WO2023053695A1

WO2023053695A1 - 処理装置および処理方法

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Publication number: WO2023053695A1
Application number: PCT/JP2022/028705
Authority: WO
Inventors: 直樹植田; 諭中村; 賢一古木
Original assignee: 株式会社日本製鋼所
Priority date: 2021-09-28
Filing date: 2022-07-26
Publication date: 2023-04-06
Also published as: JP2023106508A; JP2023048568A; CN118043391A; JP7335930B2; TW202319463A

Abstract

処理装置（１０）において、処理炉（１００）は、処理対象物を受け入れるための供給口（１０１）と、残渣を排出するための排出口（１０２）と、を有する。温度制御領域（１１０）は、供給口（１０１）と排出口（１０２）の間の中間部の温度を制御する。スクリュ（１２０）は、供給口（１０１）から供給された処理対象物を排出口（１０２）に向かって搬送可能に回転する。第１分解領域（１３０）は、中間部における所定の領域において処理対象物を分解して得た第１流体を処理炉（１００）から回収するための第１回収口（１３２）を含む。第２分解領域（１４０）は、第１分解領域（１３０）より下流側において処理対象物を分解して得た第２流体を処理炉から回収するための第２回収口（１４２）を含む。

Description

処理装置および処理方法

　本発明は処理装置および処理方法に関する。

　循環型社会に向けてリサイクル技術の開発が活発化している。例えば、廃プラスチックを分解して有価物を取り出す技術として、ケミカルリサイクルと呼ばれる手法が存在する。

　例えば、特許文献１に記載の処理装置は、廃プラスチックを加熱して、塩素系ポリマ－を熱分解させて塩素化合物を発生させ、溶融廃プラスチックと塩素化合物とに分離する。

特開２００２－３１７０７２号公報

　ところで、廃プラスチックを分解する工程は複数存在する。またその工程毎に個別の装置が存在する。しかしながら、上述の装置はその一部を担うのみである。そのため、廃プラスチックの分解を行うシステムは複数の装置を用いる必要が生じ、煩雑になる場合がある。

　本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、廃プラスチックを効率よく分解する処理装置等を提供するものである。

　本開示にかかる処理装置は、処理炉、温度制御領域、スクリュ、第１分解領域および第２分解領域を有している。処理炉は、上流側において処理対象物を受け入れるための供給口と、下流側において残渣を排出するための排出口と、を有する筒状の炉である。温度制御領域は、加熱装置または冷却装置を含み、供給口と排出口の間の中間部における所定の位置の処理炉の温度を制御する。スクリュは、処理炉の上流側から下流側に亘り延伸することにより、供給口から供給された処理対象物を排出口に向かって搬送可能に回転する。第１分解領域は、中間部における所定の領域において処理対象物から分離した第１流体を処理炉の外へ取り出すための第１回収口を含む領域である。第２分解領域は、第１分解領域より下流側において第１流体と異なる流体であって処理対象物から分離した第２流体を処理炉の外へ取り出すための第２回収口を含む領域である。

　本開示にかかる処理方法は、処理装置が以下の方法を実行する。処理装置は、上流側において処理対象物を受け入れるための供給口と下流側において残渣を排出するための排出口とを有する筒状の処理炉に供給口から処理対象物を受け入れる。処理装置は、処理炉の上流側から下流側に亘り延伸するスクリュにより処理対象物を排出口に向かって搬送する。処理装置は、処理炉における供給口と排出口との間の中間部における所定の位置の温度を制御する。処理装置は、中間部に設けられた第１分解領域において処理対象物から分離した第１流体を処理炉から取り出す。処理装置は、第１分解領域の下流側に位置する第２分解領域において第１流体と異なる流体であって処理対象物から分離した第２流体を処理炉から取り出す。処理装置は、第２分解領域を通過した残渣を排出口から排出する。

　本開示によれば、廃プラスチックを効率よく分解する処理装置等を提供することができる。

実施の形態１にかかる処理装置の側面図である。実施の形態１にかかる処理装置のブロック図である。実施の形態１にかかる処理装置が実行する処理のフローチャートである。スクリュの第１変形例を示す側面図である。スクリュの第２変形例を示す側面図である。スクリュの第３変形例を示す側面図である。スクリュの第３変形例にかかる応力部の断面図である。実施の形態２にかかる処理装置の側面図である。実施の形態２にかかる処理装置が実行する処理のフローチャートである。実施の形態３にかかる処理システムの構成図である。実施の形態４にかかる処理システムの構成図である。実施の形態５にかかる処理システムの構成図である。

　以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、特許請求の範囲にかかる発明を以下の実施形態に限定するものではない。また、実施形態で説明する構成の全てが課題を解決するための手段として必須であるとは限らない。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、および簡略化がなされている。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。

　＜実施の形態１＞
　図１を参照しながら、実施の形態１にかかる処理装置の主な構成について説明する。図１は、実施の形態１にかかる処理装置１０の側面図である。図に示す処理装置１０は理解容易のために一部を切り取った状態で示している。

　処理装置１０は、例えば廃プラスチックを分子レベルに分解して様々な物質を有価物として回収するための装置である。有価物とは樹脂に限られず、メタノール、アンモニアまたは炭化水素などを含み得る。処理装置１０により回収されたこれらの物質はガス、油または化学原料として再利用される。すなわち処理装置１０はいわゆるケミカルリサイクルを行うための装置ということができる。本実施の形態にかかる処理装置１０は主な構成として、処理炉１００、温度制御領域１１０、スクリュ１２０、第１分解領域１３０および第２分解領域１４０を有している。

　処理炉１００は、上流側において処理対象物を受け入れるための供給口１０１と、下流側において残渣を排出するための排出口１０２と、を有する筒状の炉である。図１に示す処理炉１００は、左側が上流側であって、右側が下流側となる。処理炉１００は、供給口１０１と排出口１０２との間に中間部を有する。処理炉１００は、炉内において処理対象物を処理する際に生じる温度変化、炉内に供給される物質または炉内で生じる反応ないし分解により生じる物質との接触を許容可能な材質により形成される。例えば処理炉１００は、ニッケルやクロムを主成分とした合金やアルミナを含むセラミックスにより形成され得る。

　図１に示す処理装置１０は、水平方向に横臥しており、左上端部に供給口１０１を有し、右下端部に排出口１０２を有する。図１に示す処理炉１００は、供給口１０１から処理対象物Ｗ１０を受け入れる。処理装置１０は、処理炉１００の内部に設けられたスクリュ１２０を回転させることにより、処理炉１００が受け入れた処理対象物Ｗ１０を排出口１０２に向かって推進させる。すなわち処理炉１００に供給された処理対象物Ｗ１０は、中間部を通過して排出口１０２が設けられている下流側に向かう。処理装置１０は、処理炉１００の中間部に処理対象物Ｗ１０を通過させることにより処理対象物Ｗ１０を分解して所定の分解物を得る。そして処理炉１００は、所定の分解物が取り除かれた残渣Ｗ１１を排出口１０２から排出する。

　温度制御領域１１０は、温度制御装置、すなわち加熱装置または冷却装置を含み、供給口１０１と排出口１０２の間の中間部における所定の位置の処理炉１００の温度を制御する。図１に示す温度制御領域１１０は、処理炉１００の中間部において筒状の処理炉１００の周囲を囲むように加熱装置を有している。加熱装置は例えばシースヒータ、コイルヒータまたはセラミックヒータなどの温度制御可能な任意のヒータを含む。加熱装置は例えば常温から９００度程度の範囲の加熱を行う。また温度制御領域１１０は、処理炉１００の中間部の領域ごとに、後述するスクリュ１２０の軸方向に沿って、異なる温度を設定できる。例えば温度制御領域１１０は後述する第１分解領域１３０や第２分解領域１４０において処理対象物Ｗ１０に与える温度変化を制御し得る。

　また温度制御領域１１０は、加熱装置または冷却装置を制御するための制御装置を含みうる。例えば温度制御領域１１０は、処理炉１００の所定の位置に温度を監視するための温度計を有していてもよい。また処理炉１００は、例えば加熱装置が電流を流すことにより加熱する原理を有する場合には、電流値を監視することにより温度制御を行ってもよい。

　なお、温度制御領域１１０は、例えば水やオイルを循環させることにより加熱または冷却を行う構成を有していてもよい。また温度制御領域１１０は例えばペルチェ素子などを用いて冷却を行う構成を有していてもよい。上述の構成により、温度制御領域１１０は、処理炉１００においてスクリュ１２０の軸方向に沿って種々の温度分布を設定できる。

　スクリュ１２０は、処理炉１００の上流側から下流側に亘り延伸することにより、供給口１０１から供給された処理対象物Ｗ１０を排出口１０２に向かって搬送可能に回転する。スクリュ１２０は例えば、ニッケル、コバルト、クロム、鉄、銅、アルミニウム、チタン、タングステン、ニオブ、タンタル、モリブデンの少なくとも一つを成分として含む合金や、アルミナやジルコニアなどの金属酸化物、窒化ケイ素などの窒化物、炭化チタンなどの炭化物、クロム硼化物などの硼化物を含むセラミックスにより形成されるか、前記合金と前記セラミックスを組み合わせた複合材、被覆材、接合材により形成され得る。図１に示すスクリュ１２０は、図１の左右方向に延伸する軸の周囲に螺旋状の送りねじ部１２１が形成されている。この送りねじ部１２１が処理対象物Ｗ１０と接触しながら回転することにより、スクリュ１２０は処理対象物Ｗ１０を上流側から下流側へ向かって搬送する。

　なお、図１に示す送りねじ部１２１の形状は一例であって、送りねじ部１２１の形状はこれに限られない。送りねじ部１２１は、処理炉１００の領域ごとに異なる形状を有していてもよい。より具体的には、例えば送りねじ部１２１は螺旋のピッチが変化してもよい。また送りねじ部１２１の螺旋形状は、１条ではなく、２条であってもよい。また送りねじ部１２１は螺旋形状ではない部分を有していてもよい。スクリュ１２０は軸部の太さや形状が変化してもよい。これにより処理装置１０は、処理炉１００の内部に存在する物体の移動する速さや移動する際の挙動などを領域ごとに設定できる。より具体的には、例えば処理装置１０は、処理炉１００における物体を搬送、攪拌、混合、混練または粉砕し得る。

　スクリュ１２０は、処理炉１００の両端部においてそれぞれ軸支されている。また図１に示すスクリュ１２０は、供給口１０１の側において駆動装置１５０に接続している。駆動装置１５０は、モータなどの所定の回転機構を有し、スクリュ１２０を回転させる。駆動装置１５０は、スクリュ１２０の回転数を変速可能に設定されたものであってもよい。この場合、駆動装置１５０は、回転数が変動可能なモータであってもよいし、回転数が一定のモータと、減速比が変更可能な減速機とを組み合わせたものであってもよい。

　第１分解領域１３０は、中間部における所定の領域において処理対象物Ｗ１０から分離させた第１流体を処理炉１００から回収するための第１回収口１３２を含む領域である。第１分解領域１３０は処理炉１００において、供給口１０１と第２分解領域１４０との間に設けられている。第１回収口１３２は、第１分解領域１３０における第１流体Ｆ１１を処理炉１００の外へ取り出す、すなわち第１流体Ｆ１１を回収するための孔である。第１回収口１３２は第１流体回収管１３３に接続している。

　第１流体回収管１３３は第１冷却装置１３４に接続している。第１冷却装置１３４は第１流体回収管１３３から送られてきた第１流体Ｆ１１を冷却して、第１冷却流体Ｆ１２に変える。第１冷却装置１３４は例えば第１流体Ｆ１１がガスとして送られてきた場合に、これを冷却することにより液化し、液体である第１冷却流体Ｆ１２として回収させることができる。このように、処理炉１００は、第１分解領域１３０で分解して得た第１流体Ｆ１１を再利用可能に回収する。すなわち処理炉１００のユーザは、第１冷却流体Ｆ１２を回収して再利用することができる。なお、第１流体Ｆ１１は気体であってもよいし液体であってもよい。

　第２分解領域１４０は、第１分解領域１３０第１分解領域より下流側において第１流体Ｆ１１と異なる流体であって処理対象物Ｗ１０から分離した第２流体Ｆ２１を処理炉１００から回収するための第２回収口１４２を含む領域である。すなわち第２分解領域１４０は、第１分解領域１３０とは異なる領域において、第１分解領域１３０と同等の構成を有し得る。

　第２分解領域１４０は処理炉１００の中間部において、第１分解領域１３０と排出口１０２との間に設けられている。第２回収口１４２は、第２分解領域１４０における第２流体Ｆ２１を処理炉１００の外へ取り出す、すなわち第２流体Ｆ２１を回収するための孔である。第２回収口１４２は第２流体回収管１４３に接続している。

　第２流体回収管１４３は第２冷却装置１４４に接続している。第２冷却装置１４４は第２流体回収管１４３から送られてきた第２流体Ｆ２１を冷却して、第２冷却流体Ｆ２２に変える。第２冷却装置１４４は例えば第２流体Ｆ２１がガスとして送られてきた場合に、これを冷却することにより液化し、液体である第２冷却流体Ｆ２２として回収させることができる。このように、処理炉１００は、第２分解領域１４０で分解して得た第２流体Ｆ２１を再利用可能に回収する。すなわち処理炉１００のユーザは、第２冷却流体Ｆ２２を回収して再利用することができる。なお、第２流体Ｆ２１は気体であってもよいし液体であってもよい。

　上述の構成により、処理装置１０は、第２分解領域１４０において第１分解領域１３０を通過した後の処理対象物Ｗ１０をさらに分解して第２流体Ｆ２１を得ることができる。さらに、第２流体Ｆ２１が第２回収口１４２より回収された後に残った処理対象物Ｗ１０を排出口１０２に搬送し、残渣Ｗ１１として排出する。なお、図１において、第１回収口１３２および第２回収口１４２は、処理炉１００の上部に配置されているが、第１回収口１３２および第２回収口１４２の配置は処理炉１００の側部であってもいし、下部であってもよい。また第１回収口１３２と第２回収口１４２とは処理炉１００の周方向において異なる位置に配置されていてもよい。

　以上、処理装置１０の構成について説明したが、実施の形態１にかかる処理装置１０は、上述の構成に限られない。例えば、スクリュ１２０は１以上であれば、２以上であってもよい。すなわち、処理装置１０は、平行に配置された複数のスクリュ１２０を有してもよい。

　処理炉１００のスクリュ１２０の軸と直交する平面における断面形状はルーローの定幅図形で定義される組合せを持つものであってもよい。この場合、スクリュ１２０の送りねじ部１２１の断面形状は、ルーローの定副図形に対応した複数の円弧を組み合わせた形状を有する。例えば処理炉１００の内部の断面形状が円形の場合には、スクリュ１２０の断面形状は、３つの円弧で構成されたルーロー定幅図形を有する。

　処理炉１００は水平方向に平行に横臥するものに限らず、水平面に対して所定の角度を有し、処理炉１００は斜面を有するものであってもよい。処理装置１０は、中間部において第１分解領域１３０と第２分解領域１４０とを有しているが、さらに別の流体を回収するための構成を有していてもよい。すなわち処理装置１０は、３以上の分解領域を有していてもよい。なお、上述の処理装置１０は、後述する制御装置により制御されている。

　次に、図２を参照して、処理装置１０の機能について説明する。図２は、実施の形態１にかかる処理装置１０のブロック図である。処理装置１０は図１において示した構成に加えて、制御装置２００、温度制御装置２１０、第１流体回収装置２３０、第２流体回収装置２４０および情報入出力装置２５０を有している。

　制御装置２００は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＭＣＵ（Micro Controller Unit）等の演算装置を含む回路基板である。制御装置２００は、温度制御装置２１０、第１流体回収装置２３０、第２流体回収装置２４０および情報入出力装置２５０のそれぞれと通信可能に接続し、これの構成をそれぞれ制御する。制御装置２００は回路基板に実装されたハードウェアおよびソフトウェアによりその機能を実現する。

　制御装置２００は主な機能構成として、全体制御部２０１、温度制御部２０２、スクリュ回転制御部２０３、第１回収制御部２０４、第２回収制御部２０５、ＩＦ制御部２０６および記憶部２０７を有している。制御装置２００が有するこれらの機能構成は、一体となったものであってもよいし、ディスクリートであってもよい。また制御装置２００が有するこれらの機能構成は、別個の複数の装置が連動することにより実現されてもよい。

　全体制御部２０１は、制御装置２００が有する各機能構成に接続し、これらの機能の全体の動作を制御する。例えば全体制御部２０１は、温度制御部２０２から供給される温度の状態に応じてスクリュ回転制御部２０３に動作の指示を出す、といった動作を行い得る。

　温度制御部２０２は、温度制御装置２１０に接続し、温度制御領域１１０における処理炉１００の温度を制御する。温度制御部２０２は、加熱装置および冷却装置のうち少なくともいずれか一方を有している。また温度制御部２０２は、温度を制御するための１以上の温度計を有し得る。

　スクリュ回転制御部２０３は、駆動装置１５０に接続し、駆動装置１５０の動作を制御する。スクリュ回転制御部２０３は例えば駆動装置１５０が有するモータを駆動するためのモータ駆動回路を有し得る。またスクリュ回転制御部２０３は、モータの回転数を監視するための回転センサを有し得る。

　第１回収制御部２０４は、第１分解領域１３０における第１流体Ｆ１１の流れを制御する。より具体的には、第１回収制御部２０４は第１流体回収装置２３０に接続し、第１流体回収装置２３０の動作を制御する。第１流体回収装置２３０は第１流体Ｆ１１を取り出すためのバルブ、ポンプおよび流量計等を含み得る。第２回収制御部２０５は、第２分解領域１４０における第２流体Ｆ２１の流れを制御する。より具体的には、第２回収制御部２０５は第２流体回収装置２４０に接続し、第２流体回収装置２４０の動作を制御する。第２流体回収装置２４０は第２流体Ｆ２１を取り出すためのバルブ、ポンプおよび流量計等を含み得る。

　ＩＦ制御部２０６（IF=Interface）は、情報入出力装置２５０に接続し、情報入出力装置２５０を介してユーザとの情報交換を行うためのインタフェースである。すなわちＩＦ制御部２０６は、情報入出力装置２５０を介してユーザからの操作を受け付け、受け付けた操作にかかる情報を、制御装置２００の各構成に適宜供給する。またＩＦ制御部２０６は、情報入出力装置２５０が有する表示部の状態を制御する。

　記憶部２０７は、フラッシュメモリやＳＳＤ（Solid State Drive）等の不揮発性メモリを含む記憶装置である。記憶部２０７は処理装置１０が本開示における機能を実現するためのプログラムを格納している。また記憶部２０７は揮発性メモリを含み、制御装置２００が動作する際に所定の情報を一時的に格納する。情報入出力装置２５０は、例えばユーザからの操作を受け付けるためのボタン、スイッチまたはタッチパネル等を有する。また情報入出力装置２５０は、ユーザに情報を提示するためのディスプレイ装置等を含む。

　以上、処理装置１０の機能ブロックについて説明した。処理装置１０は上述の構成により、受け入れた処理対象物Ｗ１０をスクリュ１２０により搬送し、処理炉１００の温度を制御し、第１分解領域１３０および第２分解領域１４０における雰囲気を制御する。

　次に、図３を参照して、処理装置１０が実行する処理対象物Ｗ１０の処理方法について説明する。図３は、処理装置１０が実行する処理のフローチャートである。図３に示すフローチャートは、例えば処理装置１０に対して処理対象物Ｗ１０の供給を開始することにより開始する。

　まず、処理装置１０の制御装置２００は、温度制御部２０２を介して、処理炉１００の温度制御領域１１０の加熱装置または冷却装置を駆動することにより温度を制御する（ステップＳ１１）。

　次に、処理装置１０は、処理炉１００の供給口１０１から所定の処理対象物Ｗ１０を受け入れる（ステップＳ１２）。

　次に、処理装置１０の制御装置２００は、スクリュ回転制御部２０３を介して駆動装置１５０を駆動する。これにより駆動装置１５０はスクリュ１２０を回転させる。そしてスクリュ１２０は、受け入れた処理対象物Ｗ１０を排出口１０２に向かって搬送する（ステップＳ１３）。

　次に、処理装置１０は、中間部に設けられた第１分解領域１３０において処理対象物Ｗ１０から分離した第１流体Ｆ１１を処理炉１００から回収する（ステップＳ１４）。

　次に、処理装置１０は、第１分解領域１３０の下流側に位置する第２分解領域１４０において第１流体Ｆ１１と異なる流体であって処理対象物Ｗ１０から分離した第２流体Ｆ２１を処理炉１００から回収する（ステップＳ１５）。

　次に、処理装置１０は、第２分解領域１４０を通過した残渣Ｗ１１を排出口１０２から排出する（ステップＳ１６）。

　以上、処理装置１０が実行する処理方法について説明した。上述の方法は、処理装置１０が処理対象物Ｗ１０から第１流体Ｆ１１および第２流体Ｆ２１を回収し、第１流体Ｆ１１および第２流体Ｆ２１が回収された後に処理炉１００に残った残渣Ｗ１１を排出するまでの流れに沿って示している。処理装置１０は、一端上述の処理が開始されると、順次新たな処理対象物Ｗ１０が供給され、それぞれのステップが並行して同時に実行され得る。すなわち、処理対象物Ｗ１０は処理装置１０によって連続的に処理され得る。

　処理装置１０は、廃プラスチックを熱分解する熱分解法におけるケミカルリサイクルに含まれる工程のうち、上述のように、熱分解、有価蒸気である第１流体Ｆ１１および第２流体Ｆ２１の回収、および残渣（例えばタール）の回収を行う。

　なお、温度制御領域１１０は、第１分解領域１３０の温度と第２分解領域１４０の温度が異なるように処理炉１００の温度を制御し得る。好ましくは、温度制御領域１１０は、第１分解領域１３０の温度より第２分解領域１４０の温度が高くなるように、処理炉１００の温度を制御する。

　例えば温度制御領域１１０は、第１分解領域１３０が摂氏５００度程度となるように処理炉１００の温度を制御する。これにより処理対象物Ｗ１０は、第１分解領域１３０において熱分解し、所定のガスである第１流体Ｆ１１を生じる。次に温度制御領域１１０は、第２分解領域１４０が摂氏８５０度程度となるように処理炉１００の温度を制御する。これにより第１流体Ｆ１１を放出した後の処理対象物Ｗ１０は、第１分解領域１３０より高温に制御された第２分解領域１４０においてさらに熱分解し、所定のガスとして第１流体Ｆ１１と異なる第２流体Ｆ２１を生じる。

　また温度制御領域１１０は第２流体Ｆ２１が回収された後に残った残渣を冷却する工程を有していてもよい。より具体的には例えば温度制御領域１１０は摂氏８５０度程度に加熱した残渣を摂氏４０度程度に冷却してもよい。これにより処理炉１００は冷却された残渣Ｗ１１を排出口１０２から安全に排出できる。

　次に、図４を参照してスクリュ１２０の構成のバリエーションについて説明する。図４は、スクリュの第１変形例を示す側面図である。図４は処理装置１１が示されている。処理装置１１は、スクリュ１２０の構成が処理装置１０と異なる。スクリュ１２０は、処理対象物Ｗ１０を搬送するための送りねじ部１２１のピッチが送り方向で変化する構造を有する。

　図４に示すスクリュ１２０は、第１分解領域１３０における送りねじ部１２１のピッチ（すなわちスクリュピッチ）が距離Ｐ１である。またスクリュ１２０は、第２分解領域１４０における送りねじ部１２１のスクリュピッチが距離Ｐ１より短い距離Ｐ２である。すなわちスクリュ１２０は、第２分解領域１４０に対応するスクリュピッチが、第１分解領域１３０に対応するスクリュピッチより小さい。

　上述のように、スクリュ１２０は、所定の第１搬送領域における送りねじ部の第１ピッチが、第１搬送領域より下流側の第２搬送領域における送りねじ部の第２ピッチより広く設定され得る。処理対象物Ｗ１０は、処理炉１００において熱分解され、第１流体Ｆ１１および第２流体Ｆ２１が回収される。すなわち処理対象物Ｗ１０は処理炉１００を上流から下流に向かって移動しながらその体積が減少していく。つまり処理対象物Ｗ１０は減容化しながら搬送される。そのため、処理装置１１は搬送方向に沿って送りねじ部１２１のピッチを変化させる。これにより処理装置１０は減容化による搬送効率の低下を抑制できる。なお、送りねじ部１２１のピッチは複数の段階に徐々に変化するものであってもよい。

　また上述のように送りねじ部１２１のピッチを変化させることにより、処理装置１１は、所望の領域における搬送速度を変化させることができる。これにより処理装置１１は効率よく処理を行うことができる。

　次に、図５を参照してスクリュ１２０のさらなるバリエーションについて説明する。図５は、スクリュの第２変形例を示す側面図である。図５は処理装置１２が示されている。処理装置１２は、スクリュ１２０の構成が処理装置１０と異なる。スクリュ１２０は、軸部の直径が送り方向で変化する構造を有する。

　図５に示すスクリュ１２０は、供給口１０１から第１分解領域１３０に亘り軸部１２０Ａを有している。軸部１２０Ａの直径は一定した値である直径Ｄ１である。図５に示すスクリュ１２０は、は軸部１２０Ａの下流側に軸部１２０Ｂを有している。軸部１２０Ｂは上流から下流に沿って直径Ｄ１から徐々に大きくなっており、下流の端部で直径Ｄ１より大きい直径Ｄ２を有している。

　上述のように、処理装置１２のスクリュ１２０は、所定の第３搬送領域における軸部の第１直径が、第３搬送領域より下流側の第４搬送領域における軸部の第２直径より小さく設定されている。これにより処理装置１２は減容化による搬送効率の低下を抑制できる。なお、スクリュ１２０の軸の形状は、中間部における軸部の直径が、送り方向に沿って変化するものであれば、上述のものに限られない。

　次に、図６を参照してスクリュ１２０のさらなるバリエーションについて説明する。図６は、スクリュの第３変形例を示す側面図である。図６は、理解容易のために処理炉１００およびスクリュ１２０の一部を切り取って示している。スクリュ１２０は、滞留部１２２および応力部１２３を有している点が、上述のスクリュ１２０と異なる。

　滞留部１２２はスクリュ１２０の軸の延伸方向に直交する面に平行に形成された板状の部材である。滞留部１２２が送りねじ部１２１の下流側に設置されることにより、処理対象物Ｗ１０は搬送が妨げられて滞留する。処理対象物Ｗ１０は滞留部１２２の上流側で滞留し、所定量の処理対象物Ｗ１０が蓄積することにより上流側に蓄積した処理対象物Ｗ１０に押し出されて下流に移動する。

　滞留部１２２は、滞留部１２２よりも上流側の雰囲気も滞留させる。換言すると、滞留部１２２は、滞留部１２２よりも上流側のガスの流れを制限させることができる。これにより滞留部１２２は上流側の雰囲気と下流側の雰囲気とが混ざり合うことを抑制できる。また滞留部１２２は、このように雰囲気の流れを抑制することにより、熱分解の効率の低下を抑制できる。

　応力部１２３は、処理対象物Ｗ１０を滞留、攪拌、混合、混練または粉砕する目的で送り方向に対して０度以上１８０度以下の範囲の角度を成す面または配列を有する凸部をもつ。応力部１２３上記目的を実現するために、様々な形態を採用することができる。図６に示す応力部１２３は、送り方向に対して９０度の角度を成す面を有する短冊状の９つの板が送り方向に沿って螺旋状の配置となるように連なっている。これにより応力部１２３は処理対象物Ｗ１０を搬送しながら例えば、混合し、または粉砕する。

　図７を参照して応力部１２３のさらなる例について説明する。図７は、スクリュの第３変形例にかかる応力部の断面図である。図７に示す断面図は、スクリュ１２０の軸に直交する方向から応力部１２３を観察した状態を示している。

　図７には処理炉１００の内部に配置されたスクリュ１２０の応力部１２３の断面が示されている。図７に示す応力部１２３は、スクリュ１２０の軸の中心Ｃから放射状に複数の凸部および凹部が交互に形成されている。応力部１２３は中心Ｃを回転軸として時計周りに回転する。これにより応力部１２３は、応力部１２３の周辺に存在する処理対象物Ｗ１０を攪拌する。

　以上、スクリュ１２０のバリエーションについて説明した。上述のスクリュ１２０のバリエーションは、スクリュ１２０が有し得るいくつかの例を挙げたものである。上述の処理装置にかかるスクリュ１２０の形態は、上述のものに限られない。

　以上、実施の形態１について説明した。実施の形態１にかかる処理装置は、上述の構成に限られない。例えば処理装置１０は、第１分解領域１３０において第１流体回収管１３３に強制輸送機構を有していてもよい。強制輸送機構は第１回収口１３２を介して第１流体回収管１３３を流れる第１流体Ｆ１１の流量を上昇させるための機構である。強制輸送機構は、例えばモータを含むポンプである。この場合、強制輸送機構のポンプは、モータを駆動して流体を吸引することにより、第１流体Ｆ１１の流量を上昇させる。同様に、処理装置１０は、第２分解領域１４０において、第２回収口１４２に強制輸送機構を有していてもよい。なお、強制輸送機構は、第１回収口１３２または第２回収口１４２における流体を強制的に排出できる機構であれば、上述の構成に限定されない。

　上述の処理装置１０において、処理装置１０は２つの分解領域（第１分解領域１３０および第２分解領域１４０）を有しているが、処理装置１０は３つ以上の分解領域を有しても良い。また処理装置１０は、スクリュ１２０の軸方向に沿って複数の温度制御領域１１０を有していても良い。処理装置１０は、中間部において、スクリュ１２０の軸方向に沿って、処理炉１００の温度制御を行い、熱分解を行う。さらに処理装置１０は、処理炉１００の内部の物体を搬送し、攪拌や混練などの物理的な刺激を与えることができる。処理装置１０は上述の雰囲気制御、温度制御および物理制御を、同時に、且つ、精度よく行うことができる。すなわち、処理装置１０は、ケミカルリサイクル処理のシステムにおける複数の処理工程や装置群の一部を集約して担うことができる。よって実施の形態１によれば、廃プラスチックを効率よく分解する処理装置等を提供することができる。

　＜実施の形態２＞
　次に、実施の形態２について説明する。実施の形態２は、上述した構成に加えて、所定の流体を中間部に供給する点が、実施の形態１と異なる。図８は、実施の形態２にかかる処理装置２０の側面図である。処理装置２０において、処理炉１００は、中間部において第１流体または第２流体と異なる第３流体を処理炉の中に供給するための流体供給口１３６および流体供給口１４６をさらに有する。また実施の形態２にかかる処理装置２０は、スクリュ１２０の構成が実施の形態１にかかる処理装置と異なる。

　図８に示す処理装置２０は、第１分解領域１３０に流体供給口１３６を有する。流体供給口１３６は、第３流体供給管１３５から第３流体Ｆ３０の供給を受けて処理炉１００に第３流体Ｆ３０を送出する送出孔である。処理装置２０において、第１回収口１３２は第１分解領域１３０の上流側に設けられている。また流体供給口１３６は第１分解領域１３０の下流側に設けられている。

　なお、流体供給口１３６および第１回収口１３２の数およびこれらの配置は上述の構成に制限されるものではない。第１回収口１３２および流体供給口１３６は、それぞれ１ずつあってもよいし、どちらか一方もしくは両方が２以上あってもよい。第１回収口１３２と流体供給口１３６とは、処理炉１００の周方向において所定の位置に配置され得る。例えば、処理炉１００の径方向の断面において真上の位置を０時としたとき、流体供給口１３６および第１回収口１３２は、それぞれ０時の位置に配置されてもよいし、０時から１２時までのいずれかの位置に配置されてもよい。また、第１回収口１３２が第１分解領域１３０の下流側に設けられ、流体供給口１３６が第１分解領域１３０の上流側に設けられてもよい。また例えば第１回収口１３２と流体供給口１３６とは、スクリュ１２０の軸方向に沿って、交互に配置されてもよい。

　第３流体Ｆ３０は流動性を有するものであれば、その形態や成分は特に制限されるものではない。すなわち、第３流体Ｆ３０は固体であってもよいし、液体であってもよいし、気体であってもよいし、超臨界流体であってもよいが、好ましくは気体がよい。第３流体Ｆ３０は例えば窒素などの不活性ガスであってもよいし、一酸化炭素などの還元性ガスでもよいし、水などの抽出機能をもつガスでもよいし、それらが混合された混合ガスでもよい。第３流体Ｆ３０は第１流体Ｆ１１や第２流体Ｆ２１と異なる成分であってもよい。第３流体Ｆ３０は第１流体Ｆ１１や第２流体Ｆ２１と同じ成分を含むものであってもよい。処理装置２０は流体供給口１３６から第３流体Ｆ３０を受け入れることにより、処理炉１００に生じた第１流体Ｆ１１が第１回収口１３２に流れて行くことを促す。あるいは、処理装置２０は流体供給口１３６から第３流体Ｆ３０を受け入れることにより、第１分解領域１３０において発生した複数のガスのうち特定の成分を選択的に回収することを促す。

　また処理装置２０は、第２分解領域１４０に流体供給口１４６を有する。流体供給口１４６は、第３流体供給管１４５から第３流体Ｆ３０の供給を受けて処理炉１００に第３流体Ｆ３０を送出する送出孔である。処理装置２０において、第２回収口１４２は第２分解領域１４０の下流側に設けられている。また流体供給口１４６は第２分解領域１４０の上流側に設けられている。

　流体供給口１４６および第２回収口１４２の数およびこれらの配置は上述の構成に制限されるものではない。第２回収口１４２および流体供給口１４６は、それぞれ１ずつあってもよいし、どちらか一方もしくは両方が２以上あってもよい。第２回収口１４２と流体供給口１４６とは、処理炉１００の周方向において所定の位置に配置され得る。例えば、処理炉１００の径方向の断面において真上の位置を０時としたとき、流体供給口１４６および第２回収口１４２は、それぞれ０時の位置に配置されてもよいし、０時から１２時までのいずれかの位置に配置されてもよい。また、第２回収口１４２が第２分解領域１４０の下流側に設けられ、流体供給口１４６が第２分解領域１４０の上流側に設けられてもよい。また例えば第２回収口１４２と流体供給口１４６とは、スクリュ１２０の軸方向に沿って、交互に配置されてもよい。

　処理装置２０は、流体供給口１４６から第３流体Ｆ３０を受け入れることにより、処理炉１００に生じた第２流体Ｆ２１が第２回収口１４２に流れて行くことを促す。あるいは、処理装置２０は流体供給口１４６から第３流体Ｆ３０を受け入れることにより、第２分解領域１４０において発生した複数のガスのうち特定の成分を選択的に回収することを促す。

　上述のように、処理炉１００は、第１回収口１３２と第２回収口１４２との間に流体供給口１３６および流体供給口１４６を有する。すなわち処理装置２０は、第１分解領域１３０と第２分解領域１４０との境界領域に第３流体Ｆ３０を受け入れる。これにより、処理装置２０は第１分解領域１３０において生じた第１流体Ｆ１１と第２分解領域１４０において生じた第２流体Ｆ２１が混ざり合うことを抑制する。また、流体供給口１３６、流体供給口１４６、第１回収口１３２および第２回収口１４２は、処理対象物Ｗ１０と第３流体Ｆ３０を分離するための例えばフィルタや滞留空間などの分離部をそれぞれ有していてもよい。

　図８に示す処理装置２０において、スクリュ１２０は、第１分解領域１３０と第２分解領域１４０とで異なる構成を有している。すなわちスクリュ１２０は、第１分解領域１３０において軸部１２０Ａ、送りねじ部１２１Ａおよび応力部１２３Ａを有している。またスクリュ１２０は、第２分解領域１４０において軸部１２０Ｂ、送りねじ部１２１Ｂおよび応力部１２３Ｂを有している。さらに、スクリュ１２０は、第１分解領域１３０と第２分解領域１４０との境界部において滞留部１２２を有している。

　第１分解領域１３０における軸部１２０Ａは、太さが一定である。一方、第２分解領域１４０における軸部１２０Ｂは、下流側に向かって直径が大きくなっている。第１分解領域１３０における送りねじ部１２１Ａは、第２分解領域１４０における送りねじ１２１Ｂよりピッチが広く設定されている。このような構成により、処理装置２０は、処理炉１００において減容化する処理対象物Ｗ１０の搬送効率が低下することを抑制している。

　また処理装置２０において、スクリュ１２０は、流体供給口１３６より上流側であって、且つ、送りねじ部１２１Ａとの間に、応力部１２３Ａを有している。すなわちスクリュ１２０は、処理対象物Ｗ１０を滞留、攪拌、混合、混練または粉砕する目的で送り方向に対して０度以上１８０度以下の範囲の角度を成す面または配列を有する凸部を流体供給口１３６より上流側に有する。これにより処理装置２０は、第１分解領域１３０において所望の温度に加熱された後に所定の応力を加えることができる。これにより処理装置２０は、応力部１２３Ａにおいて生じた第１流体Ｆ１１を好適に第１回収口１３２に誘導する。

　また処理装置２０において、スクリュ１２０は、第２回収口１４２より上流側であって、且つ、送りねじ部１２１Ｂとの間に、応力部１２３Ｂを有している。すなわちスクリュ１２０は、処理対象物Ｗ１０を滞留、攪拌、混合、混練または粉砕する目的で送り方向に対して０度以上１８０度以下の範囲の角度を成す面または配列を有する凸部を流体供給口１４６と第２回収口１４２との間に有する。これにより処理装置２０は、第２分解領域１４０において所望の温度に加熱された後に所定の応力を加えることができる。よって、処理装置２０は、応力部１２３Ｂにおいて生じた第２流体Ｆ２１を好適に第２回収口１４２に誘導する。

　さらに、スクリュ１２０は、滞留部１２２を第１分解領域１３０と第２分解領域１４０との間に有することにより、第１分解領域１３０における雰囲気と、第２分解領域１４０における雰囲気と、の分離性を向上させている。なお、温度制御領域１１０は、第１分解領域１３０の温度より第２分解領域１４０の温度が高くなるように、処理炉１００の温度を制御している。このような構成により、処理装置２０は、第１回収口１３２から第１流体Ｆ１１を好適に取り出し、第２回収口１４２から好適に第２流体Ｆ２１を取り出し得る。なお、第１流体Ｆ１１と第２流体Ｆ２１とはそれぞれ第３流体Ｆ３０を含み得る。しかし、第３流体Ｆ３０は、後の工程において容易に分離できるものが選択される。なお、分離の手段は例えば、第１流体Ｆ１１、第２流体Ｆ２１、第３流体Ｆ３０の成分に応じ、第１流体Ｆ１１、第２流体Ｆ２１、あるいは第３流体Ｆ３０のいずれかを選択的に吸着するフィルタであってもよい。あるいは分離の手段は、第１冷却装置１３４もしくは第２冷却装置１４４を介して第１流体Ｆ１１、第２流体Ｆ２１、あるいは第３流体Ｆ３０のいずれかを選択的に液化させる手段であってもよい。ただし、分離の手段は、上述の手段に限られない。

　なお、上述の構成において、流体供給口１３６から供給する流体の成分と、流体供給口１４６から供給する流体の成分とは、異なるものであってもよい。また流体供給口１３６および流体供給口１４６の構成は上述のものに限られない。

　図９を参照して、本実施の形態にかかる処理方法について説明する。図９は、実施の形態２にかかる処理装置２０が実施する処理方法のフローチャートである。図９に示すフローチャートは、ステップＳ１２より前の工程が、実施の形態１にかかるフローチャートと異なる。

　まず、処理装置２０は、第１分解領域１３０の温度より第２分解領域１４０の温度が高くなるように、処理炉１００の温度を制御する（ステップＳ２１）。例えば処理装置２０は、第１分解領域１３０の温度を５００度程度に設定し、第２分解領域１４０の温度を８５０度程度に設定する。

　次に、処理装置２０の処理炉１００は、第１分解領域１３０に設けられた第１回収口１３２と第２分解領域１４０に設けられた第２回収口１４２との間にさらに設けられた流体供給口１３６および流体供給口１４６から第３流体Ｆ３０を受け入れる（ステップＳ２２）。

　以降のステップは、実施の形態１にかかる方法と同様である。このような処理を実行することにより、処理装置２０は、廃プラスチックを効率よく分解する処理工程を提供できる。

　以上、実施の形態２について説明した。なお、実施の形態２にかかる処理装置２０において、スクリュ１２０は上述の機能を実現するための様々な構成を採用できる。また処理装置２０は温度制御領域１１０の温度設定を様々な所望の温度に設定できる。以上、実施の形態２によれば、廃プラスチックを効率よく分解する処理装置等を提供することができる。

　＜実施の形態３＞
　次に、実施の形態３について説明する。図１０は、実施の形態３にかかる処理システムの構成図である。図１０に示す処理システム１は、２つの処理装置２０すなわち第１処理装置２０Ａおよび第２処理装置２０Ｂが直列に連結されたシステムである。図１０には、第１処理装置２０Ａと第２処理装置２０Ｂとが連結した状態が模式的に示されている。

　図１０に示す第１処理装置２０Ａは、第１分解領域１３０Ａと、第２分解領域１４０Ａと、を有している。第１処理装置２０Ａは、供給口１０１Ａから処理対象物を受け入れて、第１分解領域１３０Ａにおいて分解処理Ａを行う。第１処理装置２０Ａは第２分解領域１４０Ａにおいて分解処理Ｂを行う。第１処理装置２０Ａは、分解Ｂを行った後の中間物体を排出口１０２Ａから排出する。

　第２処理装置２０Ｂは、供給口１０１Ｂからこの中間物体を受け入れる。第２処理装置２０Ｂは、第３分解領域１３０Ｂと、第４分解領域１４０Ｂと、を有している。第２処理装置２０Ｂは第３分解領域１３０Ｂにおいて分解処理Ｃを行う。第２処理装置２０Ｂは第４分解領域１４０Ｂにおいて分解処理Ｄを行う。そして第２処理装置２０Ｂは、排出口１０２Ｂから残渣を排出する。

　以上、実施の形態３について説明した。なお、上述の処理装置２０の一方または両方は、もちろん処理装置１０であってもよい。また実施の形態３にかかる処理システムは、３つ以上の処理装置１０が連結するものであってもよい。このような構成により、実施の形態３にかかる処理システム１は、複数の分解処理を連続して実行できる。またこのような構成により、実施の形態３にかかる処理システム１は、システム自体の柔軟な配置および柔軟なシステム構成を可能とする。すなわち、実施の形態３によれば、複数の工程を要する所望のリサイクル処理を効率よく実行できる。

　＜実施の形態４＞
　次に、図１１を参照して実施の形態４について説明する。図１１は、実施の形態４にかかる処理システムの構成図である。図１１は実施の形態４にかかる処理システム２の構成が示されている。処理システム２は、押出機３００、処理装置２０および分離装置３１０を有している。

　押出機３００は、廃プラスチックＷ１を受け入れると、これを加熱しながら押し出し、処理対象物Ｗ１０を生成する。処理装置２０は、押出機３００が生成した処理対象物Ｗ１０を受け入れて、所定の分解処理を行う。処理装置２０は分解処理を行うことにより、第１流体Ｆ１１および第２流体Ｆ２１を回収し、残渣Ｗ１１を排出する。

　分離装置３１０は、処理装置２０から排出された残渣Ｗ１１を受け入れると、フィルタを通してこれを濾過し、金属粉等の第１残渣Ｗ２１と、タールなどの第２残渣Ｗ２２と、に分別する。

　以上、実施の形態４について説明した。以上、実施の形態４によれば、廃プラスチックを効率よく分解する処理システムを提供することができる。

　＜実施の形態５＞
　次に、図１２を参照して実施の形態５について説明する。図１２は、実施の形態５にかかる処理システムの構成図である。実施の形態５は、処理装置が、分離装置およびポンプをさらに有している点が、実施の形態４にかかる処理システムと異なる。図１２は処理システム３が示されている。処理システム３は、押出機３００および処理装置３０を有している。

　処理装置３０は、処理装置２０の後段に、分離装置３１０およびポンプ３２０を有している。これにより処理装置３０は、第２分解領域１４０において分解処理を行った後の処理対象物を分離装置３１０に供給する。分離装置３１０は、処理対象物をフィルタリングすることにより、これを、金属粉等を含む第１残渣Ｗ２１と、油脂類を含む第２残渣Ｗ２２とに分別する。そして分離装置３１０は、第１残渣Ｗ２１を処理装置３０から排出するとともに、第２残渣Ｗ２２をポンプ３２０に供給する。

　ポンプ３２０は、例えばギヤポンプであって、受け入れた第２残渣Ｗ２２を強制的に処理装置３０の外部へ排出する。このとき、ポンプ３２０は、処理炉１００の内部の圧力を制御しつつ強制的に残渣を排出する。これにより処理装置３０は、処理炉１００における処理を好適に実行できる。

　以上、実施の形態６によれば、廃プラスチックを効率よく分解する処理システムを提供することができる。

　なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

　この出願は、２０２１年９月２８日に出願された日本出願特願２０２１－１５７９６８を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

　本発明は、例えば廃プラスチックを分解するケミカルリサイクルを行うための装置として利用可能である。

　１、２、３　処理システム
　１０、１１、１２、２０、３０　処理装置
　１００　処理炉
　１０１　供給口
　１０２　排出口
　１１０　温度制御領域
　１２０　スクリュ
　１２０Ａ　軸部
　１２０Ｂ　軸部
　１２１　送りねじ部
　１２２　滞留部
　１２３　応力部
　１３０　第１分解領域
　１３２　第１回収口
　１３３　第１流体回収管
　１３４　第１冷却装置
　１３５　第３流体供給管
　１３６　流体供給口
　１４０　第２分解領域
　１４１　第２流体入口
　１４２　第２回収口
　１４３　第２流体回収管
　１４４　第２冷却装置
　１４５　第３流体供給管
　１４６　流体供給口
　１５０　駆動装置
　２００　制御装置
　２０１　全体制御部
　２０２　温度制御部
　２０３　スクリュ回転制御部
　２０４　第１回収制御部
　２０５　第２回収制御部
　２０６　ＩＦ制御部
　２０７　記憶部
　２１０　温度制御装置
　２３０　第１流体回収装置
　２４０　第２流体回収装置
　２５０　情報入出力装置
　３００　押出機
　３１０　分離装置
　３２０　ポンプ
　Ｆ１１　第１流体
　Ｆ２１　第２流体
　Ｆ３０　第３流体
　Ｗ１０　処理対象物
　Ｗ１１　残渣

Claims

　上流側において処理対象物を受け入れるための供給口と、下流側において残渣を排出するための排出口と、を有する筒状の処理炉と、
　加熱装置または冷却装置を含み、前記供給口と前記排出口の間の中間部における所定の位置の前記処理炉の温度を制御する温度制御領域と、
　前記処理炉の上流側から下流側に亘り延伸することにより、前記供給口から供給された前記処理対象物を前記排出口に向かって搬送可能に回転するスクリュと、
　前記中間部における所定の領域において前記処理対象物から分離した第１流体を前記処理炉の外へ取り出すための第１回収口を含む第１分解領域と、
　前記第１分解領域より下流側において前記第１流体と異なる流体であって前記処理対象物から分離した第２流体を前記処理炉の外へ取り出すための第２回収口を含む第２分解領域と、を備える
処理装置。
　前記温度制御領域は、前記第１分解領域の温度より前記第２分解領域の温度が高くなるように、前記処理炉の温度を制御する、
請求項１に記載の処理装置。
　前記スクリュの回転数を変速可能に設定された駆動装置をさらに備える、
請求項１または２に記載の処理装置。
　前記スクリュは、前記処理対象物を搬送するための送りねじ部のピッチが送り方向で変化する構造を有する、
請求項１～３のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記スクリュは、所定の第１搬送領域における前記送りねじ部の第１ピッチが、前記第１搬送領域より下流側の第２搬送領域における前記送りねじ部の第２ピッチより広く設定されている、
請求項４に記載の処理装置。
　前記スクリュは、前記中間部における軸部の直径が、送り方向に沿って変化する、
請求項１～５のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記スクリュは、所定の第３搬送領域における軸部の第１直径が、前記第３搬送領域より下流側の第４搬送領域における前記軸部の第２直径より小さく設定されている、
請求項１～５のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記スクリュは、前記処理対象物を滞留、攪拌、混合、混練または粉砕する目的で送り方向に対して０度以上１８０度以下の範囲の角度を成す面または配列を有する凸部を有する、
請求項１～７のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記処理炉の内部において、平行に配置された複数の前記スクリュを備える、
請求項１～８のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記処理炉は、前記中間部において前記第１流体または前記第２流体と、同じ成分または異なる成分を含む第３流体を前記処理炉の中に供給するための流体供給口をさらに有する、
請求項１～９のいずれか一項に記載の処理装置。
　前記処理炉は、前記第１回収口と前記第２回収口との間に前記流体供給口を有する、
請求項１０に記載の処理装置。
　前記スクリュは、前記処理対象物を滞留、攪拌、混合、混練または粉砕する目的で送り方向に対して０度以上１８０度以下の範囲の角度を成す面または配列を有する凸部を前記流体供給口より上流側に有する、
請求項１１に記載の処理装置。
　前記排出口の後段に、前記処理炉の内部の圧力を制御しつつ強制的に前記残渣を排出するためのポンプをさらに備える、
請求項１～１２のいずれか一項に記載の処理装置。
　上流側において処理対象物を受け入れるための供給口と下流側において残渣を排出するための排出口とを有する筒状の処理炉に前記供給口から前記処理対象物を受け入れ、
　前記処理炉の上流側から下流側に亘り延伸するスクリュにより前記処理対象物を前記排出口に向かって搬送し、
　前記処理炉における前記供給口と前記排出口との間の中間部における所定の位置の温度を制御し、
　前記中間部に設けられた第１分解領域において前記処理対象物から分離した第１流体を前記処理炉から回収し、
　前記第１分解領域の下流側に位置する第２分解領域において前記第１流体と異なる流体であって前記処理対象物から分離した第２流体を前記処理炉から回収し、
　前記第２分解領域を通過した前記残渣を前記排出口から排出する、
処理方法。
　前記第１分解領域の温度より前記第２分解領域の温度が高くなるように、前記処理炉の温度を制御する、
請求項１４に記載の処理方法。
　前記処理炉は、前記第１分解領域に設けられた第１回収口と前記第２分解領域に設けられた第２回収口との間にさらに設けられた流体供給口から前記第１流体または前記第２流体と、同じ成分または異なる成分を含む第３流体を受け入れる、
請求項１４または１５に記載の処理方法。