WO2023054132A1 - 除害装置及びノズルスクレイパ - Google Patents

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WO2023054132A1
WO2023054132A1 PCT/JP2022/035250 JP2022035250W WO2023054132A1 WO 2023054132 A1 WO2023054132 A1 WO 2023054132A1 JP 2022035250 W JP2022035250 W JP 2022035250W WO 2023054132 A1 WO2023054132 A1 WO 2023054132A1
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nozzle
scraper
combustion chamber
gas
diameter
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PCT/JP2022/035250
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English (en)
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克典 高橋
正宏 田中
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エドワーズ株式会社
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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23D—BURNERS
    • F23D14/00—Burners for combustion of a gas, e.g. of a gas stored under pressure as a liquid
    • F23D14/46—Details, e.g. noise reduction means
    • F23D14/48—Nozzles
    • F23D14/50—Cleaning devices therefor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
    • F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J1/00—Removing ash, clinker, or slag from combustion chambers
    • F23J1/06—Mechanically-operated devices, e.g. clinker pushers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers

Definitions

  • the present invention relates to a detoxification device and a nozzle scraper, and more particularly to a detoxification device that burns or thermally decomposes harmful components in a gas to be treated to detoxify it in a combustion chamber, and a detoxification device that removes deposits adhering around the combustion chamber. It relates to the nozzle scraper to be removed.
  • a combustion-type abatement device is used as a means for detoxifying exhaust gas containing harmful components exhausted from a process chamber of a well-known semiconductor manufacturing apparatus (for example, Patent Document 1).
  • the abatement device for semiconductor manufacturing equipment known in Patent Document 1 converts a gas to be treated (exhaust gas) containing harmful components into a harmless gas by burning it in a combustion chamber and reacting it with air (oxygen).
  • a gas to be treated exhaust gas
  • air oxygen
  • the gas to be treated is, for example, silane gas (SiH4), harmless silicon dioxide; silica (SiH2) is generated as a result of the oxidation reaction.
  • silica is a solid/powder, and energy is given when it changes into silica by an oxidation reaction, and it scatters in the space of the combustion chamber, which is the space where the oxidation reaction occurs.
  • Patent Document 2 a scraper having a foldable L-shaped scraping head is arranged in the gas passage to be treated. Further, when the tip of the scraping head is inserted into the space in the combustion chamber, it expands in an L-shape in the combustion chamber. When the tip of the scraping head expands in the combustion chamber, the scraper is rotated together with the tip in the expanded state to remove deposits adhered to the inner wall surface around the opening of the combustion chamber. and the deposits adhering to the wall surface inside the gas passage to be processed can be mechanically removed.
  • the configuration of Patent Document 2 if it is desired to dispose the temperature sensor in a state of protruding from the inner wall surface of the combustion chamber around the opening, the temperature sensor hinders the rotation of the scraping head.
  • Patent Document 3 discloses a configuration in which deposits adhered to the inner wall surface of the combustion chamber can be mechanically removed while the scraping head rotates avoiding the temperature sensor.
  • Patent Document 3 discloses a configuration for mechanically removing deposits adhering to the inner wall surface of the combustion chamber, there is no configuration for simultaneously removing deposits adhering to the wall surface within the gas passage to be treated. Not disclosed.
  • the gas introduction pipe (nozzle) for introducing the gas to be treated into the combustion chamber is not limited to having a circular cross section.
  • an orifice, a venturi tube, or the like having an enlarged diameter portion provided downstream of the portion is used (see, for example, Patent Document 4).
  • the cross section is not circular, but has an elongated, substantially square, or oval cross section.
  • an orifice, venturi tube, etc. which has an enlarged diameter portion on the side, there is a problem that when removing deposits adhering to the inner wall of the enlarged diameter portion, there is a problem that scraping remains. rice field.
  • a detoxification device which is structured to be able to cleanly remove deposits without leaving them behind.
  • the present invention has been proposed to achieve the above object, and the invention according to claim 1 is a detoxification device for detoxifying a gas to be treated containing harmful components by burning or thermally decomposing it in a combustion chamber.
  • a nozzle that includes a diameter-reduced portion and an enlarged-diameter portion provided downstream of the diameter-reduced portion, and is connected to the top surface of the combustion chamber to introduce the gas to be treated into the combustion chamber.
  • a nozzle scraper provided vertically movable within a predetermined movement range within the enlarged diameter portion for removing deposits adhering to the enlarged diameter portion and discharging them into the combustion chamber; a head scraper for removing the deposits adhering to a lower portion of the nozzle scraper; the nozzle scraper includes a scraping portion for removing the deposits adhering to the inner wall of the enlarged diameter portion; and a ledge located at the lower end of the reduced diameter portion at the top of the range.
  • deposits adhering to the inner peripheral wall and the top wall of the nozzle are removed by the nozzle scraper that moves up and down in the enlarged diameter portion provided on the downstream side of the reduced diameter portion and removed into the combustion chamber. discharged to That is, the deposits adhering to the inner peripheral surface of the enlarged diameter portion are scraped off by the scraping portion of the nozzle scraper and discharged into the combustion chamber, and the deposits adhering to the top wall of the enlarged diameter portion are removed by the overhanging portion of the nozzle scraper. discharged to In addition, deposits adhering to the bottom of the nozzle scraper are removed by the head scraper at the lowest position of the movement range of the nozzle scraper.
  • deposits deposited from the combustion chamber side toward the inner peripheral wall and top wall of the enlarged diameter portion provided downstream of the reduced diameter portion of the nozzle are all discharged into the combustion chamber by the nozzle scraper and processed. be done. Furthermore, deposits attached to the bottom of the nozzle scraper can also be discharged into the combustion chamber by the head scraper at the lowest position for treatment. Therefore, all deposits deposited from the combustion chamber side toward the inner peripheral wall and top wall of the enlarged diameter portion of the nozzle are discharged into the combustion chamber by the nozzle scraper and disposed of.
  • the nozzle scraper moves vertically, even if the cross section of the enlarged diameter part is circular, even if the cross section is long, substantially square, oval, etc., the deposits inside the enlarged diameter part can be smoothly removed. Emissions can be processed.
  • the nozzle scraper moves up and down in the enlarged diameter portion provided downstream of the reduced diameter portion, the enlarged diameter portion is located downstream of the reduced diameter portion and the reduced diameter portion. It can also be applied to nozzles using, for example, orifices, venturi pipes, etc., which have a provided shape.
  • the harm abatement device according to the first aspect, wherein a part of the projecting portion covers the lower surface of the reduced diameter portion at a standby position where the nozzle scraper stops. offer.
  • the nozzle scraper when the nozzle scraper is at the standby position, a part of the overhanging portion of the nozzle scraper covers the lower surface of the diameter-reduced portion of the nozzle. , the deposited portion adhering to the top surface wall of the enlarged diameter portion, including the portion of the lower surface of the reduced diameter portion, can be discharged into the combustion chamber in one operation.
  • the invention according to claim 3 is based on the structure according to claim 1 or 2, wherein the head scraper is formed of a plate-like member, and is horizontally rotatable facing the top surface in the combustion chamber.
  • the head scraper made of a plate material when the head scraper made of a plate material is horizontally rotated while the nozzle scraper is at the lowest position, the head scraper scrapes off deposits remaining on the nozzle scraper and burns them. It can be discharged indoors and removed smoothly.
  • an abatement device according to any one of the first to third aspects, further comprising a controller for controlling driving of the nozzle scraper and the head scraper. offer.
  • control unit can control the driving of the nozzle scraper and the head scraper according to a predetermined procedure, thereby smoothly removing deposits.
  • the invention according to claim 5 is the structure according to claim 4, wherein the control unit controls the amount of the deposit adhering to the lower part of the nozzle scraper when the nozzle scraper is at the lowest position of the movement range. To provide an abatement device for driving the head scraper to remove matter.
  • control unit controls the head scraper so that the head scraper removes deposits adhering to the bottom of the nozzle scraper when the nozzle scraper is at the lowest position of the movement range. can be driven to smoothly remove deposits adhering to the bottom of the nozzle scraper.
  • a diameter-reduced portion and an enlarged-diameter portion provided downstream of the diameter-reduced portion, connected to the top surface of the combustion chamber, and containing harmful components in the combustion chamber. and a nozzle for introducing the gas to be treated, the nozzle scraper being used in a detoxification device for rendering the gas to be treated harmless by burning or thermally decomposing it in the combustion chamber, wherein the nozzle scraper is located at the enlarged diameter portion.
  • a nozzle scraper having a scraping part for removing deposits adhering to an inner wall, and an overhang part arranged at the lower end of the reduced diameter part at the uppermost position of a moving range.
  • deposits deposited on the inner peripheral wall and the top wall of the nozzle are spread by the vertical movement of the nozzle scraper that moves up and down in the enlarged diameter portion provided downstream of the reduced diameter portion. Deposits adhering to the inner peripheral surface of the diameter part are scraped off by the scraping part of the nozzle scraper and discharged into the combustion chamber, while deposits adhering to the top wall of the enlarged diameter part are burned by the overhanging part of the nozzle scraper. Deposits discharged into the chamber and adhering to the bottom of the nozzle scraper can be removed by the head scraper at the lowest position of the nozzle scraper's movement range.
  • the nozzle scraper moves up and down in the enlarged diameter portion provided downstream of the reduced diameter portion, the reduced diameter portion and the enlarged diameter portion are downstream of the reduced diameter portion. It can also be applied to nozzles using, for example, orifices, venturi tubes, etc., which have a provided shape. As a result, the maintenance time can be shortened, and an improvement in productivity can be expected.
  • FIG. 3 is a plan view of the in-red head and its peripheral structure in the same abatement device as viewed from the combustion chamber side; In the same abatement device shown in FIG. 1, FIG. It is an arrow view.
  • FIG. 2 shows a nozzle scraper in the same abatement device, (a) is a bottom view of the scraper as seen from the combustion chamber side, and (b) is a cross-sectional view taken along the line AA in (a).
  • FIG. 5 is an explanatory view schematically showing the operation of a nozzle scraper provided on the nozzle shown in FIG. 4; It is an explanatory view of operation for explaining an effect of the same abatement device of the present invention.
  • a detoxification device for detoxifying a gas to be treated containing harmful components by burning or thermally decomposing it in a combustion chamber comprising: a diameter-reduced portion; a nozzle that is connected to the top surface of the combustion chamber and introduces the gas to be treated into the combustion chamber; a nozzle scraper that is movably provided to remove deposits adhering to the inside of the enlarged diameter portion and discharge the deposits into the combustion chamber; a head scraper for removing, the nozzle scraper having a scraping part for removing the deposit adhering to the inner wall of the enlarged diameter part; and a projecting portion to be arranged.
  • drawings may exaggerate characteristic parts by enlarging them in order to make the characteristics easier to understand.
  • hatching of some components may be omitted in order to facilitate understanding of the cross-sectional structure of the components.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of an abatement device 10 according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a diagram showing the configuration of its mechanical section, and (b) is a block configuration diagram showing the functional system of its control section.
  • FIG. 2 is a plan view of the in-red head 23 and its peripheral structure in the abatement device 10 shown in FIG. 1, viewed from the combustion chamber 11 side.
  • the abatement device 10 shown in FIGS. 1 and 2 is a combustion type abatement device.
  • the exhaust gas containing harmful components exhausted from the process chamber of a well-known semiconductor manufacturing apparatus is treated as the abatement gas, that is, the to-be-treated gas.
  • Exhaust gas containing harmful components used as a means for rendering the gas PG to be treated harmless by combustion or thermal decomposition, or discharged from a device other than a semiconductor manufacturing device is similarly used as the gas PG to be treated. Used as a means of detoxification.
  • the to-be-processed gas PG exhausted from the process chamber of such a semiconductor manufacturing apparatus is combusted and decomposed, powder is generated as particulate dust.
  • silane gas (SiH4) or dichlorosilane (SiH2C12) is combusted and decomposed, silicon dioxide; silica (SiO2) is generated, and when tungsten hexafluoride (WF6) is combusted and decomposed, tungsten oxide (W2O3) is generated.
  • the detoxification device 10 comprises a detoxification device main body 12 having a combustion chamber 11 into which the above-described exhaust gas containing harmful components, that is, the gas to be treated PG is introduced, and a flame necessary for detoxification is formed in the combustion chamber 11.
  • a scraper 18 as a deposit removing means for removing the deposit 17 (shown in FIG. 5) such as silica (SiO2) deposited on the inner wall of the combustion chamber 11 and its peripheral portion, and a temperature sensor for detecting the temperature inside the combustion chamber 11. 19, and a device controller 20 as a control section for controlling the operation of the entire device.
  • the device controller 20 is, for example, a computer, and incorporates a program that operates the entire device according to a predetermined procedure.
  • the abatement device main body 12 has a substantially cylindrical first cylindrical wall 21 and a substantially cylindrical second cylindrical wall 22 provided outside the first cylindrical wall 21 .
  • the upper surface (top surface) of the first cylindrical wall 21 and the upper surface (top surface) of the second cylindrical wall 22 are closed by a common inlet head 23, and the lower surface (bottom surface) side is closed by the bottom wall 15.
  • the internal space of the first cylindrical wall 21 is configured as the combustion chamber 11, and the space between the first cylindrical wall 21 and the second cylindrical wall 22 is filled with combustible fuel 25 and air 26. It is constructed as a burner gas chamber 24 which Note that the first cylindrical wall 21 and the second cylindrical wall 22 do not necessarily have to be cylindrical.
  • the main burner 13 that forms the flame required for detoxification in the combustion chamber 11 consists of a first main burner 13A provided on the inner periphery of the burner gas chamber 24 and an inner wall that constitutes the ceiling of the combustion chamber 11. and a second main burner 13B provided in the red head 23.
  • the base portion 23A of the in-red head 23 forming the top surface of the first tubular wall 21 and the second tubular wall 22 is formed by the first tubular wall 21 and the second tubular wall. It is formed in a disk shape to match the cylindrical shape of 22 .
  • a second main burner 13B, a head scraper 18B, a temperature sensor 19 and a pilot burner 14 are attached to the base portion 23A of the in-red head 23. As shown in FIG.
  • the first main burner 13A has a plurality of ejection holes 21A formed in a first cylindrical wall 21 forming a burner gas chamber 24, and the gas from the ejection holes 21A is directed toward the combustion chamber 11. , a mixture 27 of combustible fuel 25 and air 26 is jetted out and combustible. Therefore, the second cylindrical wall 22 is provided with a first combustion-supporting gas supply nozzle 28 for supplying combustible fuel 25 into the burner gas chamber 24 and a second combustion supporting gas supply nozzle 28 for supplying air 26 into the burner gas chamber 24. A combustion-supporting gas supply nozzle 29 is connected.
  • the second main burner 13B has a to-be-treated gas nozzle 16 that serves as a gas passage for the to-be-treated gas for introducing the to-be-treated gas PG into the combustion chamber 11 .
  • the exit side of the to-be-processed gas nozzle 16 is opened as a gas introduction hole exit 16A in the base portion 23A of the in-red head 23, that is, the top surface of the combustion chamber 11.
  • the inlet side of the to-be-processed gas nozzle 16 is connected to the outlet side of a process chamber (not shown) of a semiconductor manufacturing apparatus that discharges the to-be-processed gas PG.
  • the to-be-treated gas PG delivered from the process chamber is introduced into the combustion chamber 11 through the to-be-treated gas nozzle 16 .
  • the number of the to-be-treated gas nozzles 16 is not particularly limited, and is four in this embodiment as shown in FIG. are arranged at approximately equal intervals along the Further, in the second main burner 13B, another third combustion-supporting gas supply nozzle 30 is connected in the middle of the nozzle 16 for the gas to be treated, and the gas to be treated is supplied from the connected third combustion-supporting gas supply nozzle 30.
  • a combustible fuel 25 and oxygen (or air) 26 are supplied into the gas nozzle 16 .
  • a mixture 27 of a combustible fuel 25 and oxygen (or air 26) is jetted from the gas introduction hole outlet 16A of the nozzle 16 for the gas to be treated toward the combustion chamber 11, so as to be combustible. .
  • the to-be-processed gas nozzle 16 is also shown in FIG. 3 as a partially enlarged sectional view of FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged view showing the nozzle 16 for the gas to be processed and its peripheral structure indicated by symbol (N) in FIG. It is a cross-sectional view taken along line -B. 3 is added to FIGS. 1 and 2 to further describe the structure of the nozzle 16 for gas to be treated. and a second nozzle portion 16H having an enlarged diameter portion 16C provided downstream of the reduced diameter portion 16B of the nozzle portion 16G.
  • the reduced-diameter portion 16B as the first nozzle portion 16G is formed such that the opening diameter gradually narrows as it progresses from the process chamber side to the second nozzle portion 16H side. etc. is formed. If the diameter-reduced portion 16B is formed as an orifice pipe, a venturi pipe, or the like, the flow is discontinuous and rapidly expands (expands) at the orifice portion or the venturi portion, so that the fuel and oxygen for combustion are well mixed and the abatement efficiency is improved. improves.
  • the gas introduction hole outlet 16D of the reduced diameter portion 16B is connected and fixed to the enlarged diameter portion 16C via flanges 16E and 16F on the side of the reduced diameter portion 16B, as shown in FIG. 3A.
  • the gas introduction hole outlet 16D of the diameter-reduced portion 16B vertically penetrates the flange 16E and protrudes into the diameter-enlarged portion 16C by a predetermined amount. Further, the shape of the gas introduction hole outlet 16D is formed in an oval shape as shown in FIG. 3(b).
  • the enlarged diameter portion 16C as the second nozzle portion 16H has a flange 16F on one end side (upper end side) tightly connected to the gas introduction hole outlet 16D of the reduced diameter portion 16B via the flange 16E.
  • the diameter-enlarged portion 16C is arranged such that a gap S is formed along the entire circumference between the diameter-enlarged portion 16B and the gas introduction hole outlet 16D of the diameter-reduced portion 16B.
  • FIG. 3(b) is formed in the same oval shape as the reduced diameter portion 16B.
  • the enlarged diameter portion 16C has a cylindrical shape with the same diameter from one end side (upper end side) to the lower end side where the gas introduction hole outlet 16A is provided. formed in a circular shape.
  • the pilot burner 14 has a pilot nozzle 14A arranged in the vicinity of the nozzle 16 for the gas to be treated.
  • the exit side of the nozzle 14A is open to the top surface (base portion 23A) of the combustion chamber 11, and a mixture of a combustible fuel 25 and air (or oxygen) 26 flows from the exit of the nozzle 14A toward the combustion chamber 11. 27 is jetted out and combustible.
  • the position of the nozzle 14A provided on the top surface of the combustion chamber 11 is located inside the reference circle C1 surrounding the four gas introduction hole outlets 16A in the combustion chamber 11 as shown in FIG. is provided.
  • the temperature sensor 19 measures the temperature inside the combustion chamber 11 , has a pin shape, and is attached to the inlet head 23 with one end protruding into the combustion chamber 11 .
  • the position on the top surface of the combustion chamber 11 where the temperature sensor 19 is arranged is outside the reference circle C1 surrounding the four gas introduction hole outlets 16A in the combustion chamber 11, and the reference It is positioned inside the circle C2.
  • the scraper 18 includes a nozzle scraper 18A that discharges and removes deposits 17 adhering to the inside of the nozzle (gas passage for the gas to be treated) 16 into the combustion chamber 11 from the gas introduction hole outlet 16A, and a base portion of the combustion chamber 11 ( and a head scraper 18B for removing deposits 17 adhering to the top surface 23A and remaining deposits 17 adhering to the lower end of the nozzle scraper 18A.
  • the nozzle scraper 18A horizontally moves in the vertical direction within a predetermined movement range within the enlarged diameter portion 16C of the nozzle 16 for the gas to be treated, and during the movement, removes the deposits 17 adhering to the inner peripheral wall surface of the enlarged diameter portion 16C. is scraped off and discharged into the combustion chamber 11 for removal.
  • the nozzle scraper 18A has a body portion 18D whose outer shape is substantially equal to the inner diameter of the enlarged diameter portion 16C.
  • a through hole 18C having a shape substantially equal to that of the introduction hole outlet 16D and penetrating in the vertical direction is provided to form an annular shape.
  • the body portion 18D of the nozzle scraper 18A functions as an overhanging portion that covers the entire top surface of the enlarged diameter portion 16C in the state of being moved to the "standby position" shown in FIG. 3(a).
  • a scraping portion 18G is provided as a downward edge-like blade along the inner peripheral surface of the enlarged diameter portion 16C.
  • the projecting portion 18F of the nozzle scraper 18A enters the gap S between the outer circumference of the lower end portion of the reduced diameter portion 16B and the inner circumference of the enlarged diameter portion 16C.
  • a portion of the upper surface of the main body portion 18D (inward protruding portion 18E) is allowed to come into close contact with the lower surface of the diameter-reduced portion 16B.
  • the scraping portion 18G of the nozzle scraper 18A has a sharp edge on the outer peripheral side, and adheres to the inner wall of the enlarged diameter portion 16C when the nozzle scraper 18A moves downward from the "standby position" The deposited deposits 17 are scraped off toward the combustion chamber 11 .
  • a rod 31 for vertically moving the nozzle scraper 18A from the outside of the to-be-processed gas nozzle 16 is provided on the upper surface of the body portion 18D of the nozzle scraper 18A.
  • the movement of the rod 31 in the vertical direction is controlled by the device controller 20 shown in FIG. It has become.
  • the scraping portion 18G on the lower surface side protrudes slightly into the combustion chamber 11 together with the deposits 17. As shown in FIG.
  • the head scraper 18B is formed of a plate-like member, and is attached to the lower end of a rotatable shaft 33 penetrating substantially the center of the inner red head 23 so as to be rotatable together with the shaft 33. .
  • the head scraper 18B is mounted in the combustion chamber 11 so as to rotate substantially horizontally and slide on the lower surface of the inner red head 23, that is, the base portion (top surface) 23A of the combustion chamber 11.
  • the rotation of the shaft 33 that is, the rotation of the head scraper 18B is automatically operated by the operation of the driving section 20B driven by an electric motor (not shown) driven and controlled by the apparatus controller 20.
  • FIG. 5 is an explanatory view of the operation of removing the deposit 17 in the nozzle 16 for the gas to be treated in the detoxification device 10. As shown in FIG. Therefore, the operation of the abatement device 10 shown in FIGS. 1 to 4 will be described together with FIGS. In order to simplify the explanation, FIG. 5 further simplifies the nozzle 16 for the gas to be treated, the scraper 18, etc., and schematically shows only the members necessary for the explanation.
  • a pilot light PL is formed in the combustion chamber 11 by the pilot burner 14 as shown in FIG. This pilot light PL is set so that its ignition state is always maintained.
  • the combustible fuel 25 is supplied from the first combustion-supporting gas supply nozzle 28 and the air 26 is supplied from the second combustion-supporting gas supply nozzle 29 to the first main burner 13A.
  • the combustible fuel 25 and the combustion-supporting gas (air 26 ) supplied to the first main burner 13A form a mixture 27 and are jetted from the first main burner 13A toward the combustion chamber 11 . Then, the jetted air-fuel mixture 27 is ignited by the pilot light PL in the pilot burner 14 , and a flame necessary for detoxifying the gas PG to be treated is formed in the combustion chamber 11 .
  • the gas to be treated PG is supplied to the combustion chamber 11 together with the combustion-supporting gas (air or oxygen) from the third combustion-supporting gas supply nozzle 30 after the flame is formed.
  • the gas to be treated PG is burned in the combustion chamber 11 to cause an oxidation reaction with air (oxygen), thereby converting the toxic gas into a harmless gas.
  • the to-be-treated gas PG that has been rendered harmless by burning with flames or by thermal decomposition is discharged out of the abatement device main body 12 from an outlet port (not shown) that communicates with the combustion chamber 11 as a treated gas.
  • the device controller 20 drives the scraper 18 periodically or as needed, and the gas adheres to the inside of the nozzle (gas passage) 16.
  • An operation is performed to remove the deposits 17 and the deposits 17 adhering to the vicinity of the nozzle 16 for the gas to be treated in the combustion chamber 11 .
  • the nozzle scraper 18A and the head scraper 18B are operated.
  • the apparatus controller 20 drives and controls the driving section 20A, and the driving section 20A moves the nozzle scraper 18A vertically ( gas passage direction) within a predetermined range of reciprocation.
  • the nozzle scraper 18A is controlled by the device controller 20 to move to the "standby position" via the rod 31 as shown in FIGS. ”.
  • the main body portion 18D covers the peripheral portion of the lower surface of the diameter-reduced portion 16B and the top surface of the diameter-enlarged portion 16C where the gas introduction hole outlet 16D is provided.
  • the nozzle scraper 18A is moved downward as shown in FIG. 5(c).
  • the scraping portion 18G moves downward while scraping off the deposits 17 adhering to and accumulating on the inner peripheral surface of the enlarged diameter portion 16C. It is dropped into the combustion chamber 11 and discharged.
  • the main body (overhanging portion) 18D moves downward the deposit 17 deposited on the top surface of the enlarged diameter portion 16C, and at the lowest movement position of the nozzle scraper 18A, the main body 18D and the main body 18D move downward.
  • the moved deposit 17 is exposed in the combustion chamber 11 from the gas introduction hole outlet 16D, as also shown in FIG. 5(c). That is, in this embodiment, the position shown in (c) of FIG. 5 is the lowest position.
  • the device controller 20 rotates the shaft 33 via the driving section 20B, and horizontally rotates the head scraper 18B together with the shaft 33.
  • the horizontal rotation of the head scraper 18B rotates so as to slide on the base portion (top surface) 23A of the inner red head 23 in the combustion chamber 11, and the head scraper 18B adheres to the top surface of the combustion chamber 11.
  • the sediment 17 that has accumulated is scraped off and removed, and the sediment 17 adhering to the lower end portion of the nozzle scraper 18A that has moved to the lowest position is scraped off, dropped into the combustion chamber 11, and discharged. .
  • the head scraper 18B Even if the head scraper 18B encounters the temperature sensor 19 during rotation, the head scraper 18B is provided with the contact avoidance section 32, so that the contact avoidance section 32 allows the temperature sensor 19 to escape. The scraping of deposits 17 proceeds without interfering with temperature sensor 19 .
  • the device controller 20 stops the rotation of the head scraper 18B and moves the nozzle scraper 18A from the lowest position shown in FIG. It is moved to the "standby position" which is the uppermost position shown in FIG. 5(d). This completes the removal of the deposits 17 by the nozzle scraper 18A and the removal of the deposits 17 by the head scraper 18B.
  • a portion of the upper surface of the main body portion (overhanging portion) 18D (inside overhanging portion 18E) becomes the lower surface of the diameter-reduced portion 16B at the "standby position" of the nozzle scraper 18A. Since the projecting portion is formed so as to be in close contact with the nozzle scraper 18A, the deposit 17 adhering and accumulating on the entire inner surface of the enlarged diameter portion 16C can be discharged and removed at once when scraped off by the nozzle scraper 18A.
  • FIG. 6 this will be explained in comparison with a structure in which the upper surface of the main body portion (overhanging portion) 18D does not cover the lower surface of the reduced diameter portion 16B.
  • the nozzle scraper 18A moves from the "standby position" in FIGS.
  • part of the deposits 17 remains on the lower surface where the gas introduction hole outlet 16D of the reduced diameter portion 16B is provided, as shown in FIG. 6(c). This remains even after the nozzle scraper 18A returns from the lowest position to the "standby position" shown in FIG.
  • the main body 18D is arranged such that a part of the upper surface (the inner projecting portion 18E) of the main body (overhanging portion) 18D of the nozzle scraper 18A closely contacts and covers the lower surface of the reduced diameter portion 16B. is formed in As a result, deposits 17 that move toward the lower surface of diameter-reduced portion 16B within diameter-enlarged portion 16C do not adhere to the lower surface of diameter-reduced portion 16B, but adhere to a portion of the upper surface of main body portion 18D (inward protruding portion 18E). As a result, deposits 17 (residual deposits 17A) can be prevented from directly adhering to the lower surface of the diameter-reduced portion 16B provided with the gas introduction hole outlet 16D.
  • the cross-sectional shape of the enlarged diameter portion 16C is not limited to a circular one.
  • the deposits 17 in the portion 16C can be smoothly discharged into the combustion chamber 11 and disposed of.
  • the diameter-reduced portion 16B and the diameter-reduced portion 16B are disposed downstream of the diameter-reduced portion 16B.
  • an orifice, a venturi tube, or the like provided with an enlarged diameter portion 16C can be easily applied.
  • the present invention is not limited to the nozzle 16 for the gas to be treated of the abatement device 10, but can also be applied to exhaust gas piping used in other parts of the abatement device 10.

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Abstract

縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部とを設けたノズルなどであっても、堆積物の取り残しを無くして綺麗に除去することができる構造にした除害装置及び該除害装置に使用するノズルスクレイパを提供する。　縮径部（１６Ｂ）と縮径部（１６Ｂ）よりも後流側に設けられた拡径部（１６Ｃ）とを備え、燃焼室（１１）の天面に接続されて燃焼室（１１）に被処理ガス（ＰＧ）を導入する被処理ガス用ノズル（１６）と、拡径部（１６Ｃ）内を上下動可能に設けられ、拡径部（１６Ｃ）内に付着した堆積物（１７）を除去して燃焼室（１１）に排出するノズルスクレイパ（１８Ａ）と、移動範囲の最下位置において、ノズルスクレイパ（１８Ａ）の下部に付着している堆積物（１７）を除去するヘッドスクレイパ（１８Ｂ）と、を備え、ノズルスクレイパ（１８Ａ）は、拡径部（１６Ｃ）の内壁に付着した堆積物（１７）を除去する掻き取り部（１８Ｇ）と、移動範囲の最上位置において、縮径部（１６Ｂ）の下端に配置される本体部（張り出し部）（１８Ｄ）と、を設けた。

Description

除害装置及びノズルスクレイパ

　本発明は、除害装置及びノズルスクレイパに関するものであり、特に被処理ガス中の有害成分を燃焼室内で燃焼又は熱分解して無害化する除害装置、及び、燃焼室周辺に付着した堆積物を除去するノズルスクレイパに関するものである。

　従来、例えば、半導体製造工場では、周知の半導体製造装置のプロセスチャンバから排気される有害成分含有の排気ガスを無害化する手段として、燃焼式の除害装置を使用している（例えば、特許文献１参照）。

　特許文献１で知られる半導体製造装置での除害装置は、有害成分を含有の被処理ガス（排気ガス）を、燃焼室内で燃やして空気（酸素）と反応させることで無害なガスに変えるようにしている。しかし、例えば被処理ガスがシランガス（ＳｉＨ４）であるような場合、酸化反応の結果、無害な二酸化ケイ素；シリカ（ＳｉＨ２）が発生する。このシリカは固体・粉末であり、酸化反応によってシリカに変化する際にエネルギーが与えられ、酸化反応を起こす空間である燃焼室の空間を飛散する。つまり、真っ直ぐに落下せずに飛散するので、その多くが燃焼室の壁面、並びに、燃焼室に被処理ガスを導入するためのノズル内及びその近傍に付着し、また時間の経過とともに堆積してしまう。そのため、その堆積物を取り除くのに定期的なメンテナンス（オーバーホール）の実施が必要となる。この燃焼室の内壁面に固着した堆積物と被処理ガス通路内の壁面に固着した堆積物を機械的に除去するためのメンテナンスは、一般的には３ヶ月に一度程度の頻度で実施される。したがって、運用面・費用面を鑑みたときに、メンテナンス時間は短い方がよい。

　そこで、被処理ガスを燃焼室に導入するガス導入孔出口付近に堆積した堆積物を機械的に取り除く技術として、特許文献２、特許文献３に記載されるような除去装置が従来から知られている。

　特許文献２には、折り畳み可能なＬ字形状の掻き取りヘッドを有する掻き取り器を被処理ガス通路内に配設している。また、掻き取りヘッドの先端部が燃焼室内の空間まで挿入された際に、燃焼室内でＬ字状に拡開するようになっている。そして、掻き取りヘッドの先端部が燃焼室内で拡開したら、その拡開した状態で、その先端部と共に掻き取り器を回転させると、燃焼室の開口周囲の内壁面に固着されている堆積物と被処理ガス通路内の壁面に固着されている堆積物を機械的に除去できるようになっている。しかしながら、特許文献２の構成では、開口周囲において、燃焼室の内壁面から突出させた状態で温度センサを配設したい場合には、温度センサが掻き取りヘッドの回転の妨げとなる。

　そこで、特許文献３には、掻き取りヘッドが温度センサを避けて回転しながら、燃焼室の内壁面に固着した堆積物を機械的に除去できるようにした構成が開示されている。しかしながら、特許文献３には、燃焼室の内壁面に固着した堆積物を機械的に除去する構成は開示されているが、被処理ガス通路内の壁面に固着した堆積物も同時に除去する構成は開示されていない。

　また、被処理ガスを燃焼室に導入するガス導入管（ノズル）は、断面が円形のものと限らず、また、断面が長形、略四角形、長円形で、かつ、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部とを設けた、例えばオリフィス、ベンチュリ管などを使用している場合もある（例えば、特許文献４参照）。

特開２００１－３４９５２１号公報 特開２００９－２０４２８９号公報 特開２０１５－５３３１９号公報 特表２０１９－５２０５３９号公報

　しかしながら、被処理ガスを燃焼室に導入するガス導入管（ノズル）として、断面が円形ではなく、断面が長形、略四角形、長円形で、かつ、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部とを設けた、例えばオリフィス、ベンチュリ管などを使用している場合には、拡径部の内壁に付着した堆積物を除去する際に、掻き残しが生じるという問題点があった。

　そこで、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部とを設けたノズルなどであっても、堆積物の取り残しを無くして綺麗に除去することができる構造にした除害装置を提供するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。

　本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１に記載の発明は、有害成分を含む被処理ガスを燃焼室で燃焼または熱分解することにより無害化する除害装置であって、縮径部と前記縮径部よりも後流側に設けられた拡径部とを備え、前記燃焼室の天面に接続されて前記燃焼室に前記被処理ガスを導入するノズルと、前記拡径部内を所定の移動範囲で上下動可能に設けられ、前記拡径部内に付着した堆積物を除去して前記燃焼室に排出するノズルスクレイパと、前記移動範囲の最下位置において、前記ノズルスクレイパの下部に付着している前記堆積物を除去するヘッドスクレイパと、を備え、前記ノズルスクレイパは、前記拡径部の内壁に付着した前記堆積物を除去する掻き取り部と、前記移動範囲の最上位置において、縮径部の下端に配置される張り出し部と、を有している、除害装置を提供する。

　この構成によれば、ノズルの内周壁と天面壁に付着した堆積物は、縮径部よりも後流側に設けられた拡径部の中を上下に移動するノズルスクレイパにより、除去されて燃焼室内に排出される。すなわち、拡径部の内周面に付着した堆積物はノズルスクレイパの掻き取り部により掻き落とされて燃焼室内に排出され、拡径部の天面壁に付着した堆積物はノズルスクレイパの張り出し部により燃焼室に排出される。また、ノズルスクレイパの下部に付着した堆積物は、ノズルスクレイパの移動範囲の最下位置において、ヘッドスクレイパにより除去される。これにより、燃焼室側から、ノズルの縮径部よりも後流側に設けられる拡径部の内周壁と天面壁に向って堆積した堆積物は、ノズルスクレイパにより全てが燃焼室内に排出されて処理される。さらに、ノズルスクレイパの下部に付着した堆積物も、最下位置においてヘッドスクレイパにより燃焼室内に排出されて処理できる。したがて、燃焼室側からノズルの拡径部における内周壁と天面壁に向って付着した堆積物は、全てがノズルスクレイパで燃焼室内に排出されて処理される。

　また、ノズルスクレイパの移動は上下動であるため、拡径部の断面形状が円形のものに限らず、断面が長形、略四角形、長円形などであっても、拡径部内の堆積物をスムーズに排出処理することができる。また、ノズルスクレイパは、縮径部よりも後流側に設けられた拡径部の中を上下に移動するようにしているので、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部が設けられた形状となる、例えばオリフィス、ベンチュリ管などを使用したノズルにも適用できる。

　請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成において、前記ノズルスクレイパが停止する待機位置において、前記張り出し部の一部は、前記縮径部の下面を覆っている、除害装置を提供する。

　この構成によれば、ノズルスクレイパが待機位置にあるとき、ノズルスクレイパの張り出し部の一部がノズルの縮径部の下面を覆っているので、堆積物の掻き落としの動作を、待機位置からスタートさせると、縮径部の下面の箇所も含めて、拡径部の天面壁に付着した堆積部を燃焼室に一度の動作で排出できる。

　請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の構成において、前記ヘッドスクレイパは、板状の部材で構成され、前記燃焼室にて前記天面と対向して水平回転可能に配設されている、除害装置を提供する。

　この構成によれば、ノズルスクレイパが最下位置に移動しているときに、板材でなるヘッドスクレイパを水平回転させると、ヘッドスクレイパはノズルスクレイパに残存している堆積物を掻き取って燃焼室内に排出し、スムーズに除去できる。

　請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の構成において、前記ノズルスクレイパと前記ヘッドスクレイパの駆動を制御する制御部をさらに備えている、除害装置を提供する。

　この構成によれば、制御部により、ノズルスクレイパとヘッドスクレイパの駆動を、予め決められた手順に従って制御し、スムーズに堆積物を除去することができる。

　請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の構成において、前記制御部は、前記ノズルスクレイパが前記移動範囲の前記最下位置にあるときに、前記ノズルスクレイパの下部に付着している前記堆積物を除去するように前記ヘッドスクレイパを駆動させる、除害装置を提供する。

　この構成によれば、制御部の制御により、ノズルスクレイパが移動範囲の最下位置にあるときに、ノズルスクレイパの下部に付着している堆積物をヘッドスクレイパが除去するように、ヘッドスクレイパを駆動させて、ノズルスクレイパの下部に付着している堆積物をスムーズに除去させることができる。

　請求項６に記載の発明は、縮径部と前記縮径部よりも後流側に設けられた拡径部とを備え、燃焼室の天面に接続されて前記燃焼室に有害成分を含む被処理ガスを導入するノズルとを有する、前記被処理ガスを前記燃焼室で燃焼または熱分解することにより無害化する除害装置に用いられるノズルスクレイパであって、前記ノズルスクレイパは、前記拡径部の内壁に付着した堆積物を除去する掻き取り部と、移動範囲の最上位置において、前記縮径部の下端に配置される張り出し部と、を有しているノズルスクレイパを提供する。

　この構成によれば、このノズルスクレイパを除害装置に用いることにより、燃焼室に被処理ガスを導入する除害装置におけるノズルの内壁面に付着した堆積物を、簡単に、かつ、短期間で掻き落として除去することができる。

　本発明によれば、ノズルの内周壁と天面壁に堆積する堆積物は、縮径部よりも後流側に設けられた拡径部の中を上下に移動するノズルスクレイパの上下の移動により、拡径部の内周面に付着している堆積物はノズルスクレイパの掻き取り部で掻き落とされて燃焼室内に排出され、拡径部の天面壁に付着している堆積物はノズルスクレイパの張り出し部で燃焼室に排出され、さらにノズルスクレイパの下部に付着した堆積物は、ノズルスクレイパの移動範囲の最下位置においてヘッドスクレイパで除去できる。これにより、燃焼室側から、ノズルの縮径部よりも後流側に設けられる拡径部の内周壁と天面壁に付着した堆積物は、全てがノズルスクレイパで燃焼室内に排出して処理できる。また、ノズルスクレイパの下部に付着した堆積物も、ヘッドスクレイパにより燃焼室内に排出して処理できる。

　また、ノズルスクレイパの移動は上下動であるため、拡径部の断面形状が円形のものに限らず、断面が長形、略四角形、長円形などであっても、拡径部内の堆積物をスムーズに排出処理することができる。さらに、ノズルスクレイパは、縮径部よりも後流側に設けられた拡径部の中を上下に移動するようにしているので、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部が設けられた形状となる、例えばオリフィス、ベンチュリ管などを使用したノズルにも適用することができる。これにより、メンテナンス時間の短縮が図れ、生産性の向上が期待できる。

本発明の実施形態として示す除害装置の模式図であり、（ａ）はその機構部の構成を示す図、（ｂ）はその制御部の機能系を示したブロック構成図である。 同上除害装置におけるインレッドヘッドとその周辺構造を燃焼室側から見た平面図である。 図１に示す同上除害装置において、符号（Ｎ）で示すノズルとその周辺構造を拡大して示す図で、（ａ）はその断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ－Ｂ線断面矢視図である。 同上除害装置におけるノズルスクレイパを示し、（ａ）は燃焼室側から見たそのスクレイパの底面図、（ｂ）は（ａ）中のＡ－Ａ線断面矢視図である。 図４に示すノズルに設けたノズルスクレイパの動作を模式的に示す説明図である。 本発明の同上除害装置の効果を説明するための動作説明図である。

　本発明は、縮径部と縮径部よりも後流側に拡径部とを設けたノズルなどであっても、堆積物の掻き残しを無くして綺麗に掻き取ることができる構造にした除害装置を提供するという目的を達成するために、有害成分を含む被処理ガスを燃焼室で燃焼または熱分解することにより無害化する除害装置であって、縮径部と前記縮径部よりも後流側に設けられた拡径部とを備え、前記燃焼室の天面に接続されて前記燃焼室に前記被処理ガスを導入するノズルと、前記拡径部内を所定の移動範囲で上下動可能に設けられ、前記拡径部内に付着した堆積物を除去して前記燃焼室に排出するノズルスクレイパと、前記移動範囲の最下位置において、前記ノズルスクレイパの下部に付着している前記堆積物を除去するヘッドスクレイパと、を備え、前記ノズルスクレイパは、前記拡径部の内壁に付着した前記堆積物を除去する掻き取り部と、前記移動範囲の最上位置において、前記縮径部の下端に配置される張り出し部と、を有している、構成にしたことにより実現した。

　以下、本発明の実施形態に係る一実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。

　また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。

　また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。

　また、以下の説明において、上下や左右等の方向を示す表現は、絶対的なものではなく、本発明の除害装置の各部が描かれている姿勢である場合に適切であるが、その姿勢が変化した場合には姿勢の変化に応じて変更して解釈されるべきものである。また、実施例の説明の全体を通じて同じ要素には同じ符号を付している。

　図１は本発明の実施例に係る除害装置１０の模式図であり、（ａ）はその機構部の構成を示す図、（ｂ）はその制御部の機能系を示したブロック構成図である。図２は、図１に示した除害装置１０におけるインレッドヘッド２３とその周辺構造を燃焼室１１側から見た平面図である。図１及び図２に示す除害装置１０は、燃焼式除害装置であり、例えば、周知の半導体製造装置のプロセスチャンバから排気される有害成分を含有した排気ガスを除害ガス、すなわち被処理ガスＰＧとし、その被処理ガスＰＧを燃焼または熱分解により無害化する手段として使用される、あるいは半導体製造装置以外の装置から排気される有害成分を含有する排気ガスを被処理ガスＰＧとして同様に無害化する手段として使用される。

　このような、半導体製造装置のプロセスチャンバから排気される被処理ガスＰＧを燃焼分解すると、微粒子ダストとして粉体が発生する。例えば、シランガス（ＳｉＨ４）やジクロルシラン（ＳｉＨ２Ｃ１２）を燃焼分解すると二酸化ケイ素；シリカ（ＳｉＯ２）が発生し、六フッ化タングステン（ＷＦ６）を燃焼分解すると酸化タングステン（Ｗ２Ｏ３）が発生する。そして、これらの粉体が後述する被処理ガス用のガス通路である被処理ガス用ノズル１６のガス導入孔出口１６Ａや、燃焼室１１のインレッドヘッド２３のベース部２３Ａの壁面（燃焼室１１の天面）に付着し堆積することで、被処理ガス用ノズル１６内に堆積物（生成物）１７（図５参照）が発生する。

　除害装置１０は、上述した有害成分含有の排気ガス、すなわち被処理ガスＰＧが導入される燃焼室１１を備えた除害装置本体１２と、無害化に必要な火炎を燃焼室１１内に形成するメインバーナー１３と、メインバーナー１３の点火に必要な種火ＰＬを形成するパイロットバーナー１４と、被処理ガスＰＧを燃焼室１１に導入するガス通路としての被処理ガス用ノズル１６と、燃焼室１１の内壁及びその周辺部分に堆積した上記シリカ（ＳｉＯ２）等の堆積物１７（図５に示す）を除去する堆積物除去手段としてのスクレイパ１８と、燃焼室１１内の温度を検出する温度センサ１９と、装置全体の動作を制御する制御部としての装置コントローラ２０等を有している。なお、装置コントローラ２０は、例えばコンピュータであり、装置全体の動作を予め決められた手順で操作するプログラムが組み込まれている。

　除害装置本体１２は、概略円筒状をした第１の筒壁２１と第１の筒壁２１の外側に設置された同じく概略円筒状をした第２の筒壁２２を有している。この第１の筒壁２１の上面（天面）と第２の筒壁２２の上面（天面）は、共通のインレッドヘッド２３により閉じられ、下面（底面）側は底壁１５により閉じられ、図示しない排気ポートを通じて、工場設備の排気配管と接続されている。そして、第１の筒壁２１の内部空間を燃焼室１１として構成し、第１の筒壁２１と第２の筒壁２２との間の空間部を、可燃性燃料２５と空気２６が導入されるバーナーガス室２４として構成してある。なお、この第１の筒壁２１と第２の筒壁２２は必ずしも円筒形である必要はない。

　燃焼室１１内に無害化に必要な火炎を形成するメインバーナー１３は、バーナーガス室２４の内周に設けられた第１のメインバーナー１３Ａと、燃焼室１１の天壁を構成しているインレッドヘッド２３に設けられた第２のメインバーナー１３Ｂと、を有している。

　第１の筒壁２１と第２の筒壁２２の天面を形成しているインレッドヘッド２３のベース部２３Ａは、図２に示すように、第１の筒壁２１と第２の筒壁２２の筒形形状に合わせて円板状に形成されている。そして、インレッドヘッド２３のベース部２３Ａに、第２のメインバーナー１３Ｂとヘッドスクレイパ１８Ｂと温度センサ１９とパイロットバーナー１４を取り付けている。

　図１に示すように、第１のメインバーナー１３Ａは、バーナーガス室２４を構成する第１の筒壁２１に複数個の噴出孔２１Ａを穿設し、その噴出孔２１Ａから燃焼室１１に向けて可燃性燃料２５と空気２６の混合気２７を噴出し、燃焼可能とする構造になっている。したがって、第２の筒壁２２には、バーナーガス室２４内に可燃性燃料２５を供給する第１の支燃性ガス供給ノズル２８と、バーナーガス室２４内に空気２６を供給する第２の支燃性ガス供給ノズル２９が接続されている。

　同じく図１に示すように、第２のメインバーナー１３Ｂは、被処理ガスＰＧを燃焼室１１に導入する被処理ガス用のガス通路としてなる被処理ガス用ノズル１６を有している。被処理ガス用ノズル１６の出口側は、インレッドヘッド２３のベース部２３Ａ、すなわち燃焼室１１の天面にガス導入孔出口１６Ａとして開口している。なお、被処理ガス用ノズル１６の入口側は、被処理ガスＰＧを排出する図示しない半導体製造装置のプロセスチャンバの出口側に接続されている。このことから、除害装置１０では、プロセスチャンバから送り出された被処理ガスＰＧが、被処理ガス用ノズル１６から燃焼室１１に導入される。なお、被処理ガス用ノズル１６の数は特に限定されず、本実施例では図２に示すように４本であり、この４本の被処理ガス用ノズル１６を囲暁している基準円Ｃ１に沿って略等間隔で配設している。また、第２のメインバーナー１３Ｂでは、被処理ガス用ノズル１６の途中に別の第３の支燃性ガス供給ノズル３０を接続し、接続した第３の支燃性ガス供給ノズル３０から被処理ガス用ノズル１６内に可燃性燃料２５と酸素（または空気）２６を供給する。そして、被処理ガス用ノズル１６のガス導入孔出口１６Ａから、燃焼室１１に向けて可燃性燃料２５と酸素（または空気２６）の混合気２７を噴出し、燃焼可能とする構造になっている。

　被処理ガス用ノズル１６は、図１の部分拡大断面図として図３にも示している。図３は、図１中に符号（Ｎ）で示す被処理ガス用ノズル１６とその周辺構造を拡大して示す図であり、（ａ）はその断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ－Ｂ線断面矢視図である。図１及び図２に図３を加えて、被処理ガス用ノズル１６の構造を更に説明すると、被処理ガス用ノズル１６は、縮径部１６Ｂを有する第１のノズル部分１６Ｇと、第１のノズル部分１６Ｇの縮径部１６Ｂの後流側に設けられた拡径部１６Ｃを有する第２のノズル部分１６Ｈと、を備えている。

　第１のノズル部分１６Ｇとしての縮径部１６Ｂは、プロセスチャンバ側から第２のノズル部分１６Ｈ側へ進むに従って徐々に開口径が狭まるようにして形成されており、例えばオリフィス管、又は、ベンチュリ管などとして形成されている。縮径部１６Ｂを、オリフィス管、又は、ベンチュリ管等として形成すると、オリフィス部分やベンチュリ部分で流れ不連続で急激な膨張（拡張）により、燃焼のための燃料や酸素とよく混じり合い除害効率が向上する。縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄは、図３の（ａ）に示すように縮径部１６Ｂ側のフランジ１６Ｅとフランジ１６Ｆを介して拡径部１６Ｃと連結固定されている。なお、縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄは、フランジ１６Ｅを上下に貫通して、拡径部１６Ｃ内に所定量突出している。また、ガス導入孔出口１６Ｄの形状は、図３の（ｂ）に示すように、長円形に形成されている。

　一方、第２のノズル部分１６Ｈとしての拡径部１６Ｃは、一端側（上端側）のフランジ１６Ｆが、縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄとフランジ１６Ｅを介して密に連結されている。拡径部１６Ｃは、図３の（ａ）に示すように、縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄとの間に隙間Ｓが、全周に亘って作られるようにして、縮径部１６Ｂの外径よりも大きな内径を有して、また図３の（ｂ）に示すように、縮径部１６Ｂと同じ長円形に形成されている。なお、拡径部１６Ｃは、図３の（ａ）に示すように、一端側（上端側）からガス導入孔出口１６Ａを設けた下端側まで、同一径での筒型形状にして、断面長円形に形成されている。

　パイロットバーナー１４は、被処理ガス用ノズル１６の近傍に配設されたパイロット用のノズル１４Ａを有している。ノズル１４Ａの出口側は、燃焼室１１の天面（ベース部２３Ａ）に開口されており、そのノズル１４Ａの出口から燃焼室１１に向けて可燃性燃料２５と空気（または酸素）２６の混合気２７を噴出し、燃焼可能とする構造になっている。なお、燃焼室１１の天面上に設けられているノズル１４Ａの位置は、図２に示すように燃焼室１１内において４つのガス導入孔出口１６Ａを囲む基準円Ｃ１よりも内側に位置して設けられている。

　温度センサ１９は、燃焼室１１内の温度を測定するものであり、ピン状をなし、一端側が燃焼室１１内に突出した状態でインレッドヘッド２３に取り付けられている。その温度センサ１９が配設されている燃焼室１１の天面での位置は、燃焼室１１内において４つのガス導入孔出口１６Ａを囲暁している基準円Ｃ１よりも外側で、かつ、基準円Ｃ２よりも内側に位置して設けられている。

　スクレイパ１８は、ノズル（被処理ガス用のガス通路）１６内に付着している堆積物１７をガス導入孔出口１６Ａから燃焼室１１内に排出除去するノズルスクレイパ１８Ａと、燃焼室１１のベース部（天面）２３Ａに付着された堆積物１７及びノズルスクレイパ１８Ａの下端に付着して残った堆積物１７等を除去するヘッドスクレイパ１８Ｂと、を有している。

　ノズルスクレイパ１８Ａは、被処理ガス用ノズル１６の拡径部１６Ｃ内を、所定の移動範囲で上下方向に水平移動し、その移動時に、拡径部１６Ｃの内周壁面に付着している堆積物１７を掻き落として燃焼室１１内に排出し、除去するように構成されている。ノズルスクレイパ１８Ａは、図３及び図４に示すように、本体部１８Ｄの外形が拡径部１６Ｃの内径と略等しく形成され、また、本体部１８Ｄの中心に、平面視で縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄと略等しい形状をした上下方向に貫通している貫通孔１８Ｃを設けて、環状に形成されている。すなわち、ノズルスクレイパ１８Ａの中心側には、ノズルスクレイパ１８Ａが図３の（ａ）に示す「待機位置」（移動範囲の最上位置）に移動されている状態において、縮径部１６Ｂの下端面を覆う位置まで内側張り出し箇所１８Ｅを全周に亘って形成している。したがって、ノズルスクレイパ１８Ａの本体部１８Ｄは、図３の（ａ）に示す「待機位置」に移動されている状態では、拡径部１６Ｃの天面全体を覆う張り出し部として機能する。

　また、ノズルスクレイパ１８Ａにおける本体部１８Ｄの上面には、図３の（ａ）に示すように上記「待機位置」において、縮径部１６Ｂの下端部の外周と拡径部１６Ｃの内周との間の隙間Ｓに入り込むことができる突出部１８Ｆが設けられている。一方、ノズルスクレイパ１８Ａの下面側には、拡径部１６Ｃの内周面に沿う下向きのエッジ状の刃としてなる掻き取り部１８Ｇが設けられている。ノズルスクレイパ１８Ａにおける突出部１８Ｆは、ノズルスクレイパ１８Ａが上記「待機位置」に移動したとき、縮径部１６Ｂの下端部の外周と拡径部１６Ｃの内周との間の隙間Ｓに入り込み、ノズルスクレイパ１８Ａの本体部１８Ｄの上面の一部（内側張り出し箇所１８Ｅ）が縮径部１６Ｂの下面に密着するのを許容する。

　ノズルスクレイパ１８Ａの掻き取り部１８Ｇは、外周側先端部分が鋭利な刃状に形成されていて、ノズルスクレイパ１８Ａが上記「待機位置」から下方向に向かって移動するとき、拡径部１６Ｃの内壁に付着している堆積物１７を燃焼室１１に向けて掻き落とす。

　また、ノズルスクレイパ１８Ａにおける本体部１８Ｄの上面には、ノズルスクレイパ１８Ａを被処理ガス用ノズル１６の外側から上下方向に移動させるためのロッド３１が設けられている。なお、ロッド３１の上下方向の移動は、図１の（ｂ）に示す装置コントローラ２０により駆動制御される、電動モータ（図示せず）を駆動力とする駆動部２０Ａの動作で操作される構成になっている。また、ノズルスクレイパ１８Ａは、ロッド３１により最下位置に移動されると、下面側の掻き取り部１８Ｇが堆積物１７と共に燃焼室１１内に僅かに突出するようになっている。

　ヘッドスクレイパ１８Ｂは、板状の部材で形成されており、インレッドヘッド２３の略中央を貫通している回転可能な軸３３の下端側に、軸３３と一体回転可能に取り付けられている。ヘッドスクレイパ１８Ｂは、燃焼室１１内において、略水平に、かつ、インレッドヘッド２３の下面、すなわち燃焼室１１のベース部（天面）２３Ａを滑るように回転する状態にして取り付けられている。軸３３の回転、すなわちヘッドスクレイパ１８Ｂの回転は、装置コントローラ２０により駆動制御される電動モータ（図示せず）を駆動力とする駆動部２０Ｂの動作で、自動操作される構成になっている。

　図５は除害装置１０における被処理ガス用ノズル１６内の堆積物１７を除去する動作説明図である。そこで、図１から図４に示した除害装置１０の動作を、図５の動作説明図を加えて図１から図４と共に説明する。なお、図５では、説明を簡略化するために、被処理ガス用ノズル１６及びスクレイパ１８等は、更に簡略化し、そして説明に必要な部材だけを模式的に示している。

　除害装置１０は、装置コントローラ２０から装置起動信号が与えられると、図１に示すように、パイロットバーナー１４による種火ＰＬが燃焼室１１内に形成される。この種火ＰＬは、常にその点火の状態が維持されるように設定してある。

　また、第１のメインバーナー１３Ａに対して第１の支燃性ガス供給ノズル２８から可燃性燃料２５が供給されるとともに、第２の支燃性ガス供給ノズル２９から空気２６が供給される。

　第１のメインバーナー１３Ａに対して供給された可燃性燃料２５及び支燃性ガス（空気２６）は、混合気２７となって第１のメインバーナー１３Ａから燃焼室１１に向けて噴出する。そして、噴出した混合気２７に対してパイロットバーナー１４での種火ＰＬによる引火作用が加わり、燃焼室１１内には被処理ガスＰＧの無害化に必要な火炎が形成される。

　なお、燃焼室１１への被処理ガスＰＧの供給は、火炎の形成後に、第３の支燃性ガス供給ノズル３０から支燃性ガス（空気または酸素）と共に供給される。そして、この除害装置１０では、燃焼室１１内において、被処理ガスＰＧを燃やして空気（酸素）と反応させる酸化反応を起こすことで、有毒ガスを無害なガスに変える。そして、火炎による燃焼または熱分解により無害化した被処理ガスＰＧは、処理ガスとして、燃焼室１１に連通する図示しない出口ポートから除害装置本体１２の外へと排出される。

　また、反対に、装置コントローラ２０から除害装置１０に対して燃焼（熱分解）停止の指示信号が与えられると、第１の支燃性ガス供給ノズル２８と第２の支燃性ガス供給ノズル２９と第３の支燃性ガス供給ノズル３０からメインバーナー１３（１３Ａ、１３Ｂ）に対する可燃性燃料２５及び空気（または酸素）２６，２７と被処理ガスＰＧ等の供給が各々停止する。すると、燃焼室１１内の火炎は自然鎮火する。そして、火炎の自然鎮火によって、燃焼室１１内での火炎による被処理ガスＰＧの燃焼または熱分解も停止する。

　そして、燃焼室１１内での火炎による被処理ガスＰＧの燃焼または熱分解が終了したら、装置コントローラ２０は定期的あるいは必要に応じてスクレイパ１８を駆動させ、ノズル（ガス通路）１６内に付着した堆積物１７、及び燃焼室１１内において被処理ガス用ノズル１６の近傍に付着した堆積物１７を取り除く操作を行う。堆積物１７の取り除き操作では、ノズルスクレイパ１８Ａとヘッドスクレイパ１８Ｂを操作する。

　ノズル（ガス通路）１６内に付着して堆積した堆積物１７の除去は、装置コントローラ２０が駆動部２０Ａを駆動制御し、その駆動部２０Ａがノズルスクレイパ１８Ａを、拡径部１６Ｃ内で上下方向（ガス通路方向）に所定の移動範囲で往復移動させる。なお、ノズルスクレイパ１８Ａは、除害装置１０の駆動運転中は、装置コントローラ２０の制御により、ロッド３１を介して図４の（ａ）及び図５の（Ａ）に示すように、上記「待機位置」に配置されている。そして、本体部１８Ｄが、ガス導入孔出口１６Ｄを設けている縮径部１６Ｂの下面の周縁部分と拡径部１６Ｃの天面を覆っている。

　除害装置１０の駆動運転に伴い、図５の（ｂ）に示すように、被処理ガス用ノズル１６の拡径部１６Ｃ内に堆積物１７が付着し堆積すると、装置コントローラ２０はロッド３１を介してノズルスクレイパ１８Ａを、図５の（ｃ）に示すように下方に移動させる。このノズルスクレイパ１８Ａの下方への移動では、掻き取り部１８Ｇが拡径部１６Ｃの内周面に付着し堆積している堆積物１７を掻き取りながら、下方に移動し、掻き取った堆積物１７を燃焼室１１内に落として排出する。また、同時に本体部（張り出し部）１８Ｄが拡径部１６Ｃの天面部分に付着し堆積している堆積物１７を下方に移動させ、ノズルスクレイパ１８Ａの最下移動位置では、下方に本体部１８Ｄと共に移動させた堆積物１７を、同じく図５の（ｃ）に示すように、ガス導入孔出口１６Ｄから燃焼室１１内に露出させる。すなわち、本実施例では、図５の（ｃ）に示す位置が最下位置である。

　また、装置コントローラ２０は、駆動部２０Ｂを介して軸３３を回転させて、この軸３３と共にヘッドスクレイパ１８Ｂを水平回転させる。ヘッドスクレイパ１８Ｂの水平回転は、燃焼室１１内においてインレッドヘッド２３のベース部（天面）２３Ａ上を滑るようにして回転し、ヘッドスクレイパ１８Ｂが燃焼室１１の天面に付着し堆積している堆積物１７をそぎ落として除去するとともに、最下位置に移動しているノズルスクレイパ１８Ａの下端部分に付着している堆積物１７をそぎ取り、燃焼室１１内に落として排出する。なお、ヘッドスクレイパ１８Ｂの回転の途中で、温度センサ１９と出くわしても、ヘッドスクレイパ１８Ｂには接触回避部３２を設けているので、その接触回避部３２で温度センサ１９を逃がし、温度センサ１９に干渉することなく、堆積物１７の掻き取りを進める。

　また、ヘッドスクレイパ１８Ｂによる堆積物１７の除去が終了したら、装置コントローラ２０は、ヘッドスクレイパ１８Ｂの回転を停止させるとともに、ノズルスクレイパ１８Ａを、図５の（ｃ）に示す最下位置から図５の（ｄ）に示す最上位置である上記「待機位置」に移動させる。これにより、ノズルスクレイパ１８Ａによる堆積物１７の除去と、ヘッドスクレイパ１８Ｂによる堆積物１７の除去の作業が終了する。

　また、本実施例による除害装置１０におけるノズルスクレイパ１８Ａでは、ノズルスクレイパ１８Ａの上記「待機位置」において、本体部（張り出し部）１８Ｄの上面の一部（内側張り出し箇所１８Ｅ）が縮径部１６Ｂの下面に密着するように張り出し部として形成しているので、ノズルスクレイパ１８Ａによる掻き落とし時に、拡径部１６Ｃの内面全体に付着し堆積している堆積物１７を一度に排出して除去することができる。

　これについて更に、図６に示すように、本体部（張り出し部）１８Ｄの上面が縮径部１６Ｂの下面を覆っていない、構造した場合と比較して説明する。図６に示すように、本体部（張り出し部）１８Ｄの上面が縮径部１６Ｂの下面を覆っていない場合では、ノズルスクレイパ１８Ａが、図６の（ａ）、（ｂ）の「待機位置」から最下位置に移動された場合、図６の（ｃ）に示すように縮径部１６Ｂのガス導入孔出口１６Ｄを設けている下面に堆積物１７の一部（残留堆積物１７Ａ）が残る。そして、これはノズルスクレイパ１８Ａが最下位置から図６の（ｄ）に示す「待機位置」に復帰した後も残っている。これに対して、本実施例の構成の場合では、本体部１８Ｄをノズルスクレイパ１８Ａの上記「待機位置」において、ノズルスクレイパ１８Ａの本体部（張り出し部）１８Ｄの上面の一部（内側張り出し箇所１８Ｅ）が縮径部１６Ｂの下面に密着するように形成しているので、ノズルスクレイパ１８Ａによる掻き落とし時に、拡径部１６Ｃの内面全体に付着している全ての堆積物１７を、取り残すことなく一度に排出して除去することができる。これにより、メンテナンス時間の短縮が図れ、生産性の向上が期待できる。

　また、本体部１８Ｄをノズルスクレイパ１８Ａの上記「待機位置」において、ノズルスクレイパ１８Ａの本体部（張り出し部）１８Ｄの上面の一部（内側張り出し箇所１８Ｅ）が縮径部１６Ｂの下面に密着して覆うように形成している。これにより、拡径部１６Ｃ内で縮径部１６Ｂの下面に向かう堆積物１７は、縮径部１６Ｂの下面には付着されず、本体部１８Ｄの上面の一部（内側張り出し箇所１８Ｅ）に付着し、ガス導入孔出口１６Ｄを設けている縮径部１６Ｂの下面に堆積物１７（残留堆積物１７Ａ）が直接付着するのを防止できる。

　また、本実施例では、ノズルスクレイパ１８Ａの移動は上下動であるため、拡径部１６Ｃの断面形状が円形のものに限らず、断面が長形、略四角形、長円形などであっても拡径部１６Ｃ内の堆積物１７を燃焼室１１内にスムーズに排出して処理することができる。

　さらに、ノズルスクレイパ１８Ａは、縮径部１６Ｂよりも後流側に設けられた拡径部１６Ｃの中を上下に移動するようにしているので、縮径部１６Ｂと縮径部１６Ｂよりも後流側に拡径部１６Ｃとを設けた、例えばオリフィス、ベンチュリ管などを使用した場合にも容易に適用することができる。

　なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変や組み合わせを成すことができ、そして、本発明が該改変や該組み合わせされたものに及ぶことは当然である。

　また、本発明は、除害装置１０の被処理ガス用ノズル１６に限定されず、除害装置１０の他の部分で使用される排気ガス配管にも適用することができる。

１０　　：除害装置

１１　　：燃焼室

１２　　：除害装置本体

１３　　：メインバーナー

１３Ａ　：第１のメインバーナー

１３Ｂ　：第２のメインバーナー

１４　　：パイロットバーナー

１４Ａ　：ノズル

１５　　：底壁

１６　　：被処理ガス用ノズル

１６Ａ　：ガス導入孔出口

１６Ｂ　：縮径部

１６Ｃ　：拡径部

１６Ｄ　：ガス導入孔出口

１６Ｅ　：フランジ

１６Ｆ　：フランジ

１６Ｇ　：第１のノズル部分

１６Ｈ　：第２のノズル部分

１７　　：堆積物

１７Ａ　：残留堆積物

１８　　：スクレイパ

１８Ａ　：ノズルスクレイパ

１８Ｂ　：ヘッドスクレイパ

１８Ｃ　：貫通孔

１８Ｄ　：本体部（張り出し部）

１８Ｅ　：内側張り出し箇所

１８Ｆ　：突出部

１８Ｇ　：掻き取り部

１９　　：温度センサ

２０　　：装置コントローラ（制御部）

２０Ａ　：駆動部

２０Ｂ　：駆動部

２１　　：第１の筒壁

２１Ａ　：噴出孔

２２　　：第２の筒壁

２３　　：インレッドヘッド

２３Ａ　：ベース部

２４　　：バーナーガス室

２５　　：可燃性燃料

２６　　：空気

２７　　：混合気

２８　　：第１の支燃性ガス供給ノズル

２９　　：第２の支燃性ガス供給ノズル

３０　　：第３の支燃性ガス供給ノズル

３１　　：ロッド

３２　　：接触回避部

３３　　：軸

Ｃ１　　：基準円

Ｃ２　　：基準円

ＰＧ　　：被処理ガス

ＰＬ　　：種火

Ｓ　　　：隙間

Claims (6)


  1. 　有害成分を含む被処理ガスを燃焼室で燃焼または熱分解することにより無害化する除害装置であって、

    　縮径部と前記縮径部よりも後流側に設けられた拡径部とを備え、前記燃焼室の天面に接続されて前記燃焼室に前記被処理ガスを導入するノズルと、

    　前記拡径部内を所定の移動範囲で上下動可能に設けられ、前記拡径部内に付着した堆積物を除去して前記燃焼室に排出するノズルスクレイパと、

    　前記移動範囲の最下位置において、前記ノズルスクレイパの下部に付着している前記堆積物を除去するヘッドスクレイパと、

    を備え、

    　前記ノズルスクレイパは、

    　前記拡径部の内壁に付着した前記堆積物を除去する掻き取り部と、

    　前記移動範囲の最上位置において、前記縮径部の下端に配置される張り出し部と、

    を有している、ことを特徴とする除害装置。

  2. 　前記ノズルスクレイパが停止する待機位置において、前記張り出し部の一部は、前記縮径部の下面を覆っている、ことを特徴とする請求項１に記載の除害装置。

  3. 　前記ヘッドスクレイパは、板状の部材で構成され、前記燃焼室にて前記天面と対向して水平回転可能に配設されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の除害装置。

  4. 　前記ノズルスクレイパと前記ヘッドスクレイパの駆動を制御する制御部をさらに備えている、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の除害装置。

  5. 　前記制御部は、前記ノズルスクレイパが前記移動範囲の前記最下位置にあるときに、前記ノズルスクレイパの下部に付着している前記堆積物を除去するように前記ヘッドスクレイパを駆動させる、ことを特徴とする請求項４に記載の除害装置。

  6. 　縮径部と前記縮径部よりも後流側に設けられた拡径部とを備え、燃焼室の天面に接続されて前記燃焼室に有害成分を含む被処理ガスを導入するノズルとを有する、前記被処理ガスを前記燃焼室で燃焼または熱分解することにより無害化する除害装置に用いられるノズルスクレイパであって、

    　前記ノズルスクレイパは、

    　前記拡径部の内壁に付着した堆積物を除去する掻き取り部と、

    　移動範囲の最上位置において、前記縮径部の下端に配置される張り出し部と、

    を有している、ことを特徴とするノズルスクレイパ。

     
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001349521A (ja) 2000-06-09 2001-12-21 Nippon Sanso Corp 燃焼式除害装置及びその運転方法
JP2009204289A (ja) 2008-02-29 2009-09-10 Mhi Environment Engineering Co Ltd 燃焼炉及び堆積物除去機構
JP2015053319A (ja) 2013-09-05 2015-03-19 エドワーズ株式会社 除去装置、および除害装置
JP2015528096A (ja) * 2012-07-27 2015-09-24 エドワーズ リミテッド 入口組立体
JP2019520539A (ja) * 2016-05-18 2019-07-18 エドワーズ リミテッド 入口組立体

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001349521A (ja) 2000-06-09 2001-12-21 Nippon Sanso Corp 燃焼式除害装置及びその運転方法
JP2009204289A (ja) 2008-02-29 2009-09-10 Mhi Environment Engineering Co Ltd 燃焼炉及び堆積物除去機構
JP2015528096A (ja) * 2012-07-27 2015-09-24 エドワーズ リミテッド 入口組立体
JP2015053319A (ja) 2013-09-05 2015-03-19 エドワーズ株式会社 除去装置、および除害装置
JP2019520539A (ja) * 2016-05-18 2019-07-18 エドワーズ リミテッド 入口組立体

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