WO2022224317A1

WO2022224317A1 - 吸引装置、基材、制御方法及びプログラム

Info

Publication number: WO2022224317A1
Application number: PCT/JP2021/015905
Authority: WO
Inventors: 泰弘小野; 和俊芹田; 玲二朗川崎; 寛手塚
Original assignee: 日本たばこ産業株式会社
Priority date: 2021-04-19
Filing date: 2021-04-19
Publication date: 2022-10-27
Also published as: KR20230128054A; US20230371602A1; CN116981372A; JPWO2022224317A1

Abstract

【課題】ユーザのパフ体験の質をさらに向上させることが可能な仕組みを提供する。【解決手段】交流電力を発生させる交流電力発生部と、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、を備える吸引装置。

Description

吸引装置、基材、制御方法及びプログラム

　本発明は、吸引装置、基材、制御方法及びプログラムに関する。

　電子タバコ及びネブライザ等の、ユーザに吸引される物質を生成する吸引装置が広く普及している。例えば、吸引装置は、エアロゾルを生成するためのエアロゾル源、及び生成されたエアロゾルに香味成分を付与するための香味源等を含む基材を用いて、香味成分が付与されたエアロゾルを生成する。ユーザは、吸引装置により生成された、香味成分が付与されたエアロゾルを吸引することで、香味を味わうことができる。ユーザがエアロゾルを吸引する動作を、以下ではパフ又はパフ動作とも称する。

　これまでは、加熱用ブレード等の外部熱源を用いる方式の吸引装置が主流であった。しかし近年では、コイルとして構成された電磁誘導源を用いてサセプタを誘導加熱することでエアロゾルを生成する、誘導加熱式の吸引装置が注目を集めている。例えば、下記特許文献１では、誘導加熱式の吸引装置において、コイルに供給する電力パルスの時間間隔を制御することで、サセプタの温度を制御する技術が開示されている。

特表２０２０－５２５０１４号公報

　しかし、上記特許文献１に記載された技術は、コイルへの給電を時間方向で制御するものに過ぎなかった。そのため、ユーザのパフ体験の質には向上の余地が残されていた。

　そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ユーザのパフ体験の質をさらに向上させることが可能な仕組みを提供することにある。

　上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、交流電力を発生させる交流電力発生部と、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、を備える吸引装置が提供される。

　スイッチは、複数の動作状態のうちいずれか１つの状態で動作し、複数の前記動作状態は、規定の電圧で前記交流電力を前記電磁誘導源に供給するオン状態、及び前記交流電力を前記電磁誘導源に供給しないオフ状態を含み、前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態である期間において、残りの全ての前記スイッチを前記オフ状態にしてもよい。

　前記制御部は、複数の前記スイッチの全てをオフ状態にする期間を設けてもよい。

　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態又は前記減衰状態である期間において、残りの全ての前記スイッチをオフ状態にしてもよい。

　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記減衰状態である期間であって、前記減衰状態にある前記スイッチに対応する前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が第２の閾値以下になったタイミングで、他の前記スイッチを前記オン状態にしてもよい。

　前記スイッチは、ＦＥＴ（Field effect transistor）であり、前記オン状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可された状態であり、前記オフ状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れていない状態であり、前記減衰状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れている状態であってもよい。

　前記収容部は、前記内部空間を外部に連通する開口を有し、前記開口から前記内部空間に挿入された前記基材を収容し、前記複数の前記電磁誘導源の各々は、前記基材が挿入される方向において異なる位置に配置されてもよい。

　前記制御部は、単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が高い高加熱モード、前記単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が低い低加熱モード、又は前記単位時間の全てを前記オフ状態で動作する時間が占める非加熱モードのいずれか１つの動作モードで動作するよう複数の前記スイッチの各々を制御してもよい。

　前記制御部は、複数の前記電磁誘導源のうち、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、時間経過に応じて切り替えてもよい。

　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、前記開口から最も近くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチから、前記開口から最も遠くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチにかけて順番に切り替えてもよい。

　前記制御部は、前記高加熱モードで動作した後の前記スイッチを、前記低加熱モードで動作させてもよい。

　前記高加熱モードで動作した後、前記低加熱モードで動作する前記スイッチに対応する前記電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は、前記エアロゾルが凝縮しない温度以上の温度であってもよい。

　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える際に、前記第１のスイッチの前記低加熱モードでの動作を開始させてから所定時間経過後に、前記第２のスイッチの前記高加熱モードでの動作を開始させてもよい。

　前記所定時間において、前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は低下してもよい。

　前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源による誘導加熱よりエアロゾルが発生している間に、前記第２のスイッチに対応する第２の電磁誘導源による誘導加熱によりエアロゾルが発生するように、前記所定時間が設定されてもよい。

　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記非加熱モードで動作させてもよい。

　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記低加熱モードで動作させてもよい。

　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、交流電力を発生させる交流電力発生部と、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、を有する吸引装置の前記収容部に収容され、前記エアロゾル源と、前記エアロゾル源に熱的に近接する前記サセプタと、を備える基材が提供される。

　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、吸引装置を制御するための制御方法であって、前記吸引装置は、交流電力を発生させる交流電力発生部と、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、を有し、前記制御方法は、複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、を含む、制御方法が提供される。

　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、吸引装置を制御するコンピュータに実行させるためのプログラムであって、前記吸引装置は、交流電力を発生させる交流電力発生部と、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、を有し、前記プログラムは、複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、を実行させるプログラムが提供される。

　以上説明したように本発明によれば、ユーザのパフ体験の質をさらに向上させることが可能な仕組みが提供される。

吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。本実施形態に係る吸引装置１００による誘導加熱に関与する構成を示すブロック図である。本実施形態に係る吸引装置１００による誘導加熱に関与する回路の等価回路を示す図である。本実施形態に係るスイッチ１６４の動作モードを説明するための図である。表１に示した加熱プロファイルに基づき誘導加熱されたサセプタ１６１の実温度の時系列推移の一例を示すグラフである。第１昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。途中降温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。第２昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。本実施形態に係る吸引装置１００により実行される処理の流れの一例を示すフローチャートである。第２昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の他の一例を説明するための図である。表２に示した加熱プロファイルに基づき誘導加熱されたサセプタ１６１の実温度の時系列推移の一例を示すグラフである。第１昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。途中降温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。

　以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

　＜１．吸引装置の構成例＞
　本構成例に係る吸引装置は、エアロゾル源を含む基材を、誘導加熱（ＩＨ（Induction　Heating））により加熱することで、エアロゾルを生成する。以下、図１を参照しながら、本構成例を説明する。

　図１は、吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。図１に示すように、本構成例に係る吸引装置１００は、電源部１１１、センサ部１１２、通知部１１３、記憶部１１４、通信部１１５、制御部１１６、サセプタ１６１、電磁誘導源１６２、及び保持部１４０を含む。保持部１４０にスティック型基材１５０が保持された状態で、ユーザによる吸引が行われる。以下、各構成要素について順に説明する。

　電源部１１１は、電力を蓄積する。そして、電源部１１１は、吸引装置１００の各構成要素に、電力を供給する。電源部１１１は、例えば、リチウムイオン二次電池等の充電式バッテリにより構成され得る。電源部１１１は、ＵＳＢ（Universal　Serial　Bus）ケーブル等により外部電源に接続されることで、充電されてもよい。また、電源部１１１は、ワイヤレス電力伝送技術により送電側のデバイスに非接続な状態で充電されてもよい。他にも、電源部１１１のみを吸引装置１００から取り外すことができてもよく、新しい電源部１１１と交換することができてもよい。

　センサ部１１２は、吸引装置１００に関する各種情報を検出する。そして、センサ部１１２は、検出した情報を制御部１１６に出力する。一例として、センサ部１１２は、コンデンサマイクロホン等の圧力センサ、流量センサ又は温度センサにより構成される。そして、センサ部１１２は、ユーザによる吸引に伴う数値を検出した場合に、ユーザによる吸引が行われたことを示す情報を制御部１１６に出力する。他の一例として、センサ部１１２は、ボタン又はスイッチ等の、ユーザからの情報の入力を受け付ける入力装置により構成される。とりわけ、センサ部１１２は、エアロゾルの生成開始／停止を指示するボタンを含み得る。そして、センサ部１１２は、ユーザにより入力された情報を制御部１１６に出力する。他の一例として、センサ部１１２は、サセプタ１６１の温度を検出する温度センサにより構成される。かかる温度センサは、例えば、電磁誘導源１６２の電気抵抗値に基づいてサセプタ１６１の温度を検出する。センサ部１１２は、サセプタ１６１の温度に基づいて、保持部１４０により保持されたスティック型基材１５０の温度を検出してもよい。

　通知部１１３は、情報をユーザに通知する。一例として、通知部１１３は、ＬＥＤ（Light　Emitting　Diode）などの発光装置により構成される。その場合、通知部１１３は、電源部１１１の状態が要充電である場合、電源部１１１が充電中である場合、及び吸引装置１００に異常が発生した場合等に、それぞれ異なる発光パターンで発光する。ここでの発光パターンとは、色、及び点灯／消灯のタイミング等を含む概念である。通知部１１３は、発光装置と共に、又は代えて、画像を表示する表示装置、音を出力する音出力装置、及び振動する振動装置等により構成されてもよい。他にも、通知部１１３は、ユーザによる吸引が可能になったことを示す情報を通知してもよい。ユーザによる吸引が可能になったことを示す情報は、電磁誘導により発熱したスティック型基材１５０の温度が所定の温度に達した場合に、通知される。

　記憶部１１４は、吸引装置１００の動作のための各種情報を記憶する。記憶部１１４は、例えば、フラッシュメモリ等の不揮発性の記憶媒体により構成される。記憶部１１４に記憶される情報の一例は、制御部１１６による各種構成要素の制御内容等の、吸引装置１００のＯＳ（Operating　System）に関する情報である。記憶部１１４に記憶される情報の他の一例は、吸引回数、吸引時刻、吸引時間累計等の、ユーザによる吸引に関する情報である。

　通信部１１５は、吸引装置１００と他の装置との間で情報を送受信するための、通信インタフェースである。通信部１１５は、有線又は無線の任意の通信規格に準拠した通信を行う。かかる通信規格としては、例えば、無線ＬＡＮ（Local　Area　Network）、有線ＬＡＮ、Ｗｉ－Ｆｉ（登録商標）、又はＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）等が採用され得る。一例として、通信部１１５は、ユーザによる吸引に関する情報をスマートフォンに表示させるために、ユーザによる吸引に関する情報をスマートフォンに送信する。他の一例として、通信部１１５は、記憶部１１４に記憶されているＯＳの情報を更新するために、サーバから新たなＯＳの情報を受信する。

　制御部１１６は、演算処理装置及び制御装置として機能し、各種プログラムに従って吸引装置１００内の動作全般を制御する。制御部１１６は、例えばＣＰＵ（Central　Processing　Unit）、及びマイクロプロセッサ等の電子回路によって実現される。他に、制御部１１６は、使用するプログラム及び演算パラメータ等を記憶するＲＯＭ（Read　Only　Memory）、並びに適宜変化するパラメータ等を一時記憶するＲＡＭ（Random　Access　Memory）を含んでいてもよい。吸引装置１００は、制御部１１６による制御に基づいて、各種処理を実行する。電源部１１１から他の各構成要素への給電、電源部１１１の充電、センサ部１１２による情報の検出、通知部１１３による情報の通知、記憶部１１４による情報の記憶及び読み出し、並びに通信部１１５による情報の送受信は、制御部１１６により制御される処理の一例である。各構成要素への情報の入力、及び各構成要素から出力された情報に基づく処理等、吸引装置１００により実行されるその他の処理も、制御部１１６により制御される。

　保持部１４０は、内部空間１４１を有し、内部空間１４１にスティック型基材１５０の一部を収容しながらスティック型基材１５０を保持する。保持部１４０は、内部空間１４１を外部に連通する開口１４２を有し、開口１４２から内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を保持する。例えば、保持部１４０は、開口１４２及び底部１４３を底面とする筒状体であり、柱状の内部空間１４１を画定する。保持部１４０は、筒状体の高さ方向の少なくとも一部において、内径がスティック型基材１５０の外径よりも小さくなるように構成され、内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を外周から圧迫するようにしてスティック型基材１５０を保持し得る。保持部１４０は、スティック型基材１５０を通る空気の流路を画定する機能も有する。かかる流路内への空気の入り口である空気流入孔は、例えば底部１４３に配置される。他方、かかる流路からの空気の出口である空気流出孔は、開口１４２である。

　スティック型基材１５０は、スティック型の部材である。スティック型基材１５０は、基材部１５１、及び吸口部１５２を含む。

　基材部１５１は、エアロゾル源を含む。エアロゾル源は、加熱されることで霧化され、エアロゾルが生成される。エアロゾル源は、例えば、刻みたばこ又はたばこ原料を、粒状、シート状、又は粉末状に成形した加工物などの、たばこ由来のものであってもよい。また、エアロゾル源は、たばこ以外の植物（例えばミント及びハーブ等）から作られた、非たばこ由来のものを含んでいてもよい。一例として、エアロゾル源は、メントール等の香料成分を含んでいてもよい。吸引装置１００が医療用吸入器である場合、エアロゾル源は、患者が吸入するための薬剤を含んでもよい。なお、エアロゾル源は固体に限られるものではなく、例えば、グリセリン及びプロピレングリコール等の多価アルコール、並びに水等の液体であってもよい。基材部１５１の少なくとも一部は、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態において、保持部１４０の内部空間１４１に収容される

　吸口部１５２は、吸引の際にユーザに咥えられる部材である。吸口部１５２の少なくとも一部は、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態において、開口１４２から突出する。そして、開口１４２から突出した吸口部１５２をユーザが咥えて吸引すると、図示しない空気流入孔から保持部１４０の内部に空気が流入する。流入した空気は、保持部１４０の内部空間１４１を通過して、すなわち、基材部１５１を通過して、基材部１５１から発生するエアロゾルと共に、ユーザの口内に到達する。

　さらに、スティック型基材１５０は、サセプタ１６１を含む。サセプタ１６１は、電磁誘導により発熱する。サセプタ１６１は、金属等の導電性の素材により構成される。一例として、サセプタ１６１は、板状に構成される。そして、サセプタ１６１は、サセプタ１６１の長手方向がスティック型基材１５０の長手方向に一致するように、配置される。

　ここで、サセプタ１６１は、エアロゾル源に熱的に近接して配置される。サセプタ１６１がエアロゾル源に熱的に近接しているとは、サセプタ１６１に発生した熱が、エアロゾル源に伝達される位置に、サセプタ１６１が配置されていることを指す。例えば、サセプタ１６１は、エアロゾル源と共に基材部１５１に含有され、エアロゾル源により周囲を囲まれる。かかる構成により、サセプタ１６１から発生した熱を、効率よくエアロゾル源の加熱に使用することが可能となる。

　なお、サセプタ１６１には、スティック型基材１５０の外部から接触不可能であってもよい。例えば、サセプタ１６１は、スティック型基材１５０の中心部分に分布し、外周付近には分布していなくてもよい。

　電磁誘導源１６２は、電磁誘導によりサセプタ１６１を発熱させる。電磁誘導源１６２は、例えば、コイル状の導線により構成され、保持部１４０の外周に巻き付くように配置される。電磁誘導源１６２は、電源部１１１から交流電流が供給されると、磁界を発生させる。電磁誘導源１６２は、発生させた磁界に保持部１４０の内部空間１４１が重畳する位置に配置される。よって、保持部１４０にスティック型基材１５０が保持された状態で磁界が発生すると、サセプタ１６１において渦電流が発生して、ジュール熱が発生する。そして、かかるジュール熱によりスティック型基材１５０に含まれるエアロゾル源が加熱されて霧化され、エアロゾルが生成される。一例として、所定のユーザ入力が行われたことがセンサ部１１２により検出された場合に、給電され、エアロゾルが生成されてもよい。サセプタ１６１及び電磁誘導源１６２により誘導加熱されたスティック型基材１５０の温度が所定の温度に達した場合に、ユーザによる吸引が可能となる。その後、所定のユーザ入力が行われたことがセンサ部１１２により検出された場合に、給電が停止されてもよい。他の一例として、ユーザによる吸引が行われたことがセンサ部１１２により検出されている期間において、給電され、エアロゾルが生成されてもよい。

　なお、図１では、サセプタ１６１が、スティック型基材１５０の基材部１５１に含まれる例を示したが、本構成例はかかる例に限定されない。例えば、保持部１４０が、サセプタ１６１の機能を担っても良い。この場合、電磁誘導源１６２が発生させた磁界によって、保持部１４０において渦電流が発生して、ジュール熱が発生する。そして、かかるジュール熱によりスティック型基材１５０に含まれるエアロゾル源が加熱されて霧化され、エアロゾルが生成される。

　なお、吸引装置１００とスティック型基材１５０とを組み合わせることでエアロゾルを生成可能になる点で、吸引装置１００とスティック型基材１５０との組み合わせが１つのシステムとして捉えられてもよい。

　＜２．誘導加熱＞
　誘導加熱について、以下に詳細に説明する。

　誘導加熱とは、導電性を有する物体に変動磁場を侵入させることによって、その物体を加熱するプロセスである。誘導加熱には、変動磁場を発生させる磁場発生器と、変動磁場に曝されることにより加熱される、導電性を有する被加熱物とが関与する。変動磁場の一例は、交番磁場である。図１に示した電磁誘導源１６２は、磁場発生器の一例である。図１に示したサセプタ１６１は、被加熱物の一例である。

　磁場発生器と被加熱物とが、磁場発生器から発生した変動磁場が被加熱物に侵入するような相対位置に配置された状態で、磁場発生器から変動磁場が発生すると、被加熱物に渦電流が誘起される。被加熱物に渦電流が流れることにより、被加熱物の電気抵抗に応じたジュール熱が発生し、被加熱物が加熱される。このような加熱は、ジュール加熱、オーム加熱、又は抵抗加熱とも称される。

　被加熱物は、磁性を有していてもよい。その場合、被加熱物は、磁気ヒステリシス加熱によりさらに加熱される。磁気ヒステリシス加熱とは、磁性を有する物体に変動磁場を侵入させることによって、その物体を加熱するプロセスである。磁場が磁性体に侵入すると、磁性体に含まれる磁気双極子が磁場に沿って整列する。従って、変動磁場が磁性体に侵入すると、磁気双極子の向きは、印可された変動磁場に応じて変化する。このような磁気双極子の再配向によって、磁性体に熱が発生し、被加熱物が加熱される。

　磁気ヒステリシス加熱は、典型的には、キュリー点以下の温度で発生し、キュリー点を超える温度では発生しない。キュリー点とは、磁性体がその磁気特性を失う温度である。例えば、キュリー点以下の温度で強磁性を有する被加熱物の温度がキュリー点を超えると、被加熱物の磁性には、強磁性から常磁性への可逆的な相転移が生じる。被加熱物の温度がキュリー点を超えると、磁気ヒステリシス加熱が発生しなくなるので、昇温速度が鈍化する。

　被加熱物は、導電性の材料により構成されることが望ましい。さらに、被加熱物は、強磁性を有する材料により構成されることが望ましい。後者の場合、抵抗加熱と磁気ヒステリシス加熱との組み合わせにより、加熱効率を高めることが可能なためである。例えば、被加熱物は、アルミニウム、鉄、ニッケル、コバルト、導電性炭素、銅、及びステンレス鋼などを含む素材群から選択される１以上の素材により構成される。

　抵抗加熱、及び磁気ヒステリシス加熱の双方において、熱は、外部熱源からの熱伝導により発生するのではなく、被加熱物の内部で発生する。そのため、被加熱物の急速な温度上昇、及び均一な熱分布を実現することができる。これは、被加熱物の材料及び形状、並びに変動磁場の大きさ及び向きを適切に設計することにより、実現することができる。即ち、スティック型基材１５０に含まれるサセプタ１６１の分布を適切に設計することにより、スティック型基材１５０の急速な温度上昇、及び均一な熱分布を実現することができる。従って、予備加熱にかかる時間を短縮可能な上に、ユーザが味わう香味の質を向上させることも可能である。

　誘導加熱は、スティック型基材１５０に含まれるサセプタ１６１を直接加熱するため、外部熱源によりスティック型基材１５０を外周等から加熱する場合と比較して、基材を効率的に加熱することが可能である。また、外部熱源による加熱を行う場合、外部熱源は必然的にスティック型基材１５０よりも高温になる。一方で、誘導加熱を行う場合、電磁誘導源１６２はスティック型基材１５０よりも高温にならない。そのため、外部熱源を用いる場合と比較して吸引装置１００の温度を低く維持することができるので、ユーザの安全面に関し大きな利点となる。

　電磁誘導源１６２は、電源部１１１から供給された電力を使用して変動磁場を発生させる。一例として、電源部１１１は、ＤＣ（Direct　Current）電源であってもよい。その場合、電源部１１１は、ＤＣ／ＡＣ（Alternate　Current）インバータを介して、交流電力を電磁誘導源１６２に供給する。その場合、電磁誘導源１６２は、交番磁場を発生させることができる。

　電磁誘導源１６２は、保持部１４０により保持されたスティック型基材１５０に含有されたエアロゾル源に熱的に近接して配置されたサセプタ１６１に、電磁誘導源１６２から発生した変動磁場が侵入する位置に配置される。そして、サセプタ１６１は、変動磁場が侵入した場合に発熱する。図１に示した電磁誘導源１６２は、ソレノイド型のコイルである。そして、当該ソレノイド型のコイルは、導線が保持部１４０の外周に巻き付くように配置される。ソレノイド型のコイルに電流が印可された場合、コイルにより囲まれる中央の空間、即ち保持部１４０の内部空間１４１に磁場が発生する。図１に示すように、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態では、サセプタ１６１は、コイルにより囲まれることとなる。そのため、電磁誘導源１６２から発生した変動磁場は、サセプタ１６１に侵入し、サセプタ１６１を誘導加熱する。

　＜３．技術的特徴＞
　（１）詳細な内部構成
　本実施形態に係る誘導加熱に関与する構成について、図２を参照しながら詳しく説明する。図２は、本実施形態に係る吸引装置１００による誘導加熱に関与する構成を示すブロック図である。

　図２に示すように、吸引装置１００は、電磁誘導源１６２（１６２Ａ及び１６２Ｂ）、インバータ回路１６３、及びスイッチ１６４（１６４Ａ及び１６４Ｂ）を含む駆動回路１６９を備える。駆動回路１６９とは、変動磁場を発生させるための回路である。駆動回路１６９は、整合回路等の他の回路をさらに備えていてもよい。駆動回路１６９は、電源部１１１から供給された電力により動作する。

　電源部１１１は、ＤＣ（Direct　Current）電源である。電源部１１１は、直流電力を供給する。

　インバータ回路１６３は、直流電力を交流電力に変換する、ＤＣ／ＡＣ（Alternate　Current）インバータである。一例として、インバータ回路１６３は、１つ以上のスイッチング素子を有する、ハーフブリッジインバータ又はフルブリッジインバータとして構成される。スイッチング素子としては、ＭＯＳＦＥＴ（Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor）及びＩＧＢＴ（Insulated Gate Bipolar Transistor）等が挙げられる。電源部１１１及びインバータ回路１６３は、交流電力を発生させる交流電力発生部の一例である。

　保持部１４０は、エアロゾル源を含有する基材であるスティック型基材１５０、及びエアロゾル源に熱的に近接するサセプタ１６１を内部空間に収容可能な収容部の一例である。図２に示すように、スティック型基材１５０は、複数のサセプタ１６１（１６１Ａ及び１６１Ｂ）を有していてもよい。サセプタ１６１Ａ及びサセプタ１６１Ｂの各々は、例えば板状に構成され、スティック型基材１５０の長手方向において異なる位置に配置される。

　なお、保持部１４０及び内部空間１４１のうち、底部１４３に近い側を上流とも称し、開口１４２に近い側を下流とも称する。パフが行われた際に、上流から下流に向けての空気流が発生するためである。

　図２に示すように、吸引装置１００は、複数の電磁誘導源１６２（１６２Ａ及び１６２Ｂ）を有する。複数の電磁誘導源１６２の各々は、インバータ回路１６３から供給された交流電力を使用して内部空間１４１に変動磁場を発生させる。ここで、複数の電磁誘導源１６２の各々は、スティック型基材１５０が挿入される方向において異なる位置に配置される。スティック型基材１５０が挿入される方向とは、開口１４２から底部１４３に向かう方向であり、典型的には内部空間１４１の長手方向である。複数の電磁誘導源１６２の各々は、保持部１４０にスティック型基材１５０が保持（即ち、収容）された状態において複数のサセプタ１６１の各々に対応する位置に、配置される。具体的には、保持部１４０にスティック型基材１５０が保持された状態において、サセプタ１６１Ａは電磁誘導源１６２Ａにより囲まれ、サセプタ１６１Ｂは電磁誘導源１６２Ｂにより囲まれる。そのため、電磁誘導源１６２Ａはサセプタ１６１Ａを誘導加熱し、電磁誘導源１６２Ｂはサセプタ１６１Ｂを誘導加熱することができる。

　図２に示すように、吸引装置１００は、複数の電磁誘導源１６２の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチ１６４（１６４Ａ及び１６４Ｂ）を有する。スイッチ１６４Ａは、インバータ回路１６３と電磁誘導源１６２Ａとの間に配置される。そして、スイッチ１６４Ａは、電磁誘導源１６２Ａとインバータ回路１６３とを電気的に接続し、又は切断する。また、スイッチ１６４Ｂは、インバータ回路１６３と電磁誘導源１６２Ｂとの間に配置される。そして、スイッチ１６４Ｂは、電磁誘導源１６２Ｂとインバータ回路１６３とを電気的に接続し、又は切断する。これにより、吸引装置１００は、サセプタ１６１Ａ又はサセプタ１６１Ｂの少なくともいずれか１つを、選択的に誘導加熱することが可能となる。

　制御部１１６は、電磁誘導源１６２による誘導加熱を制御する。具体的には、制御部１１６は、電磁誘導源１６２への給電を制御する。例えば、制御部１１６は、電源部１１１から駆動回路１６９に供給される直流電力の情報に基づいて、サセプタ１６１の温度を推定する。そして、制御部１１６は、推定したサセプタ１６１の温度に基づいて、電磁誘導源１６２への給電を制御する。例えば、制御部１１６は、後述する加熱プロファイルに従ってサセプタ１６１の温度が推移するように、電磁誘導源１６２への給電を制御する。

　制御対象の一例は、電源部１１１から駆動回路１６９に供給される直流電力の電圧である。制御対象の他の一例は、インバータ回路１６３におけるスイッチング周期である。制御対象の他の一例は、複数のスイッチ１６４の各々の動作である。

　サセプタ１６１の温度を推定する方法を、図３を参照しながら簡単に説明する。

　図３は、本実施形態に係る吸引装置１００による誘導加熱に関与する回路の等価回路を示す図である。図３に示す見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａは、電源部１１１から駆動回路１６９に供給される直流電力の電流値Ｉ_ＤＣ及び電圧値Ｖ_ＤＣにより計算される、駆動回路１６９を含む閉回路の電気抵抗値である。図３に示すように、見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａは、駆動回路１６９の電気抵抗値Ｒ_Ｃとサセプタ１６１の電気抵抗値Ｒ_Ｓとによって形成される直列接続に相当する。見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａとサセプタ１６１の温度との間には、極めて単調な関係がある。例えば、吸引装置１００による誘導加熱によってサセプタ１６１が温度変化し得る範囲（例えば、０℃～４００℃等）内では、見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａとサセプタ１６１の温度との間には、実質的に線形の関係があり得る。そのため、制御部１１６は、電流値Ｉ_ＤＣ及び電圧値Ｖ_ＤＣに基づいて見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａを計算し、見かけの電気抵抗値Ｒ_Ａに基づいてサセプタ１６１の温度を推定することが可能である。

　（２）スイッチ１６４の制御
　制御部１１６は、複数のスイッチ１６４を制御して、複数の電磁誘導源１６２の少なくともいずれか１つに対し選択的に交流電力を供給する。これにより、複数のサセプタ１６１の少なくともいずれか１つを選択的に誘導加熱することが可能となる。

　スイッチ１６４は、ＦＥＴ（Field effect transistor）であってもよい。ＦＥＴは、ゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を有するトランジスタである。ゲート電極に印可する電圧を制御することで、ソース電極とドレイン電極との間を流れる電流を制御することができる。典型的には、ゲート電極に電圧が印可された場合に、ソース電極とドレイン電極との間に電流が流れる。他方、ゲート電極に電圧が印可されない場合に、ソース電極とドレイン電極との間に電流が流れない。

　スイッチ１６４は、複数の動作状態のうちいずれか１つの状態で動作する。複数の動作状態は、オン状態及びオフ状態を含む。オン状態は、規定の電圧で交流電力を電磁誘導源１６２に供給する動作状態である。具体的には、オン状態は、スイッチ１６４のゲート電極に電圧が印可された状態である。オフ状態は、交流電力を電磁誘導源１６２に供給しない動作状態である。具体的には、オフ状態は、スイッチ１６４のゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れていない状態である。

　ここで、オフ状態からオン状態への切り替えは、ゲート電極への電圧印可を開始した際に瞬時に行われる。他方、オン状態からオフ状態への切り替えには、ゲート電極への電圧印可を停止してから相当の時間がかかる。ゲート電極から電荷が抜けるまでに時間がかかるためである。

　つまり、スイッチ１６４の動作状態は、電磁誘導源１６２に供給される交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含む。減衰状態は、スイッチ１６４のゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れている状態である。換言すると、減衰状態は、ゲート電極への電圧の印可が停止されてから、ゲート電極から電荷が完全に抜けるまでの間の状態である。

　制御部１１６は、高加熱モード、低加熱モード、又は非加熱モードのいずれか１つの動作モードで動作するよう、複数のスイッチ１６４の各々を制御する。高加熱モードは、サセプタ１６１が高温になるよう、サセプタ１６１を誘導加熱する電磁誘導源１６２に対応するスイッチ１６４の動作状態を制御する動作モードである。低加熱モードは、サセプタ１６１が低温になるよう、サセプタ１６１を誘導加熱する電磁誘導源１６２に対応するスイッチ１６４の動作状態を制御する動作モードである。非加熱は、サセプタ１６１が加熱されないよう、サセプタ１６１を誘導加熱する電磁誘導源１６２に対応するスイッチ１６４の動作状態を制御する動作モードである。かかる構成によれば、スイッチ１６４の動作モードを制御することで、サセプタ１６１の温度を制御することが可能となる。これら動作モードについて、図４を参照しながら説明する。

　図４は、本実施形態に係るスイッチ１６４の動作モードを説明するための図である。グラフ１０Ａは、高加熱モードで動作するスイッチ１６４に対応する（即ち、接続された）電磁誘導源１６２に印可される電圧の時系列推移を示す。グラフ１０Ｂは、低加熱モードで動作するスイッチ１６４に対応する電磁誘導源１６２に印可される電圧の時系列推移を示す。グラフ１０Ｃは、非加熱モードで動作するスイッチ１６４に対応する電磁誘導源１６２に印可される電圧の時系列推移を示す。これらのグラフの横軸は、時間である。これらのグラフの縦軸は、電磁誘導源１６２に印可される、交流電力の電圧の実効値である。

　Ｔ_ＯＮは、スイッチ１６４がオン状態で動作する時間である。オン状態において、電磁誘導源１６２には規定の電圧ｖが印可される。Ｔ_ＯＦＦは、スイッチ１６４がオフ状態で動作する時間である。Ｔ_{ＤＥＣＡＹ}は、スイッチ１６４が減衰状態で動作する時間である。スイッチ１６４は、単位時間Ｔ_Ｃを周期として、グラフ１０Ａ～１０Ｃに示された電磁誘導源１６２への電圧の印可を繰り返す。

　グラフ１０Ａに示すように、高加熱モードは、単位時間Ｔ_Ｃのうちオン状態で動作する時間Ｔ_ＯＮが占める割合が高い動作モードである。詳しくは、高加熱モードにおいて単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合は、低加熱モードにおいて単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合よりも高い。また、単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合は、時間Ｔ_ＯＦＦが占める割合よりも高くてもよい。

　グラフ１０Ｂに示すように、低加熱モードは、単位時間Ｔ_Ｃのうちオン状態で動作する時間Ｔ_ＯＮが占める割合が低い動作モードである。詳しくは、低加熱モードにおいて単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合は、高加熱モードにおいて単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合よりも低い。また、単位時間Ｔ_Ｃのうち時間Ｔ_ＯＮが占める割合は、時間Ｔ_ＯＦＦが占める割合よりも低くてもよい。

　グラフ１０Ｃに示すように、非加熱モードは、単位時間Ｔ_Ｃの全てをオフ状態で動作する時間Ｔ_ＯＦＦが占める動作モードである。

　なお、時間Ｔ_ＯＮの始期における波形を参照すると、オフ状態からオン状態への切り替えの際には、電磁誘導源１６２に印可される電圧は略垂直に立ち上がっている。一方、時間Ｔ_{ＤＥＣＡＹ}における波形を参照すると、オン状態からオフ状態への切り替えの際には、電磁誘導源１６２に印可される電圧は右肩下がりになっている。

　（３）加熱プロファイルに応じたスイッチ１６４の制御
　吸引装置１００は、加熱プロファイルに基づいて、電磁誘導源１６２への給電を制御する。加熱プロファイルとは、サセプタ１６１の温度の目標値である目標温度の時系列推移が規定された情報である。吸引装置１００は、加熱プロファイルにおいて規定された目標温度の時系列推移と同様に、サセプタ１６１の実際の温度（以下、実温度とも称する）が推移するように、電磁誘導源１６２への給電を制御する。これにより、加熱プロファイルにより計画された通りにエアロゾルが生成される。加熱プロファイルは、典型的には、スティック型基材１５０から生成されるエアロゾルをユーザが吸引した際にユーザが味わう香味が最適になるように設計される。よって、加熱プロファイルに基づいて電磁誘導源１６２の動作を制御することにより、ユーザが味わう香味を最適にすることができる。

　加熱プロファイルは、加熱を開始してからの経過時間と、当該経過時間において到達するべき目標温度と、の組み合わせを、ひとつ以上含む。そして、制御部１１６は、現在の加熱を開始してからの経過時間に対応する加熱プロファイルにおける目標温度と、現在の実温度と、の乖離に基づいて、サセプタ１６１の温度を制御する。サセプタ１６１の温度制御は、例えば公知のフィードバック制御によって実現できる。フィードバック制御では、制御部１１６は、実温度と目標温度との差分等に基づいて、電磁誘導源１６２へ供給する電力を制御すればよい。フィードバック制御は、例えばＰＩＤ制御（Proportional-Integral-Differential　Controller）であってよい。若しくは、制御部１１６は、単純なＯＮ－ＯＦＦ制御を行ってもよい。例えば、制御部１１６は、実温度が目標温度に達するまで電磁誘導源１６２への給電を実行し、実温度が目標温度に達した場合に電磁誘導源１６２への給電を中断してもよい。

　スティック型基材１５０を用いてエアロゾルを生成する処理が開始してから終了するまでの時間区間、より詳しくは、電磁誘導源１６２が加熱プロファイルに基づいて動作する時間区間を、以下では加熱セッションとも称する。加熱セッションの始期は、加熱プロファイルに基づく加熱が開始されるタイミングである。加熱セッションの終期は、十分な量のエアロゾルが生成されなくなったタイミングである。加熱セッションは、前半の予備加熱期間、及び後半のパフ可能期間から成る。パフ可能期間とは、十分な量のエアロゾルが発生すると想定される期間である。予備加熱期間とは、加熱が開始されてからパフ可能期間が開始されるまでの期間である。予備加熱期間において行われる加熱は、予備加熱とも称される。

　吸引装置１００は、複数の電磁誘導源１６２を有する。そのため、本実施形態に係る加熱プロファイルは、複数のサセプタ１６１の各々の温度の目標値である目標温度の時系列推移が規定された情報である。加熱プロファイルの一例を、下記の表１に示す。

　図５は、表１に示した加熱プロファイルに基づき誘導加熱されたサセプタ１６１の実温度の時系列推移の一例を示すグラフである。本グラフの横軸は、時間（秒）である。本グラフの縦軸は、サセプタ１６１の温度である。線２１Ａは、サセプタ１６１Ａの実温度の時系列推移を示している。線２１Ｂは、サセプタ１６１Ｂの実温度の時系列推移を示している。図５に示すように、サセプタ１６１Ａ及び１６１Ｂの実温度は、加熱プロファイルにおいて規定された目標温度の時系列推移と同様に推移している。図５に示した例では、加熱開始からｔ_１秒後までの期間が予備加熱期間である。また、加熱開始後ｔ_１秒後からｔ_６秒後までの期間がパフ可能期間である。

　表１及び図５に示すように、サセプタ１６１Ａの温度は、第１昇温区間においてｔｍｐ_１℃まで上昇して維持され、途中降温区間においてｔｍｐ_２℃まで低下し、第２昇温区間においてｔｍｐ_２℃で維持される。他方、サセプタ１６１Ｂの温度は、第１昇温区間及び途中降温区間において初期温度に維持され、第２昇温区間においてｔｍｐ_１℃まで上昇して維持される。加熱終了区間においては、電磁誘導源１６２Ａ及び電磁誘導源１６２Ｂへの給電が停止され、各々の温度は低下する。初期温度とは、加熱開始前のサセプタ１６１の温度として想定される温度である。

　なお、各区間の時間長は、当該区間において行われたパフの回数に応じて短縮されてもよい。パフ回数が多くなるほど、エアロゾル源が消費されるスピードが速くなるためである。例えば、各区間は、当該区間において行われたパフの回数が所定値に達した場合に終了し、次の区間が開始されてもよい。

　（４）加熱プロファイルに応じたスイッチ１６４の制御
　吸引装置１００は、加熱プロファイルに基づいて、複数のスイッチ１６４の各々を制御する。表１に示した加熱プロファイルに基づく、スイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの制御について、図６～図８を参照しながら説明すする。

　図６は、第１昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。図７は、途中降温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。図８は、第２昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。これらの図において、グラフ３０Ａは、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａに印可される電圧の時系列推移を示す。グラフ３０Ｂは、スイッチ１６４Ｂに対応する電磁誘導源１６２Ｂに印可される電圧の時系列推移を示す。これらのグラフの横軸は、時間である。これらのグラフの縦軸は、電磁誘導源１６２に印可される、交流電力の電圧の実効値である。

　図６に示すように、第１の昇温区間においては、スイッチ１６４Ａは高加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_１まで上昇して維持される。一方で、第１の昇温区間においては、スイッチ１６４Ｂは非加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は初期温度で維持される。

　図７に示すように、途中降温区間においては、スイッチ１６４Ａは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_２まで降下する。一方で、途中降温区間においては、スイッチ１６４Ｂは非加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は初期温度で維持される。

　図８に示すように、第２昇温区間においては、スイッチ１６４Ａは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_２で維持される。一方で、第２の昇温区間においては、スイッチ１６４Ｂは高加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は温度ｔｍｐ_１まで上昇して維持される。

　ここで、制御部１１６は、複数の電磁誘導源１６２の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数のスイッチ１６４の各々を制御する。第１の閾値は、複数の電磁誘導源１６２の各々に印可される電圧の合計値が当該第１の閾値を超えた場合に、電源部１１１、インバータ回路１６３、及び制御部１１６等の各構成要素に過度な負荷がかかるおそれが生じる値として、設定される。かかる構成によれば、吸引装置１００に過度な負荷がかかることを防止することが可能となる。これにより、吸引装置１００の故障が未然に防止され、ユーザのパフ体験の質が向上される。

　以下、複数の電磁誘導源１６２の各々に印可される電圧の合計値を第１の閾値以下にするための具体的な処理について説明する。

　図６～図８に示すように、制御部１１６は、複数のスイッチ１６４のうちいずれか１つがオン状態である期間において、残りの全てのスイッチ１６４をオフ状態にする。詳しくは、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａがオン状態である期間において、スイッチ１６４Ｂをオフ状態にする。他方、制御部１１６は、スイッチ１６４Ｂがオン状態である期間において、スイッチ１６４Ａをオフ状態にする。かかる構成によれば、吸引装置１００に過度な負荷がかかることを防止することが可能となる。

　さらに、図６～図８に示すように、制御部１１６は、複数のスイッチ１６４のうちいずれか１つがオン状態又は減衰状態である期間において、残りの全てのスイッチ１６４をオフ状態にする。詳しくは、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａがオン状態又は減衰状態である期間において、スイッチ１６４Ｂをオフ状態にする。他方、制御部１１６は、スイッチ１６４Ｂがオン状態又は減衰状態である期間において、スイッチ１６４Ａをオフ状態にする。かかる構成によれば、減衰状態における電圧を加味して、吸引装置１００に過度な負荷がかかることをより確実に防止することが可能となる。

　図８に示すように、制御部１１６は、複数のスイッチ１６４の全てをオフ状態にする期間であるガード期間ＧＩを設けてもよい。ガード期間ＧＩは、複数のスイッチ１６４の各々の制御に誤差又は遅延が生じた場合のフェイルセーフとして機能する。即ち、複数のスイッチ１６４の各々の制御に誤差又は遅延が生じた場合であっても、ガード期間ＧＩにおいて複数の１６４の全てをオフ状態にすることができる。かかる構成によれば、吸引装置１００に過度な負荷がかかることを確実に防止することが可能となる。

　図６～図８に示すように、制御部１１６は、複数の電磁誘導源１６２のうち、高加熱モードで動作するスイッチ１６４を、時間経過に応じて切り替える。かかる構成によれば、スティック型基材１５０のうち加熱する部分を、時間経過に応じて切り替えることができる。従って、スティック型基材１５０の全体が一気に高温にならないので、スティック型基材１５０の寿命を長くすることができる。ここで、スティック型基材１５０の寿命とは、スティック型基材１５０に含有されたエアロゾル源が枯渇するまでの時間長である。なお、基材部１５１のうちサセプタ１６１Ａに近接する部分とサセプタ１６１Ｂに近接する部分とで、含有されるエアロゾル源及び香味源の種類又は量が異なっていてもよい。その場合、ユーザは、時間経過に応じて異なる香味を味わうことが可能となる。

　具体的には、制御部１１６は、高加熱モードで動作するスイッチ１６４を、開口１４２から最も近くに配置された電磁誘導源１６２Ａに対応するスイッチ１６４Ａから、開口１４２から最も遠くに配置された電磁誘導源１６２Ｂに対応するスイッチ１６４Ｂにかけて順番に切り替える。即ち、制御部１１６は、まずスイッチ１６４Ａを高加熱モードで動作させ、次いでスイッチ１６４Ｂを高加熱モードで動作させる。そのため、図５に示すように、サセプタ１６１Ａがまず高温になり、その後サセプタ１６１Ｂが高温になる。かかる構成によれば、基材部１５１の下流側から上流側の部分にかけて、順番にエアロゾル源が加熱されて、エアロゾルが発生することとなる。仮に、基材部１５１の上流側の部分が下流側の部分よりも先に加熱されると、上流側で発生したエアロゾルが下流側の部分を通過する際に冷却されて凝縮してしまうおそれがある。その場合、未だ加熱されていない基材部１５１の下流側の部分が湿ってしまい、基材部１５１の下流側の部分を加熱した際にユーザが味わう香味が劣化し得る。この点、かかる構成によれば、発生したエアロゾルが、基材部１５１のうち未加熱の部分を通過することがなくなる。よって、基材部１５１のうち未加熱の部分が湿ることを防止されるので、ユーザが味わう香味の劣化を防止することが可能となる。

　図６及び図７に示すように、制御部１１６は、高加熱モードで動作するスイッチを第１のスイッチ（即ち、スイッチ１６４Ａ）から（即ち、スイッチ１６４Ｂ）に切り替える前において、スイッチ１６４Ｂを非加熱モードで動作させる。かかる構成によれば、上流側のエアロゾル源を未加熱のまま維持することができる。よって、スティック型基材１５０の寿命を長くすることができる。

　図７及び図８に示すように、制御部１１６は、高加熱モードで動作した後のスイッチ１６４Ａを、低加熱モードで動作させる。仮に、スイッチ１６４Ａを非加熱モードで動作させると、電磁誘導源１６２Ａによる誘導加熱が無くなり基材部１５１の下流側の部分が過度に冷却されることになる。その場合、電磁誘導源１６２Ｂによる誘導加熱により上流側で生成されたエアロゾルが、基材部１５１の下流側の部分を通過する際に冷却されて凝縮してしまうおそれがある。その場合、基材部１５１の下流側の部分が湿ってしまい、ユーザが味わう香味が劣化し得る。この点、かかる構成によれば、電磁誘導源１６２Ａへの給電を微量ながら継続し、基材部１５１の上流側から下流側に流入するエアロゾルの凝縮を防止することができる。これにより、ユーザが味わう香味の劣化を防止することが可能となる。

　高加熱モードで動作した後、低加熱モードで動作するスイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａにより誘導加熱されるサセプタ１６１Ａの温度ｔｍｐ_２は、エアロゾルが凝縮しない温度以上の温度であることが望ましい。かかる構成によれば、電磁誘導源１６２Ａへの給電を微量ながら継続し、基材部１５１の上流側から下流側に流入するエアロゾルが凝縮しない程度に下流側を加熱（即ち、保温）することができる。これにより、ユーザが味わう香味の劣化を、より確実に防止することが可能となる。

　制御部１１６は、高加熱モードで動作するスイッチ１６４をスイッチ１６４Ａからスイッチ１６４Ｂに切り替える際に、スイッチ１６４Ａの低加熱モードでの動作を開始させてから所定時間経過後に、スイッチ１６４Ｂの高加熱モードでの動作を開始させる。当該所定時間は、途中降温区間の長さである、時間ｔ_２から時間ｔ_３までの時間長に対応する。スイッチ１６４Ａが単体で低加熱モードで動作する期間を設けることで、スイッチ１６４Ａが高加熱モードで動作する区間（即ち、第１昇温区間）と、スイッチ１６４Ｂが高加熱モードで動作する区間（即ち、第２昇温区間）とを、確実に離隔することができる。よって、複数のスイッチ１６４の各々の制御に誤差又は遅延が生じた場合であっても、スイッチ１６４Ａとスイッチ１６４Ｂの双方が高加熱モードで動作するような事態を防止することができる。従って、吸引装置１００に過度な負荷がかかることを、確実に防止することが可能となる。

　図５に示したように、上記所定時間において、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａにより誘導加熱されるサセプタ１６１Ａの温度は低下する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度が十分に低下した後に、第２昇温区間が開始され、サセプタ１６１Ｂの温度が高温に達することとなる。よって、サセプタ１６１Ａとサセプタ１６１Ｂの双方が高温になり、過度に多いエアロゾルが生成されることを防止することができる。これにより、ユーザが味わう香味の質を一定に維持することが可能となる。

　ここで、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａによる誘導加熱よりエアロゾルが発生している間に、スイッチ１６４Ｂに対応する電磁誘導源１６２Ｂによる誘導加熱によりエアロゾルが発生するように、上記所定時間が設定される。つまり、下流側のエアロゾル源が寿命に達していないタイミングで、第２昇温区間が開始される。スイッチ１６４Ｂが高加熱モードでの動作を開始してから、サセプタ１６１Ｂが十分に温まってエアロゾルが生成されるまでには、タイムラグがあると考えられる。この点、かかる構成によれば、当該タイムラグにおいて、下流側のエアロゾル源からエアロゾルを生成することができる。よって、ユーザは、当該タイムラグにおいてパフを行ったとしても、好適なエアロゾルを吸引することができる。

　（５）処理の流れ
　図９は、本実施形態に係る吸引装置１００により実行される処理の流れの一例を示すフローチャートである。

　図９に示すように、まず、制御部１１６は、吸引要求が検出されたか否かを判定する（ステップＳ１０２）。吸引要求とは、エアロゾルを生成するよう要求するユーザ操作である。吸引要求の一例は、吸引装置１００に設けられたスイッチ等を操作すること等の、吸引装置１００に対する操作である。吸引要求の他の一例は、吸引装置１００にスティック型基材１５０を挿入することである。

　なお、吸引装置１００へのスティック型基材１５０の挿入は、開口１４２付近に設けられた静電容量型の近接センサにより検出されてもよい。静電容量型の近接センサは、電界を発生させ、対象物が電界に進入した際の静電容量又は誘電率の変化により対象物を検出するセンサである。開口１４２付近に設けられた近接センサは、内部空間１４１のうち開口１４２付近の部分空間の静電容量又は誘電率等を検出する。スティック型基材１５０が挿入／抜去されるに伴い、スティック型基材１５０の様々な部分（サセプタ１６１を含む部分、及びサセプタ１６１を含まない部分）が当該部分空間を通過する。それに伴い、当該部分空間の静電容量及び誘電率が変化する。従って、制御部１１６は、当該部分空間の静電容量又は誘電率の時系列変化に応じて、保持部１４０にスティック型基材１５０が保持されているか否かを判定することができる。

　吸引要求が検出されていないと判定された場合（ステップＳ１０２：ＮＯ）、制御部１１６は、吸引要求が検出されるまで待機する。

　吸引要求が検出されたと判定された場合（ステップＳ１０２：ＹＥＳ）、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａを高加熱モードで動作させ、スイッチ１６４Ｂを非加熱モードで動作させる（ステップＳ１０４）。これにより、第１昇温区間が開始される。

　次いで、制御部１１６は、第１昇温区間の終了条件が満たされたか否かを判定する（ステップＳ１０６）。第１昇温区間の終了条件の一例は、加熱開始からの経過時間が時間ｔ_２に達したことである。第１昇温区間の終了条件の他の一例は、第１昇温区間におけるパフ回数が所定回数に達したことである。

　第１昇温区間の終了条件が満たされていないと判定された場合（ステップＳ１０６：ＮＯ）、制御部１１６は、第１昇温区間の終了条件が満たされるまで待機する。

　第１昇温区間の終了条件が満たされたと判定された場合（ステップＳ１０６：ＹＥＳ）、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａを低加熱モードで動作させ、スイッチ１６４Ｂを非加熱モードで動作させる（ステップＳ１０８）。これにより、途中降温区間が開始される。

　次に、制御部１１６は、途中降温区間の終了条件が満たされたか否かを判定する（ステップＳ１１０）。途中降温区間の終了条件の一例は、加熱開始からの経過時間が時間ｔ_３に達したことである。途中降温区間の終了条件の他の一例は、途中降温区間におけるパフ回数が所定回数に達したことである。

　途中降温区間の終了条件が満たされていないと判定された場合（ステップＳ１１０：ＮＯ）、制御部１１６は、途中降温区間の終了条件が満たされるまで待機する。

　途中降温区間の終了条件が満たされたと判定された場合（ステップＳ１１０：ＹＥＳ）、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａを低加熱モードで動作させ、スイッチ１６４Ｂを高加熱モードで動作させる（ステップＳ１１２）。これにより、第２昇温区間が開始される。

　次いで、制御部１１６は、第２昇温区間の終了条件が満たされたか否かを判定する（ステップＳ１１４）。第２昇温区間の終了条件の一例は、加熱開始からの経過時間が時間ｔ_５に達したことである。第２昇温区間の終了条件の他の一例は、第２昇温区間におけるパフ回数が所定回数に達したことである。

　第２昇温区間の終了条件が満たされていないと判定された場合（ステップＳ１１４：ＮＯ）、制御部１１６は、第２昇温区間の終了条件が満たされるまで待機する。

　第２昇温区間の終了条件が満たされたと判定された場合（ステップＳ１１４：ＹＥＳ）、制御部１１６は、スイッチ１６４Ａを非加熱モードで動作させ、スイッチ１６４Ｂを非加熱モードで動作させる（ステップＳ１１６）。これにより、加熱終了区間が開始される。

　＜４．変形例＞
　＜４．１．第１の変形例＞
　上記実施形態では、オン状態にするスイッチ１６４を切り替える際にガード期間ＧＩが設けられる例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。オン状態にするスイッチ１６４を切り替える際にガード期間ＧＩが設けられなくてもよい。ただし、制御部１１６は、複数の１６４のうちいずれか１つが減衰状態である期間であって、減衰状態にあるスイッチ１６４に対応する電磁誘導源１６２に供給される交流電力の電圧が第２の閾値以下になったタイミングで、他のスイッチ１６４をオン状態にする。第２の閾値は、オン状態で動作するスイッチ１６４に対応する電磁誘導源１６２に印可される規定の電圧と第２の閾値との和が、第１の閾値以下になるよう設定される。かかる構成によれば、それまでオン状態で動作していたスイッチ１６４から電磁誘導源１６２に供給される電圧がある程度減衰した後に、他のスイッチ１６４がオン状態での動作を開始する。従って、複数の電磁誘導源１６２の各々に印可される電圧の合計値を、第１の閾値以下にすることが可能となる。また、いずれのサセプタ１６１も誘導加熱されないガード期間が設けられないので、加熱効率を高めることが可能となる。

　本変形例における制御内容の一例を、図１０を参照しながら説明する。

　図１０は、第２昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の他の一例を説明するための図である。本変形例では、表１に示した加熱プロファイルに基づくスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの制御として、第２の昇温区間において、図８に示す制御に代えて、図１０に示す制御を行う。グラフ３０Ａは、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａに印可される電圧の時系列推移を示す。グラフ３０Ｂは、スイッチ１６４Ｂに対応する電磁誘導源１６２Ｂに印可される電圧の時系列推移を示す。これらのグラフの横軸は、時間である。これらのグラフの縦軸は、電磁誘導源１６２に印可される、交流電力の電圧の実効値である。

　図１０に示すように、第２昇温区間においては、スイッチ１６４Ａは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_２で維持される。一方で、第２の昇温区間においては、スイッチ１６４Ｂは高加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は温度ｔｍｐ_１まで上昇して維持される。

　ただし、図１０に示すように、スイッチ１６４Ａは、スイッチ１６４Ｂに対応する電磁誘導源１６２Ｂに供給される電圧が第２の閾値ｔｈ以下になったタイミングで、オン状態に切り替わっている。同様に、スイッチ１６４Ｂは、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａに供給される電圧が第２の閾値ｔｈ以下になったタイミングで、オン状態に切り替わっている。第２の閾値ｔｈは、電圧ｖと第２の閾値ｔｈとの和が第１の閾値以下になるよう設定される。つまり、切り替わりのタイミングで、電磁誘導源１６２Ａ及び電磁誘導源１６２Ｂに印可される電圧の合計値は、第１の閾値以下となる。

　＜４．２．第２の変形例＞
　上記実施形態では、高加熱モードで動作するスイッチ１６４をスイッチ１６４Ａからスイッチ１６４Ｂに切り替える前において、スイッチ１６４Ｂを非加熱モードで動作させる例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。制御部１１６は、高加熱モードで動作するスイッチ１６４をスイッチ１６４Ａからスイッチ１６４Ｂに切り替える前において、スイッチ１６４Ｂを低加熱モードで動作させてもよい。かかる構成によれば、スイッチ１６４Ｂが高加熱モードでの動作を開始する前に、サセプタ１６１Ｂを低温ながらもある程度加熱された状態にすることができる。よって、スイッチ１６４Ｂが高加熱モードでの動作を開始した後、サセプタ１６１Ｂがエアロゾルを生成可能な温度に達するまでの時間を早めることが可能となる。

　本変形例における加熱プロファイルの一例を、下記の表２に示す。

　図１１は、表２に示した加熱プロファイルに基づき誘導加熱されたサセプタ１６１の実温度の時系列推移の一例を示すグラフである。本グラフの横軸は、時間（秒）である。本グラフの縦軸は、サセプタ１６１の温度である。線２１Ａは、サセプタ１６１Ａの実温度の時系列推移を示している。線２１Ｂは、サセプタ１６１Ｂの実温度の時系列推移を示している。図１１に示すように、サセプタ１６１Ａ及び１６１Ｂの実温度は、加熱プロファイルにおいて規定された目標温度の時系列推移と同様に推移している。

　表２及び図１１に示すように、サセプタ１６１Ｂの温度は、第１昇温区間において温度ｔｍｐ_２℃まで上昇し、第２昇温区間が開始されるまで温度ｔｍｐ_２℃を維持している。また、第２の昇温区間においては、サセプタ１６１Ｂの温度は加熱開始からｔ_７秒後に温度ｔｍｐ_１に達している。ｔ_７は、ｔ_４よりも小さい。このように、第２の昇温区間において、サセプタ１６１Ｂの温度が温度ｔｍｐ_１に達する時間を、表１及び図５に示した例と比較して早めることが可能となる。その余の点は、表１及び図５に示した例と同様である。

　本変形例における制御内容の一例を、図１２、図１３を参照し、さらに図８を再度参照しながら説明する。本変形例において、スイッチ１６４及びスイッチ１６４Ｂは、第１昇温区間においては図１２に示す動作を行い、途中降温区間においては図１３に示す動作を行い、第２昇温区間においては図８に示した動作を行う。

　図１２は、第１昇温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。図１３は、途中降温区間におけるスイッチ１６４Ａ及びスイッチ１６４Ｂの動作の一例を説明するための図である。これらの図において、グラフ３０Ａは、スイッチ１６４Ａに対応する電磁誘導源１６２Ａに印可される電圧の時系列推移を示す。グラフ３０Ｂは、スイッチ１６４Ｂに対応する電磁誘導源１６２Ｂに印可される電圧の時系列推移を示す。これらのグラフの横軸は、時間である。これらのグラフの縦軸は、電磁誘導源１６２に印可される、交流電力の電圧の実効値である。

　図１２に示すように、第１の昇温区間においては、スイッチ１６４Ａは高加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_１まで上昇して維持される。一方で、第１の昇温区間においては、スイッチ１６４Ｂは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は温度ｔｍｐ_２まで上昇して維持される。

　図１３に示すように、途中降温区間においては、スイッチ１６４Ａは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ａの温度は温度ｔｍｐ_２まで降下する。一方で、途中降温区間においては、スイッチ１６４Ｂは低加熱モードで動作する。これにより、サセプタ１６１Ｂの温度は温度ｔｍｐ_２で維持される。

　＜５．補足＞
　以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

　例えば、上記実施形態では、インバータ回路１６３と電磁誘導源１６２との間にスイッチ１６４が配置される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。吸引装置１００は、電磁誘導源１６２Ａに交流電力を供給するインバータ回路１６３Ａ、及び電磁誘導源１６２Ｂに交流電力を供給するインバータ回路１６３Ｂを有していてもよい。その場合、スイッチ１６４Ａは、電源部１１１とインバータ回路１６３Ａとの間に配置される。他方、スイッチ１６４Ｂは、電源部１１１とインバータ回路１６３Ｂとの間に配置される。

　例えば、上記実施形態では、吸引装置１００が２つの電磁誘導源１６２を有する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。吸引装置１００は、３以上の電磁誘導源１６２を有していてもよい。

　例えば、上記実施形態では、スティック型基材１５０に含有されるサセプタ１６１の数が、吸引装置１００が有する電磁誘導源１６２の数と一致する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。スティック型基材１５０に含有されるサセプタ１６１の数と、吸引装置１００が有する電磁誘導源１６２の数とは、異なっていてもよい。

　例えば、上記実施形態では、サセプタ１６１が板状に構成される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。例えば、サセプタ１６１は、棒状に構成されてもよいし、金属片として構成され基材部１５１に広く分布していてもよい。

　例えば、上記実施形態では、スティック型基材１５０にサセプタ１６１が含有される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。即ち、サセプタ１６１は、サセプタ１６１がエアロゾル源に熱的に近接する任意の位置に配置され得る。一例として、サセプタ１６１は、ブレード状に構成されて保持部１４０の底部１４３から内部空間１４１に突出するように配置されてもよい。そして、スティック型基材１５０が保持部１４０に挿入された際に、スティック型基材１５０の挿入方向の端部から基材部１５１に、ブレード状のサセプタ１６１が突き刺さるように挿入されてもよい。

　なお、本明細書において説明した各装置による一連の処理は、ソフトウェア、ハードウェア、及びソフトウェアとハードウェアとの組合せのいずれを用いて実現されてもよい。ソフトウェアを構成するプログラムは、例えば、各装置の内部又は外部に設けられる記録媒体（非一時的な媒体：non-transitory　media）に予め格納される。そして、各プログラムは、例えば、本明細書において説明した各装置を制御するコンピュータによる実行時にＲＡＭに読み込まれ、ＣＰＵなどのプロセッサにより実行される。上記記録媒体は、例えば、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、フラッシュメモリ等である。また、上記のコンピュータプログラムは、記録媒体を用いずに、例えばネットワークを介して配信されてもよい。

　また、本明細書においてフローチャート及びシーケンス図を用いて説明した処理は、必ずしも図示された順序で実行されなくてもよい。いくつかの処理ステップは、並列的に実行されてもよい。また、追加的な処理ステップが採用されてもよく、一部の処理ステップが省略されてもよい。

　なお、以下のような構成も本発明の技術的範囲に属する。
（１）
　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、
　を備える吸引装置。
（２）
　スイッチは、複数の動作状態のうちいずれか１つの状態で動作し、
　複数の前記動作状態は、規定の電圧で前記交流電力を前記電磁誘導源に供給するオン状態、及び前記交流電力を前記電磁誘導源に供給しないオフ状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態である期間において、残りの全ての前記スイッチを前記オフ状態にする、
　前記（１）に記載の吸引装置。
（３）
　前記制御部は、複数の前記スイッチの全てをオフ状態にする期間を設ける、
　前記（２）に記載の吸引装置。
（４）
　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態又は前記減衰状態である期間において、残りの全ての前記スイッチをオフ状態にする、
　前記（２）又は（３）に記載の吸引装置。
（５）
　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記減衰状態である期間であって、前記減衰状態にある前記スイッチに対応する前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が第２の閾値以下になったタイミングで、他の前記スイッチを前記オン状態にする、
　前記（２）又は（３）に記載の吸引装置。
（６）
　前記スイッチは、ＦＥＴ（Field effect transistor）であり、
　前記オン状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可された状態であり、
　前記オフ状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れていない状態であり、
　前記減衰状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れている状態である、
　前記（４）又は（５）に記載の吸引装置。
（７）
　前記収容部は、前記内部空間を外部に連通する開口を有し、前記開口から前記内部空間に挿入された前記基材を収容し、
　前記複数の前記電磁誘導源の各々は、前記基材が挿入される方向において異なる位置に配置される、
　前記（２）～（６）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（８）
　前記制御部は、単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が高い高加熱モード、前記単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が低い低加熱モード、又は前記単位時間の全てを前記オフ状態で動作する時間が占める非加熱モードのいずれか１つの動作モードで動作するよう複数の前記スイッチの各々を制御する、
　前記（７）に記載の吸引装置。
（９）
　前記制御部は、複数の前記電磁誘導源のうち、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、時間経過に応じて切り替える、
　前記（８）に記載の吸引装置。
（１０）
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、前記開口から最も近くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチから、前記開口から最も遠くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチにかけて順番に切り替える、
　前記（９）に記載の吸引装置。
（１１）
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作した後の前記スイッチを、前記低加熱モードで動作させる、
　前記（１０）に記載の吸引装置。
（１２）
　前記高加熱モードで動作した後、前記低加熱モードで動作する前記スイッチに対応する前記電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は、前記エアロゾルが凝縮しない温度以上の温度である、
　前記（１１）に記載の吸引装置。
（１３）
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える際に、前記第１のスイッチの前記低加熱モードでの動作を開始させてから所定時間経過後に、前記第２のスイッチの前記高加熱モードでの動作を開始させる、
　前記（１１）又は（１２）に記載の吸引装置。
（１４）
　前記所定時間において、前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は低下する、
　前記（１３）に記載の吸引装置。
（１５）
　前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源による誘導加熱よりエアロゾルが発生している間に、前記第２のスイッチに対応する第２の電磁誘導源による誘導加熱によりエアロゾルが発生するように、前記所定時間が設定される、
　前記（１３）又は（１４）に記載の吸引装置。
（１６）
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記非加熱モードで動作させる、
　前記（１０）～（１５）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（１７）
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記低加熱モードで動作させる、
　前記（１０）～（１５）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（１８）
　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、
　を有する吸引装置の前記収容部に収容され、
　前記エアロゾル源と、
　前記エアロゾル源に熱的に近接する前記サセプタと、
　を備える基材。
（１９）
　吸引装置を制御するための制御方法であって、
　前記吸引装置は、
　　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　を有し、
　前記制御方法は、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、
　を含む、制御方法。
（２０）
　吸引装置を制御するコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
　前記吸引装置は、
　　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　を有し、
　前記プログラムは、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、
　を実行させるプログラム。

　１００　　吸引装置
　１１１　　電源部
　１１２　　センサ部
　１１３　　通知部
　１１４　　記憶部
　１１５　　通信部
　１１６　　制御部
　１４０　　保持部（収容部）
　１４１　　内部空間
　１４２　　開口
　１４３　　底部
　１５０　　スティック型基材
　１５１　　基材部
　１５２　　吸口部
　１６１　　サセプタ
　１６２　　電磁誘導源
　１６３　　インバータ回路
　１６４　　スイッチ
　１６９　　駆動回路

Claims

　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、
　を備える吸引装置。
　スイッチは、複数の動作状態のうちいずれか１つの状態で動作し、
　複数の前記動作状態は、規定の電圧で前記交流電力を前記電磁誘導源に供給するオン状態、及び前記交流電力を前記電磁誘導源に供給しないオフ状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態である期間において、残りの全ての前記スイッチを前記オフ状態にする、
　請求項１に記載の吸引装置。
　前記制御部は、複数の前記スイッチの全てをオフ状態にする期間を設ける、
　請求項２に記載の吸引装置。
　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記オン状態又は前記減衰状態である期間において、残りの全ての前記スイッチをオフ状態にする、
　請求項２又は３に記載の吸引装置。
　複数の前記動作状態は、前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が徐々に減衰する減衰状態を含み、
　前記制御部は、複数の前記スイッチのうちいずれか１つが前記減衰状態である期間であって、前記減衰状態にある前記スイッチに対応する前記電磁誘導源に供給される前記交流電力の電圧が第２の閾値以下になったタイミングで、他の前記スイッチを前記オン状態にする、
　請求項２又は３に記載の吸引装置。
　前記スイッチは、ＦＥＴ（Field effect transistor）であり、
　前記オン状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可された状態であり、
　前記オフ状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れていない状態であり、
　前記減衰状態は、前記スイッチのゲート電極に電圧が印可されておらず、且つソース電極とドレイン電極との間で電流が流れている状態である、
　請求項４又は５に記載の吸引装置。
　前記収容部は、前記内部空間を外部に連通する開口を有し、前記開口から前記内部空間に挿入された前記基材を収容し、
　前記複数の前記電磁誘導源の各々は、前記基材が挿入される方向において異なる位置に配置される、
　請求項２～６のいずれか一項に記載の吸引装置。
　前記制御部は、単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が高い高加熱モード、前記単位時間のうち前記オン状態で動作する時間が占める割合が低い低加熱モード、又は前記単位時間の全てを前記オフ状態で動作する時間が占める非加熱モードのいずれか１つの動作モードで動作するよう複数の前記スイッチの各々を制御する、
　請求項７に記載の吸引装置。
　前記制御部は、複数の前記電磁誘導源のうち、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、時間経過に応じて切り替える、
　請求項８に記載の吸引装置。
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを、前記開口から最も近くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチから、前記開口から最も遠くに配置された前記電磁誘導源に対応する前記スイッチにかけて順番に切り替える、
　請求項９に記載の吸引装置。
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作した後の前記スイッチを、前記低加熱モードで動作させる、
　請求項１０に記載の吸引装置。
　前記高加熱モードで動作した後、前記低加熱モードで動作する前記スイッチに対応する前記電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は、前記エアロゾルが凝縮しない温度以上の温度である、
　請求項１１に記載の吸引装置。
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える際に、前記第１のスイッチの前記低加熱モードでの動作を開始させてから所定時間経過後に、前記第２のスイッチの前記高加熱モードでの動作を開始させる、
　請求項１１又は１２に記載の吸引装置。
　前記所定時間において、前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源により誘導加熱される前記サセプタの温度は低下する、
　請求項１３に記載の吸引装置。
　前記第１のスイッチに対応する第１の電磁誘導源による誘導加熱よりエアロゾルが発生している間に、前記第２のスイッチに対応する第２の電磁誘導源による誘導加熱によりエアロゾルが発生するように、前記所定時間が設定される、
　請求項１３又は１４に記載の吸引装置。
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記非加熱モードで動作させる、
　請求項１０～１５のいずれか一項に記載の吸引装置。
　前記制御部は、前記高加熱モードで動作する前記スイッチを第１のスイッチから第２のスイッチに切り替える前において、前記第２のスイッチを前記低加熱モードで動作させる、
　請求項１０～１５のいずれか一項に記載の吸引装置。
　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御する制御部と、
　を有する吸引装置の前記収容部に収容され、
　前記エアロゾル源と、
　前記エアロゾル源に熱的に近接する前記サセプタと、
　を備える基材。
　吸引装置を制御するための制御方法であって、
　前記吸引装置は、
　　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　を有し、
　前記制御方法は、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、
　を含む、制御方法。
　吸引装置を制御するコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
　前記吸引装置は、
　　交流電力を発生させる交流電力発生部と、
　　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　　前記交流電力発生部から供給された前記交流電力を使用して前記内部空間に変動磁場を発生させる複数の電磁誘導源と、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に交流電力を供給するか否かを切り替える複数のスイッチと、
　を有し、
　前記プログラムは、
　　複数の前記電磁誘導源の各々に印可される電圧の合計値が第１の閾値以下になるよう、複数の前記スイッチの各々を制御すること、
　を実行させるプログラム。