WO2023105910A1

WO2023105910A1 - ガスワイピングノズル及び溶融金属めっき鋼帯とガスワイピングノズルの製造方法

Info

Publication number: WO2023105910A1
Application number: PCT/JP2022/037767
Authority: WO
Inventors: 優伊藤; 秀行 ▲高▼橋; 研二山城; 琢実小山; 慶彦加來
Original assignee: Ｊｆｅスチール株式会社
Priority date: 2021-12-10
Filing date: 2022-10-11
Publication date: 2023-06-15
Also published as: AU2022407620A1; JPWO2023105910A1; JP7435898B2

Abstract

溶融金属のスプラッシュを容易に除去でき、さらに線状マーク欠陥のない美麗な鋼板を得ることが可能なガスワイピングノズル、及び溶融金属めっき鋼帯とガスワイピングノズルの製造方法を提供することを目的とする。　溶融金属浴から引き上げられた鋼帯の表面の溶融金属の付着量を調整するガスワイピングノズルにおいて、少なくとも該ガスワイピングノズルの表面がセラミックスで構成され、かつ該ガスワイピングノズルの算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが式（１）を満たすことを特徴とする、ガスワイピングノズルと、当該ガスワイピングノズルを用いた溶融金属めっき鋼帯の製造方法。　ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　（１）　ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）　Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］　ｃ１、ｃ２：定数。

Description

ガスワイピングノズル及び溶融金属めっき鋼帯とガスワイピングノズルの製造方法

　本発明は、建材、自動車、家電などの分野で広く使用される、溶融金属めっき鋼帯を製造するための溶融金属めっきラインで用いられるガスワイピングノズルと、当該溶融金属めっき鋼帯と当該ガスワイピングノズルの製造方法に関するものである。

　溶融金属めっき鋼帯の一種である溶融亜鉛めっき鋼板は、建材、自動車、家電などの分野で広く使用されている。そして、これらの用途では、外観に優れることが溶融亜鉛めっき鋼板に対して要求される。ここで、塗装後の外観は、めっき膜厚むら、疵、異物付着などの表面欠陥の影響を強く受けるため、溶融亜鉛めっき鋼板には表面欠陥が存在しないことが重要である。

　連続溶融金属めっきラインでは、図１に示すように、還元雰囲気の連続焼鈍炉で焼鈍された鋼帯Ｓは、スナウト１０内を通過して、めっき槽１２内の溶融金属浴１４中に連続的に導入される。その後鋼帯Ｓは、溶融金属浴１４中のシンクロール１６、サポートロール１８を介して溶融金属浴１４の上方に引き上げられ、ガスワイピングノズル２０、２０’で所定のめっき厚みに調整された後に、冷却されて後工程に導かれる。ガスワイピングノズル２０、２０’は、めっき槽１２の上方に、鋼帯Ｓを挟んで対向して配置され、その噴射口から鋼帯Ｓの両面に向けてガスを吹き付ける。このガスワイピングにより、余剰な溶融金属が掻き取られて、鋼帯表面のめっき付着量が調整されるとともに、鋼帯表面に付着した溶融金属が板幅方向及び板長手方向で均一化される。ガスワイピングノズル２０、２０’は、多様な鋼帯幅に対応するとともに、鋼帯引き上げ時の幅方向の位置ズレなどに対応するため、通常、鋼帯幅より幅広く構成され、鋼帯の幅方向端部より外側まで延びている。

　図１に加えて図２も参照して、一対のガスワイピングノズル２０、２０’は、めっき槽１２上方に、鋼帯Ｓを挟んで対向して配置される。ガスワイピングノズル２０、２０’は、その先端で鋼帯の板幅方向Ｘに延在する噴射口２４（スリット）から鋼帯Ｓに向けてガスを吹き付ける。片方のガスワイピングノズル２０からは鋼帯の片面に向けてガスが吹き付けられ、他方のガスワイピングノズル２０’からは鋼帯の他面に向けてガスが吹き付けられる。これにより、鋼帯Ｓの両面において、余剰な溶融金属が掻き取られて、めっき付着量が調整され、かつ、板幅方向Ｘ及び板長方向Ｚで均一化される。ガスワイピングノズル２０、２０’は、多様な鋼帯幅に対応するとともに、鋼帯引き上げ時の幅方向の位置ズレなどに対応するため、通常、鋼帯幅より長く構成され、鋼帯の幅方向端部より外側まで延びている。

　図３を参照して、ワイピングノズル２０は、ノズルヘッダ２６と、このノズルヘッダ２６に連結された上ノズル部材２１、下ノズル部材２２を有する。上ノズル部材２１と下ノズル部材２２とを上下に合わせることで、ワイピングノズル２０の先端にスリット２４が区画され、さらにスリット２４に連通する中空部２５が区画される。すなわち、上下ノズル部材２１、２２の先端部分は、互いに平行に対向した平面を有しており、これら平面間の空間がスリット２４となる。スリット２４は、ガスの噴射口を構成し、板幅方向Ｘに延在している。

　このようなガスワイピング方式では、ワイピングガスの噴射によって飛散した溶融金属の液滴（以下、スプラッシュと称する）がスリットに付着することがある。付着したスプラッシュはワイピングガスを遮るため、板幅方向に均一にガスを噴射することができなくなる。その結果スリット内のスプラッシュが付着した位置に対応する鋼帯表面の位置に、線状マークと呼ばれる筋状のめっき膜厚ムラ欠陥が生じ、歩留まりが大きく低下する。

　そこで、特許文献１には、ガスワイピングノズルのガス噴出先端部の表面に炭素、窒素、ホウ素、ケイ素等のイオンを打ち込む表面処理を行うことで、スプラッシュとノズルの濡れ性を低くし、スプラッシュを容易に除去する技術が記載されている。

　また、特許文献２には、ガスワイピングノズルの噴射口をカーボン材またはセラミックスで形成することで、特許文献１と同じく、スプラッシュを容易に除去する技術が記載されている。

特公平６－１７５６０号公報特開２００８－１９０００１号公報

Ｒｅｖｉｅｗ　ｏｆ　Ｐｏｌａｒｏｇｒａｐｈｙ，　Ｖｏｌ．５４，　Ｎｏ．２，（２００８）

　しかしながら、特許文献１及び２に記載された方法では、完全にスプラッシュを除去するまでには至らず、一部スプラッシュが残存することが判明した。スプラッシュが残存すると、その部分を起点にさらにスプラッシュが堆積、成長するため、操業時間が延びるにつれ、より目立つ線状マークが発生してしまう。さらには固着したスプラッシュを手入れによって除去しようとすると、その除去に多大な労力と時間が必要になり、さらにはノズル表面に傷が入ってしまうという問題も生じる。

　そこで本発明は、上記課題に鑑み、溶融金属のスプラッシュを容易に除去でき、さらに線状マーク欠陥のない美麗な鋼板を得ることが可能なガスワイピングノズル、及び溶融金属めっき鋼帯とガスワイピングノズルの製造方法を提供することを目的とする。

　上記課題を解決するために、本発明のガスワイピングノズルにおいて、溶融金属に濡れにくい材質を用いることとした。溶融金属に濡れにくい材質とは、セラミックスを指す。

　しかしながら、上記対策のみではスプラッシュの完全除去は難しい。そこで、本発明者らは、溶融金属の濡れ性低下手法として、後に詳細を説明する式（１）を用いてノズル表面の粗度を制御することに着想した。
ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
ｃ１、ｃ２：定数
　上記知見に基づき完成された本発明の要旨は以下のとおりである。
［１］溶融金属浴から引き上げられた鋼帯にガスを吹き付けて、前記鋼帯の表面の溶融金属の付着量を調整するガスワイピングノズルにおいて、前記ガスワイピングノズルは、少なくともその表面がセラミックスで構成され、かつ該ガスワイピングノズルの表面粗度を示す指標である算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが下記式（１）を満たす、ガスワイピングノズル。
ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
ｃ１、ｃ２：定数
［２］前記ガスワイピングノズルの材質がセラミックスである、［１］に記載のガスワイピングノズル。
［３］前記溶融金属浴に連続的に鋼帯を浸漬し、前記溶融金属浴から引き上げられる鋼帯を挟んで互いに対向して配置された、［１］又は［２］に記載のガスワイピングノズルから、前記鋼帯にガスを吹き付けて、該鋼帯の両面の溶融金属の付着量を調整して、連続的に溶融金属めっき鋼帯を製造する、溶融金属めっき鋼帯の製造方法。
［４］［１］又は［２］に記載のガスワイピングノズルの製造方法であって、ガスワイピングノズル又はガスワイピングノズルの表面を構成する材質を選択する工程と、ガスワイピングノズルの表面の加工方法と加工条件を選択する工程と、を含み、該ガスワイピングノズルの表面粗度を示す指標である算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが式（１）を満たすように、前記材質、及び／又は、前記加工方法と前記加工条件を選択する、ガスワイピングノズルの製造方法。
ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
ｃ１、ｃ２：定数

　本発明は、溶融金属の溶融スプラッシュを容易に除去でき、さらに線状マーク欠陥のない美麗な鋼板の製造を可能とするガスワイピングノズルを提供する。これにより、溶融金属めっき鋼帯の製造において、歩留まりを著しく高めるため、産業上の利用価値は極めて高い。

図１は、本発明の一実施形態で用いる連続溶融金属めっき設備の構成を示す模式図である。図２は、本発明のガスワイピングノズルの模式的な斜視図である。図３は、本発明のガスワイピングノズルの、鋼帯及び浴面に垂直な模式断面図である。図４は、Ｗｅｎｚｅｌの式に基づいた表面粗さと濡れ性の関係を示す模式図である。図５は、算術平均粗さＲａとピークカウントＰＰＩとの関係における、亜鉛付着量の判定を表すグラフである。

　本発明の実施形態について、図面を参照しながら以下に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態における構成要素には、当業者が容易に置換可能なもの、あるいは実質的に同一のものも含まれる。

　図１は、本発明の一実施形態で用いる、連続溶融亜鉛めっき設備１００の構成を模式的に示している。本発明の連続溶融亜鉛めっき設備１００は、従来のものを用いることができる。

　図２は、本発明のガスワイピングノズル２０を模式的に表した斜視図である。なお、ガスワイピングノズル２０’の説明は以下省略するが、ガスワイピングノズル２０と同様の構成である。このガスワイピングノズル２０は、溶融金属浴から引き揚げられた鋼帯Ｓにガスを吹き付けて、前記鋼帯の表面の溶融金属の付着量を調整するものであるが、その部品構成や当該部品の組み立て方法については、従来のものを用いることができる。

　一方で本発明は、溶融金属（スプラッシュ）が接触する当該ガスワイピングノズル２０のノズル表層部２３の材質と、その表面粗さに特徴を有するものである。つまり、少なくともガスワイピングノズル２０の表面（つまり、ノズル表層部２３）がセラミックスで構成されている必要がある。ここで、ノズル表層部２３とは、図３において、２３として破線で示す領域である。すなわち、上下ノズル部材２１、２２の外表面において、二点破線で示すＡ－Ａ’からガスワイピングノズル２０の先端までの領域で、かつ、ノズルの中空部２５に面する表面は含まない領域である。また、当該ガスワイピングノズル２０は、表面だけでなく、その全体をセラミックスで構成することが好ましい。

　なお、ガスワイピングノズル２０の少なくとも表面をセラミックスとする理由は、セラミックスは溶融金属と反応しないため、固着せず、スプラッシュを容易に除去できるということにある。さらに、図４に示すように、セラミックスの表面粗さを大きくすることで、溶融金属とガスワイピングノズル２０との間の濡れ性を低下させ、溶融金属によるスプラッシュをさらに容易に除去でき、その結果、膜厚ムラ欠陥の抑制という利点が得られる。

　上記セラミックスとして、例えば、アルミナ、ジルコニア、酸化マグネシウム、酸化クロム等の酸化物セラミックス、炭化ケイ素、炭化チタン、クロムカーバイド等の炭化物セラミックスがある。この他、窒化ケイ素、窒化チタン、サイアロン、窒化ホウ素等の窒化物セラミックス、ホウ化ジルコニウム、ホウ化チタン等のホウ化物セラミックス等が好適であるが、これらに限定されるものではない。なお、ここに例示した炭化物セラミックス、窒化物セラミックス、ホウ化物セラミックスを総称して非酸化物セラミックスと呼ぶことがある。そして、スプラッシュの付着は、上述のノズル表層部２３の他、特にガスワイピングノズルの噴出口付近に多いため、図３に示す上ノズル部材２１や下ノズル部材２２も溶融金属に濡れにくいセラミックスを適用することが好ましい。

　ノズル表層部２３をセラミックスの皮膜により形成する場合のセラミック被膜の形成法は、以下のとおりである。気相法でのＣＶＤ法（減圧、プラズマ）、ＰＶＤ法（真空蒸着、イオンプレーティング）、融液法での溶射法、または溶液を塗布、焼成するスラリーコーティング法が適しているが、これらに限定されるものではない。膜厚は、被膜の種類や形成法によるが、ノズル清掃による剥離を考慮すると、５～１００μｍ程度が望ましい。

　このような材質を用いることに加え、上記ガスワイピングノズルの表面粗度を示す算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが式（１）を満たす必要がある。
ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
ｃ１、ｃ２：定数
　式（１）を満たさない場合には、ガスワイピングノズルから完全にスプラッシュを除去できず、溶融亜鉛めっき鋼板に線状マーク欠陥が発生してしまう。この式（１）を満たすためには、スプラッシュが接触するガスワイピングノズル表面の算術平均粗さＲａやピークカウントＰＰＩを制御する必要がある。

　当該表面粗度とＰＰＩの制御は、ガスワイピングノズル２０の表面（つまり、ノズル表層部２３）において行う。

　ここで、当該式（１）について説明する。濡れの概念は、Ｗｅｎｚｅｌの式から公知である。

　式（２）に、表面粗さと固体表面の濡れ性の関係を表すＷｅｎｚｅｌの式を示す。式（２）は、非特許文献１に示されている。
ｃｏｓθｗ＝ｒｃｏｓθｅ　　　　　（２）
θｗ：粗化表面における見かけの接触角
θｅ：平滑表面に整地した液滴の接触角
ｒ：平面に対する粗面の面積比（ｒ≧１）
　（２）式を基に、濡れ特性を模式的に表した図を図４に示す。図４は表面粗さが増加するにつれて、接触角がさらに増加する、換言すれば、濡れにくくなることを示している。

　そこで、発明者らは、（２）式のｒの代わりに表面粗さを表す指標である算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩを用いて濡れ性の評価を行うことにした。具体的には、Ｒａ及びピークカウントＰＰＩと濡れ性の関係を、Ｒａ及びＰＰＩの異なるサンプルを作成し、実験値から調査した。以下に、実験内容及び条件について説明する。

　実験内容：
表面粗さの異なる試験片を溶融金属浴に所定時間浸漬した後、空冷で室温まで冷却した。実験前後の試験片重量の差分を浸漬面積で除算した値を亜鉛付着量［μｇ／ｍ^２］として記録し、以下の基準により判定を行った。
×：不合格：亜鉛付着量≧５．０μｇ／ｍ^２
〇：合格：亜鉛付着量＜５．０μｇ／ｍ^２
　実験条件：
試験片材質：サイアロン
試験片の寸法：縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚み３ｍｍ
試験片表面の算術平均粗さＲａ：０．０１～５μｍ
試験片表面のピークカウントＰＰＩ：５～３００
溶融金属種及び温度：亜鉛４６０℃
試験時間：３０秒
　実験結果を図５に示す。算術平均粗さＲａの測定は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２００１に則って測定した。Ｒａの測定におけるカットオフ波長は０．８ｍｍとした。ピークカウントＰＰＩの測定は、ＳＡＥ　Ｊ９１１に則って測定した。ＰＰＩの測定におけるピークカウントレベルは０．６３５μｍとした。図５から分かるように、ＲａおよびＰＰＩの増加に伴い、亜鉛付着量が減少することが判明した。算術平均粗さＲａは、セラミックス表面の粗さ曲線から得られる凹凸の平均的な高さを示す指標であり、算術平均粗さＲａが大きいほどセラミックス表面の凹凸振幅が大きくなって、平滑面に対する粗面の面積率が増加する。一方、ピークカウントＰＰＩは、セラミックス表面の粗さ曲線の１インチあたりの凸部の数を表す指標である。ピークカウントＰＰＩが大きいほどセラミックス表面に短ピッチの凹凸が付与されることになるため、平滑面に対する粗面の面積率が増加することになる。したがって、Ｗｅｎｚｅｌの式の通り、Ｒａ及びＰＰＩの増加に伴い平滑面に対する粗面の面積率が増加した結果、接触角が増加したため、亜鉛の付着量が減少した。換言すれば、濡れにくくなると推定される。なお、ここでは亜鉛を用いているが、他の金属、例えば、ＡｌやＣｕ等に対しても適用可能である。

　図５の結果より、ガスワイピングノズルの表面の算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩは式（１）を満たす。
ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
ｃ１、ｃ２：定数
　なお、式（１）中の定数ｃ１、ｃ２の値は、ノズル表層部２３に用いるセラミックスの材質によって変化するため、ガスワイピングノズルを製造する際には適宜求める必要がある。このｃ１、ｃ２の算出方法は、以下のステップに沿って算出する。
ステップ１：ノズルの材質、溶融金属の成分を決める。これらの条件が異なる場合は、ｃ１、ｃ２の値に影響するため、その都度再測定を行う。なお、算術平均粗さＲａおよびピークカウントＰＰＩを付与するための加工方法は、任意に選択できる。例えば、研削加工（グラインダーによる切削加工方法）やブラスト加工（投射材と呼ばれる加工物に衝突させて、粗さを付与する加工方法）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ステップ２：Ｒａ、ＰＰＩが異なるサンプルを１０～２０種用意する。なお、ワイピングノズルの加工精度の観点から、Ｒａの上限は１０μｍ以下、ＰＰＩの上限は５００以下とするのが望ましい。
ステップ３：上述の実験を行い、図５に示すグラフをプロットする。
ステップ４：仮のｃ１’、ｃ２’を決め、前記グラフにｙ＝ｃ１’ｘ＋ｃ２’の線を引く。
ステップ５：実験結果のＰＰＩとステップ４のグラフのｙの差分の二乗の合計値（Ｙ）を計算する。（Ｙ＝Σ（ＰＰＩ－ｙ）^２）
ステップ６：ｃ１’、ｃ２’の値を５回変えてＹを計算し、最もＹが小さかった時のｃ１’、ｃ２’をｃ１、ｃ２とする。なお、各定数は重回帰で算出した定数である。

　なお、式（１）における定数ｃ１およびｃ２は、主としてノズル表層部２３に用いるセラミックスが酸化物を生成する際の生成自由エネルギーと相関があり、ノズル表層部２３に用いるセラミックスごとに決定すればよい。

　また、加工方法によってノズル表層部２３に形成される算術平均粗さＲａおよびピークカウントＰＰＩの特徴が異なる。そのため、式（１）を満たすためには、ガスワイピングノズルの加工方法に応じて加工条件を適宜制御する必要がある。例えば、切削加工やブラスト加工により、以下のようにＲａやＰＰＩは変化するので、ガスワイピングノズルを製造する際に適宜選択する必要がある。
切削加工：
切削速度を速くすれば、Ｒａは一定のまま、ＰＰＩが増加する。
切削刃先半径を大きくすれば、Ｒａは減少する。
切削刃のＲａを小さくすれば、ＰＰＩは増加する。
ブラスト加工：
投射材の粒径を小さくすれば、Ｒａ、ＰＰＩは減少する。
投射材の材質を柔らかくすれば、Ｒａ、ＰＰＩは減少する。

　このような構成を有するガスワイピングノズルを図１の連続溶融金属めっき設備１００に対抗して配置する。これにより、溶融金属浴から引き上げられた鋼帯にガスを吹き付けて、鋼帯両面の溶融金属の付着量を調整し、連続的に溶融金属めっき鋼帯を製造することができる。

　図１の基本構成を有する連続溶融亜鉛めっき設備を用いて、板厚１．０ｍｍ、板幅１２００ｍｍの鋼帯を通板速度２．０ｍ／ｓで溶融亜鉛浴に侵入させて、溶融亜鉛めっき鋼帯を製造した。ガスワイピングノズルのスリットの寸法は、長さＬ１が１８００ｍｍ、奥行きＬ２が２０ｍｍ、幅Ｌ３が１．２ｍｍである。また、溶融亜鉛浴温度は４６０℃、ガスワイピングノズル先端のガス温度Ｔは８０℃で実施した。

　ガスワイピングノズルの材質はサイアロン、アルミナ、クロムモリブデン鋼にサイアロン被膜８０μｍを形成したもの、及び、前記接触角が９０度未満の材質として、クロムモリブデン鋼を使用した。表面加工方法はブラスト加工である。ブラスト加工の加工条件としては、投射材として炭化ケイ素、又はアルミナを用い、各投射材の番手は、ＪＩＳ　Ｒ６００１に規定のものを用いた。また、投射材の投射速度を調整することにより、算術平均粗さＲａおよびピークカウントＰＰＩを調整した。なお、事前のオフラインテストで式（１）中の定数をそれぞれ求めたところ、サイアロンについては、ｃ１＝－３５、ｃ２＝１００であることが判明した。アルミナについてはｃ１＝－２８、ｃ２＝１７０であることが判明した。また、クロムモリブデン鋼にサイアロン被膜８０μｍを形成した材料については、サイアロンと同一のｃ１＝－３５、ｃ２＝１００であることが判明した。

　各発明例及び比較例において、線状マーク発生率を評価した。線状マーク発生率［％］は、各製造条件で通過した鋼帯長さに対し、検査工程で線状マーク欠陥ありと判定された鋼帯長さの比率とする。なお、線状マーク欠陥の有無は目視で確認し、線状マーク発生率が０．５％以下を合格とした。また、製造終了後、ガスワイピングノズルを分解して目視検査を行い、ガスワイピングノズルの表面疵（ノズル疵）の有無も確認した。結果を表１に示す。なお、表１中の「Ｒａ値から導出される適性ＰＰＩ範囲」とは、それぞれの算術平均粗さＲａに対して、式（１）の関係を満足するピークカウントＰＰＩの範囲を表す。

　表１から明らかなように、発明例１～９では、比較例１～３よりも線状マーク発生率を大幅に減少することができた。また、発明例１～９のいずれの条件もガスワイピングノズルの表面疵は見られなかったのに対し、比較例１は疵が見られた。これは線状マーク欠陥が多々発生し、ガスワイピングノズルの洗浄回数が多くなったためと考えられる。

　本発明のガスワイピングノズル、及び溶融金属めっき鋼帯の製造方法によれば、ガスワイピングノズルに付着した溶融金属スプラッシュを容易に除去でき、さらに線状マーク欠陥のない美麗な鋼板を得ることができる。よって、溶融金属めっき鋼帯を高い歩留まりで製造することができ、産業上の利用価値は非常に大きい。

　１００　　　　　　連続溶融金属めっき設備
　１０　　　　　　　スナウト
　１２　　　　　　　めっき槽
　１４　　　　　　　溶融金属浴
　１６　　　　　　　シンクロール
　１８　　　　　　　サポートロール
　２０、２０’　　　　　　　ガスワイピングノズル
　２１　　　　　　　上ノズル部材
　２２　　　　　　　下ノズル部材
　２３　　　　　　　ノズル表層部
　２４　　　　　　　噴射口（スリット）
　２５　　　　　　　中空部
　２６　　　　　　　ノズルヘッダ
　２７　　　　　　　ガス供給路
　２８　　　　　　　ガス供給管
　２９　　　　　　　溶融金属（スプラッシュ）
　３０　　　　　　　材質
　θｅ、θｗ　　　　接触角
　Ｌ１　　　　　　　スリットの長さ
　Ｌ２　　　　　　　スリットの奥行き
　Ｌ３　　　　　　　スリットの幅

Claims

　溶融金属浴から引き上げられた鋼帯にガスを吹き付けて、前記鋼帯の表面の溶融金属の付着量を調整するガスワイピングノズルにおいて、前記ガスワイピングノズルは、少なくともその表面がセラミックスで構成され、かつ該ガスワイピングノズルの表面粗度を示す指標である算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが式（１）を満たす、ガスワイピングノズル。
　ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
　ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
　Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
　ｃ１、ｃ２：定数
　前記ガスワイピングノズルの材質がセラミックスである、請求項１に記載のガスワイピングノズル。
　前記溶融金属浴に連続的に鋼帯を浸漬し、前記溶融金属浴から引き上げられる鋼帯を挟んで互いに対向して配置された、請求項１又は２に記載のガスワイピングノズルから、前記鋼帯にガスを吹き付けて、該鋼帯の両面の溶融金属の付着量を調整して、連続的に溶融金属めっき鋼帯を製造する、溶融金属めっき鋼帯の製造方法。
　請求項１又は２に記載のガスワイピングノズルの製造方法であって、
　ガスワイピングノズル又はガスワイピングノズルの表面を構成する材質を選択する工程と、
　ガスワイピングノズルの表面の加工方法と加工条件を選択する工程と、を含み、
　該ガスワイピングノズルの表面粗度を示す指標である算術平均粗さＲａ及びピークカウントＰＰＩが式（１）を満たすように、前記材質、及び／又は、前記加工方法と前記加工条件を選択する、ガスワイピングノズルの製造方法。
　ＰＰＩ＞ｃ１×Ｒａ＋ｃ２　　　　　（１）
　ＰＰＩ：ピークカウント（１インチ当たりの山の数）
　Ｒａ：算術平均粗さ［μｍ］
　ｃ１、ｃ２：定数