WO2023204156A1

WO2023204156A1 - 表示装置

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Publication number: WO2023204156A1
Application number: PCT/JP2023/015209
Authority: WO
Inventors: 啓華橋本; 有希増田
Original assignee: 東レ株式会社
Priority date: 2022-04-20
Filing date: 2023-04-14
Publication date: 2023-10-26

Abstract

【課題】ＬＥＤディスプレイ装置は周辺の配線絶縁用絶縁膜や保護膜、隔壁などによる配線隠蔽が不十分で、意匠性が低下する課題を解決する。【解決手段】少なくとも配線、硬化膜及び複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記電極の少なくとも一方は前記硬化膜中に延在する複数本の前記配線と接続し、複数本の前記配線は、前記硬化膜により電気的絶縁性を保持する構成であり、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である、表示装置である。

Description

表示装置

　本発明は、ＬＥＤディスプレイ等の表示装置に関する。

　近年、ディスプレイのさらなる高性能化の観点から、液晶、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイに続く新たなディスプレイ技術として発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ、以後ＬＥＤと呼称する場合がある。）を画素数と同じだけ並べることでディスプレイを構成するＬＥＤディスプレイ、特に光源となるＬＥＤのサイズを従来の１ｍｍ程度から、１００～７００μｍとしたミニＬＥＤディスプレイ、１００μｍ以下まで小型化したマイクロＬＥＤディスプレイが注目を集めており、研究開発が盛んに行われている。ミニＬＥＤディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイの主な特長としては、高コントラスト、高速応答性、低消費電力、広視野角などが挙げられ、従来のテレビやスマートフォン、スマートウォッチをはじめとしたウエアラブルディスプレイ用途だけでなく、サイネージやＡＲ、ＶＲ、さらには空間映像が表示可能な透明ディスプレイといった将来性が高い新たな用途などへの幅広い展開が期待されている。

　ＬＥＤディスプレイ装置について実用化や高性能化に向けて様々な形態が提案されており、多層フレキシブル回路基板にマイクロＬＥＤを配置した形態（特許文献１参照）、ディスプレイ基板にバンク層およびトレース線を設け、その上にマイクロＬＥＤおよびマイクロドライバチップを配置した形態（特許文献２参照）が提案されている。また、電極パッドを備える発光素子本体が一体に形成された成長用基板の上に平坦化膜を形成し、電極パッド上の平坦化膜を除去して電極パッドを露出させ、電極パッドに接続される、外側電極パッドを前記平坦化膜上に形成し、回路側電極部が形成された回路基板に対して、外側電極パッドが回路側電極部と対向するように配置させて前外部電極パッドと回路側電極部とを電気的に接続した形態（特許文献３参照）、などが提案されている。

特開２０１９－１５３８１２号公報特開２０２０－５２４０４号公報特開２０２０－６８３１３号公報

　しかし、上記の文献に記載のＬＥＤディスプレイ装置は周辺の配線絶縁用絶縁膜や保護膜、隔壁などによる配線隠蔽が不十分で、意匠性が低下する課題があった。

　上記課題を解決するため、本発明は次の構成を有する。

　［１］少なくとも配線、硬化膜及び複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記電極の少なくとも一方は前記硬化膜中に延在する複数本の前記配線と接続し、複数本の前記配線は、前記硬化膜により電気的絶縁性を保持する構成であり、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である、表示装置。

　［２］前記硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、７９％以下である、［１］に記載の表示装置。

　［３］前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、２５％以下である、［１］に記載の表示装置。

　［４］前記硬化膜の全体の厚みが５μｍ以上、１００μｍ以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の表示装置。

　［５］前記硬化膜の層数が２層以上１０層以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の表示装置。

　［６］前記硬化膜には厚さ方向に貫通する開口パターンが設けられ、少なくとも前記開口パターンに前記配線を配する構成であり、前記発光素子と接した位置に形成される前記配線の底面部の最長長さが２μｍ以上、２０μｍ以下である、［１］～［５］のいずれかに記載の表示装置。

　［７］前記硬化膜が前記発光素子の光取り出し面以外の面を覆う構成である、［１］～［６］のいずれかに記載の表示装置。

　［８］少なくとも、配線および／またはＴＦＴを有する基板、硬化膜ならびに複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記配線および／またはＴＦＴの少なくとも一部は前記硬化膜と接し、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である、表示装置。

　［９］複数の前記発光素子の間に、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を有する、［１］～［８］のいずれかに記載の表示装置。

　［１０］前記発光素子が１辺の長さが５μｍ以上、７００μｍ以下のＬＥＤである、［１］～［９］のいずれかに記載の表示装置。

　［１１］さらに、駆動素子及び基板を有し、前記駆動素子は配線を通じて前記発光素子に接続され、さらに前記配線の少なくとも一部は、前記基板の側面に延在する、［１］～［１０］のいずれかに記載の表示装置。

　［１２］複数の前記発光素子の間に、遮光層を有する、［１］～［１１］のいずれかに記載の表示装置。

　［１３］前記（Ａ）樹脂が、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体およびそれらの共重合体からなる群より選択される１種以上の樹脂を含有する、［１］～［１２］のいずれかに記載の表示装置。

　［１４］前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｂ）感光剤を含有する、［１］～［１３］のいずれかに記載の表示装置。

　［１５］前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－１）波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、［１］～［１４］のいずれかに記載の表示装置。

　［１６］前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、［１］～［１５］のいずれかに記載の表示装置。

　［１７］前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－３）波長５８０ｎｍを超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、［１］～［１５］のいずれかに記載の表示装置。

　［１８］前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－１）波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤とともに、さらに、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤および（Ｃ－３）波長５８０ｎｍを超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、［１］～［１５］のいずれかに記載の表示装置。

　［１９］前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がポジ型感光性である、［１］～［１８］のいずれかに記載の表示装置。

　本発明の表示装置は配線隠蔽性が高くなり、意匠性が高い表示装置を提供することができる。

本発明の表示装置の第１の態様の一例を示す対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の第１の態様の別の一例を示す対向基板に垂直な面での断面図である。指定領域Ａを拡大した断面図（ａ）および指定領域Ａから発光素子を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｂ）である。指定領域Ｂの発光素子駆動基板側を、対向基板に平行な面で切断した断面図（ａ）、指定領域Ｂの対向基板に対して直交した配線を含まない位置での断面図（ｂ）および指定領域Ｂの対向基板を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｃ）である。隔壁を設けた構成の本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。硬化膜中に駆動素子を配した構成の本発明の表示装置の一態様の対向基板に垂直な面での断面図である。硬化膜中に駆動素子を配した別の構成の本発明の表示装置の一態様の対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の一態様の作製工程を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の別の作製工程の一例を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図である。隔壁を設けた構成の本発明の表示装置の別の作製工程の一例を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の別の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。硬化膜中に隔壁を設けた構成の本発明の表示装置の一態様を示す支持基盤に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の別の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の別の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の別の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。遮光層を設けた構成の本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。硬化膜の開口パターンを示す支持基盤に垂直な面での断面図である。隔壁を設けた構成の本発明の表示装置の一態様の作製工程を示す支持基盤に垂直な面での断面図である。遮光層を設けた構成の本発明の表示装置の一態様の作製工程を示す支持基盤に垂直な面での断面図である。本発明の第２の態様にかかる表示装置の作製工程の一例を示す発光素子駆動基盤に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の一態様を示す対向基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の第２の態様の一例を示す素子駆動基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の第２の態様の一例を示す素子駆動基板に垂直な面での断面図である。本発明の表示装置の第２の態様の一例を示す素子駆動基板に垂直な面での断面図である。異なる接続態様の発光素子を用いた本発明の表示装置の第２の態様の別の一例を示す支持基板に垂直な面での断面図である。本発明の第２の態様にかかる表示装置の作製工程の一例を示す発光素子駆動基板に垂直な面での断面図である。

　以下、本発明の表示装置の好適な実施の形態を具体的に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、目的や用途に応じて種々に変更して実施することができる。

　本発明の表示装置の第１の態様は、少なくとも配線、硬化膜及び複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記電極の少なくとも一方は前記硬化膜中に延在する複数本の前記配線と接続し、複数本の前記配線は、前記硬化膜により電気的絶縁性を保持する構成であり、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である。

　以降の記載においては、第１の態様または後述する第２の態様を特に指定しない場合は、両態様に共通する説明である。

　本発明の第１の態様の表示装置について、図１を一例として説明する。

　図１において、表示装置１は、対向基板５上に複数の発光素子２を配し、発光素子２上に硬化膜３を配する。ここで、発光素子は多面立体形状を有する。多面立体形状とは、複数の面を有する３次元形状であり、少なくとも1対の平行面を有することが好ましく、例えば、四面体、直方体や立方体などの六面体、八面体等が挙げられるが、これらのように規則的な形状に限定されず、これらの形状の頂点や稜に面取りするなどした形状、これらの形状をベースに凹部や溝や段差を有する形状も含まれる。また、ここでプラスマイナス５°のずれは平行と見なし、平行面またはその他の面に凹凸があってもよい。発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する。異なる２つの面に電極をそれぞれ具備するとは、多面立体形状の発光素子において、電極を有する面の１つを基準面としたときに、基準面とは異なる面にその他の電極をそれぞれ有することをいう。ここで、基準面とは、多面立体形状内での連続した範囲の面を示し、空間的に同一面内に存在しても多面立体形状内においては溝で分断されている面は、基準面とは異なる面とする。また、１つの発光素子に着目したときに上記異なる２つの面にそれぞれ具備された電極を、一対の電極と記す場合もある。

　本発明において、発光素子に具備される電極は、発光素子の発光を制御するための信号を配線から発光素子に伝えるための接続部位のことを指す。図１に示す態様では、１つの発光素子に着目したとき、多面立体形状の発光素子に対し、硬化膜３中に延在する配線４と接続する面に一方の電極を有し、対向基板側の面にその他の電極をそれぞれ有する。そして、全体として見たとき、複数の発光素子のそれぞれに設けられた一対の電極のうち一方の電極は硬化膜３中に延在する複数本の配線４とそれぞれが接続されている。

　図１に示す態様では、発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３の上にさらに複数の硬化膜３を積層し合計して３層積層する構成を例示しているが、硬化膜３は単層であってもよい。発光素子２は異なる２つの面に電極６をそれぞれ具備し、一対の電極６の一方が硬化膜３中に延在する配線４と接続されている。なお、硬化膜３中に延在する複数本の配線４は、硬化膜３により隔てられている。このような構造により、複数本の配線４は、硬化膜３により、電気的絶縁性を保持している。前記硬化膜３は、後述する（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜であることが好ましい。

　一対の電極６のうち硬化膜３中に延在する配線４と接続されていない方の電極６は配線４ｄと接続されている。配線４ｄは後述する支持基板上に形成してもよく、対向基板５上に形成してもよい。支持基板上に配線４ｄを形成する場合、支持基板上に仮貼り材料による仮貼り層を形成した後、配線４ｄが形成されていてもよい。電極６と配線４ｄはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。

　また、配線４ｄは硬化膜３より覆われることで、電気的絶縁性を保持する構成となっていてもよく、硬化膜３と配線４ｄで２層以上の積層構造を形成してもよい。配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４と接続してもよく、発光素子２の側面や後述する隔壁１６の側面に配線を配して硬化膜３中に延在する配線４と接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。さらに発光素子２が、対向基板５に対して対向した位置に設けられた発光素子駆動基板７に付加された駆動素子８と、配線４や４ｃを通じて電気的に接続されて、発光素子２の発光を制御させることができる。また、発光素子駆動基板７は、例えばバンプ１０を介して配線４と電気的に接続されている。さらに配線４などの金属の拡散を防止するため、バリアメタル９を配してもよい。なお、以後、図中の配線４ｃは発光素子駆動基板７の側面に形成されてもよく、発光素子駆動基板７を貫通してもよく、また発光素子駆動基板を構成する配線として駆動素子８と接続してもよい。

　図１では、対向基板５と発光素子２の間に配線４ｄと電極６を配し、さらに、硬化膜３が、配線４と電極６に隣接する形で、対向基板５と発光素子２の間に配する態様を例示している。ただし、発光素子２の平面すべてを覆うように配線４と電極６を形成して、対向基板５と発光素子２の間に硬化膜３が配されない形態や、図１に示す配線４と電極６が薄膜に形成されているような場合は、後述する樹脂膜２１が、配線４と電極６の隣にまで入りきれず、対向基板５と発光素子２の間に硬化膜３が形成されずに一部に空洞を生じる形態も本実施形態に含まれるものとする。

　前記硬化膜３は、その硬化膜３の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、９５％以下であることが重要である。これにより、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。

　前記硬化膜３は後述する（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、その硬化膜３の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、７９％以下であることが好ましい。これにより、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。

　前記硬化膜３は後述する（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、その硬化膜３の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、２５％以下であることが好ましい。これにより、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができ、さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　硬化膜３の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％未満となると、硬化前の樹脂膜の感度や解像度が低下するなどの不具合が生じる懸念がある。光の透過率が９５％を超えると配線隠蔽性が低下し、配線のぎらつきの抑制が不十分であり、配線が外部から視認されるなどの不具合が生じる懸念がある。

　硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率の測定については、表示装置の硬化膜を剥離して測定してもよいし、後述する硬化膜の光の透過率の評価方法の条件で作製した硬化膜の光の透過率を測定してもよい。また、硬化膜を複数層形成する場合、いずれの硬化膜を用いて測定してもよい。硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率の測定についても、硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率の測定と同様である。硬化膜の膜厚が１μｍでなかった場合は、ランベルトの法則に従い、測定した透過スペクトルの膜厚を１μｍに換算した値とすればよい。また、硬化膜の膜厚が５μｍでなかった場合も、硬化膜の膜厚が１μｍでなかった場合と同様に、ランベルトの法則に従い換算すればよい。

　配線４、４ｃ、４ｄおよび電極６の材料としては、特に限定されず、金属や導電膜などが挙げられ、公知のものも使用してもよい。

　金属は電子移動度の観点から好ましく、例えば、金や銀、銅、アルミニウム、ニッケル、チタン、モリブデンやこれらを含む合金などが挙げられる。

　これらの金属は、例えば無電解めっき、電解めっき等などの湿式めっき、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤなどのＣＶＤ化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの乾式めっき法、金属箔を基板に結合した後、エッチングを行う方法などにより形成することができる。

　導電膜は透明性などの観点から好ましく、例えば、インジウム、ガリウム、亜鉛、スズ、チタン、およびニオブなどのうちの少なくとも１種の元素の酸化物を主成分として含む化合物や有機物および導電性粒子を含有する感光性導電ペーストなどが挙げられるが、その他公知のものを使用してもよい。インジウム、ガリウム、亜鉛、スズ、チタン、およびニオブなどのうちの少なくとも１種の元素の酸化物を主成分として含む化合物としては、具体的には、酸化インジウム錫亜鉛（ＩＴＺＯ）、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ：ＩｎＧａＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）および酸化インジウム（ＩｎＯ）などが挙げられる。

　これらの導電膜は、例えば無電解めっき、電解めっき等などの湿式めっき、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤなどのＣＶＤ化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの乾式めっき法、金属箔を基板に結合した後、エッチングを行う方法などにより形成することができる。

　有機物および導電性粒子を含有する感光性導電ペーストにおいて、導電性粒子の含有量が６０質量％以上、９０質量％以下であることが好ましい。導電層が有機物を含有することにより、曲面や屈曲部において断線を抑制し、導電性を向上させることができる。導電性粒子の含有量が６０質量％未満であると、導電性粒子同士の接触確率が低くなり、導電性が低下する。また、配線の屈曲部において、導電性粒子同士が乖離しやすくなる。導電性粒子の含有量は好ましくは７０質量％以上である。一方、導電性粒子の含有量が９０質量％を超えると、配線パターンを形成することが困難になるとともに、屈曲部において断線が生じやすくなる。導電性粒子の含有量は好ましくは８０質量％以下である。

　有機物としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル系共重合体、エポキシカルボキシレート化合物等が挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。またウレタン結合を有する有機物を含有してもよい。ウレタン結合を有する有機物を含有することで、配線の柔軟性を向上させることができる。また、有機物は、感光性を示すことが好ましく、フォトリソグラフィにより容易に微細な配線パターンを形成することができる。感光性は、例えば光重合開始剤、不飽和二重結合を有する成分を含有させることにより発現する。

　本発明における導電性粒子とは、電気抵抗率が１０^－５Ω・ｍ以下の物質で構成される粒子を指す。導電性粒子を構成する材料としては、例えば、銀、金、銅、白金、鉛、スズ、ニッケル、アルミニウム、タングステン、モリブデン、クロム、チタン、インジウムやこれら金属の合金、カーボン粒子が挙げられる。また、導電性粒子を２種以上含有することが好ましい。導電性粒子を２種以上含有することにより、後述する熱処理工程において、同種の導電性粒子同士が焼結して体積収縮することを抑制し、結果として導電膜全体としての体積収縮が抑制され、屈曲性を向上させることができる。

　導電性粒子の平均粒子径は０．００５μｍ以上、２μｍ以下であることが好ましい。ここでの平均粒子径とは、２種以上の導電性粒子を含有する場合は、大径粒子の平均粒子径とする。導電性粒子の平均粒子径が０．００５μｍ以上であると、導電性粒子間の相互作用を適度に抑え、導電性粒子の分散状態をより安定に保つことができる。導電性粒子の平均粒子径はより好ましくは０．０１μｍ以上である。一方、導電性粒子の平均粒子径が２μｍ以下であると、所望の配線パターンを形成しやすくなる。導電性粒子の平均粒子径はより好ましくは１．５μｍ以下である。

　導電膜の厚さは２μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましい。導電膜の厚さが２μｍ以上であると、屈曲部における断線をより抑制し、導電性をより向上させることができる。導電膜の厚さはより好ましくは４μｍ以上である。一方、導電膜の厚さが１０μｍ以下であると、製造工程において配線パターンをより容易に形成することができる。導電膜の厚さはより好ましくは８μｍ以下である。

　本発明の表示装置の別の実施態様として、図１０に示すように、図１の表示装置に対し、発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜２１を設けた構成を例示している。発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜２１は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または樹脂シートを硬化した硬化膜から構成されていてもよく、また（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または樹脂シートを硬化した硬化膜以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂など公知のものを使用してもよい。

　本発明において、発光素子駆動基板７は、駆動機能を有する素子などを有する基板などが挙げられ、駆動素子８が接続されていることが好ましい。

　発光素子駆動基板７としては特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ガラス基板、サファイヤ基板、プリント配線板、ＴＦＴアレイ基板、セラミックスなどが挙げられる。ガラス基板、サファイヤ基板については少なくとも１つの面に配線が形成されていてもよい。プリント配線板を用いる場合は、配線４ｃを形成せずに駆動素子８やバンプ１０、配線４などと接続することができる。

　本発明において、硬化膜の全体の厚みが５μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましい。

　硬化膜の全体の厚みが５μｍ以上、１００μｍ以下であることにより、硬化膜３の光の透過率が低いため、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに発光素子を有する表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。その他にも、外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　硬化膜の全体の厚みとは、一の硬化膜の少なくとも一部が他の硬化膜に接する連続した硬化膜の層全体の厚みをいう。例えば前述の図１のように硬化膜３を複数積層した場合は、図１の２０で示した範囲が硬化膜の層全体の厚みである。全体の厚みは好ましくは５μｍ以上、７０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上、６０μｍ以下である。５μｍ未満であると配線の保護が不十分なため、配線の短絡など配線不良の懸念があり、１００μｍを超えると光取り出し効率が不足する懸念があるとともに、表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上という点で不都合を生じる場合がある。

　硬化膜を複数積層する場合、硬化膜の層数が２層以上１０層以下であることが好ましい。
硬化膜は複数の発光素子を配置する観点から、１層以上が好ましく、さらに２層以上とすることで、発光素子と接続可能な配線数を増加させることができるため、複数の発光素子を配置することができ、また、パッケージ低背化や配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化、高速応答性の向上の観点から１０層以下が好ましい。

　本発明において、硬化膜には厚さ方向に貫通する開口パターンが設けられ、少なくとも前記開口パターンに前記配線を配する構成であり、前記発光素子と接した位置に形成される前記配線の底面部の最長長さが２μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。

　図２に、図１の指定領域Ａを拡大した断面図（ａ）および指定領域Ａから発光素子を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｂ）を示す。図２の指定領域Ａを拡大した断面図（ａ）においては、硬化膜３が発光素子２上に設けられている。硬化膜３には開口パターン１２が設けられており、その開口パターン１２に配線４を形成した図を示している。配線４の底面部１３は、配線４が発光素子２の電極６と接した位置まで硬化膜３中に延在し、接した地点での配線４の形態を示している。

　図２の指定領域Ａから発光素子を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｂ）においては、発光素子２を取り去った状態で硬化膜３中に延在した配線４の底面部１３を下方から見た図であり、底面部１３を示している。図２の指定領域Ａの発光素子を除いた底面図（下部分）においては、発光素子２を取り去った状態で硬化膜３に延在した配線４の底面部１３を下方から見た図であり、底面部１３を示している。底面部１３の形状は製品や発光素子の形態により異なる場合があり、円形状の場合は直径を最長長さ１４と定義し、楕円形状の場合は長径を最長長さ１４と定義し、長方形等の多角形の場合は角部の頂点同士を結んだ際の最長の対角線を最長長さ１４と定義する。なお、図２の指定領域Ａから発光素子を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｂ）での底面部１３は円形状の例を示している。

　本構成により、微小な発光素子が適用可能であり、また複数の発光素子の高密度実装が可能となり、幅広いサイズで高解像度な発光素子を有する表示装置を得ることができる。さらに微細な配線を形成することが可能になり、単位面積中で形成できる配線数が増加するため硬化膜全体の厚みを小さくすることができ、硬化膜３の光の透過率が低いため、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに発光素子を有する表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。その他にも、外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　本発明において、発光素子と近接した位置に形成される配線の底面部の最長長さが２μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。かかる本構成を採ることにより、微小な発光素子が適用可能であり、また複数の発光素子の高密度実装が可能となり、幅広いサイズで高解像度な発光素子を有する表示装置を得ることができる。さらに微細な配線を形成することが可能になり、単位面積中で形成できる配線数が増加するため硬化膜全体の厚みを小さくすることができ、硬化膜３の光の透過率が低いため、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに発光素子を有する表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。その他にも、外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　微小な発光素子を適用する、また発光素子の高密度実装化の観点から、配線の底面部の最長長さは、好ましくは２μｍ以上、１５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上、１０μｍ以下、さらに好ましくは、２μｍ以上、５μｍ以下である。２μｍ未満であると発光素子２との接続不良を生じる場合があり、２０μｍを超えると微小な発光素子の適用や高密度実装化に障害となる場合がある。

　硬化膜の厚みは配線の厚みに対して、１．１倍以上２０．０倍以下が好ましい。

　配線の厚みとは、図２の指定領域Ａを拡大した断面図（ａ）で説明すると、硬化膜３の表面に配されている配線４の厚みａを指しており、硬化膜３中の厚さ方向に貫通する開口パターンに延在している配線４ｂの厚みは含まないものとする。配線の厚みは０．１μｍ以上、１０μｍ以下が好ましく、３μｍ以上、１０μｍ以下がより好ましい。配線の厚みを０．１μｍ以上、１０μｍ以下とすることで、発光素子を有する表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。さらに、３μｍ以上、１０μｍ以下とすることで、配線抵抗を低減することができ、消費電力の抑制や輝度向上に寄与することができる。

　硬化膜の厚みとは、図２の指定領域Ａを拡大した断面図（ａ）で説明すると、配線４ａを被覆した硬化膜３ａの厚みを指している。

　これにより、適切な配線に対する保護膜としても作用し、配線の短絡など配線不良を抑制した信頼性に優れた硬化膜を得ることができる。

　配線の厚みは各層で同じであっても、異なっていてもよい。異なっている場合、一例として、図１において、発光素子２に近い配線の厚みに比べ、バンプ１０に近い配線の厚みが厚いことが好ましい。それにより、バンプ１０を用いた発光素子駆動基板７の接続時に配線不良を抑制でき、信頼性の高い表示装置を得ることができる。

　本発明において、前記硬化膜が前記発光素子の光取り出し面以外の面を覆う構成であることが好ましい。なお、光取り出し面とは、発光素子の面の一部が前記硬化膜で覆われている場合であっても、光取り出せる領域があれば光取り出し面であるものとする。

　一例として、図３に、図１の指定領域Ｂの発光素子駆動基板側を、対向基板に平行な面で切断した断面図（ａ）、指定領域Ｂの対向基板に対して直交した配線を含まない位置での断面図（ｂ）および指定領域Ｂの対向基板を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｃ）を示す。

　図３の指定領域Ｂの発光素子駆動基板側を、対向基板に平行な面で切断した断面図（ａ）においては、発光素子２は硬化膜３に覆われており、発光素子の電極６と接続し、硬化膜３中に延在する配線４が上面から示されている。配線４の断面形状は円形でも多角形でもよい。

　図３の対向基板に対して直交した配線を含まない位置での断面図（ｂ）においては、発光素子２の周囲が硬化膜３に覆われていることが示されている。

　図３の指定領域Ｂの対向基板を除いた面を、対向基板側から見た底面図（ｃ）においては、発光素子２は硬化膜３に覆われており、発光素子のもう一方の電極６が下面から示されている。電極６の断面形状は円形でも多角形でもよい。発光素子２は硬化膜３により、電極６を除く部分が覆われていてもよい。この場合、光取り出し面は電極６を配する面となる。

　図１および図３に示すように、発光素子２の側面全部と上面部を硬化膜３で覆う態様とすることにより、発光素子２を外部からの衝撃から保護することができる。また、発光素子２の配置により生じる段差を平坦化することができ、また、対向基板５との貼り合わせが容易になるため好ましい。

　発光素子２の光取り出し面以外の面を覆う硬化膜３は、前述した高い配線隠蔽性を有することにより、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができる。

　本発明の第２の態様にかかる表示装置は、少なくとも、配線および／またはＴＦＴを有する基板、硬化膜ならびに複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記配線および／またはＴＦＴの少なくとも一部は前記硬化膜と接し、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である。

　本発明の第２の態様にかかる表示装置について、図２５を一例として説明する。

　図２５において、表示装置１では、配線および／またはＴＦＴを有する基板の少なくとも一部が硬化膜３と接するように硬化膜３を配する。配線および／またはＴＦＴを有する基板は、例えば発光素子駆動基板７であり、配線４を配したＴＦＴアレイ基板を一例としている。

　次に、硬化膜３の表面の少なくとも一部及び硬化膜３の開口パターンの一部に配線４ｅを配した後、異なる２つの面に電極をそれぞれ具備した発光素子２を配線４ｅ上に配する。

　図２５に示す態様では、多面立体形状の発光素子に対し、配線４ｅと接続する面に一方の電極を有し、対向基板側の面にその他の電極をそれぞれ有することを示す。また、発光素子２の間またはその周囲に硬化膜３を設けた構成を例示している。一対の電極６のうち配線４ｅと接続されていない方の電極６は配線４ｄと接続されている。配線４ｄは対向基板５上に形成してもよい。電極６と配線４ｄはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４と接続してもよく、発光素子２の側面や後述する硬化膜３の側面に配線を配して配線４ｅと接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。さらに発光素子２が、対向基板５に対して対向した位置に設けられた発光素子駆動基板７に付加された駆動素子８と、配線４や４ｃを通じて電気的に接続されて、発光素子２の発光を制御させることができる。また、発光素子駆動基板７は、例えばバンプ１０を介して配線４と電気的に接続されている。さらに配線４などの金属の拡散を防止するため、バリアメタル９を配してもよい。なお、以後図中配線４ｃは発光素子駆動基板７の側面に形成されてもよく、発光素子駆動基板７を貫通してもよく、また発光素子駆動基板を構成する配線として駆動素子８と接続してもよい。

　本発明の第２の態様にかかる表示装置のその他の例としては例えば図２６～図２８に示すような構成が好ましい。

　本発明の第２の態様にかかる表示装置おいては、硬化膜の全体の厚みが１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。硬化膜の全体の厚みが１μｍ以上、２０μｍ以下であることにより、発光素子２から四方に発光した光が硬化膜３中で吸収されることを抑制し、光取り出し効率を高めることができ、輝度を向上させることができる。さらに発光素子を有する表示装置自体の低背化、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。

　本発明の第２の態様において、硬化膜の全体の厚みとは、一の硬化膜の少なくとも一部が他の硬化膜に接する連続した硬化膜の層全体の厚みをいう。例えば前述の図２５の２０で示した範囲が硬化膜の層全体の厚みである。全体の厚みは好ましくは１μｍ以上、～１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上、５μｍ以下である。１μｍ未満であると配線の保護が不十分なため、配線の短絡など配線不良の懸念があり、１０μｍを超えると微細配線の形成が困難になり、配線の短絡など配線不良の点で不都合を生じる場合がある。

　本発明において、複数の前記発光素子の間に、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を有することが好ましい。

　図４に示すように、発光素子２を有する表示装置１の画素数に応じた繰り返しパターン、すなわち各発光素子２間またはその周囲に、隔壁１５を有することが好ましい。電極６と配線４または４ｄはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。この構成により、配線４ｄを含んでもよい対向基板５との貼り合わせが容易になるため好ましい。

　隔壁の厚みは、各発光素子の厚みよりも大きいことが好ましく、具体的には、５μｍ以上、１２０μｍ以下が好ましい。

　隔壁は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜から構成されていてもよく、また（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシロキサンなど公知のものを使用してもよい。これらの材料を使用することで、密着性の優れた隔壁を形成することができる。

　発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させるために、隔壁の側面もしくは隔壁自体に遮光部を設けてもよい。遮光部は例えば黒色顔料などが含まれる部分である。
さらに、発光素子から隔壁方向に発光した光を反射して光の取り出し効率を高めることができ、輝度を向上させるために隔壁の側面に反射部を設けてもよい。反射部は例えば白色顔料などが含まれる部分である。

　複数の前記発光素子の間に、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を、発光素子を覆う前記硬化膜中に配することが好ましい。

　隔壁を設ける別実施態様として、図１１に示すように、発光素子２を覆う硬化膜３中に発光素子２の間またはその周囲に隔壁１５を設けた構成を例示している。

　図１１で示した隔壁は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシロキサンなど公知のものを使用してもよい。これらの材料を使用することで、密着性の優れた隔壁を形成することができる。

　隔壁を配することにより、その後の発光素子を転写する際の目印とすることができること、フォトスペーサーとしても用いることができるため、発光素子転写時の効率を上げることができるため、好ましい。さらに、発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させるために、隔壁の側面もしくは隔壁自体に遮光部を設けてもよい。遮光部は例えば黒色顔料などが含まれる部分である。

　発光素子から隔壁方向に発光した光を反射して光の取り出し効率を高めることができ、輝度を向上させるために隔壁の側面に反射部を設けてもよい。反射部は例えば白色顔料などが含まれる部分である。

　本発明において、発光素子や硬化膜あるいは配線の周囲に光拡散層を設けてもよい。

　本発明において、前記発光素子が１辺の長さが５μｍ以上、７００μｍ以下のＬＥＤであることが好ましく、前記発光素子が１辺の長さが５μｍ以上、１００μｍ以下のＬＥＤであることがさらに好ましい。

　ＬＥＤは、Ｐ型半導体とＮ型半導体が接合されたＰＮ接合により構成され、ＬＥＤに順方向の電圧をかけると、チップ内を電子と正孔が移動し、電流が流れる。その際、電子と正孔が結合することによってエネルギー差が生じ、余剰エネルギーが光エネルギーに変換され、発光する。ＬＥＤから放出される光の波長は、ＧａＮ、ＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｌＰ、ＧａＰなど半導体を構成する化合物によって異なり、この波長の違いが発光色を決定する。また、白色は、２種類以上の色の異なる光を混ぜることによって表示することが一般的であるが、ＬＥＤの場合、赤、緑、青の３原色を混色することにより色の再現性が大幅に改善され、より自然な白色を表示することが可能となる。

　ＬＥＤは形状として砲弾型やチップ型、多角体型などが挙げられるが、ＬＥＤ微小化の観点からチップ型や多角形型が好ましい。また、ＬＥＤの１辺の長さが５μｍ以上、７００μｍ以下であることで、複数のチップを配置できるため好ましく、ＬＥＤの１辺の長さが５μｍ以上、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。

　また、発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する。異なる２つの面とは、２つ以上の面を有する発光素子について、電極を有する面の１つを基準面としたときに、基準面とは異なる面にその他の電極をそれぞれ有することを示す。

　本発明において、電極が発光素子を挟んで向かい合う面にそれぞれ具備することが好ましい。また電極が発光素子の隣り合う面にそれぞれ具備することが好ましい。発光素子の異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する例としては、図１や図２０のように電極６が発光素子２を挟んで向かい合う面で配置した構造などが挙げられ、電極が発光素子の隣り合う面にそれぞれ具備する例としては、図２１のような構造などが挙げられる。電極が発光素子を挟んで向かい合う面にそれぞれ具備する、または電極が発光素子の隣り合う面にそれぞれ有することで、発光素子のサイズの小型化可能となり、低コスト化や高密度実装による高解像度な表示装置を得ることができる。

　また、本発明において、不連続な面に電極をそれぞれ具備することが好ましい。不連続な面とは、連続した面ではなく、段差が存在する面などが挙げられ、例えば図２２～図２４のような構造が挙げられる。不連続な面に電極６を具備することで、発光素子中の発光面積を制御できるとともに、発光素子の生産性や発光効率を向上させることができる。　発光素子の硬化膜３を配した発光素子駆動基板７などの基板への実装方法については、例えばピックアンドプレース法やマストランスファー法などが提案されているが、これらに限定しない。

　発光素子の基板への実装については、例えば、赤色、緑色、青色に発光する発光素子を、マトリクス状に基板の所定の位置へ配列して実装する方法や、赤色や青色に発光する発光素子または紫外線を発光する紫外発光素子などの単一種の発光素子を、基板へ配列して実装する方法などが挙げられる。前者の方法は、それぞれ赤色、緑色、青色に発光する発光素子を用いてもよく、赤色、緑色、青色に発光する発光素子を縦方向にスタックしたようなものを用いてもよい。後者の方法は、発光素子の配列実装を容易にすることができる。この場合、量子ドット等の波長変換材料を利用して、赤色、緑色、青色のサブピクセルを作り、フルカラー表示とすることができる。さらに、２つ以上の複数の発光素子をパッケージ化した後、基板に実装してもよい。

　波長変換材料としては公知のものを使用することができる。
例えば、青色に発光する発光素子を用いる場合、まず、青色に発光する発光素子のみを配列して実装した発光素子アレイ基板を作製し、次に赤色と緑色のサブピクセルに相当する位置に、青色の光により励起して赤色や緑色に波長変換して発光する波長変換層を配列することが好ましい。これにより、青色に発光する発光素子のみを使用して、赤色、緑色、青色のサブピクセルを形成することが可能となる。

　一方、紫外光を放出する紫外発光素子を用いる場合、まず、紫外発光素子のみを配列して実装した発光素子アレイ基板を作製し、赤色、緑色、青色のサブピクセルに相当する位置に、紫外光により励起して赤色、緑色、青色に波長変換して発光する波長変換層を配列することが好ましい。これにより、前述したサブピクセルの色による光の放射角度の違いを抑制することができる。
波長変換層としては公知のものを使用することができ、また必要に応じてカラーフィルター等を使用してもよい。

　本発明における対向基板としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ガラス板、樹脂板、樹脂フィルム、サファイヤ基板、プリント配線板、ＴＦＴアレイ基板、セラミックスなどが挙げられる。ガラス板の材質としては、無アルカリガラスが好ましい。樹脂板および樹脂フィルムの材質としては、ポリエステル、（メタ）アクリルポリマ、透明ポリイミド、ポリエーテルスルフォン等が好ましい。ガラス板および樹脂板の厚みは、１ｍｍ以下が好ましく、０．８ｍｍ以下が好ましい。樹脂フィルムの厚みは、１００μｍ以下が好ましい。

　本発明の表示装置は駆動素子を具備し、発光素子が駆動素子と硬化膜中に延在する配線を通じて電気的に接続されていることが好ましい。表示装置が駆動素子を具備し、発光素子が駆動素子と硬化膜中に延在する配線を通じて電気的に接続されていることで、１個または複数の発光素子を個別にスイッチング駆動することができる。駆動素子としてはドライバーＩＣなどが挙げられ、ドライバーＩＣは機能別に１個または複数の発光素子や赤、青、緑などからなる複数個の発光素子をパッケージしたものに対して１個または複数個使用してもよい。

　駆動素子の配置の構成態様として図５に示すように、硬化膜３中に駆動素子８を対向基板５上に発光素子２の近傍に配置する構成が好ましい。また、図６に示すように、駆動素子８を発光素子２の上方の位置で、硬化膜３中に配置する構成も好ましい。
これにより、配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化の抑制、高速応答性の向上が可能になる。

　本発明において、さらに、駆動素子及び基板を有し、前記駆動素子は配線を通じて前記発光素子に接続され、さらに前記配線の少なくとも一部は、前記基板の側面に延在することが好ましい。駆動素子及び基板を有し、駆動素子は配線を通じて発光素子に接続され、さらに配線の少なくとも一部は、基板の側面に延在することで、複数の発光素子を個別にスイッチング駆動することができるとともに、表示装置自体の低背化や高速応答性が向上し、さらに表示装置をより小型化、狭額縁化することができる。

　基板としては発光素子駆動基板７と同様に特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ガラス基板、サファイヤ基板、ＴＦＴアレイ基板、セラミックスなどが挙げられる。少なくとも一部は基板の側面に延在する配線は、その構成態様としては例えば図１や図４、図１２～図１４の４ｃに示すように配置する構成が好ましい。

　本発明において、さらに、複数の発光素子の間に、遮光層を有することが好ましい。複数の発光素子の間に、遮光層を有することで、光取り出し効率を大きく損なうことなく、発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させることができる。

　遮光層は、（Ａ）樹脂および（Ｅ）着色材を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜から構成されていてもよく、また（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシロキサンなど公知のものを使用してもよい。（Ｅ）着色材としては、黒色顔料を用いてもよく、例えば、カーボンブラック、ペリレンブラック、アニリンブラック等の黒色有機顔料、グラファイト、およびチタン、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属微粒子、金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物等の無機顔料が挙げられる。また、赤色顔料および青色顔料や必要に応じて黄色顔料やその他の顔料を組み合わせて黒色としてもよい。また染料を用いてもよい。着色材は２種以上含有してもよい。

　（Ａ）樹脂および（Ｅ）着色材を含む樹脂組成物に感光性を付与してもよく、後述の（Ｂ）感光剤を用いてもよい。

　（Ａ）樹脂および（Ｅ）着色材を含む樹脂組成物の製造方法としては、例えば、分散機を用いて（Ａ）樹脂、（Ｅ）着色材、必要に応じて分散剤および有機溶剤を含有する樹脂溶液を分散させて、着色材濃度の高い着色材分散液を調製し、さらに（Ａ）樹脂や、必要に応じて感光剤などの他の成分を添加して撹拌する方法が好ましい。必要に応じて濾過を行ってもよい。

　分散機としては、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー、３本ロールミル、高速度衝撃ミルなどが挙げられる。これらの中でも、分散効率化および微分散化のため、ビーズミルが好ましい。ビーズミルとしては、例えば、コボールミル、バスケットミル、ピンミル、ダイノーミルなどが挙げられる。ビーズミルに用いるビーズとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ、ジルコンビーズが挙げられる。ビーズミルのビーズ径は、０．０３ｍｍ以上、１．０ｍｍ以下が好ましい。（Ｅ）着色材の一次粒子径および一次粒子が凝集して形成された二次粒子の粒子径が小さい場合には、径が０．０３ｍｍ以上、０．１０ｍｍ以下の微小なビーズを用いることが好ましい。この場合には、微小なビーズと分散液とを分離することが可能な、遠心分離方式によるセパレーターを備えるビーズミルが好ましい。一方で、サブミクロン程度の粗大な粒子を含む着色材を分散させる場合には、十分な粉砕力を得るために、径が０．１０ｍｍ以上のビーズを用いることが好ましい。

　（Ａ）樹脂および（Ｅ）着色材を含む樹脂組成物は、各種基板に塗布、乾燥後、加熱処理により、遮光層を得ることができる。感光性を有する場合は、後述の化学線を照射して露光後、後述の現像および加熱処理によりパターニングされた遮光層を得ることができる。

　遮光層の厚みは０．１μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましい。遮光層の厚みが０．１μｍ以上であると、発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させることができる。遮光層の厚みはより好ましくは０．５μｍ以上である。一方、配線の厚さが５μｍ以下であると、光取り出し効率を大きく損なうことなく、発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させることができる。遮光層の厚みはより好ましくは４μｍ以下である。

　遮光層は厚み０．７ｍｍの無アルカリガラス上に膜厚１．０μｍとなるように着色膜を形成し、ガラス面からの色度を測定した反射色度値（ａ＊、ｂ＊）が、－０．５≦ａ＊≦１．０かつ－１．０≦ｂ＊≦０．５となることが好ましく、－０．５≦ａ＊≦０．５かつ－１．０≦ｂ＊≦０．４となることが好ましい。反射色度は着色膜に映り込んだ像の色調の指標となり、（ａ＊、ｂ＊）＝（０．０、０．０）に近いほど、無彩色な反射色調と言える。一方、液晶表示装置や有機ＥＬディスプレイの黒表示の反射色調は一般的にｂ＊が負の値となり、青みの色調であるため、表示装置に用いられる加飾膜としてはｂ＊が負の値となることが好ましい。

　着色膜の反射色度（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）は、白色校正板（ＣＭ－Ａ１４５；コニカミノルタ（株）製）で校正した分光測色計（ＣＭ－２６００ｄ；コニカミノルタ（株）製）を用い、標準光源Ｄ６５（色温度６５０４Ｋ）、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、大気圧下、２０℃の測定条件下で透明基材から入射させた光に対する全反射色度（ＳＣＩ）を測定することで得られる。

　遮光層の構成態様としては例えば図１５の２５に示すように配置する構成が好ましい。遮光層２５は発光素子２と接してもよく、離れていてもよい。

　本発明において、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜について、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、９５％以下である。これにより、前述した高い配線隠蔽性を有することにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができる。

　硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、７９％以下であることが好ましい。これにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができる。

　硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、２５％以下であることが好ましい。これにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができ、さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％未満となると、硬化前の樹脂膜の感度や解像度が低下するなどの不具合が生じる懸念がある。光の透過率が９５％を超えると配線隠蔽性が低下し、配線のぎらつきの抑制が不十分であり、外部から視認されるなどの不具合が生じる懸念がある。

　また、（Ａ）樹脂は耐熱性が高いものが好ましく、具体的には熱処理時や熱処理後の１６０℃以上の高温下において樹脂劣化が少ないものが好ましい。そのような硬化膜は表示装置として用いられる硬化膜、例えば絶縁膜、保護膜および隔壁などとして優れた特性の１つである、アウトガス量が少なくなるため好ましい。

　（Ａ）樹脂は露光、現像により所望の開口パターンを形成する観点から、硬化前は露光波長における光の透過率が高いものが好ましい。
そのような特性を得るためには、例えば樹脂の芳香環由来の共役鎖を短くするか、分子内や分子間の電荷移動を小さくすることが好ましい。

　配線の保護のため、厚み１０μｍ以上の厚膜でも加工性が優れることが好ましい。

　（Ａ）樹脂は特に限定されないが、環境負荷低減の観点からアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。アルカリ可溶性とは、γ－ブチロラクトンに樹脂を溶解した溶液をシリコンウエハ上に塗布し、１２０℃で４分間プリベークを行って膜厚１０μｍ±０．５μｍのプリベーク膜を形成する。ここで、プリベークとは塗布後に加熱乾燥する工程であり、プリベーク膜とは加熱乾燥を経て得られた膜をいう。またプリベーク膜は樹脂膜と同義である。次に、該プリベーク膜を２３±１℃の２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に１分間浸漬した後、純水でリンス処理したときの膜厚減少を求める。上記プリベーク膜の溶解速度が５０ｎｍ／分以上であるものについてアルカリ可溶性であると定義する。

　前記（Ａ）樹脂は、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体およびそれらの共重合体からなる群より選択される１種以上の樹脂を含有することが好ましい。前記（Ａ）樹脂は、これらの樹脂を単独で含有してもよく、また複数の樹脂を組み合わせて含有してもよい。

　ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体について説明する。

　ポリイミドはイミド環を有するものであれば、特に限定されない。またポリイミド前駆体は、脱水閉環することによりイミド環を有するポリイミドとなる構造を有していれば、特に限定されず、ポリアミド酸やポリアミド酸エステルなどを含有することができる。ポリベンゾオキサゾールはオキサゾール環を有するものであれば、特に限定されない。ポリベンゾオキサゾール前駆体は、脱水閉環することによりベンゾオキサゾール環を有するポリベンゾオキサゾールとなる構造を有していれば、特に限定されず、ポリヒドロキシアミドなどを含有することができる。

　ポリイミドは一般式（１）で表される構造単位を有し、ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体は下記一般式（２）で表される構造単位を有し、ポリベンゾオキサゾールは一般式（３）で表される構造単位を有する。これらを２種以上含有してもよいし、一般式（１）で表される構造単位、一般式（２）で表される構造単位、一般式（３）で表される構造単位を共重合した樹脂を含有してもよい。

　一般式（１）中、Ｖは炭素数４～４０の４～１０価の有機基、Ｗは炭素数４～４０の２～８価の有機基を表す。ａおよびｂは、それぞれ０～６の整数を表す。Ｒ^１およびＲ^２は水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基およびチオール基からなる群より選ばれる基を表し、複数のＲ^１およびＲ^２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（２）中、ＸおよびＹは、それぞれ独立に炭素数４～４０の２～８価の有機基を表す。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に水素原子、または炭素数１～２０の１価の有機基を表す。ｃおよびｄは、それぞれ０～４の整数、ｅおよびｆは、それぞれ０～２の整数を表す。

　一般式（３）中、ＴおよびＵは、それぞれ独立に炭素数４～４０の２～８価の有機基を表す。

　（Ａ）樹脂にアルカリ可溶性を持たせるために、一般式（１）はａ＋ｂ＞０であることが好ましい。また、一般式（２）はｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＞０であることが好ましい。一般式（２）において、ポリイミド前駆体の場合は、一般式（２）中のＸ、Ｙは芳香族基を有することが好ましい。さらには、一般式（２）中のＸは芳香族基を有し、ｅ＞２であって、芳香族アミド基のオルト位にカルボキシ基またはカルボキシエステル基を有し、脱水閉環することによりイミド環を形成する構造となる。

　一般式（２）において、ポリベンゾオキサゾール前駆体の場合は、一般式（２）中のＸは芳香族基を有し、ｄ＞０であって、芳香族アミド基のオルト位にヒドロキシル基を有し、脱水閉環することによりベンゾオキサゾール環を形成する構造となる。

　（Ａ）樹脂における、一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される構造単位の繰り返し数ｎは、５～１００，０００であることが好ましく、１０～１００，０００であることがより好ましい。

　（Ａ）樹脂は、一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される構造単位に加えて、他の構造単位を有してもよい。他の構造単位としては、例えば、カルド構造、シロキサン構造などが挙げられるが、これらに限定されない。この場合、一般式（１）または一般式（２）で表される構造単位を、主たる構成単位とすることが好ましい。ここで主たる構成単位とは全構造単位数のうち一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される構造単位を５０モル％以上有することをいい、７０モル％以上有することがより好ましい。

　上記一般式（１）中、Ｖ－（Ｒ^１）_ａ、上記一般式（２）中、（ＯＨ）_ｃ－Ｘ－（ＣＯＯＲ^３）_ｅおよび上記一般式（３）中のＴは酸の残基を表す。Ｖは炭素数４～４０の４価～１０価の有機基であり、なかでも芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数４～４０の有機基が好ましい。ＸおよびＴは炭素数４～４０の２価～８価の有機基であり、なかでも芳香族環、または脂肪族基を含有する炭素原子数４～４０の有機基が好ましい。

　酸の残基を構成する酸成分としては、ジカルボン酸の例としてテレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ビス（カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビフェニルジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、トリフェニルジカルボン酸、スベリン酸、ドデカフルオロスベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ヘキサデカフルオロセバシン酸、１，９－ノナン二酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、ヘキサデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、ヘンエイコサン二酸、ドコサン二酸、トリコサン二酸、テトラコサン二酸、ペンタコサン二酸、ヘキサコサン二酸、ヘプタコサン二酸、オクタコサン二酸、ノナコサン二酸、トリアコンタン二酸など、トリカルボン酸の例としてトリメリット酸、トリメシン酸、ジフェニルエーテルトリカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸など、テトラカルボン酸の例としてピロメリット酸、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン、１，１－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）メタン、ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）メタン、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エーテル、１，２，５，６－ナフタレンテトラカルボン酸、９，９－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス｛４－（３，４－ジカルボキシフェノキシ）フェニル｝フルオレン、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，５，６－ピリジンテトラカルボン酸、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンおよび下記に示した構造の芳香族テトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸などを挙げることができるが、これらに限定されない。これらを２種以上用いてもよい。

　式中、Ｒ^１７は酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、またはＣ（ＣＨ_３）_２を表す。Ｒ^１８およびＲ^１９は水素原子、または水酸基を表す。

　これらの酸は、そのまま、あるいは酸無水物、ハロゲン化物、活性エステルとして使用できる。

　上記一般式（１）中のＷ－（Ｒ^２）_ｂ、上記一般式（２）中の（ＯＨ）_ｄ－Ｙ－（ＣＯＯＲ^４）_ｆおよび上記一般式（３）中のＵはジアミンの残基を表す。Ｗ、ＹおよびＵは炭素数４～４０の２～８価の有機基であり、なかでも芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数４～４０の有機基が好ましい。

　ジアミンの残基を構成するジアミンの具体的な例としては、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）メチレン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）フルオレンなどのヒドロキシル基含有ジアミン、３－スルホン酸－４，４’－ジアミノジフェニルエーテルなどのスルホン酸含有ジアミン、ジメルカプトフェニレンジアミンなどのチオール基含有ジアミン、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、３，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、ベンジン、ｍ－フェニレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン、１，５－ナフタレンジアミン、２，６－ナフタレンジアミン、ビス（４－アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（３－アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス｛４－（４－アミノフェノキシ）フェニル｝エーテル、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ジエチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’－ジエチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’，３，３’－テトラメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’，４，４’－テトラメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノビフェニルなどの芳香族ジアミンや、これらの芳香族環の水素原子の一部を、炭素数１～１０のアルキル基やフルオロアルキル基、ハロゲン原子などで置換した化合物、２，４－ジアミノ－１，３，５－トリアジン（グアナミン）、２，４－ジアミノ－６－メチル－１，３，５－トリアジン（アセトグアナミン）、２，４－ジアミノ－６－フェニル－１，３，５－トリアジン（ベンゾグアナミン）などの含窒素複素芳香族環を有するジアミン、１，３－ビス（３－アミノプロピル）－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ビス（ｐ－アミノフェニル）－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ビス（ｐ－アミノフェネチル）－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，７－ビス（ｐ－アミノフェニル）－１，１，３，３，５，５，７，７－オクタメチルテトラシロキサンなどのシリコーンジアミン、シクロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロヘキシルアミンなどの脂環式ジアミンおよび下記に示した構造のジアミンなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。

　式中、Ｒ^２０は酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、またはＣ（ＣＨ_３）_２を表す。Ｒ^２１～Ｒ^２４はそれぞれ独立に水素原子、または水酸基を表す。

　その中で、アルカリ現像性や（Ａ）樹脂、その硬化膜の透過率を向上させる観点から以下に示した構造のジアミンを少なくとも１つ以上含有することが好ましい。

　式中、Ｒ^２０は酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、またはＣ（ＣＨ_３）_２を表す。Ｒ^２１～Ｒ^２２はそれぞれ独立に水素原子、または水酸基を表す。

　これらのジアミンは、ジアミンとして、またはジアミンにホスゲンと反応させて得られるジイソシアネート化合物、トリメチルシリル化ジアミンとして使用できる。

　（Ａ）樹脂は、アルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基を含有することが好ましい。これらの基は脂肪族環を含んでいてもよい。アルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基としては、一般式（４）で表される基が特に好ましい。

　一般式（４）中、Ｒ^５～Ｒ^８はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^９～Ｒ^１６はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、または炭素数１～６のアルキル基を表す。ただし、括弧内に表される構造はそれぞれ異なる。ｇ、ｈ、ｉはそれぞれ独立に０～３５の整数を表し、ｇ＋ｈ＋ｉ＞０である。

　一般式（４）で表される基としては、例えばエチレンオキシド基、プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基などが挙げられ、直鎖状、分岐状、および環状のいずれでもよい。

　（Ａ）樹脂が、アルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基を有することにより、（Ａ）樹脂、およびその硬化膜の機械特性、特に伸度を向上させ、さらに硬化前後の４５０ｎｍにおける光の透過率を向上させることができる。

　（Ａ）樹脂は、前記一般式（１）におけるＷまたは一般式（２）におけるＹに、前記のアルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基を含有することが好ましい。これにより、（Ａ）樹脂、およびその硬化膜の機械特性、特に伸度を向上させ、さらに硬化前後の４５０ｎｍにおける光の透過率を向上させることができるとともに、樹脂組成物の硬化膜における低温加熱処理での閉環促進による高耐薬品性、基板金属との高い密着性、恒温恒湿試験（ＨＡＳＴ）対する耐性を得ることができる。

　アルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基を含有するジアミンの具体例としては、エチレンジアミン、１，３－ジアミノプロパン、２－メチル－１，３－プロパンジアミン、１，４－ジアミノブタン、１，５－ジアミノペンタン、２－メチル－１，５－ジアミノペンタン、１，６－ジアミノヘキサン、１，７－ジアミノヘプタン、１，８－ジアミノオクタン、１，９－ジアミノノナン、１，１０－ジアミノデカン、１，１１－ジアミノウンデカン、１，１２－ジアミノドデカン、１，２－シクロヘキサンジアミン、１，３－シクロヘキサンジアミン、１，４－シクロヘキサンジアミン、１，２－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，３－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、４，４’－メチレンビス（２－メチルシクロヘキシルアミン）、ＫＨ－５１１、ＥＤ－６００、ＥＤ－９００、ＥＤ－２００３、ＥＤＲ－１４８、ＥＤＲ－１７６、Ｄ－２００、Ｄ－４００、Ｄ－２０００、ＴＨＦ－１００、ＴＨＦ－１４０、ＴＨＦ－１７０、ＲＥ－６００、ＲＥ－９００、ＲＥ－２０００、ＲＰ－４０５、ＲＰ－４０９、ＲＰ－２００５、ＲＰ－２００９、ＲＴ－１０００、ＨＥ－１０００、ＨＴ－１１００、ＨＴ－１７００、（以上商品名、ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）などが挙げられる。

　また、これらのジアミン中に、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＨ－、－ＮＣＨ_３－、－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＮＨ－などの結合を含んでもよい。

　アルキレン基およびアルキレンエーテル基から選ばれた基を含有するジアミン残基は、全ジアミン残基中、５モル％以上含まれることが好ましく、１０モル％以上含まれることがより好ましい。また、全ジアミン残基中、４０モル％以下含まれることが好ましく、３０モル％以下含まれることがより好ましい。上記範囲とすることにより、アルカリ現像液での現像性を高めるとともに、（Ａ）樹脂、およびその硬化膜の機械特性、特に伸度を向上させ、さらに硬化後の４５０ｎｍにおける光の透過率を向上させることができるとともに、樹脂組成物の硬化膜における低温加熱処理での閉環促進による高耐薬品性、金属表面との高い密着性、恒温恒湿試験（ＨＡＳＴ）に対する耐性を得ることができる。

　耐熱性を低下させない範囲で、脂肪族ポリシロキサン構造を有するジアミン残基を共重合してもよい。脂肪族ポリシロキサン構造を有するジアミン残基を共重合することで基板との接着性を向上させることができる。具体的には、ジアミン成分として、ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、ビス（ｐ－アミノフェニル）オクタメチルペンタシロキサンなどを全ジアミン残基中の１～１５モル％共重合したものなどが挙げられる。この範囲で共重合させることが、シリコンウエハなどの基板との接着性向上の点、および、アルカリ溶液へ溶解性を低下させない点で好ましい。

　（Ａ）樹脂の末端を、酸性基を有するモノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸により封止することで、主鎖末端に酸性基を有する樹脂を得ることができる。酸性基を有するモノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸としては公知のものを使用してもよく、複数使用してもよい。

　上記モノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸などの末端封止剤の含有量は、（Ａ）樹脂を構成する酸成分およびアミン成分の総和１００モル％に対して、２～２５モル％が好ましい。

　（Ａ）樹脂は、重量平均分子量が１０，０００以上１００，０００以下であることが好ましい。重量平均分子量が１０，０００以上であれば、硬化後の硬化膜の機械特性を向上させることができる。より好ましくは重量平均分子量が２０，０００以上である。一方、重量平均分子量が１００，０００以下であれば、各種現像液による現像性を向上させることができ、さらに重量平均分子量が５０，０００以下であれば、アルカリ溶液による現像性を向上させることができるため好ましい。

　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用いて確認できる。例えば展開溶剤をＮ－メチル－２－ピロリドン（以下、ＮＭＰと省略する場合がある）として測定し、ポリスチレン換算で求めることができる。

　（Ａ）樹脂の含有量は溶剤を含む全含有成分１００質量％のうち、３～５５質量％とすることが好ましく、５～４０質量％とすることがさらに好ましい。前記範囲とすることで、スピン塗布またはスリット塗布を行う上で適切な粘度とすることができる。

　その他に、フェノール樹脂、アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性モノマーをモノマー単位として含む重合体、例えばポリヒドロキシスチレンやアクリル等、シロキサンポリマー、環状オレフィン重合体、およびカルド樹脂などを用いてもよい。これらの樹脂公知のものを使用してもよく、また単独で用いてもよく、複数の樹脂を組み合わせて用いてもよい。

　なお、フェノール樹脂は透過率を低下させる観点から、フェノール化合物と芳香族アルデヒド化合物からなる全芳香族フェノール樹脂が好ましい。

　本発明において、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物は、（Ｂ）感光剤（以下、（Ｂ）成分と呼称する場合がある）を含有することが好ましい。

　（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｂ）感光剤を含有することで、樹脂組成物に感光性を付与し、微細な開口パターンを形成することができるので好ましい。

　（Ｂ）感光剤は、紫外線に感応して化学構造が変化する化合物であり、例えば、光酸発生剤、光塩基発生剤、光重合開始剤などを挙げることができる。（Ｂ）成分として光酸発生剤を用いた場合は、感光性樹脂組成物の光照射部に酸が発生し、光照射部のアルカリ現像液に対する溶解性が増大するため、光照射部が溶解するポジ型のパターンを得ることができる。

　（Ｂ）感光剤として光塩基発生剤を含有する場合は、樹脂組成物の光照射部に塩基が発生し、光照射部のアルカリ現像液に対する溶解性が低下するため、光照射部が不溶化するネガ型のパターンを得ることができる。

　（Ｂ）感光剤として光重合開始剤を含有する場合は、樹脂組成物の光照射部にラジカルが発生してラジカル重合が進行し、アルカリ現像液に対して不溶化することで、ネガ型のパターンを形成することができる。また、露光時のＵＶ硬化が促進されて、感度を向上させることができる。

　本発明において、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜について、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上、９５％以下である。これにより、硬化膜が前述した高い配線隠蔽性を有することにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができる。光の透過率が０．１％未満となると、硬化前の樹脂膜の感度や解像度が低下するなどの不具合が生じる懸念がある。光の透過率が９５％を超えると配線隠蔽性が低下し、配線のぎらつきの抑制が不十分であり、外部から視認されるなどの不具合が生じる懸念がある。

　そのような特性を得るためには、（Ｂ）感光剤は（Ｂ）感光剤自体が波長４５０ｎｍにおける光の透過率が低く、加熱処理により構造変化が少ないものや、（Ｂ）感光剤と（Ａ）樹脂や熱架橋剤等との反応生成物の光の透過率が低いもの、（Ｂ）感光剤の分解生成物自身もしくは分解性生成物由来の反応生成物の光の透過率が低いものが好ましい。

　微細加工性の観点から、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物は、ポジ型感光性をであることが好ましい。さらに、（Ａ）樹脂および（Ｂ）感光剤を含む樹脂組成物は、ポジ型感光性を有することが好ましい。

　上記した（Ｂ）感光剤の中で、高い配線隠遮性や高感度で微細加工性の観点から、光酸発生剤が好ましい。光酸発生剤としては、キノンジアジド化合物、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩などが挙げられる。さらに増感剤などを必要に応じて含むことができる。

　キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有した化合物にナフトキノンジアジドのスルホン酸がエステルで結合した化合物が好ましい。ここで用いられるフェノール性水酸基を有する化合物としては、公知のものを使用してもよく、それらに４－ナフトキノンジアジドスルホン酸あるいは５－ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル結合で導入したものが好ましいものとして例示することができるが、これ以外の化合物を使用することもできる。

　また、フェノール性水酸基を有した化合物の官能基全体の５０モル％以上がキノンジアジドで置換されていることが好ましい。５０モル％以上置換されているキノンジアジド化合物を使用することで、キノンジアジド化合物のアルカリ水溶液に対する親和性が低下する。その結果、未露光部の樹脂組成物のアルカリ水溶液に対する溶解性は大きく低下する。さらに、露光によりキノンジアジドスルホニル基がインデンカルボン酸に変化し、露光部の感光性樹脂組成物のアルカリ水溶液に対する大きな溶解速度を得ることができる。すなわち、結果として組成物の露光部と未露光部の溶解速度比を大きくして、高い解像度でパターンを得ることができる。

　このようなキノンジアジド化合物を含有することで、一般的な水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）やそれらを含むブロードバンドに感光するポジ型の感光性を有する樹脂組成物を得ることができる。また、（Ｂ）感光剤は１種のみ含有しても、２種以上組み合わせて含有してもよく、高感度な樹脂組成物を得ることができる。

　キノンジアジドとしては、５－ナフトキノンジアジドスルホニル基、４－ナフトキノンジアジドスルホニル基、同一分子中に４－ナフトキノンジアジドスルホニル基および５－ナフトキノンジアジドスルホニル基を含むものなどが挙げられる。

　ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物としては５－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物（Ｂ－１）および４－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物（Ｂ－２）などが挙げられるが、本発明においては（Ｂ－２）化合物を含むことが好ましい。（Ｂ－２）化合物は水銀灯のｉ線領域の吸収が大きく、ｉ線露光に適している。また、硬化時に（Ｂ－２）化合物の分解や（Ａ）樹脂などと反応することにより着色することで、４５０ｎｍにおける光の透過率を下げることができるため、加熱処理後の光透過率の観点から好ましい。感光剤は（Ｂ－２）化合物のみの単独成分である場合か、または他の成分との混合である場合は、（Ｂ－２）化合物が４６質量％以上含まれることが好ましい。（Ｂ－１）化合物と（Ｂ－２）化合物の混合物である場合、（Ｂ－２）化合物の含有比率としては全感光剤量である（Ｂ－１）化合物＋（Ｂ－２）化合物に対し、４６質量％以上１００質量％以下であることが好ましい。この含有比率とすることにより、光の透過率の低い硬化膜を得ることができる。

　キノンジアジド化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物と、キノンジアジドスルホン酸化合物とのエステル化反応によって、公知の方法により合成することができる。キノンジアジド化合物を使用することで解像度、感度、残膜率がより向上する。

　（Ｂ）感光剤の分子量は、熱処理により得られる膜の耐熱性、機械特性および接着性の点から、好ましくは３００以上、より好ましくは３５０以上であり、好ましくは３，０００以下、より好ましくは１，５００以下である。

　（Ｂ）感光剤のうち、スルホニウム塩、ホスホニウム塩およびジアゾニウム塩は、露光によって発生した酸成分を適度に安定化させるため好ましい。中でもスルホニウム塩が好ましい。

　（Ｂ）感光剤の含有量は、（Ａ）樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１００質量部以下が好ましい。（Ｂ）感光剤の含有量が０．１質量部以上１００質量部以下であれば、熱処理後の膜の耐熱性、耐薬品性および機械特性を維持しつつ、感光性を付与することができる。

　（Ｂ）感光剤がキノンジアジド化合物を含有する場合、（Ｂ）感光剤の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、１質量部以上がより好ましく、３質量部以上がさらに好ましい。また、１００質量部以下がより好ましく、８０質量部以下がさらに好ましい。１質量部以上１００質量部以下であれば、熱処理後の膜の耐熱性、耐薬品性および機械特性を維持しつつ、感光性を付与することができる。

　（Ｂ）感光剤がスルホニウム塩、ホスホニウム塩またはジアゾニウム塩を含有する場合、（Ｂ）感光剤の含有量は、（Ａ）樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上がより好ましく、１質量部以上がさらに好ましく、３質量部以上が特に好ましい。また、１００質量部以下がより好ましく、８０質量部以下がさらに好ましく、５０質量部以下が特に好ましい。０．１質量部以上１００質量部以下であれば、熱処理後の膜の耐熱性、耐薬品性および機械特性を維持しつつ、感光性を付与することができる。

　（Ｂ）感光剤として光塩基発生剤を含有する場合、光塩基発生剤として、具体的には、アミド化合物、アンモニウム塩などが挙げられる。

　アミド化合物としては、例えば、２－ニトロフェニルメチル－４－メタクリロイルオキシピペリジン－１－カルボキシラート、９－アントリルメチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバメート、１－（アントラキノン－２イル）エチルイミダゾールカルボキシラート、（Ｅ）－１－［３－（２－ヒドロキシフェニル）－２－プロペノイル］ピペリジンなどが挙げられる。

　アンモニウム塩としては、例えば、１，２－ジイソプロピル－３－（ビスジメチルアミノ）メチレン）グアニジウム２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオナート、（Ｚ）－｛［ビス（ジメチルアミノ）メチリデン］アミノ｝－Ｎ－シクロヘキシルアミノ）メタニミニウムテトラキス（３－フルオロフェニル）ボラート、１，２－ジシクロヘキシル－４，４，５，５－テトラメチルビグアニジウムｎ－ブチルトリフェニルボラートなどが挙げられる。

　（Ｂ）感光剤として光塩基発生剤を含有する場合、樹脂組成物における（Ｂ）感光剤の含有量は、（Ａ）樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、０．７質量部以上がさらに好ましく、１質量部以上が特に好ましい。含有量が上記範囲内であると、露光時の感度を向上させることができる。一方、含有量は、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましく、１７質量部以下がさらに好ましく、１５質量部以下が特に好ましい。含有量が上記範囲内であると、現像後の解像度を向上させることができる。

　（Ｂ）感光剤として、光重合開始剤を含有する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンジルケタール系光重合開始剤、α－ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α－アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、芳香族ケトエステル系光重合開始剤または安息香酸エステル系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤が好ましく、それぞれ公知のものを使用してもよく、複数使用してもよい。この中で、露光時の感度向上の観点から、α－ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α－アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤またはベンゾフェノン系光重合開始剤がより好ましく、α－アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤がさらに好ましい。

　（Ｂ）感光剤として光重合開始剤を含有する場合、樹脂組成物における（Ｂ）感光剤の含有量は、（Ａ）樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、０．７質量部以上がさらに好ましく、１質量部以上が特に好ましい。含有量が上記範囲内であると、露光時の感度を向上させることができる。一方、含有量は、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましく、１７質量部以下がさらに好ましく、１５質量部以下が特に好ましい。含有量が上記範囲内であると、現像後の解像度を向上させることができる。

　本発明において、前記（Ａ）樹脂を含む前記樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－１）波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤（以下、（Ｃ）成分、（Ｃ－１）成分と呼称する場合がある）を含有することが好ましい。

　（Ｃ）着色剤とは、熱発色性化合物、染料、または顔料などが挙げられる。このうち、耐熱性や感度や解像度の観点から、染料および有機顔料のいずれか１種以上を使用することが好ましく、染料がより好ましい。

　（Ｃ）成分が（Ｃ－１）成分を含有することで、波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲の光を吸収して透過する光量を抑え、本発明に係る硬化膜における厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が０．１％以上、９５％以下とすることができ、硬化膜が高い配線隠蔽性を有することにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができる。

　好ましくは、（Ｃ－１）成分は、好ましくはが波長４２０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の範囲、より好ましくは波長４３０ｎｍ以上４７０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤である。

　（Ｃ－１）成分が、露光波長の一部である波長３５０ｎｍ～３９０ｎｍの光を透過する特性を有することにより露光波長に対する感度及び解像度を両立することができる。具体的には、（Ｃ－１）成分と溶媒からなる濃度１０^－５ｍｏｌ／Ｌの化合物溶液において、波長３５０ｎｍ～３９０ｎｍの光の透過率は４０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。

　（Ｃ－１）成分は少なくとも１種類以上含有すればよく、例えば、１種の熱発色性化合物や１種の染料または有機顔料を用いる方法、２種以上の熱発色性化合物や染料または有機顔料を混合して用いる方法、１種以上の熱発色性化合物と１種以上の染料と１種以上の有機顔料を組み合わせて用いる方法等が挙げられる。

　（Ｃ－１）成分は、例えば黄色染料や橙色染料などが挙げられる。染料の種類として例えば、油溶性染料、分散染料、反応性染料、酸性染料もしくは直接染料等が挙げられる。

　（Ｃ－１）成分として用いる染料の骨格構造としては、例えばアントラキノン系、メチン系、キノリン系、ペリノン系などが挙げられるがこれらに限定されない。またこれら各染料は単独でも含金属錯塩系として用いてもよい。具体的には、Ｓｕｍｉｌａｎ、Ｌａｎｙｌ染料（住友化学工業（株）製）、Ｏｒａｓｏｌ、Ｏｒａｃｅｔ、Ｆｉｌａｍｉｄ、Ｉｒｇａｓｐｅｒｓｅ染料（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、Ｚａｐｏｎ、Ｎｅｏｚａｐｏｎ、Ｎｅｐｔｕｎｅ、Ａｃｉｄｏｌ染料（ＢＡＳＦ（株）製）、Ｋａｙａｓｅｔ、Ｋａｙａｋａｌａｎ染料（日本化薬（株）製）、Ｖａｌｉｆａｓｔ　Ｃｏｌｏｒｓ染料（オリエント化学工業（株）製）、Ｓａｖｉｎｙｌ、Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ、Ｐｏｌｙｓｙｎｔｈｒｅｎ、Ｌａｎａｓｙｎ染料（クラリアントジャパン（株）製）、Ａｉｚｅｎ　Ｓｐｉｌｏｎ染料（保土谷化学工業（株）製）、機能性色素（山田化学工業（株）製）、Ｐｌａｓｔ　Ｃｏｌｏｒ染料、Ｏｉｌ　Ｃｏｌｏｒ染料（有本化学工業（株）製）等をそれぞれ適用することができるが、それらに限定されるものではない。これらの染料は単独または混合することで用いることができる。

　（Ｃ－１）成分として用いる顔料は、硬化時の退色の観点から耐熱性の高い顔料が好ましく、具体例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示すと、黄色顔料の例としては、ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１８０などが挙げられる。橙色顔料の例としてはピグメントオレンジ３８、４３、６４、７１、７２などが挙げられる。また、（Ｃ－１）成分の含有量は、（Ａ）樹脂１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましく、さらに０．２～５０質量部が好ましい。（Ｃ－１）成分の含有量が０．１質量部以上とすることで、対応する波長の光を吸収させることができる。また、１００質量部以下とすることで、光の透過率および感度、解像度を両立することができる。

　本発明において、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤（以下、（Ｃ－２）成分と呼称する場合がある）を含有することが好ましい。

　本発明において、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－３）波長５８０ｎｍを超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤（以下、（Ｃ－３）成分と呼称する場合がある）を含有することが好ましい。

　また、本発明において、（Ｃ）成分が、（Ｃ－１）成分とともに、さらに、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤および（Ｃ－３）波長５８０ｎｍ超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有することが好ましい。

　（Ｃ－１）成分に加えて、（Ｃ－２）成分および（Ｃ－３）成分を含有することで、配線隠蔽性に加えて、黒色化により外光反射低減やコントラストが向上するため、視認性を高めることができ、好ましい
　（Ｃ－２）成分及び（Ｃ－３）成分は、（Ｃ－１）成分と同様に溶剤溶解性や耐熱性、３５０ｎｍ～３９０ｎｍの波長の透過性が高いことが好ましく、染料および有機顔料のいずれか１種以上を使用することが好ましく、染料がより好ましい。これにより、（Ｃ－１）成分および（Ｃ－２）成分、（Ｃ－３）成分を混合することによる黒色化の他、樹脂膜において、高感度、高解像度化できるため、好ましい。

　（Ｃ－２）成分及び（Ｃ－３）成分として好ましく使用できる染料の骨格構造としては、例えばトリフェニルメタン系、アントラキノン系などが挙げられるがこれらに限定されない。またこれら各染料は単独でも含金属錯塩系として用いてもよい。具体的には、Ｓｕｍｉｌａｎ、Ｌａｎｙｌ染料（住友化学工業（株）製）、Ｏｒａｓｏｌ、Ｏｒａｃｅｔ、Ｆｉｌａｍｉｄ、Ｉｒｇａｓｐｅｒｓｅ染料（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、Ｚａｐｏｎ、Ｎｅｏｚａｐｏｎ、Ｎｅｐｔｕｎｅ、Ａｃｉｄｏｌ染料（ＢＡＳＦ（株）製）、Ｋａｙａｓｅｔ、Ｋａｙａｋａｌａｎ染料（日本化薬（株）製）、Ｖａｌｉｆａｓｔ　Ｃｏｌｏｒｓ染料（オリエント化学工業（株）製）、Ｓａｖｉｎｙｌ、Ｓａｎｄｏｐｌａｓｔ、Ｐｏｌｙｓｙｎｔｈｒｅｎ、Ｌａｎａｓｙｎ染料（クラリアントジャパン（株）製）、Ａｉｚｅｎ　Ｓｐｉｌｏｎ染料（保土谷化学工業（株）製）、機能性色素（山田化学工業（株）製）、Ｐｌａｓｔ　Ｃｏｌｏｒ染料、Ｏｉｌ　Ｃｏｌｏｒ染料（有本化学工業（株）製）等をそれぞれ適用することができるが、それらに限定されるものではない。これらの染料は単独または混合することで用いることができる。

　（Ｃ－２）成分として好ましく使用できる有機顔料としては具体例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示すと、赤色顔料の例としては、ピグメントレッド４８：１、１２２、１６８、１７７、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２、２５４などが挙げられる。（Ｃ－２）成分として好ましく使用できる紫色顔料の例としては、ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３２、３３、３６、３７、３８などが挙げられる。（Ｃ－３）成分として好ましく使用できる青色顔料の例としてはピグメントブルー１５（１５：３、１５：４、１５：６など）、２１、２２、６０、６４などが挙げられる。（Ｃ－３成分として好ましく使用できる緑色顔料の例としてはピグメントグリーン７、１０、３６、４７、５８などが挙げられる。また、これら以外の顔料を用いることもできる。また上記と同様必要に応じて、表面処理を施されているものを使用してもよい。

　（Ｃ－２）成分、（Ｃ－３）成分の含有量は、それぞれ（Ａ）樹脂１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましく、さらに０．２～５０質量部が好ましい。（Ｃ－１）成分の含有量が０．１質量部以上とすることで、対応する波長の光を吸収させることができる。また、１００質量部以下とすることで、光の透過率および感度、解像度を両立することができる。

　また、（Ｃ－１）成分、（Ｃ－２）成分および（Ｃ－３）成分として用いられる染料は保存安定性、硬化時の退色の観点から（Ａ）樹脂を溶解する有機溶剤に可溶でかつ樹脂と相溶し、耐熱性の高い染料が好ましい。ここでいう有機溶剤は、例えば、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素、Ｎ，Ｎ‐ジメチルイソ酪酸アミド、メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミドなどの極性の非プロトン性溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテートなどのエステル類、乳酸エチル、乳酸メチル、ジアセトンアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノールなどのアルコール類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類等が挙げられる。また、耐熱性は、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で２５０℃１時間での加熱前後で吸収スペクトルの変化が見られないものが好ましい。

　有機顔料は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基処理、塩基性基処理などの表面処理が施されているものを使用してもよい。また、場合により分散剤とともに使用することができる。分散剤は、例えば、カチオン系、アニオン系、非イオン系、両性、シリコーン系、フッ素系の界面活性剤を挙げることができる。

　本発明において、前記（Ａ）樹脂を含む前記樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、（Ｃ）着色剤が（Ｃ－４）黒色着色剤（以下、（Ｃ－４）成分と呼称する場合がある）を含有することが好ましい。

　（Ｃ）成分が（Ｃ－４）成分を含有することで、本発明に係る硬化膜における厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が０．１％以上、９５％以下とすることができ、硬化膜が高い配線隠蔽性を有することにより、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくし、意匠性を高めることができ、さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　（Ｃ－４）成分は少なくとも１種類以上含有すればよく、例えば、１種の無機黒色顔料、有機黒色顔料または黒色染料を用いる方法、２種以上の無機黒色顔料、有機黒色顔料または黒色染料を組み合わせて用いる方法等が挙げられる。

　無機黒色顔料としては、例えば、チタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料、アモルファスカーボンブラック、カーボンブラックなどが挙げられるが、これらに限定しない。ここでいうアモルファスカーボンブラックとは、非晶性カーボンブラック粒子のことをいう。一方で、単にカーボンブラックとは、一般的に着色剤用途としてよく知られた、結晶性を有するカーボンブラック粒子のことをいう。

　チタン原子を有する無機黒色顔料とは、ＴｉＮで表される窒化チタン、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜２．０、０．１＜ｙ＜２．０）で表される酸窒化チタン、ＴｉＣで表される炭化チタン、窒化チタンと炭化チタンの固溶体、チタンとチタン以外の金属との複合酸化物または複合窒化物のいずれか一種以上を意味する。中でも、可視光領域の遮光性が高いことに加えて、露光工程における露光光透過率が高い点で、窒化チタンおよび酸窒化チタンのいずれかが好ましく、誘電率が低い点から、窒化チタンがより好ましい。窒化チタンの製法としては気相反応が挙げられ、中でも、一次粒子径が小さく粒度分布がシャープな粒子を得やすいことから、熱プラズマ法で合成された窒化チタンが好ましい。また、チタン原子を有する無機黒色顔料は、誘電率の上昇を回避するため、不純物として無機白色顔料である、ＴｉＯ_２で表される二酸化チタンの含有量は少ないほど好ましく、含有しないことがより好ましい。

　ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料とは、Ｚｒ_３Ｎ_４で表される窒化ジルコニウム、ＺｒＮで表される窒化ジルコニウム、ＺｒＯｘＮｙ（０＜ｘ＜２．０，０．１＜ｙ＜２．０）で表される酸窒化ジルコニウム、ジルコニウムとジルコニウム以外の金属との複合酸化物または複合窒化物のいずれか一種以上を意味する。中でも、露光工程における露光光透過率が高く、誘電率が低いことから、ＺｒＮで表される窒化ジルコニウムが好ましい。製法としては気相反応が挙げられ、中でも、一次粒子径が小さく粒度分布がシャープな粒子を得やすいことから、熱プラズマ法で合成された窒化ジルコニウムが好ましい。また、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料は、誘電率の上昇を回避するため、不純物として無機白色顔料である、ＺｒＯ_２で表される二酸化ジルコニウムの含有量は少ないほど好ましく、含有しないことがより好ましい。

　チタン原子を有する無機黒色顔料およびジルコニウム原子を有する無機黒色顔料は、必要に応じて顔料表面を改質するため表面処理を施しても良い。表面処理の方法としては、例えば、シランカップリング剤処理によりケイ素原子を含む有機基を表面修飾基として導入する方法、シリカ、金属酸化物および／または有機樹脂などの被覆材で顔料表面の一部または全てを被覆する方法などが挙げられ、複数の表面処理を組み合わせても良い。これら表面処理を施すことにより、本発明における樹脂組成物の長期貯蔵安定性を向上できる場合がある。なお、ジルコニウム原子を有する無機黒色顔料と、チタン原子を有する無機黒色顔料は、両方を含む固溶体として１つの一次粒子を構成していても良い。

　アモルファスカーボンブラックとは、ダイヤモンド構造（ＳＰ^３構造）とグラファイト構造（ＳＰ^２構造）とから成る非晶性カーボンブラックを意味する。いわゆる、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）に分類される炭素に相当する。アモルファスカーボンブラックは、後述する結晶性を有するカーボンブラックと比べて、絶縁性が高く、表面処理を施すことなく着色材として好適に用いることができる。製法としては、炭素源を気化させ、気化させた炭素蒸気を冷却し再凝固させた後に一旦フレーク状とし、乾式粉砕処理を施して微粒化したものが好ましい。アモルファスカーボンブラックの構造は、ＳＰ^３構造を多く含む場合、可視光線および近赤外線の遮光性が低い反面、絶縁性を向上できる。一方、ＳＰ^２構造多く含む場合は、絶縁性が低い反面、可視光線および近赤外線の遮光性を向上できる。すなわち、合成条件により顔料固有のそれら特性を制御することができる。中でも、本発明における感光性組成物には、ＳＰ^３構造およびＳＰ^２構造の合計に対して、ＳＰ^３構造の含有量が３０～７０ａｔｏｍ％であるアモルファスカーボンブラックを好ましく用いることができる。また、ＳＰ^３構造およびＳＰ^２構造の割合は、Ｘ線光電子分光法により解析することができる。

　以上のチタン原子を有する無機黒色顔料、ジルコニア原子を有する無機黒色顔料およびアモルファスカーボンの合計量は、近赤外線遮光性をより向上させる上で、本発明における感光性組成物の全固形分中５．０質量％以上が好ましい。また、誘電率の過度な上昇を回避する上で、感光性組成物中の全固形分中３５．０質量％以下が好ましい。ここでいう全固形分とは、感光性組成物から溶剤分を除いた成分を意味する。

　カーボンブラックとしては、その製法から分類されるファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ランプブラックが挙げられ、中でも、分散性に優れ、顔料表面の酸性度や粒子径の微細化の制御が工業的に容易である点から、ファーネス法で製造されたファーネスブラックが好ましい。中でも、絶縁性向上の観点から、カーボンブラック特有の強固に粒子が数珠状に連結したストラクチャー長が短いほど好ましく、さらに、有機基が表面修飾されたものや、または高絶縁性の被覆材で被覆されたものがより好ましい。そのような表面改質型カーボンブラックとしては、市販品を用いてもよく、例えば、硫黄原子を含む酸性官能基が表面修飾されたカーボンブラックである“ＴＰＫ－１２２７”、顔料表面がシリカで被覆されたカーボンブラックである“ＴＰＸ－１４０９”（以上、いずれもＣＡＢＯＴ社製）が挙げられる。

　カーボンブラックの合計量は、近赤外線遮光性をより向上させる上で、本発明における樹脂組成物の全固形分中５．０質量％以上が好ましい。また、誘電率の過度な上昇を回避する上で、樹脂組成物中の全固形分中１０．０質量％以下が好ましい。

　硬化膜が所望の光学特性を有するよう複数種を混合して用いても良い。例えば、紫味の強い黒色を呈する窒化ジルコニウムと、黄味の強い黒色を呈するアモルファスカーボンとを用いて調色することにより、硬化膜の反射色を、彩度が低く抑えられたニュートラルブラックとすることができる。

　無機黒色顔料の平均一次粒子径は、分散性および分散後の貯蔵安定性を向上する観点から、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。一方で、高い屈曲性を得ることができる点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。ここでいう平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により算出した、一次粒子径の数平均値を意味する。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、倍率５０，０００倍の条件で、平均一次粒子径を算出することができる。（Ｃ－４）成分が球状でない場合は、その長径と短径の平均値を一次粒子径とする。画像解析には、マウンテック社製画像解析式粒度分布ソフトウェアＭａｃ－Ｖｉｅｗを用いる。平均一次粒子径を小径化させる、あるいは粗大分を摩砕して粒度分布をシャープなものとする必要がある場合、乾式粉砕処理を行っても良い。乾式粉砕処理には、例えば、ハンマーミル、ボールミルなどを用いることができる。また、顔料の硬度が過度に高いなどの理由から乾式粉砕処理で限界がある場合は、解砕することなく粗大分を分級処理で除去することが望ましい。

　有機黒色顔料としては、ベンゾジフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、アゾ系黒色顔料およびそれらの異性体のことをいう。ここでいう異性体とは、互変異性体をも含む。異性体は、複数の顔料粉末の混合物として含まれていてもよく、１つの一次粒子を構成する上で混晶として含まれていてもよい。なお、概して有機顔料は、近赤外領域における遮光性には極めて乏しい反面、誘電率が低い利点があるため、本発明における（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物においては、誘電率の上昇を回避していながら可視光領域のみに遮光性を付与するための成分として効果的に用いることができる。

　ベンゾジフラノン系黒色顔料としては、例えば、ＢＡＳＦ製“Ｉｒｇａｐｈｏｒ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｓ０１００などが挙げられるが、それらに限定されるものではない。また、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３－またはＣＯＯＨなどの置換基を有するベンゾジフラノン系黒色顔料を分散助剤として一部混合して湿式分散処理を行うことで分散性を高めることができる。

　ペリレン系黒色顔料としては、カラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示すと、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３１、３２が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ製ＦＫ４２８０などが挙げられるが、それらに限定されるものではない。

　本発明における（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物は、さらに、分散剤を含有することができる。分散剤とは、顔料表面への化学的結合または吸着作用を有する顔料親和性基と、親溶媒性を有する高分子鎖または基とを併せ持つものを意味する。分散剤の作用機構としては、酸－塩基相互作用の他、水素結合、ファン・デル・ワールス（Ｖａｎ－ｄｅｒ－Ｗａａｌｓ）力などが複合的に関与し、後述する顔料分散液を作製する際に行う湿式メディア分散処理において、有機顔料表面の分散媒への湿潤性を高め、高分子鎖による有機顔料同士の立体反発効果および／または静電反発効果を高めることにより、顔料の微細化を促進し、かつ分散安定性を高める効果を奏する。微細化の促進および分散安定性の向上により、屈曲性をさらに向上することができる。

　分散剤としては、塩基性吸着基を有する分散剤、酸性基を有する分散剤、ノニオン系分散剤を好ましく用いることができる。塩基性吸着基を有する分散剤としては、例えば、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ－１４２、１４５、１６４、１６７、１８２、１８７、２００１、２００８、２００９、２０１０、２０１３、２０２０、２０２５、９０７６、９０７７、ＢＹＫ－ＬＰ　Ｎ６９１９、ＢＹＫ－ＬＰ　Ｎ２１１１６、ＢＹＫ－ＪＥＴ９１５２（以上、いずれもビックケミー社製）、“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）”９０００、１１２００、１３６５０、２００００、２４０００、２４０００ＳＣ、２４０００ＧＲ、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６０００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３９０００、５６０００、７６５００（以上、いずれもルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ－ＰＸ４３１０、４３２０、４７１０（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。酸性基を有する分散剤としては、例えば、“Ｔｅｇｏ　ｄｉｓｐｅｒｓ（登録商標）”６５５（エボニック社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ－１０２、１１８、１７４、２０９６（以上、いずれもビックケミー社製）、が挙げられ、ノニオン系分散剤としては、例えば、“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（登録商標）”５４０００（ルーブリゾール社製）、“Ｔｅｇｏ　ｄｉｓｐｅｒｓ（登録商標）”６５０、６５２、７４０Ｗ（以上、いずれもエボニック社製）が挙げられる。顔料固有の表面特性や平均一次粒子径を考慮して、後述の平均分散粒子径が得られるよう、適宜これらの分散剤を単独であるいは複数種を混合して用いてもよい。

　分散剤の含有量は、後述の湿式メディア分散処理における十分な解凝集性と、分散処理後の再凝集を抑制する上で、顔料の合計量１００質量部に対して１０質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。一方、分散剤以外の構成成分の含有量を十分に確保する上で、１００質量部以下が好ましく、６０質量部以下がより好ましい。

　（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物は、必要に応じてその他の成分として、熱架橋剤、ラジカル重合性化合物、酸化防止剤、溶剤、フェノール性水酸基を有する化合物、密着改良剤、接着改良剤、界面活性剤を含有してもよい。

　次に、本発明における樹脂組成物の製造方法について説明する。例えば、前記（Ａ）樹脂と、必要により、（Ｂ）感光剤、（Ｃ）着色剤、熱架橋剤、ラジカル重合性化合物、酸化防止剤、溶剤、フェノール性水酸基を有する化合物、密着改良剤、接着改良剤、界面活性剤などを混合して溶解させることにより、樹脂組成物を得ることができる。

　溶解方法としては、加熱や撹拌など公知の方法が挙げられる。

　樹脂組成物の粘度は、２～５，０００ｍＰａ・ｓが好ましい。粘度が２ｍＰａ・ｓ以上となるように固形分濃度を調整することにより、所望の膜厚を得ることが容易になる。一方粘度が５，０００ｍＰａ・ｓ以下であれば、均一性の高い樹脂膜を得ることが容易になる。このような粘度を有する樹脂組成物は、例えば固形分濃度を５～６０質量％にすることで容易に得ることができる。ここで、固形分濃度とは溶剤以外の成分を言う。

　得られた樹脂組成物は、濾過フィルターを用いて濾過し、ゴミや粒子を除去することが好ましい。濾過フィルターの材質には、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ナイロン（ＮＹ）、ポリテトラフルオロエチエレン（ＰＴＦＥ）などがあるが、ポリエチレンやナイロンが好ましい。

　（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜を形成する際には、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から樹脂シートを形成してから、樹脂シート硬化させて膜を形成してもよい。

　樹脂シートは上記樹脂組成物を用いて基材に形成したシートをいう。具体的には、基材に樹脂組成物を塗布し、乾燥して得られた樹脂シートをいう。

　樹脂組成物を塗布する基材にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのフィルムを用いることができる。樹脂シートをシリコンウエハなどの基板に貼り合わせて用いる際に、基材を剥離除去する必要がある場合は、表面にシリコーン樹脂などの離型剤がコーティングされている基材を用いると、容易に樹脂シートと基材を剥離できるため好ましい。

　次に、表示装置の製造方法について説明する。

　本発明の表示装置の製造方法は、少なくとも配線、硬化膜及び複数の異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する発光素子を有する表示装置の製造方法であって、支持基板上に前記発光素子を配置する工程（Ｄ１）、前記支持基板上および前記発光素子上に、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程（Ｄ２）、前記樹脂膜に対して露光、現像することにより、前記樹脂膜に複数の貫通した開口パターンを形成する工程（Ｄ３）、前記樹脂膜を硬化させ、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である前記硬化膜を形成する工程（Ｄ６）、および、前記硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンに前記配線を形成する工程（Ｄ５）、を有する。

　図７に本発明の、複数の発光素子を有する表示装置の一例の作製工程を示す支持基板に垂直な面での断面図を示す。

　以下、樹脂膜とは（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を基板に塗布もしくは樹脂シートをラミネートし、乾燥して得られた膜をいう。ここで（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物のうち溶剤を含有するものをワニスと記す場合もある。また、硬化膜は樹脂膜、もしくは樹脂シートを硬化して得られた膜をいう。

　図７ａにおいて、工程（Ｄ１）は、支持基板１８上に異なる２つの面に電極６をそれぞれ具備する発光素子２を配置する工程である。支持基板はガラス基板、シリコン基板、セラミックス類、ガリウムヒ素、有機回路基板、無機回路基板、またはこれらの基板に回路の構成材料が配置されたものなどが用いられるが、これらに限定されない。支持基板上には仮貼り材料や配線４ｄが配置されていてもよい。またＴＦＴアレイ基板を使用してもよい。支持基板は対向基板や発光素子駆動基板として使用してもよく、また工程の途中で除去してもよく、また除去後別の対向基板や発光素子駆動基板を配置してもよい。図７ａでは支持基板１８上に仮貼り層を形成し、その上に配線４ｄを形成したものを一例として図示している。電極６と配線４ｄはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。また、配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４と接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。

　次に、工程（Ｄ２）は、図７ｂに示すように支持基板１８上および発光素子２上に、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から形成された樹脂シートを、塗布またはラミネートして樹脂膜１９を形成する工程である。

　なお、支持基板上および発光素子上とは、支持基板の表面や発光素子の表面のみならず、支持基板や発光素子の上側にあればよく、硬化膜や配線、隔壁上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から形成された樹脂シートを、塗布またはラミネートして樹脂膜を形成してもよい。

　塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、スプレーコート法、印刷法などの方法がある。また、塗布膜厚は、塗布手法、組成物の固形分濃度、粘度などによって異なるが、通常、乾燥後の膜厚が０．１～１５０μｍになるように塗布される。

　塗布に先立ち、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を塗布する支持基板を予め前述した密着改良剤で前処理してもよい。例えば、密着改良剤をイソプロパノール、エタノール、メタノール、水、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、アジピン酸ジエチルなどの溶剤に０．５～２０質量％溶解させた溶液を用いて、スピンコート、スリットダイコート、バーコート、ディップコート、スプレーコート、蒸気処理などの方法で基板表面を処理する方法が挙げられる。基板表面を処理した後、必要に応じて、減圧乾燥処理を施してもよい。また、その後５０℃～２８０℃の熱処理により基板と密着改良剤との反応を進行させてもよい。

　次に、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物の塗布膜を乾燥して、樹脂膜１９を得る。乾燥はオーブン、ホットプレート、赤外線などを使用し、５０℃～１４０℃の範囲で１分～数時間行うことが好ましい。

　一方、前記樹脂シートを用いる場合、前記樹脂シートに保護フィルムを有する場合にはこれを剥離し、樹脂シートと支持基板を対向させ、熱圧着により貼り合わせる（樹脂シートと支持基板を対向させ、熱圧着により貼り合わせることを、樹脂シートを支持基板にラミネートすると記す場合もある）。次に、支持基板にラミネートした樹脂シートを、上記樹脂膜を得る際と同様に乾燥して、樹脂膜１９を形成する。樹脂シートは、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を剥離性基板であるポリエチレンテレフタラート等により構成される支持フィルム上に塗布、乾燥させて得ることができる。

　熱圧着は、熱プレス処理、熱ラミネート処理、熱真空ラミネート処理等によって行うことができる。貼り合わせ温度は、基板への密着性、埋め込み性の点から４０℃以上が好ましい。また、樹脂シートが感光性を有する場合、貼り合わせ時に樹脂シートが硬化し、露光・現像工程におけるパターン形成の解像度が低下することを防ぐために、貼り合わせ温度は１４０℃以下が好ましい。

　次に、工程（Ｄ３）は、フォトリソ工程を用いて、樹脂膜１９に対して、配線４の形態に対応した貫通した開口パターン１２を、図７ｃに示すように、形成する工程である。

　（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または樹脂シートは微細加工可能なため、発光素子の高密度配置が可能である。

　感光性を有する樹脂膜上に所望のパターンを有するマスクを通して化学線を照射する。露光に用いられる化学線としては紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線などがあるが、本発明では一般的な露光波長であるｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）またはｉ線（３６５ｎｍ）、を用いることが好ましい。感光性を有さない樹脂膜においては、樹脂膜形成後にフォトレジストを形成した後、前記の化学線を照射する。

　露光された感光性を有する樹脂膜１９を現像する。現像液としては、テトラメチルアンモニウム、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。また場合によっては、これらのアルカリ水溶液にＮ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、ジメチルアクリルアミドなどの極性溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを１種または２種以上添加してもよい。現像後は水にてリンス処理をすることが一般的である。ここでもエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類などを水に加えてリンス処理をしてもよい。

　次に、工程（Ｄ６）は、図７ｃに示す樹脂膜１９を硬化させることにより、厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である硬化膜３を形成する工程である。

　また、工程（Ｄ６）は、樹脂膜１９を硬化させることにより、厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、７９％以下である硬化膜３を形成する工程（Ｄ４）であってもよく、樹脂膜１９を硬化させることにより、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、２５％以下である硬化膜３を形成する工程（Ｄ７）であってもよい。

　樹脂膜１９を加熱して閉環反応や熱架橋反応を進行させ、硬化膜３を得る。硬化膜３は、（Ａ）樹脂同士、または（Ｂ）感光剤や熱架橋剤などとの架橋によって、耐熱性および耐薬品性が向上する。この加熱処理は、段階的に昇温して行ってもよいし、連続的に昇温しながら行ってもよい。加熱処理は５分間～５時間実施することが好ましい。一例としては、１１０℃で３０分加熱処理した後、さらに２３０℃６０分熱処理する例が挙げられる。加熱処理条件としては、１４０℃以上４００℃以下が好ましい。加熱処理条件は、熱架橋反応を進行させるため、１４０℃以上が好ましく、１６０℃以上がより好ましい。また優れた硬化膜を提供するため、表示装置の信頼性を向上させるため、加熱処理条件は３００℃以下が好ましく、２５０℃以下がより好ましい。

　加熱時は空気雰囲気で処理されてもよく、また（Ｃ）成分の退色を抑制するため、酸素濃度が低い雰囲気で処理されてもよい。酸素濃度としては１０００ｐｐｍ以下が好ましく、３００ｐｐｍ以下がより好ましく、１００ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５０ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　このようにして得られた硬化膜は、開口パターンを有し、該開口パターン断面における傾斜辺の角度が４０°以上８５°以下であることが好ましい。開口部の断面形状の角度が４０°以上であると、複数の発光素子を効率的に配置することができ、高精細化が可能となる。開口部の断面形状の角度はより好ましくは５０°以上である。一方、開口部の断面形状の角度が８５°以下であると、配線の短絡など配線不良の抑制を図ることができる。開口部の断面形状の角度はより好ましくは８０°以下である。

　図１６に硬化膜の開口パターンを示す支持基盤に垂直な面での断面図を示す。図１６において硬化膜３に形成した開口パターンについて傾斜辺２６の角度が２７である。なお、傾斜辺は硬化膜３の厚み方向において１／２とした位置２９での開口パターンと底部の開口パターンを直線で結んだものとした。

　続いて、図７ｃにおいて、硬化膜３と配線４との密着性を向上させるため、硬化膜３上にチタンなどのバリアメタルをスパッタリングし、さらにその上に銅シード（シード層）をスパッタリング法で形成する。

　次に、工程（Ｄ５）は、図７ｄに示すように、フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、発光素子２の少なくとも一方の電極６と電気的に接続させるための銅などの金属や導電膜などからなる配線４をめっき法やスパッタリング、感光性導電ペーストの加工等により硬化膜３の開口パターン１２および硬化膜３の一部の表面上に形成する工程である。その後、不要なフォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去する。

　これにより、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｄ２）、前記工程（Ｄ３）、前記工程（Ｄ６）および前記工程（Ｄ５）を複数回繰り返し行い、硬化膜中に前記配線を有する前記硬化膜を複数層形成する工程を有することが好ましい。

　図７ｅ～ｆに示すように硬化膜３および配線４は再度同様の方法で繰り返し実施することで２層以上からなる硬化膜３を形成することができる。

　これにより、硬化膜中に配線を有する硬化膜を複数層とすることで、複数の発光素子を配置することができ、また、パッケージ低背化や配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化、高速応答性の向上を図ることができる。

　その後、図７ｇに示すように、硬化膜３の開口パターン１２にバリアメタル９をスパッタリング法で形成し、バンプ１０を形成する。なお、バリアメタル９は有していても、有していなくてもよい。

　その後、図７ｈに示すように、バンプ１０を介してドライバーＩＣなど駆動素子８を有する発光素子駆動基板７に電気的に接続させ、支持基板１８を剥離し、対向基板５を、接着剤等を用いて貼り合わせることにより、複数の発光素子２を有する表示装置１を得る。なお、配線４は電極を包含してもよい。

　駆動素子８は機能別に１個の発光素子２または赤、青、緑からなる１ユニットの発光素子２、複数の発光素子２または複数ユニットの発光素子２に対して１個または複数個使用してもよく、例えば図７の工程中に発光素子の近傍等に１個または複数個駆動素子を配置してもよい。その場合、駆動素子は発光素子駆動基板７や配線４ｃ、硬化膜３中に延在した配線４などを介して発光素子２と電気的に接続される。

　これにより、硬化膜が配線を隠蔽し、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｄ１）の前に、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を設ける工程（Ｄ８）を有することが好ましい。

　工程（Ｄ８）の一例を図１７に示す。図１７ａは支持基板１８上に発光素子２の厚み以上の厚みを有する隔壁１５を設ける工程（Ｄ８）であり、次の図１７ｂは、発光素子２の厚み以上の厚みを有する隔壁の間に複数の発光素子２を設ける工程（Ｄ１）を示す。図１７ｃは隔壁１５を設けた状態のまま、図７ｂに示す工程（Ｄ２）と同様で樹脂膜１９を配する工程である。以下の工程は図７に示した通りに進められる。隔壁としては（Ａ）樹脂を用いてもよく、またエポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシロキサンなど公知のものを用いてもよい。また遮光部や反射部を設けてもよい。

　本発明の表示装置の製造方法においては、前記工程（Ｄ５）の後、さらに、駆動素子及び基板を有し、前記駆動素子は配線を通じて前記発光素子に接続され、さらに前記配線の少なくとも一部は、前記基板の側面に延在する工程（Ｄ９）を有することが好ましい。

　工程（Ｄ９）の一例を図７に示す。図７ｈは駆動素子及び基板を有し、駆動素子は配線を通じて発光素子に接続される工程（Ｄ９）を示す。図７ｈのように配線４や４ｃを通じて駆動素子が発光素子２に接続されており、また配線４ｃの一部は発光素子駆動基板７の側面に延在している。なお、発光素子駆動基板７に貫通電極がある場合、その貫通電極を通じて駆動素子８と接続してもよい。

　これにより、表示装置自体の低背化や高速応答性が向上し、さらに表示装置をより小型化、狭額縁化することができる。

　本発明の表示装置の製造方法は、さらに、複数の前記発光素子の間に、遮光層を有する工程（Ｄ１０）を有することが好ましい。

　工程（Ｄ１０）の一例を図１８に示す。図１８ａは複数の発光素子２の間に遮光層２５を設ける工程（Ｄ１０）を示す。また、遮光層２５は発光素子２を形成する前に形成してもよく、発光素子２を形成した後形成してもよい。

　遮光層２５は、（Ａ）樹脂および（Ｅ）着色材を含む樹脂組成物を硬化した硬化膜から構成されていてもよく、また（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシロキサンなど公知のものを使用してもよい。（Ｅ）着色材としては、黒色顔料を用いてもよく、例えば、カーボンブラック、ペリレンブラック、アニリンブラック等の黒色有機顔料、グラファイト、およびチタン、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属微粒子、金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物等の無機顔料が挙げられる。また、赤色顔料および青色顔料や必要に応じて黄色顔料やその他の顔料を組み合わせて黒色としてもよい。また染料を用いてもよい。着色材は２種以上含有してもよい。

　遮光層の形成方法としては、感光性を有する場合はフォトリソ工程を使用してもよく、感光性を有さない場合は、遮光層上にフォトレジストを形成した後に、フォトリソ工程もしくはエッチング工程を使用してもよく、マスクを用いてエッチング工程を使用してもよい。得られたパターンを加熱処理（ポストベーク）することにより、パターニングされた着色膜を得ることができる。加熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、および真空状態のいずれで行ってもよい。加熱温度は１００～３００℃が好ましく、加熱時間は０．２５～５時間が好ましい。加熱温度を連続的に変化させてもよいし、段階的に変化させてもよい。

　本発明の表示装置の製造方法は、少なくとも配線、硬化膜及び複数の異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する発光素子を有する表示装置の製造方法であって、支持基板上にパッドを配置する工程（Ｅ１）、前記支持基板上および前記パッド上に、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程（Ｅ２）、前記樹脂膜に対して露光、現像することにより、前記樹脂膜に複数の貫通した開口パターン形成する工程（Ｅ３）、前記樹脂膜を硬化させ、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である前記硬化膜を形成する工程（Ｅ１０）、前記硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンに前記配線を形成する工程（Ｅ５）、および、前記配線と電気的接続を保持するようにして前記硬化膜上に前記発光素子を配する工程（Ｅ６）、を有する。

　図８に本発明の表示装置１の別の作製工程の一例を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図を示す。図７の工程と重複するところ、具体的には図８ｂ～ｅは図７ｂ～ｆと重複しているため、説明を省略している。

　工程（Ｅ１）は、図８ａに示すように、支持基板１８上にパッド１７を配置する工程である。
パッドとしては銅やアルニウムなどが挙げられる。

　次に、工程（Ｅ２）は、図８ｂに示すように、支持基板１８上およびパッド１７上に、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または樹脂シートを塗布またはラミネートして樹脂膜１９を形成する工程である。
なお、支持基板上およびパッド上とは、支持基板の表面やパッドの表面のみならず、支持基板やパッドの上側にあればよく、硬化膜や配線、隔壁上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から形成された樹脂シートを、塗布またはラミネートして樹脂膜を形成してもよい。

　次に、工程（Ｅ３）は、図８ｃに示すように、フォトリソ工程を用いて、樹脂膜１９に複数の貫通した開口パターン１２を形成する工程である。

　次に、工程（Ｅ１０）は、図８ｃに示すように、樹脂膜１９を硬化させることにより厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である硬化膜３を形成する工程である。
また、樹脂膜１９を硬化させることにより、厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、７９％以下である硬化膜３を形成する工程（Ｅ４）であってもよく、樹脂膜１９を硬化させることにより、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、２５％以下である硬化膜３を形成する工程（Ｅ８）であってもよい。

　続いて、図８ｃにおいて、硬化膜３と配線４との密着性を向上させるため、硬化膜３上にチタンなどのバリアメタルをスパッタリングし、さらにその上に銅シード（シード層）をスパッタリング法で形成する。

　次に、工程（Ｅ５）は、図８ｄに示すように、フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、銅や導電膜などからなる配線４をめっき法やスパッタリング、感光性導電ペーストの加工等により硬化膜３の開口パターン１２および硬化膜３の一部の表面上に形成する工程である。その後、不要なフォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去する。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｅ２）、前記工程（Ｅ３）、前記工程（Ｅ１０）および前記工程（Ｅ５）を複数回繰り返し行い、硬化膜中に前記配線を有する前記硬化膜を複数層形成する工程を有することが好ましい。

　図８ｂ～ｄに示すように、硬化膜３および配線４は再度同様の方法で繰り返し実施することで図８ｅに示すように２層以上からなる硬化膜３を形成することができる。

　次に、工程（Ｅ６）は、図８ｆに示すように、配線４と電気的接続を保持するようにして硬化膜３上に発光素子２を配する工程である。発光素子２の電極６と配線４は直接接続してもよく、例えば、バンプや導電性フィルムなどを介してもよい。
また、図８ｇに示すように、硬化膜３および発光素子２上に硬化膜２１を形成する工程（Ｅ７）を有することが好ましい。硬化膜２１としては、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を塗布、または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から構成される樹脂シートをラミネートして樹脂組成物からなる樹脂膜を形成し、硬化して硬化膜２１を形成することが好ましい。また（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物以外の材料から構成されてもよく、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂など公知のものを使用してもよい。

　硬化条件は、樹脂の種類により異なるが、例えば８０℃～２３０℃、１５分～５時間などが挙げられる。
これは、発光素子上に硬化膜を形成することで、発光素子の保護や平坦化を目的としている。

　また、図８ｇでは硬化膜２１を形成した後、その上に配線４ｄを形成したものを一例として図示している。電極６と配線４ｄはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。また、配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４と接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。

　その後、図８ｈに示すように、硬化膜２１に対して、接着剤等を用いて対向基板５を貼り合わせる。また、支持基板１８を剥離し、バリアメタル９とバンプ１０を形成し、バンプ１０を介してドライバーＩＣなど駆動素子８を付加した発光素子駆動基板７に電気的に接続される。

　駆動素子８は硬化膜３中に延在した配線４を介して発光素子２と電気的に接続することにより、複数の発光素子２を有する表示装置１を得る。なお、配線４は電極を包含してもよい。

　駆動素子８は機能別に１個の発光素子２または赤、青、緑からなる１ユニットの発光素子２、複数の発光素子２または複数ユニットの発光素子２に対して１個または複数個使用してもよく、例えば図８の工程中に発光素子の近傍等に１個または複数個駆動素子を配置してもよい。その場合、駆動素子は発光素子駆動基板７や配線４ｃ、硬化膜３中に延在した配線４などを介して発光素子２と電気的に接続される。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｅ５）の後、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を設ける工程（Ｅ９）を有することが好ましい。

　工程（Ｅ９）の一例を図９に示す。図９ｆは図８ｅに示す硬化膜３を複数層形成した後に、隔壁１５を設ける工程（Ｅ９）を示す。その後、図９ｇに示すように隔壁１５の間に発光素子２を設け、次に、図９ｈに示すように配線４ｄと電極６を電気的に接続させ、また隔壁１５と発光素子２の上部に対向基板５を貼り合わせるとともに、支持基板１８を剥離し、バリアメタル９とバンプ１０を形成し、バンプ１０を介してドライバーＩＣなど駆動素子８を有する発光素子駆動基板７に電気的に接続される。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｅ７）の後、さらに、駆動素子及び基板を有し、前記駆動素子は配線を通じて前記発光素子に接続され、さらに前記配線の少なくとも一部は、前記基板の側面に延在する工程（Ｅ１１）を有することが好ましい。

　工程（Ｅ１１）の一例を図８に示す。図８ｈは駆動素子及び基板を有し、駆動素子は配線を通じて発光素子に接続される工程（Ｅ１１）を示す。図８ｈのように配線４や４ｃを通じて駆動素子が発光素子２に接続されており、また配線４ｃの一部は発光素子駆動基板７の側面に延在している。なお、発光素子駆動基板７に貫通電極がある場合、その貫通電極を通じて駆動素子８と接続してもよい。

　本発明の表示装置の製造方法は、少なくとも配線、硬化膜及び複数の異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する発光素子を有する表示装置の製造方法であって、基板などの上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程（Ｆ１）、前記樹脂膜に対して露光、現像することにより、前記樹脂膜に複数の貫通した開口パターン形成する工程（Ｆ２）、前記樹脂膜を硬化させ、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である前記硬化膜を形成する工程（Ｆ３）、前記硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に前記配線を形成する工程（Ｆ４）、前記配線と電気的接続を保持するようにして前記硬化膜上に前記発光素子を配する工程（Ｆ５）、を有する。

　図１９に本発明の第２の態様にかかる表示装置１の作製工程の一例を示す発光素子駆動基盤に垂直な面での断面図を示す。
工程（Ｆ１）は、図１９ａに示すように、基板などの上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程である。（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から形成された樹脂シートを、塗布またはラミネートして樹脂膜を形成してもよい。

　基板としては発光素子駆動基板７を用いることができる。図１９ａにガラス基板上にＴＦＴ２２、絶縁膜２３、配線４を配したＴＦＴアレイ基板を１例として示す。

　絶縁膜２３としては、特に限定しないが、例えばシリコン酸化膜やシリコン窒化膜、有機物からなる絶縁膜などが挙げられる。

　次に、工程（Ｆ２）は、図１９ａに示すように、フォトリソ工程を用いて、樹脂膜に複数の貫通した開口パターンを形成する工程である。

　次に、工程（Ｆ３）は、図１９ａに示すように、樹脂膜を硬化させることにより厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である硬化膜３を形成する工程である。

　次に、工程（Ｆ４）は、図１９ｂに示すように、硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に配線を形成する工程である。フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、例えば、配線４ｅをスパッタリング法や感光性導電ペーストの加工等により硬化膜３の一部の表面上に形成する工程である。その後、不要なフォトレジストを除去する。

　配線４ｅとしては、金や銀、銅、アルミニウム、ニッケル、チタン、モリブデンやこれらを含む合金やインジウム、ガリウム、亜鉛、スズ、チタン、およびニオブなどのうちの少なくとも１種の元素の酸化物を主成分として含む化合物や有機物および導電性粒子を含有する感光性導電ペーストなどが挙げられるが、その他公知のものを使用してもよい。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記工程（Ｆ１）、前記工程（Ｆ２）、前記工程（Ｆ３）および前記工程（Ｆ４）を複数回繰り返し行い、硬化膜中に前記配線を有する前記硬化膜を複数層形成する工程を有することが好ましい。

　硬化膜３は再度同様の方法で繰り返し実施することで図１９ｃに示すように２層以上からなる硬化膜３を形成することができる。その後配線４ｃを形成する。

　次に、工程（Ｆ５）は、図１９ｄに示すように、配線４ｅと電気的接続を保持するようにして硬化膜３上に発光素子２を配する工程である。電極６と配線４ｅはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。

　また、発光素子２を配する前、もしくは後に隔壁１５を形成してもよい。その後硬化膜２１を形成した後、配線４ｄを形成する。配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４、４ｅと接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。

　その後、図１９ｅに示すように、接着剤等を用いて対向基板５を貼り合わせる。また、ドライバーＩＣなど駆動素子８は配線４ｃや硬化膜３中に延在した配線４、４ｅを介して発光素子２と電気的に接続することにより、複数の発光素子２を有する表示装置１を得る。なお、配線４ｄ、４ｅは電極も包含する。

　駆動素子８は機能別に１個の発光素子２または赤、青、緑からなる１ユニットの発光素子２、複数の発光素子２または複数ユニットの発光素子２に対して１個または複数個使用してもよく、例えば図１９の工程中に発光素子の近傍等に１個または複数個駆動素子を配置してもよい。その場合、駆動素子は発光素子駆動基板７や配線４ｃ、硬化膜３中に延在した配線４などを介して発光素子２と電気的に接続される。

　これにより、硬化膜により配線の電気的絶縁性を確保することが出来、硬化膜中に配線を延在させることにより、発光素子の電極と駆動素子を電気的に接続させることにより発光動作を制御させることが出来る。また、硬化膜が配線を隠蔽し、配線のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができる。さらに外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができる。

　本発明の表示装置の製造方法は、少なくとも配線、硬化膜及び複数の異なる２つの面に電極をそれぞれ具備する発光素子を有する表示装置の製造方法であって、基板などの上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程（Ｇ１）、前記樹脂膜に対して露光、現像することにより、前記樹脂膜に複数の貫通した開口パターン形成する工程（Ｇ２）、前記樹脂膜を硬化させ、厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である前記硬化膜を形成する工程（Ｇ３）、前記硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に前記配線を形成する工程（Ｇ４）、前記配線と電気的接続を保持するように前記発光素子を配する工程（Ｇ５）、を有してもよい。

　図２９に本発明の第２の態様にかかる表示装置１の作製工程の一例を示す発光素子駆動基板に垂直な面での断面図を示す。

　工程（Ｇ１）は、図２９ａに示すように、基板などの上に（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程である。（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物または（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物から形成された樹脂シートを、塗布またはラミネートして樹脂膜を形成してもよい。

　基板としては発光素子駆動基板７を用いることができる。図２９ａにガラス基板上にＴＦＴ２２、絶縁膜２３、配線４を配したＴＦＴアレイ基板を１例として示す。

　次に、工程（Ｇ２）は、図２９ａに示すように、フォトリソ工程を用いて、樹脂膜に複数の貫通した開口パターンを形成する工程である。

　次に、工程（Ｇ３）は、図２９ａに示すように、樹脂膜を硬化させることにより厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である硬化膜３を形成する工程である。

　次に、工程（Ｇ４）は、図２９ｂに示すように、硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に配線を形成する工程である。フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、例えば、配線４ｅをスパッタリング法や感光性導電ペーストの加工等により硬化膜３の一部の表面上に形成する工程である。その後、不要なフォトレジストを除去する。

　その後、図２９ｃに示すように配線４ｃを形成する。

　次に、工程（Ｇ５）は、図２９ｄに示すように、配線４ｅと電気的接続を保持するようにして発光素子２を配する工程である。電極６と配線４ｅはバンプや導電性フィルムなどを通じて接続されていてもよく、直接接続されていてもよい。

　発光素子２を配する前、もしくは後に硬化膜３または隔壁１５を形成してもよい。その後硬化膜２１を形成した後、配線４ｄを形成する。配線４ｄは貫通電極などを通じて発光素子２の少なくとも一部と接するように配した硬化膜３中に延在する配線４、４ｅと接続してもよく、発光素子駆動基板７と接続してもよい。

　その後、図２９ｅに示すように、接着剤等を用いて対向基板５を貼り合わせる。また、ドライバーＩＣなど駆動素子８は配線４ｃや硬化膜３中に延在した配線４、４ｅを介して発光素子２と電気的に接続することにより、複数の発光素子２を有する表示装置１を得る。なお、配線４ｄ、４ｅは電極も包含する。

　駆動素子８は機能別に１個の発光素子２または赤、青、緑からなる１ユニットの発光素子２、複数の発光素子２または複数ユニットの発光素子２に対して１個または複数個使用してもよく、例えば図２９の工程中に発光素子の近傍等に１個または複数個駆動素子を配置してもよい。その場合、駆動素子は発光素子駆動基板７や配線４ｃ、硬化膜３中に延在した配線４などを介して発光素子２と電気的に接続される。

　本発明の表示装置は各種ＬＥＤディスプレイ等表示装置や車載用の各種ランプ等に好適に用いられる。

　以下、実施例等をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
なお、実施例中の表示装置や表示装置に用いた樹脂組成物からなる硬化膜の評価は以下の方法により行った。

　＜硬化膜の光の透過率の評価方法＞
　５ｃｍ角ガラス基板上に樹脂組成物からなるワニスを２３０℃１時間での加熱処理後の膜厚が１．０μｍまたはとなるようにスピンコート塗布し、１２０℃で３分間プリベークした。その後、光洋サーモシステム（株）製高温クリーンオーブンＣＬＨ－２１ＣＤ－Ｓを用いて、窒素気流下において酸素濃度１００ｐｐｍ以下で５０℃から３．５℃／分で、１１０℃まで昇温し、続けて１１０℃で３０分加熱処理を行った。その後３．５℃／分で、加熱温度である２３０℃まで昇温し、続けて昇温後の加熱温度で１時間加熱処理を行ない、塗布膜を乾燥、加熱処理させて硬化膜を得た。なお、プリベーク後および現像後の塗布膜の膜厚は、大日本スクリーン製造（株）製光干渉式膜厚測定装置ラムダエースＳＴＭ－６０２を使用し、屈折率を１．６２９として測定し、硬化膜の膜厚は屈折率１．６２９で測定した。

　このようにして得られた硬化膜について、ダブルビーム分光光度計Ｕ－２９１０（（株）日立ハイテクサイエンス製）を用いて、波長４５０ｎｍの透過率を測定した。また、加熱処理後の耐熱性樹脂膜の膜厚が１．０μｍまたは５．０μｍでなかった場合は、ランベルトの法則に従い、測定した透過スペクトルの膜厚を１．０μｍまたは５．０μｍに換算した値とした。

　＜硬化膜による配線の隠蔽性の評価方法＞
　下記実施例、比較例に記載の表示装置を用いて硬化膜による配線の隠蔽性を評価した。測定には顕微鏡を用いた。顕微鏡にて配線のぎらつきを抑制し、隠蔽されているか目視にて評価した。表示装置のうち硬化膜により配線の少なくとも一部のぎらつきを抑制し、見えづらくなったものを隠蔽されたと見なし良好として２、表示装置のうち硬化膜により配線が目視で明確に確認できたものを不良として１、とした。

　＜樹脂組成物からなる硬化膜の開口パターン形状評価＞
　樹脂組成物からなるワニスを作製して８インチのシリコンウエハ上に、加熱処理後の膜厚が５μｍとなるよう、塗布現像装置ＡＣＴ－８（東京エレクトロン（株）製）を用いてスピンコート法で塗布およびプリベークを行い、プリベーク膜を作製した。プリベークは１２０℃で３分間行った。その後、ｉ線ステッパー（（株）ニコン製、ＮＳＲ－２２０５ｉ１４）を用いてそれぞれ５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量にて露光した。露光に用いた円形パターンのサイズは５～３０μｍである。露光後、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液（多摩化学工業製）を用いて、現像前後の未露光部の膜厚変化が１．０～１．５μｍとなるような条件で現像し、次いで純水でリンスし、振り切り乾燥をし、パターン形成膜を得た。もしくはシクロペンタノンを用いて現像し、振り切り乾燥をし、パターン形成膜を得た。非感光性材料の場合は、露光前にフォトレジストを形成した後、露光、現像を行い、現像後にフォトレジストを除去した。なお、プリベーク後および現像後の膜厚は、大日本スクリーン製造（株）製光干渉式膜厚測定装置ラムダエースＳＴＭ－６０２を使用し、屈折率を１．６２９として測定した。

　現像後、イナートオーブンＣＬＨ－２１ＣＤ－Ｓ（光洋サーモシステム（株）製）を用いて、窒素気流下において酸素濃度２０ｐｐｍ以下で５０℃から３．５℃／分で、１００℃まで昇温し、続けて１００℃で３０分加熱処理を行った。その後３．５℃／分で、２３０℃まで昇温し、続けて、１時間加熱処理を行ない、パターン形成膜を硬化させて硬化膜を得た。

　温度が５０℃以下になったところでウエハを取り出した後、ウエハを割断し、５～３０μｍの円形パターン断面形状を走査型電子顕微鏡Ｓ－４８００（日立ハイテク製）を用いて観察、測定した。なお、硬化膜の厚み方向において１／２とした位置での開口パターンと底部の開口パターンを直線で結んだものを傾斜辺として傾斜辺の角度を求めた。

　その結果、傾斜辺の角度が５５°以上８０°以下のものをレベルＡ、４０°以上５５°未満または８０°より大きく８５°以下のものをレベルＢ、４０°未満または８５°より大きいものをレベルＣと評価した。

　＜合成例１　ヒドロキシル基含有ジアミン化合物の合成＞
　２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（セントラル硝子（株）製、以下、ＢＡＨＦとする）１８．３ｇ（０．０５モル）をアセトン１００ｍＬおよびプロピレンオキシド（東京化成（株）製）１７．４ｇ（０．３モル）に溶解させ、－１５℃に冷却した。ここに３－ニトロベンゾイルクロリド（東京化成（株）製）２０．４ｇ（０．１１モル）をアセトン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、－１５℃で４時間撹拌し、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、５０℃で真空乾燥した。

　得られた白色固体３０ｇを３００ｍＬのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセルソルブ２５０ｍＬに分散させ、５％パラジウム－炭素（和光純薬（株）製）を２ｇ加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行った。約２時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、濾過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、下記式で表されるヒドロキシル基含有ジアミン化合物を得た。

　＜合成例２　ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ－１）の合成＞
　乾燥窒素気流下、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル（以下、４，４’－ＤＡＥとする）１．５ｇ（０．００７５モル）、ＢＡＨＦ１２．８ｇ（０．０３５モル）、ＲＴ－１０００（ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）５．０ｇ（０．００５０モル）をＮＭＰ１００ｇに溶解させた。ここに、ドデカン酸ジイミダゾール（７．４ｇ、０．０２３モル）、１，１’－（４，４’－オキシベンゾイル）ジイミダゾール（以下、ＰＢＯＭとする）（８．１ｇ、０．０２３モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、８５℃で３時間反応させた。次に、１，３－ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン（以下、ＳｉＤＡとする）０．６ｇ（０．００２５モル）、４，４’－オキシジフタル酸無水物（以下、ＯＤＰＡとする）０．８ｇ（０．００２５モル）、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物（以下、ＮＡと記す場合もある）０．８ｇ（０．００５０モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、８５℃で１時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、酢酸１３．２ｇ（０．２５モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、室温で１時間攪拌した。攪拌終了後、溶液を水１．５Ｌに投入して白色沈殿を得た。この沈殿を濾過で集めて、水で３回洗浄した後、５０℃の通風乾燥機で３日間乾燥し、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ－１）の粉末を得た。

　＜合成例３　ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ－２）の合成＞
　乾燥窒素気流下、ＢＡＨＦ２７．５ｇ、（０．０７５モル）をＮＭＰ２５７ｇに溶解させた。ここに、ＰＢＯＭ１７．２ｇ（０．０４８モル）をＮＭＰ２０ｇとともに加えて、８５℃で３時間反応させた。続いて、ＲＴ－１０００（ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）２０．０ｇ（０．０２モル）、ＳｉＤＡ１．２ｇ（０．００５モル）、ＰＢＯＭ１４．３ｇ（０．０４モル）をＮＭＰ５０ｇとともに加えて、８５℃で１時間反応させた。さらに、末端封止剤として、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物３．９ｇ（０．０２４モル）をＮＭＰ１０ｇとともに加えて、８５℃で３０分反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、酢酸５２．８ｇ（０．５０モル）をＮＭＰ８７ｇとともに加えて、室温で１時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を水３Ｌに投入して白色沈殿を得た。この沈殿を濾過で集めて、水で３回洗浄した後、５０℃の通風乾燥機で３日間乾燥し、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ－２）の粉末を得た。

　＜合成例４　ポリイミド前駆体（Ａ－３）の合成＞
　乾燥窒素気流下、合成例１で得られたヒドロキシル基含有ジアミン５１．９ｇ（０．０８６モル）およびＳｉＤＡ１．０ｇ（０．００４モル）をＮＭＰ２００ｇに溶解した。ここにＯＤＰＡ３１．０ｇ（０．１０モル）を加え、４０℃で２時間撹拌した。そして末端封止剤として３－アミノフェノール（東京化成工業（株）製）１．１ｇ（０．０１モル）をＮＭＰ１０ｇとともに加えて、４０℃で１時間反応させた。その後、ジメチルホルアミドジメチルアセタール（三菱レーヨン（株）製、以下、ＤＦＡとする）７．１ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を滴下した。滴下後、４０℃で２時間撹拌を続けた。撹拌終了後、溶液を水２Ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。さらに水２Ｌで３回洗浄を行い、集めたポリマー固体を５０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミド前駆体（Ａ－３）を得た。

　＜合成例５　ポリイミド前駆体（Ａ－４）の合成＞
　乾燥窒素気流下、合成例１で得られたヒドロキシル基含有ジアミン４１．１ｇ（０．０６８モル）、プロピレンオキシドおよびテトラメチレンエーテルグリコール構造を含むジアミン（ＲＴ－１０００、ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）１８．０ｇ（０．０１８モル）およびＳｉＤＡ１．０ｇ（０．００４モル）をＮＭＰ２００ｇに溶解した。ここにＯＤＰＡ３１．０ｇ（０．１０モル）を加え、４０℃で２時間撹拌した。そして末端封止剤として３－アミノフェノール１．１ｇ（０．０１モル）をＮＭＰ１０ｇとともに加えて、４０℃で１時間反応させた。その後、ＤＦＡ６．０ｇ（０．０５モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を滴下した。滴下後、４０℃で２時間撹拌を続けた。撹拌終了後、溶液を水２Ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。さらに水２Ｌで３回洗浄を行い、集めたポリマー固体を５０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミド前駆体（Ａ－４）を得た。

　＜合成例６　ポリイミド（Ａ－５）の合成＞
　乾燥窒素気流下、ＢＡＨＦ２９．３ｇ（０．０８モル）、ＳｉＤＡ１．２ｇ（０．００５モル）、末端封止剤として、３－アミノフェノール３．３ｇ（０．０３モル）をＮＭＰ８０ｇに溶解させた。ここにＯＤＰＡ３１．２ｇ（０．１モル）をＮＭＰ２０ｇとともに加えて、６０℃で１時間反応させ、次いで１８０℃で４時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を水３Ｌに投入して白色沈殿を得た。この沈殿を濾過で集めて、水で３回洗浄した後、８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥し、ポリイミド（Ａ－５）の粉末を得た。

　＜合成例７　カルド樹脂（Ａ－６）の合成＞
　乾燥窒素気流下、還流冷却器付き四つ口フラスコ中にビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂とアクリル酸との等当量反応物（新日鐵化学社製、製品名「ＡＳＦ－４００」溶液）の５０％ＰＧＭＥＡ溶液１９８．５３ｇと、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３９．５４ｇ（０．１２モル）、コハク酸無水物８．１３ｇ（０．０８モル）、ＰＧＭＥＡ４８．１２ｇ及びトリフェニルホスフィン０．４５ｇを仕込み、１２０～１２５℃に加熱下に１時間撹拌し、更に７５～８０℃で６時間の加熱撹拌を行い、その後、グリシジルメタクリレート８．６ｇを投入し、更に８０℃で８時間攪拌し、環状構造を構成している４級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造を有する樹脂（Ａ－６）を得た。

　＜合成例８　フェノール樹脂（Ａ－７）の合成＞
　乾燥窒素気流下、ｍ－クレゾール１０８．１ｇ（１．０モル）、ベンズアルデヒド３４．０ｇ（０．３２モル）、サリチルアルデヒド９０．４ｇ（０．７４モル）、エタノール２００ｇ及びパラトルエンスルホン酸８．６ｇ（０．０５モル）を反応容器に仕込み、６５℃還流下で１８時間反応させた。反応系を苛性ソーダで中和後、メチルイソブチルケトンと水を添加し、５回分液洗浄を行った。エバポレーターでメチルイソブチルケトンを１００℃で減圧留去させ、フェノール樹脂（Ａ－７）を得た。

　＜合成例９　感光剤（キノンジアジド化合物）の合成（Ｂ－１）＞
　乾燥窒素気流下、４，４’－［１－［４－［１－（４－ヒドロキシフェニル－１）－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（本州化学工業（株）製、以下ＴｒｉｓＰ－ＰＡとする）２１．２ｇ（０．０５モル）と５－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリド（東洋合成（株）製、ＮＡＣ－５）２６．８ｇ（０．１０モル）をγ－ブチロラクトン（以下、ＧＢＬとも呼ぶ）４５０ｇに室温において溶解させた。ここに、γ－ブチロラクトン５０ｇと混合したトリエチルアミン１２．７ｇを、系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後４０℃で２時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入した。その後、析出した沈殿を濾過で集め、さらに１％塩酸水１Ｌで洗浄した。その後、さらに水２Ｌで２回洗浄した。この沈殿を真空乾燥機で乾燥し、下記式で表されるキノンジアジド化合物（Ｂ－１）を得た。

　＜合成例１０　感光剤（キノンジアジド化合物）の合成（Ｂ－２）＞
　乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ－ＰＡ２１．２ｇ（０．０５モル）と４－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリド（東洋合成（株）製、ＮＡＣ－５）２６．８ｇ（０．１０モル）をγ－ブチロラクトン４５０ｇに室温において溶解させた。ここに、γ－ブチロラクトン５０ｇと混合したトリエチルアミン１２．７ｇを、系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後４０℃で２時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入した。その後、析出した沈殿を濾過で集め、さらに１％塩酸水１Ｌで洗浄した。その後、さらに水２Ｌで２回洗浄した。この沈殿を真空乾燥機で乾燥し、下記式で表されるキノンジアジド化合物（Ｂ－２）を得た。

　＜合成例１１　ポリイミド前駆体（Ａ－８）の合成＞
　乾燥窒素気流下、１，４－パラフェニレンジアミン３．２ｇ（０．０３モル）および４，４’－ＤＡＥ１２．０ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ２００ｇに溶解した。ここにＯＤＰＡ３１．０ｇ（０．１０モル）を加え、４０℃で２時間撹拌した。そして末端封止剤として３－アミノフェノール（東京化成工業（株）製）１．１ｇ（０．０１モル）をＮＭＰ１０ｇとともに加えて、４０℃で１時間反応させた。その後、ＤＦＡ７．１ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を滴下した。滴下後、４０℃で２時間撹拌を続けた。撹拌終了後、溶液を水２Ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。さらに水２Ｌで３回洗浄を行い、集めたポリマー固体を５０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミド前駆体（Ａ－８）を得た。

　＜合成例１２　ポリイミド前駆体（Ａ－９）の合成＞
　ＯＤＰＡ１５５．１ｇ（０．５０モル）を２リットル容量のセパラブルフラスコに入れ、２－ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１３４．０ｇ（１．００モル）及びγ―ブチロラクトン４００ｇを加えた。室温下で攪拌しながら、ピリジン７９．１ｇを加えることにより、反応混合物を得た。反応による発熱の終了後、室温まで放冷し、更に１６時間静置した。

　次に、氷冷下において、反応混合物に、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）２０６．３ｇ（１．００モル）をγ－ブチロラクトン１８０ｇに溶解した溶液を、攪拌しながら４０分かけて加えた。続いて、１，４－パラフェニレンジアミン１６．２ｇ（０．１５モル）および４，４’－ＤＡＥ６０．１ｇ（０．３０モル）をγ－ブチロラクトン３５０ｇに懸濁した懸濁液を、攪拌しながら６０分かけて加えた。更に室温で２時間攪拌した後、エチルアルコール３０ｍｌを加えて１時間攪拌した。その後、γ－ブチロラクトン４００ｇを加えた。反応混合物に生じた沈殿物を、ろ過により取り除き、反応液を得た。

　反応液を水３Ｌに投入して白色沈殿を得た。この沈殿を濾過で集めて、水で２回洗浄した後、イソプロパノールで１回洗浄した後に５０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミド前駆体（Ａ－９）を得た。

　＜合成例１３　アクリル樹脂（Ａ－１０）の合成＞
　窒素雰囲気の反応容器中に、１５０ｇのジメチルアミノメタノール（以下、「ＤＭＥＡ」；東京化成工業（株）製）を仕込み、オイルバスを用いて８０℃まで昇温した。これに、２０ｇのエチルアクリレート（以下、「ＥＡ」）、４０ｇのメタクリル酸２－エチルヘキシル（以下、「２－ＥＨＭＡ」）、２０ｇのスチレン（以下、「Ｓｔ」）、１５ｇのアクリル酸（以下、「ＡＡ」）、０．８ｇの２，２’－アゾビスイソブチロニトリル及び１０ｇのＤＭＥＡからなる混合物を、１時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８０℃、窒素雰囲気下で６時間重合反応を行った。その後、１ｇのハイドロキノンモノメチルエーテルを添加して、重合反応を停止した。引き続き、５ｇのグリシジルメタクリレート（以下、「ＧＭＡ」）、１ｇのトリエチルベンジルアンモニウムクロライド及び１０ｇのＤＭＥＡからなる混合物を、０．５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８０℃、窒素雰囲気下で２時間付加反応を行った。得られた反応溶液をメタノールで精製して未反応不純物を除去し、さらに２４時間真空乾燥し、共重合比率（質量基準）：ＥＡ／２－ＥＨＭＡ／Ｓｔ／ＧＭＡ／ＡＡ＝２０／４０／２０／５／１５のアクリル樹脂（Ａ－１０）を得た。得られたアクリル樹脂（Ａ－１０）の酸価は１０３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

　＜合成例１４　アクリル樹脂（Ａ－１１）の合成＞
　特許第３１２０４７６号明細書の実施例１に記載の方法により、メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体（質量比３０／４０／３０）を合成した。得られた共重合体１００質量部に対し、グリシジルメタクリレート４０質量部を付加させ、精製水で再沈し、濾過および乾燥することにより、重量平均分子量１５，０００、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル樹脂（Ａ－１１）を得た。

　＜調製例１　感光性導電ペースト１の調製＞
　１００ｍＬクリーンボトルに、樹脂として１０．０ｇのアクリル樹脂（Ａ－１０）、光重合開始剤として０．５０ｇの“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）”ＯＸＥ－０１（チバジャパン（株）製）、溶剤として５．０ｇのＤＭＥＡ及び不飽和二重結合を有する化合物として２．０ｇの“ライトアクリレート（登録商標）”ＢＰ－４ＥＡ（共栄社化学（株）製）を入れ、自転－公転真空ミキサー「あわとり錬太郎ＡＲＥ－３１０」（（株）シンキー製）を用いて混合して、１７．５ｇの樹脂溶液（固形分７１．４質量％）を得た。

　得られた１７．５０ｇの樹脂溶液と、４４．０２ｇの平均粒子径１．０μｍの銀粒子と、０．２８ｇの平均粒子径０．０５μｍのカーボンブラックを混合し、３本ローラーミル「ＥＸＡＫＴ　Ｍ－５０」（ＥＸＡＫＴ社製）を用いて混練し、６１．８ｇの感光性導電ペースト１を得た。なお、銀粒子、カーボンブラックの平均粒子径は、電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、倍率１００００倍、視野幅１２μｍで各粒子を観察し、無作為に選択した４０個の銀粒子およびカーボンブラックの一次粒子について、それぞれの最大幅を測定し、それらの数平均値を算出した。

　＜調製例２　着色材分散液（ＤＣ－１）の製造＞
　着色材として、熱プラズマ法により製造したジルコニア化合物粒子Ｚｒ－１（日清エンジニアリング（株）製）を用いた。Ｚｒ－１　２００ｇ、アクリルポリマー（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３５質量％溶液１１４ｇ、高分子分散剤として３級アミノ基と４級アンモニウム塩を有する“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）”ＬＰＮ－２１１１６２５ｇおよびＰＧＭＥＡ６６１ｇをタンクに仕込み、ホモミキサーで２０分撹拌し、予備分散液を得た。０．０５ｍｍφジルコニアビーズを７５体積％充填した遠心分離セパレーターを具備した寿工業（株）製分散機ウルトラアペックスミルに、得られた予備分散液を供給し、回転速度８ｍ／ｓで３時間分散を行い、固形分濃度２５質量％、着色材／樹脂（質量比）＝８０／２０の着色材分散液（ＤＣ－１）を得た。

　＜調製例３　感光性着色樹脂組成物１の調製＞
　２８３．１ｇの着色材分散液（ＤＣ－１）に、アクリル樹脂（Ａ－１１）のＰＧＭＥＡ３５質量％溶液を１８４．４ｇ、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）を５０．１ｇ、光重合開始剤として“Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）”９０７（ＢＡＳＦ社製）を７．５ｇおよび“ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）”ＤＥＴＸ－Ｓ（日本化薬（株）製）を３．８ｇ、密着改良剤としてＫＢＭ５１０３（信越化学（株）製）を１２．０ｇ、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“ＢＹＫ（登録商標）”３３３（ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ１０質量％溶液３ｇを４５６．１ｇのＰＧＭＥＡに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度２０質量％、着色材／樹脂（質量比）＝３０／７０の感光性着色樹脂組成物１を得た。

　＜調製例４　着色材分散液（ＤＣ－２）の製造＞
　特表２００８－５１７３３０号公報に記載の方法により、スルホン酸基を表面に修飾したカーボンブラック（ＣＢ－Ｂｋ１）の表面元素組成としては（Ｃ：８８％、Ｏ：７％、Ｎａ：３％、Ｓ：２％）であり、Ｓ元素の状態としては、Ｓ２ｐピーク成分のうちＣ－Ｓ及びＳ－Ｓに帰属される成分が９０％、ＳＯ及びＳＯｘに帰属される成分は１０％であり、ＢＥＴ値は５４ｍ２／ｇであった。

　このカーボンブラックＣＢ－Ｂｋ１を（２００ｇ）、アクリル樹脂（Ａ－１１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量％溶液（９４ｇ）、高分子分散剤としてビックケミー・ジャパンＬＰＮ２１１１６、４０質量％溶液（３１ｇ）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（６７５ｇ）をタンクに仕込み、ホモミキサー（特殊機化製）で１時間撹拌し、予備分散液を得た。その後０．０５ｍｍφジルコニアビーズ（ニッカトー製ＹＴＺボール）を７０％充填した遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミル（寿工業製）に予備分散液を供給し、回転速度８ｍ／ｓで２時間分散を行い、固形分濃度２５質量％、顔料／樹脂（質量比）＝８０／２０の着色分散液ＤＣ－２を得た。

　＜調製例５　感光性着色樹脂組成物２の調製＞
　５３４．８ｇの着色材分散液（ＤＣ－２）に、アクリル樹脂（Ａ－１１）のＰＧＭＥＡ４０質量％溶液を１２２．１ｇ、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）を４７．３ｇ、光重合開始剤として“アデカクルーズ”ＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ（株）社製）を１１．８ｇ、密着改良剤としてＫＢＭ５１０３（信越化学（株）製）を１２．０ｇ、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“ＢＹＫ（登録商標）”３３３（ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ１０質量％溶液４ｇを１９４．０ｇのＰＧＭＥＡに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度２５質量％、着色材／樹脂（質量比）＝４５／５５の感光性着色樹脂組成物２を得た。

　＜調製例６　顔料分散液１（Ｃ－４－１）の調製＞
　５７．７ｇの“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）”２００００（三級アミノ基を分子末端に有するポリエーテル系高分子樹脂分散剤）を、溶剤である７５０．０ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、１９２．３ｇの窒化チタン（平均一次粒子径２５ｎｍ；表中、「ＴｉＮ」）を投入して３０分間撹拌した後に、横型ビーズミルを用いて湿式メディア分散処理および濾過（ＰＰフィルタ孔径０．８μｍ）を行い、顔料分散液１（Ｃ－４－１）を調製した。なお、顔料分散液１に含有する窒化チタンの平均分散粒子径は８５ｎｍであった。

　＜調製例７：顔料分散液２（Ｃ－４－２）の調製＞
　有機青色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０（平均一次粒子径６０ｎｍ）、有機赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０（平均一次粒子径５５ｎｍ）、有機黄色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２（平均一次粒子径４０ｎｍ）を用いて、調製例１と同様の手順で各顔料分散液をそれぞれ調製した。なお、顔料分散液に含有する、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の平均分散粒子径は、１６２ｎｍ、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９０の平均分散粒子径は、１１０ｎｍ、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２の平均分散粒子径は９０ｎｍであった。有機青色顔料分散液４００．０ｇ、有機赤色顔料分散液３００．０ｇと、有機黄色顔料分散液３００．０ｇを混合し１０分間撹拌して、擬似黒色分散液である、顔料分散液２（Ｃ－４－２）を調製した。

　＜調製例８　顔料分散液３の調製＞
　３０．００ｇの“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）”２００００を、８５０．０ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、有機黒色顔料である、１２０．０ｇの上ベンゾジフラノン系顔料（平均一次粒子径５０ｎｍ；ＢＡＳＦ製“Ｉｒｇａｐｈｏｒ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｓ０１００を投入して３０分間撹拌した後に、横型ビーズミルを用いて、調製例３と同様の手順で顔料分散液３（Ｃ－４－３）を調製した。なお、顔料分散液３に含有するベンゾジフラノン系顔料の平均分散粒子径は１２０ｎｍであった。

　実施例、比較例に用いた（Ｂ－３）成分、（Ｃ－１）成分、（Ｃ－２）成分、（Ｃ－３）成分、（Ｆ－１）成分、（Ｆ－２）成分、その他成分、溶媒を以下に示す。
（Ｂ－３）成分：光重合開始剤ＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）
（Ｃ－１）成分：Ｐｌａｓｔ　Ｙｅｌｌｏｗ８０７０（極大吸収波長：４６０ｎｍ）（有本化学工業（株）製）
（Ｃ－２）成分：Ｏｉｌ　Ｓｃａｒｌｅｔ５２０６（極大吸収波長：５３０ｎｍ）（有本化学工業（株）製）
（Ｃ－３）成分：Ｐｌａｓｔ　Ｂｌｕｅ８５４０（極大吸収波長：６６０ｎｍ）（有本化学工業（株）製）
その他成分：
ラジカル重合性化合物：
（Ｆ－１）成分：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、共栄社化学（株）製）
熱架橋剤：
（Ｇ－１）成分：ＨＭＯＭ－ＴＰＨＡＰ（本州化学工業（株）製）
（Ｇ－２）成分：ＹＸ－４０００Ｈ（三菱ケミカル（株）製）
溶媒：
ＧＢＬ：ガンマブチロラクトン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。

　表１に（Ａ）樹脂、（Ｂ）感光剤及び（Ｃ）着色剤などから構成される樹脂組成物の配合処方を示す。樹脂組成物１－２１は、表１に記載の溶媒を用いて固形分濃度４０質量％となるように調製した。また、表２－１、表２－２に実施例で使用した樹脂組成物、樹脂組成物の硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍでの光の透過率（％）、硬化膜の全体の厚み（μｍ）、硬化膜の層数、硬化膜を加工した開口パターンの形状と長さ、開口パターンの傾斜辺の角度を示す。

　評価レベル（１）について、表示装置のうち硬化膜により配線のぎらつきを抑制し、隠蔽されかつ、開口パターンの最長長さが２μｍ以下のものをレベルＡ、表示装置のうち硬化膜により配線のぎらつきを抑制し、隠蔽されかつ、開口パターンの最長長さが５μｍ以下のものをレベルＢ、表示装置のうち硬化膜により配線のぎらつきを抑制し、隠蔽されかつ、開口パターンの最長長さが２０μｍ以下のものをレベルＣ、表示装置のうち硬化膜により配線のぎらつきを抑制し、隠蔽されかつ、開口パターンの最長長さが２０μｍより大きいものをレベルＤ、表示装置のうち硬化膜により配線が目視で明確に確認できたものをレベルＥ、とした。

　評価レベル（２）について、傾斜辺の角度が５５°以上８０°以下のものをレベルＡ、４０°以上５５°未満または８０°より大きく８５°以下のものをレベルＢ、４０°未満または８５°より大きいものをレベルＣと評価した。

　（実施例１）（図７の構成）
　図７の作製工程を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図に従って本発明の表示装置の実施例を説明する。

　図７ａに示すように、支持基板１８はガラス基板を使用した。ガラス基板上にはポリイミドからなる仮貼り材料を配置し、配線４ｄとしてＩＴＯをスパッタリング法により仮貼り材料の一部の表面上に形成した。そして、支持基板１８上に発光素子である発光素子２を配置した（工程（Ｄ１）に相当）。発光素子２の厚みは７μｍ、１辺の長さが３０μｍ、もう１辺の長さが５０μｍであった。

　次に、図７ｂに示すように、支持基板１８上および発光素子２上に、表１に記載の樹脂組成物１を加熱処理後１０μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｄ２）に相当）。

　次に、図７ｃに示すように、樹脂膜１９上に所望のパターンを有するマスクを通してｉ線（３６５ｎｍ）を照射した。露光された樹脂膜１９を、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像し、樹脂膜１９の厚さ方向に貫通する複数の開口パターン１２をパターン形成した（工程（Ｄ３）に相当）。開口パターンの形状は円形で、開口パターンのうち、最も小さい領域での底面部の最長長さは直径２μｍであった。

　次に、樹脂膜１９を酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で１１０℃で３０分加熱処理した後、さらに２３０℃６０分熱処理して、硬化させることにより厚み１０μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｄ４）に相当）。樹脂膜１９はそのまま硬化して硬化膜３となる。

　次に、図７ｄに示すように、硬化膜３上にチタンのバリアメタルをスパッタリングし、さらにその上に銅のシード層をスパッタリング法で形成した。そのあと、フォトレジスト層を形成した後、めっき法により、発光素子２と電気的に接続される銅からなる配線４を硬化膜３の開口パターン１２及び硬化膜３の一部の表面上に形成し、その後、フォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去した（工程（Ｄ５）に相当）。硬化膜３の一部の表面上に形成した配線４ａの厚みは５μｍであった。

　その後、図７ｅ～ｆのように、工程（Ｄ２）、工程（Ｄ３）、工程（Ｄ４）および工程（Ｄ５）を２回繰り返し行い硬化膜３を３層形成した。その結果、３層の硬化膜３全体の厚みは３０μｍであった。

　その後、図７ｇにおいて硬化膜３の開口パターン１２にバリアメタル９をスパッタリング法で形成し、バンプ１０を形成した。その後、図７ｈに示すように、２６０℃、１分ではんだをリフローさせ、バンプ１０を介して駆動素子８であるドライバーＩＣを有する発光素子駆動基板７に電気的に接続させ、その後、支持基板１８を剥離し、対向基板５を、接着剤等を用いて貼り合わせることにより、複数の発光素子２を有する表示装置１を得た。なお、発光素子駆動基板７としては銅配線を有するガラス基板を使用し、その側面において、図７ｈに示すように配線４ｃを用い、配線４ｃとして調製例１の感光性導電ペースト１を用いた（工程Ｄ９に相当）。配線４ｃの作製は以下のとおりである。

　＜調製例１の感光性導電ペースト１による配線４ｃの作製＞
　厚さ１６μｍのＰＥＴフィルム上に離型剤が塗布された離型ＰＥＴフィルム上に、感光性導電ペースト１を乾燥後の膜厚が６．０μｍになるように塗布し、得られた塗布膜を１００℃の乾燥オーブン内で１０分間乾燥した。その後、超高圧水銀ランプを有する露光機を用いて３５０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で露光した後、現像液として０．１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、０．１ＭＰａの圧力で３０秒間スプレー現像して、パターンを得た。その後、得られたパターンを３０分間、１４０℃の乾燥オーブン内でキュアして、配線を配した転写用サンプルを得た。得られたパターンのライン幅は５０μｍであり、ライン長さは９０ｍｍであった。転写用サンプルを配線の一部がＲ面取り部を有するガラス端部に配されるように両面に貼り合わせ、ガラス側面部を１３０℃のホットプレートに３０秒間押し当て、その後ホットロールラミネーターを用いて、１３０℃、１．０ｍ／分の条件で残部を転写した。

　（実施例２）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物２からなる樹脂シートに変更し、ラミネートにより樹脂膜１９を形成した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置２を得た。

　（実施例３～１４）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物３～１４に変更した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置３～１４を得た。

　（実施例１５）
　実施例１について支持基板１８上および発光素子２上に、樹脂組成物１を加熱処理後２０μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した。その結果、３層の硬化膜３全体の厚みが４０μｍとなった以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置１５を得た。

　（実施例１６）
　図８の作製工程を示す支持基盤または対向基板に垂直な面での断面図に従って本発明の表示装置の実施例を説明する。
まず、図８ａに示すように、支持基板１８上に銅からなるパッド１７を配置した（工程（Ｅ１）に相当）。パッドの厚みは０．２μｍであった。
次に、図８ｂに示すように、支持基板１８上およびパッド１７上に、表１に記載の樹脂組成物２を加熱処理後１０μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｅ２）に相当）。

　次に、図８ｃに示すように、実施例１に示すフォトリソ工程と同条件により、樹脂膜１９に複数の開口パターン１２を形成した（工程（Ｅ３）に相当）。

　次に、樹脂膜１９を実施例１と同条件により硬化させることにより厚み１０μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｅ４）に相当）。

　続いて、図８ｃにおいて、硬化膜３と配線４との密着性を向上させるため、硬化膜３上にチタンなどのバリアメタルをスパッタリングし、さらにその上に銅シード（シード層）をスパッタリング法で形成した。

　次に、図８ｄに示すように、フォトレジスト層を形成した後、めっき法により、銅からなる配線４を硬化膜３の開口パターン１２及び硬化膜３の一部の表面上に形成した（工程（Ｅ５）に相当）。硬化膜３の一部表面上に形成した配線４の厚みは５μｍであった。その後、フォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去した。

　その後、工程（Ｅ２）、工程（Ｅ３）、工程（Ｅ４）および工程（Ｅ５）を２回繰り返し行い、図８ｅに示すように硬化膜３中に配線４を有する硬化膜３を３層形成した。その結果、３層の硬化膜３の全体の厚みは３０μｍであった。

　次に、図８ｆに示すように、配線４と電気的接続を保持するようにして硬化膜３上に発光素子２を配置した（工程（Ｅ６）に相当）。発光素子２の厚みは７μｍであった。

　次に、図８ｇに示すように、発光素子２上に樹脂組成物２からなる樹脂膜１９を形成し、加熱処理により硬化させ、硬化膜２１を形成した。なお、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で１１０℃で３０分加熱処理した後、さらに２３０℃６０分熱処理して、硬化膜２１を形成した。その後、配線４ｄとしてＩＴＯをスパッタリング法により硬化膜２１の一部の表面上に形成した。

　次に、図８ｈに示すように、支持基板１８を剥離し、バンプ１０を介して駆動素子８であるドライバーＩＣを有する発光素子駆動基板７を電気的に接続し、また、発光素子２に対して対向基板５を、接着剤等を用いて貼り合わせることにより、複数の発光素子２を有する表示装置１６を得た。なお、発光素子駆動基板７としては銅配線を有するガラス基板を使用し、その側面において、図８ｈに示すように配線４ｃを用い、配線４ｃとして調製例１の感光性導電ペースト１を用いた。

　（実施例１７）
　実施例１６の樹脂組成物２を樹脂組成物１０に変更し、支持基板１８は配線４ｃを形成した発光素子駆動基板７として使用し、剥離する工程を経ずにそのまま使用した以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置１７を得た。

　（実施例１８）
　実施例１６のうち、発光素子２上に形成する硬化膜２１としてＴ６９３／Ｒ４０００Ｓｅｒｉｅｓ（ナガセケムテックス（株）製）を用いて、１５０℃６０分熱処理して、硬化膜２１を形成した以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置１８を得た。

　（実施例１９）
　実施例１５と同様な方法で、図８ｅに示す硬化膜３を複数層形成したあとに、後に配される発光素子２間およびその周囲に樹脂組成物２を用いて図９ｆに示すように、隔壁１５を形成し（工程（Ｅ９）相当）、その後は、図９ｇに示すように複数の発光素子２を配置し、図９ｈに示すように、支持基板１８を剥離し、バンプ１０を介して駆動素子８であるドライバーＩＣを有する発光素子駆動基板７を電気的に接続し、また、発光素子２に対して対向基板５を、接着剤等を用いて貼り合わせることにより、複数の発光素子２を有する表示装置１９を得た。なお、発光素子２の厚みは７μｍであり、隔壁の厚みは１０μｍであった。

　（実施例２０）
　図１７ａに示すように、支持基板１８の上に隔壁１５を形成した（工程Ｄ８に相当）。次に図１７ｂに示すように、隔壁１５の間に発光素子２を形成した（工程（Ｄ１に相当））。それ以外は、実施例３と同様な工程で表示装置２０を製造した。なお、発光素子２の厚みは７μｍであり、隔壁１５の厚みは１０μｍで形成した。隔壁１５は公知の白色顔料を含むアクリル樹脂を用いた。

　（実施例２１）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物１７に変更し、露光前にフォトレジストを形成し、現像後にフォトレジストを除去した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置２１を得た。

　（実施例２２）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物１８に変更した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置２２を得た。

　（実施例２３）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物１９に変更し、露光された樹脂膜１９を、シクロペンタノンを用いて現像した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置２３を得た。

　（実施例２４～２５）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物２０～２１に変更し、支持基板１８上および発光素子２上に、表１に記載の樹脂組成物１を加熱処理後８μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｄ２）に相当）。

　次に、図７ｃに示すように、樹脂膜１９上に所望のパターンを有するマスクを通してｉ線（３６５ｎｍ）を照射した。露光された樹脂膜１９を、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像し、樹脂膜１９の厚さ方向に貫通する複数の開口パターン１２をパターン形成した（工程（Ｄ３）に相当）。

　次に、樹脂膜１９を酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で１１０℃で３０分加熱処理した後、さらに２３０℃６０分熱処理して、硬化させることにより厚み８μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｄ４）に相当）。樹脂膜１９はそのまま硬化して硬化膜３となる。

　次に、図７ｄに示すように、硬化膜３上にチタンのバリアメタルをスパッタリングし、さらにその上に銅のシード層をスパッタリング法で形成した。そのあと、フォトレジスト層を形成した後、めっき法により、発光素子２と電気的に接続される銅からなる配線４を硬化膜３の開口パターン１２及び硬化膜３の一部の表面上に形成し、その後、フォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去した（工程（Ｄ５）に相当）。硬化膜３の一部の表面上に形成した配線４ａの厚みは２μｍであった。

　その後、図７ｅ～ｆのように、工程（Ｄ２）、工程（Ｄ３）、工程（Ｄ４）および工程（Ｄ５）を２回繰り返し行い硬化膜３を３層形成した。なお、２層目、３層目の硬化膜３は加熱処理後４μｍとなるように形成した。その結果、３層の硬化膜３全体の厚みは１６μｍであった。それ以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置２４～２５を得た。

　（実施例２６）
　実施例１６の樹脂組成物２を樹脂組成物１８に変更した以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置２６を得た。

　（実施例２７）
　実施例１６の樹脂組成物２を樹脂組成物１９に変更し、露光された樹脂膜１９を、シクロペンタノンを用いて現像した以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置２７を得た。

　（実施例２８～２９）
　実施例１６の樹脂組成物２を樹脂組成物２０～２１に変更し、図８ｂに示すように、支持基板１８上およびパッド１７上に、樹脂組成物２０～２１を加熱処理後４μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｅ２）に相当）。

　次に、樹脂膜１９を実施例１と同条件により硬化させることにより厚み４μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｅ４）に相当）。

　次に、図８ｄに示すように、フォトレジスト層を形成した後、めっき法により、銅からなる配線４を硬化膜３の開口パターン１２及び硬化膜３の一部の表面上に形成した（工程（Ｅ５）に相当）。硬化膜３の一部表面上に形成した配線４の厚みは２μｍであった。その後、フォトレジストおよびシード層、バリアメタルを除去した。

　その後、工程（Ｅ２）、工程（Ｅ３）、工程（Ｅ４）および工程（Ｅ５）を２回繰り返し行い、図８ｅに示すように硬化膜中に配線４を有する硬化膜３を３層形成した。その結果、３層の硬化膜３の全体の厚みは１２μｍであった。それ以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置２８～２９を得た。

　（実施例３０）
　実施例３において、図７ｈに示すように発光素子駆動基板７としてＴＦＴ基板を使用し、その側面において、レーザー加工により溝を形成し、スパッタリングによってチタン、銅の順に形成した後、めっき法により銅を形成し配線４ｃとした（工程Ｄ９に相当）。それ以外は実施例３と同様の方法で行い、表示装置３０を得た。

　（実施例３１）
　実施例１６において、図８ｈに示すように発光素子駆動基板７としてＴＦＴ基板を使用し、その側面において、レーザー加工により溝を形成し、スパッタリングによってチタン、銅の順に形成した後、めっき法により銅を形成し配線４ｃとした（工程Ｅ１１に相当）。それ以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置３１を得た。

　（実施例３２）
　実施例３０の発光素子駆動基板７の側面において、図７ｈに示すように配線４ｃを用い、配線４ｃとして調製例１の感光性導電ペースト１を用いた（工程Ｄ９に相当）。それ以外は実施例３０と同様の方法で行い、表示装置３２を得た。

　（実施例３３）
　実施例３１の発光素子駆動基板７の側面において、図８ｈに示すように配線４ｃを用い、配線４ｃとして実施例３２記載の感光性導電ペースト１を用いた（工程Ｅ１１に相当）。それ以外は実施例３１と同様の方法で行い、表示装置３３を得た。

　（実施例３４）
　実施例３０の発光素子駆動基板７としてプリント配線板を用い、配線４ｃを形成せずプリント配線板中の配線およびバンプ１０を通じて駆動素子８と配線４を接続した以外は実施例３０と同様の方法で行い、表示装置３４を得た。

　（実施例３５）
　実施例３１の発光素子駆動基板７としてプリント配線板を用い、配線４ｃを形成せずプリント配線板中の配線およびバンプ１０を通じて駆動素子８と配線４を接続した以外は実施例３１と同様の方法で行い、表示装置３５を得た。

　（実施例３６）
　図１８ａに示すように、支持基板１８の上に遮光層２５を形成した（工程Ｄ１０に相当）。次に図１８ａに示すように、遮光層２５の間に発光素子２を形成した（工程（Ｄ１に相当））。それ以外は、実施例３と同様な工程で表示装置３６を製造した。遮光層２５の作製は以下のとおりである。

　＜遮光層２５の作製＞
　着色樹脂組成物１を、支持基板１８に加熱処理後１μｍとなるように塗布し、塗布膜を１００℃のホットプレート上で２分間加熱乾燥した。この乾燥膜に対して、超高圧水銀ランプを有する露光機を用いて、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で露光した。次に、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液のアルカリ現像液を用いて現像し、続いて純水洗浄することにより、パターン膜を得た。得られたパターン膜を熱風オーブン中２３０℃で３０分間ポストベイクして遮光層を得た。

　（実施例３７）
　実施例３６の遮光層２５を着色樹脂組成物２に変更して遮光層２５を形成した以外は、実施例３６と同様な工程で表示装置３７を製造した。

　（実施例３８）
　図７ｆにおいて、バンプ１０と接する配線４ａの厚みを１０μｍ、配線４ａの一部の表面上に形成した硬化膜３の厚みを１５μｍとし、硬化膜３全体の厚みを３５μｍとした以外は、実施例３と同様な工程で表示装置３８を得た。

　（実施例３９）
　図８ｂにおいて、パッド１８の厚みを１０μｍ、パッドの一部の表面上に形成した硬化膜３の厚みを１５μｍとし、硬化膜３全体の厚みを３５μｍとした以外は、実施例１６と同様な工程で表示装置３９を得た。

　（実施例４０）
　図１９の作製工程断面図に従って本発明の表示装置の実施例を説明する。
図１９ａに示すように、発光素子駆動基板７として、ＴＦＴアレイ基板を用いて、発光素子駆動基板７上に表１に記載の樹脂組成物２を加熱処理後３μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｆ１）に相当）。なお、配線４の厚みは１μｍであった。

　次に、実施例２に示すフォトリソ工程と同条件により、樹脂膜１９に複数の開口パターン１２を形成した（工程（Ｆ２）に相当）。

　次に、樹脂膜１９を実施例３と同条件により硬化させることにより厚み３μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｆ３）に相当）。

　次に、図１９ｂに示すように、硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に前記配線を形成する工程である。フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、配線４ｅとしてＩＴＯをスパッタリング法により硬化膜３の一部の表面上に形成した。その後、不要なフォトレジストを除去した。（工程（Ｆ４）に相当）。ＩＴＯの厚みは０．１μｍであった。

　次に、図１９ｃに示すように、工程（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｆ３）を繰り返して、表１に記載の樹脂組成物３を硬化させることにより厚み３μｍの硬化膜３を形成した。その後、配線４ｃとして調製例１の感光性導電ペースト１を用いた配線４ｃを形成した。

　次に、図１９ｄに示すように、硬化膜３の上に隔壁１５を形成した。次に隔壁１５の間に発光素子２を形成した（工程（Ｆ５に相当））。なお、発光素子２の厚みは７μｍであり、隔壁１５の厚みは８μｍで形成した。隔壁１５は公知の白色顔料を含むアクリル樹脂を用いた。硬化膜３および発光素子２上に樹脂組成物２からなる樹脂膜１９を形成し、加熱処理により硬化させ、硬化膜２１を形成した。配線４ｄとしてＩＴＯをスパッタリング法により硬化膜３の一部の表面上に形成した。

　その後、図１９ｅに示すように、接着剤を用いて対向基板５を貼り合わせた。ドライバーＩＣなど駆動素子８は配線４ｃや硬化膜３中に延在した配線４、配線４ｅを介して発光素子２と電気的に接続することにより、複数の発光素子２を有する表示装置４０を得た。

　（実施例４１～４２）
　実施例４０の樹脂組成物２を樹脂組成物１３、２１に変更した以外は実施例４０と同様の方法で行い、表示装置４１～４２を得た。

　（実施例４３）
　図２２に示したような、不連続な面に電極をそれぞれ具備する発光素子２を用いて、ガラス基板上にはポリイミドからなる仮貼り材料を配置し、そして、仮貼り材料を配置した支持基板１８上に発光素子である発光素子２を配置した（工程（Ｄ１）に相当）以外は実施例３と同様の方法で行い、表示装置４３を得た。

　（実施例４４）
　図２３に示したような、不連続な面に電極をそれぞれ具備する発光素子２を用いた以外は実施例１６と同様の方法で行い、表示装置４４を得た。

　（実施例４５）
　図２４に示したような、不連続な面に電極をそれぞれ具備する発光素子２を用いた以外は実施例４０と同様の方法で行い、表示装置４５を得た。

　（実施例４６）
　硬化膜３の層数を１層、全体の厚みを５μｍとした以外は実施例２５と同様の方法で行い、表示装置４６を得た。

　（実施例４７）
　硬化膜３の層数を５層、全体の厚みを５０μｍとした以外は実施例３と同様の方法で行い、表示装置４７を得た。

　（実施例４８）
　硬化膜３の層数を４層、全体の厚みを６０μｍとした以外は実施例３と同様の方法で行い、表示装置４８を得た。

　（実施例４９）
　硬化膜３の層数を１１層、全体の厚みを１１０μｍとした以外は実施例３と同様の方法で行い、表示装置４９を得た。

　（実施例５０）
　図２９の作製工程を示す発光素子駆動基板に垂直な面での断面図に従って本発明の第２の態様にかかる表示装置の実施例５０を説明する。
図２９ａに示すように、発光素子駆動基板７として、ＴＦＴアレイ基板を用いて、発光素子駆動基板７上に表１に記載の樹脂組成物１３を加熱処理後３μｍとなるように塗布し、樹脂膜１９を形成した（工程（Ｇ１）に相当）。なお、配線４の厚みは１μｍであった。
次に、実施例３に示すフォトリソ工程と同条件により、樹脂膜１９に複数の開口パターン１２を形成した（工程（Ｇ２）に相当）。

　次に、樹脂膜１９を実施例３と同条件により硬化させることにより厚み３μｍの硬化膜３を形成した（工程（Ｇ３）に相当）。

　次に、図２９ｂに示すように、硬化膜の表面の少なくとも一部及び前記硬化膜の前記開口パターンの一部に前記配線を形成する工程である。フォトレジスト層（図示せず）を形成した後、配線４ｅとしてＩＴＯをスパッタリング法により硬化膜３の一部の表面上に形成した。その後、不要なフォトレジストを除去した。（工程（Ｇ４）に相当）。ＩＴＯの厚みは０．１μｍであった。

　次に、図２９ｃに示すように、配線４ｃとして調製例１の感光性導電ペースト１を用いた配線４ｃを形成した。

　次に、図２９ｄに示すように、硬化膜３の上に隔壁１５を形成した。次に隔壁１５の間に発光素子２を形成した（工程（Ｇ５に相当））。なお、発光素子２の厚みは７μｍであり、隔壁１５の厚みは８μｍで形成した。隔壁１５は公知の白色顔料を含むアクリル樹脂を用いた。硬化膜３および発光素子２上に樹脂組成物２からなる樹脂膜１９を形成し、加熱処理により硬化させ、硬化膜２１を形成した。配線４ｄとしてＩＴＯをスパッタリング法により硬化膜３の一部の表面上に形成した。

　その後、図２９ｅに示すように、接着剤を用いて対向基板５を貼り合わせた。また、ドライバーＩＣなど駆動素子８は配線４ｃや硬化膜３中に延在した配線４、配線４ｅを介して発光素子２と電気的に接続することにより、複数の発光素子２を有する表示装置５２を得た。

　（実施例５１）
　実施例５０の樹脂組成物１３を樹脂組成物２１に変更した以外は実施例５０と同様の方法で行い、表示装置５３を得た。

　（実施例５２）
　図２８に示したような、不連続な面に電極をそれぞれ具備する発光素子２を用いた以外は実施例５０と同様の方法で行い、表示装置５４を得た。

　（実施例５３）
　実施例５２の樹脂組成物１３を樹脂組成物２１に変更した以外は実施例５２と同様の方法で行い、表示装置５５を得た。

　その結果、表示装置１～４９、５２～５５は硬化膜３の光透過率が十分低いため、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高めることができた。かつ、従来のフレキシブル基板に比較して、硬化膜の厚みが小さいため、パッケージ低背化や配線短距離化による配線の短絡など配線不良の抑制や低損失化、高速応答性の向上が可能であった。さらに表示装置１～２０、２２～４９、５２、５４は微細加工が可能なため、微小な発光素子が適用可能であり、また発光素子の高密度実装が可能であった。また、隔壁１５としても樹脂組成物からなる硬化膜が適用可能であり、隔壁を形成することで、対向基板の貼り合わせが容易になった。さらに、表示装置１３、２４～２５、２８～２９、４１～４２、５２～５５は硬化膜３が黒色のため、硬化膜３が配線４を隠蔽し、配線４のぎらつきを抑制し、外部から視認しづらくして意匠性を高める他、外光反射低減やコントラスト向上により、視認性を高めることができた。さらに、表示装置１～３３、３６～４９、５２～５５は配線４ｃの少なくとも一部は、基板の側面に延在しているため、表示装置自体の低背化や高速応答性が向上し、さらに表示装置をより小型化、狭額縁化することが可能であった。また、表示装置３６、３７は複数の発光素子の間に遮光層を形成することで、光取り出し効率を大きく損なうことなく、発光素子からの光漏れや各画素間の混色を抑制し、コントラストを向上させることが可能であった。表示装置３８、３９は発光素子２に近い配線の厚みに比べ、バンプ１０に近い配線の厚みが厚いことにより、バンプ１０を用いた発光素子駆動基板７の接続時に配線不良を抑制でき、信頼性の高い表示装置を得ることが可能であった。表示装置４６、５２～５５は硬化膜３の層数が１層のため、発光素子の配置可能数は限定的であった。表示装置４９は硬化膜全体の厚みが１００μｍを超え、段差平坦性が低下したため、発光素子実装時に課題が生じた。

　（比較例１～２）
　実施例１の樹脂組成物１を樹脂組成物１５～１６に変更した以外は実施例１と同様の方法で行い、表示装置５０～５１を得た。

　その結果、表示装置５０～５１は硬化膜３の光の透過率が十分高いため、硬化膜３の配線４に対するぎらつきの抑制を含む隠蔽性が不十分であった。

１　表示装置
２　発光素子
３　硬化膜
４、４ｃ、４ｄ、４ｅ　配線
４ａ　硬化膜の表面に配されている配線の厚み
４ｂ　硬化膜中の厚さ方向に貫通する開口パターンに延在している配線の厚み
５　対向基板
６　電極
７　発光素子駆動基板
８　駆動素子
９　バリアメタル
１０　バンプ
１１ａ　指定領域Ａ
１１ｂ　指定領域Ｂ
１２　開口パターン
１３　配線４の底面部
１４　底面部の最長長さ
１５　隔壁
１６　外部基板
１７　パッド
１８　支持基板
１９　樹脂膜
２０　硬化膜の全体の厚み
２１　硬化膜
２２　ＴＦＴ
２３　ＴＦＴ絶縁層
２４　コンタクトホール
２５　遮光層
２６　傾斜辺
２７　傾斜辺の角度
２８　硬化膜３の厚み
２９　効果膜３の厚み１／２の位置

Claims

少なくとも配線、硬化膜及び複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記電極の少なくとも一方は前記硬化膜中に延在する複数本の前記配線と接続し、複数本の前記配線は、前記硬化膜により電気的絶縁性を保持する構成であり、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である、表示装置。
前記硬化膜の厚み基準５μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、７９％以下である、請求項１に記載の表示装置。
前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、２５％以下である、請求項１に記載の表示装置。
前記硬化膜の全体の厚みが５μｍ以上、１００μｍ以下である、請求項１または２に記載の表示装置。
前記硬化膜の層数が２層以上１０層以下である、請求項１または２に記載の表示装置。
前記硬化膜には厚さ方向に貫通する開口パターンが設けられ、少なくとも前記開口パターンに前記配線を配する構成であり、前記発光素子と接した位置に形成される前記配線の底面部の最長長さが２μｍ以上、２０μｍ以下である、請求項１または２に記載の表示装置。
前記硬化膜が前記発光素子の光取り出し面以外の面を覆う構成である、請求項１または２に記載の表示装置。
少なくとも、配線および／またはＴＦＴを有する基板、硬化膜ならびに複数の発光素子を有する表示装置であって、前記発光素子は異なる２つの面に電極をそれぞれ具備し、前記配線および／またはＴＦＴの少なくとも一部は前記硬化膜と接し、前記硬化膜は、（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物を硬化した膜であり、前記硬化膜の厚み基準１μｍでの波長４５０ｎｍの光の透過率が、０．１％以上、９５％以下である、表示装置。
複数の前記発光素子の間に、前記発光素子の厚み以上の厚みを有する隔壁を有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記発光素子が１辺の長さが５μｍ以上、７００μｍ以下のＬＥＤである、請求項１または８に記載の表示装置。
さらに、駆動素子及び基板を有し、前記駆動素子は配線を通じて前記発光素子に接続され、さらに前記配線の少なくとも一部は、前記基板の側面に延在する、請求項１または８に記載の表示装置。
複数の前記発光素子の間に、遮光層を有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂が、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体およびそれらの共重合体からなる群より選択される１種以上の樹脂を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｂ）感光剤を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－１）波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がさらに、（Ｃ）着色剤を含有し、前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－３）波長５８０ｎｍを超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ｃ）着色剤が、（Ｃ－１）波長４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤とともに、さらに、（Ｃ－２）波長４９０ｎｍを超えて５８０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤および（Ｃ－３）波長５８０ｎｍを超えて８００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を持つ着色剤を含有する、請求項１または８に記載の表示装置。
前記（Ａ）樹脂を含む樹脂組成物がポジ型感光性である、請求項１または８に記載の表示装置。