WO2023204295A1

WO2023204295A1 - 露光方法、蒸着マスクの製造方法、露光装置、および、蒸着マスク

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Publication number: WO2023204295A1
Application number: PCT/JP2023/015881
Authority: WO
Inventors: 竜也雪野; 数馬碓氷; 好克久保; 充鈴木; 昭彦小林
Original assignee: 凸版印刷株式会社
Priority date: 2022-04-21
Filing date: 2023-04-21
Publication date: 2023-10-26
Also published as: JPWO2023204295A1; JP7468805B2; JP2024071775A

Abstract

露光方法は、蒸着マスク用基材上に位置する第１レジスト層を露光する方法である。第１レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が、単位マスク領域である。単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含む。露光方法は、複数の単位露光領域に含まれる全ての単位露光領域を露光することを含む。露光することでは、複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を露光することと、複数の単位露光領域に含まれる第２の単位露光領域を第１の単位露光領域とは異なるタイミングで露光することと、を含む。

Description

露光方法、蒸着マスクの製造方法、露光装置、および、蒸着マスク

　本開示は、露光方法、蒸着マスクの製造方法、露光装置、および、蒸着マスクに関する。

　有機ＥＬ表示装置が備える表示素子の形成には、蒸着法が用いられている。蒸着法によって表示素子を形成する際には、所定の形状を有した表示素子を形成するために、表示素子に求められる形状に応じたマスク孔を有する蒸着マスクが用いられている。近年では、有機ＥＬ表示装置の製造に要するコストの低減を目的として、蒸着対象である基板の大型化が進められている。基板の大型化に応じて、蒸着マスクの大型化も進められている。

　大型の蒸着マスクの一例を製造する際には、まず、蒸着マスクの長手方向における一対の端部と、端部間に位置する中間部とが別々に形成される。次いで、各端部と中間部とが接合されることによって、１つの蒸着マスクが形成される（例えば、特許文献１を参照）。

特開２０１７－２００８０号公報

　ところで、蒸着マスクは、蒸着マスクを用いた成膜が行われるたびに加熱されるから、蒸着マスクは、その蒸着マスクを用いた成膜が行われた回数分だけ熱履歴を有する。端部と中間部とが接合された接合部を備える蒸着マスクでは、端部と中間部との接合部と、接合部以外の部分とにおいて、熱履歴の影響が異なることがある。そのため、蒸着マスクには熱履歴に起因した歪みが生じ、これによって、蒸着マスクが有するマスク孔の形状や位置の精度が低下する。

　上記課題を解決するための露光方法は、蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光する方法である。前記レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が、単位マスク領域である。前記単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含む。前記複数の単位露光領域に含まれる全ての単位露光領域を露光することを含む。前記露光することでは、前記複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を露光することと、前記複数の単位露光領域に含まれる第２の単位露光領域を前記第１の単位露光領域とは異なるタイミングで露光することと、を含む。

　上記課題を解決するための蒸着マスクの製造方法は、蒸着マスク用基材にレジスト層を形成すること、上記露光方法によって前記レジスト層を露光すること、前記レジスト層を現像し、これによってレジストマスクを形成すること、および、前記レジストマスクを用いて前記蒸着マスク用基材をエッチングすること、を含む。

　上記課題を解決するための露光装置は、蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光するための装置である。前記レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が単位マスク領域である。前記単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含む。前記露光装置は、単位露光領域ごとに露光する露光部と、前記複数の単位露光領域のなかで、露光済の単位露光領域を検知することが可能に構成された検知部と、前記複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を前記露光部に露光させた後に、前記検知部の検知した結果に基づいて、前記レジスト層のうち、前記第１の単位露光領域とは異なる第２の単位露光領域を前記露光部に露光させる制御部と、を備える。

　上記各構成によれば、単位マスク領域を構成する全ての単位露光領域が露光されるから、露光後のレジスト層から形成されたレジストマスクを用いた蒸着マスク用基材のエッチングによって、蒸着マスク用基材から１枚の蒸着マスクを形成することが可能である。これにより、蒸着マスクが、接合部を含まない単一の蒸着マスク用基材から形成されるから、蒸着マスクが有するマスク孔の形状や位置の精度が熱履歴に起因して低下することが抑えられる。

　上記露光方法において、前記露光することは、前記単位マスク領域に含まれる全ての単位露光領域を個別に露光することを含んでもよい。この露光方法によれば、単位マスク領域の露光に用いられる露光装置は、１つの単位露光領域の露光が可能な大きさの露光部を備えていればよい。これにより、露光部の大型化を抑えることが可能である。

　上記露光方法において、前記蒸着マスクは、第１端部と、第２端部と、前記第１端部と前記第２端部とに挟まれる中央部とから構成され、前記中央部は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を複数有し、前記第１端部および前記第２端部は、前記マスク孔を有さず、前記複数の単位露光領域は、前記第１端部を形成するための第１露光領域と、前記中央部を形成するための第２露光領域と、前記第２端部を形成するための第３露光領域から構成されてもよい。

　上記露光方法によれば、マスク孔を含む中央部の全体が同一の単位露光領域に含まれるから、露光に起因した中央部内でのずれを抑え、これによって蒸着マスクが備えるマスク孔の位置や形状の精度の低下を抑えることが可能である。

　上記露光方法において、前記蒸着マスクは、第１端部と、第２端部と、前記第１端部と前記第２端部とに挟まれる中央部とから構成され、前記中央部は、第１中央部と第２中央部とから構成され、各中央部は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を複数有し、前記第１端部および前記第２端部は、前記マスク孔を有さず、前記複数の単位露光領域は、前記第１端部を形成するための第１露光領域と、前記第１中央部を形成するための第２露光領域と、前記第２中央部を形成するための第３露光領域と、前記第２端部を形成するための第４露光領域とから構成されてもよい。

　上記露光方法によれば、第１中央部と第２中央部とが互いに異なる単位露光領域によって形成されるから、蒸着マスクにおいて、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を有した領域を拡張することが可能である。

　上記露光方法において、前記レジスト層は、前記単位マスク領域を複数含み、前記複数の単位マスク領域は、第１マスク領域と第２マスク領域とを含み、前記露光することは、前記第１マスク領域の前記単位露光領域と、前記第２マスク領域の前記単位露光領域とを同時に露光することを含んでもよい。

　上記露光方法によれば、異なる単位マスク領域に含まれる単位露光領域が同時に露光されるから、単位マスク領域を１つずつ露光する場合に比べて、複数の単位マスク領域を露光するために要する時間を短縮することが可能である。

　上記課題を解決するための蒸着マスクは、第１方向に沿って延びる第１長辺と、前記第１長辺に平行な第２長辺と、前記第１方向に交差する第２方向に沿って延び、前記第１長辺を前記第２長辺に接続する一対の短辺と、備える。前記第１長辺および第２長辺の少なくとも一方が、第２方向に沿う段差部を有する。

　上記蒸着マスクによれば、蒸着マスクの長辺が段差部を有するから、長辺が段差部を有しない場合に比べて、レジスト層が有する単位マスク領域を単位露光領域ごとに露光する際のずれが、長辺の段差の分だけ許容される。それゆえに、長辺に段差部を有した蒸着マスクは、単位マスク領域を複数回に分けて露光する工程を含む製造方法に適用されることが好適な構造である。

　上記蒸着マスクにおいて、前記第１長辺から前記第２長辺に向かう方向が段差方向であり、前記第１長辺は、前記段差方向において窪む段差部を有する。前記第２長辺は、前記段差方向において突き出る段差部を有し、前記第１長辺の前記段差部と前記第２長辺の前記段差部とは、前記短辺が延びる方向において並んでいてもよい。

　上記蒸着マスクによれば、第１長辺が段差方向において窪む段差部を有する一方で、第２長辺が段差方向において突き出る段差部を有するから、段差部での段差の量分だけ、第２方向における露光時のずれが許容される。

　上記蒸着マスクにおいて、前記段差部における段差の量が、０．５μｍ以上５μｍ以下であってもよい。この蒸着マスクによれば、段差の量が０．５μｍ以上であることによって、蒸着マスク用基材上のレジスト層を露光する際の位置合わせに要する負荷を軽減することが可能である。段差の量が５μｍ以下であることによって、段差に起因した蒸着マスクにおける機械的強度の低下を抑えることが可能である。

　本開示によれば、熱履歴による歪みを抑え、これによって、蒸着マスクが有するマスク孔の形状や位置の精度の低下を抑えることができる。

図１は、一実施形態における蒸着マスクの構造を示す平面図である。図２は、図１が示す蒸着マスクの一部を示す平面図である。図３は、図２が示す第１長辺の段差部を拡大して示す平面図である。図４は、図１が示す蒸着マスクの一部を示す平面図である。図５は、図４が示す第１長辺の段差部を拡大して示す平面図である。図６は、露光装置を模式的に示すブロック図である。図７は、図６が示す露光装置が備える検知部を模式的に示す斜視図である。図８は、位置合わせ後の蒸着マスク用基材と露光マスクとを示す平面図である。図９は、露光装置に搭載される第１端マスクの構造を示す平面図である。図１０は、露光装置に搭載される第１中央マスクの構造を示す平面図である。図１１は、露光装置に搭載される第２中央マスクの構造を示す平面図である。図１２は、露光装置に搭載される第２端マスクの構造を示す平面図である。図１３は、露光方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１４は、露光方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１５は、露光方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１６は、露光方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１７は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１８は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図１９は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図２０は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図２１は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図２２は、蒸着マスクの製造方法に含まれる一工程を示す工程図である。図２３は、蒸着マスクの第６変更例における構造を示す平面図である。図２４は、蒸着マスクの第７変更例における構造を示す平面図である。図２５は、露光装置の第１変更例における構造を模式的に示すブロック図である。図２６は、露光装置の第２変更例における構造を模式的に示すブロック図である。

　図１から図２２を参照して、露光方法、蒸着マスクの製造方法、露光装置、および、蒸着マスクの一実施形態を説明する。
　［蒸着マスク］
　図１から図５を参照して、蒸着マスクを説明する。図１は、１つの蒸着マスクの全体を示している。

　図１が示すように、蒸着マスク１０は、帯状を有している。蒸着マスク１０は、第１方向Ｄ１に沿って延びる第１長辺１０Ｌ１と、第１長辺１０Ｌ１に平行な第２長辺１０Ｌ２とを備えている。蒸着マスク１０は、一対の短辺１０Ｓをさらに備えている。各短辺１０Ｓは、第１方向Ｄ１に交差する第２方向Ｄ２に沿って延び、かつ、第１長辺１０Ｌ１を第２長辺１０Ｌ２に接続している。本実施形態では、第２方向Ｄ２は第１方向Ｄ１に直交している。各短辺１０Ｓは、他方の短辺１０Ｓに向けて窪む切り欠きを有している。図１が示す例では、各短辺１０Ｓは１つの切り欠きを有しているが、各短辺１０Ｓは２つ以上の切り欠きを有してもよい。第２方向Ｄ２における蒸着マスク１０の幅が、マスク幅Ｗである。

　本実施形態では、蒸着マスク１０は、第１端部１０Ｅ１と、第２端部１０Ｅ２と、中央部１０Ｃとから構成されている。中央部１０Ｃは、第１方向Ｄ１において第１端部１０Ｅ１と第２端部１０Ｅ２とに挟まれている。第１端部１０Ｅ１と第２端部１０Ｅ２とは、第１方向Ｄ１において中央部１０Ｃを挟んでいる。第１端部１０Ｅ１は第１の短辺１０Ｓを含み、かつ、第２端部１０Ｅ２は第２の短辺１０Ｓを含んでいる。

　中央部１０Ｃは、第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２とから構成されている。各中央部１０Ｃ１，１０Ｃ２は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔１０Ｈを複数有している。これに対して、第１端部１０Ｅ１および第２端部１０Ｅ２は、マスク孔１０Ｈを有していない。

　第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２とは、第１方向Ｄ１に沿って並んでいる。第１中央部１０Ｃ１は、２つのマスク領域Ｃ１Ｍと、マスク領域Ｃ１Ｍを囲む周辺領域Ｃ１Ｓとから構成されている。２つのマスク領域Ｃ１Ｍは、第１方向Ｄ１に沿って並んでいる。各マスク領域Ｃ１Ｍでは、複数のマスク孔１０Ｈが所定の規則に沿って並んでいる。例えば、複数のマスク孔１０Ｈは、正方格子状に並んでもよいし、千鳥状に並んでもよい。

　第２中央部１０Ｃ２は、３つのマスク領域Ｃ２Ｍと、マスク領域Ｃ２Ｍを囲む周辺領域Ｃ２Ｓとから構成されている。３つのマスク領域Ｃ２Ｍは、第１方向Ｄ１に沿って並んでいる。各マスク領域Ｃ２Ｍでは、複数のマスク孔１０Ｈが所定の規則に沿って並んでいる。例えば、複数のマスク孔１０Ｈは、正方格子状に並んでもよいし、千鳥状に並んでもよい。なお、本実施形態では、第２中央部１０Ｃ２のマスク領域Ｃ２Ｍは、第１中央部１０Ｃ１のマスク領域Ｃ１Ｍよりも小さいが、第２中央部１０Ｃ２のマスク領域Ｃ２Ｍは、第１中央部１０Ｃ１のマスク領域Ｃ１Ｍと同じ大きさであってもよい。この場合には、第２中央部１０Ｃ２は、２つのマスク領域と、マスク領域を囲む周辺領域Ｃ２Ｓとから構成されてもよい。なお、第２中央部１０Ｃ２と第１中央部１０Ｃ１との両方が、３つのマスク領域を備えてもよい。

　蒸着マスク１０は、金属から形成されている。蒸着マスク１０を形成する金属は、例えば鉄ニッケル系合金である。鉄ニッケル系合金は、不可避の不純物を含んでよい。鉄ニッケル系合金は、３６質量％のニッケルと残部の鉄とを含むインバーであることが好ましい。なお、蒸着マスク１０を形成する金属は、鉄ニッケルコバルト系合金であってもよい。鉄ニッケルコバルト系合金は、３２質量％のニッケル、４質量％以上５質量％以下のコバルト、および、残部の鉄を含むスーパーインバーであることが好ましい。また、蒸着マスク１０を形成する金属は、鉄クロムニッケル系合金、すなわちクロムニッケル系ステンレス鋼であってもよい。蒸着マスク１０は、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下の厚さを有してよい。

　図２は、蒸着マスク１０を上面視した場合における第１端部１０Ｅ１と第１中央部１０Ｃ１との境界を拡大して示している。
　図２が示すように、蒸着マスク１０は、第２方向Ｄ２において一定の幅であるマスク幅Ｗを有し、かつ、第２方向Ｄ２に沿う段差部を有する。言い換えれば、第１長辺１０Ｌ１から第２長辺１０Ｌ２に向かう方向が段差方向である。第１長辺１０Ｌ１は、段差方向において窪む段差部である第１段差部Ｌ１Ｓを有している。第２長辺１０Ｌ２は、段差方向において突き出る段差部である第２段差部Ｌ２Ｓを有している。第１段差部Ｌ１Ｓと第２段差部Ｌ２Ｓとは、第２方向Ｄ２において並んでいる。

　第１長辺１０Ｌ１が段差方向において窪む第１段差部Ｌ１Ｓを有する一方で、第２長辺１０Ｌ２が段差方向において突き出る第２段差部Ｌ２Ｓを有する。そのため、第２方向Ｄ２でのマスク幅Ｗが一定である蒸着マスク１０を製造する際に、段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓでの段差の量分だけ、第２方向Ｄ２における露光時のずれが許容される。

　図３は、第１長辺１０Ｌ１が有する第１段差部Ｌ１Ｓをさらに拡大して示している。
　図３が示すように、第１長辺１０Ｌ１における段差の量が、段差量ＳＡである。段差量ＳＡは、第１長辺１０Ｌ１のうち、第１中央部１０Ｃ１に含まれる部分と、第１端部１０Ｅ１に含まれる部分との間における第２方向Ｄ２に沿う距離である。第１段差部Ｌ１Ｓは、段差方向において窪んでいるから、段差量ＳＡは、段差方向に沿った第１長辺１０Ｌ１の窪み量でもある。

　第１段差部Ｌ１Ｓにおける段差量ＳＡは、０．５μｍ以上５μｍ以下であってよい。第１段差部Ｌ１Ｓにおける段差量ＳＡが０．５μｍ以上であることによって、蒸着マスク用基材上のレジスト層を露光する際の位置合わせに要する負荷を軽減することが可能である。なお、段差量ＳＡが１．０μｍ以上であることによって、位置合わせに要する負荷をさらに軽減することが可能であることから、蒸着マスク１０の生産性を高めることが可能である。第１段差部Ｌ１Ｓにおける段差量ＳＡが５μｍ以下であることによって、段差に起因した蒸着マスク１０における機械的強度の低下を抑えることが可能である。また、段差量ＳＡが５μｍ以下であることによって、蒸着時の位置合わせの負荷を軽減することも可能である。

　なお、第２長辺１０Ｌ２が有する第２段差部Ｌ２Ｓの段差量は、第２長辺１０Ｌ２のうち、第１中央部１０Ｃ１に含まれる部分と、第１端部１０Ｅ１に含まれる部分との間における第２方向Ｄ２に沿う距離である。第２段差部Ｌ２Ｓは、段差方向において突き出ているから、段差量は、段差方向に沿った第２長辺１０Ｌ２の突出量でもある。第２段差部Ｌ２Ｓの段差量は、第２方向Ｄ２において当該第２段差部Ｌ２Ｓと並ぶ第１段差部Ｌ１Ｓの段差量に実質的に等しい。

　なお、第１端部１０Ｅ１と第１中央部１０Ｃ１との境界では、第１段差部Ｌ１Ｓが段差方向において突き出る一方で、第２段差部Ｌ２Ｓが段差方向において窪んでいてもよい。

　図４は、第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２との境界を拡大して示している。
　図４が示すように、蒸着マスク１０は、第２方向Ｄ２において一定の幅であるマスク幅Ｗを有し、かつ、第２方向Ｄ２に沿う段差部を有する。言い換えれば、第１長辺１０Ｌ１から第２長辺１０Ｌ２に向かう方向が段差方向である。第１長辺１０Ｌ１は、段差方向において窪む段差部である第１段差部Ｌ１Ｓを有している。第２長辺１０Ｌ２は、段差方向において突き出る段差部である第２段差部Ｌ２Ｓを有している。第１段差部Ｌ１Ｓと第２段差部Ｌ２Ｓとは、第２方向Ｄ２において並んでいる。

　図５は、第１長辺１０Ｌ１が有する第１段差部Ｌ１Ｓをさらに拡大して示している。
　図５が示すように、第１長辺１０Ｌ１における段差の量が、段差量ＳＡである。段差量ＳＡは、第１長辺１０Ｌ１のうち、第２中央部１０Ｃ２に含まれる部分と、第１中央部１０Ｃ１に含まれる部分との間における第２方向Ｄ２に沿う距離である。第１段差部Ｌ１Ｓは、段差方向において窪んでいるから、段差量ＳＡは、段差方向に沿った第１長辺１０Ｌ１の窪み量でもある。

　第１中央部１０Ｃ１に位置するマスク領域Ｃ１Ｍに対する第２中央部１０Ｃ２に位置するマスク領域Ｃ２Ｍの位置の精度を高める観点では、段差量ＳＡは、３μｍ以下であることが好ましい。すなわち、第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２との境界における第１段差部Ｌ１Ｓの段差量ＳＡは、第１端部１０Ｅ１と第１中央部１０Ｃ１との境界における第１段差部Ｌ１Ｓの段差量ＳＡよりも小さい。

　なお、第２長辺１０Ｌ２が有する第２段差部Ｌ２Ｓの段差量は、第２長辺１０Ｌ２のうち、第２中央部１０Ｃ２に含まれる部分と、第１中央部１０Ｃ１に含まれる部分との間における第２方向Ｄ２に沿う距離である。第２段差部Ｌ２Ｓは、段差方向において突き出ているから、段差量は、段差方向に沿った第２長辺１０Ｌ２の突出量でもある。第２段差部Ｌ２Ｓの段差量は、第２方向Ｄ２において当該第２段差部Ｌ２Ｓと並ぶ第１段差部Ｌ１Ｓの段差量に実質的に等しい。

　なお、第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２との境界では、第１段差部Ｌ１Ｓが段差方向において突き出る一方で、第２段差部Ｌ２Ｓが段差方向において窪んでいてもよい。

　［露光装置］
　図６から図８を参照して露光装置を説明する。
　本開示の露光装置は、蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光するための露光装置である。レジスト層のうち、１枚の蒸着マスク１０をエッチングによって形成するために用いられる領域が単位マスク領域である。単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含んでいる。露光装置は、露光部と、検知部と、制御部とを備えている。露光部は、単位露光領域ごとに露光する。検知部は、複数の単位露光領域のなかで、露光済の単位露光領域を検知することが可能に構成されている。制御部は、複数の単位マスク領域に含まれる第１の単位露光領域を露光部に露光させた後に、検知部の検知した結果に基づいて、レジスト層のうち、第１の単位領域とは異なる第２の単位露光領域を露光部に露光させる。

　以下、図面を参照して、露光装置を詳しく説明する。以下では、蒸着マスク用基材上に形成されるレジスト層がネガ型レジストから形成される場合に用いられる露光装置を例示する。また、以下では、蒸着マスク用基材の表面および裏面のそれぞれにレジスト層を形成する場合に用いられる露光装置を例示する。

　図６が示すように、露光装置２０は、露光部２１、検知部２２、制御部２３、および、搬送部２４を備えている。搬送部２４は、露光装置２０による露光の対象である処理対象Ｓｂを搬送する。本実施形態の露光部２１は、第１露光部２１Ａと第２露光部２１Ｂとを備えている。搬送部２４は、巻出部２４Ａと巻取部２４Ｂとを備えている。

　処理対象Ｓｂは、搬送方向ＤＴに沿って延びる帯状を有している。処理対象Ｓｂは、蒸着マスク用基材と２つのレジスト層との積層体である。第１レジスト層は、処理対象Ｓｂのうち、第１露光部２１Ａと対向する表面を含んでいる。第２レジスト層は、処理対象Ｓｂのうち、第２露光部２１Ｂと対向する表面を含んでいる。

　巻出部２４Ａは、巻き取られた状態の処理対象Ｓｂを巻取部２４Ｂに向けて送り出す。巻取部２４Ｂは、巻出部２４Ａによって送りされた処理対象Ｓｂを巻き取る。これにより、処理対象Ｓｂが搬送方向ＤＴに沿って搬送部２４によって搬送される。処理対象Ｓｂが含む各レジスト層において、複数の単位露光領域が搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。各レジスト層において、複数の単位露光領域のうち、所定の数の単位露光領域が、１つの単位マスク領域を構成する。これにより、各レジスト層では、複数の単位マスク領域が搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。

　処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、第１レジスト層における１つの単位露光領域は、第２レジスト層における１つの単位露光領域に重なっている。第２レジスト層における単位露光領域は、第１レジスト層における単位露光領域と同じ形状および大きさを有するから、第１レジスト層における１つの単位露光領域の全体が、第２レジスト層における１つの単位露光領域の全体に重なっている。

　第１露光部２１Ａは、第１レジスト層を硬化させるための光を硬化前の第１レジスト層に照射する。第１露光部２１Ａは、第１レジスト層を単位露光領域ごとに露光する。第１露光部２１Ａは、搬送方向における位置が固定された第１レジスト層に向けて光を照射する。言い換えれば、第１露光部２１Ａは、搬送部２４によって搬送されていない状態の第１レジスト層に対して光を照射する。第１露光部２１Ａは、複数種類の露光マスクを用いて第１レジスト層を露光する。

　第２露光部２１Ｂは、第２レジスト層を硬化させるための光を硬化前の第２レジスト層に照射する。第２露光部２１Ｂは、第２レジスト層を単位露光領域ごとに露光する。第２露光部２１Ｂは、複数の単位露光領域のうち、第１露光部２１Ａが露光する単位露光領域と対向する単位露光領域を露光する。第２露光部２１Ｂは、搬送方向における位置が固定された第２レジスト層に向けて光を照射する。言い換えれば、第２露光部２１Ｂは、搬送部２４によって搬送されていない状態の第２レジスト層に対して光を照射する。第２露光部２１Ｂは、複数種類の露光マスクを用いて第２レジスト層を露光する。

　本実施形態において、検知部２２は、第１レジスト層が含む複数の単位露光領域のなかで、露光済の単位露光領域を検知することが可能に構成されている。検知部２２は、例えば、第１レジスト層が露光されたことを示す露光済マークを検知することによって、露光済の単位露光領域を検知する。

　制御部２３は、露光部２１、検知部２２、および、搬送部２４の駆動を制御することによって、露光部２１にレジスト層を露光させる。この際に、制御部２３は、第１露光部２１Ａに第１レジスト層における単位露光領域を１つずつ露光させ、かつ、第２露光部２１Ｂに、第１露光部２１Ａが露光する単位露光領域と対向する第２レジスト層における単位露光領域を露光させる。

　図７を参照して、検知部２２をより詳しく説明する。
　検知部２２は、一対の第１検知要素２２Ａを備えている。各第１検知要素２２Ａは、処理対象Ｓｂの表面ＳｂＦの状態から、表面ＳｂＦを含む第１レジスト層における露光済の部分を検知する。第１検知要素２２Ａは、例えば撮像部である。第１検知要素２２Ａによって撮像された画像中において、レジスト層における未露光の部分の色味は、露光済の部分の色味とは異なる。そのため、画像中における色味の違いに基づいて、第１レジスト層のうちで、露光済の部分を検知することが可能である。なお、色味は、色相、明度、および、彩度の少なくとも１つを含んでよい。すなわち、色味は、色相、明度、および、彩度のうちの１つのみであってもよいし、任意の２つの組み合わせであってもよいし、色相、明度、および、彩度の全てを含んでもよい。第１検知要素２２Ａが撮像した画像は、所定のネットワークを通じて制御部２３に入力される。

　本実施形態において、一対の第１検知要素２２Ａは、幅方向ＤＷにおいて間隔を空けて配置されている。幅方向ＤＷは、搬送方向ＤＴに直交する方向である。処理対象Ｓｂの表面ＳｂＦには、一対のレジストマークＲＭＫが形成されている。なお、レジストマークＲＭＫは、後述するレジスト層に対する露光によって形成される。レジストマークＲＭＫは、露光済の部分によって囲まれた未露光部である。レジストマークＲＭＫは、当該レジストマークＲＭＫを含む単位露光領域のうち、レジストマークＲＭＫを除く部分が露光済であることを示す露光済マークの一例である。一対のレジストマークＲＭＫは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。一対のレジストマークＲＭＫのうち、第１のレジストマークＲＭＫが、第１の第１検知要素２２Ａによって検知され、かつ、第２のレジストマークＲＭＫが、第２の第１検知要素２２Ａによって検知される。

　処理対象Ｓｂの露光には、表面ＳｂＦを露光するための表面マスクＭＦと、裏面ＳｂＲを露光するための裏面マスクＭＲとが用いられる。検知部２２は、一対の第２検知要素２２Ｂをさらに含んでいる。一対の第２検知要素２２Ｂは、幅方向ＤＷにおいて間隔を空けて配置されている。第２検知要素２２Ｂは、表面マスクＭＦの位置に対する裏面マスクＭＲの位置のずれを検知する。第２検知要素２２Ｂは、第１検知要素２２Ａと同様に、例えば撮像部である。第２検知要素２２Ｂが撮像した画像は、所定のネットワークを通じて制御部２３に入力される。

　表面マスクＭＦは、一対のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫと、一対の表面位置決め用マークＭＦＭＫとを備えている。一対のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫは、幅方向ＤＷに間隔を空けて配置され、かつ、レジスト位置決め用マークＲＡＭＫは、処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、処理対象Ｓｂに重なる。一対の表面位置決め用マークＭＦＭＫは、幅方向ＤＷに沿って並び、かつ、表面位置決め用マークＭＦＭＫは、処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、幅方向ＤＷにおいて処理対象Ｓｂ外に位置している。

　表面マスクＭＦは、第１のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫと第１のレジストマークＲＭＫとを表面マスクＭＦを介して第１の第１検知要素２２Ａが撮像することができるような透過性を有する。表面マスクＭＦは、第２のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫと第２のレジストマークＲＭＫとを表面マスクＭＦを介して第２の第１検知要素２２Ａが撮像することができるような透過性を有する。

　裏面マスクＭＲは、一対の裏面位置決め用マークＭＲＭＫを備えている。一対の裏面位置決め用マークＭＲＭＫは、幅方向ＤＷにおいて間隔を空けて配置され、かつ、処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、裏面位置決め用マークＭＲＭＫは、幅方向ＤＷにおいて処理対象Ｓｂ外に位置している。

　表面マスクＭＦは、第１の表面位置決め用マークＭＦＭＫと第１の裏面位置決め用マークＭＲＭＫとを表面マスクＭＦを介して第１の第２検知要素２２Ｂが撮像できるような透過性を有する。表面マスクＭＦは、第２の表面位置決め用マークＭＦＭＫと第２の裏面位置決め用マークＭＲＭＫとを表面マスクＭＦを介して第２の第２検知要素２２Ｂが撮像できるような透過性を有する。

　露光装置２０は、表面マスク駆動部２５と裏面マスク駆動部２６とをさらに備えている。表面マスク駆動部２５は、一対の第１駆動軸２５Ａと１つの第２駆動軸２５Ｂとを備えている。一対の第１駆動軸２５Ａは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。各第１駆動軸２５Ａは、搬送方向ＤＴにおける表面マスクＭＦの位置を変更することが可能に構成されている。第２駆動軸２５Ｂは、幅方向ＤＷにおける表面マスクＭＦの位置を変更することが可能に構成されている。

　裏面マスク駆動部２６は、一対の第１駆動軸２６Ａと１つの第２駆動軸２６Ｂとを備えている。一対の第１駆動軸２６Ａは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。各第１駆動軸２６Ａは、搬送方向ＤＴにおける裏面マスクＭＲの位置を変更することが可能に構成されている。第２駆動軸２６Ｂは、幅方向ＤＷにおける裏面マスクＭＲの位置を変更することが可能に構成されている。

　処理対象Ｓｂの位置に対して、表面マスクＭＦの位置および裏面マスクＭＲの位置が合わせられる際には、まず、処理対象Ｓｂの位置に対して表面マスクＭＦの位置が合わせられる。次いで、表面マスクＭＦの位置に対して裏面マスクＭＲの位置が合わせられる。これにより、処理対象Ｓｂの位置に対して、表面マスクＭＦの位置および裏面マスクＭＲの位置の両方が合わせられる。

　処理対象Ｓｂの位置に対する表面マスクＭＦの位置を合わせる際には、まず、各第１検知要素２２Ａが、その第１検知要素２２Ａが撮像可能な１つのレジスト位置決め用マークＲＡＭＫおよび１つのレジストマークＲＭＫを含む画像を撮像する。次いで、各第１検知要素２２Ａは、画像を制御部２３に向けて出力する。

　制御部２３は、各第１検知要素２２Ａが撮像した画像を受け取る。制御部２３は、受け取った画像に基づいて、搬送方向ＤＴと幅方向ＤＷとから構成される二次元座標系における各レジスト位置決め用マークＲＡＭＫの位置と、レジストマークＲＭＫの位置とを把握する。そして、制御部２３は、各レジスト位置決め用マークＲＡＭＫの位置と、各レジストマークＲＭＫの位置とから、各第１駆動軸２５Ａの駆動量、および、第２駆動軸２５Ｂの駆動量を算出する。次いで、制御部２３は、各駆動量に応じた駆動信号を生成し、続いて、各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂに対して駆動信号を出力する。

　各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂは、制御部２３が出力した駆動信号を受け取る。そして、各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂは、受け取った駆動信号に基づいて、二次元座標系における表面マスクＭＦの位置を変更する。第１検知要素２２Ａによる撮像、制御部２３による各マークＲＡＭＫ，ＲＭＫにおける位置の把握、および、各駆動軸２５Ａ，２５Ｂによる表面マスクＭＦの位置の変更は、搬送方向ＤＴおよび幅方向ＤＷの両方において、レジストマークＲＭＫに対するレジスト位置決め用マークＲＡＭＫのずれ量が所定の範囲内に含まれるまで繰り返される。

　上述したように、蒸着マスク１０における段差量の下限値が０．５μｍである場合には、レジストマークＲＭＫに対するレジスト位置決め用マークＲＡＭＫのずれが許容されるから、レジスト層と表面マスクＭＦとの位置合わせに要する時間が短縮される。これによって、露光する際の位置合わせに要する負荷を軽減することが可能である。

　表面マスクＭＦの位置に対して裏面マスクＭＲの位置を合わせる際には、まず、各第２検知要素２２Ｂが、その第２検知要素２２Ｂが撮像可能な１つの表面位置決め用マークＭＦＭＫおよび１つの裏面位置決め用マークＭＲＭＫを含む画像を撮像する、次いで、各第２検知要素２２Ｂは、画像を制御部２３に向けて出力する。

　制御部２３は、各第２検知要素２２Ｂが撮像した画像を受け取る。制御部２３は、受け取った画像に基づいて、搬送方向ＤＴと幅方向ＤＷとから構成される二次元座標系における各表面位置決め用マークＭＦＭＫの位置と、各裏面位置決め用マークＭＲＭＫの位置とを把握する。そして、制御部２３は、各表面位置決め用マークＭＦＭＫの位置と、各裏面位置決め用マークＭＲＭＫの位置とから、各第１駆動軸２６Ａの駆動量、および、第２駆動軸２６Ｂの駆動量を算出する。次いで、制御部２３は、各駆動量に応じた駆動信号を生成し、続いて、各第１駆動軸２６Ａの駆動量および第２駆動軸２６Ｂに対して駆動信号を出力する。

　各第１駆動軸２６Ａおよび第２駆動軸２６Ｂは、制御部２３が出力した駆動信号を受け取る。そして、各第１駆動軸２６Ａおよび第２駆動軸２６Ｂは、受け取った駆動信号に基づいて、二次元座標系における裏面マスクＭＲの位置を変更する。第２検知要素２２Ｂによる撮像、制御部２３による各マークＭＦＭＫ，ＭＲＭＫにおける位置の把握、および、各駆動軸２６Ａ，２６Ｂによる裏面マスクＭＲの位置の変更は、搬送方向ＤＴおよび幅方向ＤＷの両方において、表面位置決め用マークＭＦＭＫに対する裏面位置決め用マークＭＲＭＫのずれ量が所定の範囲内に含まれるまで繰り返される。
　これにより、図８が示すように、処理対象Ｓｂに対して表面マスクＭＦと裏面マスクＭＲとが位置合わせされる。

　図８が示すように、処理対象Ｓｂに対して表面マスクＭＦと裏面マスクＭＲとが位置合わせされた状態において、第１のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫ内に第１のレジストマークＲＭＫが位置し、かつ、第２のレジスト位置決め用マークＲＡＭＫ内に第２のレジストマークＲＭＫが位置している。処理対象Ｓｂに対して表面マスクＭＦと裏面マスクＭＲとが位置合わせされた状態において、第１の表面位置決め用マークＭＦＭＫ内に第１の裏面位置決め用マークＭＲＭＫが位置し、かつ、第２の表面位置決め用マークＭＦＭＫ内に第２の裏面位置決め用マークＭＲＭＫが位置している。

　［露光マスク］
　図９から図１２を参照して、露光装置２０に搭載される露光マスクの一例を説明する。以下に説明する露光マスクの一例では、蒸着マスク１０の第１端部１０Ｅ１、第１中央部１０Ｃ１、第２中央部１０Ｃ２、および、第２端部１０Ｅ２のそれぞれに対応する露光マスクの組によって、単位マスク領域の全体が露光される。また、以下に説明する露光マスクは、第１レジスト層および第２レジスト層がネガ型のレジストから形成される場合の露光マスクの一例である。

　なお、図９から図１２に示される露光マスクは、それぞれ第１レジスト層における単位露光領域を露光するための露光マスクである。すなわち、当該露光マスクは、図７および図８を参照して先に説明した表面マスクＭＦに対応する。蒸着マスク１０を露光するためには、第２レジスト層における単位露光領域を露光するための露光マスク、すなわち裏面マスクＭＲも準備される。

　ただし、第２レジスト層を露光するために準備される露光マスクの数は、第１レジスト層を露光するために準備される露光マスクの数と同一である。また、第２レジスト層を露光するための各露光マスクは、各露光マスクが備える位置決め用のマーク、および、マスク孔１０Ｈを形成するためのパターンの大きさが異なり、かつ、レジスト位置決め用マークを有しない一方で、それ以外の構造が第１レジスト層を露光するための露光マスクと共通である。

　そのため以下では、第１レジスト層を露光するための露光マスクを説明する一方で、第２レジスト層を露光するための露光マスクの説明を省略する。なお、以下に説明する露光マスクでは、表面マスクＭＦが備える表面位置決め用マークＭＦＭＫに対応する位置決め用マークの図示が省略されている。

　図９は、第１レジスト層のうち、蒸着マスク１０の第１端部１０Ｅ１に対応する部分を露光するための露光マスクの平面構造を示している。
　図９が示すように、第１端マスクＭＦＥ１は、長方形状を有している。第１端マスクＭＦＥ１では、幅方向ＤＷにおける長さが第１レジスト層における単位露光領域の幅方向ＤＷにおける長さよりも長く、かつ、搬送方向ＤＴにおける長さが単位露光領域の搬送方向ＤＴにおける長さに等しい。第１端マスクＭＦＥ１は、非パターン領域ＦＥ１Ａとパターン領域ＦＥ１Ｂとを備えている。

　非パターン領域ＦＥ１Ａは、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない。そのため、処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、第１レジスト層のうち、非パターン領域ＦＥ１Ａと重なる部分は露光されない。これに対して、パターン領域ＦＥ１Ｂは、第１露光部２１Ａが放射した光を透過する部分と、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない部分とを含む。

　非パターン領域ＦＥ１Ａは、幅方向ＤＷに沿って延びる長方形状を有し、かつ、第１端マスクＭＦＥ１の幅方向ＤＷにおける全体にわたる長さを有している。パターン領域ＦＥ１Ｂは、幅方向ＤＷに沿って延びる長方形状を有し、かつ、第１端マスクＭＦＥ１の幅方向ＤＷにおける全体にわたる長さを有している。非パターン領域ＦＥ１Ａとパターン領域ＦＥ１Ｂとは、搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。

　パターン領域ＦＥ１Ｂの中央には、第１遮光部ＦＥ１Ｂ１が位置している。第１遮光部ＦＥ１Ｂ１は、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない。第１遮光部ＦＥ１Ｂ１は、蒸着マスク１０の第１端部１０Ｅ１に応じた形状を有している。

　パターン領域ＦＥ１Ｂにおいて、搬送方向ＤＴの端であって、かつ、非パターン領域ＦＥ１Ａから離れた端には、一対の第２遮光部ＦＥ１Ｂ２が位置している。第２遮光部ＦＥ１Ｂ２は、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。第２遮光部ＦＥ１Ｂ２は、パターン領域ＦＥ１Ｂにおける幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。各第２遮光部ＦＥ１Ｂ２は、第１レジスト層に形成されるレジストマークＲＭＫに応じた形状を有している。パターン領域ＦＥ１Ｂのうち、遮光部ＦＥ１Ｂ１，ＦＥ１Ｂ２を除く部分が透光部ＦＥ１Ｂ３である。

　図１０は、第１レジスト層のうち、蒸着マスク１０の第１中央部１０Ｃ１に対応する部分を露光するための露光マスクの平面構造を示している。
　図１０が示すように、第１中央マスクＭＦＣ１は、長方形状を有している。第１中央マスクＭＦＣ１では、幅方向ＤＷにおける長さが第１レジスト層における単位露光領域の幅方向ＤＷにおける長さより長く、かつ、搬送方向ＤＴにおける長さが単位露光領域の搬送方向ＤＴにおける長さに等しい。第１中央マスクＭＦＣ１は、一対のレジスト位置決め用マークＦＣ１Ａ、一対の第１遮光部ＦＣ１Ｂ、一対のパターン部ＦＣ１Ｃ、一対の第２遮光部ＦＣ１Ｄ、および、透光部ＦＣ１Ｅを備えている。レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａ、第１遮光部ＦＣ１Ｂ、および、第２遮光部ＦＣ１Ｄは、第１露光部２１Ａが放射する光を透過しない。パターン部ＦＣ１Ｃは、第１露光部２１Ａが放射する光を透過する部分と透過しない部分とを含んでいる。

　第１中央マスクＭＦＣ１において、搬送方向ＤＴの一端には、一対のレジスト位置決め用マークＦＣ１Ａが位置している。レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａは、幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。各レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａは、幅方向ＤＷに沿って並ぶ一対の線分を備えている。各線分は、搬送方向ＤＴに沿って延びている。

　各第１遮光部ＦＣ１Ｂは、搬送方向ＤＴに沿って延びる直線状を有し、かつ、第１中央マスクＭＦＣ１の搬送方向ＤＴにおける全体にわたる長さを有している。一対の第１遮光部ＦＣ１Ｂは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。幅方向ＤＷにおける第１遮光部ＦＣ１Ｂ間の距離は、蒸着マスク１０のマスク幅Ｗにほぼ等しい。

　一対のパターン部ＦＣ１Ｃは、一対の第１遮光部ＦＣ１Ｂ間に位置し、かつ、搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。パターン部ＦＣ１Ｃには、マスク領域Ｃ１Ｍにおいて複数のマスク孔１０Ｈが並ぶ規則と同一の規則で、複数の遮光部が並んでいる。

　第１中央マスクＭＦＣ１において、搬送方向ＤＴの端であって、かつ、レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａが位置する端とは反対側の端には、一対の第２遮光部ＦＣ１Ｄが位置している。第２遮光部ＦＣ１Ｄは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。第２遮光部ＦＣ１Ｄは、第１中央マスクＭＦＣ１における幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。各第２遮光部ＦＣ１Ｄは、第１レジスト層に形成されるレジストマークＲＭＫに応じた形状を有している。第１中央マスクＭＦＣ１において、レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａ、第１遮光部ＦＣ１Ｂ、パターン部ＦＣ１Ｃ、第２遮光部ＦＣ１Ｄ以外の部分が、透光部ＦＣ１Ｅである。

　図１１は、第１レジスト層のうち、蒸着マスク１０の第２中央部１０Ｃ２に対応する部分を露光するための露光マスクの平面構造を示している。
　図１１が示すように、第２中央マスクＭＦＣ２は、長方形状を有している。第２中央マスクＭＦＣ２では、幅方向ＤＷにおける長さが第１レジスト層における単位露光領域の幅方向ＤＷにおける長さよりも長く、かつ、搬送方向ＤＴにおける長さが単位露光領域の搬送方向ＤＴにおける長さに等しい。第２中央マスクＭＦＣ２は、一対のレジスト位置決め用マークＦＣ２Ａ、一対の第１遮光部ＦＣ２Ｂ、３つのパターン部ＦＣ２Ｃ、一対の第２遮光部ＦＣ２Ｄ、および、透光部ＦＣ２Ｅを備えている。レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａ、第１遮光部ＦＣ２Ｂ、および、第２遮光部ＦＣ２Ｄは、第１露光部２１Ａが放射する光を透過しない。パターン部ＦＣ２Ｃは、第１露光部２１Ａが放射する光を透過する部分と透過しない部分とを含んでいる。

　第２中央マスクＭＦＣ２において、搬送方向ＤＴの一端には、一対のレジスト位置決め用マークＦＣ２Ａが位置している。レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａは、幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。各レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａは、幅方向ＤＷに沿って並ぶ一対の線分を備えている。各線分は、搬送方向ＤＴに沿って延びている。

　各第１遮光部ＦＣ２Ｂは、搬送方向ＤＴに沿って延びる直線状を有し、かつ、第２中央マスクＭＦＣ２の搬送方向ＤＴにおける全体にわたる長さを有している。一対の第１遮光部ＦＣ２Ｂは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。幅方向ＤＷにおける第１遮光部ＦＣ２Ｂ間の距離は、蒸着マスク１０のマスク幅Ｗにほぼ等しい。

　３つのパターン部ＦＣ２Ｃは、一対の第１遮光部ＦＣ２Ｂ間に位置し、かつ、搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。パターン部ＦＣ２Ｃには、マスク領域Ｃ２Ｍにおいて複数のマスク孔１０Ｈが並ぶ規則と同一の規則で、複数の遮光部が並んでいる。

　第２中央マスクＭＦＣ２において、搬送方向ＤＴの端であって、かつ、レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａが位置する端とは反対側の端には、一対の第２遮光部ＦＣ２Ｄが位置している。第２遮光部ＦＣ２Ｄは、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。第２遮光部ＦＣ２Ｄは、第２中央マスクＭＦＣ２における幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。各第２遮光部ＦＣ２Ｄは、第１レジスト層に形成されるレジストマークＲＭＫに応じた形状を有している。第２中央マスクＭＦＣ２において、レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａ、第１遮光部ＦＣ２Ｂ、パターン部ＦＣ２Ｃ、および、第２遮光部ＦＣ２Ｄ以外の部分が、透光部ＦＣ２Ｅである。

　図１２は、第１レジスト層のうち、蒸着マスク１０の第２端部１０Ｅ２に対応する部分を露光するための露光マスクの平面構造を示している。
　図１２が示すように、第２端マスクＭＦＥ２は、長方形状を有している。第２端マスクＭＦＥ２では、幅方向ＤＷにおける長さが第１レジスト層における単位露光領域の幅方向ＤＷにおける長さよりも長く、かつ、搬送方向ＤＴにおける長さが単位露光領域の搬送方向ＤＴにおける長さに等しい。第２端マスクＭＦＥ２は、非パターン領域ＦＥ２Ａとパターン領域ＦＥ２Ｂとを備えている。

　非パターン領域ＦＥ２Ａは、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない。そのため、処理対象Ｓｂが広がる平面と対向する視点から見て、第１レジスト層のうち、非パターン領域ＦＥ２Ａと重なる部分は露光されない。これに対して、パターン領域ＦＥ２Ｂは、第１露光部２１Ａが放射した光を透過する部分と、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない部分とを含む。

　非パターン領域ＦＥ２Ａは、幅方向ＤＷに沿って延びる長方形状を有し、かつ、第２端マスクＭＦＥ２の幅方向ＤＷにおける全体にわたる長さを有している。パターン領域ＦＥ２Ｂは、幅方向ＤＷに沿って延びる長方形状を有し、かつ、第２端マスクＭＦＥ２の幅方向ＤＷにおける全体にわたる長さを有している。非パターン領域ＦＥ２Ａとパターン領域ＦＥ２Ｂとは、搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。

　パターン領域ＦＥ２Ｂの中央には、第１遮光部ＦＥ２Ｂ１が位置している。第１遮光部ＦＥ２Ｂ１は、第１露光部２１Ａが放射した光を透過しない。第１遮光部ＦＥ２Ｂ１は、蒸着マスク１０の第２端部１０Ｅ２に応じた形状を有している。

　パターン領域ＦＥ２Ｂにおいて、搬送方向ＤＴの端であって、かつ、非パターン領域ＦＥ２Ａから離れた端には、一対のレジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２が位置している。レジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２は、幅方向ＤＷに沿って並んでいる。レジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２は、パターン領域ＦＥ２Ｂにおける幅方向ＤＷの各端に１つずつ位置している。レジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２は、幅方向ＤＷに沿って並ぶ一対の線分を備えている。各線分は、搬送方向ＤＴに沿って延びている。パターン領域ＦＥ２Ｂのうち、第１遮光部ＦＥ２Ｂ１およびレジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２を除く部分が透光部ＦＥ２Ｂ３である。

　［露光方法］
　図１３から図１６を参照して露光方法を説明する。
　本開示の露光方法は、蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光する方法である。レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が、単位マスク領域である。単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含んでいる。露光方法は、複数の単位露光領域に含まれる全ての単位露光領域を露光することを含んでいる。露光することでは、複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を露光することと、複数の単位露光領域に含まれる第２の単位露光領域を第１の単位露光領域とは異なるタイミングで露光することと、を含んでいる。

　この露光方法によれば、単位マスク領域ＭＡを構成する全ての単位露光領域ＥＡが露光されるから、露光後のレジスト層から形成されたレジストマスクを用いた蒸着マスク用基材のエッチングによって、蒸着マスク用基材から１枚の蒸着マスクを形成することが可能である。これにより、蒸着マスクが、接合部を含まない単一の蒸着マスク用基材から形成されるから、蒸着マスクが有するマスク孔の形状や位置の精度が熱履歴に起因して低下することが抑えられる。

　蒸着マスク１０が接合部を有する場合には、成膜の繰り返しによって熱履歴が生じた際に、接合部における接合強度が低下する場合がある。また、蒸着物が付着するような隙間を接合部が有する場合には、蒸着マスク１０を洗浄しても隙間に堆積した蒸着物を除去しきれず、結果として、接合部の接合強度が低下する場合がある。また、蒸着マスク１０が接合部を有する場合には、端部１０Ｅ１，１０Ｅ２と中央部１０Ｃを別々に作成する。そのため、端部１０Ｅ１，１０Ｅ２の作成に用いた金属箔のロットと、中央部１０Ｃの作成に用いた金属箔のロットが異なり、これによって、端部１０Ｅ１，１０Ｅ２での物性値と、中央部１０Ｃでの物性値とか異なる場合がある。結果として、接合部での接合強度が低下することがある。

　また、端部１０Ｅ１，１０Ｅ２と中央部１０Ｃとの接合に溶接を用いた場合には、溶接の際に端部１０Ｅ１，１０Ｅ２に作用する熱によって端部１０Ｅ１，１０Ｅ１および中央部１０Ｃに歪みが生じ、これによって、蒸着マスク１０が有するマスク孔１０Ｈの形状や位置の精度が低下する場合がある。

　この点、本開示の露光方法を含む製造方法によって製造された蒸着マスク１０は、上述したように接合部を含まない。そのため、蒸着マスク１０によれば、接合部の接合強度が低下することや、溶接時に作用した熱によって蒸着マスク１０を構成する部材が歪むことは生じない。

　以下、図面を参照して、露光方法を詳細に説明する。なお、以下では、図９から図１２を参照して先に説明した４つの露光マスクを用いる場合の露光方法を例示する。図１３から図１６は、露光方法に含まれる一工程を示している。図１３から図１６では、露光された部分と露光されていない部分との区別をしやすくする目的で、露光されていない部分に網点が付されている。

　なお、図１３が示す第１端マスクＭＦＥ１を用いた露光に先立ち、例えば、以下に記載の方法によって、処理対象Ｓｂにおいて搬送方向ＤＴに沿って延びる縁と、第１端マスクＭＦＥ１の中心軸とが平行になるように、処理対象Ｓｂの位置に対して第１端マスクＭＦＥ１の位置が合わせられる。すなわち、第１端マスクＭＦＥ１は、処理対象Ｓｂの縁に対する位置合わせに用いられる位置決め用マークを備えている。位置決め用マークは、搬送方向ＤＴに沿って延びる形状を有している。露光装置２０は、位置決め用マークと、処理対象Ｓｂにおいて搬送方向ＤＴに沿って延びる縁との両方を撮像することが可能に構成された撮像部を備えている。

　処理対象Ｓｂの位置に対して第１端マスクＭＦＥ１の位置を合わせる際には、撮像部が、処理対象Ｓｂにおいて搬送方向ＤＴに沿って延びる縁と第１端マスクＭＦＥ１の位置決め用マークとを含む画像を撮像する。次いで、撮像部は、画像を制御部２３に向けて出力する。制御部２３は、撮像部が撮像した画像を受け取る。制御部２３は、受け取った画像に基づいて、搬送方向ＤＴと幅方向ＤＷとから構成される二次元座標系における処理対象Ｓｂの縁の位置と、位置決め用マークの位置とを把握する。そして、制御部２３は、処理対象Ｓｂの縁の位置と位置決め用マークの位置とから、各第１駆動軸２５Ａの駆動量、および、第２駆動軸２５Ｂの駆動量を算出する。次いで、制御部２３は、各駆動量に応じた駆動振動を生成し、続いて、制御部２３は、各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂに対して駆動信号を出力する。

　各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂは、制御部２３が出力した駆動信号を受け取る。そして、各第１駆動軸２５Ａおよび第２駆動軸２５Ｂは、受け取った駆動信号に基づいて、二次元座標径における第１端マスクＭＦＥ１の位置を変更する。撮像部による撮像、制御部２３による縁の位置および位置決め用マークの把握、および、各駆動軸２５Ａ，２５Ｂによる第１端マスクＭＦＥ１の位置の変更は、搬送方向ＤＴおよび幅方向ＤＷの両方において、処理対象Ｓｂの縁に対する位置決め用マークのずれ量が所定の範囲内に含まれるまで繰り返される。

　なお、処理対象Ｓｂに対する第１端マスクＭＦＥ１の位置合わせが完了した後に、第１端マスクＭＦＥ１に対して、第１端マスクＭＦＥ１に対応する裏面マスクＭＲの位置合わせが行われる。制御部２３は、第１端マスクＭＦＥ１の位置に対する裏面マスクＭＲの位置のずれ量が所定の範囲内に含まれる場合に、図１３から図１６を参照して以下に説明する露光に関する処理を開始する。

　図１３が示すように、処理対象Ｓｂの表面ＳｂＦを含む第１レジスト層Ｒ１は、複数の単位マスク領域ＭＡを含んでいる。各単位マスク領域ＭＡは、複数の単位露光領域ＥＡを含んでいる。本実施形態では、単位マスク領域ＭＡは、４つの単位露光領域ＥＡによって形成されている。全ての単位露光領域ＥＡは、互いに同一の大きさおよび形状を有している。単位マスク領域ＭＡにおいて、第１露光領域ＥＡ１、第２露光領域ＥＡ２、第３露光領域ＥＡ３、第４露光領域ＥＡ４が、搬送方向ＤＴに沿って記載の順に並んでいる。単位マスク領域ＭＡに含まれる第４露光領域ＥＡ４は、その単位マスク領域ＭＡと隣り合う別の単位マスク領域ＭＡにおける第１露光領域ＥＡ１でもある。

　各単位露光領域ＥＡは、搬送方向ＤＴにおける少なくとも一方の端において、隣り合う単位露光領域ＥＡと重なる重畳領域ＥＡＡを含んでいる。すなわち、単位露光領域ＥＡは、搬送方向ＤＴにおける一方の端部のみに重畳領域ＥＡＡを有するか、あるいは、搬送方向ＤＴにおける両方の端部に重畳領域ＥＡＡを有する。単位マスク領域ＭＡのなかで、搬送方向ＤＴにおいて２つの単位露光領域ＥＡに挟まれた単位露光領域ＥＡは、搬送方向ＤＴにおける両方の端部に重畳領域ＥＡＡを有する。これに対して、単位マスク領域ＭＡのなかで、搬送方向ＤＴの端に位置する単位露光領域ＥＡは、搬送方向ＤＴにおける一方の端部のみに重畳領域ＥＡＡを有する。

　第１露光領域ＥＡ１の一部と第２露光領域ＥＡ２の一部とが重畳した領域が第１重畳領域ＥＡＡ１である。第２露光領域ＥＡ２の一部と第３露光領域ＥＡ３の一部とが重畳した領域とが第２重畳領域ＥＡＡ２である。第３露光領域ＥＡ３の一部と第４露光領域ＥＡ４の一部とが重畳した領域が第３重畳領域ＥＡＡ３である。

　単位マスク領域ＭＡに対する露光を行う際には、まず、第１端マスクＭＦＥ１を用いて、第１露光領域ＥＡ１を露光する。これにより、第１露光領域ＥＡ１には、第１端マスクＭＦＥ１が備える非パターン領域ＦＥ１Ａが転写された第１未露光部Ｒ１Ｂ１が形成される。また、第１露光領域ＥＡ１には、第１端マスクＭＦＥ１が備える第１遮光部ＦＥ１Ｂ１が転写された第２未露光部Ｒ１Ｂ２が形成され、かつ、各第２遮光部ＦＥ１Ｂ２が転写されたレジストマークＲＭＫが形成される。このうち、レジストマークＲＭＫは、第１重畳領域ＥＡＡ１に形成される。また、第１露光領域ＥＡ１には、透光部ＦＥ１Ｂ３が転写された第１被露光部Ｒ１Ａ１が形成される。

　なお、搬送方向ＤＴにおける複数の位置に対して第１端マスクＭＦＥ１を用いた露光が行われる場合には、まず、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第１露光領域ＥＡ１に対して第１端マスクＭＦＥ１を用いた露光が行われる。次いで、制御部２３が、搬送部２４に処理対象Ｓｂを予め定められた距離だけ搬送させる。そして、制御部２３が、第１露光部２１Ａに処理対象Ｓｂに向けて光を放射させ、これによって、第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第１露光領域ＥＡ１に対して第１端マスクを用いた露光が行われる。

　次いで、図１４が示すように、第１中央マスクＭＦＣ１を用いて、第２露光領域ＥＡ２を露光する。この際に、第１重畳領域ＥＡＡ１に位置するレジストマークＲＭＫが、レジスト位置決め用マークＦＣ１Ａが備える線分間に位置するように、第１レジスト層Ｒ１に対して第１中央マスクＭＦＣ１が位置合わせされる。これにより、第２露光領域ＥＡ２には、第１中央マスクＭＦＣ１が備える第１遮光部ＦＣ１Ｂが転写された第３未露光部Ｒ１Ｂ３が、第２未露光部Ｒ１Ｂ２に接続するように形成される。また、第２露光領域ＥＡ２には、パターン部ＦＣ１Ｃが転写された第１パターン部Ｒ１Ｃ１が第３未露光部Ｒ１Ｂ３間に形成される。

　また、各第２遮光部ＦＣ１Ｄが転写されたレジストマークＲＭＫが形成される。各レジストマークＲＭＫは、第２重畳領域ＥＡＡ２に形成される。なお、第１重畳領域ＥＡＡ１に形成されたレジストマークＲＭＫは、第２露光領域ＥＡ２の露光時に露光される。そのため、第２露光領域ＥＡ２の露光後において、第１重畳領域ＥＡＡ１に位置していたレジストマークＲＭＫは消失する。また、第２露光領域ＥＡ２には、透光部ＦＣ１Ｅが転写された第２被露光部Ｒ１Ａ２が形成される。

　なお、搬送方向ＤＴにおける複数の位置に対して第１中央マスクＭＦＣ１を用いた露光が行われる場合には、まず、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第１重畳領域ＥＡＡ１に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第２露光領域ＥＡ２に対して第１中央マスクＭＦＣ１が位置合わせされる。次いで、第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第１重畳領域ＥＡＡ１に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第２露光領域ＥＡ２に対して第１中央マスクＭＦＣ１が位置合わせされる。

　図１５が示すように、第２中央マスクＭＦＣ２を用いて、第３露光領域ＥＡ３を露光する。この際に、第２重畳領域ＥＡＡ２に位置するレジストマークＲＭＫが、レジスト位置決め用マークＦＣ２Ａが備える線分間に位置するように、第１レジスト層Ｒ１に対して第２中央マスクＭＦＣ２が位置合わせされる。これにより、第３露光領域ＥＡ３には、第２中央マスクＭＦＣ２が備える第１遮光部ＦＣ２Ｂが転写された第４未露光部Ｒ１Ｂ４が、第３未露光部Ｒ１Ｂ３に接続するように形成される。また、第３露光領域ＥＡ３には、パターン部ＦＣ２Ｃが転写された第２パターン部Ｒ１Ｃ２が第４未露光部Ｒ１Ｂ４間に形成される。また、各第２遮光部ＦＣ２Ｄが転写されたレジストマークＲＭＫが形成される。各レジストマークＲＭＫは、第３重畳領域ＥＡＡ３に形成される。

　なお、第２重畳領域ＥＡＡ２に形成されたレジストマークＲＭＫは、第３露光領域ＥＡ３の露光時に露光される。そのため、第３露光領域ＥＡ３の露光後において、第２重畳領域ＥＡＡ２に位置していたレジストマークＲＭＫは消失する。また、第３露光領域ＥＡ３には、透光部ＦＣ２Ｅが転写された第３被露光部Ｒ１Ａ３が形成される。

　また、搬送方向ＤＴにおける複数の位置に対して第２中央マスクＭＦＣ２を用いた露光が行われる場合には、まず、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第２重畳領域ＥＡＡ２に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第３露光領域ＥＡ３に対して第２中央マスクＭＦＣ２が位置合わせされる。次いで、第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第２重畳領域ＥＡＡ２に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第３露光領域ＥＡ３に対して第２中央マスクＭＦＣ２が位置合わせされる。

　図１６が示すように、第２端マスクＭＦＥ２を用いて、第４露光領域ＥＡ４を露光する。この際に、第３重畳領域ＥＡＡ３に位置するレジストマークＲＭＫが、レジスト位置決め用マークＦＥ２Ｂ２が備える線分間に位置するように、第１レジスト層Ｒ１に対して第２端マスクＭＦＥ２が位置合わせされる。これにより、第４露光領域ＥＡ４には、第２端マスクＭＦＥ２が備える第１遮光部ＦＥ２Ｂ１が転写された第５未露光部Ｒ１Ｂ５が、第４未露光部Ｒ１Ｂ４に接続するように形成される。また、第４露光領域ＥＡ４には、透光部ＦＥ２Ｂ３が転写された第４被露光部Ｒ１Ａ４が形成される。

　なお、搬送方向ＤＴにおける複数の位置に対して第２端マスクＭＦＥ２を用いた露光が行われる場合には、まず、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第３重畳領域ＥＡＡ３に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる第４露光領域ＥＡ４に対して第２端マスクＭＦＥ２が位置合わせされる。次いで、第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第３重畳領域ＥＡＡ３に位置するレジストマークＲＭＫを基準として、第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる第４露光領域ＥＡ４に対して第２端マスクＭＦＥ２が位置合わせされる。

　このように、第１露光領域ＥＡ１から第４露光領域ＥＡ４が順に露光されることによって、単位マスク領域ＭＡの全体が露光される。単位マスク領域ＭＡが露光される際には、単位マスク領域ＭＡに含まれる全ての単位露光領域ＥＡを個別に露光する。そのため、単位マスク領域ＭＡの露光に用いられる露光装置２０は、１つの単位露光領域ＥＡの露光が可能な大きさの第１露光部２１Ａを備えていればよい。これにより、第１露光部２１Ａの大型化を抑えることが可能である。

　また、上述した露光方法では、複数の単位露光領域ＥＡが、蒸着マスク１０の第１中央部１０Ｃ１を形成するための第２露光領域ＥＡ２と、第２中央部１０Ｃ２を形成するための第３露光領域ＥＡ３とを含んでいる。そのため、第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２とが互いに異なる単位露光領域ＥＡによって形成されるから、蒸着マスク１０において、蒸着パターンを形成するためのマスク孔１０Ｈを有した領域を拡張することが可能である。

　上述した露光方法では、各露光マスクを用いた処理対象Ｓｂに対する露光が終了した後に、処理対象Ｓｂの全体が巻取部２４Ｂに巻き取られる。巻取部２４Ｂによって巻き取られた処理対象Ｓｂでは、巻出部２４Ａに設置された処理対象Ｓｂにおける先頭の端部と後尾の端部とが逆である。すなわち、巻出部２４Ａに設置された処理対象Ｓｂにおける先頭の端部が、巻取部２４Ｂに巻き取られた処理対象Ｓｂにおける後尾の端部であり、巻出部２４Ａに設置された処理対象Ｓｂにおける後尾の端部が、巻取部２４Ｂに巻き取られた処理対象Ｓｂにおける先頭の端部である。そのため、巻取部２４Ｂに巻き取られた処理対象Ｓｂが巻出部２４Ａに再び設置される前に、処理対象Ｓｂの巻き直しが行われる。これにより、処理対象Ｓｂにおける先頭の端部が巻出部２４Ａに位置する処理対象Ｓｂにおける先頭の端部に一致し、かつ、処理対象Ｓｂにおける後尾の端部が巻出部２４Ａに位置する処理対象Ｓｂの後尾の端部に一致する。巻き直しが行われた処理対象Ｓｂは、再び巻出部２４Ａに設置される。

　［蒸着マスクの製造方法］
　図１７から図２２を参照して、蒸着マスク１０の製造方法を説明する。
　蒸着マスク１０の製造方法は、蒸着マスク用基材にレジスト層を形成すること、レジスト層を露光すること、レジスト層を現像し、これによってレジストマスクを形成すること、および、レジストマスクを用いて前記蒸着マスク用基材をエッチングすること、を含んでいる。以下、図面を参照して蒸着マスク１０の製造方法をより詳しく説明する。なお、以下では、蒸着マスク１０の製造方法に含まれる工程のうち、上述した露光方法によって各レジスト層に対して露光が行われて以降の工程について説明する。なお、図１７から図２２では、図示の便宜上、１つのマスク孔１０Ｈを形成する過程が図示されている。

　図１７が示すように、蒸着マスク用基材１０Ｍは、表面１０ＭＦと、表面１０ＭＦとは反対側の面である裏面１０ＭＲとを備えている。表面１０ＭＦには、第１レジスト層Ｒ１が位置している。第１レジスト層Ｒ１は、上述したようにネガ型のレジストから形成されている。第１レジスト層Ｒ１は、上述した露光方法によって露光済である。裏面１０ＭＲには、第２レジスト層Ｒ２が位置している。第２レジスト層Ｒ２は、上述したようにネガ型のレジストから形成されている。第２レジスト層Ｒ２は、上述した露光方法によって露光済である。

　図１８が示すように、第１レジスト層Ｒ１と第２レジスト層Ｒ２とを現像する。これにより、第１レジスト層Ｒ１から第１レジストマスクＲＭ１が形成され、かつ、第２レジスト層Ｒ２から第２レジストマスクＲＭ２が形成される。各レジスト層Ｒ１，Ｒ２の現像には、例えば炭酸ナトリウム水溶液などの現像液が用いられる。第１レジストマスクＲＭ１は、第１マスク孔ＲＭ１Ｈを備えている。第１マスク孔ＲＭ１Ｈは、第１レジストマスクＲＭ１を第１レジストマスクＲＭ１の厚さ方向に沿って貫通している。第２レジストマスクＲＭ２は、第２マスク孔ＲＭ２Ｈを備えている。第２マスク孔ＲＭ２Ｈは、第２レジストマスクＲＭ２を第２レジストマスクＲＭ２の厚さ方向に沿って貫通している。第１レジストマスクＲＭ１が広がる平面と対向する視点から見て、第２マスク孔ＲＭ２Ｈは、第１マスク孔ＲＭ１Ｈ内に位置している。

　図１９が示すように、第１レジストマスクＲＭ１の表面上に第１保護層ＰＬ１を形成する。第１保護層ＰＬ１を形成することによって、第１マスク孔ＲＭ１Ｈを塞ぎ、これによって、第１マスク孔ＲＭ１Ｈを介して蒸着マスク用基材１０Ｍにエッチング液が達することを防ぐ。次いで、第２レジストマスクＲＭ２を用いて蒸着マスク用基材１０Ｍを裏面１０ＭＲからエッチングする。蒸着マスク用基材１０Ｍのエッチングには、例えば塩化第二鉄液などのエッチング液を用いる。これにより、裏面１０ＭＲに開口した小孔部１０ＨＳを形成する。

　図２０が示すように、第１レジストマスクＲＭ１の表面から第１保護層ＰＬ１を取り除く。また、蒸着マスク用基材１０Ｍの裏面１０ＭＲから第２レジストマスクＲＭ２を取り除く。次いで、蒸着マスク用基材１０Ｍの裏面１０ＭＲを第２保護層ＰＬ２によって覆う。この際に、第２保護層ＰＬ２の一部が小孔部１０ＨＳ内を埋めるように、裏面１０ＭＲに第２保護層ＰＬ２が形成される。

　図２１が示すように、第１レジストマスクＲＭ１を用いて蒸着マスク用基材１０Ｍを表面１０ＭＦからエッチングする。蒸着マスク用基材１０Ｍのエッチングには、小孔部１０ＨＳを形成する際と同様に、例えば塩化第二鉄液などのエッチング液を用いる。これにより、表面１０ＭＦに開口した大孔部１０ＨＬを形成する。大孔部１０ＨＬは、小孔部１０ＨＳ内に充填された第２保護層ＰＬ２の一部に達するように形成され、これによって、小孔部１０ＨＳに大孔部１０ＨＬが接続される。

　図２２が示すように、蒸着マスク用基材１０Ｍの表面１０ＭＦから第１レジストマスクＲＭ１を取り除き、かつ、裏面１０ＭＲから第２保護層ＰＬ２を取り除く。これにより、蒸着マスク１０を得ることができる。蒸着マスク１０は、表面１０Ｆと、表面１０Ｆとは反対側の面である裏面１０Ｒと、マスク孔１０Ｈとを備えている。マスク孔１０Ｈにおいて、大孔部１０ＨＬは表面１０Ｆに開口し、かつ、小孔部１０ＨＳは裏面１０Ｒに開口している。蒸着マスク１０のうち、表面１０Ｆが蒸着マスク用基材１０Ｍの表面１０ＭＦに対応し、かつ、裏面１０Ｒが蒸着マスク用基材１０Ｍの裏面１０ＭＲに対応する。

　以上説明したように、露光方法、蒸着マスクの製造方法、露光装置、および、蒸着マスクの一実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
　（１）単位マスク領域ＭＡを構成する全ての単位露光領域ＥＡが露光されるから、露光後の第１レジスト層Ｒ１から形成された第１レジストマスクＲＭ１を用いた蒸着マスク用基材１０Ｍのエッチングによって、蒸着マスク用基材１０Ｍから１枚の蒸着マスク１０を形成することが可能である。これにより、蒸着マスク１０が、接合部を含まない単一の蒸着マスク用基材１０Ｍから形成されるから、蒸着マスク１０の機械的強度の低下が抑えられ、また、蒸着時の位置合わせの負荷が軽減され、また、蒸着マスク１０が有するマスク孔１０Ｈの形状や位置の精度が、熱履歴に起因して低下することが抑えられる。

　（２）単位マスク領域ＭＡの露光に用いられる露光装置２０は、１つの単位露光領域ＥＡの露光が可能な大きさの第１露光部２１Ａを備えていればよい。これにより、第１露光部２１Ａの大型化を抑えることが可能である。

　（３）第１中央部１０Ｃ１と第２中央部１０Ｃ２とが互いに異なる単位露光領域ＥＡによって形成されるから、蒸着マスク１０において、蒸着パターンを形成するためのマスク孔１０Ｈを有した領域を拡張することが可能である。

　（４）第１長辺１０Ｌ１が段差方向において窪む第１段差部Ｌ１Ｓを有する一方で、第２長辺１０Ｌ２が段差方向において突き出る第２段差部Ｌ２Ｓを有する。そのため、第２方向Ｄ２でのマスク幅Ｗが一定である蒸着マスク１０を製造する際に、段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓでの段差の量分だけ、第２方向Ｄ２における露光時のずれが許容される。

　（５）段差量ＳＡが０．５μｍ以上であることによって、蒸着マスク用基材１０Ｍ上の第１レジスト層Ｒ１を露光する際の位置合わせに要する負荷を軽減することが可能である。

　（６）段差量ＳＡが５μｍ以下であることによって、段差に起因した蒸着マスク１０における機械的強度の低下を抑えることが可能である。

　なお、上述した実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
　［蒸着マスク］
　蒸着マスク１０は、以下に記載のように変更されてもよい。
　・蒸着マスク１０の第１変更例は、第１端部と、第２端部と、第１端部と前記第２端部とに挟まれる１つの中央部とから構成されてもよい。中央部は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を複数有する。これに対して、第１端部および第２端部は、マスク孔を有しない。

　・蒸着マスク１０の第２変更例は、複数のマスク領域を備え、かつ、複数のマスク領域には、蒸着マスク１０が広がる平面と対向する視点から見て、第１の形状を有するマスク領域と、第１の形状とは異なる第２の形状を有するマスク領域が含まれる。なお、蒸着マスク１０の第２変更例は、上述した実施形態の蒸着マスク１０と組み合わせられてもよいし、蒸着マスク１０の第１変更例と組み合わせられてもよい。

　・蒸着マスク１０の第３変更例では、上述した実施形態の蒸着マスク１０の各中央部１０Ｃ１，１０Ｃ２において、搬送方向ＤＴに沿って複数のマスク領域が並び、かつ、幅方向ＤＷに沿って複数のマスク領域が並んでいる。例えば、蒸着マスク１０の第３変更例では、各中央部１０Ｃ１，１０Ｃ２において、搬送方向ＤＴに沿って２つのマスク領域が並び、かつ、幅方向ＤＷに沿って２つのマスク領域が並んでいてもよい。なお、蒸着マスク１０の第３変更例は、蒸着マスク１０の第１変更例と組み合わせられてもよいし、蒸着マスク１０の第２変更例と組み合わせられてもよい。

　・蒸着マスク１０の第４変更例では、蒸着マスク１０が、搬送方向ＤＴに沿って並ぶ第１部分と第２部分とから構成される。第１部分は、蒸着マスク１０の第１の短辺１０Ｓを含み、かつ、複数のマスク領域を含んでいる。第２部分は、蒸着マスク１０の第２の短辺１０Ｓを含み、かつ、複数のマスク領域を含んでいる。すなわち、第１部分は、上述した実施形態における蒸着マスク１０における第１端部１０Ｅ１と第１中央部１０Ｃ１とから構成され、かつ、第２部分は、第２中央部１０Ｃ２と第２端部１０Ｅ２とから構成される。

　・蒸着マスク１０の第５変更例では、各マスク孔１０Ｈが、蒸着マスク１０の表面１０Ｆに直交する断面において円弧状を有し、かつ、表面１０Ｆに位置する表面開口と、裏面１０Ｒに位置する裏面開口とを有してもよい。この場合には、表面開口は裏面開口よりも大きく、かつ、裏面開口は表面開口内に位置している。なお、蒸着マスク１０の第５変更例は、上述した実施形態、および、第１変更例から第４変更例のそれぞれと組み合わせられてよい。

　・図２３および図２４が示すように、蒸着マスク１０は、第１のマスク幅Ｗを有する部分と、第２のマスク幅Ｗを有する部分とを含んでもよい。図２３が示す蒸着マスク１０の第６変更例では、第１端部１０Ｅ１および第２端部１０Ｅ２におけるマスク幅Ｗが、中央部１０Ｃにおけるマスク幅Ｗよりも大きい。これに対して、図２４が示す蒸着マスク１０の第７変更例では、第１端部１０Ｅ１および第２端部１０Ｅ２におけるマスク幅Ｗが、中央部１０Ｃにおけるマスク幅Ｗよりも小さい。なお、図２３および図２４では、図示の便宜上、蒸着マスク１０のうち、第１端部１０Ｅ１と第１中央部１０Ｃ１の一部とのみが図示されている。

　図２３が示すように、蒸着マスク１０の第６変更例では、第１端部１０Ｅ１におけるマスク幅Ｗが、第１中央部１０Ｃ１におけるマスク幅Ｗよりも大きい。そのため、第１長辺１０Ｌ１が有する第１段差部Ｌ１Ｓと、第２長辺１０Ｌ２が有する第２段差部Ｌ２Ｓとは、第２方向Ｄ２に沿って並んでいる。第１段差部Ｌ１Ｓは、第１端部１０Ｅ１から第１中央部１０Ｃ１に向かう方向において、第１長辺１０Ｌ１から第２長辺１０Ｌ２に向けて窪んでいる。これに対して、第２段差部Ｌ２Ｓは、第１端部１０Ｅ１から第１中央部１０Ｃ１に向かう方向において、第２長辺１０Ｌ２から第１長辺１０Ｌ１に向けて窪んでいる。各段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓでの段差量は、３０μｍ以下であってよい。

　第１端部１０Ｅ１において、第１方向Ｄ１に沿い、かつ、第２方向Ｄ２における第１端部１０Ｅ１の中央を通る直線が、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１である。第１中央部１０Ｃ１において、第１方向Ｄ１に沿い、かつ、第２方向Ｄ２における第１中央部１０Ｃ１の中央を通る直線が、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１である。第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１は、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１に一致することが好ましい。図２３が示す例では、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１が、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１に一致している。第２方向Ｄ２において、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１と第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１との間の距離は、０．５μｍ以上５μｍ以下の範囲内に含まれることが好ましい。

　蒸着マスク１０の第６変更例によるように、各長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２が段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓを有する場合には、以下に記載の効果を得ることができる。
　（７）蒸着マスク１０の長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２が段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓを有する。そのため、長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２が段差部を有しない場合に比べて、レジスト層が有する単位マスク領域ＭＡを単位露光領域ＥＡごとに露光する際のずれが、長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２の段差の分だけ許容される。それゆえに、長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２に段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓを有した蒸着マスク１０は、単位マスク領域ＭＡを複数回に分けて露光する工程を含む製造方法に適用されることが好適な構造である。

　図２４が示すように、蒸着マスク１０の第７変更例では、第１端部１０Ｅ１におけるマスク幅Ｗが、第１中央部１０Ｃ１におけるマスク幅Ｗよりも小さい。そのため、第１長辺１０Ｌ１が有する第１段差部Ｌ１Ｓと、第２長辺１０Ｌ２が有する第２段差部Ｌ２Ｓとは、第２方向Ｄ２に沿って並んでいる。第１段差部Ｌ１Ｓは、第１端部１０Ｅ１から第１中央部１０Ｃ１に向かう方向において、第２長辺１０Ｌ２から第１長辺１０Ｌ１に向けて突き出ている。これに対して、第２段差部Ｌ２Ｓは、第１端部１０Ｅ１から第１中央部１０Ｃ１に向かう方向において、第１長辺１０Ｌ１から第２長辺１０Ｌ２に向けて突き出ている。各段差部Ｌ１Ｓ，Ｌ２Ｓでの段差量は、３０μｍ以下であってよい。

　第１端部１０Ｅ１において、第１方向Ｄ１に沿い、かつ、第２方向Ｄ２における第１端部１０Ｅ１の中央を通る直線が、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１である。第１中央部１０Ｃ１において、第１方向Ｄ１に沿い、かつ、第２方向Ｄ２における第１中央部１０Ｃ１の中央を通る直線が、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１である。第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１は、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１に一致することが好ましい。図２４が示す例では、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１が、第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１に一致している。第２方向Ｄ２において、第１端部１０Ｅ１の中心軸ＡＥ１と第１中央部１０Ｃ１の中心軸ＡＣ１との間の距離は、０．５μｍ以上５μｍ以下の範囲内に含まれることが好ましい。
　なお、蒸着マスク１０の第７変更例によっても、上述した（７）に準じた効果を得ることはできる。

　・蒸着マスク１０において、第１長辺１０Ｌ１および第２長辺１０Ｌ２のいずれか一方のみが段差部を有してもよい。この場合であっても、長辺１０Ｌ１，１０Ｌ２が段差を有することによって、上述した（７）に準じた効果を得ることはできる。

　［露光方法］
　・蒸着マスク１０の第１変更例を製造する場合には、１つの単位マスク領域ＭＡが、第１露光領域、第２露光領域、および、第３露光領域から構成されればよい。第１露光領域は、第１端部を形成するための単位露光領域であり、第２露光領域は、中央部を形成するための単位露光領域であり、第３露光領域は、第２端部を形成するための単位露光領域である。この場合には、第１レジスト層を露光するための露光マスクとして、第１露光領域を露光するための表面マスク、第２露光領域を露光するための表面マスク、および、第３露光領域を露光するための表面マスクを準備すればよい。また、第２レジスト層を露光するためのマスクとして、第１露光領域を露光するための裏面マスク、第２露光領域を露光するための裏面マスク、および、第３露光領域を露光するための裏面マスクを準備すればよい。

　この変更例によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
　（８）マスク孔１０Ｈを含む中央部の全体が同一の単位露光領域に含まれるから、露光に起因した中央部内でのずれを抑え、これによって蒸着マスク１０が備えるマスク孔１０Ｈの位置や形状の精度の低下を抑えることが可能である。

　・蒸着マスク１０の第２変更例を製造する際には、第１中央部１０Ｃ１が第１の形状を有するマスク領域と第２の形状を有するマスク領域とを含む場合には、第１レジスト層を露光するための露光マスクとして、これらのマスク領域に応じたパターン部を有した第１中央マスクＭＦＣ１を準備すればよい。また、この場合には、第２レジスト層を露光するための露光マスクのうち、第１中央マスクＭＦＣ１に位置合わせされる裏面マスクが、第１の形状を有するマスク領域と第２の形状を有するマスク領域とを含む第１中央部１０Ｃ１に対応した露光が可能に構成されていればよい。

　また、第２中央部１０Ｃ２が第１の形状を有するマスク領域と第２の形状を有するマスク領域とを含む場合には、第１レジスト層を露光するための露光マスクとして、これらのマスク領域に応じたパターン部を有する第２中央マスクＭＦＣ２を準備すればよい。また、この場合には、第２レジスト層を露光するための露光マスクのうち、第２中央マスクＭＦＣ２に位置合わせされる裏面マスクが、第１の形状を有するマスク領域と第２の形状を有するマスク領域とを含む第２中央部１０Ｃ２に対応した露光が可能に構成されていればよい。

　蒸着マスク１０の第２変更例が第１変更例と組み合わせられた場合には、第２露光領域を露光するための表面マスクおよび裏面マスクが、第１の形状を有するマスク領域と第２の形状を有するマスク領域とに対応した露光が可能に構成されていればよい。

　・蒸着マスク１０の第３変更例を製造する際には、第１中央マスクＭＦＣ１および第２中央マスクＭＦＣ２として、搬送方向ＤＴに沿って複数のパターン部が並び、かつ、幅方向に沿って複数のパターン部が並ぶ露光マスクを準備すればよい。また、第１中央マスクＭＦＣ１に位置合わせされる裏面マスク、および、第２中央マスクＭＦＣ２に位置合わせされる裏面マスクも、各中央部１０Ｃ１，１０Ｃ２に対応した露光が可能に構成されていればよい。

　なお、第３変更例が第１変更例と組み合わせられる場合には、第２表面マスクとして、搬送方向ＤＴに沿って複数のパターン部が並び、かつ、幅方向ＤＷに沿って複数のパターン部が並ぶマスクを準備すればよい。また、第２表面マスクに位置合わせされる裏面マスクとして、搬送方向ＤＴに沿って並ぶ複数のマスク領域と、幅方向ＤＷに沿って並ぶ複数のマスク領域とに対応した露光が可能である露光マスクを準備すればよい。

　・蒸着マスク１０の第４変更例を製造する際には、第１部分を形成するための第１表面マスクと、第２部分を形成するための第２表面マスクとを準備すればよい。また、第１表面マスクに位置合わせされる第１裏面マスクと、第２表面マスクに位置合わせされる第２裏面マスクとを準備すればよい。

　・蒸着マスク１０の第５変更例を製造する際には、処理対象Ｓｂは、蒸着マスク用基材１０Ｍと、蒸着マスク用基材１０Ｍの表面１０ＭＦに位置する第１レジスト層Ｒ１のみを備えていればよい。そして、処理対象Ｓｂに対する露光を行う際には、第１レジスト層Ｒ１に対して光を放射する露光部のみを用いればよい。また、蒸着マスク１０の第５例を製造する際には、表面マスクに対する裏面マスクの位置合わせは省略される。

　・第１レジスト層Ｒ１に対する露光は、以下のように行われてもよい。
　第１レジスト層Ｒ１は、単位マスク領域ＭＡを複数含んでいる。複数の単位マスク領域ＭＡは、第１マスク領域と第２マスク領域とを含んでいる。露光することは、第１マスク領域の単位露光領域ＥＡと、第２マスク領域の単位露光領域ＥＡとを同時に露光することを含んでもよい。

　例えば、上述した実施形態において、第１の単位マスク領域ＭＡの第４露光領域ＥＡ４と、搬送方向ＤＴにおいて第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡの第１露光領域ＥＡ１とを同時に露光することが可能に構成された表面マスクＭＦが用いられる。すなわち、上述した第１端マスクＭＦＥ１および第２端マスクＭＦＥ２の代わりに、１つの表面マスクＭＦが用いられる。表面マスクＭＦにおいて、第４露光領域ＥＡ４を露光するための領域と、第１露光領域ＥＡ１を露光するための領域とが、搬送方向ＤＴに沿って並んでいる。表面マスクＭＦを用いた露光を行うことによって、第１の単位マスク領域ＭＡの第４露光領域と、第２の単位マスク領域ＭＡの第１露光領域ＥＡ１とを同時に露光することが可能である。また、上述した表面マスクＭＦに位置合わせされる裏面マスクとして、第１の単位マスク領域ＭＡの第４露光領域ＥＡ４と、搬送方向ＤＴにおいて第１の単位マスク領域ＭＡに隣り合う第２の単位マスク領域ＭＡの第１露光領域ＥＡ１とを同時に露光することが可能に構成された露光マスクを準備すればよい。

　この変更例によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
　（９）異なる単位マスク領域ＭＡに含まれる単位露光領域ＥＡが同時に露光されるから、単位マスク領域ＭＡを１つずつ露光する場合に比べて、複数の単位マスク領域ＭＡを露光するために要する時間を短縮することが可能である。

　・第１レジスト層Ｒ１および第２レジスト層Ｒ２は、ポジ型のレジストから形成されてもよい。各レジスト層Ｒ１，Ｒ２がポジ型のレジストから形成される場合には、上述した各マスクＭＦＥ１，ＭＦＣ１，ＭＦＣ２，ＭＦＥ２において、露光部２１が放射した光を透過する部分を遮光する部分に変更し、かつ、当該光を遮光する部分を透過する部分に変更すればよい。

　・レジスト層の幅方向ＤＷにおいて２つ以上の単位マスク領域ＭＡが並ぶように、レジスト層に対して単位マスク領域ＭＡが設定されてもよい。この場合には、幅方向ＤＷに沿って並ぶ２つ以上の単位マスク領域ＭＡが含む単位露光領域ＥＡを一度に露光することが可能な露光マスクを用いることが可能である。あるいは、レジスト層の露光には、１つ単位露光領域ＥＡのみを露光することが可能な露光マスクを用いてもよい。

　［蒸着マスクの製造方法］
　・蒸着マスク１０の第５変更例を製造する際には、蒸着マスク用基材１０Ｍは、第１レジスト層Ｒ１から形成された第１レジストマスクＲＭ１を用いて表面１０ＭＦからエッチングが行わればよい。すなわち、蒸着マスク１０の第５変更例を製造する際には、第２レジスト層Ｒ２から形成された第２レジストマスクＲＭ２を用いたエッチングは省略される。

　［露光装置］
　・表面マスク駆動部２５は、第１駆動軸２５Ａを１つのみを備えてもよい。この場合には、第１駆動軸２５Ａは、表面マスクＭＦの幅方向ＤＷにおける中央において搬送方向ＤＴでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてもよい。

　・表面マスク駆動部２５は、第２駆動軸２５Ｂを一対備えてもよい。この場合には、第１の第２駆動軸２５Ｂは、表面マスクＭＦの搬送方向ＤＴにおける一端において幅方向ＤＷでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてよい。また、第２の第２駆動軸２５Ｂは、表面マスクＭＦの搬送方向ＤＴにおける他端において幅方向ＤＷでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてよい。なお、表面マスク駆動部２５が第２駆動軸２５Ｂを一対備える場合に、表面マスク駆動部２５が第１駆動軸２５Ａを１つのみ備えてもよい。

　・裏面マスク駆動部２６は、第１駆動軸２６Ａを１つのみ備えてもよい。この場合には、第１駆動軸２６Ａは、表面マスクＭＦの幅方向ＤＷにおける中央において搬送方向ＤＴでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてもよい。

　・裏面マスク駆動部２６は、第２駆動軸２６Ｂを一対備えてもよい。この場合には、第１の第２駆動軸２６Ｂは、表面マスクＭＦの搬送方向ＤＴにおける一端において幅方向ＤＷでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてよい。また、第２の第２駆動軸２６Ｂは、表面マスクＭＦの搬送方向ＤＴにおける他端において幅方向ＤＷでの表面マスクＭＦの位置を変更可能であるように構成されてよい。なお、裏面マスク駆動部２６が第２駆動軸２６Ｂを一対備える場合に、裏面マスク駆動部２６が第１駆動軸２６Ａを１つのみ備えてもよい。

　・図２５が示すように、露光装置２０は、複数の第１露光部２１Ａと、第１露光部２１Ａと同数の第２露光部２１Ｂとを備えてもよい。この場合には、露光装置２０は、第１露光部２１Ａごとに検知部２２を備えている。例えば、図２３が示す例では、露光装置２０は、２つの第１露光部２１Ａと、２つの第２露光部２１Ｂとを備えている。一方の第２露光部２１Ｂは、処理対象Ｓｂを挟んで一方の第１露光部２１Ａと対向するように配置され、かつ、他方の第２露光部２１Ｂは、処理対象Ｓｂを挟んで他方の第１露光部２１Ａと対向するように配置されている。

　各第１露光部２１Ａには、互いに異なる表面マスクＭＦが搭載され、かつ、各第２露光部２１Ｂには、互いに異なる裏面マスクＭＲが搭載される。第１の検知部２２は、第１の第１露光部２１Ａに搭載された表面マスクＭＦに、当該第１露光部２１Ａに対向する第２露光部２１Ｂに搭載された裏面マスクＭＲを位置合わせする際に用いられる。第２の検知部２２は、第２の第１露光部２１Ａに搭載された表面マスクＭＦに、当該第１露光部２１Ａに対向する第２露光部２１Ｂに搭載された裏面マスクＭＲを位置合わせする際に用いられる。

　この露光装置２０によれば、単位マスク領域ＭＡに含まれる２つの単位露光領域ＥＡを同時に露光することが可能である。これにより、１つの単位マスク領域ＭＡの全体を露光するために要する時間を短縮することが可能である。また、第１の第１露光部２１Ａは第１の単位マスク領域ＭＡに含まれる単位露光領域ＥＡを露光する一方で、第２の第１露光部２１Ａは第１の単位マスク領域ＭＡとは異なる第２の単位マスク領域ＭＡに含まれる単位露光領域ＥＡを露光してもよい。この場合には、処理対象Ｓｂの全体を露光するために要する時間を短縮することが可能である。

　・蒸着マスク１０の第５変更例を製造する際に用いられる露光装置２０では、露光部２１が、第２露光部２１Ｂを備えなくてよい。また、検知部２２が第２検知要素２２Ｂを備えなくてよい。

　・図２６が示すように、露光装置３０は、第１検知部３２Ａ、第２検知部３２Ｂ、および、搬送部３４を備えてもよい。搬送部３４は、第１搬送ローラー３４Ａと第２搬送ローラー３４Ｂとを備えている。

　第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂは、第１回転方向、および、第１回転方向とは逆方向である第２回転方向に回転することが可能に構成されている。第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが第１回転方向に回転することによって、搬送部３４は、第１搬送方向ＤＴ１に沿って処理対象Ｓｂを搬送する。第１搬送方向ＤＴ１は、第１搬送ローラー３４Ａから第２搬送ローラー３４Ｂに向かう方向である。各搬送ローラー３４Ａ，３４Ｂが第１回転方向に回転する場合には、第１搬送ローラー３４Ａが上述した巻出部２４Ａとして機能し、かつ、第２搬送ローラー３４Ｂが上述した巻取部２４Ｂとして機能する。

　第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが第２回転方向に回転することによって、搬送部３４は、第２搬送方向ＤＴ２に沿って処理対象Ｓｂを搬送する。第２搬送方向ＤＴ２は、第２搬送ローラー３４Ｂから第１搬送ローラー３４Ａに向かう方向である。各搬送ローラー３４Ａ，３４Ｂが第２回転方向に回転する場合には、第１搬送ローラー３４Ａが上述した巻取部２４Ｂとして機能し、かつ、第２搬送ローラー３４Ｂが上述した巻出部２４Ａとして機能する。

　第１検知部３２Ａおよび第２検知部３２Ｂは、それぞれ上述した検知部２２と同等の構成を備えている。第１検知部３２Ａおよび第２検知部３２Ｂは、第１搬送ローラー３４Ａと第２搬送ローラー３４Ｂとが並ぶ方向において、第１露光部２１Ａを挟んでいる。各搬送ローラー３４Ａ，３４Ｂが第１回転方向に回転する場合には、第１搬送方向ＤＴ１において、第１検知部３２Ａが上流に位置し、かつ、第２検知部３２Ｂが下流に位置する。各搬送ローラー３４Ａ，３４Ｂが第２回転方向に回転する場合には、第２搬送方向ＤＴ２において、第２検知部３２Ｂが上流に位置し、かつ、第１検知部３２Ａが下流に位置する。

　露光装置３０を用いて処理対象Ｓｂの露光を行う際には、例えば、第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが第１回転方向に回転することによって、搬送部３４が処理対象Ｓｂを第１搬送方向ＤＴ１に沿って搬送する。この際に、第１検知部３２Ａを用いて処理対象Ｓｂに対する第１端マスクＭＦＥ１および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われた後に、露光部２１が、第１端マスクＭＦＥ１および裏面マスクＭＲを用いて処理対象Ｓｂを露光する。

　次いで、第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが第２回転方向に回転することによって、搬送部３４が処理対象Ｓｂを第２搬送方向ＤＴ２に沿って搬送する。この際に、第２検知部３２Ｂを用いて処理対象Ｓｂに対する第１中央マスクＭＦＣ１および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われた後に、露光部２１が第１中央マスクＭＦＣ１および裏面マスクＭＲを用いて処理対象Ｓｂを露光する。

　続いて、第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが再び第１回転方向に回転することによって、搬送部３４が処理対象Ｓｂを第１搬送方向ＤＴ１に沿って搬送する。この際に、第１検知部３２Ａを用いて処理対象Ｓｂに対する第２中央マスクＭＦＣ２および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われた後に、露光部２１が、第２中央マスクＭＦＣ２および裏面マスクＭＲを用いて処理対象Ｓｂを露光する。

　次いで、第１搬送ローラー３４Ａおよび第２搬送ローラー３４Ｂが再び第２回転方向に回転することによって、搬送部３４が処理対象Ｓｂを第２搬送方向ＤＴ２に沿って搬送する。この際に、第２検知部３２Ｂを用いて処理対象Ｓｂに対する第２端マスクＭＦＥ２および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われた後に、露光部２１が第２端マスクＭＦＥ２および裏面マスクＭＲを用いて処理対象Ｓｂを露光する。

　このように、露光装置３０によれば、各露光マスクを用いた処理対象Ｓｂに対する露光が終了した後に、巻き取られた処理対象Ｓｂの巻き直しを行うこと、および、巻き直し後の処理対象Ｓｂを巻出部に設置することを省略することが可能である。

　・露光装置３０では、搬送部３４が第１搬送方向ＤＴ１および第２搬送方向ＤＴ２のいずれか一方のみに沿って処理対象Ｓｂを搬送してもよい。例えば、搬送部３４が第１搬送方向ＤＴ１に沿って延び処理対象Ｓｂを搬送する場合には、第１検知部３２Ａを用いて処理対象Ｓｂに対する第１端マスクＭＦＥ１および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われた後に、露光部２１が第１端マスクＭＦＥ１および裏面マスクＭＲを用いて処理対象Ｓｂを露光する。そして、露光後の処理対象Ｓｂを第２搬送ローラー３４Ｂが巻き取る。

　第２搬送ローラー３４Ｂによって巻き取られた処理対象Ｓｂでは、露光前の処理対象Ｓｂに対して処理対象Ｓｂにおける先頭の端部と、後尾の端部とが逆である。そのため、処理対象Ｓｂに対する第１中央マスクＭＦＣ１および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われる際には、第２検知部３２Ｂを用いることが好ましい。

　処理対象Ｓｂに対して第２中央マスクＭＦＣ２および裏面マスクＭＲを用いた露光が行われる際には、処理対象Ｓｂにおける先頭の端部と後尾の端部とが第１端マスクＭＦＥ１を用いた露光が行われる際と同じである。そのため、処理対象Ｓｂに対する第２中央マスクＭＦＣ２および裏面マスクの位置合わせが行われる際には、第１検知部３２Ａが用いられることが好ましい。

　また、処理対象Ｓｂに対して第２端マスクＭＦＥ２および裏面マスクＭＲを用いた露光が行われる際には、処理対象Ｓｂにおける先頭の端部と後尾の端部とが第１中央マスクＭＦＣ１を用いた露光が行われる際と同じである。そのため、処理対象Ｓｂに対する第２端マスクＭＦＥ２および裏面マスクＭＲの位置合わせが行われる際には、第２検知部３２Ｂが用いられることが好ましい。

　このように、露光装置３０によれば、処理対象Ｓｂの搬送方向が第１搬送方向ＤＴ１および第２搬送方向ＤＴ２のいずれかに固定される場合であっても、搬送ローラー３４Ａ，３４Ｂに巻き取られた処理対象Ｓｂの巻き直しを省略することはできる。

　・図２５が示す露光装置２０の構成と、図２６が示す露光装置３０の構成とが組み合わせられてもよい。すなわち、図２５が示す露光装置２０において、搬送部２４が巻出部２４Ａおよび巻取部２４Ｂに代えて、第１回転方向と第２回転方向との両方に回転することが可能に構成された第１搬送ローラー３４Ａと第２搬送ローラー３４Ｂとを備えてもよい。また、露光装置２０は、検知部２２に代えて、各露光部２１に対して、第１搬送ローラー３４Ａと第２搬送ローラー３４Ｂとが並ぶ方向において露光部２１を挟む第１検知部３２Ａおよび第２検知部３２Ｂを備えてもよい。

　こうした露光装置２０によっても、露光装置３０と同様に、処理対象Ｓｂの巻き直しを省略すること、あるいは、処理対象Ｓｂの巻き直し、および、巻き取られた処理対象Ｓｂの設置の両方を省略することが可能である。

　［蒸着マスク用基材］
　・蒸着マスク用基材は、金属層と、金属層に積層された樹脂層とを備えてもよい。この場合には、金属層に樹脂シートを貼り付けることによって、金属層と樹脂層とを備える蒸着マスク用基材を得てもよい。あるいは、金属シートに樹脂層を形成するための塗液を塗布することによって塗膜を形成した後に、塗膜を乾燥させることによって樹脂層を形成してもよい。金属シートが上述した鉄ニッケル系合金から形成される場合には、樹脂シートは、例えばポリイミド樹脂から形成されてよい。

　こうした蒸着マスク用基材を用いて蒸着マスクを製造する際には、まず、蒸着マスク用基材が備える金属層上にレジスト層を形成する。次いで、上述した表面マスクＭＦを用いてレジスト層を露光する。そして、レジスト層を現像することによってレジストマスクを得た後に、レジストマスクを用いて金属層のウェットエッチングを行う。これにより、金属層を貫通する孔を形成する。樹脂層には、レーザー光線を照射することによって、樹脂層を貫通し、かつ、金属層が有する１つの孔に接続する貫通孔を形成することができる。

　蒸着マスク用基材から蒸着マスクを製造する際には、蒸着マスク用基材が含む金属層のなかで、蒸着マスクに対応する部分を囲む部分は、金属層のウェットエッチングによって取り除くことが可能である。これに対して、樹脂層のなかで蒸着マスクに対応する部分を囲む部分は、レーザー光線の照射によって取り除かれてもよいし、金型を用いた打ち抜きによって取り除かれてもよい。

　［蒸着マスクにおける長辺方向の長さ］
　・蒸着マスク１０を用いた蒸着の対象は、一対の電極層のうち、一方の電極層が形成されたガラス基板であってよい。一対の電極層は陽極層および陰極層であり、かつ、一方の電極層は例えば陽極層である。ガラス基板のサイズは、Ｇ６ハーフサイズからＧ１２サイズにまで拡張されることが想定される。Ｇ１２サイズのガラス基板では、長辺方向の長さが４０００ｍｍであり、短辺方向の長さが３３５０ｍｍである。これに対して、Ｇ６サイズのガラス基板では、長辺方向の長さが１８００ｍｍであり、短辺方向の長さが１５００ｍｍである。また、Ｇ６ハーフサイズのガラス基板では、長辺方向の長さが１５００ｍｍであり、短辺方向の長さが９００ｍｍである。

　蒸着マスク１０を用いてガラス基板に蒸着パターンが形成される際には、ガラス基板の短辺方向に対して蒸着マスク１０の長辺方向ＤＬが平行であるように、ガラス基板に対して蒸着マスク１０が位置決めされることが多い。長辺方向ＤＬにおける蒸着マスク１０の長さは、通常、ガラス基板における短辺方向の長さよりも長く設定される。そのため、本開示の蒸着マスク１０における長辺方向ＤＬの長さは、例えば１１００ｍｍ以上３６００ｍｍ以下であってよい。

　［蒸着対象］
　・蒸着対象は、上述したガラス基板に限らない。例えば、折り畳みが可能に構成された有機ＥＬ表示装置が備える表示素子を形成するための蒸着対象は、ガラス基板、ガラス基板上に位置する樹脂層、および、樹脂層上に形成された電極層を備えてよい。電極層は、陽極層であってよい。樹脂層は、樹脂層を形成するための塗液を用いてガラス基板に塗膜を形成した後に、塗膜を硬化させることによって形成されてもよい。あるいは、樹脂層は、ガラス基板に対して樹脂フィルムが貼り付けられることによって形成されてもよい。樹脂層は、例えばポリイミド樹脂から形成されてよい。

　表示素子を形成する際には、樹脂層のうち陽極層が形成された面に、蒸着マスク１０を用いた蒸着が行われる。これにより、樹脂層上に蒸着パターンを形成する。その後、樹脂層に陰極層を形成する。結果として、可撓性を有した樹脂層上に陽極層、蒸着パターン、および、陰極層が形成された積層体を得ることができる。ガラス基板から積層体を剥がす際には、例えばレーザーリフトオフ法などを用いることが可能である。

　なお、蒸着マスク１０を用いて樹脂層上に蒸着パターンを形成する際に、複数の有機ＥＬ表示素子に対応する蒸着パターンを形成した場合には、積層体を断裁すること、および、樹脂層を剥がすことによって、複数の有機ＥＬ表示素子を得ることが可能である。積層体の断裁は、ガラス基板から積層体を剥がした後に行われてもよいし、ガラス基板から積層体を剥がす前に行われてもよい。

　１０…蒸着マスク
　１０Ｃ１…第１中央部
　１０Ｃ２…第２中央部
　１０Ｅ１…第１端部
　１０Ｅ２…第２端部
　２０…露光装置
　２１…露光部
　２２…検知部
　２３…制御部
　２４…搬送部

Claims

　蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光する方法であって、
　前記レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が、単位マスク領域であり、
　前記単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含み、
　前記複数の単位露光領域に含まれる全ての単位露光領域を露光することを含み、
　前記露光することでは、
　前記複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を露光することと、
　前記複数の単位露光領域に含まれる第２の単位露光領域を前記第１の単位露光領域とは異なるタイミングで露光することと、を含む
　露光方法。
　前記露光することは、
　前記単位マスク領域に含まれる全ての単位露光領域を個別に露光することを含む
　請求項１に記載の露光方法。
　前記蒸着マスクは、第１端部と、第２端部と、前記第１端部と前記第２端部とに挟まれる中央部とから構成され、
　前記中央部は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を複数有し、
　前記第１端部および前記第２端部は、前記マスク孔を有さず、
　前記複数の単位露光領域は、
　前記第１端部を形成するための第１露光領域と、
　前記中央部を形成するための第２露光領域と、
　前記第２端部を形成するための第３露光領域から構成される
　請求項２に記載の露光方法。
　前記蒸着マスクは、第１端部と、第２端部と、前記第１端部と前記第２端部とに挟まれる中央部とから構成され、
　前記中央部は、第１中央部と第２中央部とから構成され、
　各中央部は、蒸着パターンを形成するためのマスク孔を複数有し、
　前記第１端部および前記第２端部は、前記マスク孔を有さず、
　前記複数の単位露光領域は、
　前記第１端部を形成するための第１露光領域と、
　前記第１中央部を形成するための第２露光領域と、
　前記第２中央部を形成するための第３露光領域と、
　前記第２端部を形成するための第４露光領域とから構成される
　請求項２に記載の露光方法。
　前記レジスト層は、前記単位マスク領域を複数含み、
　前記複数の単位マスク領域は、第１マスク領域と第２マスク領域とを含み、
　前記露光することは、
　前記第１マスク領域の前記単位露光領域と、前記第２マスク領域の前記単位露光領域とを同時に露光することを含む
　請求項１に記載の露光方法。
　蒸着マスク用基材にレジスト層を形成すること、
　請求項１から５のいずれか一項に記載の露光方法によって前記レジスト層を露光すること、
　前記レジスト層を現像し、これによってレジストマスクを形成すること、および、
　前記レジストマスクを用いて前記蒸着マスク用基材をエッチングすること、を含む
　蒸着マスクの製造方法。
　蒸着マスク用基材上に位置するレジスト層を露光するための露光装置であって、
　前記レジスト層のうち、１枚の蒸着マスクをエッチングによって形成するために用いられる領域が単位マスク領域であり、
　前記単位マスク領域は、複数の単位露光領域を含み、
　前記露光装置は、
　単位露光領域ごとに露光する露光部と、
　前記複数の単位露光領域のなかで、露光済の単位露光領域を検知することが可能に構成された検知部と、
　前記複数の単位露光領域に含まれる第１の単位露光領域を前記露光部に露光させた後に、前記検知部の検知した結果に基づいて、前記レジスト層のうち、前記第１の単位露光領域とは異なる第２の単位露光領域を前記露光部に露光させる制御部と、を備える
　露光装置。
　第１方向に沿って延びる第１長辺と、
　前記第１長辺に平行な第２長辺と、
　前記第１方向に交差する第２方向に沿って延び、前記第１長辺を前記第２長辺に接続する一対の短辺と、を備え、
　前記第１長辺および第２長辺の少なくとも一方が第２方向に沿う段差部を有する
　蒸着マスク。
　前記第１長辺から前記第２長辺に向かう方向が段差方向であり、
　前記第１長辺は、前記段差方向において窪む段差部を有し、
　前記第２長辺は、前記段差方向において突き出る段差部を有し、
　前記第１長辺の前記段差部と前記第２長辺の前記段差部とは、前記短辺が延びる方向において並んでいる
　請求項８に記載の蒸着マスク。
　前記段差部における段差の量が、０．５μｍ以上５μｍ以下である
　請求項９に記載の蒸着マスク。