WO2023234292A1 - 架橋性（メタ）アクリル系重合体、粘着性組成物及び粘着性部材 - Google Patents

Abstract

架橋性（メタ）アクリル系重合体は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）とを有する。架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、構造単位（Ａ）の含有量が、６０．０質量％以上であり、構造単位（Ｂ）の含有量が、１．０質量％以上であり、構造単位（Ｃ）の含有量が、６．０質量％以上であり、且つ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計が１００質量％以下である。

Description

架橋性（メタ）アクリル系重合体、粘着性組成物及び粘着性部材

　本発明は、架橋性（メタ）アクリル系重合体、粘着性組成物及び粘着性部材に関する。

　粘着テープは、電子部品や半導体部品等の製造工程において、部材や部品の仮固定、搬送時固定、補強、保護、マスキング等の目的で広く用いられている。

　例えば、半導体チップの製造工程においては、ウエハの裏面を所定の厚さまで研削する際、ウエハの表面を保護するために粘着テープをウエハの表面に貼り合わせた状態で、裏面の研削が行われる。また、ウエハは、チップ状に個片化（ダイシング）された後、マウント工程に移される。この際、ウエハは、裏面が予め粘着テープに貼着された状態でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピックアップ、マウンティング等が行われる。

　このような粘着テープに用いられる粘着性組成物には、加工工程中にウエハや半導体チップ等の被着体を強固に固定できるだけの高い粘着性を有しつつ、工程終了後には被着体を損傷することなく剥離できることが求められる。

　そのような特性を実現する粘着性組成物として、特許文献１には、３級アルコキシカルボニルオキシ基を末端に有する（メタ）アクリル系単量体と、３級アルコキシカルボニルオキシ基を末端に有さないビニル系単量体との共重合体を含み、２００℃以上で１０分以上加熱して３級アルコキシカルボニルオキシ基を分解させることで、部材間を分離できる易解体性アクリル系粘着剤が開示されている。

　また、特許文献２には、基材と、熱膨張性微小球を含有する熱膨張性粘着層とを有する加熱剥離型粘着シートが開示されている。当該加熱剥離型粘着シートは、剥離時に加熱により発泡剤等を発泡又は膨張させることで、被着体から容易に剥離できるとされている。

　また、特許文献３には、放射線重合性官能基を有する多官能性モノマー又はオリゴマーが結合されたポリマーを含む粘着剤を備えた粘着シートが開示されている。当該粘着シートは、剥離時に紫外線を照射して上記ポリマーを硬化させることで、被着体から容易に剥離できるとされている。

　また、特許文献４には、支持板と半導体ウエハとを貼り合わせた状態で、半導体ウエハの処理を行う工程に用いられる接着テープであって、基材と、特定のテトラゾール化合物とを含む接着剤組成物からなる接着層とを含む接着テープが開示されている。当該接着テープは、剥離時に光を照射してテトラゾール化合物からガスを発生させることで、被着体から容易に剥離できるとされている。

特開２０１９－２１０４０５号公報 特開２００１－１３１５０７号公報 特開平５－３２９４６号公報 特開２００３－２３１８７２号公報

　ところで、ＭＥＭＳ等に用いられる半導体チップは、熱によるダメージを受けやすいことから、半導体チップの製造工程に使用される粘着テープは、例えば１００℃以下の低温で剥離できることが望まれる。また、厚み５０μｍ程度の薄いガラスフィルムや半導体チップは、粘着テープの剥離時に破損しやすいことから、これらの仮固定に使用される粘着テープは、低い剥離力でも糊残りなく剥離できることが望まれる。

　しかしながら、特許文献１の粘着剤や特許文献２の粘着シートは、剥離時に高温に加熱する必要があった。また、特許文献３の粘着シートは、硬化時の収縮が大きく、剥離時に高い剥離力が必要であることから、剥離時に薄い被着体を損傷させるおそれがあった。また、特許文献４の接着テープは、テトラゾール化合物等の低分子量成分を含むため、ブリードアウトを生じやすく、被着体を汚染するおそれがあった。このように、剥離時に、被着体が熱によるダメージや破損や汚染によるダメージを受けやすいという問題があった。

　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、良好な粘着性を有し、且つ被着体へのダメージを低減しつつ、低温でも良好に剥離できる架橋性（メタ）アクリル系重合体、粘着性組成物及び粘着性部材を提供することを目的とする。

　［１］　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）と、を有する架橋性（メタ）アクリル系重合体であって、前記架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、前記構造単位（Ａ）の含有量が、６０．０質量％以上であり、前記構造単位（Ｂ）の含有量が、１．０質量％以上であり、前記構造単位（Ｃ）の含有量が、６．０質量％以上であり、且つ前記構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計が１００質量％以下である、架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［２］　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）と、を有する架橋性（メタ）アクリル系重合体であって、厚みが１～４５μｍの範囲内となるように調整した前記架橋性（メタ）アクリル系重合体からなる層に、積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、下記式で示される質量減少率が１．０％以上である、架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　質量減少率（％）＝照射前後の前記層の質量差（ｇ）／照射前の前記層の質量（ｇ）×１００
　［３］　前記光塩基発生剤は、オキシムエステル又はカルバメートに由来する基を含む、［１］又は［２］に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［４］　前記構造単位（Ｃ）は、下記式で示される化合物に由来する、［１］～［３］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。

（式（２－１）中、
　Ｘ^１及びＸ^２は、独立して－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
　Ｒ^１は、Ｈ又はメチル基であり、
　Ｒ^１２は、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ１～Ｃ４アルキル基であり、
　Ｒ^１３は、置換若しくは非置換の多価アルキル基、置換若しくは非置換のシクロアルキレン基又は置換若しくは非置換のアリーレン基であり、且つＲ^１２とＲ^１３は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ^１４は、置換若しくは非置換のアルキレン基であり、
　Ｒ^１５は、ニトロ基又はアルコキシ基であり、
　ｎは、０～２の整数であり、
　ｙは、１～３の整数である。）
　［５］　前記構造単位（Ｂ）と前記構造単位（Ｃ）の合計含有量の、前記構造単位（Ａ）の含有量に対する比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａは、１０／９０～３０／７０（質量比）である、［１］～［４］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［６］　前記構造単位（Ｂ）と前記構造単位（Ｃ）の含有比率Ｃ／Ｂは、０．４～２．５（モル比）である、［１］～［５］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［７］　前記（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物のアルキル鎖の炭素数は、２～２０である、［１］～［６］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［８］　重量平均分子量は、２０００００以上である、［１］～［７］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
　［９］　分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、２．０～８．０である、［１］～［８］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。

　［１０］　［１］～［９］のいずれかに記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体と、架橋剤と、を含む、粘着性組成物。
　［１１］　前記架橋剤の含有量は、前記架橋性（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して０．００～２．００質量部である、［１０］に記載の粘着性組成物。

　［１２］　［１０］又は［１１］に記載の粘着剤組成物を含む粘着層を有する、粘着性部材。

　［１３］　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）を有する重合体αと、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）を有する重合体βと、を含む粘着性組成物であって、前記重合体α及び前記重合体βの少なくとも一方が、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）をさらに含み、前記重合体αと前記重合体βの構造単位の総量に対して、前記構造単位（Ａ）の含有量が、６０．０質量％以上であり、前記構造単位（Ｂ）の含有量が、１．０質量％以上であり、前記構造単位（Ｃ）の含有量が、６．０質量％以上であり、且つ前記構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計が１００質量％以下である、粘着性組成物。
　［１４］　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）を有する重合体αと、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）を有する重合体βと、を含む粘着性組成物であって、
　前記重合体α及び前記重合体βの少なくとも一方が、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）をさらに含み、
　厚みが１～４５μｍの範囲内となるように調整した前記粘着性組成物の成形体に積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、前記成形体の下記式で示される質量減少率が１．０％以上である、
　粘着性組成物。
　質量減少率（％）＝照射前後の前記成形体の質量差（ｇ）／照射前の前記成形体の質量（ｇ）×１００

　本発明によれば、良好な粘着性を有し、且つ被着体へのダメージを低減しつつ、低温でも良好に剥離できる架橋性（メタ）アクリル系重合体、粘着性組成物及び粘着性部材を提供することができる。

図１は、構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａを変えたときの、光照射前後の剥離力を示すグラフである。 図２Ａ及び２Ｂは、粘着性部材の使用例を示す模式的な断面図である。

　本発明者らは、（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）、及び光照射により塩基を発生すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）を１つの重合体内に含むか、又は、複数の重合体の組み合わせによって含み、且つ構造単位（Ｃ）の含有量を所定以上にすることにより、使用時には十分な粘着力を発現しつつ、剥離時には高い剥離性を示すことを見出した。

　以下、架橋性（メタ）アクリル系重合体の一例における剥離の推定スキームを示す。

　上記に示されるように、光を照射すると、構造単位（Ｃ）中の保護基が脱離して、塩基（例えばアミン）が生成すると共に、副生ガス（例えば炭酸ガス）が発生する。ガスの発生により、当該重合体を含む粘着性組成物と被着体との界面における接着面積を減少させることができる（界面破壊）。また、一方の重合体分子の構造単位（Ｃ）から生成した塩基と、他方の重合体分子の構造単位（Ｂ）が有する酸性官能基とが酸・塩基反応してイオン架橋を形成し、当該重合体を含む粘着性組成物の弾性率が向上する（粘弾性変化）。これらの両方の作用により、加熱しなくても容易に剥離することができる。また、イオン架橋により粘着性組成物の弾性率が高まるため、剥離後の再付着も抑制できる。以下、本発明の架橋性（メタ）アクリル系重合体の構成について、詳細に説明する。

　１．架橋性（メタ）アクリル系重合体
　本発明の一実施形態に係る架橋性（メタ）アクリル系重合体は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）とを含む。なお、本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリル、メタクリル、又はこれらの両方を表す。

　そして、架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、構造単位（Ａ）の含有量は６０．０質量％以上であり、構造単位（Ｂ）の含有量は１．０質量％以上であり、構造単位（Ｃ）の含有量は６．０質量％以上である。但し、構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計は１００質量％以下である。

　このように、構造単位（Ｃ）の含有量が６．０質量％以上であると、光を照射したときに、構造単位（Ｃ）から保護基が脱離して、十分な量の塩基が生成すると共に、十分な量のガスが発生する。ガス発生により、上記重合体を含む粘着性組成物と被着体との接触面積を減少させることができる。また、構造単位（Ｃ）から生成した塩基が、構造単位（Ｂ）の酸性官能基とイオン架橋を形成するため、粘着性組成物の弾性率を高めることができる。これらの結果、高温に加熱しなくても容易に剥離することができる。

　同様の観点から、構造単位（Ａ）の含有量は、架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、好ましくは６０．０～９３．０質量％であり、より好ましくは７０．０～９０．０質量％である。構造単位（Ａ）の含有量が下限値以上であると、粘着性組成物の粘着性が一層高まりやすく、上限値以下であると、剥離時の剥離性が一層損なわれにくい。

　構造単位（Ｂ）の含有量は、架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、好ましくは１．０～１５．０質量％であり、より好ましくは１．５～１０．０質量％である。構造単位（Ｂ）の含有量が下限値以上であると、光照射により構造単位（Ｃ）から生成する塩基と構造単位（Ｂ）の酸性官能基とによるイオン架橋が一層形成されやすく、粘着性組成物の弾性率が一層高まりやすい。それにより、剥離性が一層高まりやすい。構造単位（Ｂ）の含有量が上限値以下であると、粘着性が一層損なわれにくい。

　構造単位（Ｃ）の含有量は、架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、好ましくは６．０～３０．０質量％であり、より好ましくは８．０～２５．０質量％であり、さらに好ましくは１５．０質量％を超え２５．０質量％以下である。構造単位（Ｃ）の含有量が下限値以上であると、光照射により、構造単位（Ｃ）から一層多くのガスや塩基が生成しやすい。それにより、粘着性組成物と被着体との接触面積が一層少なくなり、イオン架橋により弾性率が一層高まるため、剥離性が一層高まりやすい。構造単位（Ｃ）の含有量が上限値以下であると、粘着性が一層損なわれにくい。

　構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計含有量と構造単位（Ａ）の含有量との比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａ（質量比）（以下、「構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率」ともいう）は、特に制限されないが、粘着性と剥離性のバランスの観点では、８／９２～４０／６０であることが好ましく、１０／９０～３０／７０であることがより好ましい。（Ｂ＋Ｃ）／Ａが下限値以上であると、光照射前の粘着性を高めつつ、光照射後の剥離性も高めうる。（Ｂ＋Ｃ）／Ａが上限値以下であると、粘着性が一層損なわれにくい。このことは、以下によっても示される。

　図１は、構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａを変えたときの光照射前後の剥離力を示すグラフである。

　粘着性組成物の剥離力は、一般的に、弾性率があるレベルに到達するまでは、弾性率の増加と共に剥離力も高くなるが；弾性率があるレベルに到達した後は、弾性率の増加と共に剥離力は低くなる。ここで、構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａを多くすると、光照射前では水素結合等により弾性率は高くなりやすく、剥離力も高くなりやすい。一方、光照射後では、酸・塩基反応（イオン架橋）により弾性率が高くなりやすく、剥離力は低くなりやすい。即ち、合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａを高くすると、光照射前は良好な粘着性を示しつつ、光照射後は良好な剥離性を示すことがわかる（図１参照）。

　構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の含有比率Ｃ／Ｂ（モル比）は、特に制限されないが、粘着性と剥離性のバランス観点では、０．３～３であることが好ましく、０．４～２．５であることがより好ましい。Ｃ／Ｂが下限値以上であると、構造単位（Ｃ）から生成する塩基と構造単位（Ｂ）に由来する酸性官能基との量比が一層バランス良くなるため、イオン架橋により一層弾性率を高めやすい。Ｃ／Ｂが上限値以下であると、極性が高くなりすぎないため、光照射後における剥離性が一層損なわれにくい。

　架橋性（メタ）アクリル系重合体のモノマー組成（構造単位（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の含有量）は、熱分解ＧＣ／ＭＳとＮＭＲにより特定することができる。例えば、熱分解ＧＣ／ＭＳにてモノマーの種類を特定し、^１Ｈ－ＮＭＲの各モノマーに対応するピークの積分値からモノマーの量比を特定することができる。

　以下、各構造単位について説明する。

　構造単位（Ａ）について
　構造単位（Ａ）は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する。構造単位（Ａ）は、例えば上記重合体のＴｇを調整し、粘着性を付与する機能を有する。

　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物は、非結晶性を示し、粘着性を高めやすい観点では、炭素数２～２０のアルキル鎖を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物であることが好ましい。炭素数２～２０のアルキル鎖は、炭素数２～２０、好ましくは２～９、より好ましくは２～７の直鎖のアルキル鎖であってもよいし、炭素数３～２０、好ましくは３～１０の分岐のアルキル鎖であってもよい。アルキル鎖の炭素数が適度に大きくなるほど、上記重合体のＴｇは低くなりやすく、粘着性をより高めやすい。

　直鎖のアルキル鎖を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物の例には、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ノニル等が含まれる。分岐のアルキル鎖を有するアクリル酸アルキルエステル化合物の例には、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等が含まれる。中でも、（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物は、アクリル酸アルキルエステル化合物であることが好ましい。

　構造単位（Ｂ）について
　構造単位（Ｂ）は、酸性官能基を有する化合物に由来する。構造単位（Ｂ）は、光照射されると、その酸性官能基が、光照射により構造単位（Ｃ）から生成する塩基と反応して、イオン架橋を形成する機能を有する。

　酸性官能基を有する化合物は、酸性官能基を有するエチレン性不飽和化合物であればよい。酸性官能基の例には、カルボン酸基（カルボキシル基）、フェノール性水酸基、ボロン酸基、スルホン酸基、リン酸基又はそれらの塩が含まれる。

　カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、２－アクリロイロキシエチルコハク酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が含まれる。カルボキシル基は、解離していてもよいし、錯塩を形成していてもよい。錯塩を形成する場合、アルカリ金属と錯塩を形成しうる。

　フェノール性水酸基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、メタクリル酸４－ヒドロキシフェニル、４－ビニルフェノール、４－イソプロペニルフェノール、Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等のフェノール性水酸基を有するエチレン性不飽和カルボン酸エステルが含まれる。

　ボロン酸基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、４－メタクリルアミドフェニルボロン酸等が含まれる。

　スルホン酸基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、ｐ－スチレンスルホン酸、４－メタリルオキシベンゼンスルホン酸、２-（メタクリロイルオキシ）エタンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸等が含まれる。スルホン酸基は、解離していてもよいし、錯塩を形成していてもよい。錯塩を形成する場合、アルカリ金属又はアンモニウムイオンと錯塩を形成しうる。

　リン酸基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、ビニルホスホン酸、アシッドホスホキシ（メタ）アクリレート（例えばリン酸２－（（メタ）アクリロイルオキシ）エチル等）が含まれる。リン酸基は、解離していてもよいし、錯塩を形成していてもよい。錯塩を形成する場合、例えばアルキル基、アリル基、アラルキル基等を有するアンモニウムイオンやアルカノールアミン残基と錯塩を形成しうる。

　これらの中でも、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物が好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましく、アクリル酸がさらに好ましい。また、上記重合体の弾性率を一層高めることで、光照射後の剥離性を一層高める観点では、剛直な構造（例えば芳香環等）を有する化合物が好ましく、フェノール性水酸基を有するエチレン性不飽和カルボン酸エステルがより好ましい。

　構造単位（Ｃ）について
　構造単位（Ｃ）は、光塩基発生剤に由来する。構造単位（Ｃ）は、光照射により分解（結合が開裂）して塩基を生成すると共に、副生ガスを生成することで、剥離性を向上させる機能を有する。

　光塩基発生剤は、光照射により分解して塩基を生成すると共に、副生ガスを生成するエチレン性不飽和化合物である。エチレン性不飽和化合物は、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物であり、より好ましくはアクリル酸エステル化合物である。光塩基発生剤が分解して生成する塩基は、好ましくは構造単位（Ｂ）が有する酸性官能基と酸・塩基反応（イオン架橋する）塩基であり、より好ましくはアミンである。アミンは、１級アミン、２級アミン、３級アミンのいずれであってもよいが、塩基性の観点では、好ましくは２級アミン又は３級アミンである。また、光塩基発生剤が分解して生成する副生ガスは、炭酸ガス、二酸化硫黄ガス、窒素ガス及びＮＨ_３ガス等であり、好ましくは炭酸ガスである。

　そのような光塩基発生剤は、非イオン型であっても、イオン型であってもよい。保存安定性や耐熱性の観点では、非イオン型の光塩基発生剤が好ましく、反応性の観点では、イオン型の光塩基発生剤が好ましい。

　（非イオン型の光塩基発生剤）
　非イオン型の光塩基発生剤は、オキシムエステル又はカルバメートに由来する基を有することが好ましい。

　オキシムエステルに由来する基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、式（１）で表される化合物が含まれる。

　式（１）中、Ｒ^１は、Ｈ又はメチル基である。
　Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ置換若しくは非置換のアルキル基又は置換若しくは非置換のアリール基である。置換若しくは非置換のアルキル基は、好ましくは置換若しくは非置換のＣ１～Ｃ３０のアルキル基である。置換若しくは非置換のアリール基は、好ましくは置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ３０のアリール基である。

　式（１）で表される化合物の例には、以下のものが含まれる。

　カルバメートに由来する基を有するエチレン性不飽和化合物の例には、式（２）で表される化合物が含まれる。

　式（２）中、Ｒ^１は、式（１）のＲ^１と同義である。
　Ｘ^１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、好ましくは－Ｏ－である。
　Ｒ^１１は、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ（Ｒは、芳香環含有アルキル基）である。
　Ｒ^１２は、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ１～Ｃ４アルキル基である。
　Ｒ^１３は、置換若しくは非置換の多価アルキル基、置換若しくは非置換のシクロアルキレン基又は置換若しくは非置換のアリーレン基である。多価アルキル基は、好ましくは２価又は３価の置換若しくは非置換のＣ１～Ｃ８アルキル基であり、置換若しくは非置換のシクロアルキレン基は、好ましくは置換若しくは非置換のシクロヘキシレン基である。Ｒ^１２とＲ^１３は、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ^１２とＲ^１３が結合して形成する環は、例えばシクロヘキサン環等の脂肪族環であることが好ましい。
　つまり、式（２）の－Ｒ^１３ＮＲ^１１Ｒ^１２は、光照射により解離する光解離性基、具体的にはカルバメートに由来する基である。カルバメートの例には、ベンジルカルバメート、ベンゾインカルバメート、クマリン構造を有するカルバメート等が含まれる。

　ベンジルカルバメートの例には、以下のようなオルト－ニトロベンジルカルバメートが含まれる。以下において、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ式（２）のＲ^１２及びＲ^１３に対応する。

　Ｒ^１６は、Ｈ、メチル基、メトキシ基、２－ニトロベンジル基又は２，６－ジニトロベンジル基であり、
　Ｒ^１７及びＲ^１８は、それぞれＨ、メトキシ基又はニトロ基であり、
　Ｒ^１６及びＲ^１７は、互いに結合して環（例えばエチレンジオキシ環）を形成してもよよく、
　Ｒ^１９は、Ｈ、置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のアリール基である。

　ベンジルカルバメートの他の例には、以下のような（α，α－ジメチル－３，５－ジメトキシベンジルオキシ）カルボニル化合物が含まれる。

　ベンゾインカルバメートの例には、以下のような化合物が含まれる。

　Ｒ^２０は、Ｈ、４－メトキシ基、－ＳＭｅ、３，５－メトキシ基、３，４－Ｃ_４Ｈ_４（２－Ｎａｐｈｔｈ）であり；
　Ｒ^２１は、Ｈ又は３，５－メトキシ基であり；
　Ｒ^２２は、Ｈ又は３，５－ＤｉＯＭｅＰｈである。

　クマリン構造を有するカルバメートの例には、以下のような化合物が含まれる。

　これらの中でも、非イオン型の光塩基発生剤は、式（２）で表される化合物であることが好ましい。式（２）で表される化合物におけるカルバメートに由来する基は、ベンジルカルバメート又はベンゾインカルバメートに由来する基であることが好ましく、ベンジルカルバメートに由来する基であることがより好ましい。即ち、式（２）で表される化合物は、式（２－１）で表される化合物であることが特に好ましい。

　式（２－１）のＸ^１、Ｒ^１、Ｒ^１２及びＲ^１３は、式（２）のＸ^１、Ｒ^１、Ｒ^１２及びＲ^１３とそれぞれ同義である。
　Ｘ^２は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－であり、好ましくは－Ｏ－である。
　Ｒ^１４は、置換若しくは非置換のアルキレン基であり、
　Ｒ^１５は、ニトロ基又はアルコキシ基であり、
　ｎは、０～２の整数であり、
　ｙは、１～３の整数であり、好ましくは１である。

　式（２）で表される化合物は、例えば反応性イソシアネート官能基を有するエチレン性不飽和化合物（例えばイソシアナトアルキル（メタ）アクリレート）と、ヒドロキシル官能基を有する光解離性化合物（例えばベンジルアルコール）との反応によって調製されうる。

　（イオン型の光塩基発生剤）
　イオン型の光塩基発生剤は、例えば下記一般式（３）で示される化合物である。

　式（３）中、Ｒ^４は、水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アルコキシ基、アミド基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数５～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１４のアリール基、炭素数７～１５のアリールアルキル基、飽和脂肪族環、不飽和脂肪族環、芳香環又は有機基を表す。Ｒ^４が環状構造の場合には、ヘテロ原子を含んでいてもよい。

　式（３）中、ＨＢ^＋は、プロトン化した塩基を示し、例えばアミン、ピリジル基を含有する化合物、ヒドラジン化合物、アミド化合物、水酸化四級アンモニウム塩、メルカプト化合物、スルフィド化合物又はホスフィン化合物などの塩基性化合物である。ＨＢ^＋は、好ましくはアミノエチル化アクリル酸に由来する化合物、Ｎ－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミド、メタクリル酸２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル又はメタクリル酸１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジルがプロトン化されたものである。

　中でも、イオン型の光塩基発生剤は、上記塩基と、ケトプロフェン、Ｎ－アセトキシフタルイミド誘導体、シアノアクリル酸ジチオフェンなどのイオン型添加剤が反応したものであることが好ましい。すなわち、イオン型の光塩基発生剤は、ケトプロフェン、Ｎ－アセトキシフタルイミド誘導体、シアノアクリル酸ジチオフェン等に由来する基を有することが好ましい。イオン型の光塩基発生剤は、具体的には、下記式で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記式において、ＨＢ^＋は、式（３）のＨＢ^＋と同様であり、Ｒ^２３は、Ｈ又はニトロ基である。

　このような構造単位（Ｃ）を有する架橋性（メタ）アクリル系重合体は、例えば側鎖に１級、２級又は３級アミンを有する（メタ）アクリル系重合体と上記ケトプロフェン、Ｎ－アセトキシフタルイミド誘導体、又はシアノアクリル酸ジチオフェン等とを反応させて得ることができる。

　他の構成単位について
　架橋性（メタ）アクリル系重合体は、必要に応じて上記以外の他の構造単位をさらに含んでもよい。他の構造単位の例には、アクリルアミド、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸４－ヒドロキシブチル等の官能基含有アクリレート、スチレン類、上記以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が含まれる。但し、他の構造単位の含有量は、架橋性（メタ）アクリル系重合体の構造単位の総量に対して１５質量％以下としうる。

　物性について
　架橋性（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、特に制限されないが、剥離性を一層高めやすくする観点では高いことが好ましい。具体的には、架橋性（メタ）アクリル系重合体のＭｗは、２０００００以上であることが好ましく、３０００００～１２０００００であることがより好ましい。

　架橋性（メタ）アクリル系重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に制限されないが、剥離性を一層高めやすくする観点では低いことが好ましい。具体的には、架橋性（メタ）アクリル系重合体のＭｗ／Ｍｎは、２．０～８．０であることが好ましく、２．０～６．５であることがより好ましく、２．５～６．０であることがさらに好ましい。

　架橋性（メタ）アクリル系重合体のＭｗやＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）を用いて、標準ポリスチレン換算により測定することができる。ＧＰＣの分析条件は、以下に通りである。
　自動注入装置：日本ウォーターズ社製、７１７ｐｌｕｓ
　ポンプ：日本ウォーターズ社製、５１５　ＨＰＬＣポンプ
　カラム：昭和電工社製　ＰＬｇｅｌ　１０μ　ＭＩＸＥＤ－Ｂ，　７．５　ｘ　３００　ｍｍ（３本）
　示差屈折率検出器：昭和電工社製、Ｓｈｏｄｅｘ　Ｒ－１０１
　カラム較正：アジレント・テクノロジー社製、ＥａｓｉＣａｌ　ＰＳ－１ポリスチレン
　溶離液：富士フィルム和光純薬社製、ＨＰＬＣ用テトラヒドロフラン
　カラム温度：４０℃
　流速：１．０ｍｌ／分

　架橋性（メタ）アクリル系重合体のガラス転移温度Ｔｇは、特に制限されないが、十分な粘着性を得る観点では低いことが好ましく、例えば－８０℃～１０℃としうる。架橋性（メタ）アクリル系重合体のＴｇは、粘弾性試験機を用いて周波数１Ｈｚのせん断歪みを与えながら、温度領域－７０℃～１５０℃、５℃／分の昇温速度でせん断モードにより粘弾性を測定し、ｔａｎδ（損失正接）のピークトップ温度をホモポリマーのＴｇとすることができる。

　厚み１～４５μｍの範囲内となるように調整した架橋性（メタ）アクリル系重合体からなる層に積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、当該層の下記式で表される質量減少率は１．０％以上であり、好ましくは１．５％以上、より好ましくは２．０％以上、さらに好ましくは２．５％以上である。当該質量減少率の上限は特に限定されないが、例えば１００％未満とすることができる。
　質量減少率（％）＝照射前後の上記層の質量差（ｇ）／照射前の上記層の質量（ｇ）×１００

　上記質量減少率が上記範囲内であると、架橋性（メタ）アクリル系重合体からなる層と被着体との間の界面破壊および上述のイオン架橋が生じ、加熱しなくても容易に剥離できるという効果と剥離後の再付着の抑制という効果を奏する。
　上記質量減少率は、構造単位（Ａ）～（Ｃ）の種類や含有量により制御することができる。

　合成方法について
　本実施形態に係る架橋性（メタ）アクリル系重合体は、例えば構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を構成するモノマーを、開始剤の存在下で重合させて得ることができる。重合は、架橋性（メタ）アクリル系重合体の官能基と反応しない好適な溶媒、例えば、酢酸エチル、トルエン及びテトラヒドロフランの存在下で、又は好ましくは不存在下で行われ得る。

　開始剤は、光塩基発生剤を光分解させないラジカル開始剤であればよく、好ましくは熱開始剤である。熱開始剤の例には、過酸化ベンゾイル、過酸化ジベンゾイル、過酸化ジラウリル、過酸化シクロヘキサン、過酸化メチルエチルケトン、ヒドロペルオキシド等の過酸化物、ジシクロヘキシルペルオキシジカーボネート、２，２，－アゾ－ビス（イソブチロニトリル）及び２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等が挙げられる。

　２．粘着性組成物
　本発明の一実施形態に係る粘着性組成物は、上記架橋性（メタ）アクリル系重合体を含む組成物であってもよいし（第１の実施形態）；上記構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）及び構造単位（Ｃ）のうち一部を含む重合体αと、残部を含む重合体βとを含む組成物であってもよい（第２の実施形態）。

　２－１．重合体
　粘着性組成物が重合体αと重合体βを含む場合、例えば構造単位（Ａ）を含む重合体αと、構造単位（Ｂ）を含む重合体βとを含み、これらの少なくとも一方が構造単位（Ｃ）をさらに含むことが好ましく；構造単位（Ａ）と構造単位（Ｃ）を含む重合体αと、構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）を含む重合体βとを含むことがより好ましい。

　重合体αと重合体βを含む粘着性組成物において、重合体αと重合体βの構造単位の総量に対する構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）及び構造単位（Ｃ）の含有量は、上記架橋性（メタ）アクリル系重合体の構造単位の総量に対する構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）及び構造単位（Ｃ）の含有量とそれぞれ同様としうる。重合体αと重合体βの構造単位の総量に対する構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）、及び構造単位（Ｃ）の含有量は、重合体α、βのモノマー組成やそれらの組成物中の配合量によって調整されうる。

　また、重合体αと重合体βを含む粘着性組成物における構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の含有比率Ｃ／Ｂ（モル比）は、上記架橋性（メタ）アクリル系重合体における構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の含有比率（モル比）と同様としうる。
　また、重合体αと重合体βを含む粘着性組成物における構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計含有量と構造単位（Ａ）の含有量との比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａ（質量比）は、上記アクリル系重合体における構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａ（質量比）と同様としうる。

　粘着性組成物における上記架橋性（メタ）アクリル系重合体の含有量又は重合体α、βの合計含有量は、所望の粘着性と剥離性を示すものであれば特に制限されないが、例えば粘着性組成物の不揮発成分に対して１０～１００質量％、好ましくは３０～１００質量％、より好ましくは５０～１００質量％である。

　２－２．他の成分
　本発明の一実施形態に係る粘着性組成物は、必要に応じて上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、架橋剤、有機溶剤、粘着付与剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、難燃剤、防かび剤、シランカップリング剤、充填剤、着色剤等が含まれ、好ましくは架橋剤又は有機溶剤が含まれる。

　（架橋剤）
　架橋剤は、上記架橋性（メタ）アクリル系重合体や重合体α、βをプレ架橋させる機能を有する。それにより、当該重合体を含む粘着性組成物の弾性率を一層高めうるため、光照射前の粘着性を一層高めつつ、光照射後の剥離性も一層高めうる。

　架橋剤は、上記構造単位（Ｂ）が有する酸性官能基（好ましくはカルボン酸基）と反応するものであればよい。そのような架橋剤の例には、有機金属錯体や、グリシジル基、イソシアネート基、カルボジイミド基、アジリジニル基及びオキサゾリル基から選択される架橋性基を２つ以上有する化合物等が含まれる。中でも、架橋反応が進みやすい等の観点から、有機金属錯体、グリシジル基を２つ以上有する化合物、イソシアネート基を２つ以上有する化合物が好ましい。

　有機金属錯体の例には、チタン系錯体、ジルコニウム系錯体、アルミニウム系錯体等が含まれ、好ましくはチタン系錯体である。チタン系錯体は、１分子中にＴｉ－Ｏ－Ｃ結合を保有するものであり、このアルコキシ基を有することで、樹脂の分子間又は分子内架橋結合を強固にする役割を持つ。チタン系錯体としては、チタンアルコキシド、チタンアシレート等が挙げられ；チタンアルコキシドとしては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２－エチルヘキシル）チタネート、テトラメチルチタネートの他、トリエタノールアミンチタネート、チタニウムアセチルアセテート、チタニウムエチルアセトアセテート、チタニウムラクテート、オクチレングリコールチタネート、チタンテトラアセチルアセテート、リン酸チタン化合物等が含まれ、好ましくはチタニウムアセチルアセテートである。

　イソシアネート基を２以上有する化合物の例には、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）等の脂肪族イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、水添化キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等の脂環族イソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネート、ｐ－フェニレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等の芳香族イソシアネートが挙げられる。中でも、脂肪族イソシアネートが架橋剤として好適に使用できる。

　グリシジル基を２以上有する化合物の例には、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ’－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等が挙げられる。中でも、カルボキシル基との反応性の観点から、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ’－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンが好ましい。

　架橋剤は、上記架橋性（メタ）アクリル系重合体の含有量又は重合体α、βの合計含有量１００質量部に対して０．００～２．００質量部であることが好ましく、０．００～１．０質量部であることがより好ましく、０．００～０．０３０質量部であることがさらに好ましい。架橋剤の含有量が下限値以上であると、光照射前から上記重合体を適度に架橋させることができるため、光照射前の粘着力を一層高めやすく、光照射後の剥離性も一層高めやすい。架橋剤の含有量が上限値以下であると、構造単位（Ｂ）の酸性官能基が架橋剤との反応によって消費されすぎないため、光照射によるイオン架橋の形成が阻害されにくい。

　（有機溶剤）
　有機溶剤は、上記重合体の合成に用いられる溶媒であってよい。有機溶剤の例には、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤が挙げられる。

　粘着性組成物は、液状であってもよいし、フィルム状（例えば基材上に保持されたフィルム状）であってもよい。

　２－３．物性
　厚み１～４５μｍの範囲内となるように調整した粘着性組成物の成形体（例えば粘着性組成物を含む粘着層）に積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、当該成形体の下記式で表される質量減少率は、１．０％以上であり、好ましくは１．５％以上、より好ましくは２．０％以上、さらに好ましくは２．５％以上である。当該質量減少率の上限は特に限定されないが、例えば１００％未満とすることができる。
　質量減少率（％）＝照射前後の上記成形体の質量差（ｇ）／照射前の上記成形体の質量（ｇ）×１００

　粘着性組成物の成形体の上記質量減少率が上記範囲内であると、上述の粘着性組成物と被着体との間の界面破壊および上述のイオン架橋が生じ、加熱しなくても容易に剥離できるという効果と剥離後の再付着の抑制という効果を奏する。
　上記と同様に、上記質量減少率は、粘着性組成物中の架橋性（メタ）アクリル系重合体の含有量や、当該架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位（Ａ）～（Ｃ）の種類や含有量により制御することができる。

　３．粘着性部材
　本発明の一実施形態に係る粘着性部材は、上記粘着剤組成物を含む粘着層を有する。例えば、粘着性部材は、基材と、上記粘着剤組成物を含む粘着層とを含む粘着フィルムでありうる。また、粘着性部材は、基材と、上記粘着剤組成物を含む粘着層とを含む粘着テープでありうる。当該粘着フィルムや粘着テープは、半導体部品用途でありうる。

　基材としては、紙類、フィルム、布、不織布、金属箔等が挙げられる。フィルムは、好ましくは樹脂フィルムであり、その材料の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンナフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（カプロラクタム）、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリラクチド、セルロースアセテート及びエチルセルロース等が含まれる。布、不織布は、綿、ナイロン、レーヨン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の合成繊維若しくは天然繊維、ガラス、セラミック材料等で構成された織布や不織布でありうる。また、基材側から光照射する場合、基材は、光透過性又は透明であることが好ましい。

　粘着層は、基材の少なくとも一方の面上に配置されうる。粘着層の厚みは、用途にもよるが、例えば１～３００μｍであり、好ましくは１～３０μｍである。

　粘着層上には、必要に応じて剥離紙又は剥離フィルムが積層されてもよい。

　粘着フィルムは、基材上に粘着性組成物を塗布した後、乾燥させて形成してもよいし、離型シート上に形成した粘着性組成物を含む粘着層を、基材に転写して形成してもよい。乾燥は、粘着性組成物中の溶剤等の揮発成分を除去できる温度で行うことが好ましく、例えば８０～１６０℃で行うことが好ましい。

　粘着性組成物が架橋剤を含む場合、上記重合体を、当該架橋剤でプレ架橋させてもよい。即ち、上記重合体の構造単位（Ｂ）が有する酸性官能基の一部と、架橋剤とを反応させて、上記重合体を架橋させてもよい。架橋剤による架橋は、通常、熱架橋である。加熱温度は、熱架橋できる程度の温度、例えば８０～１６０℃としうる。

　４．用途
　上記粘着性組成物は、例えば被着体に一時的に接着させる用途に用いることができる。即ち、粘着性組成物の使用方法は、１）被着体に、粘着性組成物を含む粘着層を付与する工程と、２）粘着層に光を照射して、粘着層の粘着力を弱めて、被着体から粘着層をはがし取る工程とを含む。

　図２Ａ及び２Ｂは、粘着フィルムの使用例を示す模式的な断面図である。同図では、粘着フィルム１０は、基材１１と、粘着層１２とを有する。そして、粘着フィルム１０の粘着層１２上にデバイス２０を載置して固定してもよいし（図２Ａ参照）、支持基材３０上に、粘着フィルム１０の粘着層１２を接着させ、基材１１上に他の粘着剤４０を介してデバイス２０を載置して固定してもよい（図２Ｂ参照）。図２Ａでは、基材１１側から光を照射すればよく、図２Ｂでは、支持基材３０側から光を照射すればよい。

　被着体の種類は、特に制限されないが、例えばウエハやチップ、ガラス等でありうる。

　図２Ａに示されるような粘着フィルムは、例えば半導体製品の製造工程における工程フィルム、具体的にはバックグラインドフィルムやダイシングフィルムとして使用することができる。以下、上記粘着フィルムを用いてウエハのダイシングを行う方法について説明する。

　まず、粘着フィルムの粘着層上に、ウエハを貼着する。この貼着状態で、ウエハにダイシング、洗浄、乾燥等の工程が行われる。この際、個片化されたチップは粘着層により充分に接着保持されているため、上記各工程の間にチップが脱落することはない。

　次に、各チップを粘着フィルムからピックアップして、所定の基台上にマウンティングする。この際、ピックアップに先立って、或いはピックアップ時に、基材を通して粘着層に光を照射する。それにより、粘着層の粘着力が、ピックアップが行える程度に低下する。

　照射する光は、光塩基発生剤が光分解しうる波長の光であればよく、例えば波長２００～４００ｎｍの光であり、好ましくは紫外線（ＵＶ）や電子線（ＥＢ）でありうる。照射される光の照射量（積算光量）は、剥離できる程度であればよく、例えば１０～９０００ｍＷ／ｃｍ^２としうる。

　エキスパンディング工程の後、基材の下面から突き上げ針扞によりピックアップすべきチップを突き上げ、このチップを、例えば吸引コレットによりピックアップし、これを所定の基台上にマウンディングする。このとき、粘着力は充分に低下しているため、熱によるダメージの少ない良好な品質のチップを得ることができる。

　以下、実施例及び比較例を挙げて本開示を更に詳細に説明するが、本開示は何らこれに制約されるものではない。なお、実施例及び比較例の部数は、特に断りが無い場合、質量基準である。

　１．モノマー材料
　（構造単位（Ａ））
　・アクリル酸ブチル
　・アクリル酸２－エチルヘキシル

　（構造単位（Ｂ））
　・アクリル酸
　・２－アクリロイロキシエチル－コハク酸（共栄社化学社製ＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ））
　・メタクリル酸４－ヒドロキシフェニル（大阪有機化学工業社製ＨＱＭＡ－Ｈ）

　（構造単位（Ｃ））
　・４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬社製、ＷＰＢＧ－１６５、下記式参照）

　２．ポリマー溶液の調製
　＜ポリマー溶液１の調製＞
　アクリル酸ブチル８．０ｇ、アクリル酸０．２０ｇ及び酢酸エチル２１ｇを混合し、次いで４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬株式会社製、ＷＰＢＧ－１６５）１．０ｇを溶解させて、モノマー溶液を得た。
　一方、酢酸エチル１０ｇに２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（富士フィルム和光純薬株式会社製、Ｖ－６５）０．１８ｇ溶解させて、開始剤溶液を得た。
　そして、窒素雰囲気下で５０℃に加熱した上記モノマー溶液に、上記開始剤溶液を５６５μＬ加えた。これを攪拌しながら窒素雰囲気下で１時間加熱した後、再度、開始剤溶液を５６５μＬ加え、さらに７時間加熱した。これを室温まで放冷し、１４時間以上静置した後、再び窒素雰囲気下、攪拌しながら５０℃で９時間加熱して、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液１を得た。

　＜ポリマー溶液２の調製＞
　アクリル酸を０．３３ｇ、モノマー溶液における酢酸エチルを２３ｇ、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチルを１．６ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液２を得た。

　＜ポリマー溶液３の調製＞
　アクリル酸を０．４５ｇ、モノマー溶液における酢酸エチルを２３ｇ、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチルを２．０ｇに変更した以外は実施例１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液３を得た。

　＜ポリマー溶液４の調製＞
　アクリル酸ブチル８．０ｇ、２－アクリロイロキシエチル－コハク酸（共栄社化学社製ＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ））０．６１ｇ及び酢酸エチル２３ｇを混合し、次いで４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬株式会社製、ＷＰＢＧ－１６５）１．０ｇを溶解させ、モノマー溶液を得た。
　一方、酢酸エチル１０ｇに２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）０．１８ｇ溶解させて、開始剤溶液を得た。
　そして、窒素雰囲気下で６５℃に加熱した上記モノマー溶液に、上記開始剤溶液５６５μＬを加えた。これを攪拌しながら窒素雰囲気下で１時間加熱した後、再度、開始剤溶液を５６５μＬ加え、さらに７時間加熱した。これを室温まで放冷し、１４時間以上静置した後、再び窒素雰囲気下、攪拌しながら６５℃で９時間加熱して、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液４を得た。

　＜ポリマー溶液５の調製＞
　アクリル酸０．２０ｇをメタクリル酸４－ヒドロキシフェニル（大阪有機化学工業社製ＨＱＭＡ－Ｈ）０．５０ｇに変更し、且つモノマー溶液における酢酸エチルを２３ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液５を得た。

　＜ポリマー溶液６の調製＞
　アクリル酸ブチルをアクリル酸２－エチルヘキシル８．０ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液６を得た。

　＜ポリマー溶液７の調製＞
　アクリル酸ブチルをアクリル酸２－エチルヘキシル８．０ｇ、アクリル酸を０．４６ｇに変更した以外はポリマー溶液３と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液７を得た。

　＜ポリマー溶液８の調製＞
　アクリル酸を配合しなかった以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液８を得た。

　＜ポリマー溶液９の調製＞
　モノマー溶液における酢酸エチルを２０ｇに変更し、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチルを配合しなかった以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液９を得た。

　＜ポリマー溶液１０の調製＞
　アクリル酸を０．０５ｇ、４―（メタクリロイルオキシ）ピペリジン―１―カルボン酸（２―ニトロフェニル）メチルを０．２５ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液１０を得た。

　＜ポリマー溶液１１の調製＞
　アクリル酸０．２０ｇをメタクリル酸４－ヒドロキシフェニル（大阪有機化学工業社製ＨＱＭＡ－Ｈ）１．１ｇに変更し、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬株式会社製、ＷＰＢＧ－１６５）１．０ｇをＮ－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミド１．０ｇに変更し、且つモノマー溶液における酢酸エチルの量を２２ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、アクリル系重合体を含むポリマー溶液１１を得た。

　＜ポリマー溶液１２の調製＞
　アクリル酸０．２０ｇをメタクリル酸４－ヒドロキシフェニル（大阪有機化学工業社製ＨＱＭＡ－Ｈ）１．１ｇに変更し、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬株式会社製、ＷＰＢＧ－１６５）１．０ｇをメタクリル酸２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル１．０ｇに変更し、且つモノマー溶液における酢酸エチルの量を２２ｇに変更した以外はポリマー溶液１と同様にして、アクリル系重合体を含むポリマー溶液１２を得た。

　＜ポリマー溶液αの調製＞
　アクリル酸ブチル８．０ｇと、４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル（富士フィルム和光純薬社製ＷＰＢＧ―１６５）２．０ｇ、及び酢酸エチル２３ｇを混合し、モノマー溶液を得た。
　また、酢酸エチル１０ｇに２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（富士フィルム和光純薬社製、Ｖ－６５）０．１８ｇを溶解させて、開始剤溶液を得た。
　また、窒素雰囲気下で５０℃に加熱したモノマー溶液に、５６５μＬの上記開始剤溶液を加えた。これらを攪拌しながら窒素雰囲気下で１時間加熱した後、再度開始剤溶液を各５６５μＬ加え、さらに７時間加熱した。室温まで放冷し、１４時間以上静置した後、再び窒素雰囲気下、攪拌しながら５０℃で９時間加熱して、架橋性アクリル系重合体を含むポリマー溶液αを得た。

　＜ポリマー溶液βの調製＞
　アクリル酸ブチル８．０ｇ、アクリル酸０．４７ｇ及び酢酸エチル２０ｇを混合して、モノマー溶液を得た。
　また、酢酸エチル１０ｇに２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（富士フィルム和光純薬社製、Ｖ－６５）０．１８ｇを溶解させて、開始剤溶液を得た。
　また、窒素雰囲気下で５０℃に加熱したモノマー溶液に、５６５μＬの上記開始剤溶液を加えた。これらを攪拌しながら窒素雰囲気下で１時間加熱した後、再度開始剤溶液を各５６５μＬ加え、さらに７時間加熱した。室温まで放冷し、１４時間以上静置した後、再び窒素雰囲気下、攪拌しながら５０℃で９時間加熱して、アクリル系重合体を含むポリマー溶液βを得た。

　＜評価＞
　得られたポリマー溶液１～１２、α及びβの重量平均分子量（Ｍｗ）及び分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を、以下の方法で測定した。

　（分子量測定）
　得られたポリマーのＭｗ及びＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）を用いて、標準ポリスチレン換算により測定した。ＧＰＣの分析条件を以下に記す。

　［ポリマー溶液１～１０、α及びβ］
　自動注入装置：日本ウォーターズ社製、７１７ｐｌｕｓ
　ポンプ：日本ウォーターズ社製、５１５　ＨＰＬＣポンプ
　カラム：昭和電工社製　ＰＬｇｅｌ　１０μ　ＭＩＸＥＤ－Ｂ，　７．５　ｘ　３００　ｍｍ（３本）
　示差屈折率検出器：昭和電工社製、Ｓｈｏｄｅｘ　Ｒ－１０１
　カラム較正：アジレント・テクノロジー社製、ＥａｓｉＣａｌ　ＰＳ－１ポリスチレン
　溶離液：富士フイルム和光純薬社製、ＨＰＬＣ用テトラヒドロフラン
　カラム温度：４０℃
　流速：１．０ｍｌ／分

　［ポリマー溶液１１及び１２］
　自動注入装置：日本ウォーターズ社製、７１７ｐｌｕｓ
　ポンプ：フロム社製、ＫＰ－２２－１３　デュアルポンプ
　カラム：東ソー社製　ＴＳＫｇｅｌ　９μ　ＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ，　６．０　ｘ　１５０　ｍｍ（２本）
　示差屈折率検出器：昭和電工社製、Ｓｈｏｄｅｘ　ＲＩ－１０１
　カラム較正：アジレント・テクノロジー社製、ＥａｓｉＶｉａｌ　ＰＳ－Ｈ　ポリスチレン
　溶離液：富士フイルム和光純薬社製、ＧＰＣ用ジメチルホルムアミド,　１０ｍＭ　ＬｉＢｒ　添加
　カラム温度：４０℃
　流速：０．６ｍｌ／分

　ポリマー溶液１～１２、α及びβの重合体組成及び物性値を、表１に示す。

　３．粘着フィルムの作製及び評価
　（実施例１、３、４、６、７、９、１０及び比較例１～３）
　表２に示されるポリマー溶液を、基材（ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）フィルム、東洋紡社製テオネックスＱ８３Ｃ、厚み５０μｍ）上に塗布し、オーブン中１２０℃で５分間乾燥させた。それにより、表２に示される厚みの粘着層を有する粘着フィルムを得た。

　（実施例２）
　酢酸エチル９．９ｇに、架橋剤（マツモトファインケミカル社製オルガチックスＴＣ－４０１、チタンテトラアセチルアセトネート、成分濃度６５質量％）０．１ｇを混合し、架橋剤溶液を調製した。この架橋剤溶液０．０３３ｇを、５．０ｇのポリマー溶液１に加えて十分に混合し、架橋性アクリル系重合体と架橋剤とを含む粘着性組成物を得た。架橋剤の含有量は、架橋性アクリル系重合体１００質量部に対して０．０１５質量部であった。そして、得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例５）
　ポリマー溶液３を、基材（ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、東レ社製ルミラー＃１００－Ｕ３４、厚み１００μｍ）上に塗布し、オーブン中１２０℃で５分間乾燥させた。それにより、厚み７μｍの粘着層を有する粘着フィルムを得た。

　（実施例８）
　得られたポリマー溶液αを３．０ｇと、ポリマー溶液βを２．４ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、厚み７μｍの粘着層を有する粘着フィルムを得た。

　（実施例１１）
　得られたポリマー溶液αを２．３ｇと、ポリマー溶液βを２．７ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、厚み８μｍの粘着層を有する粘着フィルムを得た。

　（実施例１２）
　得られたポリマー溶液αを４．１ｇと、ポリマー溶液βを１．２ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、厚み６μｍの粘着層を有する粘着フィルムを得た。

　（実施例１３）
　酢酸エチル３．０ｇに、イオン型添加剤である２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸０．３８ｇを混合し、溶液を調製した。この溶液を、７．０ｇのポリマー溶液１１に加えて十分に混合して、アクリル系重合体のＮ－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミドに２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸を反応させて、架橋性アクリル系重合体を含む粘着性組成物を得た。２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸の添加量は、アクリル系重合体１００質量部に対して１７質量部であった。そして、得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例１４）
　酢酸エチル３．２ｇに、イオン型添加剤であるケトプロフェン０．３７ｇを混合し、溶液を調製した。この溶液を、２．５ｇのポリマー溶液１２に加えて十分に混合して、アクリル系重合体のメタクリル酸２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルにケトプロフェンを反応させて、架橋性アクリル系重合体を含む粘着性組成物を得た。ケトプロフェンの添加量は、アクリル系重合体１００質量部に対して４３質量部であった。そして、得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（評価）
　実施例１～１４及び比較例１～３の粘着フィルムの剥離力を、以下の方法で測定した。

　（剥離力試験）
　幅２５ｍｍの粘着フィルムを、水スライドグラス（松浪硝子工業社製、Ｓ７２１３）上に配置することにより、試料を作製した。光照射ありの場合は後述する光照射方法に則して光照射をした後、剥離試験機（東洋精機製作所社製、ストログラフＥ－Ｓ）を用いて、粘着フィルムをガラスから剥離角度１８０°で３００ｍｍ／分の速度で剥離する試験を行った。１サンプルにつき３枚の試料を測定し（ｎ＝３）、その平均値を算出した。

　光照射方法
　光の照射にはＬＥＤ照明機器（パイフォトニクス社製、ＨＬＫＫ６０）を用いた。試料に照射される光のスポットの直径が１ｃｍとなるようにＬＥＤ照明機器を試料から８．５ｃｍ離し、ＬＥＤ照明機器と試料の距離を保ちながら試料を移動させ、試料全面に十分に照射した。光の照射方向（すなわち、光をガラス側から照射したか、粘着フィルムの基材側から照射したか）は、表２に記載した。
　なお、試料に照射される光の強度は、照度計（ＥＩＴ社製、　ＵＶ　ＰｏｗｅｒＰｕｃｋ　ＩＩ）を用いたところ、照度計とＬＥＤ照明機器が８．５ｃｍの距離で照射したときのＵＶＡの強度が１９２６ｍＷ／ｃｍ^２、光のスポットの直径が１ｃｍ、照度計の検出器の直径が２ｃｍであったことから、７７０５ｍＷ／ｃｍ^２と換算した。

　実施例１～１４及び比較例１～３の粘着フィルムの評価結果を表２に示す。なお、表２において、実施例８、１１及び１２については、各構造単位の含有量は、重合体α、βの構造単位の総量に対する比率（質量部）を示す。

　表２に示されるように、構造単位（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を所定の比率で含む架橋性アクリル系重合体又は粘着性組成物を用いた実施例１～１４の粘着フィルムは、光照射前は高い粘着性を示すものの、光照射後には粘着性が低下し、良好な剥離性を示すことがわかる。

　特に、構造単位（Ａ）、（Ｂ）を含む重合体αと、構造単位（Ａ）、（Ｃ）を含む重合体βとのブレンドでも、構造単位（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を含む架橋性アクリル系重合体を用いた場合と同様に、良好な剥離性を示すことがわかる（実施例１と、実施例８、１０又は１１との対比）。

　また、構造単位（Ｃ）の含有量をさらに高めることで、光照射後の剥離性が一層高まることがわかる（実施例１、３及び４の対比）。

　また、構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）の合計比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａを１０／９０～３０／７０（質量比）とすることで、光照射前の粘着性と光照射後の剥離性が一層高まることがわかる（実施例１、３及び４の対比）。

　また、構造単位（Ｂ）と構造単位（Ｃ）のモル比Ｃ／Ｂを０．４～２．５とすることで、光照射後の剥離性が一層高まることがわかる（実施例８、１１及び１２の対比）。

　また、架橋剤をさらに含むことで、光照射前の粘着性と光照射後の剥離性が一層高まることがわかる（実施例１と２の対比）。

　これに対し、構造単位（Ｂ）を含まない架橋性アクリル系重合体を用いた比較例１の粘着フィルムや構造単位（Ｃ）を含まないアクリル系重合体を用いた比較例２の粘着フィルム、構造単位（Ｃ）の量が少ない架橋性アクリル系重合体を用いた比較例３の粘着フィルムは、いずれも光照射後に粘着性がほとんど低下せず、剥離性が低いことがわかる。特に、比較例３の粘着フィルムは、（実施例１、３及び４とは異なり）光照射後のほうが光照射前よりも粘着性がむしろ増し、剥離しにくくなることがわかる。これは、光照射前の弾性率が低すぎることにより、光照射しても弾性率の増加と共に剥離力も高まるためと推測される（図１参照）。

　４．粘着フィルムの光照射前後の質量変化率の評価
　（実施例１５～１９、２１、２２及び比較例４～６）
　表３に示されるポリマー溶液を、シリコーン離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、オーブン中１２０℃で５分間乾燥させた。それにより、表３に示される厚みの粘着層を形成した。このとき、粘着層の厚みが１～４５μｍの範囲内となるように調整した。得られた粘着層をアルミ箔（基材）上に転写し、粘着フィルムを得た。

　（実施例２０）
　得られたポリマー溶液αを３．０ｇと、ポリマー溶液βを２．４ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１５と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例２３）
　得られたポリマー溶液αおよびβの質量比が実施例１１と同じになるように、ポリマー溶液αを２．０ｇと、ポリマー溶液βを２．４ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１５と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例２４）
　得られたポリマー溶液αを４．１ｇと、ポリマー溶液βを１．２ｇとを混合して、粘着性組成物を得た。得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１５と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例２５）
　酢酸エチル３．０ｇに、イオン型添加剤である２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸０．３８ｇを混合し、溶液を調製した。この溶液を、７．０ｇのポリマー溶液１１に加えて十分に混合して、アクリル系重合体のＮ－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミドに２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸を反応させて、架橋性アクリル系重合体を含む粘着性組成物を得た。２－（９－オキソキサンテン－２－イル）プロピオン酸の添加量は、アクリル系重合体１００質量部に対して１７質量部であった。そして、得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１５と同様にして、粘着フィルムを得た。

　（実施例２６）
　酢酸エチル３．２ｇに、ケトプロフェン０．３７ｇを混合し、溶液を調製した。この溶液を、２．５ｇのポリマー溶液１２に加えて十分に混合することにより、アクリル系重合体のメタクリル酸２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルにケトプロフェンを反応させて、架橋性アクリル系重合体を含む粘着性組成物を得た。ケトプロフェンの含有量は、アクリル系重合体１００質量部に対して４３質量部であった。そして、得られた粘着性組成物を用いた以外は実施例１５と同様にして、粘着フィルムを得た。

　実施例１５～２６及び比較例４～６の粘着フィルムの、光照射に伴う質量減少を、以下の方法で測定した。

　（質量減少の評価）
　粘着フィルムの粘着層に、後述する光照射方法で光照射した後、光の照射前後での粘着層の質量を測定した。質量減少率（％）を下記の式の通り定義し、算出した。
　質量減少率（％）＝光照射前後の粘着層の質量差（ｇ）／光照射前の粘着層の質量（ｇ）×１００
　質量減少が大きいほど界面剥離が生じやすく、剥離性が高いことを意味する。

　光照射方法
　光の照射には、コンベア式無電極ＵＶ照明装置（へレウス社製、ＣＶ－１１０Ｑ－Ｇ）を用いた。照度計（ＥＩＴ社製、　ＵＶ　ＰｏｗｅｒＰｕｃｋ　ＩＩ）を用いたところ、ＵＶＡの積算照射量が７４８８ｍＪ／ｃｍ^２であった。

　実施例１５～２６及び比較例４～６の粘着フィルムの評価結果を表３に示す。

　表３に示されるように、構造単位（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を所定の比率で含む架橋性アクリル系重合体又は粘着性組成物を用いた実施例１５～２２の粘着フィルムは、光照射による質量変化率が１．０％よりも多いことがわかる。

　これに対し、構造単位（Ｃ）の量が少ない架橋性アクリル系重合体を用いた比較例６の粘着フィルムは、光照射による質量変化率が１．０％よりも少ないことがわかる。
　また、構造単位（Ｂ）を含まない比較例４（表２での比較例１に相当）は質量変化率が１．０％以上であるため、構造単位（Ｃ）中の保護基が脱離して副生ガスが発生していると考えられるが、上記の通り、光照射後に粘着性がほとんど低下せず、剥離性が低い。これは、本発明の効果を得るためには、副生ガスの発生だけでなく、構造単位（Ｃ）から生成した塩基と、構造単位（Ｂ）が有する酸性官能基とが酸・塩基反応してイオン架橋を形成することが重要であることを示す。

　本出願は、２０２２年６月３日出願の特願２０２２－９０８９３に基づく優先権を主張する。当該出願明細書及び図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。

　本発明によれば、良好な粘着性を有し、且つ被着体へのダメージを低減しつつ、低温でも良好に剥離できる架橋性（メタ）アクリル系重合体を提供することができる。そのため、各種製品の製造工程に使用される工程フィルム、特に低温での剥離が求められる工程フィルムに好適である。

　１０　粘着フィルム
　１１　基材
　１２　粘着層
　２０　デバイス
　３０　支持基材
　４０　他の粘着剤

Claims (14)

1. 　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、
   　酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、
   　光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）と、
   　を有する架橋性（メタ）アクリル系重合体であって、
   　前記架橋性（メタ）アクリル系重合体中の構造単位の総量に対して、
   　　前記構造単位（Ａ）の含有量が、６０．０質量％以上であり、
   　　前記構造単位（Ｂ）の含有量が、１．０質量％以上であり、
   　　前記構造単位（Ｃ）の含有量が、６．０質量％以上であり、且つ
   　　前記構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計が１００質量％以下である、
   　架橋性（メタ）アクリル系重合体。
2. 　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）と、
   　酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）と、
   　光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）と、
   　を有する架橋性（メタ）アクリル系重合体であって、
   　厚みが１～４５μｍの範囲内となるように調整した前記架橋性（メタ）アクリル系重合体からなる層に、積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、下記式で示される質量減少率が１．０％以上である、
   　架橋性（メタ）アクリル系重合体。
   　質量減少率（％）＝照射前後の前記層の質量差（ｇ）／照射前の前記層の質量（ｇ）×１００
3. 　前記光塩基発生剤は、オキシムエステル又はカルバメートに由来する基を含む、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
4. 　前記構造単位（Ｃ）は、下記式で示される化合物に由来する、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
   

   

   （式（２－１）中、
   　Ｘ^１及びＸ^２は、独立して－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
   　Ｒ^１は、Ｈ又はメチル基であり、
   　Ｒ^１２は、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ１～Ｃ４アルキル基であり、
   　Ｒ^１３は、置換若しくは非置換の多価アルキル基、置換若しくは非置換のシクロアルキレン基又は置換若しくは非置換のアリーレン基であり、且つＲ^１２とＲ^１３は、互いに結合して環を形成してもよく、
   　Ｒ^１４は、置換若しくは非置換のアルキレン基であり、
   　Ｒ^１５は、ニトロ基又はアルコキシ基であり、
   　ｎは、０～２の整数であり、
   　ｙは、１～３の整数である。）
5. 　前記構造単位（Ｂ）と前記構造単位（Ｃ）の合計含有量の、前記構造単位（Ａ）の含有量に対する比率（Ｂ＋Ｃ）／Ａは、１０／９０～３０／７０（質量比）である、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
6. 　前記構造単位（Ｂ）と前記構造単位（Ｃ）の含有比率Ｃ／Ｂは、０．４～２．５（モル比）である、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
7. 　前記（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物のアルキル鎖の炭素数は、２～２０である、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
8. 　重量平均分子量は、２０００００以上である、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
9. 　分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、２．０～８．０である、
   　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体。
10. 　請求項１又は２に記載の架橋性（メタ）アクリル系重合体と、架橋剤と、を含む、
    　粘着性組成物。
11. 　前記架橋剤の含有量は、前記架橋性（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して０．００～２．００質量部である、
    　請求項１０に記載の粘着性組成物。
12. 　請求項１０に記載の粘着性組成物を含む粘着層を有する、
    　粘着性部材。
13. 　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）を有する重合体αと、
    　酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）を有する重合体βと、
    　を含む粘着性組成物であって、
    　前記重合体α及び前記重合体βの少なくとも一方が、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）をさらに含み、
    　前記重合体αと前記重合体βの構造単位の総量に対して、
    　　前記構造単位（Ａ）の含有量が、６０．０質量％以上であり、
    　　前記構造単位（Ｂ）の含有量が、１．０質量％以上であり、
    　　前記構造単位（Ｃ）の含有量が、６．０質量％以上であり、且つ
    　　前記構造単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の含有量の合計が１００質量％以下である、
    　粘着性組成物。
14. 　（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物に由来する構造単位（Ａ）を有する重合体αと、
    　酸性官能基を有する化合物に由来する構造単位（Ｂ）を有する重合体βと、
    　を含む粘着性組成物であって、
    　前記重合体α及び前記重合体βの少なくとも一方が、光照射により分解して塩基を生成すると共に、ガスを発生する光塩基発生剤に由来する構造単位（Ｃ）をさらに含み、
    　厚み１～４５μｍの範囲内となるように調整した前記粘着性組成物の成形体に積算照射量７４８８ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射したときの、前記成形体の下記式で示される質量減少率が１．０％以上である、
    　粘着性組成物。
    　質量減少率（％）＝照射前後の前記成形体の質量差（ｇ）／照射前の前記成形体の質量（ｇ）×１００

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