second curable resin composition 1A described above in that the leveling agent "DIC, F-477, 0.3 parts by mass” was used instead of the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.4 parts by mass”.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the above-mentioned second curable resin composition 1A except for the leveling agent.
  • Example 18 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 18 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • the amount of the first curable resin composition 1A applied was set to an amount that would produce a first portion having a dry thickness of 5.7 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • an optical sheet according to Comparative Example 11 was obtained. That is, in the optical sheet according to Comparative Example 11, the functional layer was composed only of the first portion prepared using the first curable resin composition 1A.
  • the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 1A in Comparative Example 11 was different from the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 1A in Example 11.
  • the method and conditions for producing the functional layer using the first curable resin composition 1A in Comparative Example 11 were the same as the method and conditions for producing the first part using the first curable resin composition 1A in Example 11.
  • Example 11 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 11 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the first curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • a first curable resin composition 1B having the following formulation was applied onto a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 ⁇ m, and a first coating film was formed on the substrate film.
  • the solid content of the first curable resin composition 1B was 45%.
  • the first curable resin composition 1B did not contain an ultraviolet absorber.
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the first coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 66 mJ/cm 2.
  • the first coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the first portion of the functional layer was formed on the substrate film.
  • the amount of application of the first curable resin composition 1B was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • UV-curable acrylate-containing composition 50 parts by mass (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50 parts by mass of ultraviolet-curable urethane acrylate-containing composition (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577")
  • Leveling agent 0.4 parts by mass (Kyoeisha, product name "LE-304”)
  • Photopolymerization initiator 4 parts by mass IGM Resins, trade name "Omnirad184”
  • Solvent a mixture of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone in a mass ratio of 55:48)
  • the second curable resin composition was applied onto the first portion to form a second coating film on the substrate film.
  • the first curable resin composition 1A used in Example 11 was used as the second curable resin composition.
  • the solid content of the second curable resin composition used in Comparative Example 12 was 25%.
  • the second curable resin composition used in Comparative Example 12 contained an ultraviolet absorber.
  • the second coating film was dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s). Thereafter, the second coating film was dried under the conditions of 70°C x 20 seconds (drying air speed 0.3 m/s). As a result, the solvent was volatilized.
  • the second coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 288 mJ/ cm2 .
  • the second coating film was cured by irradiation with ultraviolet light to prepare the second portion of the functional layer on the substrate film and the first portion.
  • the amount of the second curable resin composition 1A applied was set to an amount sufficient to produce a second portion having a dry thickness of 3.5 ⁇ m, on the assumption that the composition would not penetrate into the base layer or the first portion.
  • an optical sheet according to Comparative Example 12 was obtained.
  • the functional layer was formed by the first portion and the second portion.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 12 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Comparative Example 13 differs from Comparative Example 11 in that the composition of the first curable resin composition was changed, the amount of the first curable resin composition applied was increased, and the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during curing of the first coating film was increased.
  • the optical sheet of Comparative Example 13 was obtained using the same materials and methods as Comparative Example 11.
  • the first curable resin composition 1A used in Comparative Example 11 and Example 11 contained a polyfunctional monomer and an acrylic polymer (1) mixed in a solid content mass ratio of 30:70.
  • the first curable resin composition used in Comparative Example 13 contained a polyfunctional monomer and an acrylic polymer (1) mixed in a solid content mass ratio of 60:40.
  • the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 13 was the same as the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition 1A.
  • the acrylic polymer (1) contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 12 was the same as the acrylic polymer (1) contained in the first curable resin composition 1A.
  • the solid content of the first curable resin composition used in Comparative Example 13 was 25%, which was the same as the solid content of the first curable resin composition 1A.
  • the amount of the first curable resin composition applied was set to an amount sufficient to produce a functional layer having a dry thickness of 7.5 ⁇ m and consisting of only the first portion, assuming that the composition did not penetrate into the substrate film.
  • the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during curing of the first coating film was 132 mJ/ cm2 .
  • Example 11 During thickness measurement described below, the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 13 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the first curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • a first curable resin composition 1C having the following formulation was applied onto a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 ⁇ m, and a first coating film was formed on the substrate film.
  • the solid content of the first curable resin composition 1C was 45%.
  • the first curable resin composition 1C did not contain an ultraviolet absorber.
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the first coating film was dried under the condition of 50° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the first coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 132 mJ/cm 2.
  • the first coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the first portion of the functional layer was formed on the substrate film.
  • the amount of application of the first curable resin composition 1C was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • UV-curable acrylate-containing composition 50 parts by mass (DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50 parts by mass of ultraviolet-curable urethane acrylate-containing composition (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577”) Leveling agent: 0.4 parts by mass (Kyoeisha, product name "LE-304”) ⁇ Photopolymerization initiator 4 parts by mass (IGM Resins, trade name "Omnirad184”) Solvent (a mixture of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone in a mass ratio of 55:48)
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • UV-curable urethane acrylate-containing composition manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577
  • Leveling agent 0.4 parts by mass (Kyoeisha
  • the second curable resin composition was applied onto the first portion to form a second coating film on the substrate film.
  • the first curable resin composition 1A used in Example 11 was used as the second curable resin composition.
  • the solid content of the second curable resin composition used in Comparative Example 14 was 25%.
  • the second curable resin composition used in Comparative Example 14 contained an ultraviolet absorber.
  • the second coating film was dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s). Thereafter, the second coating film was dried under the conditions of 70°C x 20 seconds (drying air speed 0.3 m/s). As a result, the solvent was volatilized.
  • the second coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 288 mJ/ cm2 .
  • the second coating film was cured by irradiation with ultraviolet light to prepare the second portion of the functional layer on the substrate film and the first portion.
  • the amount of the second curable resin composition 1A applied was set to an amount sufficient to produce a second portion having a dry thickness of 3.5 ⁇ m, on the assumption that the composition would not penetrate into the base layer or the first portion.
  • an optical sheet according to Comparative Example 14 was obtained.
  • the functional layer was formed by the first portion and the second portion.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 14 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the intermediate layer.
  • the interface between the first and second parts in the functional layer could not be observed.
  • Comparative Example 15 differs from the above-mentioned Comparative Example 13 in that the leveling agent of the first curable resin composition and the leveling agent of the second curable resin composition were changed, but otherwise the optical sheet of Comparative Example 15 was obtained using the same materials and method as Comparative Example 13.
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differed from the first curable resin composition used in Comparative Example 13 in that the leveling agent "0.2 parts by mass of F-568 manufactured by DIC” was used instead of the leveling agent "0.2 parts by mass of LE-304 manufactured by Kyoeisha.”
  • the first curable resin composition used to form the first coating film was the same as the first curable resin composition used in Comparative Example 13, except for the leveling agent.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the second curable resin composition 1A used in Comparative Example 13 in that the leveling agent "0.4 parts by mass of F-477 manufactured by DIC” was used instead of the leveling agent "0.4 parts by mass of LE-304 manufactured by Kyoeisha.”
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the second curable resin composition 1A used in Comparative Example 13, except for the leveling agent.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 15 was observed in the same manner as in Example 11.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Thickness>> A sample for thickness measurement was prepared by the following first and second steps.
  • the embedded sample was prepared using the following procedure. First, the cut sample was placed in a silicon embedding plate. Embedding resin was poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin was allowed to harden within the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin surrounding it were removed from the silicon embedding plate to obtain an embedded sample. The embedded sample was shaped like a block.
  • the silicon embedding plate used was manufactured by Dosaka EM.
  • the embedding resin was epoxy resin.
  • the embedding resin was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” and the same company's product name "Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • the embedding resin was allowed to harden by leaving it at room temperature for 12 hours.
  • the block-shaped embedded sample was cut with a diamond knife to prepare a slice sample.
  • the slice sample was aligned along the first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • slice samples without defects such as holes and with a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm were used as thickness measurement samples.
  • microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome was an Ultramicrotome EM UC7 manufactured by Leica Microsystems. When cutting the block-shaped embedded sample, it was first roughly cut as coarse trimming, and finally, precisely trimmed with a diamond knife to obtain a section sample.
  • the thickness of each layer was measured using the observation image of the thickness measurement sample by a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample was stained. Osmium tetroxide was used for staining.
  • the stained thickness measurement sample was imaged using a scanning transmission electron microscope to obtain an observation image of the thickness measurement sample.
  • the scanning transmission electron microscope used was an S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation.
  • the imaging conditions were as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • Ten observation images were taken from one thickness measurement sample for each example.
  • the ten observation images were taken at ten observation positions (measurement positions) spaced at a pitch of 10 ⁇ m apart in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet in question.
  • the functional layer thickness T20 ( ⁇ m) and intermediate layer thickness T30 ( ⁇ m) for the optical sheet in each example were measured.
  • the arithmetic mean value of the ten thickness measurements from the ten observation images was taken as the thickness of the target layer.
  • the measurement results for the functional layer thickness T20 ( ⁇ m) and the intermediate layer thickness T30 ( ⁇ m) are shown in Table 1.
  • Spectral transmittance >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The spectral transmittance (%) was measured. The spectral transmittance (%) was measured for each wavelength at intervals of 0.5 nm within the wavelength range of 379.5 nm to 440.5 nm. The measurement was performed using an ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" manufactured by Nippon Bunko Co., Ltd. Using the measured value of the spectral transmittance, each wavelength in the range of 380 nm to 440 nm at intervals of 0.5 nm was measured.
  • UV-2600 ultraviolet-visible spectrophotometer
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength was calculated.
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength X was calculated by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm).
  • the measurement results of the spectral transmittance at 380.0 nm and the spectral transmittance at 440.0 nm are shown in Tables 1 and 2.
  • the wavelengths at which the slope of the spectral transmittance is maximum are shown in Tables 1 and 2.
  • optical sheets according to Examples 11 to 18 and Comparative Examples 11 to 15 were placed on the display surface of a commercially available organic EL display device, and the image displayed by the organic EL display device was observed through the optical sheet.
  • Examples 11 to 18 and Comparative Examples 11 to 15 there was no noticeable change in color between the image when the optical sheet was installed and the image when the optical sheet was not installed, and it was within the range that could be considered an acceptable product.
  • Examples 11 to 16, Example 18, and Comparative Examples 11 to 15 there was no noticeable change in color between the image when the optical sheet was installed and the image when the optical sheet was not installed.
  • Pencil hardness >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The pencil hardness was measured using a pencil hardness tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. The pencil hardness evaluated according to the above-mentioned evaluation criteria is shown in Table 1.
  • the sample was placed on the base plate with the second surface of the optical sheet in contact with the base plate.
  • the height of the four corners of the sample from the base plate was measured as the float (mm).
  • the maximum of the four float measurements taken for one sample was taken as the float for that sample.
  • the float was measured for each of the three samples.
  • the arithmetic mean value of the three float measurements was taken as the deformation amount for that example.
  • the deformation amount measurement results are shown in Table 1.
  • Measurement conditions Measurement method: Wide/Narrow X-ray source: Monochrome A1K ⁇ X-ray output: 150W Emission current: 10mA Acceleration voltage: 15 kV Charge neutralization mechanism: ON Measurement area: 300 ⁇ m x 700 ⁇ m Pass Energy: Survey: 160eV, Narrow: 40eV Photoelectron capture angle: 90° Auto Z: ON Peak shift correction: Correction was made so that the C-C peak in the C1s peak was 285.0 eV. Waveform separation of narrow peaks: Executed using the GL function in the analysis software attached to the device. Etching ions: Ar monoatomic ions
  • Table 2 shows the percentage (%) of the amount of each element detected, with the total amount of elements detected being 100.
  • Example 11 the ratio of silicon element to carbon element was 0.02 (2%) or more.
  • the cross section of the functional layer in Example 11 was observed.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used for the cross section observation. When the cross section was observed at an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, the silica added as a lubricant was dispersed without being unevenly distributed in aggregate.
  • the epoxy resin used for embedding was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” with the same company's product name “Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • a microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome used was Leica Microsystems' product name "Ultramicrotome EM UC7.”
  • the indentation hardness (MPa) of the cross section of the slice samples of the optical sheet according to each example was measured using the method described above.
  • the indentation hardness (MPa) was measured using a measuring device "TI-950 TriboIndenter” manufactured by BRUKER.
  • the indenter used to measure the indentation hardness (MPa) was "TI-0039" manufactured by BRUKER.
  • the following measurement results for indentation hardness (MPa) are shown in Table 1.
  • the indentation hardness in the cross section of each layer was the arithmetic average value of the indentation hardness measured at 10 measurement positions.
  • the 10 measurement positions were 10 positions on one slice sample, spaced apart at 5 ⁇ m intervals in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet.
  • Total light transmittance >> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The total light transmittance was measured. A haze meter "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory was used to measure the total light transmittance. The measurement results of the total light transmittance are shown in Table 2.
  • Yellowness index YI value>> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and comparative examples. The samples were visually confirmed to be free of any abnormalities such as dust or scratches. The yellowness index YI value of the optical sheets according to each example was measured by the method described above. The yellowness index YI value was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" manufactured by Shimadzu Corporation. The measurement results of the yellowness index YI value are shown in Table 2.
  • the optical sheet 110 includes a first layer 120.
  • the first layer 120 includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorber.
  • the first layer 120 including the ultraviolet absorber provides the optical sheet 110 with a blue light blocking function.
  • the optical sheet 110 has a spectral transmittance of 15% or less at a wavelength of 410 nm.
  • the optical sheet 110 has a spectral transmittance of 70% or more at a wavelength of 440 nm.
  • the optical sheet 110 may block light having a wavelength of 410 nm or less with high efficiency.
  • the optical sheet 110 may transmit light having a wavelength of 440 nm or more with high transmittance.
  • the optical sheet 110 blocks light with a wavelength of 410 nm or less, thereby suppressing problems caused by blue light.
  • image light emitted from the display device 60 can pass through the optical sheet 110.
  • the optical sheet 110 can block light with a wavelength of 410 nm or less from the image light.
  • eye strain of the observer of the image can be alleviated.
  • external light such as sunlight can be incident on the optical sheet 110.
  • deterioration of the EL element (organic electroluminescence element) of an organic EL panel (organic electroluminescence panel) can be suppressed.
  • deterioration of the polarizer 52 of the polarizing plate 50 can be suppressed.
  • Light with a wavelength of 440 nm or more can pass through the optical sheet 110 with high transmittance. This makes it possible to suppress changes and deterioration in the color of the image observed through the optical sheet 110.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be 15% or less, 14% or less, 13% or less, 12% or less, or 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be 0% or more, greater than 0%, 2% or more, or 5% or more.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be 0% or more and 15% or less, 0% or more and 14% or less, 0% or more and 13% or less, 0% or more and 12% or less, or 0% or more and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be greater than 0% and 15% or less, greater than 0% and 14% or less, greater than 0% and 13% or less, greater than 0% and 12% or less, or greater than 0% and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be 2% or more and 15% or less, greater than 2% and 14% or less, greater than 2% and 13% or less, greater than 2% and 12% or less, or greater than 2% and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 410 nm may be 5% or more and 15% or less, 5% or more and 14% or less, 5% or more and 13% or less, 5% or more and 12% or less, or 5% or more and 10% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more, 75% or more, 80% or more, or 85% or more.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 440 nm may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and 100% or less, 75% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 85% or more and 100% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 110 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and less than 100%, 75% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 85% or more and less than 100%.
  • the method for measuring the spectral transmittance is the same as that described in the first embodiment.
  • the first layer 120 further includes a cured product of the curable resin composition.
  • the cured product of the curable resin composition is also referred to as a resin cured product.
  • the resin cured product can impart high hardness to the first layer 120 and the optical sheet 110.
  • the first layer 120 functions as a so-called hard coat layer.
  • the optical sheet 110 with improved hardness has excellent scratch resistance. When the optical sheet 110 is in use, scratches on the optical sheet 110 can be suppressed.
  • the optical sheet 110 is also suitable for a touch panel member 55 (see FIG. 5) that is expected to come into contact with a finger or a pen during use.
  • a resin layer containing a cured resin product is obtained by curing a coating film of a curable resin composition.
  • the coating film can be cured by exposing the coating film to light, which promotes a crosslinking reaction. High-energy short-wavelength light is usually used for exposure.
  • the ultraviolet absorber added to the curable resin composition can absorb the light used in the curing process of the coating film. In other words, the ultraviolet absorber can inhibit the curing process of the curable resin composition.
  • the scratch resistance may be significantly reduced. If the hardness of the resin layer containing the cured resin is low, the UV absorber may bleed out of the resin layer when the optical sheet is used. If the UV absorber bleeds out, the blue light blocking function of the optical sheet 110 will also be insufficient.
  • a measure is taken to improve the hardness of the first layer 120 and the optical sheet 110.
  • the optical sheet 110 according to the second embodiment includes a second layer 130 adjacent to the first layer 120.
  • the thickness ratio is 1.5 or more and 7.5 or less.
  • the thickness ratio is determined using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thicknesses T120 and T130 are measured from the image observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the thickness ratio at the measurement position is calculated from the thickness T120 of the first layer 120 and the thickness T130 of the second layer 130 measured at the same position in a direction perpendicular to the thickness direction observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the thicknesses T120 and T130 are measured at 10 measurement positions, and the 10 thickness ratios are calculated.
  • the thickness ratio of the optical sheet 110 is determined as the arithmetic mean value of the 10 thickness ratios.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is obtained by observing the thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained by the following first and second steps.
  • a cut sample is cut out from the optical sheet to be evaluated.
  • the cut sample is visually checked for any abnormalities such as dirt or scratches.
  • the cut sample is embedded in resin to prepare an embedded sample.
  • the embedded sample is prepared as follows. First, the cut sample is placed in a silicon embedding plate. Embedding resin is poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin is hardened inside the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin that encases it are removed from the silicon embedding plate to obtain the embedded sample. The embedded sample is shaped like a block.
  • the embedding resin is epoxy resin.
  • the block-shaped embedded sample is cut to prepare a slice sample.
  • the slice sample includes a surface along a first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • a slice sample that is free of defects such as holes and has a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm is used as a thickness measurement sample.
  • the imaging conditions of the scanning transmission electron microscope are as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • the optical sheet 110 may include a first surface 111 and a second surface 112 that face each other in a first direction D1.
  • the first surface 111 and the second surface 112 constitute a pair of main surfaces of the optical sheet 110.
  • the first direction D1 is the stacking direction of the multiple layers included in the optical sheet 110. From the first surface 111 to the second surface 112 in the first direction D1, the first layer 120 and the second layer 130 are positioned in this order.
  • the hardness of the first layer 120 is improved. This improves the hardness of the first surface 111, and also improves the scratch resistance of the first surface 111.
  • the pencil hardness of the first surface 111 can be made 2H or more.
  • the load capacity of the first surface 111 in a steel wool scratch resistance test can be made 200 g or more.
  • the indentation hardness of the cross section of the first layer 120 with an indentation depth of 100 nm can be made 350 MPa or more.
  • Pencil hardness is an index that indicates resistance to defects such as scratches that occur when a pencil lead is pressed against a sample to be evaluated and moved.
  • the method for measuring pencil hardness is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the steel wool scratch resistance test is an index showing resistance to defects such as scratches that occur when steel wool is pressed against the sample to be evaluated and moved relative to it.
  • the method for measuring the load capacity in the steel wool scratch resistance test is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the indentation hardness H IT is a hardness measured by a nanoindentation method using a nanoindenter.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT in the cross section of the first layer 120 is a position shifted by 1.2 ⁇ m from the first side surface 121 to the second side surface 122 of the first layer 120 along the normal direction of the optical sheet 110. That is, assuming that the first layer 120 corresponds to the functional layer 20, the indentation hardness H IT in the cross section of the first layer 120 is measured at the first position 26 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment.
  • the measurement method of the indentation hardness is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the first side surface 121 and the second side surface 122 are a pair of main surfaces of the first layer 120.
  • the first side surface 121 is located on a first side in a first direction D1, which is a normal direction of the first layer 120.
  • the first side surface 121 is a surface closer to the first surface 111 in the first direction D1.
  • the first side surface 121 of the first layer 120 constitutes the first surface 111 of the optical sheet 110.
  • the second side surface 122 is located on a second side in the first direction D1.
  • the second side surface 122 is a surface closer to the second surface 112 in the first direction D1.
  • the thickness ratio (T120/T130) of the thickness T120 of the first layer 120 to the thickness T130 of the second layer 130 on the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 of the optical sheet 110 are unknown.
  • the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 were improved by providing the second layer 130 adjacent to the first layer 120 containing a cured resin and an ultraviolet absorber as a thin layer so as to satisfy the thickness ratio.
  • the second layer 130 tends to have a lower hardness than the first layer 120, which contains a cured resin.
  • the second layer 130 has an appropriate thickness that is thinner than the first layer 120, the adhesion of the first layer 120 to the optical sheet 110 is more easily ensured, and in addition, the hardness of the second layer 130 is more easily prevented from being reflected in the hardness of the first surface 111.
  • the present disclosure is not bound by this inference.
  • the thickness ratio of the first layer 120 to the second layer 130 has the following relationship with the hardness of the first surface 111 of the optical sheet 110 and the first layer 120:
  • the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 are improved.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more, and may further be 1.7 or more, 2.6 or more, 2.9 or more, or 3.4 or more.
  • the pencil hardness of the first surface 111 may be 2H or more, 3H or more, or 4H or more.
  • the load capacity of the first surface 111 in a steel wool scratch resistance test may be 200g or more, 250g or more, or 300g or more.
  • the indentation hardness of the cross section of the first layer 120 at an indentation depth of 100 nm may be 350 MPa or more, 380 MPa or more, 387 MPa or more, 410 MPa or more, 414 MPa or more, 420 MPa or more, 440 MPa or more, 442 MPa or more, or 480 MPa or more.
  • the pencil hardness of the first surface 111 may be 2H or more and 8H or less, 3H or more and 8H or less, or 4H or more and 8H or less.
  • the load capacity in the steel wool scratch resistance test on the first surface 111 may be 200 g or more and 300 g or less, 250 g or more and 300 g or less, or may be 300 g.
  • the indentation hardness in the cross section of the first layer 120 when the indentation depth is 100 nm may be 350 MPa or more and 600 MPa or less, 380 MPa or more and 600 MPa or less, 387 MPa or more and 600 MPa or less, 410 MPa or more and 600 MPa or less, 414 MPa or more and 600 MPa or less, 420 MPa or more and 600 MPa or less, 440 MPa or more and 600 MPa or less, 442 MPa or more and 600 MPa or less, or 480 MPa or more and 600 MPa or less.
  • the thickness ratio becomes too large, the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 may decrease.
  • the thickness ratio may be 7.5 or less.
  • the thickness ratio becomes too large, other problems may occur.
  • a lower limit to the thickness ratio the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 increase.
  • the thickness ratio becomes too large, curling or warping may occur in the optical sheet 110.
  • an upper limit to the thickness ratio deformation such as curling or warping can be suppressed.
  • the thickness ratio may be 7.5 or less, or may be 7.3 or less, 5.0 or less, 4.8 or less, or 3.9 or less.
  • the upper limit of the thickness ratio in this way, deformation such as curling or warping of the optical sheet 110 can be suppressed.
  • the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 can be improved.
  • the details of why deformation such as curling and warping can be suppressed by setting an upper limit on the thickness ratio are unclear.
  • the following can be inferred as one of the reasons for deformation suppression. Since the first layer 120 contains a resin cured product, it may shrink during the curing process. This curing shrinkage may cause deformation such as curling and warping in the optical sheet 110.
  • the second layer 130 adjacent to the first layer 120 has a thickness that is at least a certain percentage of the thickness of the first layer 120. Therefore, it is inferred that the second layer 130 at least partially absorbs the deformation of the first layer 120, and deformation of the optical sheet 110 is suppressed.
  • the present disclosure is not bound by this inference.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 7.5 or less, or may be 1.7 or more and 7.5 or less, or may be 2.6 or more and 7.5 or less, or may be 2.9 or more and 7.5 or less, or may be 3.4 or more and 7.5 or less.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 7.3 or less, or may be 1.7 or more and 7.3 or less, or may be 2.6 or more and 7.3 or less, or may be 2.9 or more and 7.3 or less, or may be 3.4 or more and 7.3 or less.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 5.0 or less, or may be 1.7 or more and 5.0 or less, or may be 2.6 or more and 5.0 or less, or may be 2.9 or more and 5.0 or less, or may be 3.4 or more and 5.0 or less.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 4.8 or less, or may be 1.7 or more and 4.8 or less, or 2.6 or more and 4.8 or less, or 2.9 or more and 4.8 or less, or 3.4 or more and 4.8 or less.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 3.9 or less, or may be 1.7 or more and 3.9 or less, or 2.6 or more and 3.9 or less, or 2.9 or more and 3.9 or less, or 3.4 or more and 3.9 or less.
  • a lower limit may be set for the thickness T120 of the first layer 120.
  • the thickness T120 of the first layer 120 may be 5.0 ⁇ m or more, 5.2 ⁇ m or more, 6.2 ⁇ m or more, 6.6 ⁇ m or more, or 6.7 ⁇ m or more.
  • An upper limit may be set for the thickness T120 of the first layer 120.
  • the thickness T120 of the first layer 120 may be 9.0 ⁇ m or less, 8.7 ⁇ m or less, 7.6 ⁇ m or less, 7.5 ⁇ m or less, or 7.3 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 may be 5.0 ⁇ m or more and 9.0 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 9.0 ⁇ m or less, 6.2 ⁇ m or more and 9.0 ⁇ m or less, 6.6 ⁇ m or more and 9.0 ⁇ m or less, or 6.7 ⁇ m or more and 9.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 may be 5.0 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, 6.2 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, 6.6 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less, or 6.7 ⁇ m or more and 8.7 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 may be 5.0 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 6.2 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 6.6 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, or 6.7 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 may be 5.0 ⁇ m or more and 7.5 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 7.5 ⁇ m or less, 6.2 ⁇ m or more and 7.5 ⁇ m or less, 6.6 ⁇ m or more and 7.5 ⁇ m or less, or 6.7 ⁇ m or more and 7.5 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 may be 5.0 ⁇ m or more and 7.3 ⁇ m or less, 5.2 ⁇ m or more and 7.3 ⁇ m or less, 6.2 ⁇ m or more and 7.3 ⁇ m or less, 6.6 ⁇ m or more and 7.3 ⁇ m or less, or 6.7 ⁇ m or more and 7.3 ⁇ m or less.
  • a lower limit may be set for the thickness T130 of the second layer 130.
  • the thickness T130 of the second layer 130 may be 1.2 ⁇ m or more, 1.5 ⁇ m or more, 1.6 ⁇ m or more, or 1.7 ⁇ m or more.
  • An upper limit may be set for the thickness T130 of the second layer 130.
  • the thickness T130 of the second layer 130 may be 3.2 ⁇ m or less, 3.0 ⁇ m or less, 2.5 ⁇ m or less, 2.4 ⁇ m or less, 2.3 ⁇ m or less, or 2.1 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 3.2 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 3.2 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 3.2 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 3.2 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 2.3 ⁇ m or less.
  • the thickness T130 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.1 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.1 ⁇ m or less, 1.6 ⁇ m or more and 2.1 ⁇ m or less, or 1.7 ⁇ m or more and 2.1 ⁇ m or less.
  • the thickness T120 of the first layer 120 and the thickness T130 of the second layer 130 are each measured using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thicknesses T120 and T130 are measured from the observation image of the scanning transmission electron microscope.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is obtained by observing a thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained through the first and second steps described above.
  • the thickness T120 is determined as the arithmetic mean value of ten thickness measurement values measured at ten measurement positions.
  • the thickness T130 is determined as the arithmetic mean value of ten thickness measurement values measured at ten measurement positions.
  • the hardness of the first layer 120 may be greater than the hardness of the second layer 130.
  • the indentation hardness H IT measured on a cross section of the first layer 120 may be greater than the indentation hardness H IT measured on a cross section of the second layer 130.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 130 is the center position in the thickness direction of the second layer 130. That is, assuming that the second layer 130 corresponds to the intermediate layer 30, the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 130 is measured at the center position 31 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 130 is measured by pressing an indenter into this measurement position.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 130 is otherwise measured by the same measurement method as the measurement method of the indentation hardness H IT of the cross section of the first layer 120 described above.
  • the second layer 130 may include one or more of an acrylic resin and a cellulose resin. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 120 is greater than that of the second layer 130 is stably generated. For example, the indentation hardness H IT measured at the cross section of the first layer 120 can be stably greater than the indentation hardness H IT measured at the cross section of the second layer 130. By combining this hardness relationship with the above-mentioned condition regarding the thickness ratio, the hardness of the first surface 111 of the optical sheet 110 is stably high.
  • the hardness of the first layer 120, the pencil hardness of the first surface 111, the load capacity in the steel wool scratch resistance test on the first surface 111, and the indentation hardness H IT at the cross section of the first layer 120 can be increased.
  • deformation such as curling and warping of the optical sheet 110 can be stably suppressed.
  • the second layer 130 may contain the same resin component as at least a part of the resin component contained in the first layer 120.
  • the adhesion between the second layer 130 and the first layer 120 can be improved.
  • the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 can be stably improved.
  • the pencil hardness at the first surface 111, the load capacity in a steel wool scratch resistance test at the first surface 111, and the indentation hardness HIT at a cross section of the first layer 120 can be increased.
  • FT-IR Fourier transform infrared spectroscopy
  • the second layer 130 may include a monomer. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 120 is greater than that of the second layer 130 is stably generated. For example, the indentation hardness H IT measured at the cross section of the first layer 120 can be stably greater than the indentation hardness H IT measured at the cross section of the second layer 130. By combining this hardness relationship with the above-mentioned condition regarding the thickness ratio, the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 of the optical sheet 110 can be stably improved.
  • the pencil hardness at the first surface 111, the load capacity in the steel wool scratch resistance test at the first surface 111, and the indentation hardness H IT at the cross section of the first layer 120 can be increased.
  • deformation such as curling and warping of the optical sheet 110 can be stably suppressed.
  • the second layer 130 may contain at least a part of the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 120. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 120 is greater than that of the second layer 130 is stably generated. For example, the indentation hardness H IT measured on the cross section of the first layer 120 can be stably made greater than the indentation hardness H IT measured on the cross section of the second layer 130. In addition, the adhesion between the second layer 130 and the first layer 120 can be improved. As a result, the hardness of the first layer 120 and the hardness of the first surface 111 of the optical sheet 110 can be stably improved.
  • Whether the second layer 130 contains a monomer is determined by staining with osmium tetroxide.
  • a cross-sectional sample is cut out from the optical sheet 110 by cutting. The thickness of the sample is about 80 nm. The cut out sample is collected on a Cu mesh. This sample is stained with osmium tetroxide for 30 minutes by a vapor-phase staining method. The portion of the stained sample corresponding to the second layer 130 is observed using a scanning transmission electron microscope (STEM). The unsaturated double bonds that may be contained in the second layer 130 are colored by the staining process. Therefore, if the observed sample is colored by staining, it is determined that the second layer 130 contains a monomer. Whether the monomer contained in the second layer 130 is the same as the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 120 is determined by quantitatively analyzing the chemical bonds using Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR).
  • FT-IR Fourier transform infrared spect
  • the optical sheet 110 may include a base layer 140.
  • the first layer 120, the second layer 130, and the base layer 140 may be arranged in this order from the first surface 111 to the second surface 112 in the first direction D1.
  • the first layer 120 includes a first side surface 121 and a second side surface 122.
  • the first side surface 121 and the second side surface 122 constitute a pair of main surfaces of the first layer 120.
  • the first side surface 121 constitutes the first surface 111.
  • the second side surface 122 is in contact with the second layer 130.
  • the thickness T140 of the base layer 140 may be thicker than the thickness T120 of the first layer 120.
  • the thickness T140 of the base layer 140 may be thicker than the thickness T130 of the second layer 130.
  • the thickness T140 of the base layer 140 may be thicker than the total thickness of the thickness T120 of the first layer 120 and the thickness T130 of the second layer 130.
  • a base layer 140 having such a thickness T140 can stably support the first layer 120 and the second layer 130.
  • the thickness T140 of the base layer 140 is measured using a scanning transmission electron microscope (STEM) in the same manner as the thickness T120 of the first layer 120 and the thickness T130 of the second layer 130.
  • a cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is observed with the scanning transmission electron microscope, and the thickness T140 is measured from the image observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the cross-sectional image of the optical sheet 110 to be evaluated is obtained by observing a thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained through the above-mentioned first and second steps.
  • the thickness T140 of the base layer 140 is determined as the arithmetic mean value of ten thickness measurements taken at ten measurement positions.
  • the second layer 130 may contain at least a part of the same resin component as the resin component contained in the base layer 140.
  • the adhesion between the second layer 130 and the base layer 140 can be improved.
  • the adhesion between the second layer 130 and the base layer 140 can also contribute to improving the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111.
  • the adhesion between the second layer 130 and the base layer 140 is improved, the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 can be improved.
  • the pencil hardness at the first surface 111, the load capacity in a steel wool scratch resistance test at the first surface 111, and the indentation hardness HIT at the cross section of the first layer 120 can be increased.
  • the second layer 130 may include at least a part of the resin component included in the first layer 120 and at least a part of the resin component included in the base layer 140. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 120 is greater than the hardness of the second layer 130 is stably generated.
  • the indentation hardness H IT measured on the cross section of the first layer 120 can be stably made greater than the indentation hardness H IT measured on the cross section of the second layer 130.
  • the adhesion between the first layer 120 and the second layer 130 can be improved, and the adhesion between the second layer 130 and the base layer 140 can be improved.
  • the adhesion By improving the adhesion, the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 can be stably improved.
  • the second layer 130 may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the first layer 120. By including an ultraviolet absorbing agent in the second layer 130, the blue light blocking function can be enhanced.
  • the second layer 130 may be a mixed layer of the resin component of the first layer 120 and the resin component of the base layer 140.
  • the second layer 130 as a mixed layer of the resin component of the first layer 120 and the resin component of the base layer 140 can more effectively improve the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111.
  • the second layer 130 as a mixed layer may be a permeation layer in which the curable resin composition for producing the first layer 120 is permeated into the base film 145.
  • the base layer 140 and the second layer 130 may both be composed of the base film 145 to which the curable resin composition for producing the first layer 120 is applied.
  • the portion of the base film 145 that is permeated with the curable resin composition may constitute the second layer 130.
  • the portion of the base film 145 that is not permeated with the curable resin composition may constitute the base layer 140.
  • the presence of the permeation layer can be confirmed by observing the cross section of the optical sheet along the first direction with a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • An observation image of the cross section of the optical sheet 110 to be evaluated is obtained by observing the above-mentioned thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is stained before observation with the scanning transmission electron microscope. Osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, phosphotungstic acid, etc. may be used for staining.
  • the substrate layer 140 and the substrate film 145 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the acrylic resin and the cellulose resin are easily permeated with the curable resin composition. Therefore, the second layer 130, which is a mixed layer of the resin components of the first layer 120 and the resin components of the substrate layer 140, can be easily produced. According to this example, the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111 can be stably improved.
  • the hardness of the base layer 140 may be greater than the hardness of the second layer 130.
  • the indentation hardness H IT measured on a cross section of the base layer 140 may be greater than the indentation hardness H IT measured on a cross section of the second layer 130.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 140 is the center in the thickness direction of the base material layer 140. That is, assuming that the base material layer 140 corresponds to the base material layer 40, the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 140 is measured at the center position 41 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 140 is measured by pressing an indenter into this measurement position.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 140 is otherwise measured by the same measurement method as the measurement method of the indentation hardness H IT of the cross section of the first layer 120 described above.
  • the a * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 110 measured by transmitted light may be -3.0 or more and -1.6 or less.
  • the b * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 110 measured by transmitted light may be 3.5 or more and 6.0 or less.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 110 may be 12 or less, 11 or less, 10 or less, or 9.0 or less.
  • the yellowness index is an index showing the degree of yellow coloring of the optical sheet 110.
  • the yellowness (YI value) of the optical sheet 110 may be equal to or greater than 0.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 110 may be greater than 0 and less than 12, greater than 0 and less than 11, greater than 0 and less than 10, or greater than 0 and less than 9.0.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 110 may be greater than 0 and less than 12, greater than 0 and less than 11, greater than 0 and less than 10, or greater than 0 and less than 9.0.
  • the method for measuring the yellowness is the same as that described in the first embodiment.
  • the total light transmittance of the optical sheet 110 may be 50% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the total light transmittance of the optical sheet 110 does not have a particular upper limit.
  • the total light transmittance of the optical sheet 110 may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the total light transmittance of the optical sheet 110 may be 50% or more and 100% or less, 70% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 90% or more and 100% or less.
  • the total light transmittance of the optical sheet 110 may be 50% or more and less than 100%, 70% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 90% or more and less than 100%.
  • the method for measuring the total light transmittance is the same as that described in the first embodiment.
  • the transmission haze of the optical sheet 110 may be 1.1% or less, 0.5% or less, or 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 110 does not have a particular lower limit.
  • the transmission haze of the optical sheet 110 may be 0% or greater than 0%.
  • the transmission haze of the optical sheet 110 may be 0% or more and 1.1% or less, 0% or more and 0.5% or less, or 0% or more and 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 110 may be greater than 0% and 1.1% or less, greater than 0% and 0.5% or less, or greater than 0% and 0.2% or less.
  • the method for measuring the transmission haze is the same as that described in the first embodiment.
  • the ratio of silicon element to carbon element measured on the first surface 111 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.02 or more. In other words, in the quantitative analysis result of elements by X-ray photoelectron spectroscopy, the amount of silicon element may be 0.02 or more when the amount of carbon element is 1.
  • the silicon element is the sum of an inorganic component (silica) and an organic component (silicone).
  • the first layer 120 may contain inorganic particles as a lubricant.
  • By setting the ratio of silicon element to carbon element to 0.02 or more it is possible to suppress the aggregation of inorganic particles added as a lubricant, for example, the aggregation of silica. In other words, by setting the ratio of silicon element to carbon element to 0.02 or more, the lubricant functions effectively.
  • the lubricant can suppress the adjacent optical sheets 110 from sticking to each other when the optical sheets 110 are stacked or rolled up.
  • the curable resin composition for producing the first layer 120 may contain a leveling agent.
  • a Si-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of silicon elements to carbon elements can be set to 0.02 or more.
  • the ratio of elemental fluorine measured on the first surface 111 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.1% or less. In other words, the ratio of the amount of elemental fluorine to the total amount of elements detected by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.001 or less. In this example, substantially no fluorine is detected in the surface layer of the optical sheet 110. By not using an F-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of elemental fluorine can be 0.1% or less.
  • X-ray photoelectron spectroscopy allows for quantitative analysis of elements present on the surface layer of the optical sheet 110.
  • an X-ray photoelectron spectroscopy device XPS
  • the measurement method by X-ray photoelectron spectroscopy using an X-ray photoelectron spectroscopy device is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the base layer 140, the second layer 130, and the first layer 120 are stacked in the first direction D1.
  • the first direction D1 is the stacking direction.
  • the base layer 140, the second layer 130, and the first layer 120 extend in the second direction D2 and the third direction D3 perpendicular to the first direction D1.
  • the second direction D2 and the third direction D3 are perpendicular to each other.
  • the first direction D1 is the thickness direction and normal direction of the optical sheet 110.
  • the first direction D1 is also the thickness direction and normal direction of each layer 140, 130, and 120 included in the optical sheet 110.
  • the first surface 111 is composed of the first layer 120.
  • the second surface 112 is composed of the base layer 140.
  • the first layer 120 and the second layer 130 are adjacent in the first direction D1.
  • the second layer 130 and the base layer 140 are adjacent in the first direction D1.
  • the optical sheet 110 may include layers other than the first layer 120, the second layer 130, and the base layer 140.
  • the optical sheet 110 may include one or more of a low-reflection layer, an antistatic layer, an antifouling layer, etc.
  • a layer other than the first layer 120 may constitute the first surface 111.
  • the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer are thin layers. Therefore, even in the example in which the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer, constitute the first surface 111, the hardness of the first surface 111 can be improved by the combination of the first layer 120 and the second layer 130.
  • the base layer 140 supports the first layer 120 and the second layer 130.
  • the base layer 140 may be transparent.
  • transparent means that the total light transmittance in accordance with JIS K7361-1:1997 is 50% or more. This means that the ratio is 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the substrate layer 140 may be the same as the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the substrate layer 140 may have the same configuration as the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the material of the substrate layer 140 may be the same as the material of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the thickness T140 of the substrate layer 140 may be the same as the thickness T40 of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the layer structure of the substrate layer 140 may be the same as the layer structure of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the substrate layer 140 may be prepared as a substrate film 145.
  • This substrate film 145 may include only a single layer or may include multiple layers.
  • the substrate layer 140 may include a primer layer such as an easy-adhesion layer.
  • the surface of the substrate film 145 may be subjected to one or more of sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, etching treatment such as oxidation, and undercoat treatment. These treatments can improve the adhesion between the substrate film 145 and the layer adjacent to the substrate film 145.
  • the surface of the substrate film 145 may be subjected to a cleaning treatment such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning.
  • the first layer 120 includes a binder resin 123 and an ultraviolet absorbing agent.
  • the first layer 120 exhibits a blue light blocking function by including the ultraviolet absorbing agent.
  • the binder resin 123 is a curable resin composition.
  • the first layer 120 contains a cured product of the curable resin composition, which contributes to improving the hardness of the first surface 111 and the first layer 120.
  • the first layer 120 may have the same configuration as the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the material of the first layer 120 may be the same as the material of the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the layer structure of the first layer 120 may be the same as the layer structure of the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may be an ionizing radiation curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include one or more of an ultraviolet ray curable resin composition and an electron beam curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include an ionizing radiation curable compound and a photopolymerization initiator.
  • the ionizing radiation curable compound may include one or more of an ultraviolet ray curable compound and an electron beam curable compound.
  • the ultraviolet ray curable compound is a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.
  • the electron beam curable compound is a resin that is cured by irradiation with an electron beam.
  • the cured product of the curable resin composition may be a cured curable compound.
  • the ionizing radiation curable compound may be the same as the ionizing radiation curable compound used in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited, and may be the same as the photopolymerization initiator used in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the content of the photopolymerization initiator may be the same as the content of the photopolymerization initiator described in the first embodiment.
  • the ultraviolet absorbent may be dispersed in a first direction D1, a second direction D2, and a third direction D3 in the first layer 120.
  • the ultraviolet absorbent may be included in a liquid curable resin composition.
  • the ultraviolet absorbent included in the curable resin composition may be dispersed in the first layer 120 after a coating film of the curable resin composition is subjected to a drying process and a curing process.
  • the ultraviolet absorber imparts a blue light cut function to the first layer 120 and the optical sheet 110.
  • the characteristics of the blue light cut function can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber. Therefore, the blue light cut function caused by the ultraviolet absorber can make the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm 70% or more, while making the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm 15% or less.
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the yellowness YI value measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the type and content of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
  • the type and content of the ultraviolet absorber can be selected so as to obtain the desired blue light cut function and the desired a * value and b * value.
  • the type and content of the UV absorbent may be the same as those described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may contain particles as a lubricant.
  • the curable resin composition may contain the same particles as the particles as the lubricant contained in the curable resin composition for the functional layer described in the first embodiment.
  • the particle diameter of the particles contained in the first layer 120 is a value specified in the same manner as the particle diameter of the particles contained in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may contain a Si-based leveling agent as an additive.
  • the surface of the first layer 120 can be made smoother.
  • the Si-based leveling agent can impart excellent slip properties and excellent anti-fouling properties to the surface of the first layer 120.
  • the curable resin composition may contain other additives.
  • additives include antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants, silane coupling agents, thickeners, coloring inhibitors, colorants (pigments, dyes), defoamers, flame retardants, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, and surface modifiers.
  • the curable resin composition may contain one or more of these additives.
  • the curable resin composition may contain a solvent.
  • the curable resin composition may contain the same solvent as the solvent contained in the curable resin composition for the functional layer described in the first embodiment.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition i.e., the solid content ratio, is not particularly limited.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 5% by mass or more, or 25% by mass or more.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 70% by mass or less, or 60% by mass or less.
  • the first layer 120 is made using a liquid curable resin composition containing an ultraviolet absorber.
  • the prepared curable resin composition is applied to a surface on which the first layer 120 is to be made to form a coating film of the curable resin composition.
  • the coating film of the curable resin composition is dried, and the dried coating film is cured to obtain the first layer 120.
  • the method for preparing the curable resin composition is not particularly limited.
  • the curable resin composition may be prepared using known devices such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer.
  • the method for applying the curable resin composition is not particularly limited.
  • the curable resin composition may be applied by a known method such as spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coating, meniscus coating, flexographic printing, screen printing, or pad coating.
  • the curing treatment of the curable resin composition may be performed by irradiation with ionizing radiation.
  • the ionizing radiation may be ultraviolet light or an electron beam.
  • ultraviolet light sources include ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arc lamps, black light fluorescent lamps, metal halide lamps, etc.
  • the wavelength of the ultraviolet light may be in the wavelength range of 190 nm to 420 nm. It is preferable that the wavelength of the ultraviolet light used in the curing treatment is the central absorption wavelength of the photopolymerization initiator contained in the curable resin composition, or is close to the central absorption wavelength.
  • the wavelength of the ultraviolet light used in the curing treatment is away from the central absorption wavelength of the ultraviolet absorber contained in the curable resin composition.
  • the first layer 120 can be sufficiently cured by the curing treatment by ultraviolet irradiation.
  • the second layer 130 is a layer adjacent to the first layer 120 and the base layer 140. As described above, the second layer 130 has a thickness T130 adjusted with respect to the thickness T120 of the first layer 120.
  • the thickness ratio which is the ratio of the thickness T120 of the first layer 120 to the thickness T130 of the second layer 130, is equal to or greater than 1.5 and equal to or less than 7.5.
  • the second layer 130 may be a resin layer.
  • the second layer 130 may be a layer that has high adhesion to the base layer 140.
  • the second layer 130 may be a layer that has high adhesion to the first layer 120.
  • the second layer 130 may have a hardness lower than that of the first layer 120.
  • the indentation hardness measured on a cross section of the first layer 120 may be greater than the indentation hardness measured on a cross section of the second layer 130.
  • the presence of such a second layer 130 can improve the hardness of the first layer 120 and the hardness at the first surface 111.
  • the material of the second layer 130 may be selected as follows.
  • the second layer 130 may include a thermoplastic resin.
  • the second layer 130 may include the same resin component as at least a portion of the resin component contained in the first layer 120.
  • the second layer 130 may include one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the second layer 130 may include the same resin component as at least a portion of the resin component contained in the first layer 120.
  • the second layer 130 may include a monomer.
  • the second layer 130 may include at least a portion of the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 120.
  • the second layer 130 may be a mixed layer of the resin component of the first layer 120 and the resin component of the base layer 140.
  • the second layer 130 may be a mixed layer of the resin component of the first layer 120 and the resin component of the base layer 140.
  • the second layer 130 as a mixed layer may be a permeation layer in which the curable resin composition for producing the first layer 120 is permeated into the base film 145.
  • the base film 140 and the second layer 130 may both be constituted by the base film 145 to which the curable resin composition for producing the first layer 120 is applied.
  • the second layer 130 may be constituted by a portion of the base film 145 into which the curable resin composition has permeated (permeation layer).
  • the base layer 140 may be constituted by a portion of the base film 145 into which the curable resin composition has not permeated.
  • the solvent contained in the curable resin composition easily penetrates the base film 145, so that the second layer 130 can be stably formed as a penetration layer.
  • the solvent easily penetrates the base film 145.
  • the solvent easily penetrates cellulose-based resins, particularly triacetylcellulose (TAC).
  • TAC triacetylcellulose
  • the solvent also easily penetrates acrylic resins. Therefore, the base layer 140 and the base film 145 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the second layer 130 which is a mixed layer of the resin component of the first layer 120 and the resin component of the base layer 140, can be stably produced.
  • the produced second layer 130 contains one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the ease of forming the penetration layer varies depending on the relationship between the curable resin compound and the solvent contained in the curable resin composition and the base film 145.
  • the ease of forming the penetration layer also varies depending on the viscosity of the curable resin compound, the drying conditions of the coating of the curable resin compound, and the curing conditions of the coating of the curable resin compound. Therefore, the thickness T130 of the second layer 130 as a penetration layer can be adjusted depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 145, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, and the like.
  • the amount of penetration varies depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 145, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, and the like, so the thickness T120 of the first layer 120 can also be adjusted. That is, when the second layer 130 is produced as a penetration layer, the thickness ratio can be adjusted.
  • the second layer may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the first layer.
  • a method for manufacturing the optical sheet 110 may include a step of preparing an intermediate laminate including a substrate layer 140 and a second layer 130, and a step of preparing a first layer 120 on the second layer 130.
  • the method for producing the intermediate laminate may be appropriately selected depending on the configuration of the second layer 130 to be produced.
  • the intermediate laminate may be produced by laminating the film constituting the second layer 130 and the film constituting the base layer 140.
  • the second layer 130 and the base layer 140 may be directly bonded by heat welding.
  • the second layer 130 and the base layer 140 may be bonded using a bonding layer containing an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like.
  • the intermediate laminate may be produced by forming the second layer 130 on the base layer 140 as a base film by a wet method. In the wet method, a liquid composition is prepared.
  • the liquid composition is applied onto the base layer 140.
  • the second layer 130 may be formed on the base layer 140 by drying the coating of the composition.
  • the first layer 120 may be produced by the wet method described above.
  • a liquid curable resin composition is prepared.
  • the liquid curable resin composition may contain solids constituting the binder resin 123 of the first layer 120, additives such as an ultraviolet absorber and a polymerization initiator, and a solvent.
  • the curable resin composition is applied onto the second layer 130 of the intermediate laminate, thereby obtaining a coating of the curable resin composition on the second layer 130. Next, the coating is dried and cured, thereby obtaining the first layer 120 on the second layer 130.
  • a method for manufacturing the optical sheet 110 may include a step of preparing an intermediate laminate including the second layer 130 and the first layer 120, and a step of laminating the intermediate laminate including the second layer 130 and the first layer 120 to the base layer 140.
  • the first layer 120 may be formed on the second layer 130 by a wet method.
  • the base layer 140 and the second layer 130 of the intermediate laminate may be directly bonded by heat welding.
  • the base layer 140 and the second layer 130 of the intermediate laminate may be bonded using a bonding layer containing an adhesive, a pressure sensitive adhesive, or the like.
  • the intermediate laminate may include a release sheet, a first layer 120, and a second layer 130 in this order.
  • the process of producing the intermediate laminate may include a process of forming the first layer 120 on the release surface of the release sheet by a wet method, and a process of forming the second layer 130 on the first layer 120.
  • the second layer 130 may be formed on the first layer 120 by a wet method.
  • the second layer 130 may be composed of a film laminated to the first layer 120.
  • the release sheet may be peeled off from the second layer 130 and the first layer 120 that are transferred onto the substrate layer 140.
  • the manufacturing method of the optical sheet 110 may include a step of producing the first layer 120 on the substrate film 145 by a wet method.
  • This manufacturing method may include a step of applying a curable resin composition onto the substrate film 145 and a step of curing the coating of the curable resin composition.
  • the manufacturing method may further include a step of drying the coating of the curable resin composition before the step of curing the coating.
  • the first layer 120 may be constituted by the coating of the cured curable resin composition.
  • the second layer 130 may be constituted by a portion of the substrate film 145 into which the curable resin composition has permeated (i.e., a permeation layer).
  • the substrate layer 140 may be constituted by a portion of the substrate film into which the curable resin composition has not permeated.
  • the thickness T130 of the second layer 130 as a penetration layer can be adjusted depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 145, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, etc.
  • the amount of penetration into the base layer 140 changes depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 145, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, etc., so the thickness T120 of the first layer 120 can also be adjusted.
  • the thickness ratio can be adjusted when the second layer 130 is produced as a penetration layer.
  • the thickness T130 of the second layer 130 can be increased by selecting a type of solvent that easily penetrates the base film 145 or by increasing the content of the solvent.
  • the thickness T130 of the second layer 130 can be increased by selecting a base film 145 made of a resin material that is easily penetrated by the solvent of the curable resin composition.
  • a resin material that is easily penetrated by a solvent is a cellulose-based resin such as triacetylcellulose (TAC).
  • TAC triacetylcellulose
  • the thickness of the second layer 130 can be increased.
  • the thickness T130 of the second layer 130 can be increased by reducing the temperature of the heated air blown onto the coating film during the drying process or by reducing the flow rate or volume of the heated air. If the solid content of the curable resin composition is high, the thickness T130 of the second layer 130 can be reduced.
  • the manufacturing method of the optical sheet 110 may include the following four steps.
  • the manufacturing method may further include a step of drying the coating film of the first curable resin composition before the step of curing the coating film of the first curable resin composition. In a fourth example, the manufacturing method may further include a step of drying the coating film of the second curable resin composition before the step of curing the coating film of the second curable resin composition.
  • the first layer 120 may be formed by the first portion 120A and the second portion 120B.
  • the second layer 130 may be formed by the portion of the base film 145 that is permeated with the curable resin composition (i.e., the permeation layer).
  • the base layer 140 may be formed by the portion of the base film 145 that is not permeated with the curable resin composition.
  • the second portion 120B constitutes a surface portion of the first layer 120.
  • the surface portion of the first layer 120 is located near the first surface 111 or constitutes the first surface 111.
  • the first portion 120A constitutes a portion of the first layer 120 that is bonded to the second layer 130.
  • the first portion 120A is away from the first surface 111.
  • the first curable resin composition and the second curable resin composition have different compositions, so that the properties can be changed between the first portion 120A and the second portion 120B in the first layer 120.
  • the first curable resin composition and the second curable resin composition may be the same as the curable resin composition described above.
  • the second curable resin composition may not contain an ultraviolet absorber.
  • the second curable resin composition may contain an ultraviolet absorber in a content smaller than the content of the first curable resin composition.
  • the second curable resin composition may contain an ultraviolet absorber in a content smaller than the content of the first curable resin composition.
  • the first curable resin composition contains more ultraviolet absorbent. Therefore, the hardness of the first portion 120A is reduced.
  • the second curable resin composition does not contain ultraviolet absorbent or contains only a small amount of ultraviolet absorbent.
  • the coating film of the second curable resin composition can be irradiated with a sufficient amount of ionizing radiation, such as ultraviolet light, with sufficient strength. Therefore, the crosslinking reaction in the second portion 120B is promoted, and the hardness of the second portion 120B becomes hard. This makes it possible to harden the surface hardness of the first side 121 of the first layer 120 while imparting the blue light cutting function due to the ultraviolet absorbent to the first layer 120.
  • the UV absorbent is mainly dispersed in the first portion 120A.
  • the first portion 120A is covered by the second portion 120B, which has a higher hardness. Therefore, the UV absorbent can be effectively prevented from passing through the second portion 120B and bleeding out.
  • the first portion 120A to which the second curable resin composition is applied may contain an ultraviolet absorber, which may cause the crosslinking reaction to stagnate, resulting in low hardness. Therefore, the second curable resin composition may penetrate into the first portion 120A.
  • the first curable resin composition and the second curable resin composition are mixed, and the interface between the first portion 120A and the second portion 120B becomes inconspicuous. This significantly improves the adhesion between the first portion 120A and the second portion 120B.
  • the second curable resin composition can penetrate not only the first portion 120A but also the base layer 140.
  • the thickness T130 of the second layer 130 as a penetration layer can be adjusted by the materials contained in the first and second curable resin compositions, the material of the base film 145, the preparation conditions of the first and second curable resin compositions, the drying conditions of the first and second curable resin compositions, the curing conditions of the first and second curable resin compositions, etc.
  • the thickness T130 and thickness ratio of the second layer 130 can be adjusted with a higher degree of freedom compared to the manufacturing method according to the third example described above.
  • the manufacturing method according to the fourth example also allows for a high degree of freedom in adjusting the spectral transmittance.
  • the spectral transmittance can be adjusted by factors other than the type and total content of the ultraviolet absorbent contained in the first and second curable resin compositions.
  • the wavelength of the ultraviolet light used in the curing process is preferably away from the central absorption wavelength of the ultraviolet absorber contained in the curable resin composition. For this reason, in many conventional curable resin compositions, particularly ultraviolet curable resin compositions, contain only one type of ultraviolet absorber.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by factors other than the type of ultraviolet absorbent and the total content of the ultraviolet absorbent.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by the ratio of the content of the ultraviolet absorbent in the first curable resin composition to the content of the ultraviolet absorbent in the second curable resin composition.
  • the spectral transmission characteristics can be adjusted by the ratio of the content of the ultraviolet absorbent in the first curable resin composition to the content of the curable resin composition in the second curable resin composition.
  • the spectral transmittance can be adjusted by one or more of the thickness of the first portion 120A, the thickness of the second portion 120B, and the ratio of the thickness of the first portion 120A to the thickness of the second portion 120B.
  • the coating of the second curable resin composition can be cured while avoiding the influence of the ultraviolet absorber contained in the first portion 120A. That is, when the coating of the second curable resin composition is cured, the influence of the ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition can be suppressed. Therefore, the type, content, and content ratio of the ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition and the first portion 120A of the first layer 120 can be selected with a high degree of freedom. This allows the first layer 120 and the optical sheet 110 to be given the desired spectral transmission characteristics.
  • the ultraviolet absorbing agent can be unevenly distributed in a portion of the first layer 120 in the thickness direction, for example, the first portion 120A. Therefore, the ultraviolet absorbing agent can be effectively utilized to efficiently capture blue light. From this point of view, the desired spectral transmission characteristics can be imparted to the first layer 120 and the optical sheet 110. Furthermore, while imparting the desired spectral transmission characteristics to the optical sheet 110, the hardness and scratch resistance of the first surface 111 can be improved.
  • a long sheet article 5 including a number of optical sheets 110 can be manufactured.
  • the long sheet article 5 is cut to a predetermined size to obtain the optical sheet 110.
  • optical sheets 110 having various dimensions can be obtained from the long sheet article 5 in accordance with needs. Therefore, optical sheets 110 having various dimensions can be provided in a timely manner.
  • the handleability of the sheet article 5 can be improved.
  • the manufacturing method of the optical sheet may further include a step of selecting the manufactured optical sheet 110 in addition to the step of manufacturing the optical sheet described above.
  • the step of selecting the optical sheet 110 may include a step of measuring a thickness ratio, a step of measuring a spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and a step of measuring a spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • the thickness ratio is a ratio of the thickness T120 ( ⁇ m) of the first layer 120 to the thickness T130 ( ⁇ m) of the second layer 130.
  • the step of selecting the optical sheet 110 may further include a step of selecting the optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm.
  • a thickness ratio of 1.5 or more and 7.5 or less may be considered acceptable.
  • a spectral transmittance of 15% or less at a wavelength of 410 nm may be considered acceptable.
  • a spectral transmittance of 70% or more at a wavelength of 440 nm may be considered acceptable.
  • the optical sheet 110 that passes all of the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm, and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm may be selected as a good product.
  • the optical sheet 110 selected as a good product has an excellent blue light blocking function and has high hardness on the first surface 111. According to this selection step, an optical sheet having excellent scratch resistance can be selected with high precision without performing an abrasion
  • the optical sheet 110 may be applied to one or more of the polarizing plate 50, the touch panel member 55, and the display device 60.
  • the first curable resin composition 2A was applied onto a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 ⁇ m, and a first coating film was formed on the substrate film.
  • the method for producing the first curable resin composition 2A will be described later.
  • the first coating film was dried under the condition of 40° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the first coating film was dried under the condition of 40° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the first coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 66 mJ/cm 2.
  • the first coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the first portion of the first layer was formed on the substrate film.
  • the amount of application of the first curable resin composition 2A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 3.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • the second curable resin composition 2A having the following formulation was applied onto the first portion to form a second coating film on the substrate film.
  • the solid content of the second curable resin composition 2A was 47%.
  • the second curable resin composition 2A did not contain an ultraviolet absorber.
  • the second coating film was dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the second coating film was dried under the conditions of 70°C x 20 seconds (drying air speed 0.3 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the second coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light quantity of 288 mJ/ cm2 .
  • the second coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the second portion of the first layer was prepared on the substrate film and the first portion.
  • the amount of application of the second curable resin composition 2A was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate layer or the first portion.
  • the optical sheet of Example 21 was obtained.
  • the first layer was composed of the first portion and the second portion.
  • the cross section of the optical sheet of Example 21 was observed during the thickness measurement described below.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used to observe the cross section.
  • the cross section was observed at an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, it was found that the curable resin composition had permeated the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer. Furthermore, the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Second curable resin composition 2A A sesamol-type benzotriazole monomer was synthesized, and then an acrylic polymer to which the sesamol-type benzotriazole monomer was reactively bonded was synthesized, thereby obtaining a first curable resin composition 2A.
  • the contents in the four-neck flask were refluxed and dehydrated at 110-115°C for 4 hours.
  • 30 mL of water and 0.6 g (0.006 mol) of sodium carbonate were added to the four-neck flask.
  • the four-neck flask was then left to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed.
  • 0.2 g of activated carbon was added to the four-neck flask, and the contents were refluxed and stirred to decolorize.
  • the contents removed from the four-neck flask were then filtered. 40 mL of toluene was collected from the obtained filtrate under reduced pressure.
  • An intermediate composition was prepared by mixing the following: - Multifunctional monomer (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded (a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded to MMA and an ultraviolet absorber at a mass ratio X of 40 parts by mass) Solvent (a mixture of MEK and toluene in a mass ratio of 30:70) The polyfunctional monomer and the acrylic polymer (1) were mixed in a solid content mass ratio of 20:80.
  • - Multifunctional monomer PT-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactive
  • the obtained intermediate composition was mixed with a photopolymerization initiator (4 parts by mass of Irgacure 819, manufactured by BASF) and a leveling agent (0.2 parts by mass of LE-304, manufactured by Kyoeisha) and thoroughly stirred to prepare a first curable resin composition 2A.
  • the obtained first curable resin composition 2A contained a solid content of 27.5%.
  • UV-curable acrylate-containing composition 50 parts by mass (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50 parts by mass of ultraviolet-curable urethane acrylate-containing composition (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577")
  • Leveling agent 0.4 parts by mass (Kyoeisha, product name "LE-304”)
  • Photopolymerization initiator 4 parts by mass IGM Resins, trade name "Omnirad184”
  • Lubricant 20 parts by mass (CIK Nanotech, SIRMIBK15WT%-E65)
  • Solvent a mixture of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone in a mass ratio of 55:48)
  • Example 22 differs from the above-mentioned Example 21 in that the amount of the first curable resin composition 2A applied was reduced, but otherwise the optical sheet of Example 22 was obtained using the same materials and method as Example 21.
  • the amount of the first curable resin composition 2A applied was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 2.6 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • Example 22 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 22 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 23 differs from the above-mentioned Example 21 in that the coating amount of the first curable resin composition 2A was increased, but otherwise the optical sheet of Example 23 was obtained using the same materials and the same method as in Example 21.
  • the coating amount of the first curable resin composition 2A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • Example 23 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 23 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 24 differs from the above-mentioned Example 21 in that the drying conditions for the first coating film were changed, but otherwise the optical sheet of Example 24 was obtained using the same materials and in the same manner as in Example 21.
  • the first coating film was first dried under the conditions of 60° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s), and then dried under the conditions of 60° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s).
  • Example 24 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 24 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 25 differs from Example 21 in that the solid content ratio of the first curable resin composition and the solid content ratio of the second curable resin composition were changed, and the amount of the second curable resin composition applied was increased.
  • the optical sheet of Example 25 was obtained by the same materials and the same method as Example 21 in other respects.
  • a first curable resin composition having a solid content of 35% was used.
  • the first curable resin composition used in Example 25 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the first curable resin composition 2A.
  • a second curable resin composition having a solid content of 52% was used.
  • the second curable resin composition used in Example 25 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the second curable resin composition 2A.
  • the amount of the second curable resin composition applied was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 6.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film or the first portion.
  • Example 25 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 25 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 26 differs from Example 21 above in that the solid content ratio of the first curable resin composition and the solid content ratio of the second curable resin composition were changed, and the optical sheet of Example 26 was obtained by the same materials and the same method as Example 21 in other respects.
  • a first curable resin composition having a solid content of 20% was used.
  • the first curable resin composition used in Example 26 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the first curable resin composition 2A.
  • a second curable resin composition having a solid content of 40% was used.
  • the second curable resin composition used in Example 26 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the second curable resin composition 2A.
  • Example 26 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 26 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 27 differs from Example 21 in that the leveling agent of the first curable resin composition 2A was omitted and that the leveling agent of the second curable resin composition 2A was changed, and the optical sheet of Example 27 was obtained using the same materials and the same method as Example 21 in other respects.
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differs from the first curable resin composition 2A described above in that the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.2 parts by mass" was omitted, and the other respects were the same as the first curable resin composition 2A described above.
  • Example 27 the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the second curable resin composition 2A described above in that the leveling agent "DIC, F-477, 0.3 parts by mass” was used instead of the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.4 parts by mass”.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the above-mentioned second curable resin composition 2A, except for the leveling agent.
  • Example 27 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 27 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 21 differs from the above-mentioned Example 21 in that the base film was changed, the amount of the first curable resin composition 2A applied was increased and the amount of the second curable resin composition 2A applied was decreased, the integrated amount of ultraviolet light irradiated during curing of the second coating film was reduced, the leveling agent for the first curable resin composition 2A was changed, and the leveling agent for the second curable resin composition 2A was changed. Otherwise, the optical sheet of Comparative Example 21 was obtained using the same materials and the same method as in Example 21.
  • Comparative Example 21 a base film made of triacetyl cellulose having a thickness of 40 ⁇ m was used.
  • the content ratio of the plasticizer in the base film of Comparative Example 21 was higher than that of the base film of Example 21.
  • the amount of the first curable resin composition 2A applied was an amount that would produce a first portion having a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 2A applied was an amount that would produce a second portion having a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film and the first portion.
  • the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during curing of the second coating film was 132 mJ/cm 2 .
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differed from the first curable resin composition 2A described above in that the leveling agent "0.2 parts by mass of F-568 manufactured by DIC” was used instead of the leveling agent "0.2 parts by mass of LE-304 manufactured by Kyoeisha.”
  • the first curable resin composition used to form the first coating film was the same as the first curable resin composition 2A described above, except for the leveling agent.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the above-mentioned second curable resin composition 2A in that the leveling agent "DIC, F-477, 0.4 parts by mass” was used instead of the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.4 parts by mass.”
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the above-mentioned second curable resin composition 2A except for the leveling agent.
  • Example 21 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 21 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 22 differs from Example 21 above in that the composition of the first curable resin composition was changed, the amount of the first curable resin composition applied was changed, and the amount of the second curable resin composition 2A applied was changed.
  • the optical sheet of Comparative Example 22 was obtained by using the same materials and the same method as in Example 21.
  • the first curable resin composition 2A used in Example 21 contained a polyfunctional monomer and an acrylic polymer (1) mixed in a solid content mass ratio of 20:80.
  • the first curable resin composition used in Comparative Example 22 was obtained by mixing a polyfunctional monomer and an indole-based ultraviolet absorber mixed in a mass ratio of 95:5 instead of the polyfunctional monomer and acrylic polymer (1) of the first curable resin composition 2A.
  • the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 22 was the same as the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition 2A.
  • the solid content of the first curable resin composition used in Comparative Example 22 was 27.5%, which was the same as the solid content of the first curable resin composition 2A.
  • the indole-based ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 22 was a product name "BONASORB UA-3912" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.
  • the amount of the first curable resin composition applied was set to an amount that would create a first portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 2A applied was set to an amount that would create a second portion with a dry thickness of 8.0 ⁇ m, assuming no penetration into the base film or first portion.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 22 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 23 differs from the above-mentioned Comparative Example 21 in that the coating amount of the first curable resin composition 2A was increased, and otherwise the optical sheet of Comparative Example 23 was obtained using the same materials and the same method as in Comparative Example 21.
  • the coating amount of the first curable resin composition 2A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 5.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 23 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • the amount of the first curable resin composition 2A applied was set to an amount that would produce a first portion having a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • an optical sheet according to Comparative Example 24 was obtained. That is, in the optical sheet according to Comparative Example 24, the first layer was composed only of the first portion prepared using the first curable resin composition 2A.
  • the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 2A in Comparative Example 24 was different from the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 2A in Example 21.
  • the method and conditions for producing the first layer using the first curable resin composition 2A in Comparative Example 24 were the same as the method and conditions for producing the first part using the first curable resin composition 2A in Example 21.
  • Example 24 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 24 was observed in the same manner as in Example 21.
  • the first curable resin composition 2A penetrated the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • Thickness and thickness ratio>> A sample for thickness measurement was prepared by the following first and second steps.
  • the embedded sample was prepared using the following procedure. First, the cut sample was placed in a silicon embedding plate. Embedding resin was poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin was allowed to harden within the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin surrounding it were removed from the silicon embedding plate to obtain an embedded sample. The embedded sample was shaped like a block.
  • the silicon embedding plate used was manufactured by Dosaka EM.
  • the embedding resin was epoxy resin.
  • the embedding resin was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” and the same company's product name "Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • the embedding resin was allowed to harden by leaving it at room temperature for 12 hours.
  • the block-shaped embedded sample was cut with a diamond knife to prepare a slice sample.
  • the slice sample was aligned along the first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • slice samples without defects such as holes and with a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm were used as thickness measurement samples.
  • microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome was an Ultramicrotome EM UC7 manufactured by Leica Microsystems. When cutting the block-shaped embedded sample, it was first roughly cut as coarse trimming, and finally, precisely trimmed with a diamond knife to obtain a section sample.
  • the thickness of each layer was measured using the observation image of the thickness measurement sample by a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample was stained. Osmium tetroxide was used for staining.
  • the stained thickness measurement sample was imaged using a scanning transmission electron microscope to obtain an observation image of the thickness measurement sample.
  • the scanning transmission electron microscope used was an S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation.
  • the imaging conditions were as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • Ten observation images were obtained from one thickness measurement sample for each example.
  • the ten observation images were obtained at ten observation positions (measurement positions) spaced at a pitch of 10 ⁇ m in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet in question.
  • the thickness T120 ( ⁇ m) of the first layer and the thickness T130 ( ⁇ m) of the second layer for the optical sheet in each example were measured.
  • the thickness ratio (T120/T130) was calculated based on the thickness T120 ( ⁇ m) of the first layer and the thickness T130 ( ⁇ m) of the second layer measured from each observation image.
  • the calculated average of 10 measurements of thickness T120 ( ⁇ m) measured from 10 observation images was taken as the thickness T120 ( ⁇ m) of the first layer.
  • the calculated average of 10 measurements of thickness T130 ( ⁇ m) measured from 10 observation images was taken as the thickness T130 ( ⁇ m) of the second layer.
  • the calculated average of 10 values of thickness ratio (T120/T130) measured from 10 observation images was taken as the thickness ratio (T120/T130) of the optical sheet.
  • the measurement results of the thickness ( ⁇ m) of the first layer, the measurement results of the thickness ( ⁇ m) of the second layer, and the measurement results of the thickness ratio (T120/T130) are shown in Table 3. In Table 3, examples with a thickness ratio of 1.5 to 7.5 are marked "OK", and other examples are marked "NG".
  • Spectral transmittance >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The spectral transmittance (%) was measured. The spectral transmittance (%) was measured for wavelengths of 380 nm, 410 nm, 420 nm, and 440 nm. The ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" was used. The measurement results of the spectral transmittance at each wavelength are shown in Table 3. In Table 3, the spectral transmittance at 410 nm is 15% or less, and the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm is 15% or less. The examples having a spectral transmittance of 70% or more were marked as "OK", and the other examples were marked as "NG".
  • optical sheets according to Examples 21 to 27 and Comparative Examples 21 to 24 were placed on the display surface of a commercially available organic EL display device, and the image displayed by the organic EL display device was observed through the optical sheet.
  • Examples 21 to 27, Comparative Example 21, Comparative Example 23, and Comparative Example 24 no change in color was perceptible between the image when the optical sheet was installed and the image when the optical sheet was not installed.
  • Comparative Example 22 a change in the color of the image was confirmed when the optical sheet was installed.
  • Pencil hardness >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The pencil hardness was measured using a pencil hardness tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. The pencil hardness evaluated according to the above-mentioned evaluation criteria is shown in Table 3.
  • the sample was placed on the base plate with the second surface of the optical sheet in contact with the base plate.
  • the height of the four corners of the sample from the base plate was measured as the float (mm).
  • the maximum of the four float measurements taken for one sample was taken as the float for that sample.
  • the float was measured for each of the three samples.
  • the arithmetic mean value of the three float measurements was taken as the amount of deformation for that example.
  • the deformation measurement results are shown in Table 3.
  • Measurement conditions Measurement method: Wide/Narrow X-ray source: Monochrome A1K ⁇ X-ray output: 150W Emission current: 10mA Acceleration voltage: 15 kV Charge neutralization mechanism: ON Measurement area: 300 ⁇ m x 700 ⁇ m Pass Energy: Survey: 160eV, Narrow: 40eV Photoelectron capture angle: 90° Auto Z: ON Peak shift correction: Correction was made so that the C-C peak in the C1s peak was 285.0 eV. Waveform separation of narrow peaks: Executed using the GL function in the analysis software attached to the device. Etching ions: Ar monoatomic ions
  • Table 3 shows the percentage (%) of the amount of each element detected, with the total amount of elements detected being 100.
  • Example 21 the ratio of silicon element to carbon element was 0.02 (2%) or more.
  • the cross section of the first layer of Example 21 was observed.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used for the cross section observation. When the cross section was observed at an accelerating voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, the silica added as a lubricant was dispersed without being unevenly distributed in aggregate.
  • the epoxy resin used for embedding was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” with the same company's product name “Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • a microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome used was Leica Microsystems' product name "Ultramicrotome EM UC7.”
  • the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the first layer, the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the second layer, and the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the base layer were measured by the above-mentioned method.
  • the indentation hardness H IT at the cross section of each layer was measured using a measuring device "TI-950 TriboIndenter” manufactured by BRUKER.
  • the indenter used to measure the indentation hardness H IT at the cross section of each layer was "TI-0039" manufactured by BRUKER.
  • the measurement results of the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of each layer are shown in Table 3.
  • the indentation hardness at the cross section of each layer was the arithmetic average value of the indentation hardness measured at 10 measurement positions.
  • the ten measurement positions were located at ten positions on one slice sample, spaced apart at 5 ⁇ m intervals in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet.
  • Total light transmittance >> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The total light transmittance was measured. A haze meter "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory was used to measure the total light transmittance. The measurement results of the total light transmittance are shown in Table 3.
  • Yellowness index YI value>> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and comparative examples. The samples were visually confirmed to be free of any abnormalities such as dust or scratches. The yellowness index YI value of the optical sheets according to each example was measured by the method described above. The yellowness index YI value was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" manufactured by Shimadzu Corporation. The measurement results of the yellowness index YI value are shown in Table 3.
  • the optical sheet 210 includes a first layer 220.
  • the first layer 220 includes a cured product of a curable resin composition and an ultraviolet absorbing agent.
  • the first layer 220 including the ultraviolet absorbing agent provides the optical sheet 210 with a blue light blocking function.
  • the optical sheet 210 satisfies the following conditions (3A) to (3C) regarding the spectral transmittance.
  • (3A) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm is less than 1%.
  • (3B) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 is measured for each wavelength in 0.5 nm increments within the wavelength range of 379.5 nm to 440.5 nm. The results of the spectral transmittance measurements are used to determine whether conditions (3A)-(3C) are met.
  • Condition (3A) is determined based on the measured value of the spectral transmittance at a wavelength of 380.0.
  • Condition (3B) is determined based on the measured value of the spectral transmittance at a wavelength of 440.0.
  • the slope of the spectral transmittance indicates the increase in transmittance (%) per 1 nm of wavelength.
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength X is the value obtained by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm).
  • condition (3C) is determined to be met. If the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is maximum is 395.5 nm or less, condition (3C) is determined to be not met. If the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is maximum is 420.5 nm or more, condition (3C) is determined to be not met.
  • the optical sheet 210 may block light having a wavelength of 380 nm or less with high efficiency.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm may be less than 1%, 0.5% or less, or 0.4% or less.
  • the optical sheet 210 may transmit light having a wavelength of 440 nm or more with high transmittance.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more, 80% or more, or 85% or more.
  • condition (3C) the manner in which the spectral transmittance increases with increasing wavelength is specified.
  • the slope of the spectral transmittance has the same meaning as the value of the differential equation of the function that represents the spectral transmittance. Therefore, at the wavelength at which the slope of the spectral transmittance is at its maximum value and at wavelengths around that wavelength, the spectral transmittance increases rapidly with increasing wavelength.
  • conditions (3A) and (3C) light in the wavelength range of 380 nm or more and 400 nm or less is blocked by optical sheet 210 with sufficient efficiency.
  • satisfying conditions (3B) and (3C) light in the wavelength range of 420 nm or more and 440 nm or less can pass through optical sheet 210 with sufficient transmittance.
  • the optical sheet 210 can sufficiently block light with a wavelength of 400 nm or less, thereby suppressing problems caused by blue light.
  • the image light emitted from the display device 60 can pass through the optical sheet 210.
  • the optical sheet 210 can sufficiently block light with a wavelength of 400 nm or less from the image light.
  • eye strain of the observer of the image can be alleviated.
  • external light such as sunlight can enter the optical sheet 210.
  • Light with a wavelength of 420 nm or more can pass through the optical sheet 210 with high transmittance. This makes it possible to suppress changes and deterioration in the color of the image observed through the optical sheet 210.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified by condition (3C) is obtained may be 405 nm or more, 408 nm or more, 410 nm or more, 412 nm or more, or 415 nm or more.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance defined by condition (3C) is obtained may be 419.5 nm or less, or 419 nm or less.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained may be 405 nm or more and 420 nm or less, 408 nm or more and 420 nm or less, 410 nm or more and 420 nm or less, 412 nm or more and 420 nm or less, or 415 nm or more and 420 nm or less.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained may be 400 nm or more and 419.5 nm or less, 405 nm or more and 419.5 nm or less, 408 nm or more and 419.5 nm or less, 410 nm or more and 419.5 nm or less, 412 nm or more and 419.5 nm or less, or 415 nm or more and 419.5 nm or less.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained may be 400 nm or more and 419 nm or less, 405 nm or more and 419 nm or less, 408 nm or more and 419 nm or less, 410 nm or more and 419 nm or less, 412 nm or more and 419 nm or less, or 415 nm or more and 419 nm or less.
  • a lower limit may be set for the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in condition (3C), i.e., the maximum value of the slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm to 440 nm.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in condition (3C) may be 2.0 (%/nm) or more, 2.5 (%/nm) or more, 3.0 (%/nm) or more, 3.5 (%/nm) or more, or 4.0 (%/nm) or more.
  • An upper limit may be set for the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in condition (3C). By setting an upper limit for the maximum value of the spectral transmittance, color changes and deterioration can be suppressed more naturally.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance specified in condition (3C) may be 8.0 (%/nm) or less, 7.0 (%/nm) or less, 6.0 (%/nm) or less, 5.5 (%/nm) or less, or 5.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 8.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 7.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 6.0 (%/nm) or less.
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 5.5 (%/nm).
  • the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be 2.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 2.5 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 3.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, 3.5 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less, or 4.0 (%/nm) or more and 5.0 (%/nm) or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm may be less than 1%, may be 0.5% or less, or may be 0.4% or less. By setting the upper limit of the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm in this manner, blue light can be blocked more effectively. No lower limit is set for the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm may be 0% or more, or may be greater than 0%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm may be 0% or more and less than 1%, 0% or more and less than 0.5%, or 0% or more and less than 0.4%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm may be greater than 0% and less than 1%, greater than 0% and less than 0.5%, or greater than 0% and less than 0.4%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more, 75% or more, 80% or more, or 85% or more.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and 100% or less, 75% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 85% or more and 100% or less.
  • the spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm may be 70% or more and less than 100%, 75% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 85% or more and less than 100%.
  • the method for measuring the spectral transmittance is the same as that described in the first embodiment.
  • FIG. 10 is a graph showing the spectral transmittance and slope of the spectral transmittance of the optical sheets for samples C1 to C5.
  • Samples C1 to C3 satisfy all of conditions (3A), (3B), and (3C).
  • Sample C1 shows the spectral transmittance for the optical sheet according to Example 31 described below.
  • Sample C2 shows the spectral transmittance for the optical sheet according to Example 32 described below.
  • Sample C3 shows the spectral transmittance for the optical sheet according to Example 36 described below.
  • the spectral transmittance (%) may increase monotonically with increasing wavelength.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength in 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm to 440 nm may be greater than 0. According to these examples, changes and deterioration in color of the image observed through the optical sheet 210 can be more naturally suppressed.
  • the first layer 220 further includes a cured product of the curable resin composition.
  • the cured product of the curable resin composition is also referred to as a resin cured product.
  • the resin cured product can impart high hardness to the first layer 220 and the optical sheet 210.
  • the first layer 220 functions as a so-called hard coat layer.
  • the optical sheet 210 with improved hardness has excellent scratch resistance. When the optical sheet 210 is in use, scratches on the optical sheet 210 can be suppressed.
  • the optical sheet 210 is also suitable for a touch panel member 55 (see FIG. 5) that is expected to come into contact with a finger or a pen during use.
  • a resin layer containing a cured resin product is obtained by curing a coating film of a curable resin composition.
  • the coating film can be cured by exposing the coating film to light, which promotes a crosslinking reaction. High-energy short-wavelength light is usually used for exposure.
  • the ultraviolet absorber added to the curable resin composition can absorb the light used in the curing process of the coating film. In other words, the ultraviolet absorber can inhibit the curing process of the curable resin composition.
  • the scratch resistance may be significantly reduced. If the hardness of the first layer containing the cured resin is low, the UV absorber may bleed out from the first layer when the optical sheet is used. If the UV absorber bleeds out, the blue light blocking function of the optical sheet 210 will also be insufficient.
  • a measure is taken to improve the hardness of the first layer 220 and the optical sheet 210.
  • the optical sheet 210 according to the third embodiment includes a second layer 230 adjacent to the first layer 220.
  • the thickness ratio is 1.2 or more and 7.5 or less.
  • the thickness ratio is determined using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thicknesses T220 and T230 are measured from the image observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the thickness ratio at the measurement position is calculated from the thickness T220 of the first layer 220 and the thickness T230 of the second layer 230 measured at the same position in a direction perpendicular to the thickness direction observed with the scanning transmission electron microscope.
  • the thicknesses T220 and T230 are measured at 10 measurement positions, and the thickness ratios of the 10 measurements are calculated.
  • the thickness ratio of the optical sheet 210 is determined as the arithmetic mean value of the 10 thickness ratios.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is obtained by observing the thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained by the following first and second steps.
  • a cut sample is cut out from the optical sheet to be evaluated.
  • the cut sample is visually checked for any abnormalities such as dirt or scratches.
  • the cut sample is embedded in resin to prepare an embedded sample.
  • the embedded sample is prepared as follows. First, the cut sample is placed in a silicon embedding plate. Embedding resin is poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin is hardened inside the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin that encases it are removed from the silicon embedding plate to obtain the embedded sample. The embedded sample is shaped like a block.
  • the embedding resin is epoxy resin.
  • the block-shaped embedded sample is cut to prepare a slice sample.
  • the slice sample includes a surface along a first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • a slice sample that is free of defects such as holes and has a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm is used as a thickness measurement sample.
  • the imaging conditions of the scanning transmission electron microscope are as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • the optical sheet 210 may include a first surface 211 and a second surface 212 that face each other in a first direction D1.
  • the first surface 211 and the second surface 212 constitute a pair of main surfaces of the optical sheet 210.
  • the first direction D1 is the stacking direction of the multiple layers included in the optical sheet 210. From the first surface 211 to the second surface 212 in the first direction D1, the first layer 220 and the second layer 230 are positioned in this order.
  • the hardness of the first surface 211 can be improved, and the scratch resistance of the first surface 211 can also be improved.
  • the pencil hardness of the first surface 211 can be made 2H or more.
  • the load capacity of the first surface 211 in a steel wool scratch resistance test can be made 150 g or more.
  • the indentation hardness of the first surface 211 with an indentation depth of 100 nm can be made 330 MPa or more.
  • Pencil hardness is an index that indicates resistance to defects such as scratches that occur when a pencil lead is pressed against a sample to be evaluated and moved.
  • the method for measuring pencil hardness is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the steel wool scratch resistance test is an index showing resistance to defects such as scratches that occur when steel wool is pressed against the sample to be evaluated and moved relative to it.
  • the method for measuring the load capacity in the steel wool scratch resistance test is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the indentation hardness H IT is a hardness measured by a nanoindentation method using a nanoindenter.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT in the cross section of the first layer 20 is a position shifted by 1.2 ⁇ m from the first side surface 221 to the second side surface 222 of the first layer 220 along the normal direction of the optical sheet 210. That is, assuming that the first layer 220 corresponds to the functional layer 20, the indentation hardness H IT in the cross section of the first layer 220 is measured at the first position 26 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment.
  • the method of measuring the indentation hardness is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the first side surface 221 and the second side surface 222 are a pair of main surfaces of the first layer 220.
  • the first side surface 221 is located on a first side in a first direction D1 that is a normal direction of the first layer 220.
  • the first side surface 221 is a surface that is closer to the first surface 211 in the first direction D1.
  • the first side surface 221 of the first layer 220 constitutes the first surface 211 of the optical sheet 210.
  • the second side surface 222 is located on a second side in the first direction D1.
  • the second side surface 222 is a surface that is closer to the second surface 212 in the first direction D1.
  • the details of the effect of the thickness ratio (T220/T230) of the thickness T220 of the first layer 220 to the thickness T230 of the second layer 230 on the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 of the optical sheet 210 are unknown.
  • the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 were improved by providing the second layer 230 adjacent to the first layer 220 containing the cured resin and the UV absorber as a thin layer so as to satisfy the thickness ratio.
  • the second layer 230 tends to have a lower hardness than the first layer 220, which contains a cured resin.
  • the second layer 230 has an appropriate thickness that is thinner than the first layer 220, the adhesion of the first layer 220 to the optical sheet 210 is more easily ensured, and in addition, the hardness of the second layer 230 is more easily prevented from being reflected in the hardness of the first surface 211.
  • the present disclosure is not bound by this inference.
  • the thickness ratio of the first layer 220 to the second layer 230 has the following relationship with the hardness of the first surface 211 of the optical sheet 210 and the first layer 220:
  • the thickness ratio may be 1.2 or more, and may further be 1.5 or more, 1.6 or more, 1.7 or more, 2.6 or more, 2.7 or more, or 3.2 or more.
  • the pencil hardness of the first surface 211 may be 2H or more, 3H or more, or 4H or more.
  • the load capacity of the first surface 211 in a steel wool scratch resistance test may be 150g or more, 200g or more, 250g or more, or 300g or more.
  • the indentation hardness of the cross section of the first layer 220 at an indentation depth of 100 nm may be 330 MPa or more, 333 MPa or more, 342 MPa or more, or 379 MPa or more.
  • the pencil hardness of the first surface 211 may be 2H or more and 8H or less, 3H or more and 8H or less, or 4H or more and 8H or less.
  • the load capacity in the steel wool scratch resistance test on the first surface 211 may be 150 g or more and 300 g or less, 200 g or more and 300 g or less, 250 g or more and 300 g or less, or 300 g.
  • the indentation hardness in the cross section of the first layer 220 when the indentation depth is 100 nm may be 330 MPa or more and 600 MPa or less, 333 MPa or more and 600 MPa or less, 342 MPa or more and 600 MPa or less, or 379 MPa or more and 600 MPa or less.
  • the thickness ratio becomes too large, the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 may decrease.
  • the thickness ratio may be 7.5 or less.
  • the thickness ratio becomes too large, other problems may occur.
  • a lower limit to the thickness ratio the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 increase.
  • the thickness ratio becomes too large, curling or warping may occur in the optical sheet 210.
  • an upper limit to the thickness ratio deformation such as curling or warping can be suppressed.
  • the thickness ratio may be 7.5 or less, or may be 7.4 or less, 5.0 or less, 4.8 or less, or 3.9 or less.
  • the upper limit of the thickness ratio in this way, deformation such as curling or warping of the optical sheet 210 can be suppressed.
  • the hardness of the first layer 220 and the hardness of the first surface 211 can be improved.
  • the details of why deformation such as curling and warping can be suppressed by setting an upper limit on the thickness ratio are unclear.
  • the following can be inferred as one of the reasons for deformation suppression.
  • the first layer 220 contains a resin cured product, it may shrink during the curing process. This curing shrinkage may cause deformation such as curling and warping in the optical sheet 210.
  • the second layer 230 adjacent to the first layer 220 has a thickness that is at least a certain percentage of the thickness of the first layer 220. Therefore, it is inferred that the second layer 230 at least partially absorbs the deformation of the first layer 220, and deformation of the optical sheet 210 is suppressed.
  • the present disclosure is not bound by this inference.
  • the thickness ratio may be 1.2 or more and 7.5 or less, 1.2 or more and 7.4 or less, 1.2 or more and 5.0 or less, 1.2 or more and 4.8 or less, or 1.2 or more and 3.9 or less.
  • the thickness ratio may be 1.5 or more and 7.5 or less, 1.5 or more and 7.4 or less, 1.5 or more and 5.0 or less, 1.5 or more and 4.8 or less, or 1.5 or more and 3.9 or less.
  • the thickness ratio may be 1.6 or more and 7.5 or less, 1.6 or more and 7.4 or less, 1.6 or more and 5.0 or less, 1.6 or more and 4.8 or less, or 1.6 or more and 3.9 or less.
  • the thickness ratio may be 1.7 or more and 7.5 or less, 1.7 or more and 7.4 or less, 1.7 or more and 5.0 or less, 1.7 or more and 4.8 or less, or 1.7 or more and 3.9 or less.
  • the thickness ratio may be 2.6 to 7.5, 2.6 to 7.4, 2.6 to 5.0, 2.6 to 4.8, or 2.6 to 3.9.
  • the thickness ratio may be 2.7 to 7.5, 2.7 to 7.4, 2.7 to 5.0, 2.7 to 4.8, or 2.7 to 3.9.
  • the thickness ratio may be 3.2 to 7.5, 3.2 to 7.4, 3.2 to 5.0, 3.2 to 4.8, or 3.2 to 3.9.
  • a lower limit may be set for the thickness T220 of the first layer 220.
  • the thickness T220 of the first layer 220 may be 3.2 ⁇ m or more, 3.5 ⁇ m or more, 3.9 ⁇ m or more, 4.5 ⁇ m or more, 5.5 ⁇ m or more, or 7.0 ⁇ m or more.
  • An upper limit may be set for the thickness T220 of the first layer 220.
  • the thickness T220 of the first layer 220 may be 8.9 ⁇ m or less, 8.0 ⁇ m or less, or 7.6 ⁇ m or less.
  • the thickness T220 may be 3.2 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less, 3.5 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less, 3.9 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less, 4.5 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less, 5.5 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less, or 7.0 ⁇ m or more and 8.9 ⁇ m or less.
  • the thickness T220 may be 3.2 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less, 3.5 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less, 3.9 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less, 4.5 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less, 5.5 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less, or 7.0 ⁇ m or more and 8.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T220 may be 3.2 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 3.5 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 3.9 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 4.5 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, 5.5 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less, or 7.0 ⁇ m or more and 7.6 ⁇ m or less.
  • a lower limit may be set for the thickness T230 of the second layer 230.
  • the thickness T230 of the second layer 230 may be 1.2 ⁇ m or more, 1.5 ⁇ m or more, 1.8 ⁇ m or more, or 1.8 ⁇ m or more.
  • An upper limit may be set for the thickness T230 of the second layer 230.
  • the thickness T230 of the second layer 230 may be 3.5 ⁇ m or less, 3.0 ⁇ m or less, 2.7 ⁇ m or less, 2.6 ⁇ m or less, or 2.4 ⁇ m or less.
  • the thickness T230 may be 1.2 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less, 1.8 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less, or 1.8 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less.
  • the thickness T230 may be 1.2 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, 1.8 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, or 1.8 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the thickness T230 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, 1.8 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less, or 1.8 ⁇ m or more and 2.7 ⁇ m or less.
  • the thickness T230 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.6 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.6 ⁇ m or less, 1.8 ⁇ m or more and 2.6 ⁇ m or less, or 1.8 ⁇ m or more and 2.6 ⁇ m or less.
  • the thickness T230 may be 1.2 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, 1.8 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less, or 1.8 ⁇ m or more and 2.4 ⁇ m or less.
  • the thickness T220 of the first layer 220 and the thickness T230 of the second layer 230 are each measured using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thicknesses T220 and T230 are measured from the observation image of the scanning transmission electron microscope.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is obtained by observing a thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained through the first and second steps described above.
  • the thickness T220 is determined as the arithmetic mean value of ten thickness measurement values measured at ten measurement positions.
  • the thickness T230 is determined as the arithmetic mean value of ten thickness measurement values measured at ten measurement positions.
  • the hardness of the first layer 220 may be greater than the hardness of the second layer 230.
  • the indentation hardness H IT measured on a cross section of the first layer 220 may be greater than the indentation hardness H IT measured on a cross section of the second layer 230.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 230 is the center position in the thickness direction of the second layer 230. That is, assuming that the second layer 230 corresponds to the intermediate layer 30, the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 230 is measured at the center position 31 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 230 is measured by pressing an indenter into this measurement position.
  • the indentation hardness H IT of the cross section of the second layer 230 is otherwise measured by the same measurement method as the measurement method of the indentation hardness H IT of the cross section of the first layer 220 described above.
  • the second layer 230 may include one or more of an acrylic resin and a cellulose resin. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 220 is greater than that of the second layer 230 is stably generated.
  • the indentation hardness H IT measured at the cross section of the first layer 220 can be stably greater than the indentation hardness H IT measured at the cross section of the second layer 230.
  • the hardness of the first layer 220, the pencil hardness of the first surface 211, the load capacity in the steel wool scratch resistance test on the first surface 211, and the indentation hardness H IT at the cross section of the first layer 220 can be increased.
  • deformation such as curling and warping of the optical sheet 210 can be stably suppressed.
  • the second layer 230 may contain the same resin component as at least a part of the resin component contained in the first layer 220. According to this example, it is possible to improve the adhesion between the second layer 230 and the first layer 220. When the adhesion between the second layer 230 and the first layer 220 is improved, it is possible to stably improve the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211. As a result, the pencil hardness at the first surface 211, the load capacity in a steel wool scratch resistance test at the first surface 211, and the indentation hardness HIT at a cross section of the first layer 220 may increase.
  • FT-IR Fourier transform infrared spectroscopy
  • the second layer 230 may include a monomer. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 220 is greater than that of the second layer 230 is stably generated.
  • the indentation hardness H IT measured at the cross section of the first layer 220 can be stably greater than the indentation hardness H IT measured at the cross section of the second layer 230.
  • the pencil hardness at the first surface 211, the load capacity in the steel wool scratch resistance test at the first surface 211, and the indentation hardness H IT at the cross section of the first layer 220 can be increased.
  • deformation such as curling and warping of the optical sheet 210 can be stably suppressed.
  • the second layer 230 may contain at least a part of the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 220. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 220 is greater than that of the second layer 230 is stably generated. For example, the indentation hardness H IT measured on the cross section of the first layer 220 can be stably made greater than the indentation hardness H IT measured on the cross section of the second layer 230. In addition, the adhesion between the second layer 230 and the first layer 220 can be improved. As a result, the hardness of the first layer 220 and the hardness of the first surface 211 of the optical sheet 210 can be stably improved.
  • Whether the second layer 230 contains a monomer is determined by staining with osmium tetroxide.
  • a cross-sectional sample is cut out from the optical sheet 210 by cutting. The thickness of the sample is about 80 nm. The cut out sample is collected on a Cu mesh. This sample is stained with osmium tetroxide for 30 minutes by a vapor-phase staining method. The portion of the stained sample corresponding to the second layer 230 is observed using a scanning transmission electron microscope (STEM). The unsaturated double bonds that may be contained in the second layer 230 are colored by the staining process. Therefore, if the observed sample is colored by staining, it is determined that the second layer 230 contains a monomer. Whether the monomer contained in the second layer 230 is the same as the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 220 is determined by quantitatively analyzing the chemical bonds using Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR).
  • FT-IR Fourier
  • the optical sheet 210 may include a base layer 240.
  • the first layer 220, the second layer 230, and the base layer 240 may be arranged in this order from the first surface 211 to the second surface 212 in the first direction D1.
  • the first layer 220 includes a first side surface 2221 and a second side surface 222.
  • the first side surface 2221 and the second side surface 222 constitute a pair of main surfaces of the first layer 220.
  • the first side surface 2221 constitutes the first surface 211.
  • the second side surface 222 is in contact with the second layer 230.
  • the thickness T240 of the base layer 240 may be greater than the thickness T220 of the first layer 220.
  • the thickness T240 of the base layer 240 may be greater than the thickness T230 of the second layer 230.
  • the thickness T240 of the base layer 240 may be greater than the total thickness of the thickness T220 of the first layer 220 and the thickness T230 of the second layer 230.
  • a base layer 240 having such a thickness T240 can stably support the first layer 220 and the second layer 230.
  • the thickness T240 of the base layer 240 is measured using a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is observed with a scanning transmission electron microscope, and the thickness T240 is measured from the observation image of the scanning transmission electron microscope.
  • the observation image of the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is obtained by observing a thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is obtained through the first and second steps described above.
  • the thickness T240 of the base layer 240 is determined as the arithmetic mean value of 10 thickness measurement values measured at 10 measurement positions.
  • the second layer 230 may contain at least a part of the same resin component as the resin component contained in the base layer 240.
  • the adhesion between the second layer 230 and the base layer 240 can be improved.
  • the adhesion between the second layer 230 and the base layer 240 can also contribute to improving the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211.
  • the adhesion between the second layer 230 and the base layer 240 is improved, the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 can be improved. This can increase the pencil hardness at the first surface 211, the load capacity in a steel wool scratch resistance test at the first surface 211, and the indentation hardness HIT at the cross section of the first layer 220.
  • the second layer 230 may include at least a part of the resin component included in the first layer 220 and at least a part of the resin component included in the base layer 240. According to this example, a relationship in which the hardness of the first layer 220 is greater than the hardness of the second layer 230 is stably generated.
  • the indentation hardness H IT measured on the cross section of the first layer 220 can be stably made greater than the indentation hardness H IT measured on the cross section of the second layer 230.
  • the adhesion between the first layer 220 and the second layer 230 can be improved, and the adhesion between the second layer 230 and the base layer 240 can be improved.
  • the adhesion By improving the adhesion, the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 can be stably improved.
  • the second layer 230 may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the first layer 220. By including an ultraviolet absorbing agent in the second layer 230, the blue light blocking function can be enhanced.
  • the second layer 230 may be a mixed layer of the resin component of the first layer 220 and the resin component of the base layer 240.
  • the second layer 230 as a mixed layer of the resin component of the first layer 220 and the resin component of the base layer 240 can more effectively improve the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211.
  • the second layer 230 as a mixed layer may be a permeation layer in which the curable resin composition for producing the first layer 220 is permeated into the base film 245.
  • the base layer 240 and the second layer 230 may both be composed of the base film 245 to which the curable resin composition for producing the first layer 220 is applied.
  • the part of the base film 245 that is permeated with the curable resin composition may constitute the second layer 230.
  • the part of the base film 245 that is not permeated with the curable resin composition may constitute the base layer 240.
  • the presence of the permeation layer can be confirmed by observing the cross section of the optical sheet along the first direction with a scanning transmission electron microscope (STEM).
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • An observation image of the cross section of the optical sheet 210 to be evaluated is obtained by observing the above-mentioned thickness measurement sample with a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample is stained before observation with the scanning transmission electron microscope. Osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, phosphotungstic acid, etc. may be used for staining.
  • the base layer 240 and the base film 245 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the acrylic resin and the cellulose resin are easily permeated with the curable resin composition. Therefore, the second layer 230, which is a mixed layer of the resin components of the first layer 220 and the resin components of the base layer 240, can be easily produced. According to this example, the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211 can be stably improved.
  • the hardness of the base layer 240 may be greater than the hardness of the second layer 230.
  • the indentation hardness H IT measured on a cross section of the base layer 240 may be greater than the indentation hardness H IT measured on a cross section of the second layer 230.
  • the measurement position of the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 240 is the center in the thickness direction of the base material layer 240. That is, assuming that the base material layer 240 corresponds to the base material layer 40, the indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 240 is measured at the center position 41 described with reference to FIG. 2A in the first embodiment. The indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 240 is measured by pressing an indenter into this measurement position. The indentation hardness H IT of the cross section of the base material layer 240 is otherwise measured by the same measurement method as the measurement method of the indentation hardness H IT of the cross section of the first layer 220 described above.
  • the a * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 210 measured by transmitted light may be -3.0 or more and -1.6 or less.
  • the b * value of the L * a * b * color system of the optical sheet 210 measured by transmitted light may be 3.5 or more and 6.0 or less.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 210 may be 12 or less, 11 or less, 10 or less, or 9.0 or less.
  • the yellowness index is an index showing the degree of yellow coloring of the optical sheet 210.
  • the yellowness (YI value) of the optical sheet 210 may be equal to or greater than 0.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 210 may be greater than 0 and less than 12, greater than 0 and less than 11, greater than 0 and less than 10, or greater than 0 and less than 9.0.
  • the yellowness index (YI value) of the optical sheet 210 may be greater than 0 and less than 12, greater than 0 and less than 11, greater than 0 and less than 10, or greater than 0 and less than 9.0.
  • the method for measuring the yellowness is the same as that described in the first embodiment.
  • the total light transmittance of the optical sheet 210 may be 50% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the total light transmittance of the optical sheet 210 does not have a particular upper limit.
  • the total light transmittance of the optical sheet 210 may be 100% or less, or may be less than 100%.
  • the total light transmittance of the optical sheet 210 may be 50% or more and 100% or less, 70% or more and 100% or less, 80% or more and 100% or less, or 90% or more and 100% or less.
  • the total light transmittance of the optical sheet 210 may be 50% or more and less than 100%, 70% or more and less than 100%, 80% or more and less than 100%, or 90% or more and less than 100%.
  • the method for measuring the total light transmittance is the same as that described in the first embodiment.
  • the transmission haze of the optical sheet 210 may be 1.1% or less, 0.5% or less, or 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 210 does not have a particular lower limit.
  • the transmission haze of the optical sheet 210 may be 0% or greater than 0%.
  • the transmission haze of the optical sheet 210 may be 0% or more and 1.1% or less, 0% or more and 0.5% or less, or 0% or more and 0.2% or less.
  • the transmission haze of the optical sheet 210 may be greater than 0% and 1.1% or less, greater than 0% and 0.5% or less, or greater than 0% and 0.2% or less.
  • the method for measuring the transmission haze is the same as that described in the first embodiment.
  • the ratio of silicon element to carbon element measured on the first surface 211 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.02 or more. In other words, in the quantitative analysis result of elements by X-ray photoelectron spectroscopy, the amount of silicon element may be 0.02 or more when the amount of carbon element is 1.
  • the silicon element is the sum of an inorganic component (silica) and an organic component (silicone).
  • the first layer 220 may contain inorganic particles as a lubricant.
  • By setting the ratio of silicon element to carbon element to 0.02 or more it is possible to suppress the aggregation of inorganic particles added as a lubricant, for example, the aggregation of silica. In other words, by setting the ratio of silicon element to carbon element to 0.02 or more, the lubricant functions effectively.
  • the lubricant can suppress the adjacent optical sheets 210 from sticking to each other when the optical sheets 210 are stacked or rolled up.
  • the curable resin composition for producing the first layer 220 may contain a leveling agent.
  • a Si-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of silicon elements to carbon elements can be set to 0.02 or more.
  • the ratio of elemental fluorine measured on the first surface 211 by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.1% or less. In other words, the ratio of the amount of elemental fluorine to the total amount of elements detected by X-ray photoelectron spectroscopy may be 0.001 or less. In this example, substantially no fluorine is detected in the surface layer of the optical sheet 210. By not using an F-based leveling agent as the leveling agent added to the curable resin composition, the ratio of elemental fluorine can be 0.1% or less.
  • X-ray photoelectron spectroscopy allows for quantitative analysis of elements present on the surface layer of the optical sheet 210.
  • an X-ray photoelectron spectroscopy device XPS
  • the measurement method by X-ray photoelectron spectroscopy using an X-ray photoelectron spectroscopy device is the same as the measurement method described in the first embodiment.
  • the base layer 240, the second layer 230, and the first layer 220 are stacked in the first direction D1.
  • the first direction D1 is the stacking direction.
  • the base layer 240, the second layer 230, and the first layer 220 extend in the second direction D2 and the third direction D3 perpendicular to the first direction D1.
  • the second direction D2 and the third direction D3 are perpendicular to each other.
  • the first direction D1 is the thickness direction and normal direction of the optical sheet 210.
  • the first direction D1 is also the thickness direction and normal direction of each layer 240, 230, and 220 included in the optical sheet 210.
  • the first surface 211 is composed of the first layer 220.
  • the second surface 212 is composed of the base layer 240.
  • the first layer 220 and the second layer 230 are adjacent in the first direction D1.
  • the second layer 230 and the base layer 240 are adjacent in the first direction D1.
  • the optical sheet 210 may include layers other than the first layer 220, the second layer 230, and the base layer 240.
  • the optical sheet 210 may include one or more of a low-reflection layer, an antistatic layer, an antifouling layer, etc.
  • a layer other than the first layer 220 may constitute the first surface 211.
  • the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer are thin layers. Therefore, even in the example in which the other layers, such as the low-reflection layer, the antistatic layer, and the antifouling layer, constitute the first surface 211, the hardness of the first surface 211 can be improved by the combination of the first layer 220 and the second layer 230.
  • the base layer 240 supports the first layer 220 and the second layer 230.
  • the base layer 240 may be transparent.
  • transparent means that the total light transmittance in accordance with JIS K7361-1:1997 is 50% or more. This means that the ratio is 70% or more, 80% or more, or 90% or more.
  • the substrate layer 240 may be the same as the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the substrate layer 240 may be the same as the substrate layer 140 described in the second embodiment.
  • the substrate layer 240 may have the same configuration as the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the substrate layer 240 may have the same configuration as the substrate layer 140 described in the second embodiment.
  • the material of the substrate layer 240 may be the same as the material of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the material of the substrate layer 240 may be the same as the material of the substrate layer 140 described in the second embodiment.
  • the thickness T240 of the substrate layer 240 may be the same as the thickness T40 of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the thickness T240 of the substrate layer 240 may be the same as the thickness T140 of the substrate layer 140 described in the second embodiment.
  • the layer configuration of the substrate layer 240 may be the same as the layer configuration of the substrate layer 40 described in the first embodiment.
  • the layer structure of the base material layer 240 may be the same as the layer structure of the base material layer 240 described in the second embodiment.
  • the substrate layer 240 may be prepared as a substrate film 245.
  • This substrate film 245 may include only a single layer or may include multiple layers.
  • the substrate layer 240 may include a primer layer such as an easy-adhesion layer.
  • the surface of the substrate film 245 may be subjected to one or more of sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, etching treatment such as oxidation, and undercoat treatment. These treatments can improve the adhesion between the substrate film 245 and the layer adjacent to the substrate film 245.
  • the surface of the substrate film 245 may be subjected to a cleaning treatment such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning.
  • the first layer 220 includes a binder resin 223 and an ultraviolet absorbing agent.
  • the first layer 220 exhibits a blue light blocking function by including the ultraviolet absorbing agent.
  • the binder resin 223 is a curable resin composition.
  • the first layer 220 contains a cured product of the curable resin composition, which contributes to improving the hardness of the first surface 211 and the first layer 220.
  • the first layer 220 may have the same configuration as the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the first layer 220 may have the same configuration as the first layer 120 described in the second embodiment.
  • the material of the first layer 220 may be the same as the material of the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the material of the first layer 220 may be the same as the material of the first layer 120 described in the second embodiment.
  • the layer structure of the first layer 220 may be the same as the layer structure of the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the layer structure of the first layer 220 may be the same as the layer structure of the first layer 120 described in the second embodiment.
  • the curable resin composition may be an ionizing radiation curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include one or more of an ultraviolet ray curable resin composition and an electron beam curable resin composition.
  • the ionizing radiation curable resin composition may include an ionizing radiation curable compound and a photopolymerization initiator.
  • the ionizing radiation curable compound may include one or more of an ultraviolet ray curable compound and an electron beam curable compound.
  • the ultraviolet ray curable compound is a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.
  • the electron beam curable compound is a resin that is cured by irradiation with an electron beam.
  • the cured product of the curable resin composition may be a cured curable compound.
  • the ionizing radiation curable compound may be the same as the ionizing radiation curable compound used in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the ionizing radiation curable compound may be the same as the ionizing radiation curable compound used in the first layer 120 described in the second embodiment.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited.
  • the photopolymerization initiator may be the same as the photopolymerization initiator used in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the photopolymerization initiator may be the same as the photopolymerization initiator used in the first layer 120 described in the second embodiment.
  • the ultraviolet absorber may be dispersed in a first direction D1, a second direction D2, and a third direction D3 in the first layer 220.
  • the ultraviolet absorber may be included in a liquid curable resin composition.
  • the ultraviolet absorber included in the curable resin composition may be dispersed in the first layer 220 after a coating film of the curable resin composition is subjected to a drying process and a curing process.
  • the ultraviolet absorber imparts a blue light cut function to the first layer 220 and the optical sheet 210.
  • the characteristics of the blue light cut function can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber. Therefore, the blue light cut function caused by the ultraviolet absorber can make the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm 70% or more, while making the spectral transmittance at a wavelength of 410 nm 15% or less.
  • the a * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the b * value of the L * a * b * color system measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the yellowness YI value measured by transmitted light can be adjusted by the type and content of the ultraviolet absorber.
  • the type and content of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
  • the type and content of the ultraviolet absorber can be selected so as to obtain the desired blue light cut function and the desired a * value and b * value.
  • the type and amount of the ultraviolet absorbent may be the same as the type and amount of the ultraviolet absorbent described in the first embodiment.
  • the type and amount of the ultraviolet absorbent may be the same as the type and amount of the ultraviolet absorbent described in the second embodiment.
  • the curable resin composition may contain particles as a lubricant.
  • the curable resin composition may contain the same particles as the particles as the lubricant contained in the curable resin composition for the functional layer described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may contain the same particles as the particles as the lubricant contained in the curable resin composition for the first layer described in the second embodiment.
  • the particle diameter of the particles contained in the first layer 220 is determined in the same manner as the particle diameter of the particles contained in the functional layer 20 described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may contain a Si-based leveling agent as an additive.
  • the surface of the first layer 220 can be made smoother.
  • the Si-based leveling agent can impart excellent slip properties and excellent anti-fouling properties to the surface of the first layer 220.
  • the curable resin composition may contain other additives.
  • additives include antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants, silane coupling agents, thickeners, coloring inhibitors, colorants (pigments, dyes), defoamers, flame retardants, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, and surface modifiers.
  • the curable resin composition may contain one or more of these additives.
  • the curable resin composition may contain a solvent.
  • the curable resin composition may contain the same solvent as the solvent contained in the curable resin composition for the functional layer described in the first embodiment.
  • the curable resin composition may contain the same solvent as the solvent contained in the curable resin composition for the first layer described in the second embodiment.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition i.e., the solid content ratio, is not particularly limited.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 5% by mass or more, or 25% by mass or more.
  • the content ratio of the raw materials in the curable resin composition may be 70% by mass or less, or 60% by mass or less.
  • the first layer 220 is made using a liquid curable resin composition containing an ultraviolet absorber.
  • the prepared curable resin composition is applied to a surface on which the first layer 220 is to be made to form a coating film of the curable resin composition.
  • the coating film of the curable resin composition is dried, and the dried coating film is cured to obtain the first layer 220.
  • the preparation method, application method, and curing treatment of the curable resin composition are not particularly limited.
  • the preparation method, application method, and curing treatment of the curable resin composition may be the same as the preparation method, application method, and curing treatment of the curable resin composition for the first layer described in the first embodiment, respectively.
  • the second layer 230 is a layer adjacent to the first layer 220 and the base layer 240. As described above, the second layer 230 is a layer whose thickness T230 is adjusted with respect to the thickness T220 of the first layer 220.
  • the thickness ratio which is the ratio of the thickness T220 of the first layer 220 to the thickness T230 of the second layer 230, is not less than 1.2 and not more than 7.5.
  • the second layer 230 may be a resin layer.
  • the second layer 230 may be a layer that has high adhesion to the base layer 240.
  • the second layer 230 may be a layer that has high adhesion to the first layer 220.
  • the second layer 230 may have a hardness lower than that of the first layer 220.
  • the indentation hardness measured on a cross section of the first layer 220 may be greater than the indentation hardness measured on a cross section of the second layer 230.
  • the presence of such a second layer 230 can improve the hardness of the first layer 220 and the hardness at the first surface 211.
  • the material of the second layer 230 may be selected as follows.
  • the second layer 230 may include a thermoplastic resin.
  • the second layer 230 may include the same resin component as at least a portion of the resin component contained in the first layer 220.
  • the second layer 230 may include one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the second layer 230 may include the same resin component as at least a portion of the resin component contained in the first layer 220.
  • the second layer 230 may include a monomer.
  • the second layer 230 may include at least a portion of the monomer contained in the curable resin composition for producing the first layer 220.
  • the second layer 230 may be a mixed layer of the resin component of the first layer 220 and the resin component of the base layer 240.
  • the second layer 230 By forming the second layer 230 as a mixed layer of the resin component of the first layer 220 and the resin component of the base layer 240, the hardness of the first surface 211 of the optical sheet 210 can be more effectively improved.
  • the second layer 230 as a mixed layer may be a permeation layer in which the curable resin composition for producing the first layer 220 is permeated into the base film 245.
  • the base film 240 and the second layer 230 may both be constituted by the base film 245 to which the curable resin composition for producing the first layer 220 is applied.
  • the second layer 230 may be constituted by a portion of the base film 245 into which the curable resin composition has permeated (permeation layer).
  • the base film 245 may be constituted by a portion of the base film 245 into which the curable resin composition has not permeated.
  • the solvent contained in the curable resin composition easily penetrates the base film 245, so that the second layer 230 can be stably formed as a penetration layer.
  • a base film 245 with high water absorption (liquid absorption) the solvent easily penetrates the base film 245.
  • the solvent easily penetrates cellulose-based resins, particularly triacetylcellulose (TAC).
  • TAC triacetylcellulose
  • the solvent also easily penetrates acrylic resins. Therefore, the base layer 240 and the base film 245 may contain one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the second layer 230 which is a mixed layer of the resin component of the first layer 220 and the resin component of the base layer 240, can be stably produced.
  • the produced second layer 230 contains one or more of an acrylic resin and a cellulose resin.
  • the ease of forming the penetration layer changes depending on the relationship between the curable resin compound and the solvent contained in the curable resin composition and the base film 245.
  • the ease of forming the penetration layer also changes depending on the viscosity of the curable resin compound, the drying conditions of the coating of the curable resin compound, and the curing conditions of the coating of the curable resin compound. Therefore, the thickness T230 of the second layer 230 as a penetration layer can be adjusted depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 245, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, and the like.
  • the amount of penetration changes depending on the material contained in the curable resin composition, the material of the base film 245, the preparation conditions of the curable resin composition, the drying conditions of the curable resin composition, the curing conditions of the curable resin composition, and the like, so the thickness T220 of the first layer 220 can also be adjusted. That is, when the second layer 230 is produced as a penetration layer, the thickness ratio can be adjusted.
  • the second layer may contain an ultraviolet absorbing agent that is the same as at least a portion of the ultraviolet absorbing agent contained in the first layer.
  • a method for manufacturing the optical sheet 210 may include a step of producing an intermediate laminate including the base layer 240 and the second layer 230, and a step of producing the first layer 220 on the second layer 230. Details of the first example of the method for manufacturing the optical sheet may be similar to the first example of the method for manufacturing the optical sheet described in the second embodiment.
  • the manufacturing method of the optical sheet 210 may include a step of producing an intermediate laminate including the second layer 230 and the first layer 220, and a step of laminating the intermediate laminate including the second layer 230 and the first layer 220 and the base layer 240. Details of the second example of the manufacturing method of the optical sheet may be similar to the second example of the manufacturing method of the optical sheet described in the second embodiment.
  • the manufacturing method of the optical sheet 210 may include a step of producing the first layer 220 on the base film 245 by a wet method.
  • This manufacturing method may include a step of applying a curable resin composition onto the base film 245 and a step of curing the coating of the curable resin composition.
  • the manufacturing method may further include a step of drying the coating of the curable resin composition before the step of curing the coating.
  • the first layer 220 may be constituted by the coating of the cured curable resin composition.
  • the second layer 230 may be constituted by a portion of the base film 245 into which the curable resin composition has permeated (i.e., a permeation layer).
  • the base layer 240 may be constituted by a portion of the base film into which the curable resin composition has not permeated.
  • the details of the third example of the manufacturing method of the optical sheet may be the same as the third example of the manufacturing method of the optical sheet described in the second embodiment. According to the third example of the manufacturing method of the optical sheet, the same action and effect as the third example of the manufacturing method of the optical sheet described in the second embodiment can be achieved.
  • the manufacturing method of the optical sheet 210 may include the following four steps.
  • Details of the fourth example of the method for manufacturing an optical sheet may be similar to those of the fourth example of the method for manufacturing an optical sheet described in the second embodiment. According to the fourth example of the method for manufacturing an optical sheet, it is possible to achieve the same effects as those of the fourth example of the method for manufacturing an optical sheet described in the second embodiment.
  • the manufacturing method according to the fourth example allows for a higher degree of freedom in adjusting the spectral transmittance characteristics of the optical sheet 210.
  • (3A) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm is less than 1%.
  • (3B) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less.
  • a long sheet article 5 including a number of optical sheets 210 can be manufactured.
  • the long sheet article 5 is cut to a predetermined size to obtain the optical sheet 210.
  • optical sheets 210 having various dimensions can be obtained from the long sheet article 5 in accordance with needs. Therefore, optical sheets 210 having various dimensions can be provided in a timely manner.
  • the handleability of the sheet article 5 can be improved.
  • the manufacturing method of the optical sheet may further include a step of selecting the manufactured optical sheet 210 in addition to the step of manufacturing the optical sheet described above.
  • the step of selecting the optical sheet 210 may include a step of measuring the thickness ratio and a step of measuring the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within a wavelength range of 379.5 nm to 440.5 nm.
  • the thickness ratio is the ratio of the thickness T220 ( ⁇ m) of the first layer 220 to the thickness T230 ( ⁇ m) of the second layer 230.
  • the step of selecting the optical sheet 210 may further include a step of selecting the optical sheet based on the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, and the slope of the spectral transmittance at wavelengths at intervals of 0.5 nm within a wavelength range of 380 nm to 440 nm.
  • a thickness ratio of 1.2 or more and 7.5 or less may be acceptable.
  • a spectral transmittance of less than 1% at a wavelength of 380 nm may be acceptable.
  • a spectral transmittance of 70% or more at a wavelength of 440 nm may be acceptable.
  • the slope (%/nm) of the spectral transmittance at wavelength X is calculated by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm).
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at intervals of 0.5 nm within the range of 380 nm to 440 nm may be acceptable if the maximum value is within the range of 400 nm to 420 nm.
  • the optical sheet 210 that passes all of the thickness ratio, the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm, the spectral transmittance at a wavelength of 440 nm, and the maximum value of the slope of the spectral transmittance may be selected as a good product.
  • the optical sheet 210 selected as a good product has an excellent blue light blocking function and has high hardness on the first surface 211. According to this selection step, an optical sheet having excellent scratch resistance can be selected with high precision without performing a scratch test using felt or steel wool.
  • the optical sheet 210 may be applied to one or more of the polarizing plate 50, the touch panel member 55, and the display device 60.
  • the first curable resin composition 3A was applied onto a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 ⁇ m, and a first coating film was formed on the substrate film.
  • the method for producing the first curable resin composition 3A will be described later.
  • the first coating film was dried under the condition of 40° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s). After that, the first coating film was dried under the condition of 40° C. ⁇ 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the first coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 66 mJ/cm 2.
  • the first coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the first portion of the first layer was formed on the substrate film.
  • the amount of application of the first curable resin composition 3A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • the second curable resin composition 3A having the following formulation was applied onto the first portion to form a second coating film on the substrate film.
  • the solid content of the second curable resin composition 3A was 47%.
  • the second curable resin composition 3A did not contain an ultraviolet absorber.
  • the second coating film was dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s).
  • the second coating film was dried under the conditions of 70°C x 20 seconds (drying air speed 0.3 m/s). The above caused the solvent to volatilize.
  • the second coating film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light quantity of 288 mJ/ cm2 .
  • the second coating film was cured by irradiation with ultraviolet light, and the second portion of the first layer was prepared on the substrate film and the first portion.
  • the amount of application of the second curable resin composition 3A was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate layer or the first portion.
  • the optical sheet of Example 31 was obtained.
  • the first layer was composed of the first portion and the second portion.
  • the cross section of the optical sheet of Example 31 was observed during the thickness measurement described below.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used to observe the cross section.
  • the cross section was observed at an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, it was found that the curable resin composition had permeated the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer. Furthermore, the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • the contents in the four-neck flask were refluxed and dehydrated at 110-115°C for 4 hours.
  • 30 mL of water and 0.6 g (0.006 mol) of sodium carbonate were added to the four-neck flask.
  • the four-neck flask was then left to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed.
  • 0.2 g of activated carbon was added to the four-neck flask, and the contents were refluxed and stirred to decolorize.
  • the contents removed from the four-neck flask were then filtered. 40 mL of toluene was collected from the obtained filtrate under reduced pressure.
  • An intermediate composition was prepared by mixing the following: - Multifunctional monomer (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded (a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded to MMA and an ultraviolet absorber at a mass ratio X of 40 parts by mass) Solvent (a mixture of MEK and toluene in a mass ratio of 30:70) The polyfunctional monomer and the acrylic polymer (1) were mixed in a solid content mass ratio of 40:60.
  • - Multifunctional monomer PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Acrylic polymer (1) to which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactively bonded a polymer in which a sesamol-type benzotriazole monomer is reactive
  • the obtained intermediate composition was mixed with a photopolymerization initiator (4 parts by mass of Irgacure 819, manufactured by BASF) and a leveling agent (0.2 parts by mass of LE-304, manufactured by Kyoeisha) and thoroughly stirred to prepare a first curable resin composition 3A.
  • the obtained first curable resin composition 3A contained a solid content of 27.5%.
  • UV-curable acrylate-containing composition 50 parts by mass (PET-30 (pentaerythritol triacrylate), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50 parts by mass of ultraviolet-curable urethane acrylate-containing composition (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "Beamset 577")
  • Leveling agent 0.4 parts by mass (Kyoeisha, product name "LE-304”)
  • Photopolymerization initiator 4 parts by mass IGM Resins, trade name "Omnirad184”
  • Lubricant 20 parts by mass (CIK Nanotech, SIRMIBK15WT%-E65)
  • Solvent a mixture of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone in a mass ratio of 55:48)
  • Example 32 differs from the above-mentioned Example 31 in that the amount of the first curable resin composition 3A applied was reduced, but otherwise the optical sheet of Example 32 was obtained using the same materials and method as Example 31.
  • the amount of the first curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • Example 32 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 32 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 33 differs from the above-mentioned Example 31 in that the coating amount of the first curable resin composition 3A was increased, but otherwise the optical sheet of Example 33 was obtained using the same materials and by the same method as in Example 31.
  • the coating amount of the first curable resin composition 3A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 4.9 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • Example 33 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 33 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 34 differs from Example 31 in that the drying conditions of the first coating film were changed and the amount of the second curable resin composition 3A applied was increased, but the optical sheet of Example 34 was obtained using the same materials and methods as Example 31.
  • the first coating film was first dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.4 m/s), and then dried under the conditions of 60°C x 20 seconds (drying air speed 0.5 m/s).
  • the amount of the second curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 5.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film or the first portion.
  • Example 34 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 34 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 35 differs from Example 31 in that the solid content ratio of the first curable resin composition and the solid content ratio of the second curable resin composition were changed, and the optical sheet of Example 35 was obtained by the same materials and the same method as Example 31.
  • a first curable resin composition having a solid content of 20% was used.
  • the first curable resin composition used in Example 35 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the first curable resin composition 3A.
  • a second curable resin composition having a solid content of 40% was used.
  • the second curable resin composition used in Example 35 was obtained by adjusting the amount of solvent contained in the second curable resin composition 3A.
  • Example 35 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 35 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 36 differs from Example 31 in that the amount of the first curable resin composition 3A applied was reduced and the amount of the second curable resin composition 3A applied was reduced.
  • the optical sheet of Example 36 was obtained using the same materials and methods as Example 31.
  • the amount of the first curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 1.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film or the first portion.
  • Example 36 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 36 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 37 differs from the above-mentioned Example 36 in that the amount of the second curable resin composition 3A applied was reduced, but the optical sheet of Example 37 was otherwise obtained using the same materials and method as in Example 36.
  • the amount of the second curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 3.2 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film or the first portion.
  • Example 37 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 37 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Example 38 differs from Example 31 in that the leveling agent of the first curable resin composition 3A was omitted and that the leveling agent of the second curable resin composition 3A was changed, and the optical sheet of Example 38 was obtained by the same materials and the same method as Example 31 in other respects.
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differs from the first curable resin composition 3A described above in that the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.2 parts by mass" was omitted, and the other respects were the same as the first curable resin composition 3A described above.
  • Example 38 the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the second curable resin composition 3A described above in that the leveling agent "DIC, F-477, 0.3 parts by mass” was used instead of the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.4 parts by mass”.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the above-mentioned second curable resin composition 3A, except for the leveling agent.
  • Example 38 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet of Example 38 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 31 differs from Example 31 in that the substrate film was changed, the amount of the first curable resin composition 3A applied was increased and the amount of the second curable resin composition 3A applied was decreased, and the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during the curing of the second coating film was decreased.
  • the optical sheet of Comparative Example 31 was obtained by the same materials and the same method as Example 31 in other respects.
  • a substrate film made of triacetyl cellulose having a thickness of 40 ⁇ m was used.
  • the content ratio of the plasticizer in the substrate film of Comparative Example 31 was higher than the content ratio of the plasticizer in the substrate film of Example 31.
  • the coating amount of the first curable resin composition 3A was set to an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • the coating amount of the second curable resin composition 3A was set to an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 3.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film and the first portion.
  • the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during the curing of the second coating film was set to 132 mJ/cm 2 .
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 31 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 32 differs from Example 31 above in that the composition of the first curable resin composition was changed, the amount of the first curable resin composition applied was changed, and the amount of the second curable resin composition 3A applied was changed.
  • the optical sheet of Comparative Example 32 was obtained by using the same materials and the same method as in Example 31.
  • the first curable resin composition 3A used in Example 31 contained a polyfunctional monomer and an acrylic polymer (1) mixed in a solid content mass ratio of 20:80.
  • the first curable resin composition used in Comparative Example 32 was obtained by mixing a polyfunctional monomer and a triazine-based ultraviolet absorber mixed in a mass ratio of 95:5 instead of the polyfunctional monomer and acrylic polymer (1) of the first curable resin composition 3A.
  • the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 32 was the same as the polyfunctional monomer contained in the first curable resin composition 3A.
  • the solid content of the first curable resin composition used in Comparative Example 32 was 27.5%, which was the same as the solid content of the first curable resin composition 3A.
  • the triazine-based ultraviolet absorber contained in the first curable resin composition used in Comparative Example 32 was Tinuvin 479, a product name manufactured by BASF.
  • the amount of the first curable resin composition applied was set to an amount that would create a first portion with a dry thickness of 5.0 ⁇ m, assuming that there would be no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 3A applied was set to an amount that would create a second portion with a dry thickness of 8.0 ⁇ m, assuming that there would be no penetration into the base film or the first portion.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 32 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Comparative Example 33 differs from Example 31 in that the base film was changed, the amount of the first curable resin composition 3A was increased, the amount of the second curable resin composition 3A was reduced, and the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during curing of the second coating film was reduced.
  • the optical sheet of Comparative Example 33 was obtained using the same materials and methods as in Example 31.
  • the same base film as the base film used in Comparative Example 31 was used.
  • the amount of the first curable resin composition 3A applied was an amount that would produce a first portion with a dry thickness of 7.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film.
  • the amount of the second curable resin composition 3A applied was an amount that would produce a second portion with a dry thickness of 4.0 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the base film and the first portion.
  • the cumulative amount of ultraviolet light irradiated during curing of the second coating film was 132 mJ/cm 2 .
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 33 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • the amount of the first curable resin composition 3A applied was set to an amount that would produce a first portion having a dry thickness of 6.5 ⁇ m, assuming that there was no penetration into the substrate film.
  • an optical sheet according to Comparative Example 34 was obtained. That is, in the optical sheet according to Comparative Example 34, the first layer was composed only of the first portion prepared using the first curable resin composition 3A.
  • the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 3A in Comparative Example 34 was different from the thickness of the layer produced using the first curable resin composition 3A in Example 31.
  • the method and conditions for producing the first layer using the first curable resin composition 3A in Comparative Example 34 were the same as the method and conditions for producing the first part using the first curable resin composition 3A in Example 31.
  • Example 34 When measuring the thickness as described below, the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 34 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the first curable resin composition 3A penetrated the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • Comparative Example 35 differs from the above-mentioned Comparative Example 31 in that the leveling agent of the first curable resin composition 3A and the leveling agent of the second curable resin composition 3A were changed, and otherwise the optical sheet of Comparative Example 35 was obtained using the same materials and in the same manner as Comparative Example 31.
  • the first curable resin composition used to form the first coating film differed from the first curable resin composition 3A described above in that the leveling agent "0.2 parts by mass of F-568 manufactured by DIC” was used instead of the leveling agent "0.2 parts by mass of LE-304 manufactured by Kyoeisha.”
  • the first curable resin composition used to form the first coating film was the same as the first curable resin composition 3A described above, except for the leveling agent.
  • the second curable resin composition used to form the second coating film differed from the above-mentioned second curable resin composition 2A in that the leveling agent "DIC, F-477, 0.4 parts by mass” was used instead of the leveling agent "Kyoeisha, LE-304, 0.4 parts by mass.”
  • the second curable resin composition used to form the second coating film was the same as the above-mentioned second curable resin composition 3A, except for the leveling agent.
  • the cross section of the optical sheet according to Comparative Example 35 was observed in the same manner as in Example 31.
  • the curable resin composition penetrated into the substrate film, causing the substrate film to swell, forming a permeation layer that constitutes the second layer.
  • the interface between the first and second parts in the first layer could not be observed.
  • Thickness and thickness ratio>> A sample for thickness measurement was prepared by the following first and second steps.
  • the embedded sample was prepared using the following procedure. First, the cut sample was placed in a silicon embedding plate. Embedding resin was poured into the silicon embedding plate with the cut sample placed in it. Next, the embedding resin was allowed to harden within the silicon embedding plate. Next, the cut sample and the embedding resin surrounding it were removed from the silicon embedding plate to obtain an embedded sample. The embedded sample was shaped like a block.
  • the silicon embedding plate used was manufactured by Dosaka EM.
  • the embedding resin was epoxy resin.
  • the embedding resin was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” and the same company's product name "Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • the embedding resin was allowed to harden by leaving it at room temperature for 12 hours.
  • the block-shaped embedded sample was cut with a diamond knife to prepare a slice sample.
  • the slice sample was aligned along the first direction (thickness direction, lamination direction) of the target optical sheet.
  • slice samples without defects such as holes and with a uniform thickness of about 60 nm to 100 nm were used as thickness measurement samples.
  • microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome was an Ultramicrotome EM UC7 manufactured by Leica Microsystems. When cutting the block-shaped embedded sample, it was first roughly cut as coarse trimming, and finally, precisely trimmed with a diamond knife to obtain a section sample.
  • the thickness of each layer was measured using the observation image of the thickness measurement sample by a scanning transmission electron microscope.
  • the thickness measurement sample was stained. Osmium tetroxide was used for staining.
  • the stained thickness measurement sample was imaged using a scanning transmission electron microscope to obtain an observation image of the thickness measurement sample.
  • the scanning transmission electron microscope used was an S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation.
  • the imaging conditions were as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: Transmission mode TE, bright field Acceleration voltage: 10 kV to 30 kV Emission current: 10 ⁇ A WD (Working Distance): 8.8 ⁇ 0.1mm Magnification: 5000x
  • Ten observation images were obtained from one thickness measurement sample for each example.
  • the ten observation images were obtained at ten observation positions (measurement positions) spaced at 10 ⁇ m intervals in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet in question.
  • the thickness T220 ( ⁇ m) of the first layer and the thickness T230 ( ⁇ m) of the second layer for the optical sheet in each example were measured.
  • the thickness ratio (T220/T230) was calculated based on the thickness T220 ( ⁇ m) of the first layer and the thickness T230 ( ⁇ m) of the second layer measured from each observation image.
  • the calculated average of the 10 measured values for thickness T220 ( ⁇ m) measured from the observation images at 10 points was taken as the thickness T220 ( ⁇ m) of the first layer.
  • the calculated average of the 10 measured values for thickness T230 ( ⁇ m) measured from the observation images at 10 points was taken as the thickness T230 ( ⁇ m) of the second layer.
  • the calculated average of the 10 values for the thickness ratio (T220/T230) measured from the observation images at 10 points was taken as the thickness ratio (T220/T230) of the optical sheet.
  • the measurement results of the thickness ( ⁇ m) of the first layer, the thickness ( ⁇ m) of the second layer, and the thickness ratio (T220/T230) are shown in Table 4.
  • Table 4 examples where the thickness ratio is 1.2 or more and 7.5 or less are marked "OK", and other examples are marked "NG”.
  • Spectral transmittance >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The spectral transmittance (%) was measured. The spectral transmittance (%) was measured for each wavelength in the range of 379.5 nm to 440.5 nm at intervals of 0.5 nm. The measurement was performed using an ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" manufactured by Nippon Bunko Co., Ltd. Using the measured value of the spectral transmittance, each wavelength in the range of 380 nm to 440 nm at intervals of 0.5 nm was measured.
  • UV-2600 ultraviolet-visible spectrophotometer
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength was calculated.
  • the slope of the spectral transmittance at wavelength X was calculated by subtracting the spectral transmittance (%) at wavelength X+0.5 (nm) from the spectral transmittance (%) at wavelength X-0.5 (nm).
  • the measurement results of the spectral transmittance at 380.0 nm and the spectral transmittance at 440.0 nm are shown in Table 4.
  • the wavelength at which the maximum value of the slope of the spectral transmittance is obtained is shown in Table 4.
  • examples in which all of the following conditions (3A), (3B), and (3C) were satisfied are indicated as "OK", and other examples are indicated as "NG”.
  • (3A) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 380 nm is less than 1%.
  • (3B) The spectral transmittance of the optical sheet 210 at a wavelength of 440 nm is 70% or more.
  • the slope of the spectral transmittance at each wavelength at 0.5 nm intervals within the wavelength range of 380 nm or more and 440 nm or less has a maximum value within the wavelength range of 400 nm or more and 420 nm or less.
  • optical sheets according to Examples 31 to 38 and Comparative Examples 31 to 35 were placed on the display surface of a commercially available organic EL display device, and the image displayed by the organic EL display device was observed through the optical sheet.
  • Examples 31 to 38, Comparative Example 31, Comparative Example 34, and Comparative Example 35 no change in color was perceptible between the image when the optical sheet was installed and the image when the optical sheet was not installed.
  • Comparative Examples 32 and 33 a change in the color of the image was confirmed when the optical sheet was installed.
  • Pencil hardness >> Samples of 50 mm x 100 mm were cut out from the optical sheets according to the examples and comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The pencil hardness was measured using a pencil hardness tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. The pencil hardness evaluated according to the above-mentioned evaluation criteria is shown in Table 4.
  • the sample was placed on the base plate so that the second surface of the optical sheet was in contact with the base plate.
  • the height of the four corners of the sample from the base plate was measured as the float (mm).
  • the maximum of the four float measurements taken for one sample was taken as the float for that sample.
  • the float was measured for each of the three samples.
  • the arithmetic mean of the three float measurements was taken as the deformation amount for that example.
  • the deformation amount measurement results are shown in Table 4.
  • Comparative Example 32 the sample placed on the platen curled into a cylindrical shape, and the amount of deformation could not be measured.
  • Measurement conditions Measurement method: Wide/Narrow X-ray source: Monochrome A1K ⁇ X-ray output: 150W Emission current: 10mA Acceleration voltage: 15 kV Charge neutralization mechanism: ON Measurement area: 300 ⁇ m x 700 ⁇ m Pass Energy: Survey: 160eV, Narrow: 40eV Photoelectron capture angle: 90° Auto Z: ON Peak shift correction: Correction was made so that the C-C peak in the C1s peak was 285.0 eV. Waveform separation of narrow peaks: Executed using the GL function in the analysis software attached to the device. Etching ions: Ar monoatomic ions
  • Table 4 shows the percentage (%) of the amount of each element detected, with the total amount of elements detected being 100.
  • Example 31 the ratio of silicon element to carbon element was 0.02 (2%) or more.
  • the cross section of the first layer of Example 31 was observed.
  • a scanning transmission electron microscope S4800 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation was used for the cross section observation. When the cross section was observed at an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV and a magnification of 5000 times, the silica added as a lubricant was dispersed without being unevenly distributed in aggregate.
  • the epoxy resin used for embedding was obtained by mixing Struers' product name "Epofix” with the same company's product name “Epofix Hardener” in a ratio of 10:1.2.
  • a microtome was used to cut the embedded samples.
  • the microtome was Leica Microsystems' product name "Ultramicrotome EM UC7.”
  • the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the first layer, the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the second layer, and the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of the base layer were measured by the above-mentioned method.
  • the indentation hardness H IT at the cross section of each layer was measured using a measuring device "TI-950 TriboIndenter” manufactured by BRUKER.
  • the indenter used to measure the indentation hardness H IT at the cross section of each layer was "TI-0039" manufactured by BRUKER.
  • the measurement results of the indentation hardness H IT (MPa) at the cross section of each layer are shown in Table 4.
  • the indentation hardness at the cross section of each layer was the arithmetic average value of the indentation hardness measured at 10 measurement positions.
  • the ten measurement positions were located at ten positions on one slice sample, spaced apart at a pitch of 5 ⁇ m in a direction perpendicular to the first direction of the optical sheet.
  • Total light transmittance >> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and the comparative examples. The samples were visually inspected to ensure that there were no defects such as dust or scratches. The total light transmittance was measured. A haze meter "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory was used to measure the total light transmittance. The measurement results of the total light transmittance are shown in Table 4.
  • Yellowness index YI value>> Samples of 5 cm x 10 cm were cut out from the optical sheets according to the examples and comparative examples. The samples were visually confirmed to be free of any abnormalities such as dust or scratches. The yellowness index YI value of the optical sheets according to each example was measured by the method described above. The yellowness index YI value was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer "UV-2600" manufactured by Shimadzu Corporation. The measurement results of the yellowness index YI value are shown in Table 4.
  • D1 first direction, D2: second direction, D3: third direction, RA: winding axis, 5: sheet item, 6: winding core, 7: roll, 10: optical sheet, 11: first surface, 12: second surface, 20: functional layer, 20A: first part, 20B: second part, 21: first side, 22: second side, 23: binder resin, 26: first position, 27: second position, 28: third position, 30: intermediate layer, 40: substrate layer, 45: substrate film, 50: polarizing plate, 51: first protective sheet, 52: polarizer, 53: second protective sheet, 55: touch panel member, 56: electrode layer, 60: display device , 61: display element, 61a: display surface, 110: optical sheet, 111: first surface, 112: second surface, 120: first layer, 120A: first part, 120B: second part, 121: first side, 122: second side, 123: binder resin, 130: second layer, 140: base layer, 145: base film, 210: optical sheet, 211: first surface

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Abstract

光学シートは、第１面と第１面に対向する第２面とを含む。光学シートは、第２面から第１面に向けた順で基材層および機能層を含む。機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む。波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以下である。波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である。機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たす。第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置する。第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置する。第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する。 ＨＡ３　＜　ＨＡ２　＜　ＨＡ１ ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３

Description

光学シート、シート物品、偏光板、タッチパネル部材、表示装置、光学シートの選定方法、及び光学シートの製造方法
　本開示は、光学シート、シート物品、偏光板、タッチパネル部材、表示装置、光学シートの選定方法、及び光学シートの製造方法に関する。
　特許文献１及び特許文献２は、機能層を含む光学シートを開示している。機能層は、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。機能層は、いわゆるハードコート層として機能する。機能層は、光学シートの表面に高硬度を付与する。機能層を含む光学シートは、種々の表示装置に組み込まれ得る。機能層を含む光学シートを用いることによって、擦れにともなった傷の発生を抑制できる。
　特許文献１及び特許文献２では、機能層に、ブルーライトカット機能を更に付与されている。ブルーライトは、眼精疲労等、観察者の負担や疲労を増大させ得る。ブルーライトは、液晶表示パネルの偏光子や、有機ＥＬ表示パネルのＥＬ素子を劣化させ得る。
　特許文献１に記載された機能層は、黄色顔料を含む。黄色顔料は、ブルーライトをいくらか吸収できる。しかしながら、黄色顔料は、十分なブルーカット機能を光学シートに付与できない。また、黄色顔料を含む光学シートは、透過観察される像の色味を変化させてしまう。
　特許文献２に記載された機能層は、紫外線吸収剤を含む。紫外線吸収剤によれば、ブルーライトを吸収できる。特許文献２に記載された機能層は、４１０ｎｍ程度の光を、ブルーライトとして、遮蔽する。したがって、ブルーライトに起因した不具合を抑制できる。
　特許文献２では、ブルーライトカット機能を発現させる紫外線吸収剤が、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている。紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の塗膜を紫外線で露光する際、紫外線を吸収し得る。したがって、塗膜への紫外線照射が阻害され、機能層は十分に硬化しない。
特許文献１：ＪＰ６６４１１０５Ｂ
特許文献２：ＪＰ６６９６５６２Ｂ
　本開示は、硬化性樹脂組成物の硬化物と紫外線吸収剤とを含んだ層を含む光学シートにおいて、硬度を改善することを目的とする。
　本開示の第１実施形態に係る光学シートは、
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以下であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たし、
　　　ＨＡ３　＜　ＨＡ２　≦　ＨＡ１
　　　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シート。
　本開示の第１実施形態に係るシート物品は、本開示の第１実施形態に係る複数の光学シートを備える。
　本開示の第１実施形態に係る偏光板は、
　本開示の第１実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた偏光子と、を備える。
　本開示の第１実施形態に係るタッチパネル部材は、
　本開示の第１実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた電極層と、を備える。
　本開示の第１実施形態に係る表示装置は、
　本開示の第１実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた表示素子と、を備える。
　本開示の第１実施形態に係る光学シートの選定方法は、
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３を測定するステップと、
　測定された分光透過率及び測定されたインデンテーション硬さに基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの選定方法。
　本開示の第１実施形態に係る第１の光学シートの製造方法は、
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率、波長４４０ｎｍにおける分光透過率、前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの製造方法。
　本開示の第１実施形態に係る第２の光学シートの製造方法は、
　紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
　第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記基材フィルム上に第１部分を作製する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物を前記第１部分上に塗布する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記第１部分に接合した第２部分を作製する工程と、を備える。
　本開示の第２実施形態に係る光学シートは、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　厚み比は、１．５以上７．５以下であり、
　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
　波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である。
　本開示の第２実施形態に係るシート物品は、本開示の第２実施形態に係る複数の光学シートを備える。
　本開示の第２実施形態に係る偏光板は、
　本開示の第２実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた偏光子と、を備える。
　本開示の第２実施形態に係るタッチパネル部材は、
　本開示の第２実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた電極層と、を備える。
　本開示の第２実施形態に係る表示装置は、
　本開示の第２実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた表示素子と、を備える。
　本開示の第２実施形態に係る光学シートの選定方法は、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
　波長４１０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　前記厚み比と、前記波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える。
　本開示の第２実施形態に係る第１の光学シートの製造方法は、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える。
　本開示の第２実施形態に係る第２の光学シートの製造方法は、
　紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
　第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記基材フィルム上に第１部分を作製する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物を前記第１部分上に塗布する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記第１部分に接合した第２部分を作製する工程と、を備える。
　本開示の第３実施形態に係る光学シートは、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　厚み比は、１．２以上７．５以下であり、
　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有し、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である。
　本開示の第３実施形態に係るシート物品は、本開示の第３実施形態に係る複数の光学シートを備える。
　本開示の第３実施形態に係る偏光板は、
　本開示の第３実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた偏光子と、を備える。
　本開示の第３実施形態に係るタッチパネル部材は、
　本開示の第３実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた電極層と、を備える。
　本開示の第３実施形態に係る表示装置は、
　本開示の第３実施形態に係る光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた表示素子と、を備える。
　本開示の第３実施形態に係る光学シートの選定方法は、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
　波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率を測定するステップと、
　前記厚み比と、前記波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である。
　本開示の第３実施形態に係る第１の光学シートの製造方法は、
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である。
　本開示の第３実施形態に係る第２の光学シートの製造方法は、
　紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
　第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記基材フィルム上に第１部分を作製する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物を前記第１部分上に塗布する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記第１部分に接合した第２部分を作製する工程と、を備える。
　本開示の第１～第３の実施形態によれば、硬化性樹脂組成物の硬化物と紫外線吸収剤とを含んだ層を含む光学シートにおいて、硬度を改善できる。
図１は、第１実施形態を説明するための図であって、光学シートの一例を示す断面図である。 図２Ａは、図１の拡大図であって、インデンテーション硬さの測定位置を説明するための図である。 図２Ｂは、ナノインデンテーション法によって取得される荷重変位曲線の一例を示すグラフである。 図３は、光学シートを含むシート物品の一例を示す斜視図である。 図４は、図１に示された光学シートを含む偏光板の一例を示す断面図である。 図５は、図１に示された光学シートを含むタッチパネル部材の一例を示す断面図である。 図６は、図１に示された光学シートを含む表示装置の一例を示す断面図である。 図７は、光学シートの分光透過率及び分光透過率の傾きの一例を示すグラフである。 図８は、第２実施形態を説明するための図であって、光学シートの一例を示す断面図である。 図９は、第３実施形態を説明するための図であって、光学シートの一例を示す断面図である。 図１０は、光学シートの分光透過率及び分光透過率の傾きの他の例を示すグラフである。
　本開示の第１～第３実施形態は、次の[１]～[７５]に関する。
［１］
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以下であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たし、
　　　ＨＡ３　＜　ＨＡ２　≦　ＨＡ１
　　　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シート。
［２］
　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１及び前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２は、次の関係を満たす、［１］に記載の光学シート。
　　　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　１．７
［３］
　前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２及び前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たす、［１］又は［２］に記載の光学シート。
　　　１．２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
［４］
　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１及び前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たす、［１］～［３］のいずれか一項に記載の光学シート。
　　　１．４　≦　ＨＡ１／ＨＡ３
［５］
　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３、及び前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣは、次の関係を満たす、［１］～［４］のいずれか一項に記載の光学シート。
　　　（ＨＡ１＋ＨＡ２＋ＨＡ３）／３　＝　ＨＡ
　　　ＨＡ／ＨＣ　≦１．２
［６］
　前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣは、次の関係を満たす、［１］～［５］のいずれか一項に記載の光学シート。
　　　ＨＡ２／ＨＣ　≦　１．３
［７］
　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、及び前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣは、次の関係を満たす、［１］～［６］のいずれか一項に記載の光学シート。
　　　ＨＡ１／ＨＣ　≦　１．５
［８］
　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１は、３４０ＭＰａ以上である、［１］～［７］のいずれか一項に記載の光学シート。
［９］
　前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２は、２４０ＭＰａ以上である、［１］～［８］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１０］
　前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、１２０ＭＰａ以上である、［１］～［９］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１１］
　前記機能層及び前記基材層の間に位置する中間層を備え、
　前記中間層の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣより小さく、
　前記中間層の厚みは４．２μｍ以下である、［１］～［１０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１２］
　前記機能層及び前記基材層の間に位置する中間層を備え、
　前記中間層の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上である、［１］～［１１］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１３］
　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有し、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、［１］～［１２］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１４］
　前記分光透過率の傾きは、波長４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する、［１３］に記載の光学シート。
［１５］
　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、０より大きい、［１３］又は［１４］に記載の光学シート。
［１６］
　波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下である、［１］～［１５］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１７］
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上である、［１］～［１６］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１８］
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定されたフッ素元素の比率は、０．１％以下である、［１］～［１７］のいずれか一項に記載の光学シート。
［１９］
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は－３．０以上－１．６以下であり、
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は３．５以上６．０以下である、［１］～［１８］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２０］
　前記中間層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［１］～［１９］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２１］
　前記基材層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［１］～［２０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２２］
　前記基材層の厚み（μｍ）は、前記機能層の厚み（μｍ）及び前記中間層の厚み（μｍ）の合計よりも大きい、［１］～［２１］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２３］
　前記中間層は、前記基材層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［１］～［２２］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２４］
　前記中間層は、前記機能層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［１］～［２３］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２５］
　前記中間層は、モノマーを含む、［１］～［２４］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２６］
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、［１］～［２５］のいずれか一項に記載の光学シート。
［２７］
　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、１００ｇ以上である、［１］～［２６］のいずれか一項に記載の光学シート。
　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
［２８］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　厚み比は、１．５以上７．５以下であり、
　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
　波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である、光学シート。
［２９］
　前記厚み比は、２．６以上５．０以下である、［２８］に記載の光学シート。
［３０］
　前記第２層の厚みは、１．２μｍ以上３．２μｍ以下である、［２８］又は［２９］に記載の光学シート。
［３１］
　前記第１層の厚みは、５．０μｍ以上９．０μｍ以下である、［２８］～［３０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３２］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上である、［２８］～［３１］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３３］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定されたフッ素元素の比率は、０．１％以下である、［２８］～［３２］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３４］
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は－３．０以上－１．６以下であり、
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は３．５以上６．０以下である、［２８］～［３３］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３５］
　前記第１層の断面で測定されたインデンテーション硬さは、前記第２層の断面で測定されたインデンテーション硬さより大きい、［２８］～［３４］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３６］
　前記第２層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［２８］～［３５］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３７］
　前記第２層に隣接する基材層を更に備え、
　前記第２層は、前記第１層及び前記基材層の間に位置し、
　前記基材層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［２８］～［３６］のいずれか一項に記載の光学シート。
［３８］
　前記基材層の厚み（μｍ）は、前記第１層の厚み（μｍ）及び前記第２層の厚み（μｍ）の合計よりも大きい、［３７］に記載の光学シート。
［３９］
　前記第２層は、前記基材層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［３７］又は［３８］に記載の光学シート。
［４０］
　前記第２層は、前記第１層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［２８］～［３９］のいずれか一項に記載の光学シート。
［４１］
　前記第２層は、モノマーを含む、［２８］～［４０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［４２］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　押し込み深さを１００ｎｍとした前記第１層の断面でのインデンテーション硬さは３５０ＭＰａ以上である、［２８］～［４１］のいずれか一項に記載の光学シート。
［４３］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、［２８］～［４２］のいずれか一項に記載の光学シート。
［４４］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、２００ｇ以上である、［２８］～［４３］のいずれか一項に記載の光学シート。
　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
［４５］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
　厚み比は、１．２以上７．５以下であり、
　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有し、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シート。
［４６］
　前記分光透過率の傾きは、波長４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する、［４５］に記載の光学シート。
［４７］
　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、０より大きい、［４５］又は［４６］に記載の光学シート。
［４８］
　前記厚み比は、２．６以上５．０以下である、［４５］～［４７］のいずれか一項に記載の光学シート。
［４９］
　前記第２層の厚みは、１．２μｍ以上３．５μｍ以下である、［４５］～［４８］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５０］
　前記第１層の厚みは、３．２μｍ以上９．２μｍ以下である、［４５］～［４９］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５１］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上である、［４５］～［５０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５２］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定されたフッ素元素の比率は、０．１％以下である、［４５］～［５１］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５３］
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は－３．０以上－１．６以下であり、
　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は３．５以上６．０以下である、［４５］～［５２］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５４］
　前記第１層の断面で測定されたインデンテーション硬さは、前記第２層の断面で測定されたインデンテーション硬さより大きい、［４５］～［５３］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５５］
　前記第２層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［４５］～［５４］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５６］
　前記第２層に隣接する基材層を更に備え、
　前記第２層は、前記第１層及び前記基材層の間に位置し、
　前記基材層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、［４５］～［５５］のいずれか一項に記載の光学シート。
［５７］
　前記基材層の厚み（μｍ）は、前記第１層の厚み（μｍ）及び前記第２層の厚み（μｍ）の合計よりも大きい、［５６］に記載の光学シート。
［５８］
　前記第２層は、前記基材層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［５６］又は［５７］に記載の光学シート。
［５９］
　前記第２層は、前記第１層に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含む、［４５］～［５８］のいずれか一項に記載の光学シート。
［６０］
　前記第２層は、モノマーを含む、［４５］～［５９］のいずれか一項に記載の光学シート。
［６１］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　押し込み深さを１００ｎｍとした前記第１面のインデンテーション硬さは３３０ＭＰａ以上である、［４５］～［６０］のいずれか一項に記載の光学シート。
［６２］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、［４５］～［６１］のいずれか１項に記載の光学シート。
［６３］
　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、１５０ｇ以上である、［４５］～［６２］のいずれか１項に記載の光学シート。
　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
［６４］
　［１］～［６３］のいずれか一項に記載された光学シートを複数備えるシート物品。
［６５］
　巻取軸線を中心として巻き取られている、［６４］に記載のシート物品。
［６６］
　［１］～［６３］のいずれか一項に記載された光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた偏光子と、を備える、偏光板。
［６７］
　［１］～［６３］のいずれか一項に記載された光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた電極層と、を備える、タッチパネル部材。
［６８］
　［１］～［６３］のいずれか一項に記載された光学シートと、
　前記光学シートと重ねられた表示素子と、を備える、表示装置。
［６９］
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３を測定するステップと、
　測定された分光透過率及び測定されたインデンテーション硬さに基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの選定方法。
［７０］
　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　波長３８０ｎｍにおける分光透過率、波長４４０ｎｍにおける分光透過率、前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの製造方法。
［７１］
　紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に塗布する工程と、
　第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記基材フィルム上に第１部分を作製する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物を前記第１部分上に塗布する工程と、
　第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して前記第１部分に接合した第２部分を作製する工程と、を備える、光学シートの製造方法。
［７２］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
　波長４１０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
　前記厚み比と、前記波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える、光学シートの選定方法。
［７３］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える、光学シートの製造方法。
［７４］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
　波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率を測定するステップと、
　前記厚み比と、前記波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シートの選定方法。
［７５］
　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シートの製造方法。
　以下、本開示の第１～第３実施形態の詳細について説明する。本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
　本明細書において、「シート」、「フィルム」及び「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されない。例えば「光学シート」は、光学フィルム又は光学板と呼ばれる部材等と呼称の違いのみにおいて区別されない。
　本明細書において、数値範囲に関する複数の上限値の候補と、複数の下限値の候補とが、別の文に記載されることがある。この記載において、当該数値範囲は、任意の１つの上限値の候補と任意の１つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。一例として、「パラメータＢは、Ａ１以上でもよく、Ａ２以上でもよく、Ａ３以上でもよい。パラメータＢは、Ａ４以下でもよく、Ａ５以下でもよく、Ａ６以下でもよい。」との記載について検討する。この例において、パラメータＢの数値範囲は、Ａ１以上Ａ４以下でもよく、Ａ１以上Ａ５以下でもよく、Ａ１以上Ａ６以下でもよく、Ａ２以上Ａ４以下でもよく、Ａ２以上Ａ５以下でもよく、Ａ２以上Ａ６以下でもよく、Ａ３以上Ａ４以下でもよく、Ａ３以上Ａ５以下でもよく、Ａ３以上Ａ６以下でもよい。
　方向の関係を図面間で明確にするため、いくつかの図面には、共通する符号を付した矢印により第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２、及び第３方向Ｄ３を示している。矢印の先端側が、各方向の第１側となる。矢印の先端とは反対側が、各方向の第２側となる。図面の紙面に垂直な方向に沿って紙面の奥に向かう矢印を、例えば図１に示すように、円の中に×を設けた記号により示した。
＜＜＜＜第１実施形態＞＞＞＞
　第１実施形態について説明する。
＜＜＜光学シート１０＞＞＞
　第１実施形態において、光学シート１０は、第１面１１及び第２面１２を含む。光学シート１０は、第２面１２から第１面１１に向けた順で、基材層４０及び機能層２０を含む。機能層２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む。紫外線吸収剤を含む機能層２０は、紫外線カット機能及びブルーライトカット機能の少なくとも一方を光学シート１０に付与できる。第１実施形態において、光学シート１０は、分光透過率に関し、次の特徴（Ｘ）及び（Ｙ）を有する。
（Ｘ）波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は１％以下である。
（Ｙ）波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は７０％以上である。
　特徴（Ｘ）によれば、光学シート１０が波長３８０ｎｍ近辺の光を十分に遮光できる。これにより、紫外線やブルーライトによる不具合を抑制できる。
　光学シート１０を表示装置６０（図６参照）に適用した場合、表示装置６０から射出した画像光は光学シート１０を透過し得る。光学シート１０は、画像光から波長３８０ｎｍ近辺の光を遮光できる。画像光から波長３８０ｎｍ近辺となる光を十分に遮光することにより、画像の観察者の眼精疲労等の負担を緩和できる。
　太陽光等の外光が光学シート１０に入射し得る。外光から波長３８０ｎｍ近辺となる光を十分に遮光することにより、表示素子６１（図６参照）の劣化を抑制できる。例えば、有機ＥＬパネル（有機エレクトロルミネッセンスパネル）のＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）の劣化を抑制できる。外光から波長３８０ｎｍ近辺の光を十分に遮光することにより、偏光板５０（図４参照）の偏光子５２の劣化を抑制できる。
　波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、１％以下でもよく、１％未満でもよい。波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率の下限は特に設定されない。波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％以上でもよく、０％より大きくてもよい。
　波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％以上１％以下でもよく、０％以上１％未満でもよい。波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％より大きく以上１％以下でもよく、０％より大きく１％未満でもよい。
　特徴（Ｙ）によれば、波長４４０ｎｍ以上となる光は、光学シート１０を高透過率で透過できる。光学シート１０は、波長が４４０ｎｍ以上となる光を高透過率で透過してもよい。これにより、光学シート１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、７０％以上でもよく、７５％以上でもよく、８０％以上でもよく、８５％以上でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率の下限をこのように設定することにより、光学シート１０を透過した画像の色味変化を有効に抑制できる。波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率の上限は特に設定されない。波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、７０％以上１００％以下でもよく、７５％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、８５％以上１００％以下でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、７０％以上１００％未満でもよく、７５％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、８５％以上１００％未満でもよい。
　紫外線カット機能及びブルーライトカット機能に関連して、光学シート１０は、上述の特徴（Ｘ）及び特徴（Ｙ）に加え、次の特徴（Ｚ）を有してもよい。
（Ｚ）波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する。
　波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について、光学シート１０の分光透過率を測定する。分光透過率の測定結果を用いて、特徴（Ｚ）が満たされているか否かが判定される。なお、上述した特徴（Ｘ）は、波長３８０．０ｎｍにおける分光透過率の測定値に基づいて評価される。上述した特徴（Ｙ）は、波長４４０．０ｎｍにおける分光透過率の測定値に基づいて評価される。
　分光透過率の傾きは、波長１ｎｍあたりの透過率（％）の増加量を示す。分光透過率の傾きは、波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について測定された分光透過率を用いて算出される。例えば、波長４０９．５ｎｍにおける分光透過率が４１％であって、波長４１０．５ｎｍにおける分光透過率が４４％である場合、波長４１０ｎｍにおける分光透過率の傾きは、３．０％／ｎｍ＝（４４．０－４１．０）／（４１０．５－４０９．５）となる。波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である。
　分光透過率の傾きが最大となる波長が４００．０ｎｍ以上４２０．０以下であれば、光学シート１０は特徴（Ｚ）を有すると判断される。分光透過率の傾きが最大となる波長が３９５．５ｎｍ以下であれば、光学シート１０は特徴（Ｚ）を有していないと判断される。分光透過率の傾きが最大となる波長が４２０．５以上であれば、光学シート１０は特徴（Ｚ）を有していないと判断される。
　特徴（Ｚ）によって、波長の増加にともなった分光透過率の増加態様が規定される。分光透過率の傾きは、分光透過率を表す関数の微分式の値と、同様の意味を持つ。したがって、分光透過率の傾きが最大値となる波長及びその周囲の波長において、分光透過率は、波長の増加にともなって急増する。光学シート１０が上述した特徴（Ｘ）とともに特徴（Ｚ）を有することによって、３８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域の光は、十分な効率で、光学シート１０によって遮光される。光学シート１０が上述した特徴（Ｙ）とともに特徴（Ｚ）を有することによって、４２０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の波長域の光は、十分な透過率で、光学シート１０を透過できる。
　特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４０５ｎｍ以上でもよく、４０８ｎｍ以上でもよく、４１０ｎｍ以上でもよく、４１２ｎｍ以上でもよく、４１５ｎｍ以上でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長の下限値をこのように設定することにより、ブルーライトをより有効に遮光できる。
　特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４１９ｎｍ以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長の上限値をこのように設定することにより、光学シート１０越しに観察した画像等の色味の変化をより効果的に抑制できる。
　分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４０５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４０８ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１２ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４００ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４０５ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４０８ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１０ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１２ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１５ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよい。
　特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値、すなわち、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きの最大値に、下限を設定してもよい。分光透過率の最大値に下限を設定することにより、ブルーライトによる影響を効果的に抑制できる。特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上でもよい。
　特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値に、上限を設定してもよい。分光透過率の最大値に上限を設定することにより、より自然に色味の変化や劣化を抑制できる。特徴（Ｚ）で規定された分光透過率の傾きの最大値は、８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、５．０（％／ｎｍ）以下でもよい。
　分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよい。
　図７は、サンプルＡ１及びサンプルＡ２に関する光学シートの分光透過率及び分光透過率の傾きを示すグラフである。サンプルＡ１は、特徴（Ｘ）及び特徴（Ｙ）とともに、特徴（Ｚ）を有している。
　図７に示すように、分光透過率（％）は、波長の増加にともなって、単調増加してもよい。波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、０より大きくてもよい。これらの例によれば、光学シート１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化をより自然に抑制できる。
　ブルーライトカット機能に関連して、光学シート１０は、特徴（Ｘ）及び特徴（Ｙ）とともに、次の特徴（Ｗ）を有してもよい。
（Ｗ）波長４１０ｎｍにおける分光透過率は、１５％以下である。
　条件（Ｗ）が満たされることによって、波長４１０ｎｍ以下の光を十分に遮光できる。これにより、紫外線及びブルーライトをより有効に遮光できる。
　波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、１５％以下でもよく、１４％以下でもよく、１３％以下でもよく、１２％以下でもよく、１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率の上限をこのように設定することにより、ブルーライトを有効に遮光できる。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率の下限は特に設定されない。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％以上でもよく、０％より大きくてもよく、２％以上でもよく、５％以上でもよい。
　波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％以上１５％以下でもよく、０％以上１４％以下でもよく、０％以上１３％以下でもよく、０％以上１２％以下でもよく、０％以上１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、０％より大きく１５％以下でもよく、０％より大きく１４％以下でもよく、０％より大きく１３％以下でもよく、０％より大きく１２％以下でもよく、０％より大きく１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、２％以上１５％以下でもよく、２％以上１４％以下でもよく、２％以上１３％以下でもよく、２％以上１２％以下でもよく、２％以上１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は、５％以上１５％以下でもよく、５％以上１４％以下でもよく、５％以上１３％以下でもよく、５％以上１２％以下でもよく、５％以上１０％以下でもよい。
　分光透過率は、ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９に従って測定された５つの測定値の算術平均値とする。分光透過率の測定において、ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９に規定された幾何条件ｅを採用する。５つの測定値は、評価対象となる光学シートのサンプルの５箇所の測定位置にて測定された測定値とする。５箇所の測定位置は、互いから１０ｍｍ以上離れた位置する。分光透過率を測定する際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。分光透過率の測定前、測定装置の光源を１５分間点灯し、光源の出力を安定させる。
　機能層２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を更に含む。本明細書では、硬化性樹脂組成物の硬化物を樹脂硬化物とも呼ぶ。樹脂硬化物は、機能層２０及び光学シート１０に高硬度を付与できる。機能層２０は、いわゆるハードコート層として機能する。硬度が改善された光学シート１０は、耐擦傷性に優れる。光学シート１０の使用時に、光学シート１０の傷付きを抑制できる。光学シート１０は、使用中に指やペンの接触が想定されるタッチパネル部材５５（図５参照）にも好適である。
　ところで、従来の光学シートにおいて、樹脂硬化物を含む機能層に十分な硬度を付与できないことがあった。この現象は、機能層に含まれる紫外線吸収剤に起因すると考えられた。樹脂硬化物を含む機能層は、硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させることによって得られる。塗膜は、塗膜の露光によって架橋反応が進み、硬化し得る。露光には、通常、高エネルギーの短波長光が用いられる。硬化性樹脂組成物に添加された紫外線吸収剤は、塗膜の硬化処理に用いられる光を吸収し得る。すなわち、紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の硬化プロセスを阻害し得る。
　樹脂硬化物を含む機能層の硬度が低いと、耐擦傷性が大きく低下し得る。樹脂硬化物を含む機能層の硬度が低いと、光学シートの使用時に、紫外線吸収剤が機能層からブリードアウトし得る。紫外線吸収剤がブリードアウトすると、光学シート１０の紫外線カット機能及びブルーライトカット機能も不十分となり得る。
　第１実施形態では、インデンテーション硬さＨＡ１、インデンテーション硬さＨＡ２、及びインデンテーション硬さＨＡ３が、次の条件（Ａ）及び条件（Ｂ）を満たす。
（Ａ）　ＨＡ３　＜　ＨＡ２　≦　ＨＡ１
（Ｂ）　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
　インデンテーション硬さＨＡ１～ＨＡ３は、それぞれ、光学シート１０の断面における機能層２０のインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、インデンテーション硬さが測定される光学シート１０の断面は、光学シート１０の厚み方向に沿った断面である。図示された例において、インデンテーション硬さが測定される光学シート１０の断面は、機能層２０及び基材層４０の積層方向である第１方向Ｄ１に沿った断面である。
　インデンテーション硬さＨＡ１は、機能層２０の断面における第１位置２６でのインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、第１位置２６は、機能層２０の断面における第１面１１に近い機能層２０の表層部に位置する。具体的には、第１位置２６は、光学シート１０の厚み方向、すなわち光学シート１０の法線方向に沿って、第１側面２１から第２側面２２に１．２μｍずらした位置である。第１位置２６のインデンテーション硬さは、第１側面２１の近傍での機能層２０の硬さの指標となる。
　第１側面２１及び第２側面２２は、機能層２０の一対の主面である。第１側面２１は、機能層２０の法線方向である第１方向Ｄ１において、第１側に位置する。第１側面２１は、第１方向Ｄ１において第１面１１に近い面である。図２Ａに示された例において、機能層２０の第１側面２１が光学シート１０の第１面１１を構成している。第２側面２２は、第１方向Ｄ１における第２側に位置する。第２側面２２は、第１方向Ｄ１において第２面１２に近い面である。
　インデンテーション硬さＨＡ３は、機能層２０の断面における第３位置２８でのインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、第３位置２８は、機能層２０の断面における第２面１２に近い機能層２０の表層部に位置する。具体的には、第３位置２８は、光学シート１０の厚み方向、すなわち光学シート１０の法線方向に沿って、第２側面２２から第１側面２１に１．２μｍずらした位置である。第３位置２８のインデンテーション硬さは、第２側面２２の近傍での機能層２０の硬さの指標となる。
　インデンテーション硬さＨＡ２は、機能層２０の断面における第２位置２７でのインデンテーション硬さである。第２位置２７のインデンテーション硬さは、機能層２０の厚み方向中央での硬さの指標となる。図２Ａに示すように、第２位置２７は、光学シート１０の厚み方向、すなわち光学シート１０の法線方向に沿って、第１位置２６及び第３位置２８の中央に位置する。
　インデンテーション硬さは、ナノインデンタを用いたナノインデンテーション法により測定される硬さである。ナノインデンテーション法は、荷重変位曲線に基づき、硬さを測定する方法である。ナノインデンテーション法において、荷重変位曲線は、圧子を用いた評価対象への負荷および除荷によって得られる。荷重変位曲線は、押し込み荷重および押し込み深さの関係を示す。ナノインデンテーション法によれば、微小な領域の硬さを評価できる。
　光学シート１０に含まれる機能層２０の断面でのインデンテーション硬さの測定には、評価対象となる光学シートを用いて作製した試験片を使用する。まず、評価対象となる光学シート１０から、サンプルを切り出す。このサンプルを、包埋樹脂によって包埋する。包埋樹脂は、冷間硬化タイプのエポキシ２液硬化性樹脂とする。室温で２４時間以上放置することによって包埋樹脂を硬化させ、埋包サンプルを作製する。ミクロトームによって埋包サンプルを切断することにより、光学シートの法線方向に相当する第１方向Ｄ１に沿った光学シート１０の断面を露出させる。露出した機能層２０の断面に、圧子を押し込むことによって、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さを測定する。
　光学シート１０の断面でのインデンテーション硬さの測定に用いる圧子は、バーコビッチ（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ）圧子であり、三角錐形状を有する。サンプルの評価対象面となる断面に、当該評価対象面に直交する方向から圧子を押し込む。圧子の押し込み速度は、１０ｎｍ／秒とする。押し込み深さが１００ｎｍとなるまで、圧子をサンプルに押し込む。圧子が評価対象面から光学シート１０内に１００ｎｍ押し込まれた状態で、圧子を５秒間保持する。その後、評価対象面から圧子を後退させて、光学シート１０から荷重を除荷する。荷重除去時、評価対象面に直交する方向に沿って圧子を移動させる。圧子の後退速度は、１０ｎｍ／秒とする。
　以上の圧子の動作により、荷重変位曲線Ｃが得られる。荷重変位曲線Ｃは、圧子を介して評価対象面に負荷された荷重の大きさと、圧子の押し込み深さと、に関するグラフである。図２Ｂは、荷重変位曲線Ｃの一例を示す。
　インデンテーション硬さＨＩＴは、最大荷重Ｆｍａｘ及び接触投影面積Ａｐを用いた次の式（１）により特定される。
　　　　　　ＨＩＴ＝Ｆｍａｘ／Ａｐ　　・・・（１）
最大荷重Ｆｍａｘ及び接触投影面積Ａｐは、荷重変位曲線を解析することによって得られる。最大荷重Ｆｍａｘは、最大の押し込み荷重である。接触投影面積Ａｐは、最大の押し込み荷重時における圧子とサンプルとが接触した領域ついての、押し込み方向に直交する面上への投影面積である。接触投影面積Ａｐは、標準試料の溶融石英を用いて、装置標準の方法で作成した補正式により決定される。
　インデンテーション硬さは、評価対象となる光学シートについて１０個の測定位置で測定された１０個の測定値の算術平均値とする。
　条件（Ａ）は、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さが、第１方向Ｄ１における第２側から第１側に向けて、大きくなっていくことを要求する。言い換えると、条件（Ａ）は、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さが、第２面１２から第１面１１に向けて、大きくなっていくことを要求する。
　条件（Ｂ）は、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さの変化勾配が、第１方向Ｄ１における第２側よりも第１側において小さくなることを要求する。言い換えると、条件（Ｂ）は、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さが、第２側面２２（第２面１２）の近傍において大きく変化することを要求する。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）の組合せによれば、機能層２０の第１面１１から離れた領域において、第１面１１から第２面１２に向けて硬さが急激に硬くなる。機能層２０の第１面１１に近い領域において十分な硬さが確保される。更に、機能層２０の第１面１１に近い領域においても、硬さは、第２面１２面から第１面１１に向けて大きくなり得る。したがって、条件（Ａ）及び条件（Ｂ）の組合せによれば、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。また、機能層２０に含まれる紫外線吸収剤が第１面１１からブリードアウトすることを抑制できる。これにより、光学シート１０が紫外線カット機能及びブルーライトカット機能を安定して発揮できる。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ１及びインデンテーション硬さＨＡ２を含む次の条件（Ｃ）が更に満たされてもよい。
（Ｃ）　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　１．７
　「ＨＡ１／ＨＡ２」の上限を設定した条件（Ｃ）が満たされることにより、第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１に対して、第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２を十分に大きくできる。機能層２０の断面でのインデンテーション硬さは、第２側面２２から第１側面２１に向けて大きくなっていく。条件（Ｃ）が満たされる場合、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さは、第２側面２２及び第１側面２１の中央となる位置において、十分に上昇する。機能層２０は、厚み方向における中央から第１側面２１までの領域において、十分に大きいインデンテーション硬さを有する。これにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。
　条件（Ｃ）で規定された「ＨＡ１／ＨＡ２」は、１．７以下でもよく、１．５以下でもよく、１．２以下でもよく、１．１以下でもよい。「ＨＡ１／ＨＡ２」の下限は特に設定されない。「ＨＡ１／ＨＡ２」は、１．０以上でもよく、１．０より大きくてもよい。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ２及びインデンテーション硬さＨＡ３を含む次の条件（Ｄ）が更に満たされてもよい。
（Ｄ）　１．２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
　「ＨＡ２／ＨＡ３」の下限を設定した条件（Ｄ）が満たされることにより、第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３に対して、第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２を十分に大きくできる。機能層２０の断面でのインデンテーション硬さは、第２側面２２から第１側面２１に向けて大きくなっていく。条件（Ｄ）が満たされる場合、機能層２０の断面でのインデンテーション硬さは、第２側面２２及び第１側面２１の中央となる位置において、十分に上昇する。機能層２０は、厚み方向における中央から第１側面２１までの領域において、十分に大きいインデンテーション硬さを有する。これにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。
　条件（Ｄ）で規定された「ＨＡ２／ＨＡ３」は、１．２以上でもよく、１．７以上でもよく、２．０以上でもよく、２．４以上でもよく、２．７以上でもよい。「ＨＡ２／ＨＡ３」の上限は特に設定されない。「ＨＡ２／ＨＡ３」は、５．０以下でもよい。「ＨＡ２／ＨＡ３」は、１．２以上５．０以下でもよく、１．７以上５．０以下でもよく、２．０以上５．０以下でもよく、２．４以上５．０以下でもよく、２．７以上５．０以下でもよい。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ１及びインデンテーション硬さＨＡ３を含む次の条件（Ｅ）が更に満たされてもよい。
（Ｅ）　１．４　≦　ＨＡ１／ＨＡ３
　「ＨＡ１／ＨＡ３」の下限を設定した条件（Ｄ）が満たされることにより、第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３に対して、第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１を十分に大きくできる。機能層２０の断面でのインデンテーション硬さは、第２側面２２から第１側面２１に向けて十分に大きくなる。これにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。
　条件（Ｅ）で規定された「ＨＡ１／ＨＡ３」は、１．４以上でもよく、２．０以上でもよく、２．５以上でもよく、３．０以上でもよく、３．２以上でもよい。「ＨＡ１／ＨＡ３」の上限は特に設定されない。「ＨＡ１／ＨＡ３」は、５．５以下でもよい。「ＨＡ１／ＨＡ３」は、１．４以上５．５以下でもよく、２．０以上５．５以下でもよく、２．５以上５．５以下でもよく、３．０以上５．５以下でもよく、３．２以上５．５以下でもよい。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ２及びインデンテーション硬さＨＣを含む次の条件（Ｆ）が更に満たされてもよい。
（Ｆ）　ＨＡ２／ＨＣ　≦　１．３
　インデンテーション硬さＨＣは、光学シート１０に断面における基材層４０のインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、インデンテーション硬さＨＣが測定される光学シート１０の断面は、光学シート１０の厚み方向に沿った断面である。図示された例において、インデンテーション硬さＨＣが測定される光学シート１０の断面は、機能層２０及び基材層４０の積層方向である第１方向Ｄ１に沿った断面である。
　インデンテーション硬さＨＣは、基材層４０の断面における基材層４０の中央位置４１でのインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、中央位置４１は、基材層４０の断面において、厚み方向における中央に位置する。
　機能層２０の断面でのインデンテーション硬さが大きくなると、光学シート１０にカールや反りが発生し得る。機能層２０の硬化収縮にともなった光学シート１０の変形が生じ得る。「ＨＡ２／ＨＣ」の上限を設定した条件（Ｆ）が満たされることにより、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる。
　条件（Ｆ）で規定された「ＨＡ２／ＨＣ」は、１．３以下でもよく、１．２以下でもよく、１．１以下でもよい。「ＨＡ２／ＨＣ」の下限は特に設定されない。「ＨＡ２／ＨＣ」は、０．７３以上でもよく、０．９０以上でもよく、０．９５以上でもよい。
　「ＨＡ２／ＨＣ」は、０．７３以上１．３以下でもよく、０．７３以上１．２以下でもよく、０．７３以上１．１以下でもよい。「ＨＡ２／ＨＣ」は、０．９０以上１．３以下でもよく、０．９０以上１．２以下でもよく、０．９０以上１．１以下でもよい。「ＨＡ２／ＨＣ」は、０．９５以上１．３以下でもよく、０．９５以上１．２以下でもよく、０．９５以上１．１以下でもよい。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ１及びインデンテーション硬さＨＣを含む次の条件（Ｇ）が更に満たされてもよい。「ＨＡ１／ＨＣ」の上限を設定した条件（Ｇ）が満たされることにより、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる。
（Ｇ）　ＨＡ１／ＨＣ　≦　１．５
　条件（Ｇ）で規定された「ＨＡ１／ＨＣ」は、１．５以下でもよく、１．３以下でもよく、１．２以下でもよい。「ＨＡ１／ＨＣ」の下限は特に設定されない。「ＨＡ１／ＨＣ」は、１．０以上でもよく、１．１以上でもよく、１．２以上でもよい。
　「ＨＡ１／ＨＣ」は、１．０以上１．５以下でもよく、１．０以上１．３以下でもよく、１．０以上１．２以下でもよい。「ＨＡ１／ＨＣ」は、１．１以上１．５以下でもよく、１．１以上１．３以下でもよく、１．１以上１．２以下でもよい。「ＨＡ１／ＨＣ」は、１．２以上１．５以下でもよく、１．２以上１．３以下でもよい。
　条件（Ａ）及び条件（Ｂ）が満たされる第１実施形態において、インデンテーション硬さＨＡ及びインデンテーション硬さＨＣを含む次の条件（Ｈ）が更に満たされてもよい。
（Ｈ）　ＨＡ／ＨＣ　≦　１．２
　インデンテーション硬さＨＡは、インデンテーション硬さＨＡ１～ＨＡ３の算術平均値であり、次の式にて特定される。
　　　（ＨＡ１＋ＨＡ２＋ＨＡ３）／３　＝　ＨＡ
「ＨＡ／ＨＣ」の上限を設定した条件（Ｈ）が満たされることにより、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる。
　条件（Ｈ）で規定された「ＨＡ／ＨＣ」は、１．２以下でもよく、１．１以下でもよく、０．９０以下でもよい。「ＨＡ／ＨＣ」の下限は特に設定されない。「ＨＡ／ＨＣ」は、０．７８以上でもよく、０．８４以上でもよく、０．８６以上でもよい。
　「ＨＡ／ＨＣ」は、０．７８以上１．２以下でもよく、０．７８以上１．１以下でもよく、０．７８以上０．９０以下でもよい。「ＨＡ／ＨＣ」は、０．８４以上１．２以下でもよく、０．８４以上１．１以下でもよく、０．８４以上０．９０以下でもよい。「ＨＡ／ＨＣ」は、０．８６以上１．２以下でもよく、０．８６以上１．１以下でもよく、０．８６以上０．９０以下でもよい。
　第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１の下限を設定してもよい。インデンテーション硬さＨＡ１の下限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１は、３４０ＭＰａ以上でもよく、３４２ＭＰａ以上でもよく、３８７ＭＰａ以上でもよく、４０９ＭＰａ以上でもよく、４１４ＭＰａ以上でもよく、４１７ＭＰａ以上でもよく、４８３ＭＰａ以上でもよく、５００ＭＰａ以上でもよく、５２２ＭＰａ以上でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ１の上限は特に設定されない。インデンテーション硬さＨＡ１は、６００ＭＰａ以下でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ１は、３４０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３４２ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３８７ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４０９ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４１４ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４１７ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４８３ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、５００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、５２２ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよい。
　第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２の下限を設定してもよい。インデンテーション硬さＨＡ２の下限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２は、２４０ＭＰａ以上でもよく、２４３ＭＰａ以上でもよく、２９８ＭＰａ以上でもよく、３１３ＭＰａ以上でもよく、３４８ＭＰａ以上でもよく、３６０ＭＰａ以上でもよく、４２４ＭＰａ以上でもよく、４５３ＭＰａ以上でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ２の上限は特に設定されない。インデンテーション硬さＨＡ２は、５５０ＭＰａ以下でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ２は、２４０ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、２４３ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、２９８ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、３１３ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、３４８ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、３６０ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、４２４ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよく、４５３ＭＰａ以上５５０ＭＰａでもよい。
　第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３の下限を設定してもよい。インデンテーション硬さＨＡ３の下限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上でき、第１面１１での耐擦傷性を効果的に向上できる。第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３は、１２０ＭＰａ以上でもよく、１２２ＭＰａ以上でもよく、１２６ＭＰａ以上でもよく、１２９ＭＰａ以上でもよく、１３２ＭＰａ以上でもよく、１４７ＭＰａ以上でもよく、２４１ＭＰａ以上でもよく、２６４ＭＰａ以上でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ３の上限は特に設定されない。インデンテーション硬さＨＡ３は、３５０ＭＰａ以下でもよい。
　インデンテーション硬さＨＡ３は、１２０ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、１２２ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、１２６ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、１２９ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、１３２ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、１４７ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、２４１ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよく、２６４ＭＰａ以上３５０ＭＰａ以下でもよい。
　後述する実施例によっても実証されているように、インデンテーション硬さに関する条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１の耐擦傷性も向上できる。条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことにより、第１面１１の鉛筆硬度を２Ｈ以上にできる。条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことにより、第１面１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は１００ｇ以上にできる。
　鉛筆硬度は、鉛筆の芯を評価対象となるサンプルに押し付けて動かした際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験機を用いて測定される。評価対象となる光学シートのサンプルは、長方形形状とする。長方形形状の短辺を５０ｍｍとし、長辺を１００ｍｍとする。試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。長方形形状のサンプルを鉛筆硬度試験機上で、皺や反りが生じないように広げる。広げられたサンプルの二つの短辺を、当該短辺の全長に亘って、メンディングテープを用いて、鉛筆硬度試験機に固定する。メンディングテープは特に限定されない。メンディングテープは、一例として、３Ｍ社製の商品名「８１０－３－１８」でもよい。
　試験時に鉛筆に負荷される荷重は、５００ｇとする。鉛筆の移動速度は、１.４ｍｍ／秒とする。鉛筆の移動長さは、１０ｍｍとする。鉛筆の移動方向は、サンプルの長辺と平行な方向とする。鉛筆は、ＭＩＴＳＵ－ＢＩＳＨＩ製のｕｎｉとする。同一硬度の鉛筆を用いて、同一サンプルに５回の試験を行う。５回の試験は、同一サンプル内の１０ｍｍ以上離れた箇所にて実施する。５回の試験の各々において、芯を削り直した鉛筆を用いる。
　第１面１１に欠陥が生じていなかった試験回数が４回以上である場合、評価対象は合格とする。欠陥は、３ｍｍ以上の傷とする。鉛筆硬度試験機から取り外されたサンプルの表面を肉眼観察で確認することによって、欠陥の有無が確認される。サンプルの表面の観察は室内照明下で行う。観察距離は３０ｃｍとする。観察対象であるサンプルの表面上の照度は８００Ｌｘ以上１２００Ｌｘ以下とする。
　合格と判定された試験で使用した鉛筆の硬度のうち、最も高い硬度を評価対象となるサンプルの鉛筆硬度とする。鉛筆硬度試験に関するその他の条件は、鉛筆硬度は、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に従う。
　スチールウール耐擦傷性試験は、スチールウールを評価対象となるサンプルに押し付けて相対移動させた際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。評価対象となる光学シートのサンプルは、長方形形状とする。長方形形状の短辺を３０ｍｍとし、長辺を２５０ｍｍとする。長方形形状のサンプルを試験機上で皺や反りが生じないように広げる。広げられたサンプルの二つの短辺を、当該短辺の全長に亘って、メンディングテープを用いて、試験機に固定するメンディングテープは特に限定されない。メンディングテープは、一例として、３Ｍ社製の商品名「８１０－３－１８」でもよい。
　すべり片としてのスチールウールを、光学シートの第１面によって構成されるサンプルの表面と接触させる。スチールウールは、日本スチールウール社製の番手＃００００の「ボンスター　Ｂ－２０４」とする。ボンスター　Ｂ－２０４は、横：約３９０ｍｍ、縦：約７５ｍｍ、厚み：約１１０ｍｍの業務用サイズとする。試験用サンプルとすべり片との接触面積は、２０ｍｍ×２０ｍｍとする。鉛直方向からすべり片に荷重を加え、水平面に沿うように広げられたサンプルにすべり片に押し付ける。すべり片をサンプルに押し付けた状態で、すべり片とサンプルとを水平方向へ相対移動させる。スチールウールの繊維が主として延びる方向と直交する方向に、すべり片及び試験用サンプルを相対移動させる。すべり片をサンプルに押し付ける荷重は、最小で５０ｇとする。相対移動は直線経路に沿った往復動とする。往復動のサイクルは、１０回とする。試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。往復動の速度は１００ｍｍ／秒とする。往復動におけるストロークは、往路及び復路とも１２０ｍｍとする。往復動は、サンプルの長辺と平行な方向とする。
　すべり片は、未使用品を使用する。評価対象に対する試験を実施する前、スチールウールを準備用サンプルに擦りつけて、スチールウールの慣らしを実施する。評価対象となるサンプルの試験に用いる試験機を、スチールウールの慣らしにも用いる。準備用サンプルは、ポリエチレンテレフタレートフィルムとする。準備用サンプルは、短辺３０ｍｍ及び長辺２５０ｍｍの長方形形状とした。ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面処理されていない表面に、スチールウールを擦りつける。準備用サンプルを水平面に沿って広げ、準備用サンプルの二つの短辺をメンディングテープで試験機へ固定する。準備用サンプルに鉛直方向における上方からスチールウールを押し付ける。準備用サンプルとスチールウールとの接触面積は、２０ｍｍ×２０ｍｍとする。スチールウールを準備用サンプルへ押し付ける荷重は、５００ｇとする。スチールウールを準備用サンプルへ押し付けた状態で、スチールウールと準備用サンプルとを水平方向へ相対移動させる。スチールウールの繊維が主として延びる方向と直交する方向に、スチールウール及び準備用サンプルを相対移動させる。相対移動は往復動とする。往復動のサイクルを２００回とする。往復動の速度は１００ｍｍ／秒とする。往復動におけるストロークは、往路及び復路とも１２０ｍｍとする。このように、準備用サンプルに押し付けられたスチールウールが、評価対象の試験に用いられる。
　１０サイクルの耐擦傷性試験を終了したサンプルを試験機から取り外し、光学シートの第１面によって構成されるサンプルの表面を肉眼で観察する。サンプルの表面の観察は室内照明下で行う。観察距離は３０ｃｍとする。評価対象であるサンプルの表面上の照度は８００Ｌｘ以上１２００Ｌｘ以下とする。
　スチールウール耐擦傷性試験は、評価対象となる光学シートに対し、５回の試験を行う。第１面１１に傷が観察されなかった試験回数が４回以上で合格とする。５回の試験は、同一の光学シートから切り出した別のサンプルに対して実施する。５回の試験において、都度、スチールウールを取り換える。上述したスチールウールの慣らしは、５回の試験の各々において、実施する。
　試験結果が合格であれば、すべり片をサンプルに押し付ける荷重を、５０gずつ、３００ｇまで上げていく。つまり、すべり片をサンプルに押し付ける荷重は、１００ｇ、１５０ｇ、２００ｇ、２５０ｇ、３００ｇと、５０gずつ上げていく。合格と判定された試験での最大の荷重を、当該サンプルについてのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重とする。例えば、耐荷重２００ｇと評価される評価対象は、押し付け荷重を５０gとした試験、１００gとした試験、１５０gとした試験、及び２００gとした試験のすべてで合格と判断される。
　上述したように、条件（Ａ）及び条件（Ｂ）に加えて他の条件を満たすことにより、光学シート１０の第１面１１での硬度及び耐擦傷性を向上できる。第１面１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上でもよく、３Ｈ以上でもよく、４Ｈ以上でもよい。第１面１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、１００ｇ以上でもよく、１５０ｇ以上でもよく、２００ｇ以上でもよく、２５０ｇ以上でもよく、３００ｇ以上でもよい。
　第１面１１の鉛筆硬度に上限は特に設定されない。第１面１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、３Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、４Ｈ以上８Ｈ以下でもよい。
　第１面１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重に上限は特に設定されない。第１面１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、１００ｇ以上３００ｇ以下でもよく、１５０ｇ以上３００ｇ以下でもよく、２００ｇ以上３００ｇ以下でもよく、３００ｇでもよい。
　機能層２０は、基材層４０に接触してもよい。この例において、機能層２０は、基材層４０上に硬化性樹脂組成物を塗布することによって形成されてもよい。この例において、基材層４０は、基材フィルムでもよい。
　図１に示すように、光学シート１０は、中間層３０を更に含んでもよい。中間層３０は、中間層３０は、厚み方向である第１方向Ｄ１において、機能層２０及び基材層４０の間に位置する。中間層３０は、機能層２０に接触している。中間層３０は、基材層４０に接触している。
　基材層４０及び中間層３０は、共に、機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム４５によって構成されてもよい。基材フィルム４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分が中間層３０を構成してもよい。基材フィルム４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分が基材層４０を構成してもよい。
　浸透層としての中間層３０は、基材層４０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、中間層３０と基材層４０との密着性を向上できる。中間層３０と基材層４０との密着性も、第１面１１での硬度向上に寄与し得る。
　浸透層としての中間層３０は、機能層２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、中間層３０と機能層２０との密着性を向上できる。中間層３０と機能層２０との密着性も、第１面１１での硬度向上に寄与し得る。
　中間層３０は、機能層２０に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。中間層３０が紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を強化できる。
　浸透層としての中間層３０を形成することにより、基材フィルム４５及び機能層２０の密着性が向上する。これにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。
　フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）によれば、各層２０，３０，４０に含まれる化学結合を定量的に分析することができる。フーリエ変換型赤外分光法を用いることによって、中間層３０が機能層２０に含まれる樹脂成分を含むか否かを判定できる。フーリエ変換型赤外分光法を用いることによって、中間層３０が基材層４０に含まれる樹脂成分を含むか否かを判定できる。
　第１方向に沿った光学シートの断面を走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）で観察することにより、浸透層の存在を確認できる。評価対象となる光学シート１０の断面の観察画像は、後述の厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、走査型透過電子顕微鏡での観察前に、染色される。染色に、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸等を用いてもよい。
　基材フィルム４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂は、硬化性樹脂組成物が浸透し易い。したがって、機能層２０の樹脂成分と基材層４０の樹脂成分との混合層である中間層３０を容易に作製できる。この点から、基材層４０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。中間層３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。
　中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、基材層４０の断面でのインデンテーション硬さＨＣより小さくてもよい。インデンテーション硬さの小さい中間層３０は、機能層２０の硬化収縮時に、機能層２０の変形にともなって柔軟に変形し得る。この中間層３０が基材層４０及び機能層２０の間に位置することによって、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる。
　中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、光学シート１０の断面における中間層３０のインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、インデンテーション硬さが測定される光学シート１０の断面は、光学シート１０の厚み方向に沿った断面である。図示された例において、インデンテーション硬さが測定される光学シート１０の断面は、機能層２０及び基材層４０の積層方向である第１方向Ｄ１に沿った断面である。インデンテーション硬さＨＢは、中間層３０の断面における中間層３０の中央位置３１でのインデンテーション硬さである。図２Ａに示すように、中央位置３１は、中間層３０の断面において、厚み方向における中央に位置する。
　中間層３０は、モノマーを含んでもよい。中間層３０は、機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれた少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。これらの例によれば、低硬度の中間層３０を安定して形成できる。中間層３０は、変形吸収層として機能し、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる
　中間層３０がモノマーを含むか否かは、四酸化オスミウムを用いた染色により、判断される。まず、光学シート１０から断面サンプルを切削により削りだす。サンプルの厚みは約８０ｎｍとする。削りだしたサンプルは、Ｃｕメッシュ上に採取する。このサンプルを、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色する。走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて、染色処理されたサンプルの中間層３０に該当する部分を観察する。染色処理により、中間層３０に含まれ得る不飽和二重結合は色付く。したがって、観察したサンプルが染色により色付いていれば、中間層３０がモノマーを含んでいると判断する。中間層３０に含まれたモノマーが、中間層３０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれていたモノマーと同一であるか否かは、フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）により化学結合を定量的に分析することによって、判断される。
　中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢの下限を設定してもよい。インデンテーション硬さＨＢの下限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を効果的に向上できる。中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上でもよく、１２４ＭＰａ以上でもよく、１３８ＭＰａ以上でもよく、１４２ＭＰａ以上でもよく、１５１ＭＰａ以上でもよく、１５６ＭＰａ以上でもよい。
　中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢの上限を設定してもよい。インデンテーション硬さＨＢの上限を設定することにより、光学シート１０のカールや反り等の変形を抑制できる。中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、２４０ＭＰａ以下でもよく、２３７ＭＰａ以下でもよく、２００ＭＰａ以下でもよく、１８０ＭＰａ以下でもよい。
　インデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよく、１２４ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよく、１３８ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよく、１４２ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよく、１５１ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよく、１５６ＭＰａ以上２４０ＭＰａ以下でもよい。インデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよく、１２４ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよく、１３８ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよく、１４２ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよく、１５１ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよく、１５６ＭＰａ以上２３７ＭＰａ以下でもよい。インデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよく、１２４ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよく、１３８ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよく、１４２ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよく、１５１ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよく、１５６ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下でもよい。インデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよく、１２４ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよく、１３８ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよく、１４２ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよく、１５１ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよく、１５６ＭＰａ以上１８０ＭＰａ以下でもよい。
　機能層２０の厚みＴ２０に下限を設定してもよい。機能層２０の厚みに下限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を安定して向上できる。機能層２０の厚みＴ２０は、４．０μｍ以上でもよく、４．２μｍ以上でもよく、５．２μｍ以上でもよく、５．５μｍ以上でもよい。
　機能層２０の厚みＴ２０に上限を設定してもよい。機能層２０の厚みに上限を設定することにより、光学シート１０に生じるカールや反り等の変形を安定して抑制し得る。機能層２０の厚みＴ２０は、１０μｍ以下でもよく、９．５μｍ以下でもよく、８．７μｍ以下でもよく、７．４μｍ以下でもよい。
　機能層２０の厚みＴ２０は、４．０μｍ以上１０μｍ以下でもよく、４．２μｍ以上１０μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上１０μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上１０μｍ以下でもよい。機能層２０の厚みＴ２０は、４．０μｍ以上９．５μｍ以下でもよく、４．２μｍ以上９．５μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上９．５μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上９．５μｍ以下でもよい。機能層２０の厚みＴ２０は、４．０μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、４．２μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上８．７μｍ以下でもよい。機能層２０の厚みＴ２０は、４．０μｍ以上７．４μｍ以下でもよく、４．２μｍ以上７．４μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上７．４μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上７．４μｍ以下でもよい。
　中間層３０の厚みＴ３０に上限を設定してもよい。特に、中間層３０の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、基材層４０の断面でのインデンテーション硬さＨＣより小さい例において、中間層３０の厚みＴ３０に上限を設定してもよい。中間層３０の厚みＴ３０に上限を設定することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度低下を抑制できる。したがって、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。中間層３０の厚みＴ３０は、４．２μｍ以下でもよく、３．１μｍ以下でもよく、２．７μｍ以下でもよく、２．４μｍ以下でもよく、２．３μｍ以下でもよく、２．０μｍ以下でもよい。
　中間層３０の厚みＴ３０の下限は特に設定されない。中間層３０は、必須ではなく、光学シート１０から省略可能である。中間層３０の厚みＴ３０は、０より大きくてもよく、０．５μｍ以上でもよく、１．０μｍ以上でもよく、１．４μｍ以上でもよい。
　中間層３０の厚みＴ３０は、０．５μｍ以上４．２μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上３．１μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上２．０μｍ以下でもよい。中間層３０の厚みＴ３０は、１．０μｍ以上４．２μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上３．１μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上２．０μｍ以下でもよい。中間層３０の厚みＴ３０は、１．４μｍ以上４．２μｍ以下でもよく、１．４μｍ以上３．１μｍ以下でもよく、１．４μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、１．４μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．４μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、１．４μｍ以上２．０μｍ以下でもよい。
　図１に示すように、基材層４０の厚みＴ４０は、機能層２０の厚みＴ２０より厚くてもよい。基材層４０の厚みＴ４０は、中間層３０の厚みＴ３０より厚くてもよい。基材層４０の厚みＴ４０は、機能層２０の厚みＴ２０と中間層３０の厚みＴ３０との合計厚みより厚くてもよい。このような厚みＴ４０を有する基材層４０によれば、機能層２０及び中間層３０を安定して支持できる。
　なお、浸透層としての中間層３０は、第１実施形態の光学シート１０において必須ではない。中間層３０自体が、第１実施形態の光学シート１０において必須ではない。中間層３０の有無によらず、機能層２０の断面における上述したインデンテーション硬さに関する条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことによって、第１面１１での硬度及び耐擦傷性を向上できる。
　光学シート１０に含まれる各層２０，３０，４０の厚みＴ２０，Ｔ３０，Ｔ４０は、それぞれ、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて特定される。評価対象となる光学シート１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みを測定する。各層２０，３０，４０について、１０箇所の測定位置で測定された１０の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ２０，Ｔ３０，Ｔ４０が特定される。
　評価対象となる光学シート１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、次の第１ステップ及び第２ステップにより得られる。
（第１ステップ）
　評価対象となる光学シートから、カットサンプルを切り出す。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認する。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製する。
　包埋サンプルは、次の手順で作製する。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置する。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込む。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させる。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルが得られる。包埋サンプルの形状はブロック状とする。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とする。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルを切断して、切片サンプルを作製する。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿った面を含む。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとする。
　光学シートの断面の観察画像を取得する際、走査型透過電子顕微鏡の撮像条件は次の通りとする。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　透過光により測定した光学シート１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は、－３．０以上－１．６以下でもよい。透過光により測定した光学シート１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は、３．５以上６．０以下でもよい。ａ＊値及びｂ＊値を上記範囲とすることにより、ブルーライトカット機能を有効としながら、光学シート１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。
　Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＣＩＥ　１９７６　Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間として規定された色座標であり、ＪＩＳＺ８７８１－４：２０１３においても規定されている。補助イルミナントＣ、２度視野を用いて、３００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔で測定される透過率をもとに、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を求める。ａ＊値及びｂ＊値の測定前、測定装置の光源を１５分間点灯し、光源の出力を安定させる。ａ＊値及びｂ＊値を測定する際の入射面は、光学シート１０の第２面１２とする。ａ＊値及びｂ＊値を測定する際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。
　ａ＊値は、５つの測定値の算術平均値とする。５つの測定値は、評価対象となる光学シートの５箇所の測定位置にて測定された測定値とする。５箇所の測定位置は、互いから１０ｍｍ以上離れて位置する。ｂ＊値は、５つの測定値の算術平均値とする。ｂ＊値に関する５つの測定値は、ａ＊値に関する５つの測定値が測定された５箇所の測定位置でそれぞれ測定された値とする。
　光学シート１０の黄色度（ＹＩ値）は、１２以下でもよく、１１以下でもよく、１０以下でもよく、９．０以下でもよい。黄色度は、光学シート１０の黄色味の着色度合いを示す指標となる。黄色度（ＹＩ値）に上記の上限を設定することにより、光学シート１０の黄色味の着色を制限できる。黄色顔料を使用することなく、上記分光透過率を達成することにより、光学シート１０を透過した画像の色味変化を抑制できる。
　光学シート１０の黄色度（ＹＩ値）の下限値は特に設定されない。光学シート１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上でもよく、０より大きくてもよい。
　光学シート１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上１２以下でもよく、０以上１１以下でもよく、０以上１０以下でもよく、０以上９．０以下でもよい。光学シート１０の黄色度（ＹＩ値）は、０より大きく１２以下でもよく、０より大きく１１以下でもよく、０より大きく１０以下でもよく、０より大きく９．０以下でもよい。
　黄色度は、透過光により測定する。分光測色方法により、補助イルミナントＣ、２度視野を用いて、３００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔で測定される透過率をもとに、ＸＹＺ表色系における三刺激値Ｘ，Ｙ，Ｚを求める。求められたＸ，Ｙ，Ｚの値から、次の式により黄色度（ＹＩ値）が特定される。
　　　ＹＩ＝１００（１．２７６９Ｘ－１．０５９２Ｚ）／Ｙ
黄色度を測定する際の幾何光学条件として、ＪＩＳ　Ｚ　８７２２：２００９の幾何光学条件ｅを採用する。試験片端部からの散逸光による影響を排除するため、試験片への入射光束径は開口部の径より小さくする。黄色度の測定前、測定装置の光源を１５分間点灯し、Ｄ６５光源の出力を安定させる。黄色度を測定する際の入射面は、光学シート１０の第２面１２とする。黄色度を測定する際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。
　黄色度（ＹＩ値）は、５つの測定値の算術平均値とする。５つの測定値は、評価対象となる光学シートの５箇所の測定位置にて測定された測定値とする。５箇所の測定位置は、互いから１０ｍｍ以上離れて位置する。黄色度（ＹＩ値）を測定する際のその他の測定条件は、ＪＩＳ　Ｋ７３７３－１：２００６に従う。
　光学シート１０の全光線透過率は、５０％以上でもよく、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。光学シート１０の全光線透過率は、特に上限を有さない。光学シート１０の全光線透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　光学シート１０の全光線透過率は、５０％以上１００％以下でもよく、７０％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、９０％以上１００％以下でもよい。光学シートの全光線透過率は、５０％以上１００％未満でもよく、７０％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、９０％以上１００％未満でもよい。
　全光線透過率の測定にはＤ６５光源を用いる。全光線透過率を測定する前、Ｄ６５光源を１５分間点灯し、Ｄ６５光源の出力を安定させる。全光線透過率を測定する際のサンプルへの入射角は０°とする。光学シート１０の全光線透過率を測定する際の入射面は、光学シートの第２面とする。全光線透過率を測定する際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。全光線透過率を測定する際のその他の測定条件は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７に従う。
　全光線透過率は、５つの測定値の算術平均値とする。５つの測定値は、評価対象となる光学シートの５箇所の測定位置にて測定された測定値とする。５箇所の測定位置は、互いから１０ｍｍ以上離れて位置する。
　光学シート１０の透過ヘイズは、１．１％以下でもよく、０．５％以下でもよく、０．２％以下でもよい。光学シート１０の透過ヘイズは、特に下限を有さない。光学シート１０の透過ヘイズは、０％以上でもよく、０％より大きくてもよい。
　光学シート１０の透過ヘイズは、０％以上１．１％以下でもよく、０％以上０．５％以下でもよく、０％以上０．２％以下でもよい。光学シート１０の透過ヘイズは、０％より大きく１．１％以下でもよく、０％より大きく０．５％以下でもよく、０％より大きく０．２％以下でもよい。
　透過ヘイズの測定にはＤ６５光源を用いる。透過ヘイズを測定する前、Ｄ６５光源を１５分間点灯し、Ｄ６５光源の出力を安定させる。透過ヘイズを測定する際のサンプルへの入射角は０°とする。光学シート１０の透過ヘイズを測定する際の入射面は、光学シート１０の第２面１２とする。透過ヘイズを測定する際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とする。サンプルは、試験開始前に、試験環境に１６時間配置する。透過ヘイズを測定する際のその他の測定条件は、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００に従う。
　透過ヘイズは、５つの測定値の算術平均値とする。５つの測定値は、評価対象となる光学シートの５箇所の測定位置にて測定された測定値とする。５箇所の測定位置は、互いから１０ｍｍ以上離れて位置する。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面１１で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上でもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法による元素の定量分析結果において、炭素元素の量を１とした場合のケイ素元素の量は０．０２以上でもよい。ケイ素元素は、無機成分（シリカ）と有機成分（シリコーン）との合計とする。機能層２０は、易滑剤として無機粒子を含んでもよい。炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤として添加された無機粒子の凝集、例えばシリカの凝集を抑制できる。すなわち、炭素元素に対するケイ素元素子の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤が有効に機能する。易滑剤によれば、光学シート１０を重ねた際や、光学シート１０を巻き取った際に、隣接する光学シート１０同士が貼り付くことを抑制できる。
　機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物は、レベリング剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｓｉ系レベリング剤を用いることにより、炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上とすることができる。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面１１で測定されたフッ素元素の比率を、０．１％以下にしてもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法により検出された全元素量に対するフッ素元素の量の割合を、０．００１以下としてもよい。この例では、光学シート１０の表層部に、実質的に、フッ素が検出されない。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｆ系レベリング剤を用いないことにより、フッ素元素の比率を０．１％以下にできる。
　フッ素元素の比率を０．１％以下とすることにより、ＰＦＡＳが不純物として生成されることを抑制できる。ＰＦＡＳは、人工有機フッ素化合物として、生体蓄積性を懸念されている。ＰＦＡＳの生成を抑制することにより、環境負荷低減に貢献し得る。フッ素元素の比率を低減することにより、第１面１１での耐擦傷性も向上できる。
　Ｘ線光電子分光分析法によれば、光学シート１０の表層部に存在する元素を定量的に分析できる。Ｘ線光電子分光分析法には、Ｘ線光電子分光装置(X-ray Photoelectron Spectroscopy：ＸＰＳ)が用いられる。
　Ｘ線光電子分光分析法による表層部に存在する元素の定量分析において、以下に記載する条件で、各測定用サンプルの低屈折率層表面のＣ１ｓ軌道、Ｏ１ｓ軌道、Ｓｉ２ｐ軌道、及び、Ｆ１ｓ軌道のＸ線光電子スペクトルを測定する。各Ｘ線光電子スペクトルについてピーク分離を行い、全元素に対するＦ元素の割合を求める。
（測定条件）
測定手法：Ｗｉｄｅ・Ｎａｒｒｏｗ
Ｘ線源：モノクロＡ１Ｋα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
帯電中和機構：ＯＮ
測定領域：３００μｍ×７００μｍ
Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：Ｓｕｒｖｅｙ：１６０ｅＶ、Ｎａｒｒｏｗ：４０ｅＶ
光電子取込角度：９０°
オートＺ：ＯＮ
ピークシフト補正：Ｃ１ｓピークにおいて、Ｃ－Ｃのピークが２８５．０ｅＶとなるように補正
ナローピークの波形分離：装置附属の解析ソフトにてＧＬ関数を用いて実施
エッチングイオン：Ａｒ単原子イオン
　以下、図１に示された光学シート１０の各層について更に詳述する。図１に示された例において、基材層４０、中間層３０及び機能層２０は、第１方向Ｄ１に重ねられている。第１方向Ｄ１は積層方向である。基材層４０、中間層３０及び機能層２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３に広がっている。図示された例において、第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３は、互いに直交している。第１方向Ｄ１は、光学シート１０の厚み方向であって法線方向である。第１方向Ｄ１は、光学シート１０に含まれる各層４０，３０，２０の厚み方向かつ法線方向でもある。図１に示された光学シート１０において、第１面１１は機能層２０によって構成されている。第２面１２は基材層４０によって構成されている。機能層２０及び中間層３０は第１方向Ｄ１に隣接している。中間層３０及び基材層４０は第１方向Ｄ１に隣接している。
　光学シート１０は、機能層２０、中間層３０及び基材層４０以外の層を含んでもよい。光学シート１０は、低反射層、帯電防止層、防汚層等の一以上を含んでもよい。この例において、機能層２０以外の層が第１面１１を構成してもよい。低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層は、薄い層である。したがって、低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層が第１面１１を構成する例においても、機能層２０及び中間層３０の組合せによって、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。
＜＜基材層４０＞＞
　基材層４０は、機能層２０を、中間層３０とともに支持する。基材層４０は透明でもよい。透明とは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠する全光線透過率が５０％以上であることを意味し、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。
　基材層４０の材料は、特に限定されない。基材層４０の材料は、樹脂でもよく、ガラスでもよい。樹脂は軽量であり且つ製造が容易である点において好ましい。
　基材層４０に用いられる樹脂は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂でもよい。基材層４０に用いられる樹脂は、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂でもよい。基材層４０に用いられる樹脂は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂でもよい。基材層４０に用いられる樹脂は、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル等のアクリル系樹脂でもよい。基材層４０に用いられる樹脂は、ポリスチレン等のスチレン系樹脂でもよく、ナイロン６又はナイロン６６等のポリアミド系樹脂でもよく、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂でもよい。基材層４０に用いられる樹脂として、更に、ポリカーボネート等の樹脂、ポリイミド系樹脂、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンから得られるシクロオレフィン樹脂が例示される。基材層４０は、上述した１種の樹脂のみを含んでもよく、上述した２種以上の樹脂を含んでもよい。
　樹脂製の基材層４０の厚みは特に限定されない。取り扱い性の観点から、樹脂製の基材層４０の厚みは、１０μｍ以上でもよく、２０μｍ以上でもよく、５０μｍ以上でもよい。樹脂製の基材層４０の厚みは、５００μｍ以下でもよく、４００μｍ以下でもよく、３００μｍ以下でもよい。ガラス製の基材層４０の厚みは５００μｍ以上でもよい。
　フォルダブル用途への光学シート１０の適用において、基材層４０は柔軟性を有してもよい。この例において、樹脂製の基材層４０の厚みは１０μｍ以上４０μｍ以下でもよい。光学シート１０がガラスと積層して用いられる場合、ガラスの飛散防止の観点から、樹脂製の基材層４０の厚みは４０μｍ以上１００μｍ以下でもよい。
　基材層４０は、基材フィルム４５として用意されてもよい。この基材フィルム４５は、単一の層のみ含んでもよく、複数の層を含んでもよい。基材層４０は、易接着層等のプライマー層を含んでもよい。基材フィルム４５の表面に、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理、及び下塗り処理の一以上が施されてもよい。これらの処理によって、基材フィルム４５と、基材フィルム４５に隣接する層と、の密着性を向上できる。基材フィルム４５の表面が、溶剤洗浄や超音波洗浄等の洗浄処理を実施されてもよい。
＜＜機能層２０＞＞
　機能層２０は、バインダー樹脂２３と、紫外線吸収剤と、を含む。機能層２０は、紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を発現する。バインダー樹脂２３は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。機能層２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことによって、第１面１１及び機能層２０の硬度向上に寄与する。
　硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂組成物でもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂組成物及び電子線硬化性樹脂組成物の一以上を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性化合物及び光重合開始剤を含んでもよい。電離放射線硬化性化合物は、紫外線硬化性化合物及び電子線硬化性化合物の一以上を含んでもよい。紫外線硬化性化合物は、紫外線の照射によって硬化する樹脂である。電子線硬化性化合物は、電子線の照射によって硬化する樹脂である。硬化性樹脂組成物の硬化物は、硬化した硬化性化合物でもよい。
＜硬化性化合物＞
　電離放射線硬化性化合物は、電離放射線硬化性官能基を含む。電離放射線硬化性官能基として、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が例示される。電離放射線硬化性化合物は、電離放射線硬化性官能基を２つ以上含んでもよい。電離放射線硬化性化合物は、エチレン性不飽和結合基を有する化合物でもよい。電離放射線硬化性化合物は、（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物でもよい。電離放射線硬化性化合物は、シロキサン結合を含むシロキサン化合物でもよい。
　以下、エチレン性不飽和結合基を４つ以上有含む（メタ）アクリレート系化合物を「多官能性（メタ）アクリレート系化合物」と称する。エチレン性不飽和結合基を２～３つ有する（メタ）アクリレート系化合物のことを「低官能性（メタ）アクリレート系化合物」と称する。
　（メタ）アクリレート系化合物は、モノマーでもよく、オリゴマーでもよい。低官能（メタ）アクリレート系化合物を含む電離放射線硬化性化合物によれば、硬化時の収縮ムラを抑制し、機能層２０の表面を平滑化できる。
　電離放射線硬化性化合物中の低官能（メタ）アクリレート系化合物の割合は、６０質量％以上でもよく、８０質量％以上でもよく、９０質量％以上でもよく、９５質量％以上でもよく、１００質量％でもよい。硬化時の収縮ムラを抑制して機能層２０の表面の凹凸形状を平滑化する観点から、低官能（メタ）アクリレート系化合物は、２つのエチレン性不飽和結合基を含む（メタ）アクリレート系化合物でもよい。電離放射線硬化性化合物が多官能（メタ）アクリレート系化合物を多量に含む場合、後述するように、溶剤の種類及び乾燥条件を適切に調節することによって、機能層の表面を平滑化できる。
　（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系化合物として、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が例示される。３官能（メタ）アクリレート系化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレートなどが例示される。４官能以上の多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が例示される。（メタ）アクリレート系化合物は、後述するように変性したものでもよい。
　（メタ）アクリレート系オリゴマーとして、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が例示される。ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。エポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートでもよい。エポキシ（メタ）アクリレートは、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートでもよい。エポキシ（メタ）アクリレートは、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートでもよい。
　（メタ）アクリレート系化合物は、架橋による収縮ムラを抑制する観点から、分子骨格の一部を変性されてもよい。（メタ）アクリレート系化合物は、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等によって変性されてもよい。シリカ粒子との親和性を高めて粒子の凝集を抑制し且つＣ／Ｓｉを上記範囲に調節する観点から、上記（メタ）アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドで変性されてもよい。電離放射線硬化性化合物中におけるアルキレンオキサイド変性の（メタ）アクリレート系化合物の割合は、６０質量％以上でもよく、８０質量％以上でもよく、９０質量％以上でもよく、９５質量％以上でもよく、１００質量％でもよい。アルキレンオキサイド変性の（メタ）アクリレート系化合物は、低官能（メタ）アクリレート系化合物でもよく、２つのエチレン性不飽和結合基を有する（メタ）アクリレート系化合物でもよい。
　アルキレンオキサイド変性された２つのエチレン性不飽和結合基を有する（メタ）アクリレート系化合物として、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートが例示される。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートに含まれるアルキレングリコールの平均繰り返し単位は３～５でもよい。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートに含まれるアルキレングリコールは、エチレングリコール及び／又はポリエチレングリコールでもよい。アルキレンオキサイド変性されてなる３つのエチレン性不飽和結合基を有する（メタ）アクリレート系化合物として、トリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート及びイソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレートが例示される。
　１種の電離放射線硬化性化合物が単独で使用されてもよく、２種以上の電離放射線硬化性化合物が組み合わせて使用されてもよい。すなわち、硬化性樹脂組成物は、１種の電離放射線硬化性化合物を含んでもよく、２種以上の電離放射線硬化性化合物を含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物は、溶剤乾燥型樹脂を含んでもよい。溶剤乾燥型樹脂は、塗工時に固形分を調節するために添加した溶剤を乾燥させるだけで被膜となる樹脂である。溶剤乾燥型樹脂として、熱可塑性樹脂が例示される。電離放射線硬化性化合物が溶剤乾燥型樹脂を含むことによって、塗布面の被膜欠陥を抑制できる。溶剤乾燥型樹脂は、特に限定されない。溶剤乾燥型樹脂として、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、及び、セルロースエステル類等のセルロース誘導体等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの溶剤乾燥型樹脂の一つ又は二以上を含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物は、熱硬化性化合物を含んでもよい。熱硬化性化合物は、加熱により硬化する樹脂である。熱硬化性化合物は、特に限定されない。熱硬化性化合物として、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの熱硬化性化合物の一つ又は二以上を含んでもよい。
＜光重合開始剤＞
　光重合開始剤は、特に限定されない。光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α－アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの光重合開始剤の一つ又は二以上を含んでもよい。
　光重合開始剤は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等でもよい。硬化性樹脂組成物は、これらの光重合開始剤の一つ又は二以上を、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化性化合物とともに含んでもよい。
　光重合開始剤は、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等でもよい。硬化性樹脂組成物は、これらの光重合開始剤の一つ又は二以上を、カチオン重合性官能基を有する電離放射線硬化性化合物とともに含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物は、光増感剤を含んでもよい。光増感剤として、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ－ｎ－ブチルホスフィン等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの光増感剤の一つ又は二以上を含んでもよい。
　光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化性化合物１００質量部に対して、１質量部以上でもよく、２質量部以上でもよい。光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化性化合物１００質量部に対して、１０質量部以下でもよく、８質量部以下でもよい。この含有量によれば、機能層２０の硬度を向上できる。
＜紫外線吸収剤＞
　紫外線吸収剤は、機能層２０内において、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２、及び第３方向Ｄ３に分散してもよい。紫外線吸収剤は、液状の硬化性樹脂組成物に含まれてもよい。硬化性樹脂組成物に含まれた紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥処理及び硬化処理を経て、機能層２０内に分散してもよい。
　紫外線吸収剤は、機能層２０及び光学シート１０に、ブルーライトカット機能を付与する。紫外線吸収剤の種類や含有量により、ブルーライトカット機能の特性を調節できる。したがって、紫外線吸収剤に起因したブルーライトカット機能により、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上としつつ、波長４１０ｎｍにおける分光透過率を１５％以下にできる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定した黄色度ＹＩ値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量は、特に限定されない。所望のブルーライトカット機能や所望のａ＊値やｂ＊値が得られるよう、紫外線吸収剤の種類や含有量は選択され得る。
　紫外線吸収剤として、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が例示される。トリアジン系の紫外線吸収剤として、ＢＡＳＦ社より入手可能な「ＴＩＮＵＶＩＮ４６０」及び「ＴＩＮＵＶＩＮ４７７」が例示される。トリアジン系の紫外線吸収剤として、株式会社ＡＤＥＫＡより入手可能な「ＬＡ－４６」が例示される。ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤として、ＢＡＳＦ社より入手可能な「ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ」が例示される。ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、ケミプロ化成株式会社より入手可能な「ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ」及び「ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９」が例示される。ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、城北化学工業株式会社より入手可能な「ＪＦ－８０」及び「ＪＡＳＴ－５００」が例示される。ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社より入手可能な「ＵＬＳ－１９３３Ｄ」及び大塚化学株式会社より入手可能な「ＲＵＶＡ－９３」が例示される。
　硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されてもよい。硬化性樹脂組成物は、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーを、紫外線吸収剤として含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）と、を任意の比率で熱共重合してなる紫外線吸収剤を含んでもよい。
　紫外線吸収剤の含有量は、特に限定されない。紫外線吸収剤の含有量は、硬化性樹脂組成物の固形分１００質量部に対し、１質量部以上でもよく、２質量部以上でもよい。紫外線吸収剤の含有量は、硬化性樹脂組成物の固形分１００質量部に対し、３５質量部以下でもよく、１２質量部以下でもよい。
　より具体的な例として、硬化性樹脂組成物は、次の一般式（１）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含んでもよい。
　式（１）内のＲ１は、水素原子又はメチル基を表す。式（１）内のＲ２は、炭素数１～６の直鎖状又は枝分かれ鎖状のアルキレン基、又は炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表す。
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の詳細な構造は、特に制限されない。セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の具体的な物質名として、以下が例示される。
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート、
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルアクリレート、
・３－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］プロピルメタクリレート、
・３－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］プロピルアクリレート、
・４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルメタクリレート、
・４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルアクリレート、
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］エチルメタクリレート、
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］エチルアクリレート、
・２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、
・２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、
・４－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、
・４－［３－{ ２ －（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、
・２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、
・２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、
・２－（メタクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５カルボキシレート、
・２－（アクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、
・４－（メタクリロイルオキシ）ブチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、
・４－（アクリロイルオキシ）ブチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート
機能層２０は、紫外線吸収剤として、これらの物質の一つ又は二以上を含んでもよい。
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、５質量％以上２０質量％以下の含有量で、機能層２０に含まれてもよい。このような含有量によれば、分光透過率を好ましい範囲に調節し易い。
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、機能層２０を構成する樹脂成分と反応して樹脂成分の一部として含まれてもよい。セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、機能層２０を構成する樹脂成分と反応することなく、単独で含まれてもよい。
＜添加物＞
　硬化性樹脂組成物は、易滑剤として粒子を含んでもよい。易滑剤としての粒子は、無機粒子でもよく、金属酸化物粒子でもよい。易滑剤としての粒子は、シリカでもよい。易滑剤としての粒子は、反応基を持たないシリカでもよい。反応基を持たないシリカの平均一次粒子径は、１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下でもよく、１００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下でもよい。易滑剤としての粒子の平均一次粒子径を１００ｎｍ以上とすることにより、優れたブロッキング防止機能を発揮し得る。易滑剤としての粒子の平均一次粒子径を６００ｎｍ以上とすることにより、透過ヘイズを低減できる。
　機能層２０に含まれる粒子の粒子径は、以下の（１）～（３）により特定された値とする。
（１）粒子を含む光学シートの断面を、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）で観察し、観察画像を取得する。観察画像は、上述の厚み測定サンプルと同様のサンプルを作製して、このサンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって、得られる。
（２）観察画像から任意の３０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を測定する。３０個の粒子の測定値のから、大きい方から１０個の粒子の測定値と小さい方から１０個の粒子の測定値を省くことにより、１０個の粒子の粒子径測定値を選択する。粒子径（ｎｍ）は、粒子を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離とする。すなわち、粒子径は、観察画像における当該粒子の最大長である。
（３）測定対象となる同一の光学シートについて上記（１）及び（２）の作業を５回行う。合計５０個分の粒子の粒子径測定値の算術平均値を、当該粒子の平均粒子径（ｎｍ）とする。
　硬化性樹脂組成物は、添加剤として、Ｓｉ系レベリング剤を含んでもよい。機能層用塗布液がＳｉ系レベリング剤を含むことにより、機能層２０の表面をより平滑にできる。Ｓｉ系レベリング剤によれば、機能層２０の表面に、優れた滑り性及び優れた防汚性を付与できる。
　硬化性樹脂組成物は、その他の添加剤を含んでもよい。添加剤として、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの添加剤の一つ又は二以上を含んでもよい。
＜溶剤＞
　硬化性樹脂組成物は溶剤を含んでもよい。溶剤は、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができる。溶媒の種類として、ケトン類、エーテル類、脂肪族炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭素類、エステル類、水、アルコール類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類、スルホキシド類、アミド類が例示される。ケトン類の溶媒として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が例示される。エーテル類の溶媒として、ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が例示される。脂肪族炭化水素類の溶媒として、ヘキサン等が例示される。脂環式炭化水素類の溶媒として、シクロヘキサン等が例示される。芳香族炭化水素類の溶媒として、トルエン、キシレン等が例示される。ハロゲン化炭素類の溶媒として、ジクロロメタン、ジクロロエタン等が例示される。エステル類の溶媒として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等が例示される。アルコール類の溶媒として、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等が例示される。セロソルブ類の溶媒として、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等が例示される。スルホキシド類の溶媒として、ジメチルスルホキシド等が例示される。アミド類の溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が例示される。硬化性樹脂組成物は、例示した溶媒の一つ又は二以上を含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物における原料の含有割合、すなわち固形分の割合は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、５質量％以上でもよく、２５質量％以上でもよい。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、７０質量％以下でもよく、６０質量％以下でもよい。
＜機能層２０の作製方法＞
　機能層２０は、紫外線吸収剤を含む液状の硬化性樹脂組成物を用いて作製される。調整した硬化性樹脂組成物を、機能層２０の作製対象面に塗布し、硬化性樹脂組成物の塗膜を形成する。硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥し、乾燥した塗膜を硬化させることにより、機能層２０が得られる。
　硬化性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を用いて、調整されてもよい。
　硬化性樹脂組成物の塗布方法は、特に限定されない。スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法にて、硬化性樹脂組成物を塗布してもよい。
　硬化性樹脂組成物の硬化処理は、電離放射線の照射でもよい。電離放射線は、紫外線でもよく、電子線でもよい。紫外線源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等が例示される。紫外線の波長としては、１９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の波長域でもよい。硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤の中心吸収波長であること、又は中心吸収波長に近いことが好ましい。硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の中心吸収波長から離れていることが好ましい。このような例によれば、紫外線照射による硬化処理によって、機能層２０を十分に硬化させることができる。
＜＜中間層３０＞＞
　中間層３０は、機能層２０及び基材層４０に隣接する層である。中間層３０は、樹脂層でもよい。中間層３０は、基材層４０に対する密着性の高い層でもよい。中間層３０は、機能層２０に対する密着性の高い層でもよい。中間層３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＢは、基材層４０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＣより小さくてもよい。中間層３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＢは、機能層２０の断面における第１位置２６で測定されたインデンテーション硬さＨＡ１より小さくてもよい。中間層３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＢは、機能層２０の断面における第２位置２７で測定されたインデンテーション硬さＨＡ２より小さくてもよい。中間層３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＢは、機能層２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＡより小さくてもよい。インデンテーション硬さＨＡは、第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１、第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３の算術平均である。実施例でも実証されているように、これらのような中間層３０の存在により、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。
　機能層２０及び中間層３０の間における硬度及び密着性に関する上述の関係を満たすため、中間層３０の材料を次のように選択してもよい。中間層３０は、熱可塑性樹脂を含んでもよい。中間層３０は、機能層２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。中間層３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。中間層３０は、モノマーを含んでもよい。中間層３０は、機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれる少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。
　中間層３０は、機能層２０の樹脂成分と基材層４０の樹脂成分との混合層でもよい。機能層２０の樹脂成分と基材層４０の樹脂成分との混合層として中間層３０を形成することにより、光学シート１０の第１面１１での硬度を向上でき、光学シート１０の第１面１１での耐擦傷性を向上できる。
　混合層としての中間層３０は、機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物を基材フィルム４５に浸透させた浸透層でもよい。基材層４０及び中間層３０は、共に、機能層２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム４５によって構成されてもよい。基材フィルム４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（浸透層）によって、中間層３０が構成されてもよい。基材フィルム４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層４０を構成されてもよい。
　硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤が、基材フィルム４５に浸透し易いことにより、浸透層としての中間層３０を安定して形成できる。吸水性（吸液性）が高い基材フィルム４５を用いることにより、溶剤が基材フィルム４５に浸透し易くなる。セルロース系樹脂、特に、トリアセチルセルロース（Triacetylcellulose: TAC）に、溶剤が浸透しやすい。また、アクリル系樹脂にも溶剤が浸透しやすい。したがって、基材層４０及び基材フィルム４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。この場合、機能層２０の樹脂成分と基材層４０の樹脂成分との混合層である中間層３０を安定して作製できる。作製された中間層３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む。
　硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂化合物及び溶剤と、基材フィルム４５と、の関係によって、浸透層の形成し易さが変化する。また、硬化性樹脂組成物の粘度、硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化条件によっても、浸透層の形成し易さが変化する。したがって、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透層としての中間層３０の厚みＴ３０を調節できる。
　中間層は、機能層に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。
＜＜光学シートの製造＞＞
　光学シート１０の製造方法は、次の四つの工程を含んでもよい。
・紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム４５上に塗布する工程
・第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して基材フィルム４５上に第１部分２０Ａを作製する工程
・第２硬化性樹脂組成物を第１部分２０Ａ上に塗布する工程
・第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して第１部分２０Ａに接合した第２部分２０Ｂを作製する工程
　製造方法は、第１硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化工程の前に、第１硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。製造方法は、第２硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化工程の前に、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。
　この製造方法において、第１部分２０Ａ及び第２部分２０Ｂによって、機能層２０が構成され得る。上述したように、基材フィルム４５に硬化性樹脂組成物が浸透することによって、基材フィルム４５の一部分としての中間層３０を形成できる。基材フィルム４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層４０が構成され得る。
　図１に二点鎖線で示すように、第２部分２０Ｂは、機能層２０の表層部分を構成する。機能層２０の表層部分は、第１面１１の近くに位置する又は第１面１１を構成する。第１部分２０Ａは、機能層２０の基材フィルム４５に接合する部分を構成する。第１部分２０Ａは、第１面１１から離れている。第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物が互いに異なる組成を有することによって、機能層２０内の第１部分２０Ａ及び第２部分２０Ｂの間で特性を変更できる。
　第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物は、上述した硬化性樹脂組成物と同様でもよい。ただし、第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含んでいなくてもよい。第２硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物の含有量よりも少ない含有量で紫外線吸収剤を含んでもよい。第２硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物の含有割合よりも小さい含有割合で紫外線吸収剤を含んでもよい。
　この例において、第１硬化性樹脂組成物は、より多くの紫外線吸収剤を含む。したがって、第１部分２０Ａの硬度は低下する。第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含まない又は紫外線吸収剤を少量だけ含む。第１側面２１（第１面１１）から塗膜を露光することにより、第２硬化性樹脂組成物の塗膜は、十分な強度でかつ十分な量の電離放射線、例えば紫外線を照射され得る。したがって、第２部分２０Ｂでの架橋反応が促進され、第２部分２０Ｂの硬度は硬くなる。これにより、紫外線吸収剤に起因した紫外線カット機能及びブルーライトカット機能を機能層２０に付与しながら、機能層２０の第１側面２１での硬度を向上できる。
　第１硬化性樹脂組成物を塗布される第１部分２０Ａは、紫外線吸収剤を含むことによって架橋反応が停滞し、低硬度になり得る。したがって、第２硬化性樹脂組成物は、第１部分２０Ａ内に浸透し得る。第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物が混合されて、第１部分２０Ａ及び第２部分２０Ｂの界面が目立たなくなる。これにより、第１部分２０Ａ及び第２部分２０Ｂの密着性が顕著に向上する。そして、上述の条件（Ａ）で規定されたインデンテーション硬さの分布を機能層２０に付与できる。
　この製造方法で作製された光学シート１０を、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用い、加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて観察したところ、第１部分２０Ａ及び第２部分２０Ｂの界面は存在しなかった。すなわち、第１面１１での硬度低下の原因となり得る界面が存在しない。
　また、第１硬化性樹脂組成物の塗布量を第２硬化性樹脂組成物の塗布量に対して調節することにより、条件（Ｂ）で規定されたインデンテーション硬さの勾配特性を機能層２０に付与できる。具体的には、第２硬化性樹脂組成物の塗布量を第１硬化性樹脂組成物の塗布量よりも多くしてもよい。
　得られた機能層２０では、紫外線吸収剤は、主として第１部分２０Ａに分散している。第１部分２０Ａは、高硬度の第２部分２０Ｂによって覆われている。したがって、紫外線吸収剤が第２部分２０Ｂを通過してブリードアウトすることを効果的に抑制できる。
　以上の製造方法において、第２硬化性樹脂組成物は、第１部分２０Ａだけでなく、基材層４０まで浸透し得る。第１及び第２硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム４５の材料、第１及び第２硬化性樹脂組成物の調整条件、第１及び第２硬化性樹脂組成物の乾燥条件、第１及び第２硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、第１及び第２硬化性樹脂組成物の基材フィルム４５への浸透量を調節できる。したがって、浸透層としての中間層３０の厚みＴ３０を高い自由度で調節できる。
　以上の製造方法によれば、分光透過特性も高い自由度にて調節できる。第１及び第２硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の種類および合計含有量以外の事項によっても、分光透過特性を調節できる。
　硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の中心吸収波長から離れていることが好ましい。このため、従来の多くの場合、硬化性樹脂組成物、特に紫外線硬化性樹脂組成物は、一種類の紫外線吸収剤のみを含む。
　以上の製造方法では、紫外線吸収剤の種類および紫外線吸収剤の合計含有量以外の事項によっても、分光透過特性を調節できた。例えば、第１硬化性樹脂組成物内への紫外線吸収剤の含有量と第２硬化性樹脂組成物内への紫外線吸収剤の含有量との比によっても、分光透過特性を調節できる。第１硬化性樹脂組成物内における紫外線吸収剤の含有割合と第２硬化性樹脂組成物内における硬化性樹脂組成物の含有割合との比によっても、分光透過特性を調節できる。第１部分２０Ａの厚み、第２部分２０Ｂの厚み、及び第１部分２０Ａの厚みと第２部分２０Ｂの厚みとの比の一以上によっても、分光透過特性を調節できる。
　また、第１面１１を形成する面から第２硬化性樹脂組成物の塗膜を露光することにより、第１部分２０Ａに含まれる紫外線吸収剤の影響を回避して、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化できる。すなわち、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化する際、第１硬化性樹脂組成物に含有される紫外線吸収剤の影響を抑制できる。したがって、第１硬化性樹脂組成物、及び機能層２０の第１部分２０Ａに含有される紫外線吸収剤の種類、含有量、含有割合を高い自由度で選択できる。これにより、所望の分光透過特性を機能層２０及び光学シート１０に付与できる。
　さらに、機能層２０の厚み方向における一部分、例えば第１部分２０Ａに、紫外線吸収剤を偏在させることができる。したがって、紫外線吸収剤を有効に活用して、効率的に紫外線及びブルーライトを捕捉できる。この点からも、所望の分光透過特性を機能層２０及び光学シート１０に付与できる。また、所望の分光透過特性を光学シート１０に付与しながら、第１面１１での硬度及び耐擦傷性を向上できる。
　以上の結果として、より高い自由度にて、光学シート１０の分光透過特性を調節できる。特徴（Ｘ）、（Ｙ）、及び（Ｚ）の組合せを満たす分光透過率特性を実現できる。
（Ｘ）波長３８０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は１％以下である。
（Ｙ）波長４４０ｎｍにおける光学シート１０の分光透過率は７０％以上である。
（Ｚ）波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する。
＜シート物品及び巻体＞
　上述した光学シート１０の製造方法によれば、図３に示すように、多数の光学シート１０を含む長尺のシート物品５を製造できる。長尺のシート物品５を所定の大きさに断裁することによって、光学シート１０が得られる。この例によれば、種々の寸法を有した光学シート１０を、ニーズに合わせて、長尺のシート物品５から得ることができる。したがって、種々の寸法を有した光学シート１０を適時に提供できる。図３に示すように、巻取軸線ＲＡを中心として巻取コア６に巻き取った巻物７としてシート物品５を取り扱うことにより、シート物品５の取り扱い性を改善できる。
＜選定方法および選定工程＞
　光学シートの製造方法は、上述した光学シートを製造するステップに加え、製造された光学シート１０を選定するステップを更に含んでもよい。光学シート１０を選定するステップは、分光透過率を測定するステップと、インデンテーション硬さを測定するステップと、測定結果に基づいて光学シートを選定するステップと、含んでもよい。
　分光透過率を測定するステップでは、波長３８０ｎｍにおける分光透過率及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定してもよい。
　インデンテーション硬さを測定するステップでは、機能層２０の断面におけるインデンテーション硬さが測定されてもよい。より具体的には、第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１、機能層２０の断面における第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び機能層２０の断面における第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３が測定されてもよい。第１位置２６は、断面における第１面に近い表層部に位置する。第３位置２８は、断面における第２面に近い表層部に位置する。第２位置２７は、第１位置２６及び第３位置２８の中央に位置する。
　測定結果に基づいて光学シートを選定するステップでは、測定された分光透過率及び測定されたインデンテーション硬さに基づいて光学シートを選定してもよい。波長３８０ｎｍにおける分光透過率は１％以下を合格としてもよい。波長４４０ｎｍにおける分光透過率は７０％以上を合格としてもよい。機能層２０の断面における第１位置２６でのインデンテーション硬さＨＡ１、機能層２０の断面における第２位置２７でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び機能層２０の断面における第３位置２８でのインデンテーション硬さＨＡ３に関する次の特徴（Ｘ）及び特徴（Ｙ）を有することを、合格の条件としてもよい。
（Ｘ）　ＨＡ３　＜　ＨＡ２　＜　ＨＡ１
（Ｙ）ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
　良品として選定された光学シート１０は、優れた紫外線カット機能及び優れたブルーライトカット機能を有し、且つ第１面１１において高い硬度を有する。この選定ステップによれば、フェルトやスチールウールを用いた擦傷試験を実施することなく、優れた耐擦傷性を有する光学シートを高精度に選定できる。
＜＜＜偏光板５０＞＞＞
　図４に示すように、第１実施形態による光学シート１０は偏光板５０に適用されてもよい。後述する第２実施形態による光学シート１１０及び第３実施形態による光学シート２１０も同様に偏光板５０に適用されてもよい。
　偏光板５０は、第１保護シート５１、偏光子５２、及び第２保護シート５３を含んでいる。第１保護シート５１及び第２保護シート５３が、偏光子５２を間に挟み、両側から覆っている。第１保護シート５１及び第２保護シート５３の少なくとも一方が、光学シート１０，１１０，２１０を含んでもよい。図４に示された例において、第１保護シート５１が光学シート１０，１１０，２１０を含む。光学シート１０，１１０，２１０は、偏光板５０に入射する光に含まれる波長３８０ｎｍ以下の光を高効率で遮光してもよい。これにより、ブルーライトに起因した偏光子５２の劣化を抑制できる。
　偏光子５２は、一方の直線偏光成分を透過し、他方の直線偏光成分を遮光する。偏光子５２は、他方の直線偏光成分を吸収する吸収型偏光子でもよい。偏光子５２は、他方の直線偏光成分を反射する反射型偏光子でもよい。偏光子５２は、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子でもよい。偏光子５２は、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子でもよい。偏光子５２は、リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子でもよい。偏光子５２は、多層薄膜型偏光子でもよい。
　偏光板５０は、図４に示された構成に限られない。偏光板５０は、光学シート１０，１１０，２１０及び偏光子５２とともに、１／４位相差板を含んでもよい。この偏光板５０は、円偏光板として機能する。円偏光板としての偏光板５０は、反射を抑制する機能を有する。
＜＜＜タッチパネル部材５５＞＞＞
　図５に示すように、第１実施形態による光学シート１０は、タッチパネル部材５５に適用されてもよい。後述する第２実施形態による光学シート１１０及び第３実施形態による光学シート２１０も同様にタッチパネル部材５５に適用されてもよい。
　タッチパネル部材５５は、光学シート１０，１１０，２１０及び電極層５６を有する。タッチパネル部材５５は、タッチパネルを構成する部材である。タッチパネル部材５５は、指やペン等の検出対象物の接近や接触を、電気的な状態変化として出力する。タッチパネル部材５５と電気的に接続された制御器は、タッチパネル部材５５からの出力に基づき、検出対象物の位置を特定できる。光学シート１０，１１０，２１０の第１面は、高硬度を有し、耐擦傷性に優れる。したがって、検出対象物が第１面に擦りつけられた際、第１面への傷付き抑制できる。
　電極層５６は、接触位置を検出するための導電体を含む。導電体の構成は、タッチパネルが接触を検出する方式に応じて、適宜選択される。抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、電極層５６は、領域分割されていない面状に広がる導電体を含んでもよい。容量結合方式のタッチパネルにおいて、電極層５６は、複数の導電体を含んでもよい。複数の導電体は、一方向に配列される、各導電体は、一方向と直交する方向に延びてもよい。
　電極層５６に含まれる導電体は、透明な導電性材料によって形成された膜でもよい。透明導電性材料として、酸化インジウム錫（Indium Tin Oxide: ITO）等の金属酸化物が例示される。電極層５６に含まれる導電体は、メッシュ状に配置された金属線を含んでもよい。
＜＜＜表示装置６０＞＞＞
　第１実施形態による光学シート１０は表示装置６０に適用されてもよい。後述する第２実施形態による光学シート１１０及び第３実施形態による光学シート２１０も同様に表示装置６０に適用されてもよい。
　図６に示された例において、表示装置６０は、表示素子６１及び光学シート１０，１１０，２１０を含む。表示素子６１は、画像を表示する表示面６１ａを有する。光学シート１０，１１０，２１０は、その第２面が表示面６１ａに対面するようにして、表示素子６１に重ねられている。光学シート１０，１１０，２１０は、接着材や粘着材等を含む接合層を介して、表示素子６１に接合されてもよい。図６に示された例とは異なり、光学シート１０，１１０，２１０は、偏光板５０又はタッチパネル部材５５の一部として、表示装置６０に組み込まれてもよい。
　表示素子６１から射出した画像光は、光学シート１０，１１０，２１０を透過する。光学シート１０，１１０，２１０は、画像光に含まれる波長３８０ｎｍ以下の光を高効率で遮光してもよい。このため、眼精疲労等の観察者の負担を軽減できる。光学シート１０，１１０，２１０は、表示装置６０に入射する外光から、波長４１０ｎｍ以下となる光を遮光する。したがって、外光に含まれるブルーライトによって、偏光板５０の偏光子５２や、有機ＥＬパネルのＥＬ素子が劣化することを抑制できる。
　光学シート１０，１１０，２１０の第１面は十分に高い硬度を有する。したがって、光学シート１０，１１０，２１０によって、表示装置６０の表示面６１ａを保護できる。また、第１面への傷付きを抑制できるので、表示装置６０は、高画質の画像を表示できる。
　表示素子６１は特に限定されない。表示素子６１として、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子等が例示される。
＜＜＜＜第１実施形態の実施例＞＞＞＞
　本開示を実施例により更に詳細に説明する。本開示は以下の実施例によって限定されない。
＜＜＜１．光学シートの作製＞＞＞
　実施例１１～１８及び比較例１１～１５に係る光学シートを作製した。
＜＜実施例１１＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、第１硬化性樹脂組成物１Ａを塗布し、基材フィルム上に第１塗膜を形成した。第１硬化性樹脂組成物１Ａの作製方法については後述する。次に、５０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。その後、５０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量６６ｍＪ／ｃｍ２で、第１塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射によって第１塗膜を硬化させ、機能層の第１部分を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．４μｍの第１部分が作製される量とした。
　次に、第１部分上に、下記処方の第２硬化性樹脂組成物１Ａを塗布し、基材フィルム上に第２塗膜を形成した。第２硬化性樹脂組成物１Ａの固形分は、４５％であった。第２硬化性樹脂組成物１Ａは、紫外線吸収剤を含んでいなかった。次に、６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。その後、７０℃×２０秒（乾燥風速０．３ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量２８８ｍＪ／ｃｍ２で、第２塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射により第２塗膜を硬化させ、機能層の第２部分を基材フィルム及び第１部分上に作製した。第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材層や第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　以上により、実施例１１に係る光学シートが得られた。この光学シートにおいて、第１部分及び第２部分によって機能層が構成されていた。
　後述の厚み測定時に、実施例１１に係る光学シートの断面を観察した。断面の観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。また、機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜第１硬化性樹脂組成物１Ａ＞
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を合成し、次に、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーを合成することによって、第１硬化性樹脂組成物１Ａを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の合成）
　２００ｍＬの４つ口フラスコに、玉付きコンデンサー、水銀温度計、及び撹拌装置を取り付けた。６－［５－（２－ヒドロキシエチル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］ベンゾ［１，３］ジオキソール－５－オール４．０ｇ（０．０１３モル）、トルエン４０ｍＬ、メタクリル酸１．８ｇ（０．０２１モル）、メタンスルホン酸０．４ｇ（０．００４モル）を４つ口フラスコに入れた。４つ口フラスコ内の内容物を、１１０～１１５℃で４時間還流脱水した。次いで、水３０ｍＬ、炭酸ナトリウム０．６ｇ（０．００６モル）を４つ口フラスコ内に加えた。その後、４つ口フラスコを静置して、下層部の水層を分離して除去した。次に、４つ口フラスコ内に活性炭０．２ｇを加え、内容物を還流撹拌して脱色させた。その後、４つ口フラスコから取り出した内容物をろ過した。得られたろ液からトルエン４０ｍＬを減圧で回収した。トルエンが除去されたろ液に、イソプロピルアルコール１００ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。得られた結晶をイソプロピルアルコール４０ｍＬで洗浄した。その後、結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、黄色結晶を得た。得られた黄色結晶４．２ｇを、イソプロピルアルコールを用いて、リパルプ洗浄した。次に、洗浄済みの黄色結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体として、３．４ｇの２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーの合成）
　四つ口フラスコに、ジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌装置を取り付けた。四つ口フラスコ内に、下記を収容して攪拌した。「Ｘ」は、後述する値とした。
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート　Ｘ質量部
・（他の単量体）メチルメタクリレート　１００－Ｘ）質量部
・（溶媒）トルエン２０質量部、メチルエチルケトン　２０質量部
・（重合開始剤）１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）　０．６質量部
　次に、窒素ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換した後、反応液温度９０～９６℃で、１０時間、還流状態にて、フラスコ内の内容物を重合反応させた。重合反応終了後、フラスコ内に、トルエン１０質量部、ＭＥＫ１０質量部を追加した。以上により、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）溶液１６０．６質量部を得た。
　以下を混合して、中間組成物を調整した。
・多官能モノマー（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の質量比Ｘ＝４０質量部でＭＭＡ及び紫外線吸収剤に反応結合されたポリマー）
・溶剤（質量比３０：７０にてＭＥＫ及びトルエンを混合した溶剤）
多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）は、固形分質量比３０：７０で混ぜ合わせた。
　次いで、得られた中間組成物３６０質量部に対し、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア８１９を４質量部）と、レベリング剤（共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部）と、を混ぜ合わせ、よく攪拌することによって、第１硬化性樹脂組成物１Ａを調製した。得られた第１硬化性樹脂組成物１Ａは、固形分２５％を含んでいた。
＜第２硬化性樹脂組成物１Ａ＞
・紫外線硬化型アクリレート含有組成物　５０質量部（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・紫外線硬化型ウレタンアクリレート含有組成物　５０質量部（荒川化学工業社製、商品名「ビームセット５７７」）
・レベリング剤　０．４質量部（共栄社、商品名「ＬＥ－３０４」）
・光重合開始剤　４質量部（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・易滑剤　２０質量部（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・溶剤　（質量比５５：４８にてメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンを混合した溶剤）
＜＜実施例１２＞＞
　実施例１２は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を多くした点において、上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１２の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１２に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１３＞＞
　実施例１３は、第１硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物の塗布量を多くした点と、において上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１３の光学シートを得た。実施例１３において、固形分を３５％とした第１硬化性樹脂組成物を用いた。実施例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物１Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。実施例１３において、固形分を５０％とした第２硬化性樹脂組成物を用いた。実施例１３で用いた第２硬化性樹脂組成物は、第２硬化性樹脂組成物１Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。第２硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み６．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１３に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１４＞＞
　実施例１４は、第１硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点と、において上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１４の光学シートを得た。実施例１４において、固形分を２０％とした第１硬化性樹脂組成物を用いた。実施例１４で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物１Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。実施例１４において、固形分を４０％とした第２硬化性樹脂組成物を用いた。実施例１４で用いた第２硬化性樹脂組成物は、第２硬化性樹脂組成物１Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。
　後述の厚み測定時に、実施例１４に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１５＞＞
　実施例１５は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を少なくした点と第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を少なくした点とにおいて、上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１５の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み１．７μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１５に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１６＞＞
　実施例１６は、第１硬化性樹脂組成物の組成を変更した点と、第１硬化性樹脂組成物の塗布量を多くした点と、第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を多くした点と、において上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１６の光学シートを得た。実施例１１で用いた第１硬化性樹脂組成物１Ａは、固形分質量比３０：７０で混合された多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）を含んでいた。実施例１６で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）に代えて、質量比９５：５で混合された多官能モノマー及びインドール系紫外線吸収剤を混合することによって、得られた。実施例１６で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれた多官能モノマーは、第１硬化性樹脂組成物１Ａに含まれた多官能モノマーと同一とした。実施例１６で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれたインドール系紫外線吸収剤は、オリエント化学工業社製、商品名「BONASORB UA-3912」とした。実施例１６で用いた第１硬化性樹脂組成物の固形分割合は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの固形分割合と同一で、２５％であった。
　第１硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み７．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１６に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１７＞＞
　実施例１７は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を多くした点と第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量を少なくした点とにおいて、上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１５の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．１μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１７に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例１８＞＞
　実施例１８は、第１硬化性樹脂組成物１Ａのレベリング剤を省いた点と、第２硬化性樹脂組成物１Ａのレベリング剤を変更した点とにおいて、上述の実施例１１と異なり、その他において実施例１１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例１８の光学シートを得た。実施例１８において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」を省いた点において上述の第１硬化性樹脂組成物１Ａと異なり、その他において上述の第１硬化性樹脂組成物１Ａと同一とした。実施例１８において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．３質量部」を用いた点において上述の第２硬化性樹脂組成物１Ａと異なっていた。実施例１８において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第２硬化性樹脂組成物１Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、実施例１８に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例１１＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、実施例１１で用いた第１硬化性樹脂組成物を用いて、機能層を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．７μｍの第１部分が作製される量とした。以上により比較例１１に係る光学シートを得た。すなわち、比較例１１に係る光学シートにおいて、機能層は、第１硬化性樹脂組成物１Ａを用いて作製された第１部分のみによって構成されていた。
　比較例１１において第１硬化性樹脂組成物１Ａを用いて作製される層の厚みは、実施例１１において第１硬化性樹脂組成物１Ａを用いて作製される層の厚みと異なっていた。その他において、比較例１１における第１硬化性樹脂組成物１Ａを用いた機能層の作製方法及び作成条件は、実施例１１における第１硬化性樹脂組成物１Ａを用いた第１部分の作製方法及び作成条件と同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例１１に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。第１硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。
＜＜比較例１２＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、下記処方の第１硬化性樹脂組成物１Ｂを塗布し、基材フィルム上に第１塗膜を形成した。第１硬化性樹脂組成物１Ｂの固形分は、４５％であった。第１硬化性樹脂組成物１Ｂは、紫外線吸収剤を含んでいなかった。次に、５０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。その後、５０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量６６ｍＪ／ｃｍ２で、第１塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射によって第１塗膜を硬化させ、機能層の第１部分を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物１Ｂの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした。
＜第１硬化性樹脂組成物１Ｂ＞
・紫外線硬化型アクリレート含有組成物　５０質量部（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・紫外線硬化型ウレタンアクリレート含有組成物　５０質量部（荒川化学工業社製、商品名「ビームセット５７７」）
・レベリング剤　０．４質量部（共栄社、商品名「ＬＥ－３０４」）
・光重合開始剤　４質量部（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・溶剤　（質量比５５：４８にてメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンを混合した溶剤）
　次に、第１部分上に、第２硬化性樹脂組成物を塗布し、基材フィルム上に第２塗膜を形成した。比較例１２では、実施例１１で用いた第１硬化性樹脂組成物１Ａを、第２硬化性樹脂組成物として用いた。比較例１２で用いた第２硬化性樹脂組成物の固形分は、２５％であった。比較例１２で用いた第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含んでいた。次に、６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。その後、７０℃×２０秒（乾燥風速０．３ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量２８８ｍＪ／ｃｍ２で、第２塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射により第２塗膜を硬化させ、機能層の第２部分を基材フィルム及び第１部分上に作製した。第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材層や第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。
　以上により、比較例１２に係る光学シートが得られた。この光学シートにおいて、第１部分及び第２部分によって機能層が構成されていた。
　後述の厚み測定時に、比較例１２に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例１３＞＞
　比較例１３は、第１硬化性樹脂組成物の組成を変更した点と、第１硬化性樹脂組成物の塗布量を多くした点と、第１塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量を多くした点と、において上述の比較例１１と異なり、その他において比較例１１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例１３の光学シートを得た。比較例１１及び実施例１１で用いた第１硬化性樹脂組成物１Ａは、固形分質量比３０：７０で混合された多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）を含んでいた。比較例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物は、固形分質量比６０：４０で混合された多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）を含んでいた。比較例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれた多官能モノマーは、第１硬化性樹脂組成物１Ａに含まれた多官能モノマーと同一とした。比較例１２で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれたアクリルポリマー（１）は、第１硬化性樹脂組成物１Ａに含まれたアクリルポリマー（１）と同一とした。比較例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物の固形分割合は、第１硬化性樹脂組成物１Ａの固形分割合と同一で、２５％であった。
　第１硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み７．５μｍの第１部分のみからなる機能層が作製される量とした。第１塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量は、１３２ｍＪ／ｃｍ２とした。
　後述の厚み測定時に、比較例１３に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。第１硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。
＜＜比較例１４＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、下記処方の第１硬化性樹脂組成物１Ｃを塗布し、基材フィルム上に第１塗膜を形成した。第１硬化性樹脂組成物１Ｃの固形分は、４５％であった。第１硬化性樹脂組成物１Ｃは、紫外線吸収剤を含んでいなかった。次に、５０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。その後、５０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量１３２ｍＪ／ｃｍ２で、第１塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射によって第１塗膜を硬化させ、機能層の第１部分を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物１Ｃの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第１部分が作製される量とした。
＜第１硬化性樹脂組成物１Ｃ＞
・紫外線硬化型アクリレート含有組成物　５０質量部（日本化薬社製、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート））
・紫外線硬化型ウレタンアクリレート含有組成物　５０質量部（荒川化学工業社製、商品名「ビームセット５７７」）
・レベリング剤　０．４質量部（共栄社、商品名「ＬＥ－３０４」）
・光重合開始剤　４質量部（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・溶剤　（質量比５５：４８にてメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンを混合した溶剤）
　次に、第１部分上に、第２硬化性樹脂組成物を塗布し、基材フィルム上に第２塗膜を形成した。比較例１４では、実施例１１で用いた第１硬化性樹脂組成物１Ａを、第２硬化性樹脂組成物として用いた。比較例１４で用いた第２硬化性樹脂組成物の固形分は、２５％であった。比較例１４で用いた第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含んでいた。次に、６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。その後、７０℃×２０秒（乾燥風速０．３ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量２８８ｍＪ／ｃｍ２で、第２塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射により第２塗膜を硬化させ、機能層の第２部分を基材フィルム及び第１部分上に作製した。第２硬化性樹脂組成物１Ａの塗布量は、基材層や第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。
　以上により、比較例１４に係る光学シートが得られた。この光学シートにおいて、第１部分及び第２部分によって機能層が構成されていた。
　後述の厚み測定時に、比較例１４に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、中間層を構成する浸透層が形成されていた。機能層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例１５＞＞
　比較例１５は、第１硬化性樹脂組成物のレベリング剤を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物のレベリング剤を変更した点とにおいて、上述の比較例１３と異なり、その他において比較例１３と同様の材料及び同様の方法によって、比較例１５の光学シートを得た。
　比較例１５において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－５６８、０．２質量部」を用いた点において、比較例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物と異なっていた。比較例１５において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、比較例１３で用いた第１硬化性樹脂組成物と同一とした。
　比較例１５において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．４質量部」を用いた点において比較例１３で用いた第２硬化性樹脂組成物１Ａと異なっていた。比較例１５において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、比較例１３で用いた第２硬化性樹脂組成物１Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例１５に係る光学シートの断面を、実施例１１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜＜２．測定および評価＞＞＞
　次に説明するように、実施例及び比較例に係る光学シートの測定及び評価を行った。各測定及び評価を行う際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とした。各測定及び評価の開始前に、対象となるサンプルを上述の試験環境に１６時間配置した。
＜＜２－１．厚み＞＞
　次の第１ステップ及び第２ステップにより、厚み測定サンプルを作製した。
（第１ステップ）
　実施例及び比較例に係る光学シートから、カットサンプルを切り出した。カットサンプルの大きさは、縦１０ｍｍ×横３ｍｍ程度の短冊状とした。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。各例に係る光学シートについて、機能層の厚みＴ２０（μｍ）及び中間層の厚みＴ３０（μｍ）を上述した方法にて測定した。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製した。
　包埋サンプルは、次の手順で作製した。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込んだ。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させた。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルを得た。包埋サンプルの形状はブロック状とした。
　シリコン包埋板は、堂阪イーエム社製の包埋板を用いた。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とした。包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋用の樹脂は、常温で１２時間放置することにより、硬化させた。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルをダイヤモンドナイフで切断して、切片サンプルを作製した。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿うようにした。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとした。
　包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。ブロック状の包埋サンプルを切断する際、まず、粗トリミングとして大まかに切断し、最終的に、ダイヤモンドナイフで精密にトリミングして、切片サンプルを得た。
　上述したように走査型透過電子顕微鏡による厚み測定サンプルの観察画像を用いて、各層の厚みを測定した。厚み測定サンプルの観察前に、厚み測定サンプルを染色した。染色には、四酸化オスミウムを用いた。走査型透過電子顕微鏡を用いて染色された厚み測定サンプルを撮像し、厚み測定サンプルの観察画像を取得した。走査型透過電子顕微鏡として、株式会社日立ハイテク社製のＳ４８００を用いた。撮像条件は次のとおりとした。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　各例の一つの厚み測定サンプルから１０箇所の観察画像を取得した。１０箇所の観察画像は、対象となる光学シートの第１方向に直交する方向に１０μｍピッチで離れた１０箇所の観察位置（測定位置）において取得した。厚み測定サンプルの各観察画像から、各例に係る光学シートについての機能層の厚みＴ２０（μｍ）及び中間層の厚みＴ３０（μｍ）を測定した。１０箇所の観察画像から測定された１０の厚み測定値の算術平均値を、対象となる層の厚みとした。機能層の厚みＴ２０（（μｍ）の測定結果及び中間層の厚みＴ３０（μｍ）の測定結果を、表１に示す。
＜＜２－２．分光透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの分光透過率（％）を測定した。波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について、分光透過率（％）を測定した。分光透過率（％）の測定には、本分光株式会社製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。分光透過率の測定値を用いて、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きを算出した。波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値とした。
　３８０．０ｎｍにおける分光透過率及び４４０．０ｎｍにおける分光透過率の測定結果を表１及び表２に示す。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長を表１及び表２に示す。
　実施例１１～１８及び比較例１１～１５に係る光学シートを、市販されている有機ＥＬ表示装置の表示面上に配置して、光学シート越しに、有機ＥＬ表示装置によって表示された画像を観察した。実施例１１～１８及び比較例１１～１５について、光学シートを設置した場合の画像と、光学シートを設置しない場合の画像と、の間で色味の変化は目立っておらず、合格品と言える範囲であった。実施例１１～１６、実施例１８及び比較例１１～１５については、光学シートを設置した場合の画像と、光学シートを設置しない場合の画像と、の間で色味の変化を知覚できなかった。
＜＜２－３．鉛筆硬度＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについて鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度の測定には、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆硬度試験機を用いた。上述した評価基準にて評価された鉛筆硬度を表１に示す。
＜＜２－４．スチールウール耐性試験での耐荷重＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、３０ｍｍ×２５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについてスチールウール耐擦傷性試験を実施し、耐荷重を測定した。すべり片をサンプルに押し付ける荷重は、５０ｇ、１００ｇ、１５０ｇ、２００ｇ、２５０ｇ、及び３００ｇまで変更した。スチールウール耐性試験には、ＳＡＭ　ＪＥＥ　ＴＥＣＨ社製の対ＳＷ試験機「ＳＪＴＲ－０５３」を用いた。上述した評価基準にて評価されたスチールウール耐性試験での耐荷重を表１に示す。
＜＜２－５．変形＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、一辺１０ｃｍの正方形形状のサンプルを切り出した。作製された光学シートの長手方向（言い換えると機械方向）に対して、正方形の各辺が４５°傾斜するようにして、光学シートから正方形形状のサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。
　光学シートの第２面が定盤に接触するようにして、サンプルを定盤上に配置した。サンプルの四隅における定盤からの高さを浮き（ｍｍ）として測定した。一つのサンプルについて測定された浮きの四つの測定値のうちの最大値を当該サンプルの浮きとした。各例の光学シートについて、三つのサンプルのそれぞれについて浮きを測定した。三つの浮き測定値の算術平均値を、当該例についての変形量とした。変形量の測定結果を表１に示す。
　比較例１２については、定盤上に置いたサンプルが筒状にカールし、変形量を測定できなかった。
＜＜２－６．色味ａ＊値及びｂ＊値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートのａ＊値及びｂ＊値を測定した。ａ＊値及びｂ＊値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。ａ＊値及びｂ＊値の測定結果を表２に示す。
＜＜２－７．Ｘ線光電子分光分析法＞＞
　実施例１、実施例５、実施例８、及び比較例５に係る光学シートから、５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、Ｘ線光電子分光分析法により第１面での元素比率を定量評価した。Ｘ線光電子分光分析法での測定には、Ｋｒａｔｏｓ製のＡＸＩＳ－ＮＯＶＡを使用した。次の測定条件が選択された。
（測定条件）
測定手法：Ｗｉｄｅ・Ｎａｒｒｏｗ
Ｘ線源：モノクロＡ１Ｋα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
帯電中和機構：ＯＮ
測定領域：３００μｍ×７００μｍ
Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：Ｓｕｒｖｅｙ：１６０ｅＶ、Ｎａｒｒｏｗ：４０ｅＶ
光電子取込角度：９０°
オートＺ：ＯＮ
ピークシフト補正：Ｃ１ｓピークにおいて、Ｃ－Ｃのピークが２８５．０ｅＶとなるように補正
ナローピークの波形分離：装置附属の解析ソフトにてＧＬ関数を用いて実施
エッチングイオン：Ａｒ単原子イオン
　検出された全ての元素量を１００として各元素の検出された量の割合（％）を、表２に示す。
　実施例１１では、炭素元素に対するケイ素元素の比が０．０２（２％）以上となった。実施例１１について、機能層の断面を観察した。断面観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、易滑剤として添加したシリカが、凝集して偏在することなく、分散していた。
＜＜２－８．各層の断面でのインデンテーション硬さ＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、１ｍｍ×２０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各層の断面が露出した埋包サンプルを作製した。
　包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。
　各例に係る光学シートの切片サンプルについて、上述した方法にて断面でのインデンテーション硬さ（ＭＰａ）を測定した。インデンテーション硬さ（ＭＰａ）の測定には、ＢＲＵＫＥＲ社製の測定装置「ＴＩ－９５０　ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いた。インデンテーション硬さ（ＭＰａ）の測定に用いた圧子は、ＢＲＵＫＥＲ社製の「ＴＩ－００３９」とした。
　以下のインデンテーション硬さ（ＭＰａ）についての測定結果を、表１に示す。各層の断面でのインデンテーション硬さは、１０箇所の測定位置で測定したインデンテーション硬さの算術平均値とした。１０箇所の測定位置は、光学シートの第１方向に直交する方向に５μｍピッチで離れた、一つの切片サンプルの１０箇所の位置とした。
・機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１
・機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２
・機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３
・中間層の断面における中央位置でのインデンテーション硬さＨＢ
・基材層の断面における中央位置でのインデンテーション硬さＨＣ
＜＜２－９．全光線透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの全光線透過率を測定した。全光線透過率の測定には、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ－１５０」を用いた。全光線透過率の測定結果を表２に示す。
＜＜２－１０．黄色度：ＹＩ値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの黄色度ＹＩ値を測定した。黄色度ＹＩ値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。黄色度ＹＩ値の測定結果を表２に示す。
＜＜＜＜第２実施形態＞＞＞＞
　第２実施形態について説明する。
＜＜＜光学シート１１０＞＞＞
　第２実施形態において、光学シート１１０は第１層１２０を含む。第１層１２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む。紫外線吸収剤を含む第１層１２０は、光学シート１１０にブルーライトカット機能を付与する。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は１５％以下である。波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は７０％以上である。この光学シート１１０は、波長が４１０ｎｍ以下となる光を高効率で遮光してもよい。光学シート１１０は、波長が４４０ｎｍ以上となる光を高透過率で透過してもよい。
　光学シート１１０が波長４１０ｎｍ以下となる光を遮光することにより、ブルーライトによる不具合を抑制できる。光学シート１１０を表示装置６０（図６参照）に適用した場合、表示装置６０から射出した画像光は光学シート１１０を透過し得る。光学シート１１０は、画像光から波長４１０ｎｍ以下となる光を遮光できる。一例として、画像光から波長４１０ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、画像の観察者の眼精疲労を緩和できる。他の例として、太陽光等の外光が光学シート１１０に入射し得る。外光から波長４１０ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、表示素子６１（図６参照）の劣化を抑制できる。例えば、有機ＥＬパネル（有機エレクトロルミネッセンスパネル）のＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）の劣化を抑制できる。外光から波長４１０ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、偏光板５０（図４参照）の偏光子５２の劣化を抑制できる。
　波長４４０ｎｍ以上となる光は、光学シート１１０を高透過率で透過できる。これにより、光学シート１１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。
　波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、１５％以下でもよく、１４％以下でもよく、１３％以下でもよく、１２％以下でもよく、１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率の上限をこのように設定することにより、ブルーライトを有効に遮光できる。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率の下限は特に設定されない。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、０％以上でもよく、０％より大きくてもよく、２％以上でもよく、５％以上でもよい。
　波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、０％以上１５％以下でもよく、０％以上１４％以下でもよく、０％以上１３％以下でもよく、０％以上１２％以下でもよく、０％以上１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、０％より大きく１５％以下でもよく、０％より大きく１４％以下でもよく、０％より大きく１３％以下でもよく、０％より大きく１２％以下でもよく、０％より大きく１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、２％以上１５％以下でもよく、２％以上１４％以下でもよく、２％以上１３％以下でもよく、２％以上１２％以下でもよく、２％以上１０％以下でもよい。波長４１０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、５％以上１５％以下でもよく、５％以上１４％以下でもよく、５％以上１３％以下でもよく、５％以上１２％以下でもよく、５％以上１０％以下でもよい。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、７０％以上でもよく、７５％以上でもよく、８０％以上でもよく、８５％以上でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率の下限をこのように設定することにより、光学シート１１０を透過した画像の色味変化を有効に抑制できる。波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率の上限は特に設定されない。波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、７０％以上１００％以下でもよく、７５％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、８５％以上１００％以下でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート１１０の分光透過率は、７０％以上１００％未満でもよく、７５％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、８５％以上１００％未満でもよい。
　分光透過率の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　第１層１２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を更に含む。本明細書では、硬化性樹脂組成物の硬化物を樹脂硬化物とも呼ぶ。樹脂硬化物は、第１層１２０及び光学シート１１０に高硬度を付与できる。第１層１２０は、いわゆるハードコート層として機能する。硬度が改善された光学シート１１０は、耐擦傷性に優れる。光学シート１１０の使用時に、光学シート１１０の傷付きを抑制できる。光学シート１１０は、使用中に指やペンの接触が想定されるタッチパネル部材５５（図５参照）にも好適である。
　ところで、従来の光学シートにおいて、樹脂硬化物を含む樹脂層に十分な硬度を付与できないことがあった。この現象は、樹脂層に含まれる紫外線吸収剤に起因すると考えられた。樹脂硬化物を含む樹脂層は、硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させることによって得られる。塗膜は、塗膜の露光によって架橋反応が進み、硬化し得る。露光には、通常、高エネルギーの短波長光が用いられる。硬化性樹脂組成物に添加された紫外線吸収剤は、塗膜の硬化処理に用いられる光を吸収し得る。すなわち、紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の硬化プロセスを阻害し得る。
　樹脂硬化物を含む樹脂層の硬度が低いと、耐擦傷性が大きく低下し得る。樹脂硬化物を含む樹脂層の硬度が低いと、光学シートの使用時に、紫外線吸収剤が樹脂層からブリードアウトし得る。紫外線吸収剤がブリードアウトすると、光学シート１１０のブルーライトカット機能も不十分となる。
　第２実施形態では、第１層１２０及び光学シート１１０の硬度を向上させるための工夫がなされている。第２実施形態による光学シート１１０は、第１層１２０に隣接する第２層１３０を含む。第１層１２０の厚みＴ１２０（μｍ）の第２層１３０の厚みＴ１３０（μｍ）に対する比を「厚み比」（＝Ｔ１２０／Ｔ１３０）と定義する。厚み比は、１．５以上７．５以下である。
　厚み比は、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて特定される。まず、第１層１２０の厚みＴ１２０及び第２層１３０の厚みＴ１３０を測定する。評価対象となる光学シート１１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ１２０及び厚みＴ１３０を測定する。走査透過型電子顕微で観察される厚み方向に直交する方向における同一の位置にて測定された厚み第１層１２０のＴ１２０及び第２層１３０の厚みＴ１３０により、当該測定位置での厚み比を算出する。１０箇所の測定位置において厚みＴ１２０及び厚みＴ１３０を測定し、１０個の厚み比の計算値を算出する。１０個の厚み比の計算値の算術平均値として、光学シート１１０の厚み比が特定される。
　評価対象となる光学シート１１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、次の第１ステップ及び第２ステップにより得られる。
（第１ステップ）
　評価対象となる光学シートから、カットサンプルを切り出す。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認する。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製する。
　包埋サンプルは、次の手順で作製する。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置する。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込む。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させる。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルが得られる。包埋サンプルの形状はブロック状とする。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とする。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルを切断して、切片サンプルを作製する。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿った面を含む。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとする。
　光学シートの断面の観察画像を取得する際、走査型透過電子顕微鏡の撮像条件は次の通りとする。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　図８に示すように、光学シート１１０は、第１方向Ｄ１に対向する第１面１１１及び第２面１１２を含んでもよい。第１面１１１及び第２面１１２は、光学シート１１０の一対の主面を構成する。第１方向Ｄ１は、光学シート１１０に含まれる複数の層の積層方向である。第１方向Ｄ１における第１面１１１から第２面１１２に向けて、第１層１２０及び第２層１３０は、この順で位置している。
　後述する実施例によっても実証されているように、厚み比を１．５以上７．５以下とすることによって、第１層１２０の硬度が向上する。これにより、第１面１１１での硬度を向上でき、第１面１１１の耐擦傷性も向上できる。第２実施形態による光学シート１１０によれば、第１面１１１の鉛筆硬度を２Ｈ以上にできる。第２実施形態による光学シート１１０によれば、第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は２００ｇ以上にできる。第２実施形態による光学シート１１０によれば、押し込み深さを１００ｎｍとする第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さを３５０ＭＰａ以上にできる。
　鉛筆硬度は、鉛筆の芯を評価対象となるサンプルに押し付けて動かした際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。鉛筆硬度の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　スチールウール耐擦傷性試験は、スチールウールを評価対象となるサンプルに押し付けて相対移動させた際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。スチールウール耐擦傷性試験の耐荷重の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　インデンテーション硬さＨＩＴは、ナノインデンタを用いたナノインデンテーション法により測定される硬さである。第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、光学シート１１０の法線方向に沿って第１層１２０の第１側面１２１から第２側面１２２に１．２μｍずらした位置とする。すなわち、第１層１２０が機能層２０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した第１位置２６にて、第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。インデンテーション硬さの測定方法は、は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　第１側面１２１及び第２側面１２２は、第１層１２０の一対の主面である。第１側面１２１は、第１層１２０の法線方向である第１方向Ｄ１における第１側に位置する。第１側面１２１は、第１方向Ｄ１において第１面１１１に近い面である。図８に示された例において、第１層１２０の第１側面１２１が光学シート１１０の第１面１１１を構成している。第２側面１２２は、第１方向Ｄ１における第２側に位置する。第２側面１２２は、第１方向Ｄ１において第２面１１２に近い面である。
　第１層１２０の厚みＴ１２０の第２層１３０の厚みＴ１３０に対する厚み比（Ｔ１２０／Ｔ１３０）が、第１層１２０の硬度及び光学シート１１０の第１面１１１での硬度に及ぼす影響の詳細は不明である。後述の実施例で実証されているように、樹脂硬化物及び紫外線吸収剤を含む第１層１２０に隣接する第２層１３０を、厚み比を満たすように、薄い層として設けることによって、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度が向上した。
　硬度改善の理由の一つとして、次のことが推察され得る。第２層１３０は、樹脂硬化物を含む第１層１２０よりも低硬度となり易い。この第２層１３０が第１層１２０よりも薄い適切な厚みを有すると、光学シート１１０への第１層１２０の密着性が確保され易くなり、加えて、第２層１３０の硬度が第１面１１１の硬度に反映されることが抑制され易くなる。本開示は、この推察に拘束されない。
　また、第１層１２０の第２層１３０に対する厚み比は、光学シート１１０の第１面１１１及び第１層１２０の硬度と、次の関係を有することも確認された。
　厚み比に下限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度が向上した。厚み比は、１．５以上でもよく、更に、１．７以上でもよく、２．６以上でもよく、２．９以上でもよく、３．４以上でもよい。厚み比の下限をこのように設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を向上できる。第１面１１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上でもよく、３Ｈ以上でもよく、４Ｈ以上でもよい。第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、２００ｇ以上でもよく、２５０ｇ以上でもよく、３００ｇ以上でもよい。押し込み深さを１００ｎｍとする第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さは、３５０ＭＰａ以上でもよく、３８０Ｍｐａ以上でもよく、３８７Ｍｐａ以上でもよく、４１０ＭＰａ以上でもよく、４１４ＭＰａ以上でもよく、４２０ＭＰａ以上でもよく、４４０ＭＰａ以上でもよく、４４２ＭＰａ以上でもよく、４８０ＭＰａ以上でもよい。
　第１面１１１の鉛筆硬度に上限は特に設定されない。第１面１１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、３Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、４Ｈ以上８Ｈ以下でもよい。
　第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重に上限は特に設定されない。第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、２００ｇ以上３００ｇ以下でもよく、２５０ｇ以上３００ｇ以下でもよく、３００ｇでもよい。
　押し込み深さを１００ｎｍとする第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さに上限は特に設置されない。押し込み深さを１００ｎｍとする第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さは、３５０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３８０Ｍｐａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３８７Ｍｐａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４１０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４１４ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４２０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４４０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４４２ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、４８０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよい。
　厚み比が大きくなり過ぎると、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度は低下し得る。厚み比に上限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を向上できる。上述したように、厚み比は７．５以下でもよい。
　厚み比が大きくなり過ぎると、別の不具合が生じ得ることが確認された。厚み比に下限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度が上昇する。しかしながら、厚み比が大きくなり過ぎると、光学シート１１０にカールや反りが発生し得る。厚み比に上限を設定することにより、カールや反り等の変形を抑制できる。厚み比は、７．５以下でもよく、更に、７．３以下でもよく、５．０以下でもよく、４．８以下でもよく、３．９以下でもよい。厚み比の上限をこのように設定することにより、光学シート１１０のカールや反り等の変形を抑制できる。また、厚み比の上限をこのように設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を向上できる。
　厚み比に上限を設定することによって、カールや反り等の変形を抑制し得る理由の詳細は不明である。変形抑制の理由の一つとして、次のことが推察され得る。第１層１２０は、樹脂硬化物を含むため、硬化処理時に収縮し得る。この硬化収縮は、光学シート１１０にカールや反り等の変形を生じさせ得る。厚み比に上限を設定することにより、第１層１２０に隣接する第２層１３０は、第１層１２０の厚みに対して一定割合以上の厚みを有する。したがって、第２層１３０が第１層１２０の変形を少なくとも部分的に吸収し、光学シート１１０の変形が抑制されると推察される。本開示は、この推察に拘束されない。
　厚み比は、１．５以上７．５以下でもよく、更に、１．７以上７．５以下でもよく、２．６以上７．５以下でもよく、２．９以上７．５以下でもよく、３．４以上７．５以下でもよい。厚み比は、１．５以上７．３以下でもよく、更に、１．７以上７．３以下でもよく、２．６以上７．３以下でもよく、２．９以上７．３以下でもよく、３．４以上７．３以下でもよい。厚み比は、１．５以上５．０以下でもよく、更に、１．７以上５．０以下でもよく、２．６以上５．０以下でもよく、２．９以上５．０以下でもよく、３．４以上５．０以下でもよい。厚み比は、１．５以上４．８以下でもよく、更に、１．７以上４．８以下でもよく、２．６以上で４．８以下もよく、２．９以上４．８以下でもよく、３．４以上４．８以下でもよい。厚み比は、１．５以上３．９以下でもよく、更に、１．７以上３．９以下でもよく、２．６以上３．９以下でもよく、２．９以上３．９以下でもよく、３．４以上３．９以下でもよい。
　第１層１２０の厚みＴ１２０に下限を設定してもよい。第１層１２０の厚みに下限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。第１層１２０の厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上でもよく、５．２μｍ以上でもよく、６．２μｍ以上でもよく、６．６μｍ以上でもよく、６．７μｍ以上でもよい。
　第１層１２０の厚みＴ１２０に上限を設定してもよい。第１層１２０の厚みに上限を設定することにより、光学シート１１０に生じるカールや反り等の変形を安定して抑制し得る。第１層１２０の厚みＴ１２０は、９．０μｍ以下でもよく、８．７μｍ以下でもよく、７．６μｍ以下でもよく、７．５μｍ以下でもよく、７．３μｍ以下でもよい。
　厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上９．０μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上９．０μｍ以下でもよく、６．２μｍ以上９．０μｍ以下でもよく、６．６μｍ以上９．０μｍ以下でもよく、６．７μｍ以上９．０μｍ以下でもよい。厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、６．２μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、６．６μｍ以上８．７μｍ以下でもよく、６．７μｍ以上８．７μｍ以下でもよい。厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、６．２μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、６．６μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、６．７μｍ以上７．６μｍ以下でもよい。厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上７．５μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上７．５μｍ以下でもよく、６．２μｍ以上７．５μｍ以下でもよく、６．６μｍ以上７．５μｍ以下でもよく、６．７μｍ以上７．５μｍ以下でもよい。厚みＴ１２０は、５．０μｍ以上７．３μｍ以下でもよく、５．２μｍ以上７．３μｍ以下でもよく、６．２μｍ以上７．３μｍ以下でもよく、６．６μｍ以上７．３μｍ以下でもよく、６．７μｍ以上７．３μｍ以下でもよい。
　第２層１３０の厚みＴ１３０に下限を設定してもよい。第２層１３０の厚みに下限を設定することにより、光学シート１１０に生じるカールや反り等の変形を安定して抑制し得る。第２層１３０の厚みに下限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。第２層１３０の厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上でもよく、１．５μｍ以上でもよく、１．６μｍ以上でもよく、１．７μｍ以上でもよい。
　第２層１３０の厚みＴ１３０に上限を設定してもよい。第２層１３０の厚みに上限を設定することにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。第２層１３０の厚みＴ１３０は、３．２μｍ以下でもよく、３．０μｍ以下でもよく、２．５μｍ以下でもよく、２．４μｍ以下でもよく、２．３μｍ以下でもよく、２．１μｍ以下でもよい。
　厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上３．２μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上３．２μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上３．２μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上３．２μｍ以下でもよい。厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上３．０μｍ以下でもよい。厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上２．５μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．５μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上２．５μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上２．５μｍ以下でもよい。厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上２．４μｍ以下でもよい。厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上２．３μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上２．３μｍ以下でもよい。厚みＴ１３０は、１．２μｍ以上２．１μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．１μｍ以下でもよく、１．６μｍ以上２．１μｍ以下でもよく、１．７μｍ以上２．１μｍ以下でもよい。
　第１層１２０の厚みＴ１２０及び第２層１３０の厚みＴ１３０は、それぞれ、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて測定される。上述したように、評価対象となる光学シート１１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ１２０及び厚みＴ１３０を測定する。評価対象となる光学シート１１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、上述の第１ステップ及び第２ステップを経て得られる。第１層１２０について、１０箇所の測定位置で測定された１０の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ１２０が特定される。第２層１３０についても、１０箇所の測定位置で測定された１０個の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ１３０が特定される。
　第１層１２０の硬度は第２層１３０の硬度より大きくてもよい。第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴは、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴよりも大きくてもよい。これらの例によれば、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート１１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層１３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、第２層１３０の厚み方向厚み方向の中心となる位置とする。すなわち、第２層１３０が中間層３０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した中央位置３１にて、第２層１３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。この測定位置に圧子を押し込むことにより、第２層１３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。第２層１３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは、その他において、上述した第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定方法と同一の測定方法にて測定される。
　第２層１３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。この例によれば、第１層１２０の硬度が第２層１３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート１１０の第１面１１１での硬度が安定して高硬度となる。これにより、第１層１２０の硬度、第１面１１１での鉛筆硬度、第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート１１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層１３０は、第１層１２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、第２層１３０と第１層１２０との密着性を向上できる。第２層１３０と第１層１２０との密着性が向上すると、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。これにより、第１面１１１での鉛筆硬度、第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。
　フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）によれば、各層に含まれる化学結合を定量的に分析することができる。このフーリエ変換型赤外分光法を用いることによって、第２層１３０が第１層１２０に含まれる樹脂成分を含むか否かを判定できる。
　第２層１３０は、モノマーを含んでもよい。この例によれば、第１層１２０の硬度が第２層１３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層１２０の硬度及び光学シート１１０の第１面１１１での硬度を安定して向上できる。これにより、第１面１１１での鉛筆硬度、第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート１１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層１３０は、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれた少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。この例によれば、第１層１２０の硬度が第２層１３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。また、第２層１３０と第１層１２０との密着性を向上できる。これらにより、第１層１２０の硬度及び光学シート１１０の第１面１１１での硬度を安定して向上できる。
　第２層１３０がモノマーを含むか否かは、四酸化オスミウムを用いた染色により、判断される。まず、光学シート１１０から断面サンプルを切削により削りだす。サンプルの厚みは約８０ｎｍとする。削りだしたサンプルは、Ｃｕメッシュ上に採取する。このサンプルを、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色する。走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて、染色処理されたサンプルの第２層１３０に該当する部分を観察する。染色処理により、第２層１３０に含まれ得る不飽和二重結合は色付く。したがって、観察したサンプルが染色により色付いていれば、第２層１３０がモノマーを含んでいると判断する。第２層１３０に含まれたモノマーが、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれていたモノマーと同一であるか否かは、フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）により化学結合を定量的に分析することによって、判断される。
　図８に示すように、光学シート１１０は基材層１４０を含んでもよい。第１方向Ｄ１における第１面１１１から第２面１１２に向けて、第１層１２０、第２層１３０、及び基材層１４０は、この順で配置されてもよい。図示された例において、第１層１２０は、第１側面１２１及び第２側面１２２を含む。第１側面１２１及び第２側面１２２は、第１層１２０の一対の主面を構成する。図示された例において、第１側面１２１は第１面１１１を構成する。第２側面１２２は、第２層１３０に接触している。
　図８に示すように、基材層１４０の厚みＴ１４０は、第１層１２０の厚みＴ１２０より厚くてもよい。基材層１４０の厚みＴ１４０は、第２層１３０の厚みＴ１３０より厚くてもよい。基材層１４０の厚みＴ１４０は、第１層１２０の厚みＴ１２０と第２層１３０の厚みＴ１３０との合計厚みより厚くてもよい。このような厚みＴ１４０を有する基材層１４０によれば、第１層１２０及び第２層１３０を安定して支持できる。
　基材層１４０の厚みＴ１４０は、第１層１２０の厚みＴ１２０及び第２層１３０の厚みＴ１３０と同様に、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて測定される。評価対象となる光学シート１１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ１４０を測定する。
評価対象となる光学シート１１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、上述の第１ステップ及び第２ステップを経て得られる。基材層１４０について、１０箇所の測定位置で測定された１０の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ１４０が特定される。
　第２層１３０は、基材層１４０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、第２層１３０と基材層１４０との密着性を向上できる。第２層１３０と基材層１４０との密着性も、第１層１２０の硬度向上及び第１面１１１での硬度向上に寄与し得る。第２層１３０と基材層１４０との密着性が向上すると、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を向上できる。これにより、第１面１１１での鉛筆硬度、第１面１１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。
　第２層１３０は、第１層１２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と、基材層１４０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と、を含んでもよい。この例によれば、第１層１２０の硬度が第２層１３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。
　加えて、第１層１２０と第２層１３０との密着性が向上し、かつ第２層１３０と基材層１４０との密着性が向上し得る。密着性の向上により、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。
　第２層１３０は、第１層１２０に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。第２層１３０が紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を強化できる。
　さらに、第２層１３０は、第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層でもよい。第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層としての第２層１３０によれば、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度をより効果的に向上できる。混合層としての第２層１３０は、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物を基材フィルム１４５に浸透させた浸透層でもよい。基材層１４０及び第２層１３０は、共に、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム１４５によって構成されてもよい。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分が第２層１３０を構成してもよい。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分が基材層１４０を構成してもよい。
　第１方向に沿った光学シートの断面を走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）で観察することにより、浸透層の存在を確認できる。評価対象となる光学シート１１０の断面の観察画像は、上述の厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、走査型透過電子顕微鏡での観察前に、染色される。染色に、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸等を用いてもよい。
　基材層１４０及び基材フィルム１４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂は、硬化性樹脂組成物が浸透し易い。したがって、第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層である第２層１３０を容易に作製できる。この例によれば、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。
　基材層１４０の硬度は第２層１３０の硬度より大きくてもよい。基材層１４０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴは、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴよりも大きくてもよい。これらの例によれば、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を安定して向上できる。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート１１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　基材層１４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、基材層１４０の厚み方向厚み方向の中心となる位置とする。すなわち、基材層１４０が基材層４０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した中央位置４１にて、基材層１４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。この測定位置に圧子を押し込むことにより、基材層１４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。基材層１４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは、その他において、上述した第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定方法と同一の測定方法にて測定される。
　透過光により測定した光学シート１１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は、－３．０以上－１．６以下でもよい。透過光により測定した光学シート１１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は、３．５以上６．０以下でもよい。ａ＊値及びｂ＊値を上記範囲とすることにより、ブルーライトカット機能を有効としながら、光学シート１１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。ａ＊値及びｂ＊値の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート１１０の黄色度（ＹＩ値）は、１２以下でもよく、１１以下でもよく、１０以下でもよく、９．０以下でもよい。黄色度は、光学シート１１０の黄色味の着色度合いを示す指標となる。黄色度（ＹＩ値）に上記の上限を設定することにより、光学シート１１０の黄色味の着色を制限できる。黄色顔料を使用することなく、上記分光透過率を達成することにより、光学シート１１０を透過した画像の色味変化を抑制できる。
　光学シート１１０の黄色度（ＹＩ値）の下限値は特に設定されない。光学シート１１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上でもよく、０より大きくてもよい。
　光学シート１１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上１２以下でもよく、０以上１１以下でもよく、０以上１０以下でもよく、０以上９．０以下でもよい。光学シート１１０の黄色度（ＹＩ値）は、０より大きく１２以下でもよく、０より大きく１１以下でもよく、０より大きく１０以下でもよく、０より大きく９．０以下でもよい。
　黄色度の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート１１０の全光線透過率は、５０％以上でもよく、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。光学シート１１０の全光線透過率は、特に上限を有さない。光学シート１１０の全光線透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　光学シート１１０の全光線透過率は、５０％以上１００％以下でもよく、７０％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、９０％以上１００％以下でもよい。光学シート１１０の全光線透過率は、５０％以上１００％未満でもよく、７０％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、９０％以上１００％未満でもよい。
　全光線透過率の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート１１０の透過ヘイズは、１．１％以下でもよく、０．５％以下でもよく、０．２％以下でもよい。光学シート１１０の透過ヘイズは、特に下限を有さない。光学シート１１０の透過ヘイズは、０％でもよく、０％より大きくてもよい。
　光学シート１１０の透過ヘイズは、０％以上１．１％以下でもよく、０％以上０．５％以下でもよく、０％以上０．２％以下でもよい。光学シート１１０の透過ヘイズは、０％より大きく１．１％以下でもよく、０％より大きく０．５％以下でもよく、０％より大きく０．２％以下でもよい。
　透過ヘイズの測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面１１１で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上でもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法による元素の定量分析結果において、炭素元素の量を１とした場合のケイ素元素の量は０．０２以上でもよい。ケイ素元素は、無機成分（シリカ）と有機成分（シリコーン）との合計とする。第１層１２０は、易滑剤として無機粒子を含んでもよい。炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤として添加された無機粒子の凝集、例えばシリカの凝集を抑制できる。すなわち、炭素元素に対するケイ素元素子の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤が有効に機能する。易滑剤によれば、光学シート１１０を重ねた際や、光学シート１１０を巻き取った際に、隣接する光学シート１１０同士が貼り付くことを抑制できる。
　第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物は、レベリング剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｓｉ系レベリング剤を用いることにより、炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上とすることができる。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面１１１で測定されたフッ素元素の比率を、０．１％以下にしてもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法により検出された全元素量に対するフッ素元素の量の割合を、０．００１以下としてもよい。この例では、光学シート１１０の表層部に、実質的に、フッ素が検出されない。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｆ系レベリング剤を用いないことにより、フッ素元素の比率を０．１％以下にできる。
　フッ素元素の比率を０．１％以下とすることにより、ＰＦＡＳが不純物として生成されることを抑制できる。ＰＦＡＳは、人工有機フッ素化合物として、生体蓄積性を懸念されている。ＰＦＡＳの生成を抑制することにより、環境負荷低減に貢献し得る。フッ素元素の比率を低減することにより、第１面１１での耐擦傷性も向上できる。
　Ｘ線光電子分光分析法によれば、光学シート１１０の表層部に存在する元素を定量的に分析できる。Ｘ線光電子分光分析法には、Ｘ線光電子分光装置(X-ray Photoelectron Spectroscopy：ＸＰＳ)が用いられる。Ｘ線光電子分光装置を用いたＸ線光電子分光分析法による測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　以下、図８に示された光学シート１１０の各層について更に詳述する。図８に示された例において、基材層１４０、第２層１３０及び第１層１２０は、第１方向Ｄ１に重ねられている。第１方向Ｄ１は積層方向である。基材層１４０、第２層１３０及び第１層１２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３に広がっている。図示された例において、第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３は、互いに直交している。第１方向Ｄ１は、光学シート１１０の厚み方向であって法線方向である。第１方向Ｄ１は、光学シート１１０に含まれる各層１４０，１３０，１２０の厚み方向かつ法線方向でもある。図８に示された光学シート１１０において、第１面１１１は第１層１２０によって構成されている。第２面１１２は基材層１４０によって構成されている。第１層１２０及び第２層１３０は第１方向Ｄ１に隣接している。第２層１３０及び基材層１４０は第１方向Ｄ１に隣接している。
　光学シート１１０は、第１層１２０、第２層１３０及び基材層１４０以外の層を含んでもよい。光学シート１１０は、低反射層、帯電防止層、防汚層等の一以上を含んでもよい。この例において、第１層１２０以外の層が第１面１１１を構成してもよい。低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層は、薄い層である。したがって、低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層が第１面１１１を構成する例においても、第１層１２０及び第２層１３０の組合せによって第１面１１１での硬度を向上できる。
＜＜基材層１４０＞＞
　基材層１４０は、第１層１２０及び第２層１３０を支持する。基材層１４０は透明でもよい。透明とは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠する全光線透過率が５０％以上であることを意味し、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。
　基材層１４０は、第１実施形態において説明した基材層４０と同一でもよい。基材層１４０は、第１実施形態において説明した基材層４０と同一の構成を有してもよい。基材層１４０の材料は、第１実施形態において説明した基材層４０の材料と同一でもよい。基材層１４０の厚みＴ１４０は、第１実施形態において説明した基材層４０の厚みＴ４０と同一でもよい。基材層１４０の層構成は、第１実施形態において説明した基材層４０の層構成と同一でもよい。
　基材層１４０は、基材フィルム１４５として用意されてもよい。この基材フィルム１４５は、単一の層のみ含んでもよく、複数の層を含んでもよい。基材層１４０は、易接着層等のプライマー層を含んでもよい。基材フィルム１４５の表面に、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理、及び下塗り処理の一以上が施されてもよい。これらの処理によって、基材フィルム１４５と、基材フィルム１４５に隣接する層と、の密着性を向上できる。基材フィルム１４５の表面が、溶剤洗浄や超音波洗浄等の洗浄処理を実施されてもよい。
＜＜第１層１２０＞＞
　第１層１２０は、バインダー樹脂１２３と、紫外線吸収剤と、を含む。第１層１２０は、紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を発現する。バインダー樹脂１２３は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。第１層１２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことによって、第１面１１１及び第１層１２０の硬度向上に寄与する。
　第１層１２０は、第１実施形態において説明した機能層２０と同一の構成を有してもよい。第１層１２０の材料は、第１実施形態において説明した機能層２０の材料と同一でもよい。第１層１２０の層構成は、第１実施形態において説明した機能層２０の層構成と同一でもよい。
　硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂組成物でもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂組成物及び電子線硬化性樹脂組成物の一以上を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性化合物及び光重合開始剤を含んでもよい。電離放射線硬化性化合物は、紫外線硬化性化合物及び電子線硬化性化合物の一以上を含んでもよい。紫外線硬化性化合物は、紫外線の照射によって硬化する樹脂である。電子線硬化性化合物は、電子線の照射によって硬化する樹脂である。硬化性樹脂組成物の硬化物は、硬化した硬化性化合物でもよい。
＜硬化性化合物＞
　電離放射線硬化性化合物は、第１実施形態で説明した機能層２０に用いられる電離放射線硬化性化合物と同一でもよい。
＜光重合開始剤＞
　光重合開始剤は、特に限定されない。光重合開始剤は、第１実施形態で説明した機能層２０に用いられる光重合開始剤と同一でもよい。
　光重合開始剤の含有量は、第１実施形態で説明した光重合開始剤の含有量と同一でもよい。
＜紫外線吸収剤＞
　紫外線吸収剤は、第１層１２０内において、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２、及び第３方向Ｄ３に分散してもよい。紫外線吸収剤は、液状の硬化性樹脂組成物に含まれてもよい。硬化性樹脂組成物に含まれた紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥処理及び硬化処理を経て、第１層１２０内に分散してもよい。
　紫外線吸収剤は、第１層１２０及び光学シート１１０に、ブルーライトカット機能を付与する。紫外線吸収剤の種類や含有量により、ブルーライトカット機能の特性を調節できる。したがって、紫外線吸収剤に起因したブルーライトカット機能により、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上としつつ、波長４１０ｎｍにおける分光透過率を１５％以下にできる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定した黄色度ＹＩ値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量は、特に限定されない。所望のブルーライトカット機能や所望のａ＊値やｂ＊値が得られるよう、紫外線吸収剤の種類や含有量は選択され得る。
　紫外線吸収剤の種類及び含有量等は、第１実施形態で説明した紫外線吸収剤の種類及び含有量等と同一でもよい。
＜添加物＞
　硬化性樹脂組成物は、易滑剤として粒子を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第１実施形態で説明した機能層用の硬化性樹脂組成物に含まれる易滑剤としての粒子と同一の粒子を含んでもよい。第１層１２０に含まれる粒子の粒子径は、第１実施形態において説明した機能層２０に含まれる粒子の粒子径と同様にして特定された値とする。
　硬化性樹脂組成物は、添加剤として、Ｓｉ系レベリング剤を含んでもよい。第１層用塗布液がＳｉ系レベリング剤を含むことにより、第１層１２０の表面をより平滑にできる。Ｓｉ系レベリング剤によれば、第１層１２０の表面に、優れた滑り性及び優れた防汚性を付与できる。
　硬化性樹脂組成物は、その他の添加剤を含んでもよい。添加剤として、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの添加剤の一つ又は二以上を含んでもよい。
＜溶剤＞
　硬化性樹脂組成物は溶剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第１実施形態で説明した機能層用の硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤と同一の溶剤を含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物における原料の含有割合、すなわち固形分の割合は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、５質量％以上でもよく、２５質量％以上でもよい。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、７０質量％以下でもよく、６０質量％以下でもよい。
＜第１層１２０の作製方法＞
　第１層１２０は、紫外線吸収剤を含む液状の硬化性樹脂組成物を用いて作製される。調整した硬化性樹脂組成物を、第１層１２０の作製対象面に塗布し、硬化性樹脂組成物の塗膜を形成する。硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥し、乾燥した塗膜を硬化させることにより、第１層１２０が得られる。
　硬化性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を用いて、調整されてもよい。
　硬化性樹脂組成物の塗布方法は、特に限定されない。スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法にて、硬化性樹脂組成物を塗布してもよい。
　硬化性樹脂組成物の硬化処理は、電離放射線の照射でもよい。電離放射線は、紫外線でもよく、電子線でもよい。紫外線源として、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等が例示される。紫外線の波長としては、１９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の波長域でもよい。硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤の中心吸収波長であること、又は中心吸収波長に近いことが好ましい。硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の中心吸収波長から離れていることが好ましい。このような例によれば、紫外線照射による硬化処理によって、第１層１２０を十分に硬化させることができる。
＜＜第２層１３０＞＞
　第２層１３０は、第１層１２０及び基材層１４０に隣接する層である。第２層１３０は、上述したように、第１層１２０の厚みＴ１２０に対して厚みＴ１３０を調節された層である。第２層１３０の厚みＴ１３０に対する第１層１２０の厚みＴ１２０の比である厚み比は、１．５以上７．５以下である。
　第２層１３０は、樹脂層でもよい。第２層１３０は、基材層１４０に対する密着性の高い層でもよい。第２層１３０は、第１層１２０に対する密着性の高い層でもよい。第２層１３０は、第１層１２０の硬度よりも低い硬度を有してもよい。第１層１２０の断面で測定されたインデンテーション硬さは、第２層１３０の断面で測定されたインデンテーション硬さよりも大きくてもよい。実施例でも実証されているように、これらのような第２層１３０の存在により、第１層１２０の硬度及び第１面１１１での硬度を向上できる。
　第１層１２０及び第２層１３０の間における硬度及び密着性に関する上述の関係を満たすため、第２層１３０の材料を次のように選択してもよい。第２層１３０は、熱可塑性樹脂を含んでもよい。第２層１３０は、第１層１２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。第２層１３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。第２層１３０は、第１層１２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。第２層１３０は、モノマーを含んでもよい。第２層１３０は、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれる少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。
　第２層１３０は、第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層でもよい。第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層として第２層１３０を形成することにより、光学シート１１０の第１面１１１での硬度をより効果的に向上できる。
　混合層としての第２層１３０は、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物を基材フィルム１４５に浸透させた浸透層でもよい。基材層１４０及び第２層１３０は、共に、第１層１２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム１４５によって構成されてもよい。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（浸透層）によって、第２層１３０が構成されてもよい。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層１４０を構成されてもよい。
　硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤が、基材フィルム１４５に浸透し易いことにより、浸透層としての第２層１３０を安定して形成できる。吸水性（吸液性）が高い基材フィルム１４５を用いることにより、溶剤が基材フィルム１４５に浸透し易くなる。セルロース系樹脂、特に、トリアセチルセルロース（Triacetylcellulose: TAC）に、溶剤が浸透しやすい。また、アクリル系樹脂にも溶剤が浸透しやすい。したがって、基材層１４０及び基材フィルム１４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。この場合、第１層１２０の樹脂成分と基材層１４０の樹脂成分との混合層である第２層１３０を安定して作製できる。作製された第２層１３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む。
　硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂化合物及び溶剤と、基材フィルム１４５と、の関係によって、浸透層の形成し易さが変化する。また、硬化性樹脂化合物の粘度、硬化性樹脂化合物の塗膜の乾燥条件、硬化性樹脂化合物の塗膜の硬化条件によっても、浸透層の形成し易さが変化する。したがって、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム１４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透層としての第２層１３０の厚みＴ１３０を調節できる。同様に、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム１４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透量が変化するので、第１層１２０の厚みＴ１２０も調節できる。すなわち、浸透層として第２層１３０を作製する場合、厚み比を調節可能である。
　第２層は、第１層に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。
＜＜光学シートの製造＞＞
＜第１の例＞
　第１の例として、光学シート１１０の製造方法は、基材層１４０及び第２層１３０を含む中間積層体を作製する工程と、第２層１３０上に第１層１２０を作製する工程と、を含んでもよい。
　中間積層体を作製する方法は、作製対象となる第２層１３０の構成に応じて適宜選択され得る。第２層１３０を構成するフィルムと基材層１４０を構成するフィルムとをラミネートすることによって、中間積層体が作製されてもよい。第２層１３０及び基材層１４０は、加熱溶着により、直接接合してもよい。接着剤や粘着剤等を含む接合層を用いて、第２層１３０及び基材層１４０が接合してもよい。基材フィルムとしての基材層１４０上に第２層１３０をウェット法で形成することによって、中間積層体が作製されてもよい。ウェット法では、液状の組成物が用意される。液状の組成物が基材層１４０上に塗布される。組成物の塗膜を乾燥させることによって、第２層１３０が基材層１４０上に形成されてもよい。
　第１層１２０の作製方法は、上述したウェット法としてもよい。ウェット法では、液状の硬化性樹脂組成物が用意される。液状の硬化性樹脂組成物は、第１層１２０のバインダー樹脂１２３を構成する固形分と、紫外線吸収剤や重合開始剤等の添加物と、溶剤と、を含んでもよい。硬化性樹脂組成物を中間積層体の第２層１３０上に塗布することによって、硬化性樹脂組成物の塗膜が第２層１３０上に得られる。次に、塗膜を乾燥及び硬化することにより、第１層１２０が第２層１３０上に得られる。
＜第２の例＞
　第２の例として、光学シート１１０の製造方法は、第２層１３０及び第１層１２０を含む中間積層体を作製する工程と、第２層１３０及び第１層１２０を含む中間積層体と基材層１４０とをラミネートする工程と、を含んでもよい。
　中間積層体を作製する工程において、ウェット法により第１層１２０が第２層１３０上に形成されてもよい。中間積層体と基材層１４０とをラミネートする工程において、基材層１４０及び中間積層体の第２層１３０は、加熱溶着により、直接接合してもよい。接着剤や粘着剤等を含む接合層を用いて、基材層１４０及び中間積層体の第２層１３０が接合してもよい。
　中間積層体は、剥離シート、第１層１２０、及び第２層１３０をこの順で含んでもよい。中間積層体を作製する工程は、剥離シートの剥離性を有した面に第１層１２０をウェット法で形成する工程と、第１層１２０上に第２層１３０を形成する工程と、を含んでもよい。第２層１３０は、ウェット法により第１層１２０上に形成されてもよい。第２層１３０は、第１層１２０にラミネートされたフィルムによって構成されてもよい。剥離シートは、基材層１４０上に転写される第２層１３０及び第１層１２０から剥がされてもよい。
＜第３の例＞
　第３の例として、光学シート１１０の製造方法は、基材フィルム１４５上にウェット法により第１層１２０を作製する工程を含んでもよい。この製造方法は、硬化性樹脂組成物を基材フィルム１４５上に塗布する工程と、硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化する工程と、を含んでもよい。製造方法は、塗膜の硬化工程の前に、硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。この例において、硬化した硬化性樹脂組成物の塗膜によって、第１層１２０が構成され得る。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（すなわち、浸透層）によって、第２層１３０が構成され得る。基材フィルムのうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層１４０が構成され得る。
　上述したように、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム１４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透層としての第２層１３０の厚みＴ１３０を調節できる。同様に、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム１４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、基材層１４０への浸透量が変化するので、第１層１２０の厚みＴ１２０も調節できる。すなわち、浸透層として第２層１３０を作製する場合、厚み比を調節可能である。
　例えば、基材フィルム１４５に浸透し易い種類の溶剤を選択することや、溶剤の含有量を増やすこと等によって、第２層１３０の厚みＴ１３０を厚くできる。硬化性樹脂組成物の溶剤が浸透し易い樹脂材料の基材フィルム１４５を選択することにより、第２層１３０の厚みＴ１３０を厚くできる。溶剤が浸透し易い樹脂材料として、トリアセチルセルロース（Triacetylcellulose: TAC）等のセルロース系樹脂が例示される。基材フィルム１４５の可塑剤の含有割合や含有量が多いと、第２層１３０の厚みを厚くできる。乾燥処理時に塗膜に吹き付けられる加熱風の温度を低下させることや、加熱風の流速や流量を低下させることによって、第２層１３０の厚みＴ１３０を厚くできる。硬化性樹脂組成物の固形分割合が多いと、第２層１３０の厚みＴ１３０を薄くできる。
＜第４の例＞
　第４の例として、光学シート１１０の製造方法は、次の四つの工程を含んでもよい。
・紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム１４５上に塗布する工程
・第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して基材フィルム１４５上に第１部分１２０Ａを作製する工程
・第２硬化性樹脂組成物を第１部分１２０Ａ上に塗布する工程
・第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して第１部分１２０Ａに接合した第２部分１２０Ｂを作製する工程
　第４の例において、製造方法は、第１硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化工程の前に、第１硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。第４の例において、製造方法は、第２硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化工程の前に、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。
　第４の例において、第１部分１２０Ａ及び第２部分１２０Ｂによって、第１層１２０が構成され得る。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（すなわち、浸透層）によって、第２層１３０が構成され得る。基材フィルム１４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層１４０が構成され得る。
　図８に二点鎖線で示すように、第２部分１２０Ｂは、第１層１２０の表層部分を構成する。第１層１２０の表層部分は、第１面１１１の近くに位置する又は第１面１１１を構成する。第１部分１２０Ａは、第１層１２０の第２層１３０に接合する部分を構成する。第１部分１２０Ａは、第１面１１１から離れている。第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物が互いに異なる組成を有することで、第１層１２０内の第１部分１２０Ａ及び第２部分１２０Ｂの間で特性を変更できる。
　第４の例において、第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物は、上述した硬化性樹脂組成物と同様でもよい。ただし、第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含んでいなくてもよい。第２硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物の含有量よりも少ない含有量で紫外線吸収剤を含んでもよい。第２硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物の含有割合よりも小さい含有割合で紫外線吸収剤を含んでもよい。
　この例において、第１硬化性樹脂組成物は、より多くの紫外線吸収剤を含む。したがって、第１部分１２０Ａの硬度は低下する。第２硬化性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含まない又は紫外線吸収剤を少量だけ含む。第１側面１２１（第１面１１１）から塗膜を露光することにより、第２硬化性樹脂組成物の塗膜は、十分な強度でかつ十分な量の電離放射線、例えば紫外線を照射され得る。したがって、第２部分１２０Ｂでの架橋反応が促進され、第２部分１２０Ｂの硬度は硬くなる。これにより、紫外線吸収剤に起因したブルーライトカット機能を第１層１２０に付与しながら、第１層１２０の第１側面１２１での表面硬度を硬くできる。
　得られた第１層１２０では、紫外線吸収剤は、主として第１部分１２０Ａに分散している。第１部分１２０Ａは、硬度の高い第２部分１２０Ｂによって覆われている。したがって、紫外線吸収剤が第２部分１２０Ｂを通過してブリードアウトすることを効果的に抑制できる。
　第２硬化性樹脂組成物を塗布される第１部分１２０Ａは、紫外線吸収剤を含むことによって、架橋反応が停滞し、低硬度になり得る。したがって、第２硬化性樹脂組成物は、第１部分１２０Ａ内に浸透し得る。第１硬化性樹脂組成物及び第２硬化性樹脂組成物が混合されて、第１部分１２０Ａ及び第２部分１２０Ｂの界面が目立たなくなる。これにより、第１部分１２０Ａ及び第２部分１２０Ｂの密着性が顕著に向上する。
　第４の例の製造方法で作製された光学シート１１０を、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用い、加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて観察したところ、第１部分１２０Ａ及び第２部分１２０Ｂの界面は存在しなかった。すなわち、第１面１１１での硬度低下の原因となり得る界面が存在しない。
　第２硬化性樹脂組成物は、第１部分１２０Ａだけでなく、基材層１４０まで浸透し得る。第４の例による製造方法では、第１及び第２硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム１４５の材料、第１及び第２硬化性樹脂組成物の調整条件、第１及び第２硬化性樹脂組成物の乾燥条件、第１及び第２硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透層としての第２層１３０の厚みＴ１３０を調節できる。第４の例による製造方法によれば、上述した第３の例による製造方法と比較して、より高い自由度にて、第２層１３０の厚みＴ１３０及び厚み比を調節できる。
　第４の例による製造方法によれば、分光透過率も高い自由度にて調節できる。第４の例による製造方法では、第１及び第２硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の種類および合計含有量以外の事項によっても、分光透過率を調節できる。
　硬化処理に使用される紫外線の波長は、硬化性樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の中心吸収波長から離れていることが好ましい。このため、従来の多くの場合、硬化性樹脂組成物、特に紫外線硬化性樹脂組成物は、一種類の紫外線吸収剤のみを含む。
　第４の例による製造方法では、紫外線吸収剤の種類および紫外線吸収剤の合計含有量以外の事項によっても、分光透過特性を調節できた。例えば、第１硬化性樹脂組成物内への紫外線吸収剤の含有量と第２硬化性樹脂組成物内への紫外線吸収剤の含有量との比によっても、分光透過特性を調節できる。第１硬化性樹脂組成物内における紫外線吸収剤の含有割合と第２硬化性樹脂組成物内における硬化性樹脂組成物の含有割合との比によっても、分光透過特性を調節できる。第１部分１２０Ａの厚み、第２部分１２０Ｂの厚み、及び第１部分１２０Ａの厚みと第２部分１２０Ｂの厚みとの比の一以上によっても、分光透過率を調節できる。結果として、第４の例による製造方法によれば、より高い自由度にて、光学シート１１０の分光透過特性を調節できる。
　また、第１面１１１を形成する面から第２硬化性樹脂組成物の塗膜を露光することにより、第１部分１２０Ａに含まれる紫外線吸収剤の影響を回避して、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化できる。すなわち、第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化する際、第１硬化性樹脂組成物に含有される紫外線吸収剤の影響を抑制できる。したがって、第１硬化性樹脂組成物、及び第１層１２０の第１部分１２０Ａに含有される紫外線吸収剤の種類、含有量、含有割合を高い自由度で選択できる。これにより、所望の分光透過特性を第１層１２０及び光学シート１１０に付与できる。
　さらに、第１層１２０の厚み方向における一部分、例えば第１部分１２０Ａに、紫外線吸収剤を偏在させることができる。したがって、紫外線吸収剤を有効に活用して、効率的にブルーライトを捕捉できる。この点からも、所望の分光透過特性を第１層１２０及び光学シート１１０に付与できる。また、所望の分光透過特性を光学シート１１０に付与しながら、第１面１１１での硬度及び耐擦傷性を向上できる。
＜シート物品及び巻体＞
　上述した光学シート１１０の製造方法によれば、図３に示すように、多数の光学シート１１０を含む長尺のシート物品５を製造できる。長尺のシート物品５を所定の大きさに断裁することによって、光学シート１１０が得られる。この例によれば、種々の寸法を有した光学シート１１０を、ニーズに合わせて、長尺のシート物品５から得ることができる。したがって、種々の寸法を有した光学シート１１０を適時に提供できる。図３に示すように、巻取軸線ＲＡを中心として巻取コア６に巻き取った巻物７としてシート物品５を取り扱うことにより、シート物品５の取り扱い性を改善できる。
＜選定方法および選定工程＞
　光学シートの製造方法は、上述した光学シートを製造するステップに加え、製造された光学シート１１０を選定するステップを更に含んでもよい。光学シート１１０を選定するステップは、厚み比を測定するステップと、波長４１０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、を含んでもよい。厚み比は、第１層１２０の厚みＴ１２０（μｍ）の第２層１３０の厚みＴ１３０（μｍ）に対する比である。光学シート１１０を選定するステップは、厚み比と、波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップを、更に含んでもよい。厚み比は１．５以上７．５以下を合格としてもよい。波長４１０ｎｍにおける分光透過率は１５％以下を合格としてもよい。波長４４０ｎｍにおける分光透過率は７０％以上を合格としてもよい。厚み比、波長４１０ｎｍにおける分光透過率、及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率のすべてが合格となった、光学シート１１０を良品として選定してもよい。良品として選定された光学シート１１０は、優れたブルーライトカット機能を有し、且つ第１面１１１において高い硬度を有する。この選定ステップによれば、フェルトやスチールウールを用いた擦傷試験を実施することなく、優れた耐擦傷性を有する光学シートを高精度に選定できる。
＜＜＜偏光板５０、タッチパネル部材５５、表示装置６０＞＞＞
　図４～図６を参照して第１実施形態で説明したように、光学シート１１０は、偏光板５０、タッチパネル部材５５、及び表示装置６０の一以上に適用され得る。
＜＜＜＜第２実施形態の実施例＞＞＞＞
　本開示を実施例により更に詳細に説明する。本開示は以下の実施例によって限定されない。
＜＜＜１．光学シートの作製＞＞＞
　実施例２１～２７及び比較例２１～２４に係る光学シートを作製した。
＜＜実施例２１＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、第１硬化性樹脂組成物２Ａを塗布し、基材フィルム上に第１塗膜を形成した。第１硬化性樹脂組成物２Ａの作製方法については後述する。次に、４０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。その後、４０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量６６ｍＪ／ｃｍ２で、第１塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射によって第１塗膜を硬化させ、第１層の第１部分を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．０μｍの第１部分が作製される量とした。
　次に、第１部分上に、下記処方の第２硬化性樹脂組成物２Ａを塗布し、基材フィルム上に第２塗膜を形成した。第２硬化性樹脂組成物２Ａの固形分は４７％であった。第２硬化性樹脂組成物２Ａは、紫外線吸収剤を含んでいなかった。次に、６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。その後、７０℃×２０秒（乾燥風速０．３ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量２８８ｍＪ／ｃｍ２で、第２塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射により第２塗膜を硬化させ、第１層の第２部分を基材フィルム及び第１部分上に作製した。第２硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材層や第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　以上により、実施例２１に係る光学シートが得られた。この光学シートにおいて、第１部分及び第２部分によって第１層が構成されていた。
　後述の厚み測定時に、実施例２１に係る光学シートの断面を観察した。断面の観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。また、第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜第１硬化性樹脂組成物２Ａ＞
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を合成し、次に、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーを合成することによって、第１硬化性樹脂組成物２Ａを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の合成）
　２００ｍＬの４つ口フラスコに、玉付きコンデンサー、水銀温度計、及び撹拌装置を取り付けた。６－［５－（２－ヒドロキシエチル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］ベンゾ［１，３］ジオキソール－５－オール４．０ｇ（０．０１３モル）、トルエン４０ｍＬ、メタクリル酸１．８ｇ（０．０２１モル）、メタンスルホン酸０．４ｇ（０．００４モル）を４つ口フラスコに入れた。４つ口フラスコ内の内容物を、１１０～１１５℃で４時間還流脱水した。次いで、水３０ｍＬ、炭酸ナトリウム０．６ｇ（０．００６モル）を４つ口フラスコ内に加えた。その後、４つ口フラスコを静置して、下層部の水層を分離して除去した。次に、４つ口フラスコ内に活性炭０．２ｇを加え、内容物を還流撹拌して脱色させた。その後、４つ口フラスコから取り出した内容物をろ過した。得られたろ液からトルエン４０ｍＬを減圧で回収した。トルエンが除去されたろ液に、イソプロピルアルコール１００ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。得られた結晶をイソプロピルアルコール４０ｍＬで洗浄した。その後、結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、黄色結晶を得た。得られた黄色結晶４．２ｇを、イソプロピルアルコールを用いて、リパルプ洗浄した。次に、洗浄済みの黄色結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体として、３．４ｇの２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーの合成）
　四つ口フラスコに、ジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、撹拌装置を取り付けた。四つ口フラスコ内に、下記を収容して攪拌した。「Ｘ」は、後述する値とした。
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート　Ｘ質量部
・（他の単量体）メチルメタクリレート　１００－Ｘ）質量部
・（溶媒）トルエン２０質量部、メチルエチルケトン　２０質量部
・（重合開始剤）１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）　０．６質量部
　次に、窒素ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換した後、反応液温度９０～９６℃で、１０時間、還流状態にて、フラスコ内の内容物を重合反応させた。重合反応終了後、フラスコ内に、トルエン１０質量部、ＭＥＫ１０質量部を追加した。以上により、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）溶液１６０．６質量部を得た。
　以下を混合して、中間組成物を調整した。
・多官能モノマー（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の質量比Ｘ＝４０質量部でＭＭＡ及び紫外線吸収剤に反応結合されたポリマー）
・溶剤（質量比３０：７０にてＭＥＫ及びトルエンを混合した溶剤）
多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）は、固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせた。
　次いで、得られた中間組成物３６０質量部に対し、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア８１９を４質量部）と、レベリング剤（共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部）と、を混ぜ合わせ、よく攪拌することによって、第１硬化性樹脂組成物２Ａを調製した。得られた第１硬化性樹脂組成物２Ａは、固形分２７．５％を含んでいた。
＜第２硬化性樹脂組成物２Ａ＞
・紫外線硬化型アクリレート含有組成物　５０質量部（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・紫外線硬化型ウレタンアクリレート含有組成物　５０質量部（荒川化学工業社製、商品名「ビームセット５７７」）
・レベリング剤　０．４質量部（共栄社、商品名「ＬＥ－３０４」）
・光重合開始剤　４質量部（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・易滑剤　２０質量部（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・溶剤　（質量比５５：４８にてメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンを混合した溶剤）
＜＜実施例２２＞＞
　実施例２２は、第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を少なくした点において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２２の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み２．６μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例２２に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例２３＞＞
　実施例２３は、第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を多くした点において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２３の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例２３に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例２４＞＞
　実施例２４は、第１塗膜の乾燥条件を変更した点において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２４の光学シートを得た。実施例２４において、第１塗膜を、まず６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で乾燥し、次に６０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で乾燥した。
　後述の厚み測定時に、実施例２４に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例２５＞＞
　実施例２５は、第１硬化性樹脂組成物の固形分割合及び第２硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物の塗布量を多くした点と、において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２５の光学シートを得た。実施例２５において、固形分を３５％とした第１硬化性樹脂組成物を用いた。実施例２５で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物２Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。実施例２５において、固形分を５２％とした第２硬化性樹脂組成物を用いた。実施例２５で用いた第２硬化性樹脂組成物は、第２硬化性樹脂組成物２Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。第２硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルムや第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み６．０μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例２５に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例２６＞＞
　実施例２６は、第１硬化性樹脂組成物の固形分割合及び第２硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２６の光学シートを得た。実施例２６において、固形分を２０％とした第１硬化性樹脂組成物を用いた。実施例２６で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物２Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。実施例２６において、固形分を４０％とした第２硬化性樹脂組成物を用いた。実施例２６で用いた第２硬化性樹脂組成物は、第２硬化性樹脂組成物２Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。
　後述の厚み測定時に、実施例２６に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例２７＞＞
　実施例２７は、第１硬化性樹脂組成物２Ａのレベリング剤を省いた点と、第２硬化性樹脂組成物２Ａのレベリング剤を変更した点とにおいて、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例２７の光学シートを得た。実施例２７において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」を省いた点において上述の第１硬化性樹脂組成物２Ａと異なり、その他において上述の第１硬化性樹脂組成物２Ａと同一とした。実施例２７において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．３質量部」を用いた点において上述の第２硬化性樹脂組成物２Ａと異なっていた。実施例２７において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第２硬化性樹脂組成物２Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、実施例２７に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例２１＞＞
　比較例２１は、基材フィルムを変更した点と、第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を多くし且つ第２硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を少なくした点と、第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量を少なくした点と、第１硬化性樹脂組成物２Ａのレベリング剤を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物２Ａのレベリング剤を変更した点と、において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例２１の光学シートを得た。
　比較例２１において、厚み４０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルムを用いた。比較例２１の基材フィルムの可塑剤の含有割合は、実施例２１の基材フィルムの可塑剤の含有割合より多かった。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量は、１３２ｍＪ／ｃｍ２とした。
　比較例２１において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－５６８、０．２質量部」を用いた点において上述の第１硬化性樹脂組成物２Ａと異なっていた。比較例２１において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第１硬化性樹脂組成物２Ａと同一とした。
　比較例２１において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．４質量部」を用いた点において上述の第２硬化性樹脂組成物２Ａと異なっていた。比較例２１において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第２硬化性樹脂組成物２Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例２１に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例２２＞＞
　比較例２２は、第１硬化性樹脂組成物の組成を変更した点と、第１硬化性樹脂組成物の塗布量を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を変更した点と、において、上述の実施例２１と異なり、その他において実施例２１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例２２の光学シートを得た。実施例２１で用いた第１硬化性樹脂組成物２Ａは、固形分質量比２０：８０で混合された多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）を含んでいた。比較例２２で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物２Ａの多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）に代えて、質量比９５：５で混合された多官能モノマー及びインドール系紫外線吸収剤を混合することによって、得られた。比較例２２で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれた多官能モノマーは、第１硬化性樹脂組成物２Ａに含まれた多官能モノマーと同一とした。比較例２２で用いた第１硬化性樹脂組成物の固形分割合は、第１硬化性樹脂組成物２Ａの固形分割合と同一で、２７．５％であった。比較例２２で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれたインドール系紫外線吸収剤は、オリエント化学工業社製、商品名「BONASORB UA-3912」とした。
　第１硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした第２硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み８．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、比較例２２に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例２３＞＞
　比較例２３は、第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量を多くした点において上述の比較例２１と異なり、その他において比較例２１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例２３の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．５μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、比較例２３に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例２４＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、実施例２１で用いた第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いて、第１層を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物２Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第１部分が作製される量とした。以上により比較例２４に係る光学シートを得た。すなわち、比較例２４に係る光学シートにおいて、第１層は、第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いて作製された第１部分のみによって構成されていた。
　比較例２４において第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いて作製される層の厚みは、実施例２１において第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いて作製される層の厚みと異なっていた。その他において、比較例２４における第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いた第１層の作製方法及び作成条件は、実施例２１における第１硬化性樹脂組成物２Ａを用いた第１部分の作製方法及び作成条件と同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例２４に係る光学シートの断面を、実施例２１と同様の方法で観察した。第１硬化性樹脂組成物２Ａが基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。
＜＜＜２．測定および評価＞＞＞
　次に説明するように、実施例及び比較例に係る光学シートの測定及び評価を行った。各測定及び評価を行う際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とした。各測定及び評価の開始前に、対象となるサンプルを上述の試験環境に１６時間配置した。
＜＜２－１．厚み及び厚み比＞＞
　次の第１ステップ及び第２ステップにより、厚み測定サンプルを作製した。
（第１ステップ）
　実施例及び比較例に係る光学シートから、カットサンプルを切り出した。カットサンプルの大きさは、縦１０ｍｍ×横３ｍｍ程度の短冊状とした。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製した。
　包埋サンプルは、次の手順で作製した。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込んだ。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させた。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルを得た。包埋サンプルの形状はブロック状とした。
　シリコン包埋板は、堂阪イーエム社製の包埋板を用いた。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とした。包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋用の樹脂は、常温で１２時間放置することにより、硬化させた。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルをダイヤモンドナイフで切断して、切片サンプルを作製した。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿うようにした。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとした。
　包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。ブロック状の包埋サンプルを切断する際、まず、粗トリミングとして大まかに切断し、最終的に、ダイヤモンドナイフで精密にトリミングして、切片サンプルを得た。
　上述したように走査型透過電子顕微鏡による厚み測定サンプルの観察画像を用いて、各層の厚みを測定した。厚み測定サンプルの観察前に、厚み測定サンプルを染色した。染色には、四酸化オスミウムを用いた。走査型透過電子顕微鏡を用いて染色された厚み測定サンプルを撮像し、厚み測定サンプルの観察画像を取得した。走査型透過電子顕微鏡として、株式会社日立ハイテク社製のＳ４８００を用いた。撮像条件は次のとおりとした。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　各例の一つの厚み測定サンプルから１０箇所の観察画像を取得した。１０箇所の観察画像は、対象となる光学シートの第１方向に直交する方向に１０μｍピッチで離れた１０箇所の観察位置（測定位置）において取得した。厚み測定サンプルの各観察画像から、各例に係る光学シートについての第１層の厚みＴ１２０（μｍ）及び第２層の厚みＴ１３０（μｍ）を測定した。各観察画像から測定された第１層の厚みＴ１２０（μｍ）及び第２層の厚みＴ１３０（μｍ）に基づいて、厚み比（Ｔ１２０／Ｔ１３０）を算出した。
　１０箇所の観察画像から測定された厚みＴ１２０（μｍ）に関する１０の測定値の算出平均値を、第１層の厚みＴ１２０（μｍ）とした。１０箇所の観察画像から測定された厚みＴ１３０（μｍ）に関する１０の測定値の算出平均値を、第２層の厚みＴ１３０（μｍ）とした。１０箇所の観察画像から測定された厚み比（Ｔ１２０／Ｔ１３０）に関する１０の値の算出平均値を、光学シートの厚み比（Ｔ１２０／Ｔ１３０）とした。第１層の厚み（μｍ）の測定結果、第２層の厚み（μｍ）の測定結果、及び厚み比（Ｔ１２０／Ｔ１３０）の測定結果を、表３に示す。表３において、厚み比が１．５以上７．５以下となっている例について「ＯＫ」と表示し、それ以外の例について「ＮＧ」と表示した。
＜＜２－２．分光透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの分光透過率（％）を測定した。波長３８０ｎｍ、波長４１０ｎｍ、波長４２０ｎｍ、及び波長４４０ｎｍについて分光透過率（％）を測定した。分光透過率（％）の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。各波長での分光透過率の測定結果を表３に示す。表３において、４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下であって、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である例について「ＯＫ」と表示し、それ以外の例について「ＮＧ」と表示した。
　実施例２１～２７及び比較例２１～２４に係る光学シートを、市販されている有機ＥＬ表示装置の表示面上に配置して、光学シート越しに、有機ＥＬ表示装置によって表示された画像を観察した。実施例２１～２７、比較例２１、比較例２３、及び比較例２４については、光学シートを設置した場合の画像と、光学シートを設置しない場合の画像と、の間で色味の変化を知覚できなかった。比較例２２については、光学シートを設置した際に、画像の色味の変化が確認された。
＜＜２－３．鉛筆硬度＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについて鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度の測定には、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆硬度試験機を用いた。上述した評価基準にて評価された鉛筆硬度を表３に示す。
＜＜２－４．スチールウール耐擦傷性試験での耐荷重＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、３０ｍｍ×２５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについてスチールウール耐擦傷性試験を実施し、耐荷重を測定した。すべり片をサンプルに押し付ける荷重は、５０ｇ、１００ｇ、１５０ｇ、及び２００ｇまで変更した。スチールウール耐擦傷性試験には、ＳＡＭ　ＪＥＥ　ＴＥＣＨ社製の対ＳＷ試験機「ＳＪＴＲ－０５３」を用いた。上述した評価基準にて評価されたスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重を表３に示す。
＜＜２－５．変形＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、一辺１０ｃｍの正方形形状のサンプルを切り出した。作製された光学シートの長手方向（言い換えると機械方向）に対して、正方形の各辺が４５°傾斜するようにして、光学シートから正方形形状のサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。
　光学シートの第２面が定盤に接触するようにして、サンプルを定盤上に配置した。サンプルの四隅における定盤からの高さを浮き（ｍｍ）として測定した。一つのサンプルについて測定された浮きの四つの測定値のうちの最大値を当該サンプルの浮きとした。各例の光学シートについて、三つのサンプルのそれぞれについて浮きを測定した。三つの浮き測定値の算術平均値を、当該例についての変形の量とした。変形の測定結果を表３に示す。
　比較例２２については、定盤上に置いたサンプルが筒状にカールし、変形量を測定できなかった。
＜＜２－６．色味ａ＊値及びｂ＊値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートのａ＊値及びｂ＊値を測定した。ａ＊値及びｂ＊値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。ａ＊値及びｂ＊値の測定結果を表３に示す。
＜＜２－７．Ｘ線光電子分光分析法＞＞
　実施例２１、実施例２７及び比較例２１に係る光学シートから、５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、Ｘ線光電子分光分析法により第１面での元素比率を定量評価した。Ｘ線光電子分光分析法での測定には、Ｋｒａｔｏｓ製のＡＸＩＳ－ＮＯＶＡを使用した。次の測定条件が選択された。
（測定条件）
測定手法：Ｗｉｄｅ・Ｎａｒｒｏｗ
Ｘ線源：モノクロＡ１Ｋα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
帯電中和機構：ＯＮ
測定領域：３００μｍ×７００μｍ
Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：Ｓｕｒｖｅｙ：１６０ｅＶ、Ｎａｒｒｏｗ：４０ｅＶ
光電子取込角度：９０°
オートＺ：ＯＮ
ピークシフト補正：Ｃ１ｓピークにおいて、Ｃ－Ｃのピークが２８５．０ｅＶとなるように補正
ナローピークの波形分離：装置附属の解析ソフトにてＧＬ関数を用いて実施
エッチングイオン：Ａｒ単原子イオン
　検出された全ての元素量を１００として各元素の検出された量の割合（％）を、表３に示す。
　実施例２１では、炭素元素に対するケイ素元素の比が０．０２（２％）以上となった。実施例２１について、第１層の断面を観察した。断面観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、易滑剤として添加したシリカが、凝集して偏在することなく、分散していた。
＜＜２－８．各層の断面でのインデンテーション硬さ＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、１ｍｍ×２０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各層の断面が露出した埋包サンプルを作製した。
　包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。
　各例に係る光学シートの切片サンプルについて、第１層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）、第２層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）、及び基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）を、上述した方法にて測定した。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定には、ＢＲＵＫＥＲ社製の測定装置「ＴＩ－９５０　ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いた。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定に用いた圧子は、ＢＲＵＫＥＲ社製の「ＴＩ－００３９」とした。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）の測定結果を表３に示す。各層の断面でのインデンテーション硬さは、１０箇所の測定位置で測定したインデンテーション硬さの算術平均値とした。１０箇所の測定位置は、光学シートの第１方向に直交する方向に５μｍピッチで離れた、一つの切片サンプルの１０箇所の位置とした。
＜＜２－９．全光線透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの全光線透過率を測定した。全光線透過率の測定には、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ－１５０」を用いた。全光線透過率の測定結果を表３に示す。
＜＜２－１０．黄色度：ＹＩ値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの黄色度ＹＩ値を測定した。黄色度ＹＩ値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。黄色度ＹＩ値の測定結果を表３に示す。
＜＜＜＜第３実施形態＞＞＞＞
　第３実施形態について説明する。
＜＜＜光学シート２１０＞＞＞
　第３実施形態において、光学シート２１０は第１層２２０を含む。第１層２２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む。紫外線吸収剤を含む第１層２２０は、光学シート２１０にブルーライトカット機能を付与する。第３実施形態において、光学シート２１０は、分光透過率に関し、次の条件（３Ａ）～（３Ｃ）を満たしている。
（３Ａ）波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は１％未満である。
（３Ｂ）波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は７０％以上である。
（３Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する。
　波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について、光学シート２１０の分光透過率を測定する。分光透過率の測定結果を用いて、条件（３Ａ）－（３Ｃ）が満たされているか否かが判定される。条件（３Ａ）については、波長３８０．０における分光透過率の測定値に基づいて判定される。条件（３Ｂ）については、波長４４０．０における分光透過率の測定値に基づいて判定される。
　分光透過率の傾きは、波長１ｎｍあたりの透過率（％）の増加量を示す。分光透過率の傾きは、波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について測定された分光透過率を用いて算出される。例えば、波長４０９．５ｎｍにおける分光透過率が４１％であって、波長４１０．５ｎｍにおける分光透過率が４４％である場合、波長４１０ｎｍにおける分光透過率の傾きは、３．０％／ｎｍ＝（４４．０－４１．０）／（４１０．５－４０９．５）となる。波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である。
　分光透過率の傾きが最大となる波長が４００．０ｎｍ以上４２０．０以下であれば、条件（３Ｃ）が満たされたと判断される。分光透過率の傾きが最大となる波長が３９５．５ｎｍ以下であれば、条件（３Ｃ）が満たされていないと判断される。分光透過率の傾きが最大となる波長が４２０．５ｎｍ以上であれば、条件（３Ｃ）が満たされていないと判断される。
　光学シート２１０は、条件（３Ａ）に関連して、波長が３８０ｎｍ以下となる光を高効率で遮光してもよい。波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、１％未満でもよく、０．５％以下でもよく、０．４％以下でもよい。
　光学シート２１０は、条件（３Ｂ）に関連して、波長が４４０ｎｍ以上となる光を高透過率で透過してもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、８５％以上でもよい。
　条件（３Ｃ）を有することにより、波長の増加にともなった分光透過率の増加態様が規定される。分光透過率の傾きは、分光透過率を表す関数の微分式の値と、同様の意味を持つ。したがって、分光透過率の傾きが最大値となる波長及びその周囲の波長において、分光透過率は、波長の増加にともなって急増する。条件（３Ａ）及び条件（３Ｃ）が満たされることによって、３８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域の光は、十分な効率で、光学シート２１０によって遮光される。条件（３Ｂ）及び条件（３Ｃ）が満たされることによって、４２０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の波長域の光は、十分な透過率で、光学シート２１０を透過できる。
　光学シート２１０が波長４００ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、ブルーライトによる不具合を抑制できる。光学シート２１０を表示装置６０（図６参照）に適用した場合、表示装置６０から射出した画像光は光学シート２１０を透過し得る。光学シート２１０は、画像光から波長４００ｎｍ以下となる光を十分に遮光できる。一例として、画像光から波長４００ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、画像の観察者の眼精疲労を緩和できる。他の例として、太陽光等の外光が光学シート２１０に入射し得る。外光から波長４００ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、表示素子６１（図６参照）の劣化を抑制できる。より具体的には、有機ＥＬパネル（有機エレクトロルミネッセンスパネル）のＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）の劣化を抑制できる。外光から波長４００ｎｍ以下となる光を十分に遮光することにより、偏光板５０（図４参照）の偏光子５２の劣化を抑制できる。
　波長４２０ｎｍ以上となる光は、光学シート２１０を高透過率で透過できる。これにより、光学シート２１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。
　条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４０５ｎｍ以上でもよく、４０８ｎｍ以上でもよく、４１０ｎｍ以上でもよく、４１２ｎｍ以上でもよく、４１５ｎｍ以上でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長の下限値をこのように設定することにより、ブルーライトをより有効に遮光できる。
　条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４１９．５ｎｍ以下でもよく、４１９ｎｍ以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長の上限値をこのように設定することにより、光学シート２１０越しに観察した画像等の色味の変化をより効果的に抑制できる。
　分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４０５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４０８ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１２ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよく、４１５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４００ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよく、４０５ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよく、４０８ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよく、４１０ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよく、４１２ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよく、４１５ｎｍ以上４１９．５ｎｍ以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長は、４００ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４０５ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４０８ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１０ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１２ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよく、４１５ｎｍ以上４１９ｎｍ以下でもよい。
　条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値、すなわち、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きの最大値に、下限を設定してもよい。分光透過率の最大値に下限を設定することにより、ブルーライトによる影響を効果的に抑制できる。条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上でもよい。
　　条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値に、上限を設定してもよい。分光透過率の最大値に上限を設定することにより、より自然に色味の変化や劣化を抑制できる。条件（３Ｃ）で規定された分光透過率の傾きの最大値は、８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、５．０（％／ｎｍ）以下でもよい。
　分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上８．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上７．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上６．０（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上５．５（％／ｎｍ）以下でもよい。分光透過率の傾きの最大値は、２．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、２．５（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、３．５（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよく、４．０（％／ｎｍ）以上５．０（％／ｎｍ）以下でもよい。
　波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、１％未満でもよく、０．５％以下でもよく、０．４％以下でもよい。波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率の上限値をこのように設定することにより、ブルーライトをより有効に遮光できる。波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率の下限は特に設定されない。波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、０％以上でもよく、０％より大きくてもよい。
　波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、０％以上１％未満でもよく、０％以上０．５％以下でもよく、０％以上０．４％以下でもよい。波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、０％より大きく１％未満でもよく、０％より大きく０．５％以下でもよく、０％より大きく０．４％以下でもよい。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、７０％以上でもよく、７５％以上でもよく、８０％以上でもよく、８５％以上でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率の下限をこのように設定することにより、光学シート２１０を透過した画像の色味変化を有効に抑制できる。波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率の上限は特に設定されない。波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、７０％以上１００％以下でもよく、７５％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、８５％以上１００％以下でもよい。波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は、７０％以上１００％未満でもよく、７５％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、８５％以上１００％未満でもよい。
　分光透過率の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　図１０は、サンプルＣ１～Ｃ５に関する光学シートの分光透過率及び分光透過率の傾きを示すグラフである。サンプルＣ１～Ｃ３は、条件（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）のすべてを満たしている。サンプルＣ１は、後述の実施例３１に係る光学シートについての分光透過率を示している。サンプルＣ２は、後述の実施例３２に係る光学シートについての分光透過率を示している。サンプルＣ３は、後述の実施例３６に係る光学シートについての分光透過率を示している。
　図１０に示すように、分光透過率（％）は、波長の増加にともなって、単調増加してもよい。波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、０より大きくてもよい。これらの例によれば、光学シート２１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化をより自然に抑制できる。
　第１層２２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を更に含む。本明細書では、硬化性樹脂組成物の硬化物を樹脂硬化物とも呼ぶ。樹脂硬化物は、第１層２２０及び光学シート２１０に高硬度を付与できる。第１層２２０は、いわゆるハードコート層として機能する。硬度が改善された光学シート２１０は、耐擦傷性に優れる。光学シート２１０の使用時に、光学シート２１０の傷付きを抑制できる。光学シート２１０は、使用中に指やペンの接触が想定されるタッチパネル部材５５（図５参照）にも好適である。
　ところで、従来の光学シートにおいて、樹脂硬化物を含む樹脂層に十分な硬度を付与できないことがあった。この現象は、樹脂層に含まれる紫外線吸収剤に起因すると考えられた。樹脂硬化物を含む樹脂層は、硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させることによって得られる。塗膜は、塗膜の露光によって架橋反応が進み、硬化し得る。露光には、通常、高エネルギーの短波長光が用いられる。硬化性樹脂組成物に添加された紫外線吸収剤は、塗膜の硬化処理に用いられる光を吸収し得る。すなわち、紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の硬化プロセスを阻害し得る。
　樹脂硬化物を含む樹脂層の硬度が低いと、耐擦傷性が大きく低下し得る。樹脂硬化物を含む第１層の硬度が低いと、光学シートの使用時に、紫外線吸収剤が第１層からブリードアウトし得る。紫外線吸収剤がブリードアウトすると、光学シート２１０のブルーライトカット機能も不十分となる。
　第３実施形態では、第１層２２０及び光学シート２１０の硬度を向上させるための工夫がなされている。第３実施形態による光学シート２１０は、第１層２２０に隣接する第２層２３０を含む。第１層２２０の厚みＴ２２０（μｍ）の第２層２３０の厚みＴ２３０（μｍ）に対する比を「厚み比」（＝Ｔ２２０／Ｔ２３０）と定義する。厚み比は、１．２以上７．５以下である。
　厚み比は、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて特定される。まず、第１層２２０の厚みＴ２２０及び第２層２３０の厚みＴ２３０を測定する。評価対象となる光学シート２１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ２２０及び厚みＴ２３０を測定する。走査透過型電子顕微で観察される厚み方向に直交する方向における同一の位置にて測定された厚み第１層２２０のＴ２２０及び第２層２３０の厚みＴ２３０により、当該測定位置での厚み比を算出する。１０箇所の測定位置において厚みＴ２２０及び厚みＴ２３０を測定し、１０個の厚み比の計算値を算出する。１０個の厚み比の計算値の算術平均値として、光学シート２１０の厚み比が特定される。
　評価対象となる光学シート２１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、次の第１ステップ及び第２ステップにより得られる。
（第１ステップ）
　評価対象となる光学シートから、カットサンプルを切り出す。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認する。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製する。
　包埋サンプルは、次の手順で作製する。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置する。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込む。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させる。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルが得られる。包埋サンプルの形状はブロック状とする。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とする。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルを切断して、切片サンプルを作製する。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿った面を含む。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとする。
　光学シートの断面の観察画像を取得する際、走査型透過電子顕微鏡の撮像条件は次の通りとする。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　図９に示すように、光学シート２１０は、第１方向Ｄ１に対向する第１面２１１及び第２面２１２を含んでもよい。第１面２１１及び第２面２１２は、光学シート２１０の一対の主面を構成する。第１方向Ｄ１は、光学シート２１０に含まれる複数の層の積層方向である。第１方向Ｄ１における第１面２１１から第２面２１２に向けて、第１層２２０及び第２層２３０は、この順で位置している。
　後述する実施例によっても実証されているように、厚み比を１．２以上７．５以下とすることによって、第１面２１１での硬度を向上でき、第１面２１１の耐擦傷性も向上できる。第３実施形態による光学シート２１０によれば、第１面２１１の鉛筆硬度を２Ｈ以上にできる。第３実施形態による光学シート２１０によれば、第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は１５０ｇ以上にできる。第３実施形態による光学シート２１０によれば、押し込み深さを１００ｎｍとする第１面２１１のインデンテーション硬さを３３０ＭＰａ以上にできる。
　鉛筆硬度は、鉛筆の芯を評価対象となるサンプルに押し付けて動かした際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。鉛筆硬度の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　スチールウール耐擦傷性試験は、スチールウールを評価対象となるサンプルに押し付けて相対移動させた際に生じる傷等の欠陥に対する抵抗性を示す指標である。スチールウール耐擦傷性試験の耐荷重の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　インデンテーション硬さＨＩＴは、ナノインデンタを用いたナノインデンテーション法により測定される硬さである。第１層２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、光学シート２１０の法線方向に沿って第１層２２０の第１側面２２１から第２側面２２２に１．２μｍずらした位置とする。すなわち、第１層２２０が機能層２０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した第１位置２６にて、第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。インデンテーション硬さの測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　第１側面２２１及び第２側面２２２は、第１層２２０の一対の主面である。第１側面２２１は、第１層２２０の法線方向である第１方向Ｄ１における第１側に位置する。第１側面２２１は、第１方向Ｄ１において第１面２１１に近い面である。図９に示された例において、第１層２２０の第１側面２２１が光学シート２１０の第１面２１１を構成している。第２側面２２２は、第１方向Ｄ１における第２側に位置する。第２側面２２２は、第１方向Ｄ１において第２面２１２に近い面である。
　第１層２２０の厚みＴ２２０の第２層２３０の厚みＴ２３０に対する厚み比（Ｔ２２０／Ｔ２３０）が、第１層２２０の硬度及び光学シート２１０の第１面２１１での硬度に及ぼす影響の詳細は不明である。後述の実施例で実証されているように、樹脂硬化物及び紫外線吸収剤を含む第１層２２０に隣接する第２層２３０を、厚み比を満たすように、薄い層として設けることによって、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度が向上した。
　硬度改善の理由の一つとして、次のことが推察され得る。第２層２３０は、樹脂硬化物を含む第１層２２０よりも低硬度となり易い。この第２層２３０が第１層２２０よりも薄い適切な厚みを有すると、光学シート２１０への第１層２２０の密着性が確保され易くなり、加えて、第２層２３０の硬度が第１面２１１の硬度に反映されることが抑制され易くなる。本開示は、この推察に拘束されない。
　また、第１層２２０の第２層２３０に対する厚み比は、光学シート２１０の第１面２１１及び第１層２２０の硬度と、次の関係を有することも確認された。
　厚み比に下限を設定することにより、第１面２１１の硬度が向上した。厚み比は、１．２以上でもよく、更に、１．５以上でもよく、１．６以上でもよく、１．７以上でもよく、２．６以上でもよく、２．７以上でもよく、３．２以上でもよい。厚み比の下限をこのように設定することにより、第１面２１１の硬度を向上できる。第１面２１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上でもよく、３Ｈ以上でもよく、４Ｈ以上でもよい。第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、１５０ｇ以上でもよく、２００ｇ以上でもよく、２５０ｇ以上でもよく、３００ｇ以上でもよい。押し込み深さを１００ｎｍとする第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さは、３３０ＭＰａ以上でもよく、３３３ＭＰａ以上でもよく、３４２ＭＰａ以上でもよく、３７９ＭＰａ以上でもよい。
　第１面２１１の鉛筆硬度に上限は特に設定されない。第１面２１１の鉛筆硬度は、２Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、３Ｈ以上８Ｈ以下でもよく、４Ｈ以上８Ｈ以下でもよい。
　第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重に上限は特に設定されない。第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重は、１５０ｇ以上３００ｇ以下でもよく、２００ｇ以上３００ｇ以下でもよく、２５０ｇ以上３００ｇ以下でもよく、３００ｇでもよい。
　押し込み深さを１００ｎｍとする第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さに上限は特に設置されない。押し込み深さを１００ｎｍとする第１層１２０の断面でのインデンテーション硬さは、３３０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３３３ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３４２ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよく、３７９ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下でもよい。
　厚み比が大きくなり過ぎると、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度は低下し得る。厚み比に上限を設定することにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を向上できる。上述したように、厚み比は７．５以下でもよい。
　厚み比が大きくなり過ぎると、別の不具合が生じ得ることが確認された。厚み比に下限を設定することにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度が上昇する。しかしながら、厚み比が大きくなり過ぎると、光学シート２１０にカールや反りが発生し得る。厚み比に上限を設定することにより、カールや反り等の変形を抑制できる。厚み比は、７．５以下でもよく、更に、７．４以下でもよく、５．０以下でもよく、４．８以下でもよく、３．９以下でもよい。厚み比の上限をこのように設定することにより、光学シート２１０のカールや反り等の変形を抑制できる。また、厚み比の上限をこのように設定することにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１の硬度を向上できる。
　厚み比に上限を設定することによって、カールや反り等の変形を抑制し得る理由の詳細は不明である。変形抑制の理由の一つとして、次のことが推察され得る。第１層２２０は、樹脂硬化物を含むため、硬化処理時に収縮し得る。この硬化収縮は、光学シート２１０にカールや反り等の変形を生じさせ得る。厚み比に上限を設定することにより、第１層２２０に隣接する第２層２３０は、第１層２２０の厚みに対して一定割合以上の厚みを有する。したがって、第２層２３０が第１層２２０の変形を少なくとも部分的に吸収し、光学シート２１０の変形が抑制されると推察される。本開示は、この推察に拘束されない。
　厚み比は、１．２以上７．５以下でもよく、１．２以上７．４以下でもよく、１．２以上５．０以下でもよく、１．２以上４．８以下でもよく、１．２以上３．９以下でもよい。厚み比は、１．５以上７．５以下でもよく、１．５以上７．４以下でもよく、１．５以上５．０以下でもよく、１．５以上４．８以下でもよく、１．５以上３．９以下でもよい。厚み比は、１．６以上７．５以下でもよく、１．６以上７．４以下でもよく、１．６以上５．０以下でもよく、１．６以上４．８以下でもよく、１．６以上３．９以下でもよい。厚み比は、１．７以上７．５以下でもよく、１．７以上７．４以下でもよく、１．７以上５．０以下でもよく、１．７以上４．８以下でもよく、１．７以上３．９以下でもよい。厚み比は、２．６以上７．５以下でもよく、２．６以上７．４以下でもよく、２．６以上５．０以下でもよく、２．６以上４．８以下でもよく、２．６以上３．９以下でもよい。厚み比は、２．７以上７．５以下でもよく、２．７以上７．４以下でもよく、２．７以上５．０以下でもよく、２．７以上４．８以下でもよく、２．７以上３．９以下でもよい。厚み比は、３．２以上７．５以下でもよく、３．２以上７．４以下でもよく、３．２以上５．０以下でもよく、３．２以上４．８以下でもよく、３．２以上３．９以下でもよい。
　第１層２２０の厚みＴ２２０に下限を設定してもよい。第１層２２０の厚みに下限を設定することにより、第１面２１１での硬度を安定して向上できる。第１層２２０の厚みＴ２２０は、３．２μｍ以上でもよく、３．５μｍ以上でもよく、３．９μｍ以上でもよく、４．５μｍ以上でもよく、５．５μｍ以上でもよく、７．０μｍ以上でもよい。
　第１層２２０の厚みＴ２２０に上限を設定してもよい。第１層２２０の厚みに上限を設定することにより、光学シート２１０に生じるカールや反り等の変形を安定して抑制し得る。第１層２２０の厚みＴ２２０は、８．９μｍ以下でもよく、８．０μｍ以下でもよく、７．６μｍ以下でもよい。
　厚みＴ２２０は、３．２μｍ以上８．９μｍ以下でもよく、３．５μｍ以上８．９μｍ以下でもよく、３．９μｍ以上８．９μｍ以下でもよく、４．５μｍ以上８．９μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上８．９μｍ以下でもよく、７．０μｍ以上８．９μｍ以下でもよい。厚みＴ２２０は、３．２μｍ以上８．０μｍ以下でもよく、３．５μｍ以上８．０μｍ以下でもよく、３．９μｍ以上８．０μｍ以下でもよく、４．５μｍ以上８．０μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上８．０μｍ以下でもよく、７．０μｍ以上８．０μｍ以下でもよい。厚みＴ２２０は、３．２μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、３．５μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、３．９μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、４．５μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、５．５μｍ以上７．６μｍ以下でもよく、７．０μｍ以上７．６μｍ以下でもよい。
　第２層２３０の厚みＴ２３０に下限を設定してもよい。第２層２３０の厚みに下限を設定することにより、光学シート２１０に生じるカールや反り等の変形を安定して抑制し得る。第２層２３０の厚みに下限を設定することにより、第１面２１１での硬度を安定して向上できる。第２層２３０の厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上でもよく、１．５μｍ以上でもよく、１．８μｍ以上でもよく、１．８μｍ以上でもよい。
　第２層２３０の厚みＴ２３０に上限を設定してもよい。第２層２３０の厚みに上限を設定することにより、第１面２１１での硬度を安定して向上できる。第２層２３０の厚みＴ２３０は、３．５μｍ以下でもよく、３．０μｍ以下でもよく、２．７ｍ以下でもよく、２．６μｍ以下でもよく、２．４μｍ以下でもよい。
　厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上３．５μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上３．５μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上３．５μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上３．５μｍ以下でもよい。厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上３．０μｍ以下でもよい。厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．７μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．７ｍ以下でもよい。厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上２．６μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．６μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．６μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．６μｍ以下でもよい。厚みＴ２３０は、１．２μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．５μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．４μｍ以下でもよく、１．８μｍ以上２．４μｍ以下でもよい。
　第１層２２０の厚みＴ２２０及び第２層２３０の厚みＴ２３０は、それぞれ、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて測定される。上述したように、評価対象となる光学シート２１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ２２０及び厚みＴ２３０を測定する。評価対象となる光学シート２１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、上述の第１ステップ及び第２ステップを経て得られる。第１層２２０について、１０箇所の測定位置で測定された１０の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ２２０が特定される。第２層２３０についても、１０箇所の測定位置で測定された１０個の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ２３０が特定される。
　第１層２２０の硬度は第２層２３０の硬度より大きくてもよい。第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴは、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴよりも大きくてもよい。これらの例によれば、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート２１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層２３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、第２層２３０の厚み方向厚み方向の中心となる位置とする。すなわち、第２層２３０が中間層３０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した中央位置３１にて、第２層２３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。この測定位置に圧子を押し込むことにより、第２層２３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。第２層２３０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは、その他において、上述した第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定方法と同一の測定方法にて測定される。
　第２層２３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。この例によれば、第１層２２０の硬度が第２層２３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート２１０の第１面２１１での硬度が安定して高硬度となる。これにより、第１層２２０の硬度、第１面２１１での鉛筆硬度、第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート２１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層２３０は、第１層２２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、第２層２３０と第１層２２０との密着性を向上できる。第２層２３０と第１層２２０との密着性が向上すると、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。これにより、第１面２１１での鉛筆硬度、第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。
　フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）によれば、各層に含まれる化学結合を定量的に分析することができる。このフーリエ変換型赤外分光法を用いることによって、第２層２３０が第１層２２０に含まれる樹脂成分を含むか否かを判定できる。
　第２層２３０は、モノマーを含んでもよい。この例によれば、第１層２２０の硬度が第２層２３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層２２０の硬度及び光学シート２１０の第１面２１１での硬度を安定して向上できる。これにより、第１面２１１での鉛筆硬度、第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート２１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　第２層２３０は、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれた少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。この例によれば、第１層２２０の硬度が第２層２３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。また、第２層２３０と第１層２２０との密着性を向上できる。これらにより、第１層２２０の硬度及び光学シート２１０の第１面２１１での硬度を安定して向上できる。
　第２層２３０がモノマーを含むか否かは、四酸化オスミウムを用いた染色により、判断される。まず、光学シート２１０から断面サンプルを切削により削りだす。サンプルの厚みは約８０ｎｍとする。削りだしたサンプルは、Ｃｕメッシュ上に採取する。このサンプルを、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色する。走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて、染色処理されたサンプルの第２層２３０に該当する部分を観察する。染色処理により、第２層２３０に含まれ得る不飽和二重結合は色付く。したがって、観察したサンプルが染色により色付いていれば、第２層２３０がモノマーを含んでいると判断する。第２層２３０に含まれたモノマーが、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれていたモノマーと同一であるか否かは、フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）により化学結合を定量的に分析することによって、判断される。
　図９に示すように、光学シート２１０は基材層２４０を含んでもよい。第１方向Ｄ１における第１面２１１から第２面２１２に向けて、第１層２２０、第２層２３０、及び基材層２４０は、この順で配置されてもよい。図示された例において、第１層２２０は、第１側面２２２１及び第２側面２２２を含む。第１側面２２２１及び第２側面２２２は、第１層２２０の一対の主面を構成する。図示された例において、第１側面２２２１は第１面２１１を構成する。第２側面２２２は、第２層２３０に接触している。
　図９に示すように、基材層２４０の厚みＴ２４０は、第１層２２０の厚みＴ２２０より厚くてもよい。基材層２４０の厚みＴ２４０は、第２層２３０の厚みＴ２３０より厚くてもよい。基材層２４０の厚みＴ２４０は、第１層２２０の厚みＴ２２０と第２層２３０の厚みＴ２３０との合計厚みより厚くてもよい。このような厚みＴ２４０を有する基材層２４０によれば、第１層２２０及び第２層２３０を安定して支持できる。
　基材層２４０の厚みＴ２４０は、第１層２２０の厚みＴ２２０及び第２層２３０の厚みＴ２３０と同様に、走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）を用いて測定される。評価対象となる光学シート２１０の断面を走査型透過電子顕微鏡で観察し、走査型透過電子顕微鏡での観察画像から厚みＴ２４０を測定する。評価対象となる光学シート２１０の断面の観察画像は、厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、上述の第１ステップ及び第２ステップを経て得られる。基材層２４０について、１０箇所の測定位置で測定された１０の厚み測定値の算術平均値として、厚みＴ２４０が特定される。
　第２層２３０は、基材層２４０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。この例によれば、第２層２３０と基材層２４０との密着性を向上できる。第２層２３０と基材層２４０との密着性も、第１層２２０の硬度向上及び第１面２１１での硬度向上に寄与し得る。第２層２３０と基材層２４０との密着性が向上すると、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を向上できる。これにより、第１面２１１での鉛筆硬度、第１面２１１でのスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重、及び第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴが上昇し得る。
　第２層２３０は、第１層２２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と、基材層２４０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と、を含んでもよい。この例によれば、第１層２２０の硬度が第２層２３０の硬度より大きいといった関係が安定して生じる。例えば、第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴを、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴより安定して大きくできる。この硬度の関係と上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。
　加えて、第１層２２０と第２層２３０との密着性が向上し、かつ第２層２３０と基材層２４０との密着性が向上し得る。密着性の向上により、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。
　第２層２３０は、第１層２２０に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。第２層２３０が紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を強化できる。
　さらに、第２層２３０は、第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層でもよい。第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層としての第２層２３０によれば、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度をより効果的に向上できる。混合層としての第２層２３０は、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物を基材フィルム２４５に浸透させた浸透層でもよい。基材層２４０及び第２層２３０は、共に、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム２４５によって構成されてもよい。基材フィルム２４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分が第２層２３０を構成してもよい。基材フィルム２４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分が基材層２４０を構成してもよい。
　第１方向に沿った光学シートの断面を走査型透過電子顕微鏡（Scanning Transmission Electron Microscopy: STEM）で観察することにより、浸透層の存在を確認できる。評価対象となる光学シート２１０の断面の観察画像は、上述の厚み測定サンプルを走査型透過電子顕微鏡で観察することによって得られる。厚み測定サンプルは、走査型透過電子顕微鏡での観察前に、染色される。染色に、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸等を用いてもよい。
　基材層２４０及び基材フィルム２４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂は、硬化性樹脂組成物が浸透し易い。したがって、第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層である第２層２３０を容易に作製できる。この例によれば、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。
　基材層２４０の硬度は第２層２３０の硬度より大きくてもよい。基材層２４０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴは、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さＨＩＴよりも大きくてもよい。これらの例によれば、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を安定して向上できる。また、上述した厚み比に関する条件との組み合わせにより、光学シート２１０のカールや反り等の変形を安定して抑制できる。
　基材層２４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定位置は、基材層２４０の厚み方向厚み方向の中心となる位置とする。すなわち、基材層２４０が基材層４０に該当すると仮定して、第１実施形態において図２Ａを参照して説明した中央位置４１にて、基材層２４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。この測定位置に圧子を押し込むことにより、基材層２４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは測定される。基材層２４０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴは、その他において、上述した第１層２２０の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定方法と同一の測定方法にて測定される。
　透過光により測定した光学シート２１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は、－３．０以上－１．６以下でもよい。透過光により測定した光学シート２１０のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は、３．５以上６．０以下でもよい。ａ＊値及びｂ＊値を上記範囲とすることにより、ブルーライトカット機能を有効としながら、光学シート２１０越しに観察した画像の色味の変化や劣化を抑制できる。ａ＊値及びｂ＊値の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート２１０の黄色度（ＹＩ値）は、１２以下でもよく、１１以下でもよく、１０以下でもよく、９．０以下でもよい。黄色度は、光学シート２１０の黄色味の着色度合いを示す指標となる。黄色度（ＹＩ値）に上記の上限を設定することにより、光学シート２１０の黄色味の着色を制限できる。黄色顔料を使用することなく、上記分光透過率を達成することにより、光学シート２１０を透過した画像の色味変化を抑制できる。
　光学シート２１０の黄色度（ＹＩ値）の下限値は特に設定されない。光学シート２１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上でもよく、０より大きくてもよい。
　光学シート２１０の黄色度（ＹＩ値）は、０以上１２以下でもよく、０以上１１以下でもよく、０以上１０以下でもよく、０以上９．０以下でもよい。光学シート２１０の黄色度（ＹＩ値）は、０より大きく１２以下でもよく、０より大きく１１以下でもよく、０より大きく１０以下でもよく、０より大きく９．０以下でもよい。
　黄色度の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート２１０の全光線透過率は、５０％以上でもよく、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。光学シート２１０の全光線透過率は、特に上限を有さない。光学シート２１０の全光線透過率は、１００％以下でもよく、１００％未満でもよい。
　光学シート２１０の全光線透過率は、５０％以上１００％以下でもよく、７０％以上１００％以下でもよく、８０％以上１００％以下でもよく、９０％以上１００％以下でもよい。光学シート２１０の全光線透過率は、５０％以上１００％未満でもよく、７０％以上１００％未満でもよく、８０％以上１００％未満でもよく、９０％以上１００％未満でもよい。
　全光線透過率の測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　光学シート２１０の透過ヘイズは、１．１％以下でもよく、０．５％以下でもよく、０．２％以下でもよい。光学シート２１０の透過ヘイズは、特に下限を有さない。光学シート２１０の透過ヘイズは、０％でもよく、０％より大きくてもよい。
　光学シート２１０の透過ヘイズは、０％以上１．１％以下でもよく、０％以上０．５％以下でもよく、０％以上０．２％以下でもよい。光学シート２１０の透過ヘイズは、０％より大きく１．１％以下でもよく、０％より大きく０．５％以下でもよく、０％より大きく０．２％以下でもよい。
　透過ヘイズの測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面２１１で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上でもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法による元素の定量分析結果において、炭素元素の量を１とした場合のケイ素元素の量は０．０２以上でもよい。ケイ素元素は、無機成分（シリカ）と有機成分（シリコーン）との合計とする。第１層２２０は、易滑剤として無機粒子を含んでもよい。炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤として添加された無機粒子の凝集、例えばシリカの凝集を抑制できる。すなわち、炭素元素に対するケイ素元素子の比を０．０２以上に設定することにより、易滑剤が有効に機能する。易滑剤によれば、光学シート２１０を重ねた際や、光学シート２１０を巻き取った際に、隣接する光学シート２１０同士が貼り付くことを抑制できる。
　第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物は、レベリング剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｓｉ系レベリング剤を用いることにより、炭素元素に対するケイ素元素の比を０．０２以上とすることができる。
　Ｘ線光電子分光分析法により第１面２１１で測定されたフッ素元素の比率を、０．１％以下にしてもよい。言い換えると、Ｘ線光電子分光分析法により検出された全元素量に対するフッ素元素の量の割合を、０．００１以下としてもよい。この例では、光学シート２１０の表層部に、実質的に、フッ素が検出されない。硬化性樹脂組成物に添加されるレベリング剤として、Ｆ系レベリング剤を用いないことにより、フッ素元素の比率を０．１％以下にできる。
　フッ素元素の比率を０．１％以下とすることにより、ＰＦＡＳが不純物として生成されることを抑制できる。ＰＦＡＳは、人工有機フッ素化合物として、生体蓄積性を懸念されている。ＰＦＡＳの生成を抑制することにより、環境負荷低減に貢献し得る。フッ素元素の比率を低減することにより、第１面１１での耐擦傷性も向上できる。
　Ｘ線光電子分光分析法によれば、光学シート２１０の表層部に存在する元素を定量的に分析できる。Ｘ線光電子分光分析法には、Ｘ線光電子分光装置(X-ray Photoelectron Spectroscopy：ＸＰＳ)が用いられる。Ｘ線光電子分光装置を用いたＸ線光電子分光分析法による測定方法は、第１実施形態で説明した測定方法と同様とする。
　以下、図９に示された光学シート２１０の各層について更に詳述する。図９に示された例において、基材層２４０、第２層２３０及び第１層２２０は、第１方向Ｄ１に重ねられている。第１方向Ｄ１は積層方向である。基材層２４０、第２層２３０及び第１層２２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３に広がっている。図示された例において、第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３は、互いに直交している。第１方向Ｄ１は、光学シート２１０の厚み方向であって法線方向である。第１方向Ｄ１は、光学シート２１０に含まれる各層２４０，２３０，２２０の厚み方向かつ法線方向でもある。図９に示された光学シート２１０において、第１面２１１は第１層２２０によって構成されている。第２面２１２は基材層２４０によって構成されている。第１層２２０及び第２層２３０は第１方向Ｄ１に隣接している。第２層２３０及び基材層２４０は第１方向Ｄ１に隣接している。
　光学シート２１０は、第１層２２０、第２層２３０及び基材層２４０以外の層を含んでもよい。光学シート２１０は、低反射層、帯電防止層、防汚層等の一以上を含んでもよい。この例において、第１層２２０以外の層が第１面２１１を構成してもよい。低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層は、薄い層である。したがって、低反射層、帯電防止層、防汚層等の他の層が第１面２１１を構成する例においても、第１層２２０及び第２層２３０の組合せによって第１面２１１での硬度を向上できる。
＜＜基材層２４０＞＞
　基材層２４０は、第１層２２０及び第２層２３０を支持する。基材層２４０は透明でもよい。透明とは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠する全光線透過率が５０％以上であることを意味し、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。
　基材層２４０は、第１実施形態において説明した基材層４０と同一でもよい。基材層２４０は、第２実施形態において説明した基材層１４０と同一でもよい。基材層２４０は、第１実施形態において説明した基材層４０と同一の構成を有してもよい。基材層２４０は、第２実施形態において説明した基材層１４０と同一の構成を有してもよい。基材層２４０の材料は、第１実施形態において説明した基材層４０の材料と同一でもよい。基材層２４０の材料は、第２実施形態において説明した基材層１４０の材料と同一でもよい。基材層２４０の厚みＴ２４０は、第１実施形態において説明した基材層４０の厚みＴ４０と同一でもよい。基材層２４０の厚みＴ２４０は、第２実施形態において説明した基材層１４０の厚みＴ１４０と同一でもよい。基材層２４０の層構成は、第１実施形態において説明した基材層４０の層構成と同一でもよい。基材層２４０の層構成は、第２実施形態において説明した基材層２４０の層構成と同一でもよい。
　基材層２４０は、基材フィルム２４５として用意されてもよい。この基材フィルム２４５は、単一の層のみ含んでもよく、複数の層を含んでもよい。基材層２４０は、易接着層等のプライマー層を含んでもよい。基材フィルム２４５の表面に、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理、及び下塗り処理の一以上が施されてもよい。これらの処理によって、基材フィルム２４５と、基材フィルム２４５に隣接する層と、の密着性を向上できる。基材フィルム２４５の表面が、溶剤洗浄や超音波洗浄等の洗浄処理を実施されてもよい。
＜＜第１層２２０＞＞
　第１層２２０は、バインダー樹脂２２３と、紫外線吸収剤と、を含む。第１層２２０は、紫外線吸収剤を含むことによって、ブルーライトカット機能を発現する。バインダー樹脂２２３は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。第１層２２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことによって、第１面２１１及び第１層２２０の硬度向上に寄与する。
　第１層２２０は、第１実施形態において説明した機能層２０と同一の構成を有してもよい。第１層２２０は、第２実施形態において説明した第１層１２０と同一の構成を有してもよい。第１層２２０の材料は、第１実施形態において説明した機能層２０の材料と同一でもよい。第１層２２０の材料は、第２実施形態において説明した第１層１２０の材料と同一でもよい。第１層２２０の層構成は、第１実施形態において説明した機能層２０の層構成と同一でもよい。第１層２２０の層構成は、第２実施形態において説明した第１層１２０の層構成と同一でもよい。
　硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂組成物でもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂組成物及び電子線硬化性樹脂組成物の一以上を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性化合物及び光重合開始剤を含んでもよい。電離放射線硬化性化合物は、紫外線硬化性化合物及び電子線硬化性化合物の一以上を含んでもよい。紫外線硬化性化合物は、紫外線の照射によって硬化する樹脂である。電子線硬化性化合物は、電子線の照射によって硬化する樹脂である。硬化性樹脂組成物の硬化物は、硬化した硬化性化合物でもよい。
＜硬化性化合物＞
　電離放射線硬化性化合物は、第１実施形態で説明した機能層２０に用いられる電離放射線硬化性化合物と同一でもよい。電離放射線硬化性化合物は、第２実施形態で説明した第１層１２０に用いられる電離放射線硬化性化合物と同一でもよい。
＜光重合開始剤＞
　光重合開始剤は、特に限定されない。光重合開始剤は、第１実施形態で説明した機能層２０に用いられる光重合開始剤と同一でもよい。光重合開始剤は、第２実施形態で説明した第１層１２０に用いられる光重合開始剤と同一でもよい。
＜紫外線吸収剤＞
　紫外線吸収剤は、第１層２２０内において、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２、及び第３方向Ｄ３に分散してもよい。紫外線吸収剤は、液状の硬化性樹脂組成物に含まれてもよい。硬化性樹脂組成物に含まれた紫外線吸収剤は、硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥処理及び硬化処理を経て、第１層２２０内に分散してもよい。
　紫外線吸収剤は、第１層２２０及び光学シート２１０に、ブルーライトカット機能を付与する。紫外線吸収剤の種類や含有量により、ブルーライトカット機能の特性を調節できる。したがって、紫外線吸収剤に起因したブルーライトカット機能により、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上としつつ、波長４１０ｎｍにおける分光透過率を１５％以下にできる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量により、透過光により測定した黄色度ＹＩ値を調節できる。紫外線吸収剤の種類や含有量は、特に限定されない。所望のブルーライトカット機能や所望のａ＊値やｂ＊値が得られるよう、紫外線吸収剤の種類や含有量は選択され得る。
　紫外線吸収剤の種類及び含有量等は、第１実施形態で説明した紫外線吸収剤の種類及び含有量等と同一でもよい。紫外線吸収剤の種類及び含有量等は、第２実施形態で説明した紫外線吸収剤の種類及び含有量等と同一でもよい。
＜添加物＞
　硬化性樹脂組成物は、易滑剤として粒子を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第１実施形態で説明した機能層用の硬化性樹脂組成物に含まれる易滑剤としての粒子と同一の粒子を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第２実施形態で説明した第１層用の硬化性樹脂組成物に含まれる易滑剤としての粒子と同一の粒子を含んでもよい。
　第１層２２０に含まれる粒子の粒子径は、第１実施形態において説明した機能層２０に含まれる粒子の粒子径と同様にして特定された値とする。
　硬化性樹脂組成物は、添加剤として、Ｓｉ系レベリング剤を含んでもよい。第１層用塗布液がＳｉ系レベリング剤を含むことにより、第１層２２０の表面をより平滑にできる。Ｓｉ系レベリング剤によれば、第１層２２０の表面に、優れた滑り性及び優れた防汚性を付与できる。
　硬化性樹脂組成物は、その他の添加剤を含んでもよい。添加剤として、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等が例示される。硬化性樹脂組成物は、これらの添加剤の一つ又は二以上を含んでもよい。
＜溶剤＞
　硬化性樹脂組成物は溶剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第１実施形態で説明した機能層用の硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤と同一の溶剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、第２実施形態で説明した第１層用の硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤と同一の溶剤を含んでもよい。
　硬化性樹脂組成物における原料の含有割合、すなわち固形分の割合は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、５質量％以上でもよく、２５質量％以上でもよい。硬化性樹脂組成物における原料の含有割合は、７０質量％以下でもよく、６０質量％以下でもよい。
＜第１層２２０の作製方法＞
　第１層２２０は、紫外線吸収剤を含む液状の硬化性樹脂組成物を用いて作製される。調整した硬化性樹脂組成物を、第１層２２０の作製対象面に塗布し、硬化性樹脂組成物の塗膜を形成する。硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥し、乾燥した塗膜を硬化させることにより、第１層２２０が得られる。
　硬化性樹脂組成物の調製方法、塗布方法、及び硬化処理は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物の調製方法、塗布方法、及び硬化処理は、それぞれ、第１実施形態で説明した第１層用の硬化性樹脂組成物の調製方法、塗布方法、及び硬化処理と同様でもよい。
＜＜第２層２３０＞＞
　第２層２３０は、第１層２２０及び基材層２４０に隣接する層である。第２層２３０は、上述したように、第１層２２０の厚みＴ２２０に対して厚みＴ２３０を調節された層である。第２層２３０の厚みＴ２３０に対する第１層２２０の厚みＴ２２０の比である厚み比は、１．２以上７．５以下である。
　第２層２３０は、樹脂層でもよい。第２層２３０は、基材層２４０に対する密着性の高い層でもよい。第２層２３０は、第１層２２０に対する密着性の高い層でもよい。第２層２３０は、第１層２２０の硬度よりも低い硬度を有してもよい。第１層２２０の断面で測定されたインデンテーション硬さは、第２層２３０の断面で測定されたインデンテーション硬さよりも大きくてもよい。実施例でも実証されているように、これらのような第２層２３０の存在により、第１層２２０の硬度及び第１面２１１での硬度を向上できる。
　第１層２２０及び第２層２３０の間における硬度及び密着性に関する上述の関係を満たすため、第２層２３０の材料を次のように選択してもよい。第２層２３０は、熱可塑性樹脂を含んでもよい。第２層２３０は、第１層２２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。第２層２３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。第２層２３０は、第１層２２０に含まれる少なくとも一部の樹脂成分と同一の樹脂成分を含んでもよい。第２層２３０は、モノマーを含んでもよい。第２層２３０は、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物に含まれる少なくとも一部のモノマーを含んでもよい。
　第２層２３０は、第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層でもよい。第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層として第２層２３０を形成することにより、光学シート２１０の第１面２１１での硬度をより効果的に向上できる。
　混合層としての第２層２３０は、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物を基材フィルム２４５に浸透させた浸透層でもよい。基材層２４０及び第２層２３０は、共に、第１層２２０を作製するための硬化性樹脂組成物を塗布される基材フィルム２４５によって構成されてもよい。基材フィルム２４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（浸透層）によって、第２層２３０が構成されてもよい。基材フィルム２４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層２４０を構成されてもよい。
　硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤が、基材フィルム２４５に浸透し易いことにより、浸透層としての第２層２３０を安定して形成できる。吸水性（吸液性）が高い基材フィルム２４５を用いることにより、溶剤が基材フィルム２４５に浸透し易くなる。セルロース系樹脂、特に、トリアセチルセルロース（Triacetylcellulose: TAC）に、溶剤が浸透しやすい。また、アクリル系樹脂にも溶剤が浸透しやすい。したがって、基材層２４０及び基材フィルム２４５は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含んでもよい。この場合、第１層２２０の樹脂成分と基材層２４０の樹脂成分との混合層である第２層２３０を安定して作製できる。作製された第２層２３０は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む。
　硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂化合物及び溶剤と、基材フィルム２４５と、の関係によって、浸透層の形成し易さが変化する。また、硬化性樹脂化合物の粘度、硬化性樹脂化合物の塗膜の乾燥条件、硬化性樹脂化合物の塗膜の硬化条件によっても、浸透層の形成し易さが変化する。したがって、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム２４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透層としての第２層２３０の厚みＴ２３０を調節できる。同様に、硬化性樹脂組成物に含まれる材料、基材フィルム２４５の材料、硬化性樹脂組成物の調整条件、硬化性樹脂組成物の乾燥条件、硬化性樹脂組成物の硬化条件等により、浸透量が変化するので、第１層２２０の厚みＴ２２０も調節できる。すなわち、浸透層として第２層２３０を作製する場合、厚み比を調節可能である。
　第２層は、第１層に含まれる少なくとも一部の紫外線吸収剤と同一の紫外線吸収剤を含んでもよい。
＜＜光学シートの製造＞＞
＜第１の例＞
　第１の例として、光学シート２１０の製造方法は、基材層２４０及び第２層２３０を含む中間積層体を作製する工程と、第２層２３０上に第１層２２０を作製する工程と、を含んでもよい。光学シートの製造方法の第１の例の詳細は、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第１の例と同様でもよい。
＜第２の例＞
　第２の例として、光学シート２１０の製造方法は、第２層２３０及び第１層２２０を含む中間積層体を作製する工程と、第２層２３０及び第１層２２０を含む中間積層体と基材層２４０とをラミネートする工程と、を含んでもよい。光学シートの製造方法の第２の例の詳細は、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第２の例と同様でもよい。
＜第３の例＞
　第３の例として、光学シート２１０の製造方法は、基材フィルム２４５上にウェット法により第１層２２０を作製する工程を含んでもよい。この製造方法は、硬化性樹脂組成物を基材フィルム２４５上に塗布する工程と、硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化する工程と、を含んでもよい。製造方法は、塗膜の硬化工程の前に、硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥する工程を更に含んでもよい。この例において、硬化した硬化性樹脂組成物の塗膜によって、第１層２２０が構成され得る。基材フィルム２４５のうちの硬化性樹脂組成物が浸透した部分（すなわち、浸透層）によって、第２層２３０が構成され得る。基材フィルムのうちの硬化性樹脂組成物が浸透していない部分によって、基材層２４０が構成され得る。光学シートの製造方法の第３の例の詳細は、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第３の例と同様でよい。光学シートの製造方法の第３の例によれば、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第３の例と同様の作用効果を奏することができる。
＜第４の例＞
　第４の例として、光学シート２１０の製造方法は、次の四つの工程を含んでもよい。
・紫外線吸収剤を含む第１硬化性樹脂組成物を基材フィルム２４５上に塗布する工程
・第１硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して基材フィルム２４５上に第１部分２２０Ａを作製する工程
・第２硬化性樹脂組成物を第１部分２２０Ａ上に塗布する工程
・第２硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化して第１部分２２０Ａに接合した第２部分２２０Ｂを作製する工程
　光学シートの製造方法の第４の例の詳細は、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第４の例と同様でよい。光学シートの製造方法の第４の例によれば、第２実施形態で説明した光学シートの製造方法の第４の例と同様の作用効果を奏することができる。
　結果として、第４の例による製造方法によれば、より高い自由度にて、光学シート２１０の分光透過特性を調節できる。すなわち、条件（３Ａ）、（３Ｂ）、及び（３Ｃ）の組合せを満たす分光透過率特性を実現できる。
（３Ａ）波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は１％未満である。
（３Ｂ）波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は７０％以上である。
（３Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する。
＜シート物品及び巻体＞
　上述した光学シート２１０の製造方法によれば、図３に示すように、多数の光学シート２１０を含む長尺のシート物品５を製造できる。長尺のシート物品５を所定の大きさに断裁することによって、光学シート２１０が得られる。この例によれば、種々の寸法を有した光学シート２１０を、ニーズに合わせて、長尺のシート物品５から得ることができる。したがって、種々の寸法を有した光学シート２１０を適時に提供できる。図３に示すように、巻取軸線ＲＡを中心として巻取コア６に巻き取った巻物７としてシート物品５を取り扱うことにより、シート物品５の取り扱い性を改善できる。
＜選定方法および選定工程＞
　光学シートの製造方法は、上述した光学シートを製造するステップに加え、製造された光学シート２１０を選定するステップを更に含んでもよい。光学シート２１０を選定するステップは、厚み比を測定するステップと、波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率を測定するステップと、を含んでもよい。厚み比は、第１層２２０の厚みＴ２２０（μｍ）の第２層２３０の厚みＴ２３０（μｍ）に対する比である。光学シート２１０を選定するステップは、厚み比と、波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップを、更に含んでもよい。厚み比は１．２以上７．５以下を合格としてもよい。波長３８０ｎｍにおける分光透過率は１％未満を合格としてもよい。波長４４０ｎｍにおける分光透過率は７０％以上を合格としてもよい。波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値として算出される。３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、最大値が波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に存在する場合に、合格としてもよい。厚み比、波長３８０ｎｍにおける分光透過率、波長４４０ｎｍにおける分光透過率、及び分光透過率の傾きの最大値のすべてが合格となった、光学シート２１０を良品として選定してもよい。良品として選定された光学シート２１０は、優れたブルーライトカット機能を有し、且つ第１面２１１において高い硬度を有する。この選定ステップによれば、フェルトやスチールウールを用いた擦傷試験を実施することなく、優れた耐擦傷性を有する光学シートを高精度に選定できる。
＜＜＜偏光板５０、タッチパネル部材５５、表示装置６０＞＞＞
　図４～図６を参照して第１実施形態で説明したように、光学シート２１０は、偏光板５０、タッチパネル部材５５、及び表示装置６０の一以上に適用され得る。
＜＜＜＜第３実施形態の実施例＞＞＞＞
　本開示を実施例により更に詳細に説明する。本開示は以下の実施例によって限定されない。
＜＜＜１．光学シートの作製＞＞＞
　実施例３１～３８及び比較例３１～３５に係る光学シートを作製した。
＜＜実施例３１＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、第１硬化性樹脂組成物３Ａを塗布し、基材フィルム上に第１塗膜を形成した。第１硬化性樹脂組成物３Ａの作製方法については後述する。次に、４０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。その後、４０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で、第１塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量６６ｍＪ／ｃｍ２で、第１塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射によって第１塗膜を硬化させ、第１層の第１部分を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第１部分が作製される量とした。
　次に、第１部分上に、下記処方の第２硬化性樹脂組成物３Ａを塗布し、基材フィルム上に第２塗膜を形成した。第２硬化性樹脂組成物３Ａの固形分は４７％であった。第２硬化性樹脂組成物３Ａは、紫外線吸収剤を含んでいなかった。次に、６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。その後、７０℃×２０秒（乾燥風速０．３ｍ／ｓ）の条件で、第２塗膜を乾燥した。以上により、溶剤を揮発させた。次に、積算光量２８８ｍＪ／ｃｍ２で、第２塗膜に紫外線を照射した。紫外線の照射により第２塗膜を硬化させ、第１層の第２部分を基材フィルム及び第１部分上に作製した。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材層や第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　以上により、実施例３１に係る光学シートが得られた。この光学シートにおいて、第１部分及び第２部分によって第１層が構成されていた。
　後述の厚み測定時に、実施例３１に係る光学シートの断面を観察した。断面の観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。また、第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜第１硬化性樹脂組成物３Ａ＞
　セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を合成し、次に、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーを合成することによって、第１硬化性樹脂組成物３Ａを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の合成）
　２００ｍＬの４つ口フラスコに、玉付きコンデンサー、水銀温度計、及び撹拌装置を取り付けた。６－［５－（２－ヒドロキシエチル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］ベンゾ［１，３］ジオキソール－５－オール４．０ｇ（０．０１３モル）、トルエン４０ｍＬ、メタクリル酸１．８ｇ（０．０２１モル）、メタンスルホン酸０．４ｇ（０．００４モル）を４つ口フラスコに入れた。４つ口フラスコ内の内容物を、１１０～１１５℃で４時間還流脱水した。次いで、水３０ｍＬ、炭酸ナトリウム０．６ｇ（０．００６モル）を４つ口フラスコ内に加えた。その後、４つ口フラスコを静置して、下層部の水層を分離して除去した。次に、４つ口フラスコ内に活性炭０．２ｇを加え、内容物を還流撹拌して脱色させた。その後、４つ口フラスコから取り出した内容物をろ過した。得られたろ液からトルエン４０ｍＬを減圧で回収した。トルエンが除去されたろ液に、イソプロピルアルコール１００ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。得られた結晶をイソプロピルアルコール４０ｍＬで洗浄した。その後、結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、黄色結晶を得た。得られた黄色結晶４．２ｇを、イソプロピルアルコールを用いて、リパルプ洗浄した。次に、洗浄済みの黄色結晶を減圧下４０℃で乾燥することによって、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体として、３．４ｇの２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを得た。
（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマーの合成）
　四つ口フラスコに、ジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、撹拌装置を取り付けた。四つ口フラスコ内に、下記を収容して攪拌した。「Ｘ」は、後述する値とした。
・２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート　Ｘ質量部
・（他の単量体）メチルメタクリレート　１００－Ｘ）質量部
・（溶媒）トルエン２０質量部、メチルエチルケトン　２０質量部
・（重合開始剤）１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）　０．６質量部
　次に、窒素ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換した後、反応液温度９０～９６℃で、１０時間、還流状態にて、フラスコ内の内容物を重合反応させた。重合反応終了後、フラスコ内に、トルエン１０質量部、ＭＥＫ１０質量部を追加した。以上により、セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）溶液１６０．６質量部を得た。
　以下を混合して、中間組成物を調整した。
・多官能モノマー（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が反応結合されたアクリルポリマー（１）（セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体の質量比Ｘ＝４０質量部でＭＭＡ及び紫外線吸収剤に反応結合されたポリマー）
・溶剤（質量比３０：７０にてＭＥＫ及びトルエンを混合した溶剤）
多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）は、固形分質量比４０：６０で混ぜ合わせた。
　次いで、得られた中間組成物３６０質量部に対し、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア８１９を４質量部）と、レベリング剤（共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部）と、を混ぜ合わせ、よく攪拌することによって、第１硬化性樹脂組成物３Ａを調製した。得られた第１硬化性樹脂組成物３Ａは、固形分２７．５％を含んでいた。
＜第２硬化性樹脂組成物３Ａ＞
・紫外線硬化型アクリレート含有組成物　５０質量部（日本化薬社製、ＰＥＴ－３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート））
・紫外線硬化型ウレタンアクリレート含有組成物　５０質量部（荒川化学工業社製、商品名「ビームセット５７７」）
・レベリング剤　０．４質量部（共栄社、商品名「ＬＥ－３０４」）
・光重合開始剤　４質量部（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・易滑剤　２０質量部（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・溶剤　（質量比５５：４８にてメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンを混合した溶剤）
＜＜実施例３２＞＞
　実施例３２は、第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点において、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３２の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３２に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３３＞＞
　実施例３３は、第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を多くした点において、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３３の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．９μｍの第１部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３３に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３４＞＞
　実施例３４は、第１塗膜の乾燥条件を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を多くした点と、において上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３４の光学シートを得た。実施例３４において、第１塗膜を、まず６０℃×２０秒（乾燥風速０．４ｍ／ｓ）の条件で乾燥し、次に６０℃×２０秒（乾燥風速０．５ｍ／ｓ）の条件で乾燥した。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムや第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．５μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３４に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３５＞＞
　実施例３５は、第１硬化性樹脂組成物の固形分割合及び第２硬化性樹脂組成物の固形分割合を変更した点において、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３５の光学シートを得た。実施例３５において、固形分を２０％とした第１硬化性樹脂組成物を用いた。実施例３５で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物３Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。実施例３５において、固形分を４０％とした第２硬化性樹脂組成物を用いた。実施例３５で用いた第２硬化性樹脂組成物は、第２硬化性樹脂組成物３Ａに含まれる溶剤の量を調節することによって得られた。
　後述の厚み測定時に、実施例３５に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３６＞＞
　実施例３６は、第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点と、において上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３６の光学シートを得た。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み１．５μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムや第1部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３６に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３７＞＞
　実施例３７は、第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点において、上述の実施例３６と異なり、その他において実施例３６と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３７の光学シートを得た。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムや第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．２μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３７に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜実施例３８＞＞
　実施例３８は、第１硬化性樹脂組成物３Ａのレベリング剤を省いた点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａのレベリング剤を変更した点とにおいて、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、実施例３８の光学シートを得た。実施例３８において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」を省いた点において上述の第１硬化性樹脂組成物３Ａと異なり、その他において上述の第１硬化性樹脂組成物３Ａと同一とした。実施例３８において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．３質量部」を用いた点において上述の第２硬化性樹脂組成物３Ａと異なっていた。実施例３８において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第２硬化性樹脂組成物３Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、実施例３８に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例３１＞＞
　比較例３１は、基材フィルムを変更した点と、第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を多くし且つ第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点と、第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量を少なくした点において、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例３１の光学シートを得た。比較例３１において、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース製の基材フィルムを用いた。比較例３１の基材フィルムの可塑剤の含有割合は、実施例３１の基材フィルムの可塑剤の含有割合より多かった。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み３．５μｍの第２部分が作製される量とした。第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量は、１３２ｍＪ／ｃｍ２とした。
　後述の厚み測定時に、比較例３１に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例３２＞＞
　比較例３２は、第１硬化性樹脂組成物の組成を変更した点と、第１硬化性樹脂組成物の塗布量を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を変更した点と、において、上述の実施例３１と異なり、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例３２の光学シートを得た。実施例３１で用いた第１硬化性樹脂組成物３Ａは、固形分質量比２０：８０で混合された多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）を含んでいた。比較例３２で用いた第１硬化性樹脂組成物は、第１硬化性樹脂組成物３Ａの多官能モノマー及びアクリルポリマー（１）に代えて、質量比９５：５で混合された多官能モノマー及びトリアジン系紫外線吸収剤を混合することによって、得られた。比較例３２で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれた多官能モノマーは、第１硬化性樹脂組成物３Ａに含まれた多官能モノマーと同一とした。比較例３２で用いた第１硬化性樹脂組成物の固形分割合は、第１硬化性樹脂組成物３Ａの固形分割合と同一で、２７．５％であった。比較例３２で用いた第１硬化性樹脂組成物に含まれたトリアジン系紫外線吸収剤は、ＢＡＳＦ社製、商品名「Tinuvin 479」とした。
　第１硬化性樹脂組成物の塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み５．０μｍの第１部分が作製される量とした第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み８．０μｍの第２部分が作製される量とした。
　後述の厚み測定時に、比較例３２に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例３３＞＞
　比較例３３は、基材フィルムを変更した点と、第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を多くした点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量を少なくした点と、第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量を少なくした点において、上述の実施例３１と異なっており、その他において実施例３１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例３３の光学シートを得た。比較例３３において、比較例３１で用いた基材フィルムと同一の基材フィルムを使用した。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み７．０μｍの第１部分が作製される量とした。第２硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルム及び第１部分への浸透がないとの仮定で、ドライ厚み４．０μｍの第２部分が作製される量とした。第２塗膜の硬化時に照射した紫外線の積算光量は、１３２ｍＪ／ｃｍ２とした。
　後述の厚み測定時に、比較例３３に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜比較例３４＞＞
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロール製の基材フィルム上に、実施例３１で用いた第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いて、第１層を基材フィルム上に作製した。第１硬化性樹脂組成物３Ａの塗布量は、基材フィルムへの浸透がないとの仮定で、ドライ厚み６．５μｍの第１部分が作製される量とした。以上により比較例３４に係る光学シートを得た。すなわち、比較例３４に係る光学シートにおいて、第１層は、第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いて作製された第１部分のみによって構成されていた。
　比較例３４において第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いて作製される層の厚みは、実施例３１において第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いて作製される層の厚みと異なっていた。その他において、比較例３４における第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いた第１層の作製方法及び作成条件は、実施例３１における第１硬化性樹脂組成物３Ａを用いた第１部分の作製方法及び作成条件と同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例３４に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。第１硬化性樹脂組成物３Ａが基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。
＜＜比較例３５＞＞
　比較例３５は、第１硬化性樹脂組成物３Ａのレベリング剤を変更した点と、第２硬化性樹脂組成物３Ａのレベリング剤を変更した点とにおいて、上述の比較例３１と異なり、その他において比較例３１と同様の材料及び同様の方法によって、比較例３５の光学シートを得た。
　比較例３５において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．２質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－５６８、０．２質量部」を用いた点において上述の第１硬化性樹脂組成物３Ａと異なっていた。比較例３５において、第１塗膜の形成に用いられる第１硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第１硬化性樹脂組成物３Ａと同一とした。
　比較例３５において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤「共栄社製、ＬＥ－３０４、０．４質量部」に代えてレベリング剤「ＤＩＣ製、Ｆ－４７７、０．４質量部」を用いた点において上述の第２硬化性樹脂組成物２Ａと異なっていた。比較例３５において、第２塗膜の形成に用いられる第２硬化性樹脂組成物は、レベリング剤以外において、上述の第２硬化性樹脂組成物３Ａと同一とした。
　後述の厚み測定時に、比較例３５に係る光学シートの断面を、実施例３１と同様の方法で観察した。硬化性樹脂組成物が基材フィルムに浸透し基材フィルムが膨潤することによって、第２層を構成する浸透層が形成されていた。第１層内における第１部分及び第２部分の界面は観察され得なかった。
＜＜＜２．測定および評価＞＞＞
　次に説明するように、実施例及び比較例に係る光学シートの測定及び評価を行った。各測定及び評価を行う際の試験環境は、温度２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％とした。各測定及び評価の開始前に、対象となるサンプルを上述の試験環境に１６時間配置した。
＜＜２－１．厚み及び厚み比＞＞

　次の第１ステップ及び第２ステップにより、厚み測定サンプルを作製した。
（第１ステップ）
　実施例及び比較例に係る光学シートから、カットサンプルを切り出した。カットサンプルの大きさは、縦１０ｍｍ×横３ｍｍ程度の短冊状とした。カットサンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。次に、カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製した。
　包埋サンプルは、次の手順で作製した。まず、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した。カットサンプルが配置されたシリコン包埋板内に、包埋用の樹脂を流し込んだ。次に、包埋用の樹脂をシリコン包埋板内で硬化させた。次に、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより、包埋サンプルを得た。包埋サンプルの形状はブロック状とした。
　シリコン包埋板は、堂阪イーエム社製の包埋板を用いた。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂とした。包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋用の樹脂は、常温で１２時間放置することにより、硬化させた。
（第２ステップ）
　ブロック状の包埋サンプルをダイヤモンドナイフで切断して、切片サンプルを作製した。切片サンプルは、対象となる光学シートの第１方向（厚み方向、積層方向））に沿うようにした。ブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ～１００ｎｍ程度で均一な切片サンプルを、厚み測定サンプルとした。
　包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。ブロック状の包埋サンプルを切断する際、まず、粗トリミングとして大まかに切断し、最終的に、ダイヤモンドナイフで精密にトリミングして、切片サンプルを得た。
　上述したように走査型透過電子顕微鏡による厚み測定サンプルの観察画像を用いて、各層の厚みを測定した。厚み測定サンプルの観察前に、厚み測定サンプルを染色した。染色には、四酸化オスミウムを用いた。走査型透過電子顕微鏡を用いて染色された厚み測定サンプルを撮像し、厚み測定サンプルの観察画像を取得した。走査型透過電子顕微鏡として、株式会社日立ハイテク社製のＳ４８００を用いた。撮像条件は次のとおりとした。
＜撮像条件＞
モード：透過モードＴＥ、明視野
加速電圧：１０ｋＶ～３０ｋＶ
エミッション電流：１０μＡ
WD（Working Distance）：８．８±０．１ｍｍ
倍率：５０００倍
　各例の一つの厚み測定サンプルから１０箇所の観察画像を取得した。１０箇所の観察画像は、対象となる光学シートの第１方向に直交する方向に１０μｍピッチで離れた１０箇所の観察位置（測定位置）において取得した。厚み測定サンプルの各観察画像から、各例に係る光学シートについての第１層の厚みＴ２２０（μｍ）及び第２層の厚みＴ２３０（μｍ）を測定した。各観察画像から測定された第１層の厚みＴ２２０（μｍ）及び第２層の厚みＴ２３０（μｍ）に基づいて、厚み比（Ｔ２２０／Ｔ２３０）を算出した。
　１０箇所の観察画像から測定された厚みＴ２２０（μｍ）に関する１０の測定値の算出平均値を、第１層の厚みＴ２２０（μｍ）とした。１０箇所の観察画像から測定された厚みＴ２３０（μｍ）に関する１０の測定値の算出平均値を、第２層の厚みＴ２３０（μｍ）とした。１０箇所の観察画像から測定された厚み比（Ｔ２２０／Ｔ２３０）に関する１０の値の算出平均値を、光学シートの厚み比（Ｔ２２０／Ｔ２３０）とした。
　第１層の厚み（μｍ）の測定結果、第２層の厚み（μｍ）の測定結果、及び厚み比（Ｔ２２０／Ｔ２３０）の測定結果を、表４に示す。表４において、厚み比が１．２以上７．５以下となっている例について「ＯＫ」と表示し、それ以外の例について「ＮＧ」と表示した。
＜＜２－２．分光透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの分光透過率（％）を測定した。波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長について、分光透過率（％）を測定した。分光透過率（％）の測定には、本分光株式会社製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。分光透過率の測定値を用いて、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きを算出した。波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値とした。
　３８０．０ｎｍにおける分光透過率及び４４０．０ｎｍにおける分光透過率の測定結果を表４に示す。分光透過率の傾きの最大値が得られる波長を表４に示す。表４において、次の条件（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）のすべてが満たされていた例について「ＯＫ」と表示し、それ以外の例について「ＮＧ」と表示した。
（３Ａ）波長３８０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は１％未満である。
（３Ｂ）波長４４０ｎｍにおける光学シート２１０の分光透過率は７０％以上である。
（３Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する。
　実施例３１～３８及び比較例３１～３５に係る光学シートを、市販されている有機ＥＬ表示装置の表示面上に配置して、光学シート越しに、有機ＥＬ表示装置によって表示された画像を観察した。実施例３１～３８、比較例３１、比較例３４、及び比較例３５については、光学シートを設置した場合の画像と、光学シートを設置しない場合の画像と、の間で色味の変化を知覚できなかった。比較例３２及び比較例３３については、光学シートを設置した際に、画像の色味の変化が確認された。
＜＜２－３．鉛筆硬度＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５０ｍｍ×１００ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについて鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度の測定には、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆硬度試験機を用いた。上述した評価基準にて評価された鉛筆硬度を表４に示す。
＜＜２－４．スチールウール耐擦傷性試験での耐荷重＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、３０ｍｍ×２５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートについてスチールウール耐擦傷性試験を実施し、耐荷重を測定した。すべり片をサンプルに押し付ける荷重は、５０ｇ、１００ｇ、１５０ｇ、及び２００ｇまで変更した。スチールウール耐擦傷性試験には、ＳＡＭ　ＪＥＥ　ＴＥＣＨ社製の対ＳＷ試験機「ＳＪＴＲ－０５３」を用いた。上述した評価基準にて評価されたスチールウール耐擦傷性試験での耐荷重を表４に示す。
＜＜２－５．変形＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、一辺１０ｃｍの正方形形状のサンプルを切り出した。作製された光学シートの長手方向（言い換えると機械方向）に対して、正方形の各辺が４５°傾斜するようにして、光学シートから正方形形状のサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。
　光学シートの第２面が定盤に接触するようにして、サンプルを定盤上に配置した。サンプルの四隅における定盤からの高さを浮き（ｍｍ）として測定した。一つのサンプルについて測定された浮きの四つの測定値のうちの最大値を当該サンプルの浮きとした。各例の光学シートについて、三つのサンプルのそれぞれについて浮きを測定した。三つの浮き測定値の算術平均値を、当該例についての変形量とした。変形量の測定結果を表４に示す。
　比較例３２については、定盤上に置いたサンプルが筒状にカールし、変形量を測定できなかった。
＜＜２－６．色味ａ＊値及びｂ＊値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートのａ＊値及びｂ＊値を測定した。ａ＊値及びｂ＊値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。ａ＊値及びｂ＊値の測定結果を表４に示す。
＜＜２－７．Ｘ線光電子分光分析法＞＞
　実施例３１、実施例３６、実施例３７、実施例３８、及び比較例３１に係る光学シートから、５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、Ｘ線光電子分光分析法により第１面での元素比率を定量評価した。Ｘ線光電子分光分析法での測定には、Ｋｒａｔｏｓ製のＡＸＩＳ－ＮＯＶＡを使用した。次の測定条件が選択された。
（測定条件）
測定手法：Ｗｉｄｅ・Ｎａｒｒｏｗ
Ｘ線源：モノクロＡ１Ｋα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
帯電中和機構：ＯＮ
測定領域：３００μｍ×７００μｍ
Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：Ｓｕｒｖｅｙ：１６０ｅＶ、Ｎａｒｒｏｗ：４０ｅＶ
光電子取込角度：９０°
オートＺ：ＯＮ
ピークシフト補正：Ｃ１ｓピークにおいて、Ｃ－Ｃのピークが２８５．０ｅＶとなるように補正
ナローピークの波形分離：装置附属の解析ソフトにてＧＬ関数を用いて実施
エッチングイオン：Ａｒ単原子イオン
　検出された全ての元素量を１００として各元素の検出された量の割合（％）を、表４に示す。
　実施例３１では、炭素元素に対するケイ素元素の比が０．０２（２％）以上となった。実施例３１について、第１層の断面を観察した。断面観察には、株式会社日立ハイテク社製の走査型透過電子顕微鏡Ｓ４８００を用いた。加速電圧１０ｋＶ～３０ｋＶかつ倍率５０００倍にて、断面を観察したところ、易滑剤として添加したシリカが、凝集して偏在することなく、分散していた。
＜＜２－８．各層の断面でのインデンテーション硬さ＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、１ｍｍ×２０ｍｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各層の断面が露出した埋包サンプルを作製した。
　包埋用のエポキシ樹脂は、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」と、を１０：１．２で混合することによって得た。包埋サンプルの切断に、ミクロトームを用いた。ミクロトームは、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」とした。
　各例に係る光学シートの切片サンプルについて、第１層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）、第２層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）、及び基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）を、上述した方法にて測定した。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定には、ＢＲＵＫＥＲ社製の測定装置「ＴＩ－９５０　ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いた。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴの測定に用いた圧子は、ＢＲＵＫＥＲ社製の「ＴＩ－００３９」とした。各層の断面でのインデンテーション硬さＨＩＴ（ＭＰａ）の測定結果を表４に示す。各層の断面でのインデンテーション硬さは、１０箇所の測定位置で測定したインデンテーション硬さの算術平均値とした。１０箇所の測定位置は、光学シートの第１方向に直交する方向に（５μｍピッチで離れた、一つの切片サンプルの１０箇所の位置とした。
＜＜２－９．全光線透過率＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの全光線透過率を測定した。全光線透過率の測定には、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ－１５０」を用いた。全光線透過率の測定結果を表４に示す。
＜＜２－１０．黄色度：ＹＩ値＞＞
　実施例及び比較例に係る光学シートから、５ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出した。サンプルにゴミや傷等の異常がないことを目視で確認した。上述した方法にて、各例に係る光学シートの黄色度ＹＩ値を測定した。黄色度ＹＩ値の測定には、株式会社島津製作所製の紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いた。黄色度ＹＩ値の測定結果を表４に示す。
Ｄ１：第１方向、Ｄ２：第２方向、Ｄ３：第３方向、ＲＡ：巻取軸線、５：シート物品、６：巻取コア、７：巻物、１０：光学シート、１１：第１面、１２：第２面、２０：機能層、２０Ａ：第１部分、２０Ｂ：第２部分、２１：第１側面、２２：第２側面、２３：バインダー樹脂、２６：第１位置、２７：第２位置、２８：第３位置、３０：中間層、４０：基材層、４５：基材フィルム、５０：偏光板、５１：第１保護シート、５２：偏光子、５３：第２保護シート、５５：タッチパネル部材、５６：電極層、６０：表示装置、６１：表示素子、６１ａ：表示面、１１０：光学シート、１１１：第１面、１１２：第２面、１２０：第１層、１２０Ａ：第１部分、１２０Ｂ：第２部分、１２１：第１側面、１２２：第２側面、１２３：バインダー樹脂、１３０：第２層、１４０：基材層、１４５：基材フィルム、２１０：光学シート、２１１：第１面、２１２：第２面、２２０：第１層、２２０Ａ：第１部分、２２０Ｂ：第２部分、２２１：第１側面、２２２：第２側面、２２３：バインダー樹脂、２３０：第２層、２４０：基材層、２４５：基材フィルム

Claims (54)

  1. 　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
    　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
    　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
    　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以下であり、
    　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
    　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たし、
    　　　ＨＡ３　＜　ＨＡ２　≦　ＨＡ１
    　　　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　ＨＡ２／ＨＡ３
    　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
    　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
    　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シート。
  2. 　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１及び前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２は、次の関係を満たす、請求項１に記載の光学シート。
    　　　ＨＡ１／ＨＡ２　≦　１．７
  3. 　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１及び前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、次の関係を満たす、請求項１に記載の光学シート。
    　　　１．４　≦　ＨＡ１／ＨＡ３
  4. 　前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣは、次の関係を満たす、請求項１に記載の光学シート。
    　　　ＨＡ２／ＨＣ　≦　１．３
  5. 　前記第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１は、３４０ＭＰａ以上である、請求項１に記載の光学シート。
  6. 　前記第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２は、２４０ＭＰａ以上である、請求項１に記載の光学シート。
  7. 　前記第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３は、１２０ＭＰａ以上である、請求項１に記載の光学シート。
  8. 　前記機能層及び前記基材層の間に位置する中間層を備え、
    　前記中間層の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、前記基材層の断面でのインデンテーション硬さＨＣより小さく、
    　前記中間層の厚みは４．２μｍ以下である、請求項１に記載の光学シート。
  9. 　前記機能層及び前記基材層の間に位置する中間層を備え、
    　前記中間層の断面でのインデンテーション硬さＨＢは、１２０ＭＰａ以上である、請求項１に記載の光学シート。
  10. 　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有し、
    　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、請求項１に記載の光学シート。
  11. 　前記分光透過率の傾きは、波長４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する、請求項１０に記載の光学シート。
  12. 　波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下である、請求項１に記載の光学シート。
  13. 　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、請求項１に記載の光学シート。
  14. 　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、１００ｇ以上である、請求項１に記載の光学シート。
    　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
  15. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
    　厚み比は、１．５以上７．５以下であり、
    　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
    　波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１５％以下であり、
    　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である、光学シート。
  16. 　前記厚み比は、２．６以上５．０以下である、請求項１５に記載の光学シート。
  17. 　前記第２層の厚みは、１．２μｍ以上３．２μｍ以下である、請求項１５に記載の光学シート。
  18. 　前記第１層の厚みは、５．０μｍ以上９．０μｍ以下である、請求項１５に記載の光学シート。
  19. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上である、請求項１５に記載の光学シート。
  20. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定されたフッ素元素の比率は、０．１％以下である、請求項１５に記載の光学シート。
  21. 　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は－３．０以上－１．６以下であり、
    　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は３．５以上６．０以下である、請求項１５に記載の光学シート。
  22. 　前記第１層の断面で測定されたインデンテーション硬さは、前記第２層の断面で測定されたインデンテーション硬さより大きい、請求項１５に記載の光学シート。
  23. 　前記第２層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、請求項１５に記載の光学シート。
  24. 　前記第２層に隣接する基材層を更に備え、
    　前記第２層は、前記第１層及び前記基材層の間に位置し、
    　前記基材層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、請求項１５に記載の光学シート。
  25. 　前記基材層の厚み（μｍ）は、前記第１層の厚み（μｍ）及び前記第２層の厚み（μｍ）の合計よりも大きい、請求項２４に記載の光学シート。
  26. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　押し込み深さを１００ｎｍとした前記第１層の断面でのインデンテーション硬さは３５０ＭＰａ以上である、請求項１５に記載の光学シート。
  27. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、請求項１５に記載の光学シート。
  28. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、２００ｇ以上である、請求項１５に記載の光学シート。
    　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
  29. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含み、
    　厚み比は、１．２以上７．５以下であり、
    　前記厚み比は、前記第１層の厚み（μｍ）の、前記第２層の厚み（μｍ）に対する比であり、
    　波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、
    　波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であり、
    　波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きは、波長４００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有し、
    　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シート。
  30. 　前記分光透過率の傾きは、波長４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲内に最大値を有する、請求項２９に記載の光学シート。
    求項１に記載の光学シート。
  31. 　前記厚み比は、２．６以上５．０以下である、請求項２９に記載の光学シート。
  32. 　前記第２層の厚みは、１．２μｍ以上３．５μｍ以下である、請求項２９に記載の光学シート。
  33. 　前記第１層の厚みは、３．２μｍ以上９．２μｍ以下である、請求項２９に記載の光学シート。
  34. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定された炭素元素に対するケイ素元素の比は、０．０２以上である、請求項２９に記載の光学シート。
  35. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　Ｘ線光電子分光分析法により前記第１面で測定されたフッ素元素の比率は、０．１％以下である、請求項２９に記載の光学シート。
  36. 　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊値は－３．０以上－１．６以下であり、
    　透過光により測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値は３．５以上６．０以下である、請求項２９に記載の光学シート。
  37. 　前記第１層の断面で測定されたインデンテーション硬さは、前記第２層の断面で測定されたインデンテーション硬さより大きい、請求項２９に記載の光学シート。
  38. 　前記第２層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、請求項２９に記載の光学シート。
  39. 　前記第２層に隣接する基材層を更に備え、
    　前記第２層は、前記第１層及び前記基材層の間に位置し、
    　前記基材層は、アクリル系樹脂及びセルロース系樹脂の一以上を含む、請求項２９に記載の光学シート。
  40. 　前記基材層の厚み（μｍ）は、前記第１層の厚み（μｍ）及び前記第２層の厚み（μｍ）の合計よりも大きい、請求項３９に記載の光学シート。
  41. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　押し込み深さを１００ｎｍとした前記第１面のインデンテーション硬さは３３０ＭＰａ以上である、請求項２９に記載の光学シート。
  42. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒で測定される前記第１面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、請求項２９に記載の光学シート。
  43. 　第１面及び前記第１面に対向する第２面を備え、
    　前記第１面から前記第２面に向けて、前記第１層および前記第２層は、この順で配置され、
    　次の条件による前記第１面でのスチールウール耐擦傷性試験の耐荷重は、１５０ｇ以上である、請求項２９に記載の光学シート。
    　スチールウール耐擦傷性試験：スチールウール＃００００を使用し、移動速度１００ｍｍ／秒、片道の移動距離１２０ｍｍで１０回往復させる。
  44. 　請求項１～４３のいずれか一項に記載された光学シートを複数備えるシート物品。
  45. 　巻取軸線を中心として巻き取られている、請求項４４に記載のシート物品。
  46. 　請求項１～４３のいずれか一項に記載された光学シートと、
    　前記光学シートと重ねられた偏光子と、を備える、偏光板。
  47. 　請求項１～４３のいずれか一項に記載された光学シートと、
    　前記光学シートと重ねられた電極層と、を備える、タッチパネル部材。
  48. 　請求項１～４３のいずれか一項に記載された光学シートと、
    　前記光学シートと重ねられた表示素子と、を備える、表示装置。
  49. 　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
    　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
    　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
    　波長３８０ｎｍにおける分光透過率及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
    　前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３を測定するステップと、
    　測定された分光透過率及び測定されたインデンテーション硬さに基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
    　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
    　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
    　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの選定方法。
  50. 　第１面と前記第１面に対向する第２面とを含む光学シートであって、
    　前記第２面から前記第１面に向けた順で基材層および機能層を備え、
    　前記機能層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
    　波長３８０ｎｍにおける分光透過率、波長４４０ｎｍにおける分光透過率、前記機能層の断面における第１位置でのインデンテーション硬さＨＡ１、前記機能層の断面における第２位置でのインデンテーション硬さＨＡ２、及び前記機能層の断面における第３位置でのインデンテーション硬さＨＡ３に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
    　前記第１位置は、前記断面における前記第１面に近い表層部に位置し、
    　前記第３位置は、前記断面における前記第２面に近い表層部に位置し、
    　前記第２位置は、前記第１位置及び前記第３位置の中央に位置する、光学シートの製造方法。
  51. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
    　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
    　波長４１０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
    　波長４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するステップと、
    　前記厚み比と、前記波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える、光学シートの選定方法。
  52. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
    　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長４１０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備える、光学シートの製造方法。
  53. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートに関し、
    　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比を測定するステップと、
    　波長３７９．５ｎｍ以上４４０．５ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率を測定するステップと、
    　前記厚み比と、前記波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、及び前記波長４４０ｎｍにおける前記分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
    　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シートの選定方法。
  54. 　第１層と、前記第１層に隣接する第２層と、を備え、
    　前記第１層は、硬化性樹脂組成物の硬化物と、紫外線吸収剤と、を含む、光学シートを作製するステップと、
    　前記第１層の厚み（μｍ）の前記第２層の厚み（μｍ）に対する比である厚み比と、波長３８０ｎｍにおける分光透過率と、波長４４０ｎｍにおける分光透過率と、波長３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の範囲内での０．５ｎｍおきの各波長における分光透過率の傾きと、に基づいて光学シートを選定するステップと、を備え、
    　波長Ｘにおける分光透過率の傾き（％／ｎｍ）は、波長Ｘ＋０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）から波長Ｘ－０．５（ｎｍ）における分光透過率（％）を引いた値である、光学シートの製造方法。
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