WO2022264656A1 - 除菌装置 - Google Patents

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WO2022264656A1
WO2022264656A1 PCT/JP2022/016774 JP2022016774W WO2022264656A1 WO 2022264656 A1 WO2022264656 A1 WO 2022264656A1 JP 2022016774 W JP2022016774 W JP 2022016774W WO 2022264656 A1 WO2022264656 A1 WO 2022264656A1
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WO
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hypochlorous acid
air
aqueous solution
water
unit
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PCT/JP2022/016774
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French (fr)
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伎朗 松本
将秀 福本
Original Assignee
パナソニックIpマネジメント株式会社
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/015Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using gaseous or vaporous substances, e.g. ozone
    • A61L9/04Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using gaseous or vaporous substances, e.g. ozone using substances evaporated in the air without heating
    • A61L9/12Apparatus, e.g. holders, therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/26Drying gases or vapours
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/24Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using sterilising media

Definitions

  • This disclosure relates to a sterilization device used to sterilize a private room space.
  • the purpose of the present disclosure is to provide a sterilization device that enables automatic water supply without increasing the size of the device and releases hypochlorous acid into the target space.
  • a sterilization device includes a storage unit that stores a hypochlorous acid aqueous solution with a predetermined concentration inside, and an air supply unit that sucks external air and supplies it as bubbles to the hypochlorous acid aqueous solution. , an air release unit that releases bubbles floating in the hypochlorous acid aqueous solution to the outside as air containing hypochlorous acid gas, and a water supply that cools the moisture contained in the air and supplies it to the storage unit as condensed water. and a hypochlorous acid water adjustment unit that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit to a predetermined concentration.
  • the sterilization device According to the sterilization device according to the present disclosure, it is possible to provide a sterilization device that enables automatic water supply without increasing the size of the device and releases hypochlorous acid into the target space.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an installation example of a sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure in a private room space.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure.
  • FIG. 3A is a schematic side view showing the configuration of the water supply section in the sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure.
  • FIG. 3B is a schematic side view showing the configuration of the water supply section in the sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure.
  • FIG. 4 is a diagram showing an operation flow of the sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an installation example of a sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure in a private room space.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device according to Embodiment 1-1 of the present disclosure.
  • FIG. 3A is
  • FIG. 5 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device according to Embodiment 1-2 of the present disclosure.
  • FIG. 6 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device according to Embodiments 1-3 of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a diagram showing an operation flow of the sterilization device according to Embodiments 1-3 of the present disclosure.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing an installation example of a sterilization device according to Embodiment 2-1 of the present disclosure in a private room space.
  • FIG. 9 is a schematic side view showing the configuration of a sterilization device according to Embodiment 2-1 of the present disclosure.
  • FIG. 10A is a schematic side view showing the configuration of the water supply section in the sterilization device according to Embodiment 2-1 of the present disclosure.
  • FIG. 10B is a schematic side view showing the configuration of the water supply section in the sterilization device according to Embodiment 2-1 of the present disclosure.
  • FIG. 11 is a diagram showing an operation flow of the sterilization device according to Embodiment 2-1 of the present disclosure.
  • FIG. 12 is a schematic side view showing the configuration of a sterilization device according to Embodiment 2-2 of the present disclosure.
  • the sterilization device includes a storage unit that stores a hypochlorous acid aqueous solution with a predetermined concentration inside, an air supply unit that sucks external air and supplies it as bubbles to the hypochlorous acid aqueous solution, an air release unit that releases air bubbles floating in the chloric acid aqueous solution to the outside as air containing hypochlorous acid gas, a water supply unit that cools moisture contained in the air and supplies it to the storage unit as condensed water; and a hypochlorous acid water adjustment unit that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit to a predetermined concentration.
  • the sterilization device enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can release hypochlorous acid into the target space.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit includes a tank that stores the chloride aqueous solution, a pump that delivers the chloride aqueous solution from the tank to the storage unit, and the chloride that is delivered from the pump. and an electrode for generating hypochlorous acid by electrolyzing an aqueous solution.
  • the hypochlorous acid aqueous solution can be easily adjusted to a predetermined concentration by mixing the chloride aqueous solution with the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit and electrolyzing the mixture.
  • the water supply unit supplies condensed water to the storage unit when the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit is reduced by a specified amount.
  • the amount of hypochlorous acid aqueous solution in the reservoir can be kept within a predetermined range.
  • hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and the sterilization device can stably release hypochlorous acid.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit preferably adjusts the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit to a predetermined concentration at regular intervals.
  • the concentration of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution which has decreased due to the release of hypochlorous acid, can be kept within a predetermined range.
  • hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and the sterilization device can stably release hypochlorous acid.
  • the sterilization device further includes an opening/closing section configured to open and close the discharge port of the air discharge section.
  • the opening/closing part may be configured to close the discharge port when the supply of air bubbles by the air supply part is stopped.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit includes a tank that stores the hypochlorous acid water undiluted solution, and a pump that delivers the hypochlorous acid water undiluted solution from the tank to the storage unit. configured with According to such a configuration, the hypochlorous acid aqueous solution is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit with the condensed water from the water supply unit, so that the hypochlorous acid aqueous solution has a predetermined concentration or more. can be easily adjusted to
  • the water supply unit supplies the storage unit with the next It is preferable to supply the condensed water together with the supply of the undiluted chlorous acid solution.
  • the amount of hypochlorous acid aqueous solution in the reservoir can be kept within a predetermined range.
  • hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and the sterilization device can stably release hypochlorous acid.
  • Embodiment 1 includes at least Embodiment 1-1, Embodiment 1-2 and Embodiment 1-3 below.
  • FIG. 1 is a schematic side view showing an installation example of a sterilization device 2 according to Embodiment 1-1 of the present disclosure in a private room space 1.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device 2.
  • FIG. 3A and 3B are schematic diagrams showing the configuration of the water supply unit 11 in the sterilization device 2.
  • FIG. 3A is a schematic top view of the water supply unit 11 viewed from above
  • FIG. 3B is a schematic side view of the water supply unit 11 viewed from the side.
  • the sterilization device 2 is installed at a predetermined height on the wall surface of the private room space 1.
  • the sterilization device 2 takes in the air 3 in the private room space 1, adds hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) to the taken-in air 3, and releases it into the private room space 1 as air 4 containing hypochlorous acid. do.
  • the private room space 1 is sterilized by the released air 4 (air 4 containing hypochlorous acid).
  • the sterilization device 2 can be said to be a device that releases hypochlorous acid into the private room space 1 to sterilize it.
  • the sterilization device 2 is not restricted in its installation location in the private room space 1 as long as it can be connected to an external power source.
  • Private room space 1 is a space used by users for meetings or breaks, and is composed of structures such as walls and doors.
  • a table or a chair may be installed in the private room space 1 .
  • an air conditioner or the like for air conditioning (cooling, heating) in the private room space 1 may be installed.
  • the air 3 is the air taken into the sterilization device 2 from the private room space 1.
  • the arrow labeled "3" in FIG. 1 indicates the main flow of air 3. As shown in FIG.
  • the air 4 is the air blown out from the sterilization device 2 into the private room space 1.
  • the arrow labeled "4" in FIG. 1 indicates the main flow of the air 4.
  • the air 4 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) generated inside the sterilization device 2 .
  • the sterilization device 2 includes a storage portion 5, an air supply portion 7, an air release portion 9, an eliminator 10, a water supply portion 11, a chloride supply portion 13, an electrode 14, and a water level sensor 16 (full water sensor 16a, comprising a water shortage sensor 16b).
  • the storage unit 5 is a container that stores the hypochlorous acid aqueous solution 6 inside.
  • the storage part 5 has a square prism shape, and when the discharge port 9a of the air discharge part 9 is viewed from the front, the external dimensions are, for example, 246 mm in width, 66 mm in depth, and 115 mm in height.
  • the reservoir 5 can also be said to be a housing that constitutes the outer frame of the sterilization device 2 .
  • the reservoir 5 is formed with an internal space 5a above the liquid surface of the hypochlorous acid aqueous solution 6 when the hypochlorous acid aqueous solution 6 is full.
  • An air supply unit 7 and an electrode 14 are installed at the bottom of the storage unit 5 in a state of being submerged in the hypochlorous acid aqueous solution 6 .
  • a water level sensor 16 for detecting the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored inside is installed at a predetermined position in the storage part 5 . Further, the reservoir 5 is provided with an opening (not shown) for communicating with the air release portion 9 on its upper surface (upper end).
  • the hypochlorous acid aqueous solution 6 is an aqueous solution containing hypochlorous acid generated by electrolyzing a chloride aqueous solution 15, which will be described later.
  • the hypochlorous acid aqueous solution 6 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) inside the bubbles 8 while the bubbles 8 supplied from the air supply unit 7 described later circulate in the liquid due to buoyancy. have a role. Therefore, the amount of hypochlorous acid contained in the bubbles 8 can be increased or decreased by increasing or decreasing the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 .
  • the hypochlorous acid is easily vaporized from the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the hypochlorous acid contained in the bubbles 8.
  • the amount of acid can be increased.
  • the bubbles 8 rise due to buoyancy (the distance that the bubbles 8 circulate in the hypochlorous acid aqueous solution 6) and increasing the contact time between the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the bubbles 8, the bubbles 8 The amount of hypochlorous acid contained in the can be increased.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is set to about 100 mg / L
  • the pH of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is set to about 7, and based on the outer diameter size of the reservoir 5 described above,
  • the capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored inside is about 1 L (capacity when the water is full).
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is adjusted to be several times higher than the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution used in conventional sterilization devices such as vaporization or ultrasonic sterilization devices.
  • the air supply unit 7 is a member that sucks the air 3 in the private room space 1 and supplies the sucked air 3 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 as air bubbles 8 . More specifically, the air supply section 7 is configured with an air stone 7a, an air pump 7b, and an air tube 7c.
  • the air stone 7a is a stone (for example, porous ceramics or porous synthetic resin) that releases the air 3 sent from the air pump 7b through the air tube 7c into fine bubbles as bubbles 8 into the hypochlorous acid aqueous solution 6. stone).
  • the air stone 7a is installed in the bottom of the reservoir 5 in a state of being submerged in the hypochlorous acid aqueous solution 6. As shown in FIG.
  • the air pump 7b is arranged outside the reservoir 5.
  • the air pump 7b is a member that sucks the air 3 in the private room space 1 from a suction port (not shown), increases the pressure, and sends it to the air stone 7a.
  • the air tube 7c is a member that communicates between the air stone 7a and the air pump 7b, and circulates the air 3 discharged from the air pump 7b to the air stone 7a.
  • the air tube 7c is installed so as to pass through the side wall of the reservoir 5 .
  • the air supply unit 7 is configured as described above.
  • the air supply unit 7 by controlling the amount of air 3 supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the size (diameter) of the generated bubbles 8, the air is discharged from the air discharge unit 9 into the private room space 1.
  • the amount of hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) contained in the air 4 can be adjusted.
  • the air supply unit 7 if the supply amount of the air 3 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 increases, the amount (number of generation) of the bubbles 8 generated correspondingly increases, and the air discharge unit 9 Hypochlorous acid contained in the discharged air 4 can be increased.
  • the size (diameter) of the bubbles 8 released to the hypochlorous acid aqueous solution 6 is reduced to reduce the rising speed of the bubbles 8 when floating, and the hypochlorous acid aqueous solution 6 is discharged. and the air bubble 8 can be increased.
  • the gap between the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the bubbles 8 flowing in the liquid is reduced compared to when the size (diameter) of the bubbles 8 is large.
  • the contact area can be increased.
  • the amount of hypochlorous acid taken into the bubbles 8 in the process of floating of the bubbles 8 flowing through the hypochlorous acid aqueous solution 6 increases, and the hypochlorous acid contained in the air 4 released from the air release part 9 Chlorate can be increased.
  • the amount of air 3 supplied from the air supply unit 7 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be controlled by the amount of air discharged from the air pump 7b.
  • the size (diameter) of the bubble 8 can be controlled by the size of the pores of the air stone 7a (and the amount of air discharged from the air pump 7b). Based on these, in the present embodiment, the amount of air 3 supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by the air supply unit 7 is set to about 0.1 m 3 /h, and the size of the bubbles 8 generated in the air stone 7a ( diameter) is about 1 mm to 2 mm.
  • the air bubbles 8 are fine bubbles of the air 3 sucked from the private room space 1 by the air supply unit 7 (air stone 7a), and the air is trapped by the hypochlorous acid aqueous solution 6. ing.
  • the air bubbles 8 released from the air supply unit 7 float while taking in the hypochlorous acid (and moisture) contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 into the internal air. After that, the bubbles 8 float up to the liquid surface of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and disappear. Then, the air in the air bubbles 8 is mixed with the air in the internal space 5a together with the hypochlorous acid (and moisture) contained in the air.
  • the air (air containing hypochlorous acid) in the internal space 5 a is discharged from the air discharge part 9 to the private room space 1 as the air 4 . From this, it can be said that the air bubbles 8 are released as air 4 containing hypochlorous acid.
  • the air release part 9 is a member that releases air containing hypochlorous acid from the storage part 5 (air in the internal space 5a) from the release port 9a into the private room space 1 as air 4.
  • the air release portion 9 is installed on the upper surface of the storage portion 5 . More specifically, the air discharge section 9 has a discharge port 9a, an air passage 9b, and an eliminator 10. As shown in FIG.
  • the discharge port 9a is a slit-shaped opening that discharges the air (air containing hypochlorous acid) in the internal space 5a of the reservoir 5 into the private room space 1 as the air 4.
  • the discharge port 9a is provided, for example, so as to blow out the air 4 in the direction opposite to the wall surface on which the sterilization device 2 is installed (see FIG. 1).
  • the air passage 9b is configured to communicate and connect the discharge port 9a and an opening provided on the upper surface of the reservoir 5.
  • the eliminator 10 is a member that removes water droplets and the like generated when the air bubbles 8 burst on the liquid surface in the reservoir 5 .
  • the eliminator 10 is a porous body through which air can flow, and is installed on the air passage 9b (the air passage 9b on the reservoir 5 side) so as to close the opening provided on the upper surface of the reservoir 5 . Since the eliminator 10 collects water droplets contained in the air passing through the eliminator 10, it can also be called a water droplet remover. As a result, the sterilization device 2 can prevent water droplets from being released from the air release portion 9 into the private room space 1 .
  • the water supply unit 11 is a member that cools moisture contained in the air 3 of the outside (private room space 1) and supplies it as condensed water 12 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage unit 5.
  • the water supply unit 11 is installed outside the storage unit 5 and configured to introduce the condensed water 12 into the storage unit 5 through an inlet provided in the side wall of the container that defines the internal space 5a.
  • the water supply unit 11 includes a Peltier element 11a, a heat sink 11b1, a heat sink 11b2, a heat radiation fan 11c, and a guide 11d.
  • the Peltier element 11a is a plate-shaped semiconductor thermoelectric element (electronic component) that uses the Peltier effect.
  • the Peltier device 11a absorbs heat (cools) on one surface and releases heat (heats) on the other surface by applying a direct current in a certain direction. When the direction of the direct current is changed, the heat absorption surface (cooling surface) and the heat radiation surface (heating surface) of the Peltier element 11a are switched.
  • an element having a width of 40 mm and a height of 40 mm is used as the Peltier element 11a.
  • the heat sink 11b1 and the heat sink 11b2 are members that are adhered to respective surfaces of the Peltier element 11a and promote heat absorption and heat dissipation by the Peltier element 11a. Since the heat absorption surface and the heat radiation surface of the Peltier element 11a are periodically changed, the heat sinks 11b1 and 11b2 both absorb and release heat.
  • the heat sinks 11b1 and 11b2 are made of aluminum and have outer diameter dimensions of 40 mm in width, 20 mm in depth, and 40 mm in height. Using.
  • the heat dissipation fan 11c is a member for promoting heat dissipation by the Peltier element 11a by blowing air to the heat sink 11b1 or the heat sink 11b2 on the heat dissipation side to cool it. For this reason, the heat dissipation fan 11c is arranged so as to be able to blow air across both the heat sinks 11b1 and 11b2.
  • the guide 11d is a member that forms a channel that guides the condensed water 12 dripping from the heat sink 11b1 or the heat sink 11b2 to the reservoir 5. As shown in FIG. 3B , the guide 11 d is arranged vertically below the heat sinks 11 b 1 and 11 b 2 and connected to an inlet (not shown) provided on the side wall of the reservoir 5 .
  • a direct current is passed through the Peltier element 11a in a certain direction, so that the heat sink 11b1 absorbs heat and the heat sink 11b2 releases heat.
  • the temperature of the heat sink 11b1 is reduced to about -5.degree. C.
  • the temperature of the heat sink 11b2 is reduced to about 45.degree.
  • the temperature of the air 3 in the vicinity of the heat sink 11b1 which is the heat absorption side, drops below freezing, and the moisture in the air 3 condenses and solidifies.
  • the heat sink 11b2 (and the heat sink 11b1) is blown by the heat radiation fan 11c.
  • the heat sink 11b2 on the heat radiation side is cooled, and heat radiation by the Peltier element 11a is promoted. Then, after a certain amount of time has passed, the heat sink 11b1 on the heat absorption side comes to a state where a certain amount of solidified dew condensation water adheres.
  • the direction of the direct current flowing through the Peltier element 11a is reversed, thereby reversing the heat absorption surface and the heat dissipation surface of the Peltier element 11a.
  • heat is radiated from the heat sink 11b1, and the temperature of the heat sink 11b1 reaches approximately 45.degree.
  • the heat sink 11b2 absorbs heat, and the temperature of the heat sink 11b2 becomes about -5°C.
  • the solidified dew condensation water 12 adhering to the heat sink 11b1 melts and drips directly below it.
  • the moisture in the air 3 condenses and solidifies on the heat sink 11b2.
  • the heat sinks 11b1 and 11b2 repeat condensation, solidification, and melting as described above, and the condensed water 12 can be dripped. .
  • the dropped condensed water 12 is received by the guide 11 d and guided and supplied to the reservoir 5 .
  • the water supply unit 11 can supply the condensed water 12 to the storage unit 5 .
  • the chloride supply unit 13 and the electrode 14 constitute a hypochlorous acid water adjustment unit 20, and adjust the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 to a predetermined concentration. Specifically, in the hypochlorous acid water adjustment unit 20, the chloride supply unit 13 supplies a predetermined amount of the chloride aqueous solution 15 to the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the electrode 14 supplies the supplied chloride aqueous solution 15. By generating hypochlorous acid through electrolysis, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is adjusted.
  • the chloride supply unit 13 is a member that supplies the chloride aqueous solution 15 to the storage unit 5 .
  • the chloride supply unit 13 is installed outside the storage unit 5 and is configured to introduce the chloride aqueous solution 15 into the storage unit 5 through an inlet provided in the side wall of the container forming the internal space 5a. be. More specifically, the chloride supply unit 13 includes a chloride tank 13a, a chloride pump 13b, and a tube 13c.
  • the chloride tank 13a is a container that stores therein a chloride aqueous solution 15 having a predetermined concentration specified in advance.
  • the chloride tank 13a can supply the chloride aqueous solution 15 to the reservoir 5 through the tube 13c by the operation of the chloride pump 13b.
  • the chloride aqueous solution 15 is not particularly limited as long as it is an electrolyte that can generate hypochlorous acid water by electrolysis, and contains even a small amount of chloride ions. Examples thereof include aqueous solutions in which sodium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, etc. are dissolved as solutes. Also, potassium phosphate or the like may be added to adjust the pH of the aqueous solution. In this embodiment, an aqueous solution obtained by adding potassium phosphate to an aqueous sodium chloride solution (salt water) is used as the aqueous chloride solution 15 . Moreover, it is desirable that the chloride aqueous solution 15 has a high concentration of sodium chloride. By using the high-concentration chloride aqueous solution 15, chloride (chloride aqueous solution) can be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 without greatly changing the water amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6.
  • the chloride pump 13b is a member for sending the chloride aqueous solution 15 from the chloride tank 13a to the reservoir 5 in response to an output signal from a control unit (not shown).
  • the tube 13c connects the chloride tank 13a and the reservoir 5 (introduction port provided on the side wall of the container forming the internal space 5a) via the chloride pump 13b. It is a member for circulating the chloride aqueous solution 15 over.
  • the chloride supply unit 13 is configured as described above.
  • the chloride supply unit 13 operates the chloride pump 13b to supply a predetermined amount of the chloride aqueous solution 15 from the chloride tank 13a to the storage unit 5 through the tube 13c.
  • the chloride aqueous solution 15 is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 .
  • the electrode 14 is a member for electrolyzing the chloride aqueous solution 15, which is an aqueous solution containing chloride ions.
  • the electrode 14 is installed, for example, in a state of being submerged in the hypochlorous acid aqueous solution 6 at the bottom of the reservoir 5 .
  • the electrode 14 consists of a pair of an anode and a cathode, and is constructed by having a catalyst coating on the surface of a conductive substrate. Titanium, tantalum, nickel, stainless steel, and the like can be used for the conductive substrate, and titanium is preferred because it has high corrosion resistance to hypochlorous acid.
  • iridium, platinum group metals, and the like are used for the catalyst contained in the catalyst coating. Thereby, the electrolysis reaction at the electrode 14 can be activated.
  • the chloride (chloride aqueous solution 15) is electrolyzed by passing an electric current between the pair of electrodes to generate hypochlorous acid.
  • the mixed aqueous solution of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the chloride aqueous solution 15 stored in the storage unit 5 is adjusted as the hypochlorous acid aqueous solution 6 having a predetermined concentration.
  • the energization time to the electrode 14 is set to a time experimentally determined in advance based on the amount of chloride supplied to the reservoir 5, for example.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit 20 supplies hypochlorous acid to the hypochlorous acid aqueous solution 6 at regular intervals in order to adjust the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 to a predetermined concentration. do. That is, although the details will be described later, in the hypochlorous acid water adjustment unit 20, supply of a predetermined amount of the chloride aqueous solution 15 by the chloride supply unit 13 and electrolysis by the electrode 14 are performed at regular intervals.
  • the chloride pump 13b sends a predetermined amount of the chloride aqueous solution 15 from the chloride tank 13a to the storage unit 5, and the hypochlorous acid aqueous solution 6 is Then, the chloride aqueous solution 15 is supplied and mixed.
  • hypochlorous acid water adjustment unit 20 a current is passed through the electrode 14 to electrolyze the chloride mixed in the hypochlorous acid aqueous solution 6, that is, sodium chloride, and the sodium chloride supplied as the chloride aqueous solution 15 Generates hypochlorous acid corresponding to the amount of As a result, a state equivalent to that hypochlorous acid is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 is obtained. That is, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 (concentration of hypochlorous acid) is adjusted by the hypochlorous acid water adjustment unit 20 .
  • water level sensors 16 full water sensor 16a, low water sensor 16b
  • the water level sensor 16 is a member that detects the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored inside the reservoir 5, and has a full water sensor 16a and a water shortage sensor 16b. Each of the full water sensor 16a and the water shortage sensor 16b is installed at a predetermined height within the reservoir 5 .
  • the full water sensor 16a detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage part 5 is full (full water level).
  • the water shortage sensor 16b detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 is in a water shortage state (water shortage level).
  • the water level is set to 700 mL, which is 30% less than the capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 6 at the full water level (capacity at full water level) of 1 L.
  • the supply of hypochlorous acid to the reservoir 5 by the hypochlorous acid water adjustment unit 20 is controlled.
  • the detected water level information is used as an input signal for a control unit (not shown).
  • the sterilization device 2 is configured as described above.
  • FIG. 4 is a diagram showing the operation flow of the sterilization device 2. As shown in FIG. 4,
  • the sterilization device 2 has a stopped state in which the air supply unit 7, the water supply unit 11, and the hypochlorous acid water adjustment unit 20 (chloride supply unit 13, the electrode 14) are stopped, and an air supply and an operating state in which the unit 7 operates.
  • the arrow R1 in FIG. 4 represents the transition from the stopped state to the operating state.
  • Arrow R4 in FIG. 4 represents a transition from the operating state to the stopped state.
  • the sterilization device 2 can suppress the evaporation of hypochlorous acid from the hypochlorous acid aqueous solution 6 and suppress the release amount of hypochlorous acid.
  • hypochlorous acid not only evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the bubbles 8, but also directly evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the internal space 5a from the liquid surface. of hypochlorous acid vaporization and release occurs.
  • the sterilization device 2 can release hypochlorous acid into the private room space 1 by putting it into the operating state.
  • hypochlorous acid and water vaporize from the hypochlorous acid aqueous solution 6, so the water amount and water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 decreases.
  • the sterilization device 2 basically performs standard operation (step S02).
  • the standard operation is an operation in which only the air supply unit 7 is operated and hypochlorous acid is released. That is, in standard operation, the water supply unit 11, the chloride supply unit 13, and the electrode 14 are not operated. Therefore, in standard operation, bubbles 8 are supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by bubbling of the air supply unit 7, and as described above, the air 4 containing hypochlorous acid is released from the air release unit 9 into the private room space 1. be.
  • step S02 the standard operation is continuously executed, and the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 decreases from the full water level L1 to the water level L2 of the water shortage sensor 16b (Fig. 2). ) is detected (step S03), the sterilization device 2 operates the water supply unit 11 to supply the condensed water 12 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 as a water supply operation (step S04). As a result, the water level L3 of the hypochlorous acid aqueous solution 6 rises.
  • step S05 when the full water sensor 16a detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 has reached the full water level L4 (the same water level as the water level L1) (step S05), the sterilization device 2 turns the water supply unit 11 , and returns to standard operation (step S02).
  • the sterilization device 2 can maintain the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 within a certain range.
  • Arrow R2 in FIG. 4 represents the flow of standard operation, detection of water level L2 by water shortage sensor 16b, supply of condensed water 12 by water supply unit 11, detection of water level L4 by full water sensor 16a, and return to standard operation.
  • the operation of the air supply unit 7 and the accompanying release of the air 4 containing hypochlorous acid are continued.
  • the sterilization device 2 operates the hypochlorous acid water adjustment unit 20 every time a certain period of time elapses, and supplies the chloride aqueous solution 15 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by the chloride supply unit 13, Electrolysis of the supplied chloride by the electrode 14 is carried out. More specifically, the standard operation is continuously performed in step S02, and after a certain period of time (for example, 1 hour) has passed (step S06), the sterilization apparatus 2 operates the chloride supply unit 13 to supply chloride As substance introduction, a predetermined amount of chloride aqueous solution 15 is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 (step S07).
  • the sterilization device 2 applies an electric current to the electrode 14 to electrolyze (also referred to as electrolysis) the sodium chloride mixed in the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the amount of sodium chloride supplied as the chloride aqueous solution 15 Corresponding hypochlorous acid is generated (step S08).
  • the hypochlorous acid aqueous solution 6 is supplied with hypochlorous acid in the aqueous solution and adjusted to a predetermined concentration.
  • the supply amount of hypochlorous acid is an amount estimated experimentally in advance, and is assumed to be equivalent to the amount of hypochlorous acid that decreases from the hypochlorous acid aqueous solution 6 during a certain period of time.
  • the sterilization device 2 stops the operation of the hypochlorous acid water adjustment unit 20 and returns to standard operation (step S02).
  • FIG. 4 represents the flow of standard operation, elapse of a certain period of time, supply of chloride aqueous solution 15 by chloride supply unit 13, electrolysis by electrode 14, and return to standard operation. It should be noted that the operation of the air supply unit 7 and the release of hypochlorous acid are continued in the series of flows represented by the arrow R3.
  • the sterilization device 2 keeps the water amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 within a certain range. Hypochlorous acid can be continuously released into the private room space 1 while maintaining the same.
  • the sterilization device 2 has a storage unit 5 that stores a hypochlorous acid aqueous solution 6 with a predetermined concentration inside, and sucks the air 3 from the outside (private room space 1), and the hypochlorous acid aqueous solution 6 contains bubbles 8.
  • an air supply unit 7 that supplies air as an air supply unit 7, an air release unit 9 that releases bubbles 8 floating in the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the outside (private room space 1) as air 4 containing hypochlorous acid gas, and an external
  • a water supply part 11 that cools moisture contained in the air 3 and supplies it as condensed water 12 to the storage part 5, and hypochlorous acid that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage part 5 to a predetermined concentration.
  • a water adjustment unit 20 chloride supply unit 13, electrode 14
  • the sterilization device 2 is externally supplied with water. No need to connect to equipment. In other words, the sterilization device 2 enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can release hypochlorous acid into the target space.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit 20 is composed of a chloride tank 13a that stores the chloride aqueous solution 15 and a chloride tank 13a that sends the chloride aqueous solution 15 to the storage unit 5 from the chloride tank 13a. It has a pump 13b and an electrode 14 for generating hypochlorous acid by electrolyzing the chloride aqueous solution 15 sent from the chloride pump 13b.
  • the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be easily adjusted to a predetermined concentration.
  • the water supply unit 11 supplies the condensed water 12 to the storage unit 5 when the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 decreases by a specified amount.
  • the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the reservoir 5 can be kept within a predetermined range.
  • hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and the sterilization device 2 can stably release hypochlorous acid.
  • the sterilization device 2 is configured to supply the reservoir 5 with the condensed water 12 generated by repeating heat absorption and heat dissipation by the Peltier element 11a.
  • the condensed water 12 does not contain scale components (calcium and magnesium) that are contained in tap water. Drainage from 5 can be dispensed with.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit 20 adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 to a predetermined concentration at regular intervals.
  • the concentration of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6, which has decreased due to the release of hypochlorous acid can be maintained within a predetermined range.
  • hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and the sterilization device 2 can stably release hypochlorous acid.
  • FIG. 5 is a schematic side view showing the configuration of a sterilization device 2a according to Embodiment 1-2 of the present disclosure.
  • a sterilization device 2a according to Embodiment 1-2 of the present disclosure differs from Embodiment 1-1 in that it includes an opening/closing section 21 configured to open and close the discharge port 9a of the air discharge section 9.
  • FIG. Other than this, the configuration of the sterilization device 2a is the same as that of the sterilization device 2 according to Embodiment 1-1.
  • descriptions of the contents already explained in Embodiment 1-1 will be omitted as appropriate, and differences from Embodiment 1-1 will be mainly explained.
  • the sterilization device 2a includes an opening/closing section 21 configured to open and close the opening of the discharge port 9a of the air discharge section 9. As shown in FIG. 5, the sterilization device 2a includes an opening/closing section 21 configured to open and close the opening of the discharge port 9a of the air discharge section 9. As shown in FIG. 5, the sterilization device 2a includes an opening/closing section 21 configured to open and close the opening of the discharge port 9a of the air discharge section 9. As shown in FIG.
  • the opening/closing part 21 is a lid for closing the discharge port 9a.
  • the opening/closing part 21 is attached to the outlet 9a and can be driven by a motor or the like. More specifically, the opening/closing part 21 is formed of at least one or more flat plates having the same shape as the surface of the outlet 9a.
  • the opening/closing part 21 is rotatable about one side, for example, and is connected to a stepping motor (not shown) so that it can be opened/closed by the amount of rotation of the stepping motor.
  • the opening/closing part 21 has a closed state in which the discharge port 9a is closed and the air 4 does not flow out from the air discharge portion 9 to the private room space 1, and a closed state in which the discharge port 9a is opened and the air 4 is discharged from the air discharge portion 9 to the private room space 1. can be switched between an open state in which the liquid can flow out.
  • the opening/closing unit 21 is connected to a control unit (not shown) wirelessly or by wire.
  • the opening/closing unit 21 is switched to the closed state in the stopped state of the sterilization device 2a (step S01 in FIG. 4) based on the control signal from the control unit. That is, the opening/closing part 21 closes the discharge port 9a when the supply of the air bubbles 8 by the air supply part 7 is stopped. Thereby, hypochlorous acid can be prevented from being released from the sterilization device 2a into the private room space 1. - ⁇ On the other hand, the opening/closing part 21 is switched to the open state in the operating state of the sterilization device 2a (steps S02 to S08 in FIG. 4).
  • the opening/closing part 21 opens the discharge port 9a when the supply of the air bubbles 8 by the air supply part 7 is started.
  • the air 4 containing hypochlorous acid can be discharged from the sterilization device 2 a toward the private room space 1 .
  • the sterilization device 2a includes an opening/closing portion 21 configured to open and close the discharge port 9a of the air discharge portion 9.
  • the opening/closing part 21 closes the discharge port 9a when the supply of the air bubbles 8 by the air supply part 7 is stopped.
  • the hypochlorous acid vaporized from the liquid surface of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is discharged from the discharge port 9a of the air discharge unit 9 to the outside (private room space 1). can be suppressed.
  • unnecessary consumption of hypochlorous acid can be suppressed when the sterilization device 2 is stopped.
  • FIG. 6 is a schematic side view showing the configuration of a sterilization device 2b according to Embodiments 1-3 of the present disclosure.
  • a sterilization device 2b according to Embodiment 1-3 of the present disclosure differs from Embodiment 1-1 in that a hypochlorous acid water supply unit 23 is provided instead of the hypochlorous acid water adjustment unit 20.
  • Other configurations of the sterilization device 2b are the same as those of the sterilization device 2 according to Embodiment 1-1. In the following, descriptions of the contents already explained in Embodiment 1-1 will be omitted as appropriate, and differences from Embodiment 1-1 will be mainly explained.
  • the sterilization device 2b includes a hypochlorous acid water supply unit 23 instead of the hypochlorous acid water adjustment unit 20.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 can also be said to be a hypochlorous acid water adjustment unit.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 is a member that supplies the hypochlorous acid water undiluted solution 15 a to the storage unit 5 .
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 supplies a predetermined amount (for example, 0.5 mL) of the hypochlorous acid water undiluted solution 15a so that the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 has a predetermined concentration. Adjust as above.
  • the hypochlorous acid water undiluted solution 15 a is hypochlorous acid water having a higher concentration than the concentration set as the predetermined concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 .
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 is installed outside the storage unit 5, and supplies the hypochlorous acid water undiluted solution 15a into the storage unit 5 through an inlet provided on the side wall of the container that forms the internal space 5a. configured to install. More specifically, the hypochlorous acid water supply unit 23 includes a hypochlorous acid water tank 23a, a hypochlorous acid water pump 23b, and a tube 23c.
  • the hypochlorous acid water tank 23a is a container that stores a predetermined high-concentration hypochlorous acid water undiluted solution 15a inside.
  • the hypochlorous acid water tank 23a can supply the hypochlorous acid water undiluted solution 15a to the reservoir 5 through the tube 23c by the operation of the hypochlorous acid water pump 23b.
  • the hypochlorous acid water undiluted solution 15a is hypochlorous acid water that has been generated in advance by electrolyzing salt water (aqueous sodium chloride solution). Further, it is desirable that the hypochlorous acid water undiluted solution 15a has a high concentration of hypochlorous acid water. By using the high-concentration hypochlorous acid water undiluted solution 15a, the hypochlorous acid water can be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 without greatly changing the water amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6. - ⁇
  • the hypochlorous acid water pump 23b is a member that delivers the hypochlorous acid water undiluted solution 15a from the hypochlorous acid water tank 23a to the reservoir 5 in response to an output signal from a control unit (not shown).
  • the tube 23c connects the hypochlorous acid water tank 23a and the reservoir 5 (an inlet provided on the side wall of the container forming the internal space 5a) via the hypochlorous acid water pump 23b. It is a member for circulating the hypochlorous acid water undiluted solution 15a from the chloric acid water tank 23a to the reservoir 5.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 is configured as described above.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 operates the hypochlorous acid water pump 23b to supply a predetermined amount of the hypochlorous acid water undiluted solution 15a from the hypochlorous acid water tank 23a to the storage unit 5 through the tube 23c. supply to As a result, the hypochlorous acid water undiluted solution 15 a is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 .
  • FIG. 7 is a diagram showing the operation flow of the sterilization device 2b.
  • the sterilization device 2b has a stopped state in which the air supply unit 7, the water supply unit 11, and the hypochlorous acid water supply unit 23 are stopped, and an operating state in which the air supply unit 7 is operated.
  • the arrow R1 in FIG. 7 represents the transition from the stopped state to the operating state.
  • Arrow R4 in FIG. 7 represents transition from the operating state to the stopped state.
  • the sterilization device 2b can suppress the hypochlorous acid from vaporizing from the hypochlorous acid aqueous solution 6 and suppress the release amount of hypochlorous acid.
  • hypochlorous acid not only evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the bubbles 8, but also directly evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the internal space 5a from the liquid surface. of hypochlorous acid vaporization and release occurs.
  • the sterilization device 2b can release hypochlorous acid into the private room space 1 by putting it into the operating state.
  • hypochlorous acid and water vaporize from the hypochlorous acid aqueous solution 6, so the water amount and water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 decreases.
  • the sterilization device 2b basically performs standard operation (step S12).
  • the standard operation is an operation in which only the air supply unit 7 is operated and hypochlorous acid is released. That is, in standard operation, the water supply unit 11 and the hypochlorous acid water supply unit 23 are not operated. Therefore, in standard operation, bubbles 8 are supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by bubbling of the air supply unit 7, and as described above, the air 4 containing hypochlorous acid is released from the air release unit 9 into the private room space 1. be.
  • step S12 standard operation is continuously performed in step S12, and the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 decreases from the water level L1 when the water is full.
  • the sterilization device 2b detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 has reached the water level L2 during a water shortage (step S13)
  • the sterilization device 2b switches to the hypochlorous acid water supply unit 23.
  • the water supply unit 11 is operated to supply condensed water 12 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 as a water supply operation (step S14).
  • step S15 the sterilization device 2b switches to the water supply unit 11. , and returns to standard operation (step S12).
  • the sterilization device 2b can maintain the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 within a certain range.
  • Arrow R2 in FIG. 7 indicates standard operation, detection of water level L2 by water shortage sensor 16b, supply of hypochlorous acid water undiluted solution 15a by hypochlorous acid water supply unit 23, supply of condensed water 12 by water supply unit 11, and full water supply. It shows the flow of detecting the water level L4 by the sensor 16a and returning to the standard operation. In the series of flows indicated by arrow R2, the operation of the air supply unit 7 and the accompanying release of the air 4 containing hypochlorous acid are continued.
  • the sterilization device 2b By operating the sterilization device 2b as described above, the sterilization device 2b increases the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the concentration of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 to a predetermined concentration or more. Hypochlorous acid can be continuously released into the private room space 1 while maintaining the temperature.
  • the sterilization device 2b has a storage unit 5 that stores a hypochlorous acid aqueous solution 6 with a predetermined concentration inside, and sucks the air 3 from the outside (private room space 1) to create bubbles 8 in the hypochlorous acid aqueous solution 6.
  • an air supply unit 7 that supplies air as an air supply unit 7, an air release unit 9 that releases bubbles 8 floating in the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the outside (private room space 1) as air 4 containing hypochlorous acid gas, and an external A water supply part 11 that cools moisture contained in the air 3 and supplies it as condensed water 12 to the storage part 5, and hypochlorous acid that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage part 5 to a predetermined concentration or more. and an acid water supply unit 23 .
  • the sterilization device 2b As a result, it becomes possible to secure a necessary amount of water supply by the water supply unit 11 (supply of the condensed water 12 to the storage unit 5 by the water supply unit 11), and for automatic water supply, the sterilization device 2b is supplied externally. No need to connect to equipment. In other words, the sterilization device 2b enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can release hypochlorous acid into the target space.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 includes a hypochlorous acid water tank 23a that stores the hypochlorous acid water undiluted solution 15a, and the hypochlorous acid water tank 23a to the storage unit 5. and a hypochlorous acid water pump 23b for delivering the hypochlorous acid water undiluted solution 15a.
  • the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 15 a and the condensed water 12 from the water supply unit 11 . 6 can be easily adjusted to a predetermined density or higher.
  • the water supply unit 11 supplies the hypochlorous acid water supply unit to the storage unit 5 when the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 decreases by a specified amount.
  • the condensed water 12 is supplied in accordance with the supply of the hypochlorous acid water undiluted solution 15a by 23. Thereby, the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the reservoir 5 can be kept within a predetermined range. As a result, hypochlorous acid gas can be generated under predetermined conditions, and hypochlorous acid can be stably released by the sterilization device 2b.
  • the sterilization device 2 according to Embodiment 1-1 uses the Peltier element 11a as the water supply unit 11, it is not limited to this.
  • a heat pump device may be used as the water supply unit 11 . By doing so, although the size of the sterilization device itself is increased, it is possible to obtain the effect of being able to obtain more condensed water 12 with less power consumption.
  • hypochlorous acid is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by electrolyzing chloride, but the present invention is not limited to this.
  • hypochlorous acid may be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by supplying an organic chlorine agent such as sodium dichloroisocyanurate to the hypochlorous acid aqueous solution 6 .
  • an organic chlorine agent such as sodium dichloroisocyanurate
  • the sterilization apparatus 2 is provided with a sensor for measuring the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the hypochlorous acid water adjustment unit 20 is controlled according to the output of the sensor.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 output by the sensor falls below a specified value
  • the hypochlorous acid water adjustment unit 20 is operated so that the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 output by the sensor is specified.
  • the hypochlorous acid water adjustment unit 20 is controlled to stop.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be more reliably controlled within a certain range.
  • the dew condensation water 12 supplied to the reservoir 5 may be in a state corresponding to supply water containing hypochlorous acid.
  • the amount of water supplied to the storage unit 5 (amount of difference between the water level L1 and the water level L2) of the condensed water 12 is added to sodium hypochlorite at a predetermined concentration.
  • a chloride aqueous solution 15 necessary for making a chloric acid aqueous solution is supplied from a chloride supply section 13 .
  • step S05 when the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 reaches the full water level L4, supply water containing hypochlorous acid at a predetermined concentration is supplied. That is, when returning to the standard operation in step S02, the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be made to have a predetermined concentration range. Therefore, with the sterilization device 2 controlled as described above, the air 4 containing hypochlorous acid at a stable concentration can be released to the private room space 1 .
  • the water supply unit 11 cools the moisture contained in the air 3 in the outside (private room space 1), and the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage unit 5
  • the condensed water 12 is supplied to
  • the present invention is not limited to this.
  • the water supply unit 11 may be provided in the internal space 5a of the storage unit 5 to cool the moisture contained in the air in the internal space 5a and supply it as the condensed water 12 . Even in this way, the effects described above can be enjoyed.
  • the air bubbles 8 are circulated in the hypochlorous acid aqueous solution 6 and released as the air 4 containing hypochlorous acid, but the present invention is not limited to this.
  • a chemical solution containing a sterilizing component such as chlorus acid water, ozone water, or hydrogen peroxide solution
  • the bubbles 8 circulate the chemical solution containing the sterilizing component.
  • the bubbles 8 may contain a gas containing a sterilizing component, such as chlorine gas, ozone gas, or hydrogen peroxide gas, and be discharged as the air 4 . Also in this way, the private room space 1 can be sterilized.
  • the sterilization device includes a reservoir 5 that stores a liquid chemical containing a sterilizing component at a predetermined concentration, and air bubbles 8 that suck air 3 from the outside and add air bubbles 8 to the liquid chemical containing the sterilizing component.
  • an air supply unit 7 that supplies air as a liquid
  • an air release unit 9 that releases bubbles 8 floating in a chemical solution containing a sterilizing component to the outside as air 4 containing a gas containing a sterilizing component, and a moisture contained in the air
  • a water supply unit 11 that cools the liquid and supplies it to the storage unit 5 as condensed water 12, and a chemical solution concentration adjustment unit that adjusts the chemical solution containing the sterilizing component stored in the storage unit 5 to a predetermined concentration.
  • the chemical solution concentration adjustment unit adjusts the concentration of the sterilizing component to the chemical solution containing the sterilizing component stored in the storage unit 5 according to the supply amount of the dew condensation water 12 from the water supply unit 11 .
  • the water supply unit 11 supply of the condensed water 12 to the storage unit 5 by the water supply unit 11
  • the sterilization device can be used as an external water supply facility for automatic water supply. no longer need to connect to
  • the sterilization device enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can release gas containing sterilization components into the target space.
  • hypochlorous acid water undiluted solution 15a is hypochlorous acid water previously generated by electrolysis of salt water (aqueous sodium chloride solution).
  • salt water aqueous sodium chloride solution
  • hypochlorous acid water produced by electrolysis of hydrochloric acid or hypochlorous acid water produced by dissolving sodium dichloroisocyanurate in water may be used. Even in this way, the effects described above can be enjoyed.
  • the hypochlorous acid water supply unit 23 is operated.
  • the hypochlorous acid water undiluted solution 15a is supplied in a predetermined amount, it is not necessary to supply the hypochlorous acid water undiluted solution 15a every time the water shortage is detected. For example, when a predetermined time has passed since the last supply of the hypochlorous acid water undiluted solution 15a, and when the water shortage sensor 16b detects that the water level L2 at the time of water shortage has been detected, a predetermined amount of the hypochlorous acid water undiluted solution 15a is supplied. may be supplied. By doing so, it is possible to control the amount of hypochlorous acid supplied to the reservoir 5 for a predetermined period of time, and to control the amount of hypochlorous acid released into the target space per predetermined period of time.
  • Embodiment 2 Conventionally, as a device to sterilize living spaces and reduce the risk of infectious diseases, there is a vaporization type that vaporizes and releases hypochlorous acid from a hypochlorous acid aqueous solution, or a hypochlorous acid aqueous solution is sprayed. There is known an ultrasonic-type device that performs the function (see, for example, Patent Document 1).
  • the purpose of the present disclosure is to provide a sterilization device that enables automatic water supply without increasing the size of the device and efficiently distributes hypochlorous acid to the target space.
  • the sterilization device includes a storage unit that stores a hypochlorous acid aqueous solution with a predetermined concentration inside, an air supply unit that sucks external air and supplies it as bubbles to the hypochlorous acid aqueous solution, An air release unit that releases air bubbles floating in the chloric acid aqueous solution as air containing hypochlorous acid gas, a water supply unit that cools moisture contained in the outside air and supplies it to the storage unit as condensed water, a hypochlorous acid generation unit that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit to a predetermined concentration; a mixing unit that mixes air containing hypochlorous acid gas released from the air release unit and external air; and a blowout section for blowing out the mixed air mixed in the mixing section.
  • the sterilization device According to the sterilization device according to the present disclosure, it is possible to provide a sterilization device that enables automatic water supply without increasing the size of the device and efficiently distributes hypochlorous acid to the target space.
  • the sterilization device includes a storage unit that stores a hypochlorous acid aqueous solution with a predetermined concentration inside, and an air supply unit that sucks external air and supplies it as bubbles to the hypochlorous acid aqueous solution. , an air release unit that releases bubbles floating in the hypochlorous acid aqueous solution as air containing hypochlorous acid gas, and water that cools the moisture contained in the outside air and supplies it to the storage unit as condensed water.
  • a supply unit, a hypochlorous acid generation unit that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit to a predetermined concentration, and a hypochlorous acid gas-containing air released from the air release unit and external air are mixed.
  • a mixing section and a blowing section for blowing out the mixed air mixed in the mixing section are provided.
  • hypochlorous acid can be efficiently diffused into the target space while suppressing the amount of water vaporized from the hypochlorous acid aqueous solution.
  • hypochlorous acid can be efficiently diffused into the target space while suppressing the amount of water supply required to the reservoir.
  • the sterilization device enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can efficiently distribute hypochlorous acid to the target space.
  • the sterilization device further includes a suction section that sucks in outside air.
  • the air supply part sucks a part of the external air sucked from the suction part and supplies it as bubbles to the hypochlorous acid aqueous solution, and the mixing part collects the air containing hypochlorous acid gas released from the air release part and the outside to mix the rest of the air.
  • the sterilization device is provided in an air passage that communicates with the mixing section, and includes a blowing section that circulates external air through the air passage and sends it to the mixing section, and and a filter unit provided to remove foreign matter contained in the air flowing through the air passage.
  • the blower section is installed downstream of the filter section. According to such a configuration, by operating the air blowing section, the air from which foreign matter has been removed by the filter section can be circulated through the air passage. That is, by installing the air blower on the downstream side of the filter unit, it is possible to suppress foreign matter from flowing into the air blower.
  • the air supply section is configured to have an air pump that draws in a portion of the external air that circulates through the air passage, and the air pump is installed downstream of the filter section.
  • the air supply unit can send the air from which the foreign matter has been removed by the filter unit into the hypochlorous acid aqueous solution with the air pump. Therefore, it is possible to suppress the contamination of the hypochlorous acid aqueous solution with foreign substances, suppress the accumulation of the foreign substances in the hypochlorous acid aqueous solution, and eliminate the need for a drainage facility from the reservoir.
  • the water supply unit is installed inside the air passage.
  • the condensed water can be obtained from the air from which dirt has been removed by the filter unit, so dirt contained in the condensed water supplied to the reservoir can be suppressed.
  • the hypochlorite generation unit includes a tank that stores the chloride aqueous solution, a pump that delivers the chloride solution from the tank to the storage unit, and an electric chloride solution that is sent from the pump. and an electrode that generates hypochlorous acid by decomposition.
  • the hypochlorous acid aqueous solution can be easily adjusted to a predetermined concentration by mixing the chloride aqueous solution with the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit and electrolyzing the mixture.
  • Embodiment 2 includes at least Embodiments 2-1 and 2-2 below.
  • FIG. 8 is a schematic side view showing an installation example of the sterilization device 102 according to Embodiment 2-1 of the present disclosure in the private room space 101.
  • FIG. 9 is a schematic side view showing the configuration of the sterilization device 102.
  • FIG. 10A and 10B are schematic diagrams showing the configuration of the water supply unit 111 in the sterilization device 102.
  • FIG. 10A is a schematic top view of the water supply unit 111 viewed from above
  • FIG. 10B is a schematic side view of the water supply unit 111 viewed from the side.
  • the sterilization device 102 is installed at a predetermined height on the wall surface of the private room space 101 .
  • the sterilization device 102 takes in the air 103 in the private room space 101, adds hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) to the taken in air 103 (air 103a), and similarly takes in the air 103 (air 103b) and
  • the mixed air 104 containing hypochlorous acid is discharged into the private room space 101 .
  • the private room space 101 is sterilized by the discharged air 104 (air 104 containing hypochlorous acid).
  • the sterilization device 102 can be said to be a device that releases hypochlorous acid into the private room space 101 to sterilize it.
  • the sterilization device 102 is not restricted in its installation location in the private room space 101 as long as it can be connected to an external power source.
  • the private room space 101 is a space used by users for meetings or breaks, and is composed of structures such as walls and doors.
  • a table or a chair may be installed in the private room space 101 .
  • an air conditioner or the like for air conditioning (cooling, heating) in the private room space 101 may be installed.
  • the air 103 is the air taken into the sterilization device 102 from the private room space 101 .
  • Arrows denoted by reference numerals "103a” and “103b" in FIG. 8 indicate main flows of the air 103 (air 103a, air 103b).
  • the air 103a is air to which hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) is added
  • the air 103b is air 103c to which hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) is added. (See FIG. 9).
  • the air 104 is the air blown out from the sterilization device 102 into the private room space 101 .
  • the arrow labeled “104” in FIG. 8 indicates the main flow of air 104 .
  • the air 104 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) generated inside the sterilization device 102 .
  • the sterilization device 102 includes a storage portion 105, an air supply portion 107, an air release portion 109, an eliminator 110, a water supply portion 111, a chloride supply portion 113, an electrode 114, and a water level sensor 116 (full water sensor 116a). , water shortage sensor 116 b ), and housing 117 .
  • the storage unit 105 is a container that stores the hypochlorous acid aqueous solution 106 inside.
  • the reservoir 105 has a quadrangular prism shape, and the outer dimensions of the air release portion 109 are, for example, 246 mm wide, 66 mm deep, and 115 mm high. Note that the storage unit 105 can also be said to be a housing that constitutes the outer frame of the sterilization device 102 .
  • the reservoir 105 is configured such that an internal space 105a is formed above the liquid surface of the hypochlorous acid aqueous solution 106 when the hypochlorous acid aqueous solution 106 is full.
  • An air supply unit 107 and an electrode 114 are installed at the bottom of the storage unit 105 in a state of being submerged in the hypochlorous acid aqueous solution 106 .
  • a water level sensor 116 for detecting the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored inside is installed at a predetermined position in the storage part 105 .
  • the storage portion 105 is provided with an opening (not shown) for communication and connection with the air discharge portion 109 on its upper surface (upper end portion).
  • the hypochlorous acid aqueous solution 106 is an aqueous solution containing hypochlorous acid generated by electrolyzing a chloride aqueous solution 115, which will be described later.
  • the hypochlorous acid aqueous solution 106 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) inside the bubbles 108 in the process in which the bubbles 108 supplied from the air supply unit 107 described later circulate in the liquid due to buoyancy. have a role. Therefore, the amount of hypochlorous acid contained in the bubbles 108 can be increased or decreased by increasing or decreasing the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 .
  • the hypochlorous acid is easily vaporized from the hypochlorous acid aqueous solution 106, and the hypochlorous acid contained in the bubbles 108.
  • the amount of acid can be increased.
  • the bubbles 108 rise due to buoyancy (the distance that the bubbles 108 flow in the hypochlorous acid aqueous solution 106) and increasing the contact time between the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the bubbles 108, the bubbles 108 The amount of hypochlorous acid contained in the can be increased.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 is set to about 100 mg / L, the pH of the hypochlorous acid aqueous solution 106 is set to about 7, and the outer diameter of the reservoir 105 described above
  • the capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored inside is about 1 L (capacity when full).
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 is adjusted to be several times higher than the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution used in conventional sterilization devices such as vaporization or ultrasonic sterilization devices.
  • the air supply unit 107 is a member that sucks in the air 103 a in the private room space 101 and supplies the sucked air 103 a to the hypochlorous acid aqueous solution 106 as air bubbles 108 . More specifically, the air supply section 107 includes an air stone 107a, an air pump 107b, and an air tube 107c.
  • the air stone 107a is a stone (for example, porous ceramics or porous synthetic resin) that releases air 103a sent from an air pump 107b through an air tube 107c into fine bubbles as bubbles 108 into the hypochlorous acid aqueous solution 106. stone).
  • the air stone 107a is placed in the hypochlorous acid aqueous solution 106 at the bottom of the reservoir 105 in a state of being submerged.
  • the air pump 107b is arranged outside the reservoir 105.
  • the air pump 107b is a member that sucks the air 103a in the private room space 101 from a suction port (not shown), increases the pressure, and sends the air to the air stone 107a.
  • the air tube 107c is a member that communicates between the air stone 107a and the air pump 107b and circulates the air 103a discharged from the air pump 107b to the air stone 107a.
  • the air tube 107c is installed through the side wall of the reservoir 105 .
  • the air supply unit 107 is configured as described above.
  • the air supply unit 107 controls the amount of air 103a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the size (diameter) of the generated air bubbles 108, so that the private space 101 is discharged from the air discharge unit 109.
  • the amount of hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) contained in the air 104 can be adjusted.
  • the air supply unit 107 if the supply amount of the air 103a to the hypochlorous acid aqueous solution 106 increases, the amount (number of generation) of the bubbles 108 generated correspondingly increases, and the air discharge unit 109 Hypochlorous acid contained in the discharged air 104 can be increased. Further, in the air supply unit 107, by reducing the size (diameter) of the bubbles 108 released to the hypochlorous acid aqueous solution 106, the rising speed of the bubbles 108 when floating is reduced, and the hypochlorous acid aqueous solution 106 is discharged. and the air bubble 108 can be increased.
  • the gap between the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the air bubbles 108 flowing in the liquid is reduced compared to when the size (diameter) of the air bubbles 108 is large.
  • the contact area can be increased.
  • the amount of hypochlorous acid taken into the bubbles 108 in the process of floating of the bubbles 108 flowing through the hypochlorous acid aqueous solution 106 increases, and the amount of hypochlorous acid contained in the air 104 released from the air release portion 109 increases. Chlorate can be increased.
  • the amount of air 103a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by the air supply unit 107 can be controlled by the amount of air discharged from the air pump 107b.
  • the size (diameter) of the bubble 108 can be controlled by the size of the pores of the air stone 107a (and the amount of air discharged from the air pump 107b). Based on these, in the present embodiment, the amount of air 103a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by the air supply unit 107 is set to about 0.1 m 3 /h, and the size of the bubbles 108 generated in the air stone 107a ( diameter) is about 1 mm to 2 mm.
  • the air bubbles 108 are fine bubbles of the air 103a sucked from the private room space 101 by the air supply unit 107 (air stone 107a), and the air is trapped by the hypochlorous acid aqueous solution 106. ing.
  • the air bubbles 108 released from the air supply unit 107 float while taking in the hypochlorous acid (and moisture) contained in the hypochlorous acid aqueous solution 106 into the internal air. After that, the bubbles 108 float up to the liquid surface of the hypochlorous acid aqueous solution 106 and disappear.
  • the air in the air bubbles 108 is mixed with the air in the internal space 105a together with the hypochlorous acid (and moisture) contained in the air. After that, the air (air containing hypochlorous acid) in the internal space 105a is supplied from the air release section 109 to the mixing section 121 as the air 103c.
  • the air discharge unit 109 allows the storage unit 105 and the housing 117 to communicate with each other, and releases the air containing hypochlorous acid from the storage unit 105 (the air in the internal space 105a) from the supply port 109a to the mixing unit of the housing 117.
  • 121 is a member that releases air 103c.
  • the air release portion 109 is installed on the upper surface of the storage portion 105 . Furthermore, the air discharge section 109 has an eliminator 110 .
  • the eliminator 110 is a member that removes water droplets and the like generated when the bubbles 108 burst on the liquid surface in the reservoir 105 .
  • the eliminator 110 is a porous body through which air can flow, and is installed inside the air discharge section 109 . Since the eliminator 110 collects water droplets contained in the air passing through the eliminator 110, it can also be called a water droplet remover. Accordingly, in the sterilization device 102 , it is possible to prevent water droplets from being released from the air release portion 109 to the mixing portion 121 .
  • the housing 117 is a member that mixes the air 103c containing hypochlorous acid gas supplied from the air discharge unit 109 and the external air 103b and discharges the mixture as air 104.
  • the housing 117 is installed on the upper surface of the air discharge section 109 .
  • a side wall surface of the housing 117 is provided with an opening that communicates with the supply port 109 a of the air discharge section 109 . As a result, the air 103 c from the air release portion 109 is supplied into the housing 117 .
  • the housing 117 is configured to have a suction section 118 , a blow section 119 , a mixing section 121 and a blow section 122 .
  • the suction part 118 is an opening through which the housing 117 communicates with the outside, and is an intake port for taking in the air 103b from the outside (private room space 101) into the sterilization device 102.
  • the blowout part 119 is an opening through which the housing 117 communicates with the outside, and is a blowout port for supplying the air 104 containing hypochlorous acid gas from the sterilization device 102 to the private room space 101 .
  • the suction portion 118 and the blowout portion 119 are communicated and connected by an internal air passage 124 of the housing 117 .
  • a supply port 109 a of the air discharge section 109 is connected to the internal air passage 124 .
  • the internal air passage 124 corresponds to the "air passage" in the claims.
  • the mixing unit 121 is a space for mixing the air 103c containing hypochlorous acid gas supplied from the air discharge unit 109 and the air 103b taken in from the suction unit 118, and the air 103c in the housing 117 and the air A space where 103b joins becomes a mixing section 121.
  • FIG. The air containing the hypochlorous acid gas mixed in the mixing unit 121 is blown out from the blowing unit 119 into the private room space 101 as the air 104 through the housing 117 .
  • the air 104 corresponds to "mixed air" in the claims.
  • the blower unit 122 is a blower fan for circulating air in the housing 117 and is arranged in the internal air passage 124 of the housing 117 .
  • the air blowing unit 122 By operating the air blowing unit 122, the air 103b is taken in from the suction unit 118, the air 103b taken in from the suction unit 118 and the air 103c supplied from the air discharge unit 109 are mixed in the mixing unit 121, and the air 103c is supplied from the air discharge unit 109. can be blown out as air 104 from.
  • the water supply unit 111 is a member that cools moisture contained in the air 103 outside (private room space 101 ) and supplies it as condensed water 112 to the hypochlorous acid aqueous solution 106 in the storage unit 105 .
  • the water supply unit 111 is installed outside the storage unit 105 and configured to introduce the condensed water 112 into the storage unit 105 through an inlet provided in the side wall of the container that forms the internal space 105a.
  • the water supply unit 111 includes a Peltier element 111a, a heat sink 111b1, a heat sink 111b2, a heat dissipation fan 111c, and a guide 111d.
  • the Peltier element 111a is a plate-shaped semiconductor thermoelectric element (electronic component) that uses the Peltier effect.
  • the Peltier device 111a absorbs heat (cools) on one surface and releases heat (heats) on the other surface by applying a direct current in a certain direction. When the direction of the direct current is changed, the heat absorption surface (cooling surface) and the heat radiation surface (heating surface) of the Peltier element 111a are switched.
  • an element having a width of 40 mm and a height of 40 mm is used as the Peltier element 111a.
  • the heat sink 111b1 and the heat sink 111b2 are members that are adhered to respective surfaces of the Peltier element 111a and promote heat absorption and heat dissipation by the Peltier element 111a. Since the heat absorption surface and the heat dissipation surface of the Peltier element 111a are periodically changed, the heat sinks 111b1 and 111b2 both absorb and release heat.
  • the heat sinks 111b1 and 111b2 are made of aluminum and have outer diameter dimensions of 40 mm in width, 20 mm in depth, and 40 mm in height. Using.
  • the heat dissipation fan 111c is a member for promoting heat dissipation by the Peltier element 111a by sending air to the heat sink 111b1 or the heat sink 111b2 on the heat dissipation side to cool it. Therefore, the heat radiation fan 111c is arranged so as to be able to blow air across both the heat sinks 111b1 and 111b2.
  • the guide 111d is a member that constitutes a channel that guides the condensed water 112 dripping from the heat sink 111b1 or the heat sink 111b2 to the reservoir 105. As shown in FIG. 10B, the guide 111d is arranged vertically below the heat sinks 111b1 and 111b2, and is connected to an inlet (not shown) provided on the side wall of the reservoir 105. As shown in FIG. 10B, the guide 111d is arranged vertically below the heat sinks 111b1 and 111b2, and is connected to an inlet (not shown) provided on the side wall of the reservoir 105. As shown in FIG.
  • the heat sink 111b1 absorbs heat and the heat sink 111b2 releases heat by passing a direct current through the Peltier element 111a in a certain direction.
  • the temperature of the heat sink 111b1 is reduced to about minus 5 degrees Celsius, and the temperature of the heat sink 111b2 is reduced to about 45 degrees Celsius.
  • the temperature of the air 103 in the vicinity of the heat sink 111b1, which is the heat absorbing side drops below freezing, and the moisture in the air 103 condenses and solidifies.
  • the heat sink 111b2 (and the heat sink 111b1) is blown by the heat radiation fan 111c.
  • the heat sink 111b2 on the heat radiation side is cooled, and heat radiation by the Peltier element 111a is promoted. Then, after a certain amount of time has passed, the heat sink 111b1 on the heat absorption side comes to a state where a certain amount of solidified dew condensation water adheres.
  • the direction of the direct current flowing through the Peltier element 111a is reversed, thereby reversing the heat absorption surface and the heat dissipation surface of the Peltier element 111a.
  • the heat sink 111b1 radiates heat, and the temperature of the heat sink 111b1 reaches approximately 45.degree.
  • the heat sink 111b2 absorbs heat, and the temperature of the heat sink 111b2 becomes about -5°C.
  • the solidified dew condensation water 112 adhering to the heat sink 111b1 melts and drips directly below it.
  • the moisture in the air 103 condenses and solidifies on the heat sink 111b2.
  • the heat absorbing surface and the heat radiating surface of the Peltier element 111a are reversed at regular time intervals, so that the heat sinks 111b1 and 111b2 repeat condensation, solidification, and melting as described above, and the condensed water 112 can be dripped. .
  • the dropped condensed water 112 is received by the guide 111 d and guided and supplied to the reservoir 105 .
  • the water supply unit 111 can supply the condensed water 112 to the storage unit 105 .
  • the chloride supply unit 113 and the electrode 114 constitute the hypochlorous acid generation unit 120, and adjust the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 to a predetermined concentration. Specifically, in the hypochlorous acid generation unit 120, the chloride supply unit 113 supplies a predetermined amount of the chloride aqueous solution 115 to the hypochlorous acid aqueous solution 106, and the electrode 114 electrolyzes the supplied chloride aqueous solution 115. The concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 is adjusted by generating hypochlorous acid with the
  • the chloride supply unit 113 is a member that supplies the chloride aqueous solution 115 to the storage unit 105 .
  • Chloride supply unit 113 is installed outside storage unit 105 and is configured to introduce chloride aqueous solution 115 into storage unit 105 through an inlet provided in the side wall of the container that defines internal space 105a. be. More specifically, the chloride supply unit 113 includes a chloride tank 113a, a chloride pump 113b, and a tube 113c.
  • the chloride tank 113a is a container that stores therein a chloride aqueous solution 115 having a predetermined concentration specified in advance.
  • the chloride tank 113a can supply the chloride aqueous solution 115 to the reservoir 105 through the tube 113c by the operation of the chloride pump 113b.
  • the chloride aqueous solution 115 may be any electrolyte that can generate hypochlorous acid water by electrolysis, and is not particularly limited as long as it contains chloride ions even in a small amount.
  • An aqueous solution in which magnesium or the like is dissolved is exemplified.
  • potassium phosphate or the like may be added to adjust the pH of the aqueous solution.
  • an aqueous solution obtained by adding potassium phosphate to an aqueous sodium chloride solution (salt water) is used as the chloride aqueous solution 115 .
  • it is desirable that the chloride aqueous solution 115 has a high concentration of sodium chloride.
  • chloride chloride aqueous solution
  • the chloride pump 113b is a member for sending the chloride aqueous solution 115 from the chloride tank 113a to the reservoir 105 in response to an output signal from a control unit (not shown).
  • the tube 113c connects the chloride tank 113a and the reservoir 105 (introduction port provided on the side wall of the container forming the internal space 105a) via the chloride pump 113b. It is a member for circulating the chloride aqueous solution 115 through.
  • the chloride supply unit 113 is configured as described above.
  • the chloride supply unit 113 operates the chloride pump 113b to supply a predetermined amount of the chloride aqueous solution 115 from the chloride tank 113a to the storage unit 105 through the tube 113c.
  • the chloride aqueous solution 115 is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage section 105 .
  • the electrode 114 is a member for electrolyzing the chloride aqueous solution 115, which is an aqueous solution containing chloride ions.
  • the electrode 114 is installed, for example, in a state of being submerged in the hypochlorous acid aqueous solution 106 at the bottom of the reservoir 105 .
  • the electrode 114 consists of a pair of an anode and a cathode, and is constructed by having a catalyst coating on the surface of a conductive substrate. Titanium, tantalum, nickel, stainless steel, and the like can be used for the conductive substrate, and titanium is preferred because it has high corrosion resistance to hypochlorous acid.
  • iridium, platinum group metals, and the like are used for the catalyst contained in the catalyst coating. Thereby, the electrolysis reaction at the electrode 114 can be activated.
  • the chloride (chloride aqueous solution 115) is electrolyzed by passing an electric current between the pair of electrodes to generate hypochlorous acid.
  • the mixed aqueous solution of the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the chloride aqueous solution 115 stored in the storage unit 105 is adjusted as the hypochlorous acid aqueous solution 106 having a predetermined concentration.
  • the energization time to the electrode 114 is set to a time experimentally determined in advance based on the amount of chloride supplied to the reservoir 105, for example.
  • the hypochlorous acid generating unit 120 supplies hypochlorous acid to the hypochlorous acid aqueous solution 106 at regular intervals in order to adjust the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 to a predetermined concentration. That is, although the details will be described later, in the sodium hypochlorite generation unit 120, supply of a predetermined amount of the chloride aqueous solution 115 by the chloride supply unit 113 and electrolysis by the electrode 114 are performed at regular intervals.
  • the chloride pump 113b feeds a predetermined amount of the chloride aqueous solution 115 from the chloride tank 113a to the storage unit 105, and the chloride is added to the hypochlorous acid aqueous solution 106.
  • the aqueous solution 115 is supplied and mixed.
  • an electric current is applied to the electrode 114 to electrolyze the chloride mixed in the hypochlorous acid aqueous solution 106, that is, sodium chloride, and the amount of sodium chloride supplied as the chloride aqueous solution 115 Produces corresponding hypochlorous acid.
  • hypochlorous acid generation unit 120 adjusts the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 (the concentration of hypochlorous acid).
  • the hypochlorous acid supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 You can control the amount of Although the pH of the hypochlorous acid aqueous solution 106 increases by electrolyzing sodium chloride, it is neutralized by potassium phosphate contained in the chloride aqueous solution 115, and is adjusted to a predetermined pH. .
  • the water level sensor 116 full water sensor 116a, low water sensor 116b
  • the water level sensor 116 is a member that detects the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored inside the storage section 105, and has a full water sensor 116a and a water shortage sensor 116b. Each of the full water sensor 116a and the water shortage sensor 116b is installed at a predetermined height position within the storage section 105 .
  • the full water sensor 116a detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 is full (full water level).
  • the water shortage sensor 116b detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 is in a water shortage state (water shortage level).
  • the water level is set to 700 mL, which is 30% less than the capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 106 at the full water level (capacity at full water level) of 1 L.
  • the supply of hypochlorous acid to the reservoir 105 by the hypochlorous acid generator 120 is controlled.
  • the detected water level information is used as an input signal for a control unit (not shown).
  • the sterilization device 102 is configured as described above.
  • FIG. 11 is a diagram showing the operation flow of the sterilization device 102. As shown in FIG. 11
  • the sterilization device 102 has a stopped state in which the air supply unit 107, the blower unit 122, the water supply unit 111, and the hypochlorite generation unit 120 (chloride supply unit 113, the electrode 114) are stopped, and the air and an operating state in which the supply unit 107 and the blower unit 122 operate.
  • the arrow R11 in FIG. 11 represents the transition from the stopped state to the operating state.
  • Arrow R14 in FIG. 11 represents transition from the operating state to the stopped state.
  • the sterilization device 102 can suppress the evaporation of hypochlorous acid from the hypochlorous acid aqueous solution 106 and suppress the release amount of hypochlorous acid.
  • hypochlorous acid not only evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 106 to the bubbles 108, but also directly evaporates from the hypochlorous acid aqueous solution 106 to the internal space 105a from the liquid surface. of hypochlorous acid vaporization and release occurs.
  • the sterilization device 102 can release hypochlorous acid into the private room space 101 by setting it to the operating state.
  • the operating state since hypochlorous acid and water are vaporized from the hypochlorous acid aqueous solution 106, the water amount and water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 106 decreases.
  • the sterilization device 102 basically performs standard operation (step S02).
  • the standard operation is an operation in which the air supply unit 107 and the blower unit 122 are operated to release hypochlorous acid. That is, in standard operation, the water supply unit 111, the chloride supply unit 113, and the electrode 114 are not operated. Therefore, in standard operation, bubbles 108 are supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by bubbling of the air supply unit 107, and are supplied from the air release unit 109 to the mixing unit 121 as air 103c containing hypochlorous acid. Then, air 103 c containing hypochlorous acid is mixed with air 103 b taken in from suction part 118 in mixing part 121 by blowing part 122 and discharged as air 104 from blowing part 119 into private room space 101 .
  • step S02 the standard operation is continuously executed, and the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 decreases from the full water level L11 to the water level L12 of the water shortage sensor 116b (FIG. 9). ) is detected (step S03), the sterilization device 102 operates the water supply unit 111 to supply condensed water 112 to the hypochlorous acid aqueous solution 106 as a water supply operation (step S04). As a result, the water level L13 of the hypochlorous acid aqueous solution 106 rises.
  • the sterilization device 102 causes the water supply unit 111 to , and returns to standard operation (step S02).
  • the sterilization device 102 can maintain the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 within a certain range.
  • Arrow R12 in FIG. 11 represents the flow of standard operation, detection of water level L12 by water shortage sensor 116b, supply of condensed water 112 by water supply unit 111, detection of water level L14 by full water sensor 116a, and return to standard operation. In the series of flows indicated by arrow R12, the operation of air supply unit 107 and blower unit 122 and the release of hypochlorous acid-containing air 104 are continued.
  • the sterilization device 102 operates the hypochlorite generation unit 120 every time a certain period of time elapses, and the supply of the chloride aqueous solution 115 to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by the chloride supply unit 113 and the supply of the chloride aqueous solution 115 by the electrode 114 electrolysis of the supplied chloride. More specifically, the standard operation is continuously performed in step S02, and after a certain period of time (for example, 1 hour) has passed (step S06), the sterilization device 102 operates the chloride supply unit 113 to supply chloride A predetermined amount of the chloride aqueous solution 115 is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 as substance introduction (step S07).
  • the sterilization device 102 applies an electric current to the electrode 114 to electrolyze (also referred to as electrolysis) the sodium chloride mixed in the hypochlorous acid aqueous solution 106, and the amount of sodium chloride supplied as the chloride aqueous solution 115 Corresponding hypochlorous acid is generated (step S08).
  • the hypochlorous acid aqueous solution 106 is supplied with hypochlorous acid in the aqueous solution and adjusted to a predetermined concentration.
  • the supply amount of hypochlorous acid is an amount estimated experimentally in advance, and is assumed to be equivalent to the amount of hypochlorous acid that decreases from the hypochlorous acid aqueous solution 106 during a certain period of time.
  • the sterilization device 102 stops the operation of the hypochlorous acid generation unit 120 and returns to standard operation (step S02).
  • the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 106 can be kept within a certain range. Further, since the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 106 is controlled within a certain range, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 can be kept within a certain range.
  • Arrow R13 in FIG. 11 represents the flow of standard operation, elapse of a certain period of time, supply of chloride aqueous solution 115 by chloride supply unit 113, electrolysis by electrode 114, and return to standard operation. In the series of flows indicated by arrow R13, the operation of air supply unit 107 and blower unit 122 and the release of hypochlorous acid are continued.
  • the sterilization device 102 can keep the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 106 and the amount of hypochlorous acid contained in the hypochlorous acid aqueous solution 106 within a certain range. Hypochlorous acid can be continuously discharged into the private room space 101 while being kept inside.
  • the sterilization device 102 has a storage part 105 that stores a hypochlorous acid aqueous solution 106 with a predetermined concentration inside, and sucks air 103 a from the outside (private room space 101), and the hypochlorous acid aqueous solution 106 contains bubbles 108.
  • an air supply unit 107 that supplies as air
  • an air release unit 109 that releases bubbles 108 floating in the hypochlorous acid aqueous solution 106 as air 103c containing hypochlorous acid gas
  • an air in the outside (private room space 101) A water supply unit 111 that cools the contained moisture and supplies it as condensed water 112 to the storage unit 105, and a hypochlorous acid generation unit 120 (chloride substance supply unit 113, electrode 114), air 103c containing hypochlorous acid gas released from air release unit 109, and air 103b outside (private room space 101), and mixing in mixing unit 121 and a blowing part 119 for blowing out the filtered air 104 to the outside (private room space 101).
  • hypochlorous acid aqueous solution 106 when a small amount of air 103 is circulated as bubbles 108 in the hypochlorous acid aqueous solution 106 by the air supply unit 107, a large amount of hypochlorous acid gas is contained in the small amount of bubbles 108 (circulating air) and air is released. It can be supplied from the section 109 to the mixing section 121 . At this time, since the bubbles 108 (circulating air) to the hypochlorous acid aqueous solution 106 can be suppressed to a small amount, the hypochlorous acid aqueous solution 106 is vaporized into the bubbles 108 (circulating air) and released to the outside (private room space 101). The amount of water supplied to the reservoir 105 is suppressed, and the required amount of water supply to the reservoir 105 can be reduced.
  • hypochlorous acid can be efficiently diffused into the target space (private room space 101). In other words, hypochlorous acid can be efficiently diffused into the target space (private room space 101) while suppressing the required water supply amount to the reservoir 105.
  • the sterilization device 102 enables automatic water supply without increasing the size of the device, and can efficiently distribute hypochlorous acid to the target space (private room space 101).
  • the hypochlorite generation unit 120 (chloride supply unit 113, electrode 114) includes a chloride tank 113a that stores the chloride aqueous solution 115, and chloride It is composed of a chloride pump 113b that delivers an aqueous solution 115 and an electrode 114 that generates hypochlorous acid by electrolyzing the chloride aqueous solution 115 delivered from the chloride pump 113b.
  • the hypochlorous acid aqueous solution 106 stored in the storage unit 105 can be mixed with the chloride aqueous solution 115 and electrolyzed to easily adjust the hypochlorous acid aqueous solution 106 to a predetermined concentration. can.
  • FIG. 12 is a schematic side view showing the configuration of a sterilization device 102a according to Embodiment 2-2 of the present disclosure.
  • Sterilization device 102a expands internal air passage 124a of housing 117a, and includes air pump 107b of air supply unit 107, water supply unit 111 and a filter unit 123 are arranged, which is different from the embodiment 2-1.
  • Other configurations of the sterilization device 102a are the same as those of the sterilization device 102 according to Embodiment 2-1.
  • repetitive explanations of the contents already explained in Embodiment 2-1 will be omitted as appropriate, and differences from Embodiment 2-1 will mainly be explained.
  • the air pump 107b of the air supply unit 107 As shown in FIG. 12, in the sterilization device 102a, the air pump 107b of the air supply unit 107, the water supply unit 111, the blower unit 122, and the filter unit 123 are arranged in the internal air passage 124a of the housing 117a.
  • the internal air passage 124a is an air passage that communicates and connects the suction portion 118a and the blowout portion 119 inside the housing 117a. Similarly to the internal air passage 124, the supply port 109a of the air release portion 109 is connected to the internal air passage 124a.
  • the internal air passage 124a corresponds to the "air passage" in the claims.
  • the filter section 123 is a filter for removing dirt or foreign matter from the air 103 taken in from the suction section 118a, and is arranged in the vicinity of the suction section 118a in the internal air passage 124a.
  • the blower section 122 is arranged downstream of the filter section 123 and upstream of the mixing section 121 in the internal air passage 124a. As a result, air 103 from which foreign matter has been removed after passing through filter portion 123 flows through air blowing portion 122 , so that foreign matter can be prevented from entering air blowing portion 122 . In addition, since the air blower 122 is less likely to be affected by the hypochlorous acid gas, it is possible to suppress corrosion or deterioration of the air blower 122 due to the hypochlorous acid gas.
  • the air pump 107b is arranged downstream of the filter section 123 and upstream of the mixing section 121 in the internal air passage 124a. As a result, the air pump 107 b can take in the air 103 a with little dirt after passing through the filter section 123 and feed it into the hypochlorous acid aqueous solution 106 . Further, since the air pump 107b is less susceptible to the hypochlorous acid gas, it is possible to suppress corrosion or deterioration of the air pump 107b due to the hypochlorous acid gas.
  • the water supply unit 111 is arranged downstream of the filter unit 123 and upstream of the mixing unit 121 in the internal air passage 124a. As a result, the water supply unit 111 can acquire the condensed water 112 from the air with less foreign matter or dirt after passing through the filter unit 123, so that the condensed water 112 with less foreign matter or dirt can be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106. can be done. In addition, since the water supply unit 111 is less likely to be affected by the hypochlorous acid gas, it is possible to suppress corrosion or deterioration of the water supply unit 111 due to the hypochlorous acid gas.
  • the filter section 123, the blower section 122, the air pump 107b, the water supply section 111, and the mixing section 121 are arranged in this order from the upstream side in the internal air passage 124a of the housing 117a.
  • the air supply unit 107 and the blower unit 122 are operated, the air 103 outside (private room space 101) is sucked into the housing 117a (internal air passage 124a) from the suction unit 118a.
  • the air 103 sucked from the suction portion 118 a flows through the filter portion 123 . As a result, dirt or foreign matter contained in the air 103 is removed. Air 103 is purified.
  • the air 103 that has circulated through the filter section 123 circulates through the blower section 122 .
  • part of the air 103 (air 103 a ) that has flowed through the air blowing section 122 is sucked into the air pump 107 b of the air supply section 107 .
  • the rest of the air 103 (air 103 b ) that has flowed through the blowing section 122 flows directly through the internal air passage 124 a toward the mixing section 121 .
  • the air 103c containing hypochlorous acid sent to the mixing unit 121 is mixed with the air 103b that has flowed through the internal air passage 124a, and becomes the air 104 containing hypochlorous acid from the blowing unit 119 to the private room space 101. released.
  • the sterilization device 102a sucks the air 103 from the outside (private room space 101), circulates the sucked air 103 inside as air 103a and air 103b, and finally air containing hypochlorous acid. As 104, it is discharged to the outside (private room space 101).
  • the sterilization device 102a includes a suction portion 118a that sucks the air 103 from the outside (private room space 101). Then, the air pump 107b of the air supply unit 107 sucks a part (air 103a) of the air 103 sucked from the suction unit 118a and supplies it as air bubbles 108 to the hypochlorous acid aqueous solution. Air release portion 109 releases air 103c containing hypochlorous acid gas generated from bubbles 108 .
  • the mixing section 121 mixes the air 103c containing the hypochlorous acid gas discharged from the air discharging section 109 and the remaining portion of the air 103 (air 103b). As a result, the mixing ratio of the two types of air (air 103c and air 103b) in the mixing unit 121 can be easily adjusted while the amount of air blown from the sterilization device 102a (blowing unit 119) is kept constant. .
  • the sterilization device 102a is provided in an internal air passage 124a (housing 117a) that communicates with the mixing unit 121, and circulates the air 103 from the outside (private room space 101) through the internal air passage 124a to and a filter unit 123 provided in the internal air passage 124a for removing foreign substances contained in the air 103 (air 103a, air 103b) flowing through the internal air passage 124a.
  • the blower section 122 is installed downstream of the filter section 123 and upstream of the mixing section 121 . Accordingly, by operating the air blowing section 122, the air 103 from which the foreign matter has been removed by the filter section 123 can be circulated through the internal air passage 124a. That is, by installing the air blower 122 on the downstream side of the filter 123 , it is possible to prevent foreign matter from flowing into the air blower 122 .
  • the blowing unit 122 is installed on the upstream side of the mixing unit 121, the possibility that the blowing unit 122 is exposed to the hypochlorous acid gas flowing through the internal air passage 124a is reduced. Corrosion or deterioration of the air blower 122 due to the above can be suppressed.
  • the air supply unit 107 is configured with an air pump 107b that sucks a portion of the air 103 (air 103a) flowing through the internal air passage 124a.
  • the air pump 107 b is installed downstream of the filter section 123 and upstream of the mixing section 121 . By doing so, the air supply unit 107 can take in the air 103a from which foreign matter has been removed by the filter unit 123, and send it into the hypochlorous acid aqueous solution 106 by the air pump 107b.
  • the air pump 107b by installing the air pump 107b on the upstream side of the mixing unit 121, the possibility that the air pump 107b is exposed to the hypochlorous acid gas flowing through the internal air passage 124a is reduced, and the hypochlorous acid gas causes Corrosion or deterioration of the air pump 107b can be suppressed.
  • the water supply section 111 is installed downstream of the filter section 123 and upstream of the mixing section 121 of the internal air passage 124a.
  • the condensed water 112 can be obtained from the air from which foreign matter has been removed by the filter unit 123 , so that foreign matter contained in the condensed water 112 supplied to the storage unit 105 can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the accumulation of foreign substances in the hypochlorous acid aqueous solution 106 in the reservoir 105, and the need for a drainage facility from the reservoir 105 can be eliminated.
  • the water supply unit 111 is installed on the upstream side of the mixing unit 121, the possibility that the water supply unit 111 is exposed to the hypochlorous acid gas flowing through the internal air passage 124a is reduced. Corrosion or deterioration of the water supply unit 111 due to acid gas can be suppressed.
  • the Peltier element 111a is used as the water supply unit 111, but it is not limited to this.
  • a heat pump device may be used as the water supply unit 111 .
  • hypochlorous acid is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by electrolyzing chloride, but the present invention is not limited to this.
  • hypochlorous acid may be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 106 by supplying an organic chlorine agent such as sodium dichloroisocyanurate to the hypochlorous acid aqueous solution 106 .
  • an organic chlorine agent such as sodium dichloroisocyanurate
  • the sterilization device 102 and the sterilization device 102a according to Embodiment 2 are provided with a sensor for measuring the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106, and the hypochlorous acid generation unit 120 is controlled according to the output of the sensor.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 output by the sensor falls below the specified value
  • the hypochlorous acid generating unit 120 is operated so that the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 output by the sensor reaches the specified value. Then, control is performed so that the hypoxia generation unit 120 is stopped.
  • the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 106 can be more reliably controlled within a certain range.
  • the dew condensation water 112 supplied to the reservoir 105 may be in a state corresponding to supply water containing hypochlorous acid.
  • the amount of water supplied to the storage unit 105 (the amount of water that is the difference between the water level L11 and the water level L12) is added to sodium hypochlorite at a predetermined concentration.
  • a chloride solution 115 necessary for making a chloric acid solution is supplied from a chloride supply unit 113 .
  • step S05 when the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 106 reaches the full water level L14, supply water containing hypochlorous acid at a predetermined concentration is supplied. That is, when returning to the standard operation in step S02, the hypochlorous acid aqueous solution 106 can be made to have a predetermined concentration range. Therefore, with the sterilization device 102 and the sterilization device 102a controlled as described above, the air 104 containing hypochlorous acid at a stable concentration can be emitted to the private room space 101.
  • water supply unit 111 cools moisture contained in air 103 outside (private room space 101),
  • the condensed water 112 is supplied as the dew condensation water 112
  • the present invention is not limited to this.
  • the water supply unit 111 may be provided in the internal space 105 a of the storage unit 105 to cool the moisture contained in the air in the internal space 105 a and supply it as the condensed water 112 . Even in this way, the effects described above can be enjoyed.
  • the air bubbles 108 are circulated in the hypochlorous acid aqueous solution 106 and released as the air 104 containing hypochlorous acid, but the present invention is not limited to this. .
  • a chemical solution containing a sterilizing component such as chlorus acid water, ozone water, or hydrogen peroxide solution
  • the bubbles 108 circulate the chemical solution containing the sterilizing component.
  • the bubbles 108 may contain a gas containing a sterilizing component, such as chlorine gas, ozone gas, or hydrogen peroxide gas, and be discharged as the air 104 . In this way, the private room space 101 can also be sterilized.

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Abstract

本開示の除菌装置(2)は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液(6)を貯留する貯留部(5)と、個室空間(1)の空気(3)を吸い込み、次亜塩素酸水溶液(6)に気泡(8)として供給する空気供給部(7)と、次亜塩素酸水溶液(6)内を浮上した気泡(8)を、次亜塩素酸ガスを含む空気(4)として個室空間(1)に放出する空気放出部(9)と、空気(3)に含まれる水分を冷却し、貯留部(5)に結露水(12)として供給する水供給部(11)と、貯留部(5)に貯留される次亜塩素酸水溶液(6)を所定の濃度に調整する次亜塩素酸水調整部(20)とを備える。

Description

除菌装置
 本開示は、個室空間などの除菌に用いられる除菌装置に関する。
 従来、居住空間などを除菌し、感染症のリスクを低減させる装置として、次亜塩素酸水溶液から次亜塩素酸を気化させて放出する気化式のもの、あるいは、次亜塩素酸水溶液を噴霧する超音波式のものなどが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2009-133521号公報
 気化式あるいは超音波式などの従来の除菌装置では、次亜塩素酸の放出に連動して居住空間への水の放出量が多いために必要な給水量が多くなる。したがって、自動給水を実現するためには除菌装置を外部の給水設備と接続する必要があり、除菌装置が大型化してしまうという課題があった。
 本開示は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出する除菌装置を提供することを目的とする。
 本開示の一態様に係る除菌装置は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、外部の空気を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、次亜塩素酸水溶液内を浮上した気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として外部に放出する空気放出部と、空気に含まれる水分を冷却し、貯留部に結露水として供給する水供給部と、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に調整する次亜塩素酸水調整部と、を備える。
 本開示に係る除菌装置によれば、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出する除菌装置を提供することができる。
図1は、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置の個室空間への設置例を示す概略図である。 図2は、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置の構成を示す概略側面図である。 図3Aは、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置における水供給部の構成を示す概略側面図である。 図3Bは、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置における水供給部の構成を示す概略側面図である。 図4は、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置の運転フローを示す図である。 図5は、本開示の実施の形態1-2に係る除菌装置の構成を示す概略側面図である。 図6は、本開示の実施の形態1-3に係る除菌装置の構成を示す概略側面図である。 図7は、本開示の実施の形態1-3に係る除菌装置の運転フローを示す図である。 図8は、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置の個室空間への設置例を示す概略図である。 図9は、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置の構成を示す概略側面図である。 図10Aは、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置における水供給部の構成を示す概略側面図である。 図10Bは、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置における水供給部の構成を示す概略側面図である。 図11は、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置の運転フローを示す図である。 図12は、本開示の実施の形態2-2に係る除菌装置の構成を示す概略側面図である。
 本開示に係る除菌装置は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、外部の空気を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、次亜塩素酸水溶液内を浮上した気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として外部に放出する空気放出部と、空気に含まれる水分を冷却し、貯留部に結露水として供給する水供給部と、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に調整する次亜塩素酸水調整部とを備える。
 こうした構成によれば、空気供給部により次亜塩素酸水溶液中に少量の空気を気泡として流通させると、少量の気泡(流通空気)に多量の次亜塩素酸ガスを含ませて空気放出部から外部に放出することができる。このとき、次亜塩素酸水溶液への気泡(流通空気)を少量に抑えられるため、次亜塩素酸水溶液から気泡(流通空気)中に気化して外部に放出される水の量が抑制され、貯留部への必要な給水量を低減することができる。その結果、水供給部(水供給部による貯留部への結露水の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために除菌装置を外部の給水設備と接続する必要がなくなる。つまり、除菌装置は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出することができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、次亜塩素酸水調整部は、塩化物水溶液を貯留するタンクと、タンクから貯留部に塩化物水溶液を送出するポンプと、ポンプから送出された塩化物水溶液を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極とを有して構成される。こうした構成によれば、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液に塩化物水溶液を混合して電気分解することにより次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に容易に調整することができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、水供給部は、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液が規定量減少した場合に、貯留部に結露水を供給することが好ましい。このようにすることで、貯留部の次亜塩素酸水溶液の量を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置による安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 また、本開示に係る除菌装置では、次亜塩素酸水調整部は、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液を一定時間ごとに所定の濃度に調整することが好ましい。このようにすることで、次亜塩素酸の放出により低下した次亜塩素酸水溶液に含まれる次亜塩素酸の濃度を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置による安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 また、本開示に係る除菌装置は、空気放出部の放出口を開閉可能に構成された開閉部をさらに備える。そして、開閉部は、空気供給部による気泡の供給が停止した場合に、放出口を閉塞するように構成してもよい。このようにすることで、空気供給部による気泡の供給が停止した際に、次亜塩素酸水溶液の液面から気化した次亜塩素酸が空気放出部の放出口から外部に放出されることを抑制できる。つまり、除菌装置から不必要な次亜塩素酸が放出されない状態とすることができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、次亜塩素酸水調整部は、次亜塩素酸水原液を貯留するタンクと、タンクから貯留部に次亜塩素酸水原液を送出するポンプと、を有して構成される。こうした構成によれば、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液に対して、次亜塩素酸水原液と水供給部から結露水とを混合することにより次亜塩素酸水溶液を所定の濃度以上となるように容易に調整することができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、水供給部は、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液が規定量減少した場合に、貯留部に対して、次亜塩素酸水調整部による次亜塩素酸水原液の供給に合わせて結露水を供給することが好ましい。このようにすることで、貯留部の次亜塩素酸水溶液の量を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置による安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 以下、本開示の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態は、本開示を具体化した一例であって、本開示の技術的範囲を限定するものではない。また、実施形態において説明する各図は、模式的な図であり、各図中の各構成要素の大きさ及び厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。
 (実施の形態1)
 実施の形態1は、少なくとも以下の実施の形態1-1、実施の形態1-2及び実施の形態1-3を包含する。
 (実施の形態1-1)
 まず、図1及び図2を参照して、本実施の形態1-1に係る除菌装置2の概略について説明する。図1は、本開示の実施の形態1-1に係る除菌装置2の個室空間1への設置例を示す概略側面図である。図2は、除菌装置2の構成を示す概略側面図である。図3A及び図3Bは、除菌装置2における水供給部11の構成を示す概略図である。ここで、図3Aは、水供給部11を上方から見た状態の概略上面図であり、図3Bは、水供給部11を側方から見た状態の概略側面図である。
 図1に示す通り、除菌装置2は、個室空間1の壁面の所定の高さの位置に設置される。除菌装置2は、個室空間1の空気3を取り込み、取り込んだ空気3に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を付加して、次亜塩素酸を含む空気4として個室空間1に放出する。その結果、放出された空気4(次亜塩素酸を含む空気4)により個室空間1が除菌される。つまり、除菌装置2は、個室空間1に次亜塩素酸を放出して除菌する装置と言える。なお、除菌装置2は、外部電源との接続ができるのであれば、個室空間1での設置場所に制約を受けない。
 個室空間1は、利用者が打合せあるいは休憩などで使用する空間であり、壁及び扉などの構造体によって構成される。個室空間1内には、テーブルあるいは椅子が設置されていてもよい。また、個室空間1内の空調(冷房、暖房)を行う空調機などが設置されていてもよい。
 空気3は、個室空間1から除菌装置2に取り込まれる空気である。図1の符号「3」で示される矢印は、空気3の主な流れを示す。
 空気4は、除菌装置2から個室空間1に吹き出される空気である。図1の符号「4」で示される矢印は、空気4の主な流れを示す。詳細は後述するが、空気4には、除菌装置2の内部において発生させる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が含まれている。
 次に、除菌装置2の具体的な構成について説明する。
 図2に示す通り、除菌装置2は、貯留部5、空気供給部7、空気放出部9、エリミネータ10、水供給部11、塩化物供給部13、電極14、及び水位センサ16(満水センサ16a、渇水センサ16b)を有して構成される。
 貯留部5は、内部に次亜塩素酸水溶液6を貯留する容器である。貯留部5は、四角柱状の形状を有しており、空気放出部9の放出口9aを正面視した場合には、その外形寸法は、例えば、幅246mm、奥行き66mm、高さ115mmである。なお、貯留部5は、除菌装置2の外枠を構成する筐体とも言える。
 貯留部5は、次亜塩素酸水溶液6が満水の状態において、次亜塩素酸水溶液6の液面の上方に内部空間5aが形成されるようになっている。そして、内部空間5a部分を構成する容器の側壁には、水供給部11からの結露水12が導入される導入口、及び、塩化物供給部13から塩化物水溶液15が導入される導入口がそれぞれ設置されている。また、貯留部5の底部には、次亜塩素酸水溶液6に沈んだ状態で空気供給部7及び電極14が設置されている。また、貯留部5には、内部に貯留する次亜塩素酸水溶液6の水位を検出するための水位センサ16(満水センサ16a、渇水センサ16b)が所定の位置に設置されている。また、貯留部5には、その上面(上端部)に空気放出部9と連通接続するための開口部(図示せず)が設けられている。
 次亜塩素酸水溶液6は、後述する塩化物水溶液15を電気分解して生成される次亜塩素酸を含んだ水溶液である。次亜塩素酸水溶液6は、後述する空気供給部7から供給される気泡8が浮力により液中を流通する過程で、気泡8の内部に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を含ませる役割を有する。このため、次亜塩素酸水溶液6の濃度を増減させることで、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増減させることができる。また、次亜塩素酸水溶液6の水素イオン濃度(pH)を5~7程度にすることで、次亜塩素酸水溶液6から次亜塩素酸が気化しやすくなり、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。また、気泡8が浮力により上昇する距離(気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を流通する距離)を増加させ、次亜塩素酸水溶液6と気泡8の接触時間を増加させることで、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。これらのことから、本実施の形態では、次亜塩素酸水溶液6の濃度を100mg/L程度とし、次亜塩素酸水溶液6のpHを7程度とし、上述した貯留部5の外径寸法に基づいて内部に貯留する次亜塩素酸水溶液6の容量(満水時の容量)を1L程度としている。なお、次亜塩素酸水溶液6の濃度は、気化式あるいは超音波式などの従来の除菌装置に用いられる次亜塩素酸水溶液の濃度よりも、数倍濃く調整されている。
 空気供給部7は、個室空間1の空気3を吸い込み、吸い込んだ空気3を次亜塩素酸水溶液6に気泡8として供給する部材である。より詳細には、空気供給部7は、エアストーン7a、エアポンプ7b、及びエアチューブ7cを有して構成されている。
 エアストーン7aは、エアチューブ7cを介してエアポンプ7bからに送り込まれる空気3を細かい泡状にして気泡8として次亜塩素酸水溶液6中に放出する石(例えば、多孔質セラミックスあるいは多孔質合成樹脂製などからなる石)である。エアストーン7aは、貯留部5の底部において次亜塩素酸水溶液6に沈んだ状態で設置される。
 エアポンプ7bは、貯留部5の外部に配置される。そして、エアポンプ7bは、図示しない吸込口から個室空間1の空気3を吸い込み、圧力を高くしてエアストーン7aに送り込む部材である。
 エアチューブ7cは、エアストーン7aとエアポンプ7bとの間を連通接続し、エアポンプ7bから吐出された空気3をエアストーン7aまで流通させるための部材である。エアチューブ7cは、貯留部5の側壁を貫通して設置される。
 空気供給部7は、以上のように構成される。
 そして、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6への空気3の供給量、及び、発生させる気泡8の大きさ(径)を制御するによって、空気放出部9から個室空間1に放出される空気4に含ませる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)の量を調整することができる。
 具体的には、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6への空気3の供給量が増加すれば、それに応じて気泡8の発生量(発生数)が多くなり、空気放出部9から放出する空気4に含ませる次亜塩素酸を増加させることができる。また、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6に放出する気泡8の大きさ(径)を小さくすることで、浮上する際の気泡8の上昇速度を低下させて次亜塩素酸水溶液6と気泡8との間の接触時間を増加させることができる。さらに、気泡8の大きさ(径)を小さくすることで、気泡8の大きさ(径)が大きい場合と比較して、次亜塩素酸水溶液6と液中を流通する気泡8との間の接触面積を増加させることができる。これらの結果、次亜塩素酸水溶液6を流通する気泡8が、浮上する過程で気泡8内に取り込む次亜塩素酸の量が増加し、空気放出部9から放出する空気4に含ませる次亜塩素酸を増加させることができる。
 ここで、空気供給部7による次亜塩素酸水溶液6への空気3の供給量は、エアポンプ7bの空気の吐出量によって制御することができる。また、気泡8の大きさ(径)は、エアストーン7aの細孔の大きさ(及びエアポンプ7bの空気の吐出量)によって制御することができる。これらを踏まえ、本実施の形態では、空気供給部7による次亜塩素酸水溶液6への空気3の供給量を0.1m/h程度とし、エアストーン7aにおいて発生させる気泡8の大きさ(径)を1mm~2mm程度としている。
 気泡8は、空気供給部7(エアストーン7a)により個室空間1から吸い込まれた空気3が泡状に微細化された空気であり、次亜塩素酸水溶液6によって空気が閉じ込められた状態となっている。空気供給部7から放出された気泡8は、次亜塩素酸水溶液6に含まれる次亜塩素酸(及び水分)を内部の空気に取り込みながら浮上する。その後、気泡8は、次亜塩素酸水溶液6の液面まで浮上すると弾けてなくなる。そして、気泡8内の空気は、空気内に含まれていた次亜塩素酸(及び水分)とともに、内部空間5a内の空気と混合される。その後、内部空間5a内の空気(次亜塩素酸を含む空気)は、空気放出部9から空気4として個室空間1に放出される。このことから、気泡8が次亜塩素酸を含む空気4として放出されるとも言える。
 空気放出部9は、貯留部5からの次亜塩素酸を含む空気(内部空間5a内の空気)を、放出口9aから個室空間1に空気4として放出する部材である。空気放出部9は、貯留部5の上面に設置される。より詳細には、空気放出部9は、放出口9aと、風路9bと、エリミネータ10とを有している。
 放出口9aは、貯留部5の内部空間5a内の空気(次亜塩素酸を含む空気)を空気4として個室空間1に放出するスリット状の開口である。放出口9aは、例えば、除菌装置2が設置される壁面とは反対側の方向に空気4を吹き出すように設けられる(図1参照)。
 風路9bは、放出口9aと貯留部5の上面に設けられた開口部とを連通接続するように構成される。
 エリミネータ10は、貯留部5内において気泡8が液面で弾けることで生じる水滴などを取り除く部材である。エリミネータ10は、空気が流通可能な多孔体であり、貯留部5の上面に設けられた開口部を塞ぐように、風路9b(貯留部5側の風路9b)上に設置される。なお、エリミネータ10は、エリミネータ10を通過する空気に含まれる水滴を捕集するので、水滴除去器とも言える。これにより、除菌装置2では、空気放出部9から水滴が個室空間1に放出されることを防ぐことができる。
 水供給部11は、外部(個室空間1)の空気3に含まれる水分を冷却し、貯留部5内の次亜塩素酸水溶液6に結露水12として供給する部材である。水供給部11は、貯留部5の外側に設置され、内部空間5aを構成する容器の側壁に設けられた導入口を介して貯留部5内に結露水12を導入するように構成される。
 具体的には、水供給部11は、図3A及び図3Bに示す通り、ペルチェ素子11a、ヒートシンク11b1、ヒートシンク11b2、放熱ファン11c、及びガイド11dを有して構成される。
 ペルチェ素子11aは、ペルチェ効果を用いた板状の半導体熱電素子の一種(電子部品)である。ペルチェ素子11aは、ある方向に直流電流を流すことで、素子の一方の面で吸熱(冷却)し、他方の面で放熱(加熱)する。そして、直流電流の向きを変えると、ペルチェ素子11aの吸熱面(冷却面)と放熱面(加熱面)とが入れ替わる。本実施の形態では、ペルチェ素子11aとして、幅40mm、高さ40mmの寸法を有する素子を用いている。
 ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2は、ペルチェ素子11aのそれぞれの面に接着され、ペルチェ素子11aによる吸熱及び放熱を促進する部材である。ペルチェ素子11aの吸熱面と放熱面とは、定期的に変化させるため、ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2は、吸熱と放熱の双方を行うことになる。本実施の形態では、ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2として、剣山状に配置された複数の放熱フィンを有して構成され、幅40mm、奥行き20mm、高さ40mmの外径寸法を有するアルミニウム製のヒートシンクを用いた。
 放熱ファン11cは、放熱側となるヒートシンク11b1またはヒートシンク11b2に風を送り、冷却することで、ペルチェ素子11aによる放熱を促進するための部材である。このため、放熱ファン11cは、ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2の双方に跨って送風できるように配置される。
 ガイド11dは、ヒートシンク11b1またはヒートシンク11b2から滴下する結露水12を貯留部5に誘導する水路を構成する部材である。ガイド11dは、図3Bに示す通り、ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2の鉛直方向下方に跨って配置され、貯留部5の側壁に設けられた導入口(図示せず)と接続される。
 次に、水供給部11の動作の流れを説明する。
 水供給部11では、ペルチェ素子11aにある方向に直流電流を流すことで、ヒートシンク11b1で吸熱を行い、ヒートシンク11b2で放熱を行う。これにより、ヒートシンク11b1をマイナス5℃程度に、ヒートシンク11b2を45℃程度にする。このようにすることで、吸熱側であるヒートシンク11b1の近傍の空気3の温度が氷点下まで低下し、空気3中の水分が結露及び凝固する。また、放熱ファン11cにより、ヒートシンク11b2(及びヒートシンク11b1)に風を送る。これにより、放熱側であるヒートシンク11b2が冷却され、ペルチェ素子11aによる放熱が促進される。そして、ある程度の時間が経つと、吸熱側であるヒートシンク11b1は、ある程度の量の凝固した結露水が付着した状態になる。
 所定の時間経過後、ペルチェ素子11aに流れる直流電流の方向を反転させることで、ペルチェ素子11aの吸熱面と放熱面を反転させる。これにより、ヒートシンク11b1では、放熱が行われ、ヒートシンク11b1の温度が45℃程度になる。一方、ヒートシンク11b2では、吸熱が行われ、ヒートシンク11b2の温度がマイナス5℃程度になる。その結果、ヒートシンク11b1に付着した凝固した結露水12が融解し、その直下に滴下する。一方、ヒートシンク11b2では、空気3中の水分が結露及び凝固する。その後、一定時間毎にペルチェ素子11aの吸熱面と放熱面を反転させることで、上記のように、ヒートシンク11b1及びヒートシンク11b2で結露・凝固・融解が繰り返され、結露水12を滴下させることができる。そして、滴下した結露水12は、ガイド11dによって受けられ、貯留部5に誘導及び供給される。
 このように動作することで、水供給部11は、結露水12を貯留部5に供給することができる。ここで、空気3の温度を、例えばマイナス5℃などの氷点を下回る低温にすることで、凝固した結露水12を融解させる必要はあるが、低湿な空気からも結露水を取得することができる。
 次に、塩化物供給部13及び電極14について説明する。
 塩化物供給部13及び電極14は、次亜塩素酸水調整部20を構成し、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度に調整する。具体的には、次亜塩素酸水調整部20では、塩化物供給部13が次亜塩素酸水溶液6に所定量の塩化物水溶液15を供給し、電極14が供給された塩化物水溶液15を電気分解して次亜塩素酸を生成することで、次亜塩素酸水溶液6の濃度を調整している。
 塩化物供給部13は、塩化物水溶液15を貯留部5に供給する部材である。塩化物供給部13は、貯留部5の外側に設置され、内部空間5aを構成する容器の側壁に設けられた導入口を介して貯留部5内に塩化物水溶液15を導入するように構成される。より詳細には、塩化物供給部13は、塩化物タンク13a、塩化物ポンプ13b、及びチューブ13cを有して構成されている。
 塩化物タンク13aは、内部に予め指定された所定濃度の塩化物水溶液15を貯留する容器である。塩化物タンク13aは、塩化物ポンプ13bの動作によりチューブ13cを介して貯留部5に塩化物水溶液15を供給可能になっている。
 塩化物水溶液15は、電気分解によって次亜塩素酸水を生成可能な電解質であればよく、少量でも塩化物イオンを含んで入れば特に制限はない。例えば、溶質として塩化ナトリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウムなどを溶解した水溶液が挙げられる。また、水溶液のpHを調整するためにリン酸カリウムなどを加えてもよい。本実施の形態では、塩化物水溶液15として、塩化ナトリウム水溶液(塩水)にリン酸カリウムを加えた水溶液を使用している。また、塩化物水溶液15は、塩化ナトリウムが高濃度であることが望ましい。高濃度の塩化物水溶液15を使用することで、次亜塩素酸水溶液6の水量を大きく変化させることなく、次亜塩素酸水溶液6に塩化物(塩化物水溶液)を供給することができる。
 塩化物ポンプ13bは、制御部(図示せず)からの出力信号に応じて、塩化物タンク13aから貯留部5に塩化物水溶液15を送出させる部材である。
 チューブ13cは、塩化物タンク13aと貯留部5(内部空間5aを構成する容器の側壁に設けられた導入口)とを、塩化物ポンプ13bを介して接続し、塩化物タンク13aから貯留部5にかけて塩化物水溶液15を流通させるための部材である。
 塩化物供給部13は、以上のように構成される。
 そして、塩化物供給部13は、塩化物ポンプ13bを動作させることで、チューブ13cを通じて所定量の塩化物水溶液15を塩化物タンク13aから貯留部5に供給する。これにより、貯留部5に貯留されている次亜塩素酸水溶液6に対して塩化物水溶液15が混合されることになる。
 電極14は、塩化物イオンを含む水溶液である塩化物水溶液15を電気分解するための部材である。電極14は、例えば、貯留部5の底部において次亜塩素酸水溶液6に沈んだ状態で設置される。電極14は、陽極と陰極との一対からなり、導電性基体の表面に触媒被膜を有して構成される。導電性基体には、例えば、チタン、タンタル、ニッケル、ステンレス等が使用できるが、次亜塩素酸に対する耐食性が大きいチタンが好ましい。また、触媒被膜に含まれる触媒には、例えば、イリジウム、白金族金属等が使用される。これにより、電極14での電気分解反応を活性化させることができる。
 電極14では、一対の電極間に電流を流すことで塩化物(塩化物水溶液15)が電気分解し、次亜塩素酸が生成される。この結果、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6と塩化物水溶液15の混合水溶液は、所定の濃度を有する次亜塩素酸水溶液6として調整される。ここで、電極14への通電時間は、例えば、貯留部5に供給された塩化物の量に基づいて予め実験的に求められた時間に設定される。
 次に、次亜塩素酸水調整部20の動作の流れを説明する。
 次亜塩素酸水調整部20では、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度に調整するために、一定時間ごとに次亜塩素酸水溶液6に次亜塩素酸を供給する。つまり、詳細は後述するが、次亜塩素酸水調整部20では、塩化物供給部13による既定量の塩化物水溶液15の供給と、電極14による電気分解を一定時間ごとに実行する。
 次亜塩素酸水調整部20では、まず、一定時間が経過すると、塩化物ポンプ13bにより塩化物タンク13aから貯留部5に既定量の塩化物水溶液15を送り込み、次亜塩素酸水溶液6に対して塩化物水溶液15を供給して混合する。そして、次亜塩素酸水調整部20では、電極14に電流を流し、次亜塩素酸水溶液6に混合された塩化物、つまり塩化ナトリウムを電気分解し、塩化物水溶液15として供給された塩化ナトリウムの量に対応した次亜塩素酸を生成する。これにより、次亜塩素酸水溶液6に対して次亜塩素酸が供給されたのと同等の状態となる。つまり、次亜塩素酸水調整部20によって、次亜塩素酸水溶液6の濃度(次亜塩素酸の濃度)が調整されたことになる。この際、次亜塩素酸水調整部20の動作において、次亜塩素酸水溶液6に供給する塩化物水溶液15の量(供給量)を調整することで、次亜塩素酸水溶液6に供給する次亜塩素酸の量を制御できる。なお、塩化ナトリウムを電気分解することで、次亜塩素酸水溶液6のpHは上昇するが、塩化物水溶液15に含まれるリン酸カリウムによって中和され、所定のpHに調整されるようにしている。
 次に、水位センサ16(満水センサ16a、渇水センサ16b)について説明する。
 水位センサ16は、貯留部5の内部に貯留する次亜塩素酸水溶液6の水位を検出する部材であり、満水センサ16aと渇水センサ16bとを有している。満水センサ16aと渇水センサ16bのそれぞれは、貯留部5内の所定の高さの位置に設置されている。
 満水センサ16aは、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6の水位が満水状態(満水水位)であることを検出する。一方、渇水センサ16bは、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6の水位が渇水状態(渇水水位)であることを検出する。なお、本実施の形態では、渇水水位は、満水水位での次亜塩素酸水溶液6の容量(満水時の容量)1Lから30%減少した700mLとなる水位に設定している。
 そして、水位センサ16が検出した水位情報をもとにして、次亜塩素酸水調整部20による貯留部5への次亜塩素酸の供給が制御される。検出した水位情報は、制御部(図示せず)の入力信号として用いられる。
 除菌装置2は以上のように構成される。
 次に、図4を参照して、除菌装置2の運転動作について説明する。図4は、除菌装置2の運転フローを示す図である。
 除菌装置2は、図4に示す通り、空気供給部7、水供給部11、及び次亜塩素酸水調整部20(塩化物供給部13、電極14)を停止した停止状態と、空気供給部7が動作した運転状態とを備える。ここで、図4における矢印R1は、停止状態から運転状態への遷移を表す。また、図4における矢印R4は、運転状態から停止状態への遷移を表す。
 停止状態(ステップS01)にすることで、除菌装置2は、次亜塩素酸水溶液6からの次亜塩素酸の気化が抑制され、次亜塩素酸の放出量を抑制することができる。ただし、次亜塩素酸は、次亜塩素酸水溶液6から気泡8へ気化するだけでなく、次亜塩素酸水溶液6から内部空間5aへも液面から直接気化するため、停止状態においても、多少の次亜塩素酸の気化及び放出が生じる。
 一方、運転状態にすることで、除菌装置2は、個室空間1に次亜塩素酸を放出することができる。運転状態においては、次亜塩素酸水溶液6から次亜塩素酸及び水が気化するため、次亜塩素酸水溶液6の水量及び水位と、次亜塩素酸水溶液6が含有する次亜塩素酸の量が低下する。
 より詳細には、運転状態において、除菌装置2は、基本的に標準運転(ステップS02)を行う。ここで、標準運転とは、空気供給部7のみを動作させ、次亜塩素酸を放出する運転である。つまり、標準運転では、水供給部11、塩化物供給部13、及び電極14は、動作させない。したがって、標準運転では、空気供給部7のバブリングによって次亜塩素酸水溶液6に気泡8が供給され、上述した通り、空気放出部9から次亜塩素酸を含む空気4として個室空間1に放出される。
 その後、ステップS02において標準運転が連続的に実行され、次亜塩素酸水溶液6の水位が満水時の水位L1から減少していき、渇水時の水位L2となったことを渇水センサ16b(図2参照)が検知する(ステップS03)と、除菌装置2は、水供給部11を動作させ、給水運転として次亜塩素酸水溶液6に結露水12を供給させる(ステップS04)。これにより、次亜塩素酸水溶液6の水位L3が上昇していく。そして、次亜塩素酸水溶液6の水位が満水時の水位L4(水位L1と同じ水位)となったことを満水センサ16aが検知する(ステップS05)と、除菌装置2は、水供給部11の動作を停止させ、標準運転に戻る(ステップS02)。
 このようにすることで、除菌装置2は、貯留部5に貯留する次亜塩素酸水溶液6の水量を一定の範囲内に維持することができる。図4における矢印R2は、標準運転、渇水センサ16bによる水位L2の検知、水供給部11による結露水12の給水、満水センサ16aによる水位L4の検知、標準運転への復帰、の流れを表す。なお、矢印R2で表される一連の流れにおいて、空気供給部7の動作及びそれに伴う次亜塩素酸を含む空気4の放出は継続される。
 一方、除菌装置2は、一定時間が経過する毎に、次亜塩素酸水調整部20を動作させ、塩化物供給部13による次亜塩素酸水溶液6への塩化物水溶液15の供給と、電極14による供給された塩化物の電気分解を行う。より詳細には、ステップS02において標準運転が連続的に実行され、一定時間(例えば、1時間)が経過する(ステップS06)と、除菌装置2は、塩化物供給部13を動作させ、塩化物導入として次亜塩素酸水溶液6に所定量の塩化物水溶液15を供給させる(ステップS07)。そして、除菌装置2は、電極14に電流を流し、次亜塩素酸水溶液6に混合された塩化ナトリウムを電気分解(電解とも言う)し、塩化物水溶液15として供給された塩化ナトリウムの量に対応した次亜塩素酸を生成する(ステップS08)。これにより、次亜塩素酸水溶液6は、水溶液中に次亜塩素酸が供給され、所定の濃度に調整された状態となる。ここで、次亜塩素酸の供給量は、予め実験的に見積もられた量であり、一定時間の間に次亜塩素酸水溶液6から減少する次亜塩素酸の量と同等とする。そして、次亜塩素酸水調整部20による次亜塩素酸の供給が完了次第、除菌装置2は、次亜塩素酸水調整部20の動作を停止し、標準運転に戻る(ステップS02)。
 このようにすることで、次亜塩素酸水溶液6に含有される次亜塩素酸の量を一定の範囲内に保つことができる。また、次亜塩素酸水溶液6の水量は、一定の範囲内で制御されるため、次亜塩素酸水溶液6の濃度を一定の範囲内に保つことができる。図4における矢印R3は、標準運転、一定時間経過、塩化物供給部13による塩化物水溶液15の供給、電極14による電気分解、標準運転への復帰、の流れを表す。なお、矢印R3で表される一連の流れにおいて、空気供給部7の動作及び次亜塩素酸の放出は継続される。
 以上のように除菌装置2を運転することで、除菌装置2は、次亜塩素酸水溶液6の水量と次亜塩素酸水溶液6が含有する次亜塩素酸の量を一定の範囲内に保ちつつ、連続して次亜塩素酸を個室空間1に放出することができる。
 以上、本実施の形態1-1に係る除菌装置2によれば、以下の効果を享受することができる。
 (1)除菌装置2は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液6を貯留する貯留部5と、外部(個室空間1)の空気3を吸い込み、次亜塩素酸水溶液6に気泡8として供給する空気供給部7と、次亜塩素酸水溶液6内を浮上した気泡8を、次亜塩素酸ガスを含む空気4として外部(個室空間1)に放出する空気放出部9と、外部の空気3に含まれる水分を冷却し、貯留部5に結露水12として供給する水供給部11と、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度に調整する次亜塩素酸水調整部20(塩化物供給部13、電極14)とを備える。
 これにより、空気供給部7により次亜塩素酸水溶液6中に少量の空気3を気泡8として流通させると、少量の気泡8(流通空気)に多量の次亜塩素酸ガスを含ませて空気放出部9から外部(個室空間1)に放出することができる。このとき、次亜塩素酸水溶液6への気泡8(流通空気)を少量に抑えられるため、次亜塩素酸水溶液6から気泡8(流通空気)中に気化して外部(個室空間1)に放出される水の量が抑制され、貯留部5への必要な給水量を低減することができる。その結果、水供給部11(水供給部11による貯留部5への結露水12の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために除菌装置2を外部の給水設備と接続する必要がなくなる。つまり、除菌装置2は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出することができる。
 (2)除菌装置2では、次亜塩素酸水調整部20を、塩化物水溶液15を貯留する塩化物タンク13aと、塩化物タンク13aから貯留部5に塩化物水溶液15を送出する塩化物ポンプ13bと、塩化物ポンプ13bから送出された塩化物水溶液15を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極14とを有して構成した。これにより、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6に塩化物水溶液15を混合して電気分解することにより次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度に容易に調整することができる。
 (3)除菌装置2では、水供給部11を、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6が規定量減少した場合に、貯留部5に結露水12を供給するようにした。これにより、貯留部5の次亜塩素酸水溶液6の量を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置2による安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 (4)除菌装置2では、貯留部5に対して、ペルチェ素子11aによる吸熱と放熱を繰り返すことによって生成される結露水12を供給するように構成した。このように構成したことで、結露水12には、水道水に含まれるようなスケール成分(カルシウム分、マグネシウム分)が含まれないため、連続運転に伴うスケール成分の蓄積が生じず、貯留部5からの排水設備を不要とすることができる。
 (5)除菌装置2では、自動給水のための外部の給水設備及び貯留部5からの排水設備を接続する必要がなくなるので、装置を小型化することができる。
 (6)除菌装置2では、次亜塩素酸水調整部20を、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を一定時間ごとに所定の濃度に調整するようにした。これにより、次亜塩素酸の放出により低下した次亜塩素酸水溶液6に含まれる次亜塩素酸の濃度を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置2による安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 (実施の形態1-2)
 図4及び図5を参照して、本開示の実施の形態1-2に係る除菌装置2aについて説明する。図5は、本開示の実施の形態1-2に係る除菌装置2aの構成を示す概略側面図である。
 本開示の実施の形態1-2に係る除菌装置2aは、空気放出部9の放出口9aを開閉可能に構成された開閉部21を備える点で実施の形態1-1と異なる。これ以外の除菌装置2aの構成は、実施の形態1-1に係る除菌装置2と同様である。以下、実施の形態1-1で説明済みの内容は再度の説明を適宜省略し、実施の形態1-1と異なる点を主に説明する。
 図5に示す通り、除菌装置2aは、空気放出部9の放出口9aの開口を開閉可能に構成された開閉部21を備える。
 開閉部21は、放出口9aを閉塞するための蓋である。開閉部21は、放出口9aに取り付けられ、モータ等によって駆動可能となっている。より詳細には、開閉部21は、放出口9aの面に対し、同形状の少なくとも1つ以上の平板で形成される。開閉部21は、例えば片側の1辺を軸にして回転自在とし、ステッピングモータ(不図示)を軸に連結して、ステッピングモータの回転量によって開閉可能となっている。そして、開閉部21は、放出口9aが閉塞され、空気放出部9から個室空間1に空気4が流出しない閉塞状態と、放出口9aが開放され、空気放出部9から個室空間1に空気4が流出可能な開放状態とを切り替え可能となっている。なお、開閉部21は、制御部(図示せず)と無線又は有線で接続されている。
 具体的には、開閉部21は、制御部からの制御信号に基づいて、除菌装置2aの停止状態(図4のステップS01)において閉塞状態に切り替えられる。つまり、開閉部21は、空気供給部7による気泡8の供給を停止した場合に、放出口9aを閉塞する。これにより、除菌装置2aから個室空間1への次亜塩素酸の放出を防ぐことができる。一方、開閉部21は、除菌装置2aの運転状態(図4のステップS02~ステップS08)において開放状態に切り替えられる。つまり、開閉部21は、空気供給部7による気泡8の供給を開始した場合に、放出口9aを開放する。これにより、除菌装置2aから個室空間1に向けて次亜塩素酸を含む空気4の放出を行うことができる。
 以上、本実施の形態1-2に係る除菌装置2aによれば、以下の効果を享受することができる。
 (7)除菌装置2aでは、空気放出部9の放出口9aを開閉可能に構成された開閉部21を備える。そして、開閉部21は、空気供給部7による気泡8の供給が停止した場合に、放出口9aを閉塞するようにした。これにより、空気供給部7による気泡8の供給が停止した際に、次亜塩素酸水溶液6の液面から気化した次亜塩素酸が空気放出部9の放出口9aから外部(個室空間1)に放出されることを抑制できる。つまり、除菌装置2から不必要な次亜塩素酸が放出されない状態とすることができる。この結果、除菌装置2が運転を停止している際に、不必要に次亜塩素酸を消費することを抑制することができる。
 (実施の形態1-3)
 図6を参照して、本開示の実施の形態1-3に係る除菌装置2bについて説明する。図6は、本開示の実施の形態1-3に係る除菌装置2bの構成を示す概略側面図である。
 本開示の実施の形態1-3に係る除菌装置2bは、次亜塩素酸水調整部20に代えて次亜塩素酸水供給部23を備える点で実施の形態1-1と異なる。これ以外の除菌装置2bの構成は、実施の形態1-1に係る除菌装置2と同様である。以下、実施の形態1-1で説明済みの内容は再度の説明を適宜省略し、実施の形態1-1と異なる点を主に説明する。
 図6に示す通り、除菌装置2bは、次亜塩素酸水調整部20に代えて次亜塩素酸水供給部23を備える。なお、次亜塩素酸水供給部23は、次亜塩素酸水調整部とも言える。
 次亜塩素酸水供給部23は、次亜塩素酸水原液15aを貯留部5に供給する部材である。次亜塩素酸水供給部23は、所定量(例えば、0.5mL)の次亜塩素酸水原液15aを供給することで、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度以上となるように調整する。ここで、次亜塩素酸水原液15aは、次亜塩素酸水溶液6の所定の濃度として設定される濃度よりも高濃度の次亜塩素酸水である。
 次亜塩素酸水供給部23は、貯留部5の外側に設置され、内部空間5aを構成する容器の側壁に設けられた導入口を介して貯留部5内に次亜塩素酸水原液15aを導入するように構成される。より詳細には、次亜塩素酸水供給部23は、次亜塩素酸水タンク23a、次亜塩素酸水ポンプ23b、及びチューブ23cを有して構成されている。
 次亜塩素酸水タンク23aは、内部に予め指定された高濃度の次亜塩素酸水原液15aを貯留する容器である。次亜塩素酸水タンク23aは、次亜塩素酸水ポンプ23bの動作によりチューブ23cを介して貯留部5に次亜塩素酸水原液15aを供給可能になっている。
 次亜塩素酸水原液15aは、塩水(塩化ナトリウム水溶液)の電気分解によって予め生成された次亜塩素酸水である。また、次亜塩素酸水原液15aは、次亜塩素酸水が高濃度であることが望ましい。高濃度の次亜塩素酸水原液15aを使用することで、次亜塩素酸水溶液6の水量を大きく変化させることなく、次亜塩素酸水溶液6に次亜塩素酸水を供給することができる。
 次亜塩素酸水ポンプ23bは、制御部(図示せず)からの出力信号に応じて、次亜塩素酸水タンク23aから貯留部5に次亜塩素酸水原液15aを送出させる部材である。
 チューブ23cは、次亜塩素酸水タンク23aと貯留部5(内部空間5aを構成する容器の側壁に設けられた導入口)とを、次亜塩素酸水ポンプ23bを介して接続し、次亜塩素酸水タンク23aから貯留部5にかけて次亜塩素酸水原液15aを流通させるための部材である。
 次亜塩素酸水供給部23は、以上のように構成される。
 そして、次亜塩素酸水供給部23は、次亜塩素酸水ポンプ23bを動作させることで、チューブ23cを通じて所定量の次亜塩素酸水原液15aを次亜塩素酸水タンク23aから貯留部5に供給する。これにより、貯留部5に貯留されている次亜塩素酸水溶液6に対して次亜塩素酸水原液15aが混合されることになる。
 次に、図7を参照して、除菌装置2bの運転動作について説明する。図7は、除菌装置2bの運転フローを示す図である。
 除菌装置2bは、図7に示す通り、空気供給部7、水供給部11、及び次亜塩素酸水供給部23を停止した停止状態と、空気供給部7が動作した運転状態とを備える。ここで、図7における矢印R1は、停止状態から運転状態への遷移を表す。また、図7における矢印R4は、運転状態から停止状態への遷移を表す。
 停止状態(ステップS11)にすることで、除菌装置2bは、次亜塩素酸水溶液6からの次亜塩素酸の気化が抑制され、次亜塩素酸の放出量を抑制することができる。ただし、次亜塩素酸は、次亜塩素酸水溶液6から気泡8へ気化するだけでなく、次亜塩素酸水溶液6から内部空間5aへも液面から直接気化するため、停止状態においても、多少の次亜塩素酸の気化及び放出が生じる。
 一方、運転状態にすることで、除菌装置2bは、個室空間1に次亜塩素酸を放出することができる。運転状態においては、次亜塩素酸水溶液6から次亜塩素酸及び水が気化するため、次亜塩素酸水溶液6の水量及び水位と、次亜塩素酸水溶液6が含有する次亜塩素酸の量が低下する。
 より詳細には、運転状態において、除菌装置2bは、基本的に標準運転(ステップS12)を行う。ここで、標準運転とは、空気供給部7のみを動作させ、次亜塩素酸を放出する運転である。つまり、標準運転では、水供給部11及び次亜塩素酸水供給部23は、動作させない。したがって、標準運転では、空気供給部7のバブリングによって次亜塩素酸水溶液6に気泡8が供給され、上述した通り、空気放出部9から次亜塩素酸を含む空気4として個室空間1に放出される。
 その後、ステップS12において標準運転が連続的に実行され、次亜塩素酸水溶液6の水位が満水時の水位L1から減少していく。次亜塩素酸水溶液6の水位が渇水時の水位L2となったことを渇水センサ16b(図6参照)が検知する(ステップS13)と、除菌装置2bは、次亜塩素酸水供給部23を動作させ、所定量の次亜塩素酸水原液15aを供給するとともに、水供給部11を動作させ、給水運転として次亜塩素酸水溶液6に結露水12を供給させる(ステップS14)。これにより、次亜塩素酸水溶液6の水位L3が上昇していく。そして、次亜塩素酸水溶液6の水位が満水時の水位L4(水位L1と同じ水位)となったことを満水センサ16aが検知する(ステップS15)と、除菌装置2bは、水供給部11の動作を停止させ、標準運転に戻る(ステップS12)。
 このようにすることで、除菌装置2bは、貯留部5に貯留する次亜塩素酸水溶液6の水量を一定の範囲内に維持することができる。図7における矢印R2は、標準運転、渇水センサ16bによる水位L2の検知、次亜塩素酸水供給部23による次亜塩素酸水原液15aの供給及び水供給部11による結露水12の給水、満水センサ16aによる水位L4の検知、標準運転への復帰、の流れを表す。なお、矢印R2で表される一連の流れにおいて、空気供給部7の動作及びそれに伴う次亜塩素酸を含む空気4の放出は継続される。
 以上のようにして、除菌装置2bを運転することで、除菌装置2bは、次亜塩素酸水溶液6の水量と次亜塩素酸水溶液6が含有する次亜塩素酸の濃度を所定濃度以上に保ちつつ、連続して次亜塩素酸を個室空間1に放出することができる。
 以上、本実施の形態1-3に係る除菌装置2bによれば、以下の効果を享受することができる。
 (8)除菌装置2bは、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液6を貯留する貯留部5と、外部(個室空間1)の空気3を吸い込み、次亜塩素酸水溶液6に気泡8として供給する空気供給部7と、次亜塩素酸水溶液6内を浮上した気泡8を、次亜塩素酸ガスを含む空気4として外部(個室空間1)に放出する空気放出部9と、外部の空気3に含まれる水分を冷却し、貯留部5に結露水12として供給する水供給部11と、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度以上に調整する次亜塩素酸水供給部23とを備える。
 これにより、空気供給部7により次亜塩素酸水溶液6中に少量の空気3を気泡8として流通させると、少量の気泡8(流通空気)に多量の次亜塩素酸ガスを含ませて空気放出部9から外部(個室空間1)に放出することができる。このとき、次亜塩素酸水溶液6への気泡8(流通空気)を少量に抑えられるため、次亜塩素酸水溶液6から気泡8(流通空気)中に気化して外部(個室空間1)に放出される水の量が抑制され、貯留部5への必要な給水量を低減することができる。その結果、水供給部11(水供給部11による貯留部5への結露水12の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために除菌装置2bを外部の給水設備と接続する必要がなくなる。つまり、除菌装置2bは、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出することができる。
 (9)除菌装置2bでは、次亜塩素酸水供給部23は、次亜塩素酸水原液15aを貯留する次亜塩素酸水タンク23aと、次亜塩素酸水タンク23aから貯留部5に次亜塩素酸水原液15aを送出する次亜塩素酸水ポンプ23bと、を有して構成した。こうした構成によれば、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6に対して、次亜塩素酸水原液15aと水供給部11から結露水12とを混合することにより次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度以上となるように容易に調整することができる。
 (10)除菌装置2bでは、水供給部11は、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6が規定量減少した場合に、貯留部5に対して、次亜塩素酸水供給部23による次亜塩素酸水原液15aの供給に合わせて結露水12を供給するようにした。これにより、貯留部5の次亜塩素酸水溶液6の量を所定の範囲内に保つことができる。その結果、所定の条件下で次亜塩素酸ガスを生成でき、除菌装置2bによる安定した次亜塩素酸の放出が可能となる。
 以上、実施の形態に基づき本開示を説明したが、本開示は上記の実施の形態に何ら限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。
 実施の形態1-1に係る除菌装置2では、水供給部11として、ペルチェ素子11aを使用したが、これに限られない。例えば、ヒートポンプ装置を水供給部11として使用してもよい。このようにすることで、除菌装置自体は大型化するものの、より多くの結露水12を小さな消費電力で取得できるという効果を享受することができる。
 また、実施の形態1-1に係る除菌装置2では、塩化物を電気分解することで次亜塩素酸水溶液6に次亜塩素酸を供給したが、これに限られない。例えば、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムなどの有機系塩素薬剤を次亜塩素酸水溶液6に供給することで、次亜塩素酸水溶液6に次亜塩素酸を供給するようにしてもよい。こうした構成によれば、電極14を用いることなく次亜塩素酸を供給できるので、装置の低消費電力化を図ることができる。
 また、実施の形態1-1に係る除菌装置2では、次亜塩素酸水溶液6の濃度を計測するセンサを備え、センサの出力に応じて次亜塩素酸水調整部20を制御するようにしてもよい。具体的には、センサの出力する次亜塩素酸水溶液6の濃度が規定値を下回ると、次亜塩素酸水調整部20を動作させ、センサの出力する次亜塩素酸水溶液6の濃度が規定値となったら次亜塩素酸水調整部20を停止するように制御する。これにより、次亜塩素酸水溶液6の濃度をより確実に一定の範囲内に制御することができる。
 また、実施の形態1-1に係る除菌装置2では、ステップS04において、給水運転として水供給部11から結露水12のみを貯留部5に供給するようにしたが、これに限られない。例えば、貯留部5に供給された結露水12が、次亜塩素酸を含んだ供給水に相当する状態となるようにしてもよい。具体的には、水供給部11による結露水12の供給を行う場合に、貯留部5に供給される水量(水位L1と水位L2の差分の水量)の結露水12を所定の濃度の次亜塩素酸水溶液にするのに必要な塩化物水溶液15を塩化物供給部13から供給する。そして、電極14によって、塩化物供給部13から供給した塩化物水溶液15を次亜塩素酸にするのに必要な時間、電気分解を実行する。これにより、ステップS05において、次亜塩素酸水溶液6の水位が満水時の水位L4となった際には、所定の濃度の次亜塩素酸を含んだ供給水が供給されたことになる。つまり、ステップS02の標準運転に戻った際には、所定の濃度範囲となった次亜塩素酸水溶液6とすることができる。したがって、上記のように制御した除菌装置2では、個室空間1に対して、安定した濃度の次亜塩素酸を含む空気4を放出することができる。
 また、実施の形態1-1に係る除菌装置2では、水供給部11は、外部(個室空間1)の空気3に含まれる水分を冷却し、貯留部5内の次亜塩素酸水溶液6に結露水12として供給するように構成したが、これに限られない。例えば、水供給部11を貯留部5の内部空間5aに設け、内部空間5a内の空気に含まれる水分を冷却し、結露水12として供給するようにしてもよい。このようにしても上述した効果を享受することができる。
 また、実施の形態1-1に係る除菌装置2では、次亜塩素酸水溶液6に気泡8を流通させ、次亜塩素酸を含む空気4として放出したが、これに限られない。変形例では、例えば、貯留部5に貯留する溶液として、クロラス酸水、オゾン水または過酸化水素水等の除菌成分を含む薬液を用い、気泡8が除菌成分を含む薬液を流通する過程で、気泡8に塩素ガス、オゾンガスまたは過酸化水素ガス等の除菌成分を含むガスを含ませ、空気4として放出するようにしてもよい。このようにしても、個室空間1の除菌をおこなうことができる。
 具体的には、変形例に係る除菌装置は、内部に所定の濃度の除菌成分を含む薬液を貯留する貯留部5と、外部の空気3を吸い込み、除菌成分を含む薬液に気泡8として供給する空気供給部7と、除菌成分を含む薬液内を浮上した気泡8を、除菌成分を含むガスを含む空気4として外部に放出する空気放出部9と、空気に含まれる水分を冷却し、貯留部5に結露水12として供給する水供給部11と、貯留部5に貯留される除菌成分を含む薬液を所定の濃度に調整する薬液濃度調整部と、を備える。ここで、薬液濃度調整部は、貯留部5に貯留される除菌成分を含む薬液に対して、水供給部11からの結露水12の供給量に合わせて、比較的高濃度の除菌成分を含む薬液を供給する。
 これにより、空気供給部7により除菌成分を含む薬液中に少量の空気3を気泡8として流通させると、少量の気泡8(流通空気)に多量の除菌成分を含むガスを含ませて空気放出部9から外部(個室空間1)に放出することができる。このとき、除菌成分を含む薬液への気泡8(流通空気)を少量に抑えられるため、除菌成分を含む薬液から気泡8(流通空気)中に気化して外部(個室空間1)に放出される水の量が抑制され、貯留部5への必要な給水量を低減することができる。その結果、水供給部11(水供給部11による貯留部5への結露水12の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために除菌装置を外部の給水設備と接続する必要がなくなる。つまり、除菌装置は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に除菌成分を含むガスを放出することができる。
 また、実施の形態1-3に係る除菌装置2bでは、次亜塩素酸水原液15aは、塩水(塩化ナトリウム水溶液)の電気分解によって予め生成された次亜塩素酸水としたが、これに限られない。例えば、塩酸の電気分解によって生成された次亜塩素酸水あるいはジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを水に溶かして生成された次亜塩素酸水などを用いてもよい。このようにしても上述した効果を享受することができる。
 また、実施の形態1-3に係る除菌装置2bでは、貯留部5内の水位が渇水時の水位L2となったことを渇水センサ16bが検知すると、次亜塩素酸水供給部23を動作させ、所定量の次亜塩素酸水原液15aを供給するとしたが、渇水検知の際に毎回、次亜塩素酸水原液15aを供給しなくてもよい。例えば、前回の次亜塩素酸水原液15a供給から所定時間経過しており、かつ、渇水センサ16bが渇水時の水位L2となったことを検知した際に所定量の次亜塩素酸水原液15aを供給するとしてもよい。このようにすることで、所定時間に貯留部5に供給される次亜塩素酸の量をコントロールでき、所定時間あたりに対象空間に放出される次亜塩素酸の量をコントロールすることができる。
 (実施の形態2)
 従来、居住空間などを除菌し、感染症のリスクを低減させる装置として、次亜塩素酸水溶液から次亜塩素酸を気化させて放出する気化式のもの、あるいは、次亜塩素酸水溶液を噴霧する超音波式のものなどが知られている(例えば、特許文献1参照)。
 気化式あるいは超音波式などの従来の除菌装置では、次亜塩素酸の放出に連動して居住空間への水の放出量が多いために必要な給水量が多くなる。したがって、自動給水を実現するためには外部の給水設備との間で接続する必要があり、除菌装置が大型化してしまうという課題があった。
 本開示は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を効率的に行き渡らせる除菌装置を提供することを目的とする。
 本開示に係る除菌装置は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、外部の空気を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、次亜塩素酸水溶液内を浮上した気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として放出する空気放出部と、外部の空気に含まれる水分を冷却し、貯留部に結露水として供給する水供給部と、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に調整する次亜生成部と、空気放出部から放出される次亜塩素酸ガスを含む空気及び外部の空気を混合する混合部と、混合部において混合された混合空気を外部に吹き出す吹出部とを備える。
 本開示に係る除菌装置によれば、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を効率的に行き渡らせる除菌装置を提供することができる。
 改めて説明すると、本開示に係る除菌装置は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、外部の空気を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、次亜塩素酸水溶液内を浮上した気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として放出する空気放出部と、外部の空気に含まれる水分を冷却し、貯留部に結露水として供給する水供給部と、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に調整する次亜生成部と、空気放出部から放出される次亜塩素酸ガスを含む空気及び外部の空気を混合する混合部と、混合部において混合された混合空気を外部に吹き出す吹出部とを備える。
 こうした構成によれば、空気供給部により次亜塩素酸水溶液中に少量の空気を気泡として流通させると、少量の気泡(流通空気)に多量の次亜塩素酸ガスを含ませて空気放出部から混合部に供給することができる。このとき、次亜塩素酸水溶液への気泡(流通空気)を少量に抑えられるため、次亜塩素酸水溶液から気泡(流通空気)中に気化して外部に放出される水の量が抑制され、貯留部への必要な給水量を低減することができる。
 また、外部の空気を取り込み、混合部にて空気放出部から供給された次亜塩素酸ガスを含む空気と混合して、吹出部から対象空間に吹き出すので、次亜塩素酸水溶液中の流通空気を増加することなく、除菌装置からの吹出風量を増加できる。このため、次亜塩素酸水溶液から気化する水の量を抑えつつ、対象空間に次亜塩素酸を効率的に拡散できる。つまり、貯留部への必要な給水量を抑えつつ、対象空間に次亜塩素酸を効率的に拡散できる。
 その結果、水供給部(水供給部による貯留部への結露水の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために外部の給水設備との間で接続する必要がなくなる。さらに、除菌装置からの吹出風量を増加させることで、対象空間に次亜塩素酸を効率的に拡散させることができる。つまり、除菌装置は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を効率的に行き渡らせることができる。
 また、本開示に係る除菌装置は、外部の空気を吸い込む吸込部をさらに備える。空気供給部は、吸込部から吸い込んだ外部の空気の一部分を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡として供給し、混合部は、空気放出部から放出される次亜塩素酸ガスを含む空気及び外部の空気の残りの部分を混合する。これにより、除菌装置からの吹出風量を一定に維持した状態で、混合部における空気の混合比率を容易に調整することができる。
 また、本開示に係る除菌装置は、混合部と連通する空気風路内に設けられ、外部の空気を、空気風路を流通させて混合部に送出する送風部と、空気風路内に設けられ、空気風路を流通する空気に含まれる異物を除去するフィルタ部とをさらに備える。送風部は、フィルタ部の下流側に設置される。こうした構成によれば、送風部を動作することで、フィルタ部により異物を除去された空気を、空気風路に流通させることができる。つまり、送風部がフィルタ部の下流側に設置されることで、送風部に異物が流入するのを抑制することができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、空気供給部は、空気風路を流通する外部の空気の一部分を吸い込むエアポンプを有して構成され、エアポンプは、フィルタ部の下流側に設置される。このようにすることで、空気供給部は、フィルタ部により異物が取り除かれた空気をエアポンプで次亜塩素酸水溶液中に送ることができる。このため、次亜塩素酸水溶液中への異物の混入を抑え、次亜塩素酸水溶液に異物が蓄積することを抑制することができ、貯留部からの排水設備を不要とすることができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、水供給部は、空気風路内に設置される。このようにすることで、フィルタ部により汚れが取り除かれた空気から結露水を取得できるため、貯留部に供給する結露水に含まれる汚れを抑制することができる。それにより、貯留部内の次亜塩素酸水溶液に汚れが蓄積することを抑制することができ、貯留部からの排水設備を不要とすることができる。
 また、本開示に係る除菌装置では、次亜生成部は、塩化物水溶液を貯留するタンクと、タンクから貯留部に塩化物水溶液を送出するポンプと、ポンプから送出された塩化物水溶液を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極とを有して構成される。こうした構成によれば、貯留部に貯留される次亜塩素酸水溶液に塩化物水溶液を混合して電気分解することにより次亜塩素酸水溶液を所定の濃度に容易に調整することができる。
 以下、本開示の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態は、本開示を具体化した一例であって、本開示の技術的範囲を限定するものではない。また、実施形態において説明する各図は、模式的な図であり、各図中の各構成要素の大きさ及び厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。
 実施の形態2は、少なくとも以下の実施の形態2-1及び実施の形態2-2を包含する。
 (実施の形態2-1)
 まず、図8及び図9を参照して、本実施の形態2-1に係る除菌装置102の概略について説明する。図8は、本開示の実施の形態2-1に係る除菌装置102の個室空間101への設置例を示す概略側面図である。図9は、除菌装置102の構成を示す概略側面図である。図10A及び図10Bは、除菌装置102における水供給部111の構成を示す概略図である。ここで、図10Aは、水供給部111を上方から見た状態の概略上面図であり、図10Bは、水供給部111を側方から見た状態の概略側面図である。
 図8に示す通り、除菌装置102は、個室空間101の壁面の所定の高さの位置に設置される。除菌装置102は、個室空間101の空気103を取り込み、取り込んだ空気103(空気103a)に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を付加して、同じく取り込んだ空気103(空気103b)と混合して次亜塩素酸を含む空気104として個室空間101に放出する。その結果、放出された空気104(次亜塩素酸を含む空気104)により個室空間101が除菌される。つまり、除菌装置102は、個室空間101に次亜塩素酸を放出して除菌する装置と言える。なお、除菌装置102は、外部電源との接続ができるのであれば、個室空間101での設置場所に制約を受けない。
 個室空間101は、利用者が打合せあるいは休憩などで使用する空間であり、壁及び扉などの構造体によって構成される。個室空間101内には、テーブルあるいは椅子が設置されていてもよい。また、個室空間101内の空調(冷房、暖房)を行う空調機などが設置されていてもよい。
 空気103は、個室空間101から除菌装置102に取り込まれる空気である。図8の符号「103a」、「103b」で示される矢印は、空気103(空気103a、空気103b)の主な流れを示す。詳細は後述するが、空気103aは、次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が付加される空気であり、空気103bは、次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が付加された空気103c(図9参照)に混合される空気である。
 空気104は、除菌装置102から個室空間101に吹き出される空気である。図8の符号「104」で示される矢印は、空気104の主な流れを示す。詳細は後述するが、空気104には、除菌装置102の内部において発生させる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が含まれている。
 次に、除菌装置102の具体的な構成について説明する。
 図9に示す通り、除菌装置102は、貯留部105、空気供給部107、空気放出部109、エリミネータ110、水供給部111、塩化物供給部113、電極114、水位センサ116(満水センサ116a、渇水センサ116b)、及び筐体117を有して構成される。
 貯留部105は、内部に次亜塩素酸水溶液106を貯留する容器である。貯留部105は、四角柱状の形状を有しており、空気放出部109の外形寸法は、例えば、幅246mm、奥行き66mm、高さ115mmである。なお、貯留部105は、除菌装置102の外枠を構成する筐体とも言える。
 貯留部105は、次亜塩素酸水溶液106が満水の状態において、次亜塩素酸水溶液106の液面の上方に内部空間105aが形成されるようになっている。そして、内部空間105a部分を構成する容器の側壁には、水供給部111からの結露水112が導入される導入口、及び、塩化物供給部113から塩化物水溶液115が導入される導入口がそれぞれ設置されている。また、貯留部105の底部には、次亜塩素酸水溶液106に沈んだ状態で空気供給部107及び電極114が設置されている。また、貯留部105には、内部に貯留する次亜塩素酸水溶液106の水位を検出するための水位センサ116(満水センサ116a、渇水センサ116b)が所定の位置に設置されている。また、貯留部105には、その上面(上端部)に空気放出部109と連通接続するための開口部(図示せず)が設けられている。
 次亜塩素酸水溶液106は、後述する塩化物水溶液115を電気分解して生成される次亜塩素酸を含んだ水溶液である。次亜塩素酸水溶液106は、後述する空気供給部107から供給される気泡108が浮力により液中を流通する過程で、気泡108の内部に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を含ませる役割を有する。このため、次亜塩素酸水溶液106の濃度を増減させることで、気泡108に含ませる次亜塩素酸の量を増減させることができる。また、次亜塩素酸水溶液106の水素イオン濃度(pH)を5~7程度にすることで、次亜塩素酸水溶液106から次亜塩素酸が気化しやすくなり、気泡108に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。また、気泡108が浮力により上昇する距離(気泡108が次亜塩素酸水溶液106中を流通する距離)を増加させ、次亜塩素酸水溶液106と気泡108の接触時間を増加させることで、気泡108に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。これらのことから、本実施の形態では、次亜塩素酸水溶液106の濃度を100mg/L程度とし、次亜塩素酸水溶液106のpHを7程度とし、上述した貯留部105の外径寸法に基づいて内部に貯留する次亜塩素酸水溶液106の容量(満水時の容量)を1L程度としている。なお、次亜塩素酸水溶液106の濃度は、気化式あるいは超音波式などの従来の除菌装置に用いられる次亜塩素酸水溶液の濃度よりも、数倍濃く調整されている。
 空気供給部107は、個室空間101の空気103aを吸い込み、吸い込んだ空気103aを次亜塩素酸水溶液106に気泡108として供給する部材である。より詳細には、空気供給部107は、エアストーン107a、エアポンプ107b、及びエアチューブ107cを有して構成されている。
 エアストーン107aは、エアチューブ107cを介してエアポンプ107bからに送り込まれる空気103aを細かい泡状にして気泡108として次亜塩素酸水溶液106中に放出する石(例えば、多孔質セラミックスあるいは多孔質合成樹脂製などからなる石)である。エアストーン107aは、貯留部105の底部において次亜塩素酸水溶液106に沈んだ状態で設置される。
 エアポンプ107bは、貯留部105の外部に配置される。そして、エアポンプ107bは、図示しない吸込口から個室空間101の空気103aを吸い込み、圧力を高くしてエアストーン107aに送り込む部材である。
 エアチューブ107cは、エアストーン107aとエアポンプ107bとの間を連通接続し、エアポンプ107bから吐出された空気103aをエアストーン107aまで流通させるための部材である。エアチューブ107cは、貯留部105の側壁を貫通して設置される。
 空気供給部107は、以上のように構成される。
 そして、空気供給部107では、次亜塩素酸水溶液106への空気103aの供給量、及び、発生させる気泡108の大きさ(径)を制御するによって、空気放出部109から個室空間101の放出される空気104に含ませる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)の量を調整することができる。
 具体的には、空気供給部107では、次亜塩素酸水溶液106への空気103aの供給量が増加すれば、それに応じて気泡108の発生量(発生数)が多くなり、空気放出部109から放出する空気104に含ませる次亜塩素酸を増加させることができる。また、空気供給部107では、次亜塩素酸水溶液106に放出する気泡108の大きさ(径)を小さくすることで、浮上する際の気泡108の上昇速度を低下させて次亜塩素酸水溶液106と気泡108との間の接触時間を増加させることができる。さらに、気泡108の大きさ(径)を小さくすることで、気泡108の大きさ(径)が大きい場合と比較して、次亜塩素酸水溶液106と液中を流通する気泡108との間の接触面積を増加させることができる。これらの結果、次亜塩素酸水溶液106を流通する気泡108が、浮上する過程で気泡108内に取り込む次亜塩素酸の量が増加し、空気放出部109から放出する空気104に含ませる次亜塩素酸を増加させることができる。
 ここで、空気供給部107による次亜塩素酸水溶液106への空気103aの供給量は、エアポンプ107bの空気の吐出量によって制御することができる。また、気泡108の大きさ(径)は、エアストーン107aの細孔の大きさ(及びエアポンプ107bの空気の吐出量)によって制御することができる。これらを踏まえ、本実施の形態では、空気供給部107による次亜塩素酸水溶液106への空気103aの供給量を0.1m/h程度とし、エアストーン107aにおいて発生させる気泡108の大きさ(径)を1mm~2mm程度としている。
 気泡108は、空気供給部107(エアストーン107a)により個室空間101から吸い込まれた空気103aが泡状に微細化された空気であり、次亜塩素酸水溶液106によって空気が閉じ込められた状態となっている。空気供給部107から放出された気泡108は、次亜塩素酸水溶液106に含まれる次亜塩素酸(及び水分)を内部の空気に取り込みながら浮上する。その後、気泡108は、次亜塩素酸水溶液106の液面まで浮上すると弾けてなくなる。そして、気泡108内の空気は、空気内に含まれていた次亜塩素酸(及び水分)とともに、内部空間105a内の空気と混合される。その後、内部空間105a内の空気(次亜塩素酸を含む空気)は、空気放出部109から空気103cとして混合部121に供給される。
 空気放出部109は、貯留部105と筐体117とを連通させ、貯留部105からの次亜塩素酸を含む空気(内部空間105a内の空気)を、供給口109aから筐体117の混合部121に空気103cとして放出する部材である。空気放出部109は、貯留部105の上面に設置される。さらに、空気放出部109は、エリミネータ110を有している。
 エリミネータ110は、貯留部105内において気泡108が液面で弾けることで生じる水滴などを取り除く部材である。エリミネータ110は、空気が流通可能な多孔体であり、空気放出部109内に設置される。なお、エリミネータ110は、エリミネータ110を通過する空気に含まれる水滴を捕集するので、水滴除去器とも言える。これにより、除菌装置102では、空気放出部109から水滴が混合部121に放出されることを防ぐことができる。
 筐体117は、空気放出部109から供給される次亜塩素酸ガスを含む空気103cと、外部の空気103bとを混合して空気104として放出する部材である。筐体117は、空気放出部109の上面に設置される。筐体117の側壁面には、空気放出部109の供給口109aと連通接続する開口部が設けられる。これにより、空気放出部109からの空気103cが筐体117内に供給される。
 より詳細には、筐体117は、吸込部118、吹出部119、混合部121、及び送風部122を有して構成される。
 吸込部118は、筐体117が外部と連通する開口部であり、外部(個室空間101)の空気103bを除菌装置102に取り込むための取込口である。
 吹出部119は、筐体117が外部と連通する開口部であり、次亜塩素酸ガスを含む空気104を除菌装置102から個室空間101に供給するための吹出口である。
 吸込部118と吹出部119とは、筐体117の内部風路124によって連通接続されている。そして、内部風路124には、空気放出部109の供給口109aが連通接続されている。なお、内部風路124は、請求項の「空気風路」に相当する。
 混合部121は、空気放出部109から供給された次亜塩素酸ガスを含む空気103cと吸込部118から取り込んだ空気103bとを混合するための空間であり、筐体117内の空気103cと空気103bが合流する空間が混合部121となる。混合部121にて混合された次亜塩素酸ガスを含む空気は、筐体117を通じて、空気104として吹出部119から個室空間101に吹き出される。なお、空気104は、請求項の「混合空気」に相当する。
 送風部122は、筐体117に空気を流通させるための送風ファンであり、筐体117の内部風路124に配置される。送風部122を動作することで、吸込部118から空気103bを取り込み、混合部121にて吸込部118から取り込んだ空気103bと空気放出部109から供給された空気103cとを混合し、吹出部119から空気104として吹き出すことができる。
 水供給部111は、外部(個室空間101)の空気103に含まれる水分を冷却し、貯留部105内の次亜塩素酸水溶液106に結露水112として供給する部材である。水供給部111は、貯留部105の外側に設置され、内部空間105aを構成する容器の側壁に設けられた導入口を介して貯留部105内に結露水112を導入するように構成される。
 具体的には、水供給部111は、図10A及び図10Bに示す通り、ペルチェ素子111a、ヒートシンク111b1、ヒートシンク111b2、放熱ファン111c、及びガイド111dを有して構成される。
 ペルチェ素子111aは、ペルチェ効果を用いた板状の半導体熱電素子の一種(電子部品)である。ペルチェ素子111aは、ある方向に直流電流を流すことで、素子の一方の面で吸熱(冷却)し、他方の面で放熱(加熱)する。そして、直流電流の向きを変えると、ペルチェ素子111aの吸熱面(冷却面)と放熱面(加熱面)とが入れ替わる。本実施の形態では、ペルチェ素子111aとして、幅40mm、高さ40mmの寸法を有する素子を用いている。
 ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2は、ペルチェ素子111aのそれぞれの面に接着され、ペルチェ素子111aによる吸熱及び放熱を促進する部材である。ペルチェ素子111aの吸熱面と放熱面とは、定期的に変化させるため、ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2は、吸熱と放熱の双方を行うことになる。本実施の形態では、ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2として、剣山状に配置された複数の放熱フィンを有して構成され、幅40mm、奥行き20mm、高さ40mmの外径寸法を有するアルミニウム製のヒートシンクを用いた。
 放熱ファン111cは、放熱側となるヒートシンク111b1またはヒートシンク111b2に風を送り、冷却することで、ペルチェ素子111aによる放熱を促進するための部材である。このため、放熱ファン111cは、ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2の双方に跨って送風できるように配置される。
 ガイド111dは、ヒートシンク111b1またはヒートシンク111b2から滴下する結露水112を貯留部105に誘導する水路を構成する部材である。ガイド111dは、図10Bに示す通り、ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2の鉛直方向下方に跨って配置され、貯留部105の側壁に設けられた導入口(図示せず)と接続される。
 次に、水供給部111の動作の流れを説明する。
 水供給部111では、ペルチェ素子111aにある方向に直流電流を流すことで、ヒートシンク111b1で吸熱を行い、ヒートシンク111b2で放熱を行う。これにより、ヒートシンク111b1をマイナス5℃程度に、ヒートシンク111b2を45℃程度にする。このようにすることで、吸熱側であるヒートシンク111b1の近傍の空気103の温度が氷点下まで低下し、空気103中の水分が結露及び凝固する。また、放熱ファン111cにより、ヒートシンク111b2(及びヒートシンク111b1)に風を送る。これにより、放熱側であるヒートシンク111b2が冷却され、ペルチェ素子111aによる放熱が促進される。そして、ある程度の時間が経つと、吸熱側であるヒートシンク111b1は、ある程度の量の凝固した結露水が付着した状態になる。
 所定の時間経過後、ペルチェ素子111aに流れる直流電流の方向を反転させることで、ペルチェ素子111aの吸熱面と放熱面を反転させる。これにより、ヒートシンク111b1では、放熱が行われ、ヒートシンク111b1の温度が45℃程度になる。一方、ヒートシンク111b2では、吸熱が行われ、ヒートシンク111b2の温度がマイナス5℃程度になる。その結果、ヒートシンク111b1に付着した凝固した結露水112が融解し、その直下に滴下する。一方、ヒートシンク111b2では、空気103中の水分が結露及び凝固する。その後、一定時間毎にペルチェ素子111aの吸熱面と放熱面を反転させることで、上記のように、ヒートシンク111b1及びヒートシンク111b2で結露・凝固・融解が繰り返され、結露水112を滴下させることができる。そして、滴下した結露水112は、ガイド111dによって受けられ、貯留部105に誘導及び供給される。
 このように動作することで、水供給部111は、結露水112を貯留部105に供給することができる。ここで、空気103の温度を、例えばマイナス5℃などの氷点を下回る低温にすることで、凝固した結露水112を融解させる必要はあるが、低湿な空気からも結露水を取得することができる。
 次に、塩化物供給部113及び電極114について説明する。
 塩化物供給部113及び電極114は、次亜生成部120を構成し、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106を所定の濃度に調整する。具体的には、次亜生成部120では、塩化物供給部113が次亜塩素酸水溶液106に所定量の塩化物水溶液115を供給し、電極114が供給された塩化物水溶液115を電気分解して次亜塩素酸を生成することで、次亜塩素酸水溶液106の濃度を調整している。
 塩化物供給部113は、塩化物水溶液115を貯留部105に供給する部材である。塩化物供給部113は、貯留部105の外側に設置され、内部空間105aを構成する容器の側壁に設けられた導入口を介して貯留部105内に塩化物水溶液115を導入するように構成される。より詳細には、塩化物供給部113は、塩化物タンク113a、塩化物ポンプ113b、及びチューブ113cを有して構成されている。
 塩化物タンク113aは、内部に予め指定された所定濃度の塩化物水溶液115を貯留する容器である。塩化物タンク113aは、塩化物ポンプ113bの動作によりチューブ113cを介して貯留部105に塩化物水溶液115を供給可能になっている。
 塩化物水溶液115は、電気分解によって次亜塩素酸水を生成可能な電解質であればよく、少量でも塩化物イオンを含んで入れば特に制限はなく、例えば、溶質として塩化ナトリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウムなどを溶解した水溶液が挙げられる。また、水溶液のpHを調整するためにリン酸カリウムなどを加えてもよい。本実施の形態では、塩化物水溶液115として、塩化ナトリウム水溶液(塩水)にリン酸カリウムを加えた水溶液を使用している。また、塩化物水溶液115は、塩化ナトリウムが高濃度であることが望ましい。高濃度の塩化物水溶液115を使用することで、次亜塩素酸水溶液106の水量を大きく変化させることなく、次亜塩素酸水溶液106に塩化物(塩化物水溶液)を供給することができる。
 塩化物ポンプ113bは、制御部(図示せず)からの出力信号に応じて、塩化物タンク113aから貯留部105に塩化物水溶液115を送出させる部材である。
 チューブ113cは、塩化物タンク113aと貯留部105(内部空間105aを構成する容器の側壁に設けられた導入口)とを、塩化物ポンプ113bを介して接続し、塩化物タンク113aから貯留部105にかけて塩化物水溶液115を流通させるための部材である。
 塩化物供給部113は、以上のように構成される。
 そして、塩化物供給部113は、塩化物ポンプ113bを動作させることで、チューブ113cを通じて所定量の塩化物水溶液115を塩化物タンク113aから貯留部105に供給する。これにより、貯留部105に貯留されている次亜塩素酸水溶液106に対して塩化物水溶液115が混合されることになる。
 電極114は、塩化物イオンを含む水溶液である塩化物水溶液115を電気分解するための部材である。電極114は、例えば、貯留部105の底部において次亜塩素酸水溶液106に沈んだ状態で設置される。電極114は、陽極と陰極との一対からなり、導電性基体の表面に触媒被膜を有して構成される。導電性基体には、例えば、チタン、タンタル、ニッケル、ステンレス等が使用できるが、次亜塩素酸に対する耐食性が大きいチタンが好ましい。また、触媒被膜に含まれる触媒には、例えば、イリジウム、白金族金属等が使用される。これにより、電極114での電気分解反応を活性化させることができる。
 電極114では、一対の電極間に電流を流すことで塩化物(塩化物水溶液115)が電気分解し、次亜塩素酸が生成される。この結果、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106と塩化物水溶液115の混合水溶液は、所定の濃度を有する次亜塩素酸水溶液106として調整される。ここで、電極114への通電時間は、例えば、貯留部105に供給された塩化物の量に基づいて予め実験的に求められた時間に設定される。
 次に、次亜生成部120の動作の流れを説明する。
 次亜生成部120では、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106を所定の濃度に調整するために、一定時間ごとに次亜塩素酸水溶液106に次亜塩素酸を供給する。つまり、詳細は後述するが、次亜生成部120では、塩化物供給部113による既定量の塩化物水溶液115の供給と、電極114による電気分解とを一定時間ごとに実行する。
 次亜生成部120では、まず、一定時間が経過すると、塩化物ポンプ113bにより塩化物タンク113aから貯留部105に既定量の塩化物水溶液115を送り込み、次亜塩素酸水溶液106に対して塩化物水溶液115を供給して混合する。そして、次亜生成部120では、電極114に電流を流し、次亜塩素酸水溶液106に混合された塩化物、つまり塩化ナトリウムを電気分解し、塩化物水溶液115として供給された塩化ナトリウムの量に対応した次亜塩素酸を生成する。これにより、次亜塩素酸水溶液106に対して次亜塩素酸が供給されたのと同等の状態となる。つまり、次亜生成部120によって、次亜塩素酸水溶液106の濃度(次亜塩素酸の濃度)が調整されたことになる。この際、次亜生成部120の動作において、次亜塩素酸水溶液106に供給する塩化物水溶液115の量(供給量)を調整することで、次亜塩素酸水溶液106に供給する次亜塩素酸の量を制御できる。なお、塩化ナトリウムを電気分解することで、次亜塩素酸水溶液106のpHは上昇するが、塩化物水溶液115に含まれるリン酸カリウムによって中和され、所定のpHに調整されるようにしている。
 次に、水位センサ116(満水センサ116a、渇水センサ116b)について説明する。
 水位センサ116は、貯留部105の内部に貯留する次亜塩素酸水溶液106の水位を検出する部材であり、満水センサ116aと渇水センサ116bとを有している。満水センサ116aと渇水センサ116bのそれぞれは、貯留部105内の所定の高さの位置に設置されている。
 満水センサ116aは、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106の水位が満水状態(満水水位)であることを検出する。一方、渇水センサ116bは、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106の水位が渇水状態(渇水水位)であることを検出する。なお、本実施の形態では、渇水水位は、満水水位での次亜塩素酸水溶液106の容量(満水時の容量)1Lから30%減少した700mLとなる水位に設定している。
 そして、水位センサ116が検出した水位情報をもとにして、次亜生成部120による貯留部105への次亜塩素酸の供給が制御される。検出した水位情報は、制御部(図示せず)の入力信号として用いられる。
 除菌装置102は以上のように構成される。
 次に、図11を参照して、除菌装置102の運転動作について説明する。図11は、除菌装置102の運転フローを示す図である。
 除菌装置102は、図11に示す通り、空気供給部107、送風部122、水供給部111、及び次亜生成部120(塩化物供給部113、電極114)を停止した停止状態と、空気供給部107、及び送風部122が動作した運転状態とを備える。ここで、図11における矢印R11は、停止状態から運転状態への遷移を表す。また、図11における矢印R14は、運転状態から停止状態への遷移を表す。
 停止状態(ステップS01)にすることで、除菌装置102は、次亜塩素酸水溶液106からの次亜塩素酸の気化が抑制され、次亜塩素酸の放出量を抑制することができる。ただし、次亜塩素酸は、次亜塩素酸水溶液106から気泡108へ気化するだけでなく、次亜塩素酸水溶液106から内部空間105aへも液面から直接気化するため、停止状態においても、多少の次亜塩素酸の気化及び放出が生じる。
 一方、運転状態にすることで、除菌装置102は、個室空間101に次亜塩素酸を放出することができる。運転状態においては、次亜塩素酸水溶液106から次亜塩素酸及び水が気化するため、次亜塩素酸水溶液106の水量及び水位と、次亜塩素酸水溶液106が含有する次亜塩素酸の量が低下する。
 より詳細には、運転状態において、除菌装置102は、基本的に標準運転(ステップS02)を行う。ここで、標準運転とは、空気供給部107及び送風部122を動作させ、次亜塩素酸を放出する運転である。つまり、標準運転では、水供給部111、塩化物供給部113、及び電極114は、動作させない。したがって、標準運転では、空気供給部107のバブリングによって次亜塩素酸水溶液106に気泡108が供給され、空気放出部109から次亜塩素酸を含む空気103cとして混合部121に供給される。そして、送風部122によって、次亜塩素酸を含む空気103cは、混合部121において吸込部118から取り込まれた空気103bと混合され、空気104として吹出部119から個室空間101に放出される。
 その後、ステップS02において標準運転が連続的に実行され、次亜塩素酸水溶液106の水位が満水時の水位L11から減少していき、渇水時の水位L12となったことを渇水センサ116b(図9参照)が検知する(ステップS03)と、除菌装置102は、水供給部111を動作させ、給水運転として次亜塩素酸水溶液106に結露水112を供給させる(ステップS04)。これにより、次亜塩素酸水溶液106の水位L13が上昇していく。そして、次亜塩素酸水溶液106の水位が満水時の水位L14(水位L11と同じ水位)となったことを満水センサ116aが検知する(ステップS05)と、除菌装置102は、水供給部111の動作を停止させ、標準運転に戻る(ステップS02)。
 このようにすることで、除菌装置102は、貯留部105に貯留する次亜塩素酸水溶液106の水量を一定の範囲内に維持することができる。図11における矢印R12は、標準運転、渇水センサ116bによる水位L12の検知、水供給部111による結露水112の給水、満水センサ116aによる水位L14の検知、標準運転への復帰、の流れを表す。なお、矢印R12で表される一連の流れにおいて、空気供給部107及び送風部122の動作、並びに、それに伴う次亜塩素酸を含む空気104の放出は継続される。
 一方、除菌装置102は、一定時間が経過する毎に、次亜生成部120を動作させ、塩化物供給部113による次亜塩素酸水溶液106への塩化物水溶液115の供給と、電極114による供給された塩化物の電気分解とを行う。より詳細には、ステップS02において標準運転が連続的に実行され、一定時間(例えば、1時間)が経過する(ステップS06)と、除菌装置102は、塩化物供給部113を動作させ、塩化物導入として次亜塩素酸水溶液106に所定量の塩化物水溶液115を供給させる(ステップS07)。そして、除菌装置102は、電極114に電流を流し、次亜塩素酸水溶液106に混合された塩化ナトリウムを電気分解(電解とも言う)し、塩化物水溶液115として供給された塩化ナトリウムの量に対応した次亜塩素酸を生成する(ステップS08)。これにより、次亜塩素酸水溶液106は、水溶液中に次亜塩素酸が供給され、所定の濃度に調整された状態となる。ここで、次亜塩素酸の供給量は、予め実験的に見積もられた量であり、一定時間の間に次亜塩素酸水溶液106から減少する次亜塩素酸の量と同等とする。そして、次亜生成部120による次亜塩素酸の供給が完了次第、除菌装置102は、次亜生成部120の動作を停止し、標準運転に戻る(ステップS02)。
 このようにすることで、次亜塩素酸水溶液106に含有される次亜塩素酸の量を一定の範囲内に保つことができる。また、次亜塩素酸水溶液106の水量は、一定の範囲内で制御されるため、次亜塩素酸水溶液106の濃度を一定の範囲内に保つことができる。図11における矢印R13は、標準運転、一定時間経過、塩化物供給部113による塩化物水溶液115の供給、電極114による電気分解、標準運転への復帰、の流れを表す。なお、矢印R13で表される一連の流れにおいて、空気供給部107、及び送風部122の動作及び次亜塩素酸の放出は継続される。
 以上のようにして、除菌装置102を運転することで、除菌装置102は、次亜塩素酸水溶液106の水量と次亜塩素酸水溶液106が含有する次亜塩素酸の量を一定の範囲内に保ちつつ、連続して次亜塩素酸を個室空間101に放出することができる。
 以上、本実施の形態2-1に係る除菌装置102によれば、以下の効果を享受することができる。
 (1)除菌装置102は、内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液106を貯留する貯留部105と、外部(個室空間101)の空気103aを吸い込み、次亜塩素酸水溶液106に気泡108として供給する空気供給部107と、次亜塩素酸水溶液106内を浮上した気泡108を、次亜塩素酸ガスを含む空気103cとして放出する空気放出部109と、外部(個室空間101)の空気に含まれる水分を冷却し、貯留部105に結露水112として供給する水供給部111と、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106を所定の濃度に調整する次亜生成部120(塩化物供給部113、電極114)と、空気放出部109から放出される次亜塩素酸ガスを含む空気103c及び外部(個室空間101)の空気103bを混合する混合部121と、混合部121において混合された空気104を外部(個室空間101)に吹き出す吹出部119とを備える。
 これにより、空気供給部107により次亜塩素酸水溶液106中に少量の空気103を気泡108として流通させると、少量の気泡108(流通空気)に多量の次亜塩素酸ガスを含ませて空気放出部109から混合部121に供給することができる。このとき、次亜塩素酸水溶液106への気泡108(流通空気)を少量に抑えられるため、次亜塩素酸水溶液106から気泡108(流通空気)中に気化して外部(個室空間101)に放出される水の量が抑制され、貯留部105への必要な給水量を低減することができる。
 また、外部(個室空間101)の空気103bを取り込み、混合部121にて空気放出部109から供給された次亜塩素酸ガスを含む空気103cと混合して、吹出部119から対象空間(個室空間101)に吹き出すので、次亜塩素酸水溶液106中の流通空気を増加することなく、除菌装置102からの吹出風量を増加できる。このため、次亜塩素酸水溶液106から気化する水の量を抑えつつ、対象空間(個室空間101)に次亜塩素酸を効率的に拡散できる。つまり、貯留部105への必要な給水量を抑えつつ、対象空間(個室空間101)に次亜塩素酸を効率的に拡散できる。
 その結果、水供給部111(水供給部111による貯留部105への結露水112の供給)によって必要な給水量を確保することが可能となり、自動給水のために除菌装置102を外部の給水設備と接続する必要がなくなる。さらに、除菌装置102からの吹出風量を増加させることで、対象空間(個室空間101)に次亜塩素酸を効率的に拡散させることができる。つまり、除菌装置102は、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間(個室空間101)に次亜塩素酸を効率的に行き渡らせることができる。
 (2)除菌装置102では、次亜生成部120(塩化物供給部113、電極114)は、塩化物水溶液115を貯留する塩化物タンク113aと、塩化物タンク113aから貯留部105に塩化物水溶液115を送出する塩化物ポンプ113bと、塩化物ポンプ113bから送出された塩化物水溶液115を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極114とを有して構成される。こうした構成によれば、貯留部105に貯留される次亜塩素酸水溶液106に塩化物水溶液115を混合して電気分解することにより次亜塩素酸水溶液106を所定の濃度に容易に調整することができる。
 (実施の形態2-2)
 図12を参照して、本開示の実施の形態2-2に係る除菌装置102aについて説明する。図12は、本開示の実施の形態2-2に係る除菌装置102aの構成を示す概略側面図である。
 本開示の実施の形態2-2に係る除菌装置102aは、筐体117aの内部風路124aを拡張し、筐体117aの内部風路124aに、空気供給部107のエアポンプ107b、水供給部111、及びフィルタ部123を配置している点で実施の形態2-1と異なる。これ以外の除菌装置102aの構成は、実施の形態2-1に係る除菌装置102と同様である。以下、実施の形態2-1で説明済みの内容は再度の説明を適宜省略し、実施の形態2-1と異なる点を主に説明する。
 図12に示す通り、除菌装置102aでは、筐体117aの内部風路124aに、空気供給部107のエアポンプ107b、水供給部111、送風部122、及びフィルタ部123がそれぞれ配置されている。
 内部風路124aは、筐体117aの内部において、吸込部118aと吹出部119とを連通接続する風路である。そして、内部風路124aには、内部風路124と同様、空気放出部109の供給口109aが連通接続されている。なお、内部風路124aは、請求項の「空気風路」に相当する。
 フィルタ部123は、吸込部118aから取り込んだ空気103の汚れあるいは異物を取り除くためのフィルタであり、内部風路124aにおける吸込部118aの近傍に配置される。
 送風部122は、内部風路124aにおけるフィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に配置される。これにより、送風部122には、フィルタ部123の通過後の異物を除去した空気103が流通するため、送風部122に異物が混入することを防ぐことができる。また、送風部122が次亜塩素酸ガスの影響を受けにくくなるので、送風部122が次亜塩素酸ガスに起因して腐食あるいは劣化するのを抑制することができる。
 エアポンプ107bは、内部風路124aにおけるフィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に配置される。これにより、エアポンプ107bは、フィルタ部123の通過後の汚れの少ない空気103aを取り込み、次亜塩素酸水溶液106に送り込むことができる。また、エアポンプ107bが次亜塩素酸ガスの影響を受けにくくなるので、エアポンプ107bが次亜塩素酸ガスに起因して腐食あるいは劣化するのを抑制することができる。
 水供給部111は、内部風路124aにおけるフィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に配置される。これにより、水供給部111は、フィルタ部123の通過後の異物あるいは汚れの少ない空気から結露水112を取得できるため、異物あるいは汚れの少ない結露水112を次亜塩素酸水溶液106に供給することができる。また、水供給部111が次亜塩素酸ガスの影響を受けにくくなるので、水供給部111が次亜塩素酸ガスに起因して腐食あるいは劣化するのを抑制することができる。
 なお、本実施の形態では、筐体117aの内部風路124aには、上流側から、フィルタ部123、送風部122、エアポンプ107b、水供給部111、混合部121の順に配置されている。
 次に、除菌装置102aの運転動作において、吸込部118aから吸い込む空気103の流れについて説明する。
 除菌装置102aでは、空気供給部107及び送風部122を動作させると、外部(個室空間101)の空気103は、吸込部118aから筐体117a内(内部風路124a)に吸い込まれる。
 そして、吸込部118aから吸い込まれた空気103は、フィルタ部123を流通する。これにより、空気103に含まれる汚れあるいは異物などが除去され。空気103は、清浄化される。
 フィルタ部123を流通した空気103は、送風部122を流通する。
 そして、送風部122を流通した空気103の一部分(空気103a)が空気供給部107のエアポンプ107bに吸い込まれる。送風部122を流通した空気103の残りの部分(空気103b)は、そのまま内部風路124aを混合部121に向けて流通する。
 エアポンプ107bに吸い込まれた空気103aは、エアストーン107aのバブリングによって気泡108となって次亜塩素酸水溶液106に供給され、空気放出部109から次亜塩素酸を含む空気103cとして混合部121に送出される。
 そして、混合部121に送出された次亜塩素酸を含む空気103cは、内部風路124aを流通してきた空気103bと混合され、次亜塩素酸を含む空気104として吹出部119から個室空間101に放出される。
 以上のようにして、除菌装置102aは、外部(個室空間101)の空気103を吸い込み、吸い込んだ空気103を空気103aと空気103bとして内部を流通させ、最終的に次亜塩素酸を含む空気104として外部(個室空間101)に放出する。
 以上、本実施の形態2-2に係る除菌装置102aによれば、上記した実施の形態2-1の効果(1)及び効果(2)に加え、以下の効果を享受することができる。
 (3)除菌装置102aは、外部(個室空間101)の空気103を吸い込む吸込部118aを備える。そして、空気供給部107のエアポンプ107bは、吸込部118aから吸い込んだ空気103の一部分(空気103a)を吸い込み、次亜塩素酸水溶液に気泡108として供給する。空気放出部109は、気泡108から生じる次亜塩素酸ガスを含む空気103cを放出する。混合部121は、空気放出部109から放出される次亜塩素酸ガスを含む空気103c及び空気103の残りの部分(空気103b)を混合する。これにより、除菌装置102a(吹出部119)からの吹出風量を一定に維持した状態で、混合部121における2種類の空気(空気103c、空気103b)の混合比率を容易に調整することができる。
 (4)除菌装置102aは、混合部121と連通する内部風路124a(筐体117a)に設けられ、外部(個室空間101)の空気103を、内部風路124aを流通させて混合部121に送出する送風部122と、内部風路124aに設けられ、内部風路124aを流通する空気103(空気103a、空気103b)に含まれる異物を除去するフィルタ部123とを備える。そして、送風部122は、フィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に設置される。これにより、送風部122を動作することで、フィルタ部123により異物を除去された空気103を、内部風路124aに流通させることができる。つまり、送風部122がフィルタ部123の下流側に設置されることで、送風部122に異物が流入するのを抑制することができる。
 さらに、送風部122が混合部121の上流側に設置されることで、送風部122が内部風路124aを流通する次亜塩素酸ガスに曝される可能性が低くなり、次亜塩素酸ガスに起因する送風部122の腐食あるいは劣化を抑制することができる。
 (5)除菌装置102aでは、空気供給部107は、内部風路124aを流通する空気103の一部分(空気103a)を吸い込むエアポンプ107bを有して構成される。そして、エアポンプ107bは、フィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に設置される。このようにすることで、空気供給部107は、フィルタ部123により異物が取り除かれた空気103aを取り込み、エアポンプ107bで次亜塩素酸水溶液106中に送ることができる。このため、次亜塩素酸水溶液106中への異物の混入を抑え、次亜塩素酸水溶液106に異物が蓄積することを抑制することができ、貯留部105からの排水設備を不要とすることができる。
 さらに、エアポンプ107bが混合部121の上流側に設置されることで、エアポンプ107bが内部風路124aを流通する次亜塩素酸ガスに曝される可能性が低くなり、次亜塩素酸ガスに起因するエアポンプ107bの腐食あるいは劣化を抑制することができる。
 (6)除菌装置102aでは、水供給部111は、内部風路124aのフィルタ部123の下流側かつ混合部121の上流側に設置される。このようにすることで、フィルタ部123により異物が取り除かれた空気から結露水112を取得できるため、貯留部105に供給する結露水112に含まれる異物を抑制することができる。このため、貯留部105内の次亜塩素酸水溶液106に異物が蓄積することを抑制することができ、貯留部105からの排水設備を不要とすることができる。
 さらに、水供給部111が混合部121の上流側に設置されることで、水供給部111が内部風路124aを流通する次亜塩素酸ガスに曝される可能性が低くなり、次亜塩素酸ガスに起因する水供給部111の腐食あるいは劣化を抑制することができる。
 以上、実施の形態に基づき本開示を説明したが、本開示は上記の実施の形態に何ら限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。
 実施の形態2に係る除菌装置102及び除菌装置102aでは、水供給部111として、ペルチェ素子111aを使用したが、これに限られない。例えば、ヒートポンプ装置を水供給部111として使用してもよい。このようにすることで、除菌装置自体は大型化するものの、より多くの結露水112を小さな消費電力で取得できるという効果を享受することができる。
 また、実施の形態2に係る除菌装置102及び除菌装置102aでは、塩化物を電気分解することで次亜塩素酸水溶液106に次亜塩素酸を供給したが、これに限られない。例えば、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムなどの有機系塩素薬剤を次亜塩素酸水溶液106に供給することで、次亜塩素酸水溶液106に次亜塩素酸を供給するようにしてもよい。こうした構成によれば、電極114を用いることなく次亜塩素酸を供給できるので、装置の低消費電力化を図ることができる。
 また、実施の形態2に係る除菌装置102及び除菌装置102aでは、次亜塩素酸水溶液106の濃度を計測するセンサを備え、センサの出力に応じて次亜生成部120を制御するようにしてもよい。具体的には、センサの出力する次亜塩素酸水溶液106の濃度が規定値を下回ると、次亜生成部120を動作させ、センサの出力する次亜塩素酸水溶液106の濃度が規定値となったら次亜生成部120を停止するように制御する。これにより、次亜塩素酸水溶液106の濃度をより確実に一定の範囲内に制御することができる。
 また、本実施の形態に係る除菌装置102及び除菌装置102aでは、ステップS04において、給水運転として水供給部111から結露水112のみを貯留部105に供給するようにしたが、これに限られない。例えば、貯留部105に供給された結露水112が、次亜塩素酸を含んだ供給水に相当する状態となるようにしてもよい。具体的には、水供給部111による結露水112の供給を行う場合に、貯留部105に供給される水量(水位L11と水位L12の差分の水量)の結露水112を所定の濃度の次亜塩素酸水溶液にするのに必要な塩化物水溶液115を塩化物供給部113から供給する。そして、電極114によって、塩化物供給部113から供給した塩化物水溶液115を次亜塩素酸にするのに必要な時間、電気分解を実行する。これにより、ステップS05において、次亜塩素酸水溶液106の水位が満水時の水位L14となった際には、所定の濃度の次亜塩素酸を含んだ供給水が供給されたことになる。つまり、ステップS02の標準運転に戻った際には、所定の濃度範囲となった次亜塩素酸水溶液106とすることができる。したがって、上記のように制御した除菌装置102及び除菌装置102aでは、個室空間101に対して、安定した濃度の次亜塩素酸を含む空気104を放出することができる。
 また、実施の形態2-1に係る除菌装置102では、水供給部111は、外部(個室空間101)の空気103に含まれる水分を冷却し、貯留部105内の次亜塩素酸水溶液106に結露水112として供給するように構成したが、これに限られない。例えば、水供給部111を貯留部105の内部空間105aに設け、内部空間105a内の空気に含まれる水分を冷却し、結露水112として供給するようにしてもよい。このようにしても上述した効果を享受することができる。
 また、実施の形態2に係る除菌装置102及び除菌装置102aでは、次亜塩素酸水溶液106に気泡108を流通させ、次亜塩素酸を含む空気104として放出したが、これに限られない。変形例では、例えば、貯留部105に貯留する溶液として、クロラス酸水、オゾン水または過酸化水素水等の除菌成分を含む薬液を用い、気泡108が除菌成分を含む薬液を流通する過程で、気泡108に塩素ガス、オゾンガスまたは過酸化水素ガス等の除菌成分を含むガスを含ませ、空気104として放出するようにしてもよい。このようにしても、個室空間101の除菌をおこなうことができる。
 本開示の実施の形態に係る除菌装置では、装置を大型化することなく自動給水を可能とし、対象空間に次亜塩素酸を放出することができるので、個室空間などを除菌する装置として有用である。
 1  個室空間
 2  除菌装置
 2a  除菌装置
 2b  除菌装置
 3  空気
 4  空気
 5  貯留部
 5a  内部空間
 6  次亜塩素酸水溶液
 7  空気供給部
 7a  エアストーン
 7b  エアポンプ
 7c  エアチューブ
 8  気泡
 9  空気放出部
 9a  放出口
 10  エリミネータ
 11  水供給部
 11a  ペルチェ素子
 11b1  ヒートシンク
 11b2  ヒートシンク
 11c  放熱ファン
 11d  ガイド
 12  結露水
 13  塩化物供給部
 13a  塩化物タンク
 13b  塩化物ポンプ
 13c  チューブ
 14  電極
 15  塩化物水溶液
 15a  次亜塩素酸水原液
 16  水位センサ
 16a  満水センサ
 16b  渇水センサ
 20  次亜塩素酸水調整部
 21  開閉部
 23  次亜塩素酸水供給部
 23a  次亜塩素酸水タンク
 23b  次亜塩素酸水ポンプ
 23c  チューブ
 101  個室空間
 102  除菌装置
 102a  除菌装置
 103  空気
 103a  空気
 103b  空気
 103c  空気
 104  空気
 105  貯留部
 105a  内部空間
 106  次亜塩素酸水溶液
 107  空気供給部
 107a  エアストーン
 107b  エアポンプ
 107c  エアチューブ
 108  気泡
 109  空気放出部
 109a  供給口
 110  エリミネータ
 111  水供給部
 111a  ペルチェ素子
 111b1  ヒートシンク
 111b2  ヒートシンク
 111c  放熱ファン
 111d  ガイド
 112  結露水
 113  塩化物供給部
 113a  塩化物タンク
 113b  塩化物ポンプ
 113c  チューブ
 114  電極
 115  塩化物水溶液
 116  水位センサ
 116a  満水センサ
 116b  渇水センサ
 117  筐体
 117a  筐体
 118  吸込部
 118a  吸込部
 119  吹出部
 120  次亜生成部
 121  混合部
 122  送風部
 123  フィルタ部
 124  内部風路
 124a  内部風路

Claims (13)

  1.  内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、
     外部の空気を吸い込み、前記次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、
     前記次亜塩素酸水溶液内を浮上した前記気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として前記外部に放出する空気放出部と、
     空気に含まれる水分を冷却し、前記貯留部に結露水として供給する水供給部と、
     前記貯留部に貯留される前記次亜塩素酸水溶液を前記所定の濃度に調整する次亜塩素酸水調整部と、
    を備える、除菌装置。
  2.  前記次亜塩素酸水調整部は、塩化物水溶液を貯留するタンクと、前記タンクから前記貯留部に前記塩化物水溶液を送出するポンプと、前記ポンプから送出された前記塩化物水溶液を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極と、を有して構成される、請求項1に記載の除菌装置。
  3.  前記水供給部は、前記貯留部に貯留される前記次亜塩素酸水溶液が規定量減少した場合に、前記貯留部に前記結露水を供給する、請求項1または2に記載の除菌装置。
  4.  前記次亜塩素酸水調整部は、前記貯留部に貯留される前記次亜塩素酸水溶液を一定時間ごとに前記所定の濃度に調整する、請求項1または2に記載の除菌装置。
  5.  前記空気放出部の放出口を開閉可能に構成された開閉部をさらに備え、
     前記開閉部は、前記空気供給部による前記気泡の供給が停止した場合に、前記放出口を閉塞する、請求項1~4のいずれか一項に記載の除菌装置。
  6.  前記次亜塩素酸水調整部は、次亜塩素酸水原液を貯留するタンクと、前記タンクから前記貯留部に前記次亜塩素酸水原液を送出するポンプと、を有して構成される、請求項1に記載の除菌装置。
  7.  前記水供給部は、前記貯留部に貯留される前記次亜塩素酸水溶液が規定量減少した場合に、前記貯留部に対して、前記次亜塩素酸水調整部による前記次亜塩素酸水原液の供給に合わせて前記結露水を供給する、請求項6に記載の除菌装置。
  8.  内部に所定の濃度の次亜塩素酸水溶液を貯留する貯留部と、
     外部の空気を吸い込み、前記次亜塩素酸水溶液に気泡として供給する空気供給部と、
     前記次亜塩素酸水溶液内を浮上した前記気泡を、次亜塩素酸ガスを含む空気として放出する空気放出部と、
     前記外部の空気に含まれる水分を冷却し、前記貯留部に結露水として供給する水供給部と、
     前記貯留部に貯留される前記次亜塩素酸水溶液を前記所定の濃度に調整する次亜生成部と、
     前記空気放出部から放出される前記次亜塩素酸ガスを含む空気及び前記外部の空気を混合する混合部と、
     前記混合部において混合された混合空気を前記外部に吹き出す吹出部と、
    を備える、除菌装置。
  9.  前記外部の空気を吸い込む吸込部をさらに備え、
     前記空気供給部は、前記吸込部から吸い込んだ前記外部の空気の一部分を吸い込み、前記次亜塩素酸水溶液に気泡として供給し、
     前記混合部は、前記空気放出部から放出される前記次亜塩素酸ガスを含む空気及び前記外部の空気の残りの部分を混合する、請求項8に記載の除菌装置。
  10.  前記混合部と連通する空気風路内に設けられ、前記外部の空気を、前記空気風路を流通させて前記混合部に送出する送風部と、
     前記空気風路内に設けられ、前記空気風路を流通する前記空気に含まれる異物を除去するフィルタ部と、
    をさらに備え、
     前記送風部は、前記フィルタ部の下流側かつ前記混合部の上流側に設置される、請求項9に記載の除菌装置。
  11.  前記空気供給部は、前記空気風路を流通する前記外部の空気の一部分を吸い込むエアポンプを有して構成され、
     前記エアポンプは、前記フィルタ部の下流側かつ前記混合部の上流部に設置される、請求項9または10に記載の除菌装置。
  12.  前記水供給部は、前記空気風路内の前記フィルタ部の下流側かつ前記混合部の上流側に設置される、請求項9~11のいずれか一項に記載の除菌装置。
  13.  前記次亜生成部は、塩化物水溶液を貯留するタンクと、前記タンクから前記貯留部に前記塩化物水溶液を送出するポンプと、前記ポンプから送出された前記塩化物水溶液を電気分解することで次亜塩素酸を生成する電極と、を有して構成される、請求項8~12のいずれか一項に記載の除菌装置。
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