WO2022211294A1 - 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치 - Google Patents

습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2022211294A1
WO2022211294A1 PCT/KR2022/003048 KR2022003048W WO2022211294A1 WO 2022211294 A1 WO2022211294 A1 WO 2022211294A1 KR 2022003048 W KR2022003048 W KR 2022003048W WO 2022211294 A1 WO2022211294 A1 WO 2022211294A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
wet cleaning
cleaning unit
brush
moisture
central axis
Prior art date
Application number
PCT/KR2022/003048
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
박종민
Original Assignee
주식회사 제이앤미
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 제이앤미 filed Critical 주식회사 제이앤미
Publication of WO2022211294A1 publication Critical patent/WO2022211294A1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D45/00—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces
    • B01D45/12—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces
    • B01D45/14—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces generated by rotating vanes, discs, drums or brushes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/26—Drying gases or vapours
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/12—Brushes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members

Definitions

  • the disclosed content relates to a moisture or dust removal device of a wet cleaning unit installed in a wet cleaning unit that purifies and discharges waste gas used in a semiconductor or display manufacturing process below an appropriate reference value to remove moisture or dust.
  • semiconductor manufacturing usually includes wafer manufacturing process, circuit design and mask manufacturing process, oxidation, photosensitization, exposure, and development. , a wafer processing process including etching, ashing, chemical vapor deposition (CVD), and the like, and a package process.
  • a wafer processing process including etching, ashing, chemical vapor deposition (CVD), and the like, and a package process.
  • CVD chemical vapor deposition
  • the above-described semiconductor manufacturing process is also applied to the manufacture of displays such as FPD.
  • high-purity H 2 , SiH 4 (monosilane) or SiHCl 3 (silicon trichloride) process gas is used, and for chemical vapor deposition, high-purity SiH 4 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 , SiCl 4 , GeH 4 , B 2 H 6 , BBr 3 , BCl 3 , AsH 3 , PH 3 , TeH 2 , SnCl 4 , GeCl 4 , WF 6 , NH 3 , CH 4 , Cl 2 , MoF 6 and other special process gases
  • High purity hydrogen (H 2 ) and nitrogen (N 2 ) are used as carrier gas.
  • process gases such as SiF 4 , CF 4 , C 3 F 8 , C 2 F 6 , CHF 3 , CClF 3 , O 2 are used for plasma etching, and C 3 F 8 , CHF 3 , CClF 3 , CF is used for ion beam etching.
  • a special process gas such as 4 is used.
  • the process gas used in semiconductor manufacturing has strong characteristics such as toxicity, flammability and corrosion, and contains harmful components such as volatile organic compounds (VOC S ).
  • volatile organic compounds are a generic term for liquid or gaseous organic compounds that are easily evaporated into the atmosphere due to their high vapor pressure. It is known not only as a cause of air pollution but also as a carcinogen.
  • Such a scrubber decomposes or purifies waste gas using the characteristics of the waste gas, that is, the property of explosive reaction upon contact with air, the property of combustion, the property of reacting with a gas treatment agent, and the property of dissolving in water. It is largely divided into dry scrubbers and wet scrubbers, and mixed scrubbers that combine dry and wet scrubbers.
  • the dry scrubber has a structure in which the waste gas is directly burned or oxidized by passing it into the flame or plasma of the burner, or pyrolyzed by passing the waste gas into a high-temperature chamber formed by a heat source such as a heater, for example.
  • a dry scrubber has an excellent effect in treating flammable (flammable) waste gas, but is inappropriate for treating waste gas that does not burn well, such as water-soluble gas.
  • the wet scrubber has a relatively simple configuration of cleaning and cooling after collecting waste gas using water spray, and has the advantage of being easy to manufacture and capable of increasing the capacity.
  • it is impossible to treat the water-insoluble waste gas, and in particular, it is inappropriate for the treatment of waste gas containing highly flammable hydrogen groups.
  • the mixed scrubber has a structure in which waste gas is first combusted in a reactor to remove flammable gas and explosive gas, and then water-soluble and toxic waste gas is dissolved in water through water injection.
  • Model Registration No. 20-0405303 published on Jan. 10, 2006
  • Korean Patent Publication No. 10-2010-0021135 published on Feb. 24, 2010
  • Korean Patent Registration No. 10-1431452 published on Aug. 12, 2014
  • Republic of Korea It is disclosed in Patent Registration No. 10-1568804 (2015.11.12. Announcement) and the like.
  • waste gas generated in the process chamber of a semiconductor manufacturing facility is introduced into the dry reaction unit (Reactor) and then burned/oxidized primarily by the flame of the burner or high-temperature plasma
  • the waste gas that has undergone primary pyrolysis and primary purification treatment by a heater is moved to the wet zone having a water spray structure, and the water-soluble toxic components contained in the waste gas are dissolved and dust is collected at the same time. Then, it goes through secondary cleaning in which it falls into the lower water tank and is collected, and the cleaned process gas is finally discharged into the atmosphere through a filter (water removal, etc.) and an exhaust duct.
  • a palling is installed in the wet cleaning unit as in Republic of Korea Utility Model Registration No. 20-0405303 (announced on January 10, 2006), or Republic of Korea Patent Registration No. 10-1312414 (October 14, 2013).
  • An electric precipitator using corona discharge is also installed in the wet cleaning unit as shown in the notice).
  • An object of the present invention is to provide a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit.
  • the disclosed contents include a lower shaft support installed on the inner lower side of a wet cleaning unit for wet cleaning of waste gas, an upper shaft support installed on an inner upper side of the wet cleaning unit, and a central shaft across the lower shaft support and the upper shaft support
  • the rotating brush installed rotatably vertically and provided with a plurality of brush bristles on the outer circumferential surface, a driving actuator provided on one side of the wet cleaning unit, and a central axis of the driving actuator and the rotating brush are electrically connected to form the rotating brush.
  • An apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit including an electric module for rotating a central shaft is presented as an embodiment.
  • one end is fixed to the lower shaft support and the upper shaft support, is spaced apart from the central axis of the rotary brush, extends vertically, and is collected by the brush bristles of the rotary brush when the rotary brush is rotated. It further includes a brushing bar to shake off moisture or dust.
  • the brush bristles are formed to be divided into a lower brush bristle part and an upper brush bristle part based on the longitudinal central part of the central axis of the rotating brush.
  • the driving actuator is a driving motor
  • the electric module includes a driving sprocket installed on an output shaft of the driving actuator, an electric sprocket installed on a central shaft of the rotating brush, the driving sprocket and the It includes a rolling chain for electrically connecting the electric sprocket, a side projecting frame is installed in communication with one side of the wet cleaning unit, and the driving actuator is installed so that the output shaft protrudes into the side projecting frame.
  • the driving actuator is a cylinder mechanism
  • the electric module includes a rack gear formed on a piston rod of the driving actuator, and a pinion gear provided on a central shaft of the rotating brush and meshed with the rack gear. It includes, wherein the driving actuator is installed in the wet cleaning unit so that the piston rod penetrates into the wet cleaning unit.
  • the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit According to the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to the disclosed embodiment, moisture contained in waste gas by centrifugal force according to rotational driving of a rotary brush in a wet cleaning unit such as a wet cleaning unit of a wet scrubber and a mixed type scrubber Alternatively, there is an advantage that the blockage of the exhaust duct can be prevented in advance as the dust is effectively collected and removed.
  • the brush bristles of the rotary brush collide with the brushing bar when the rotary brush rotates. Moisture or dust collected on the brush bristles of the rotating brush can be removed by shaking off, and there is an advantage that the bristles of the rotating brush can be automatically cleaned.
  • FIG. 1 is a schematic installation structure diagram of an apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • Figure 2 is a partially cut-away perspective view of the moisture or dust removal device of the wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed subject matter.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of an apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 4 is a structural diagram of an embodiment of an electric module other than a driving actuator in the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 5 is a structural diagram of another embodiment of an electric module other than a driving actuator in the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • the moisture or dust removal apparatus 1 of a wet cleaning unit is a wet scrubber or mixed type for wet cleaning, for example, waste gas used in a semiconductor manufacturing process or a display manufacturing process. It is installed in the wet cleaning unit 3 such as the wet cleaning unit of the scrubber and serves to improve the effect of collecting and removing moisture or dust contained in the waste gas.
  • the exhaust duct 5 connected to the wet cleaning unit 3 such as the wet scrubber or the wet cleaning unit of the mixed scrubber It is possible to prevent moisture or dust from reaching, and the phenomenon that the exhaust duct 5 is blocked due to adsorption of moisture or dust can be prevented in advance.
  • FIG. 2 is a detailed structural diagram of an apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed subject matter
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of an apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed subject matter.
  • the moisture or dust removal device 1 of the wet cleaning unit is a lower shaft installed inside the wet cleaning unit 3 for wet cleaning waste gas.
  • the support 10, the upper shaft support 20 installed on the inner upper side of the wet cleaning unit 3, and the central shaft 31 are vertically rotated across the lower shaft support 10 and the upper shaft support 20
  • the lower shaft support 10 is to rotatably support the lower end of the central shaft 31 of the rotary brush 30 to be described later, and is fixedly installed on the inner lower side of the wet cleaning unit 3 .
  • the lower shaft support 10 has a horizontal bar shape extending across the inner lower center of the wet cleaning unit 3, and the lower end of the central shaft 31 of the rotary brush 30 is located in the center of its upper surface, for example. It is rotatably installed through a bearing. Waste gas can flow through the space between both sides of the lower shaft support 10 and the inner lower edge of the wet cleaning unit 3 .
  • the upper shaft support 20 rotatably supports the upper end of the central shaft 31 of the rotary brush 30 to be described later, and is fixedly installed on the inner upper side of the wet cleaning unit 3 .
  • the upper shaft support 20 has a horizontal bar shape extending across the inner upper center of the wet cleaning unit 3, and the upper end of the central shaft 31 of the rotary brush 30 is located at the center of its lower surface, for example, a shaft It is rotatably installed through a bearing. Waste gas can flow through the space between both sides of the upper shaft support 20 and the inner upper edge of the wet cleaning unit 3 .
  • the above-described lower shaft support 10 and the upper shaft support 20 can be integrally installed in the flange connection portion of the wet cleaning unit (3).
  • the rotary brush 30 is rotatably installed over the lower shaft support 10 and the upper shaft support 20 described above.
  • the rotary brush 30 is rotationally driven in the wet cleaning unit 3 and collects untreated water or dust despite the wet cleaning of the wet cleaning unit 3, and at the same time, through the centrifugal force generated by the rotation, moisture or It serves to double the wet cleaning effect by colliding the dust with the inner wall of the wet cleaning unit (3).
  • the rotating brush 30 has a structure in which a central shaft 31 is vertically rotatably installed and a plurality of brush bristles 33 are provided on an outer circumferential surface of the central shaft 31, and the brush bristles 33 are the rotating brushes. It is preferable to be formed to be partitioned into the lower brush cap 35 and the upper brush cap 37 based on the longitudinal central part of the central axis 31 of (30).
  • the brush bristles 33 may extend radially and horizontally with respect to the central axis 31 , but may also extend radially downwardly inclined with respect to the central axis 31 .
  • the wet cleaning unit 3 is provided on the lower side of the lower shaft support 10 and includes a first wet cleaning nozzle 7 for spraying water downward, the lower shaft support 10 and the upper shaft support 20 . It is preferable to include a second wet cleaning nozzle (9) provided between and spraying water onto the lower brush cap (35).
  • the lower brush bristles 35 remove the untreated aqueous gas from the waste gas through the first wet washing nozzle 7 through the second wet washing nozzle ( 9), the second wet cleaning is carried out through water sprayed from The second wet cleaning effect is doubled by causing moisture or dust to collide with the inner wall of the wet cleaning unit 3 and move downward through the centrifugal force generated according to the rotation.
  • the upper brush bristles 37 among the brush bristles 33 of the rotary brush 30 are primary wet cleaning by the first wet cleaning nozzle 7 in the waste gas and the secondary wet cleaning by the second wet cleaning nozzle 9 in the waste gas.
  • Exhaust duct by collecting moisture or dust that has not been treated despite cleaning and at the same time collides moisture or dust with the inner wall of the wet cleaning unit 3 through centrifugal force generated according to the rotation of the rotary brush 30 to move downward. (5) It plays a role of removing just before exhaust to the furnace.
  • the above-mentioned rotary brush 30 is preferably made of a synthetic resin material having a certain level of rigidity and chemical resistance as a whole, but according to an embodiment, only the upper and lower ends of the central shaft 31 are made of a high-strength metal material. It may be integrally coupled to the shaft 31 .
  • a driving actuator 40 is provided on one side of the wet cleaning unit 3 described above.
  • the driving actuator 40 serves to generate a driving force for rotationally driving the central shaft 31 of the rotating brush 30, for example, a rotational actuator that generates rotational motion such as a driving motor or, for example, a cylinder mechanism.
  • a linear actuator that generates a linear reciprocating motion is applicable.
  • the above-described driving actuator 40 and the central shaft 31 of the rotary brush 30 are electrically connected by the electric module 50 .
  • the electric module 50 transfers the driving force of the driving actuator 40 to the central shaft 31 of the rotating brush 30 and serves to rotate the rotating brush 30, for example, an electric chain mechanism, electric It can be formed with a belt mechanism, an electric gear set, etc.
  • FIG. 4 is a structural diagram of an embodiment of an electric module other than a driving actuator in the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • the driving actuator 40 may be a driving motor
  • the electric module 50 may be formed of a electric chain mechanism.
  • a side protrusion frame 3a is installed on one side of the wet cleaning unit 3 to communicate with each other, and the driving actuator 40 has an output shaft protruding from the side in the vertical direction. It may be installed to protrude into the frame (3a).
  • the driving actuator 40 formed of a driving motor is preferably provided with a reduction gear unit integrally.
  • the electric module 50 formed of a electric chain mechanism includes a driving sprocket 51 installed on the output shaft of the driving actuator 40, and an electric sprocket 53 installed on the central shaft 31 of the rotating brush 30, It may include a transmission chain 55 for electrically connecting the driving sprocket 51 and the electric sprocket 53 .
  • the electric module 50 may also be formed as an electric belt mechanism.
  • the electric module 50 includes a driving pulley installed on the output shaft of the driving actuator 40 and the center of the rotating brush 30 . It may include an electric pulley installed on the shaft 31, and an electric belt for electrically connecting the driving pulley and the electric pulley.
  • FIG. 5 is a structural diagram of another embodiment of an electric module other than a driving actuator in the apparatus for removing moisture or dust of a wet cleaning unit according to an embodiment of the present disclosure
  • the driving actuator 40 may be a cylinder mechanism
  • the electric module 50 may be an electric gear set including a rack gear 57 and a pinion gear 59 .
  • the actuator 40 driven by a pneumatic or hydraulic cylinder mechanism is preferably installed on the side of the wet cleaning unit 3 so that the piston rod horizontally penetrates into the vertically arranged wet cleaning unit 3 .
  • the electric module 50 formed as an electric gear set is provided on the rack gear 57 formed on the piston rod of the driving actuator 40 and the central shaft 31 of the rotary brush 30 and is connected to the rack gear 57 . It may include a pinion gear 59 that meshes.
  • the brush bristles 33 of the above-described rotary brush 30 may be contaminated by adsorption of moisture or dust contained in the waste gas.
  • the lower shaft support 10 and the upper shaft support 20 have a brushing bar 60 to shake off moisture or dust adsorbed on the brush bristles 33 . Can be fixedly installed.
  • the brushing bar 60 shakes off moisture or dust collected in the brush bristles 33 of the rotating brush 30 .
  • one end is fixed to the lower shaft support 10 or the upper shaft support 20 and is spaced apart from the central shaft 31 of the rotary brush 30 and extends vertically.
  • the brushing bar 60 is for automatic cleaning of the brush bristles 33 of the rotary brush 30 that may be contaminated by the adsorption of moisture or dust, and is formed of a metal rod or pipe having a certain level of rigidity and chemical resistance or Alternatively, it can be formed of a synthetic resin rod or pipe having a certain level of rigidity and chemical resistance.
  • the rotary brush 30 is provided in the wet cleaning unit 3 such as the wet cleaning unit of the wet scrubber and the mixed scrubber.
  • the rotational brush 30 As it is formed in a rotationally driven structure, moisture or dust contained in the waste gas is collected by the rotational brush 30 by the centrifugal force according to the rotational driving of the rotational brush 30 and is generated by the rotation of the rotational brush 30 at the same time Due to the centrifugal force, it collides with the inner wall of the wet cleaning unit 3, moves downward and is removed, thereby preventing blockage of the exhaust duct in advance.
  • the apparatus for removing moisture or dust of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment, as the brushing bar 60 is fixed to the lower shaft support 10 and the upper shaft support 20, when the rotary brush 30 rotates As the brush bristles 33 of the rotating brush 30 collide with the brushing bar 60, the moisture or dust collected in the brush bristles 33 of the rotating brush 30 may be shaken off and removed, and the rotating brush 30 ) of the brush bristles 33 are automatically cleaned.
  • wet cleaning unit 3 in which the moisture or dust removal device of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment is installed is illustrated as being arranged in a vertical direction, it may be arranged in a horizontal direction according to an embodiment.
  • terms indicating a positional relationship such as lower and upper can be replaced with one side and the other side.
  • the disclosed content is applicable to a wet cleaning unit that purifies and discharges waste gas used in a semiconductor or display manufacturing process below an appropriate reference value.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

개시된 내용은 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있도록 한 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 관한 것이다. 개시된 내용은 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대와, 상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대와, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시와, 상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터와, 상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈을 포함하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 일 실시예로 제시한다.

Description

습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치
개시된 내용은 반도체 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 적정 기준치 이하로 정화처리하여 배출시키는 습식세정유닛 내에 설치되어 수분 또는 분진을 제거하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 관한 것이다.
본 명세서에서 달리 표시하지 않는 한, 이 섹션에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 섹션에 포함된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.
통상 반도체의 제조는 D램, SD램, 플래시메모리, 실리콘반도체 등 반도체의 종류에 따라 상당한 차이가 있기는 하지만, 통상 웨이퍼 제조공정과, 회로설계 및 마스크 제작공정과, 산화, 감광, 노광, 현상, 에칭, 에싱, 화학적기상증착(CVD) 등을 포함하는 웨이퍼 가공공정과, 패키지 공정을 거쳐 이루어진다. 예를 들어 FPD와 같은 디스플레이의 제조도 전술한 반도체 제조공정이 적용된다.
반도체 제조공정의 경우에는 고순도의 H2, SiH4(모노실란) 또는 SiHCl3(삼염화실) 등과 같은 공정가스가 사용되고, 화학적기상증착에는 고순도의 SiH4, SiH2Cl2, SiHCl3, SiCl4, GeH4, B2H6, BBr3, BCl3, AsH3, PH3, TeH2, SnCl4, GeCl4, WF6, NH3, CH4, Cl2, MoF6 등의 특수 공정가스가 사용되며 운반기체(carrier gas)로서 고순도 수소(H2)와 질소(N2)가 사용된다. 또한 플라즈마 에칭에는 SiF4, CF4, C3F8, C2F6, CHF3, CClF3, O2 등의 공정가스가 사용되고, 이온빔 에칭에는 C3F8, CHF3, CClF3, CF4 등의 특수 공정가스가 사용된다.
한편, 반도체 제조에 사용되는 공정가스는 유독성, 가연성 및 부식성 등의 특성이 강하며 휘발성유기화합물(VOCS; Volatile Organic Compounds)과 같은 유해성분을 포함한다. 여기서 휘발성유기화합물은 증기압이 높아 대기 중으로 쉽게 증발되는 액체 또는 기체상 유기화합물의 총칭으로, 대기 중에서 광화학반응을 일으켜 오존 등 광화학 산화성물질을 생성시켜 광화학스모그를 유발하고. 대기오염 뿐만 아니라 지구온난화의 원인물질일 뿐만 아니라 발암성 물질로도 알려져 있다.
이러한 공정가스는 제조설비 내에서 일부만 반응에 참여하고, 나머지 90% 정도의 공정가스는 미반응 상태로 제조설비로부터 배출된다. 이렇게 배출되는 공정가스(이하 '폐공정가스'라 합니다)가 별도의 정화과정 없이 대기중에 그대로 방출될 경우 주변 제조설비의 손상과 심각한 환경오염 및 작업자의 안전사고를 초래하게 되므로 각 제조설비에는 배기덕트로 연결된 가스 배출라인 상에 폐가스를 기준치 이하로 분해 또는 정화처리시키는 스크러버가 설치된다.
이러한 스크러버는 폐가스의 특성 다시 말해서, 공기와의 접촉시 폭발적으로 반응하는 성질, 연소되는 성질, 가스 처리제와 반응하는 성질 및 물에 용해되는 성질 등을 이용하여 폐가스를 분해 또는 정화처리하는 것으로. 크게 건식 스크러버와 습식 스크러비 및 건식과 습식을 병행하는 혼합식 스크러버로 구분된다.
건식 스크러버는 버너의 화염 또는 플라즈마 내로 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소 또는 산화시키거나, 예를 들어 히터와 같은 열원에 이해 형성된 고온의 챔버 내로 폐가스가 통과되도록 하여 열분해시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식 스크러버는 발화성(가연성) 폐가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
습식 스크러버는 물 분사를 이용하여 폐가스를 포집한 후 세정 및 냉각하는 비교적 간단한 구성을 가지며, 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있는 장점이 있다. 그러나 불수용성의 폐가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
혼합식 스크러버는 폐가스를 반응기 내에서 1차 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후 2차적으로 물 분사를 통해 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 가지며, 이러한 혼합식 스크러버의 예는 대한민국 실용신안등록 제20-0405303호(2006.01.10. 공고), 대한민국 공개특허 제10-2010-0021135호(2010.02.24. 공개), 대한민국 특허등록 제10-1431452호(2014.08.12. 공고), 대한민국 특허등록 제10-1568804호(2015.11.12. 공고) 등에 개시된다.
전술한 혼합식 스크러버에 의해 폐가스가 처리되는 과정을 살펴보면, 반도체 제조설비의 공정챔버에서 발생되는 폐가스가 건식 반응부(Reactor) 내로 유입된 후 버너의 화염 또는 고온 플라즈마에 의해 1차적으로 연소/산화되거나 히터에 의해 1차적으로 열분해되고, 1차 정화처리를 거친 폐가스가 물 분사 구조를 가지는 습식세정부(Wet Zone)로 이동되어 폐가스에 포함된 수용성 유독 성분이 용해됨과 동시에 분진(Powder)이 포집되어 하부수조로 낙하 및 집수되는 2차 세정을 거치게 되고, 세정된 처리가스는 최종적으로 필터(수분제거 등)와 배기덕트를 통해 대기 중으로 배출된다.
그러나 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛에서 수분과 분진이 제대로 포집제거되지 않을 경우에는 배기덕트가 수분의 응결과 분진의 고착에 의해 폐색되는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해소하기 위한 방안의 일 예로, 대한민국 실용신안등록 제20-0405303호(2006.01.10. 공고) 등과 같이 습식세정유닛 내에 폴링이 설치되거나 대한민국 특허등록 제10-1312414호(2013.10.14. 공고) 등과 같이 습식세정유닛 내에 코로나 방전을 이용한 전기집진기가 설치되기도 한다.
그러나 전자의 경우에는 수용성 유독성분의 처리는 용이하지만 수분과 분진이 배기덕트로 유입되는 현상이 방지되지 못하며, 후자의 경우에는 분진의 포집처리효율은 증대되는 반면 수분이 여전히 배기덕트로 유입되는 문제점이 있다.
습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있도록 한 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 제공하고자 한다.
또한 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.
개시된 내용은 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대와, 상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대와, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시와, 상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터와, 상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈을 포함하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 일 실시예로 제시한다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 일단이 고정되고 상기 회전브러시의 중심축으로부터 이격되어 수직으로 연장되며 상기 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진을 털어내는 브러싱바아를 더 포함한다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 브러시모는 상기 회전브러시의 중심축의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부와 상부브러시모부로 구획되게 형성된다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 구동액추에이터는 구동모터이고, 상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 출력축에 설치되는 구동스프로킷과, 상기 회전브러시의 중심축에 설치되는 전동스프로킷과, 상기 구동스프로킷과 상기 전동스프로킷을 전동연결하는 전동체인을 포함하며, 상기 습식세정유닛의 일측에는 측면돌출프레임이 연통되게 설치되고 상기 구동액추에이터는 상기 출력축이 상기 측면돌출프레임 내로 돌출되게 설치된다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 구동액추에이터는 실린더기구이고, 상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 피스톤로드에 형성되는 랙기어와, 상기 회전브러시의 중심축에 구비되고 상기 랙기어에 치합되는 피니언기어를 포함하며, 상기 구동액추에이터는 상기 습식세정유닛 내로 피스톤로드가 관통되게 상기 습식세정유닛에 설치된다.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있는 장점이 있다.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 하부축지지대와 상부축지지대에 브러싱바아가 고정설치됨에 따라 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모가 브러싱바아에 충돌되면서 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있으며 상기 회전브러시의 브러시모가 자동청소될 수 있는 장점이 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 개략설치구조도.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 부분절개사시도.
도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 단면도.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터외 전동모듈의 일 실시예의 구조도.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터외 전동모듈의 다른 실시예의 구조도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 구성 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다. 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 도 1에 도시되는 바와 같이 예를 들어 반도체 제조공정 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 습식세정하는 습식 스크러버 또는 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3) 내에 설치되어 폐가스에 포함된 수분 또는 분진의 포집제거 효과를 향상시키는 역할을 한다.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)의 설치로 인해 습식 스크러버 또는 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3)에 연결되는 배기덕트(5)에 수분 또는 분진이 도달되는 것이 방지되고 배기덕트(5)가 수분 또는 분진의 흡착으로 인해 폐색되는 현상이 미연에 방지될 수 있게 된다.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 상세구조도이고, 도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 단면도이다.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 도 2 및 도 3에 도시되는 바와 같이, 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛(3)의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대(10)와, 습식세정유닛(3)의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대(20)와, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 걸쳐 중심축(31)이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모(33)가 구비되는 회전브러시(30)와, 습식세정유닛(3)의 일측에 구비되는 구동액추에이터(40)와, 구동액추에이터(40)와 회전브러시(30)의 중심축(31)을 전동연결하여 회전브러시(30)의 중심축(31)을 회전구동시키는 전동모듈(50)을 포함한다.
여기서, 하부축지지대(10)는 차후에 설명될 회전브러시(30)의 중심축(31)의 하단을 회전 가능하게 지지하는 것으로, 습식세정유닛(3)의 내부 하측에 고정설치된다.
하부축지지대(10)는 습식세정유닛(3)의 내부 하측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지고 그 상부면 중앙에는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 하단이 예를 들어 축베어링을 통해 회전가능하게 설치된다. 하부축지지대(10)의 양측과 습식세정유닛(3)의 내부 하측 가장자리 사이의 공간을 통해 폐가스가 관류 가능하다.
상부축지지대(20)는 차후에 설명될 회전브러시(30)의 중심축(31)의 상단을 회전 가능하게 지지하는 것으로, 습식세정유닛(3)의 내부 상측에 고정설치된다.
상부축지지대(20)는 습식세정유닛(3)의 내부 상측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지고 그 하부면 중앙에는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 상단이 예를 들어 축베어링을 통해 회전가능하게 설치된다. 상부축지지대(20)의 양측과 습식세정유닛(3)의 내부 상측 가장자리 사이의 공간을 통해 폐가스가 관류 가능하다.
전술한 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)는 습식세정유닛(3)의 플랜지연결부에 일체로 설치 가능하다.
습식세정유닛(3)의 내부에는 전술한 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 걸쳐 회전브러시(30)가 회전가능하게 설치된다. 회전브러시(30)는 습식세정유닛(3) 내에서 회전구동되면서 습식세정유닛(3)의 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수눕 또는 분진을 포집함과 동시에 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 습식세정효과를 배가시키는 역할을 한다.
회전브러시(30)는 중심축(31)이 수직으로 회전가능하게 설치되고 중심축(31)의 외주면에는 다수의 브러시모(33)가 구비되는 구조를 가지되, 브러시모(33)는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부(35)와 상부브러시모부(37)로 구획되게 형성되는 것이 바람직하다.
브러시모(33)는 중심축(31)을 기준으로 방사상으로 수평으로 연장될 수도 있지만 중심축(31)을 기준으로 방사상으로 하향 경사지게 연장될 수도 있다.
이 경우에 습식세정유닛(3)은 하부축지지대(10)의 하측에 구비되어 하부로 물을 분사하는 제 1 습식세정노즐(7)과, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20) 사이에 구비되고 하부브러시모부(35) 상으로 물을 분사하는 제 2 습식세정노즐(9)을 포함하는 것이 바람직하다.
회전브러시(30)의 브러시모(33) 중 하부브러시모부(35)는 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수용성가스를 제 2 습식세정노즐(9)로부터 분사되는 물을 통해 2차 습식세정하고, 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수분 또는 분진을 포집함과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 하향 이동되도록 함으로써 2차 습식세정효과를 배가시킨다.
또한 회전브러시(30)의 브러시모(33) 중 상부브러시모부(37)는 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정과 제 2 습식세정노즐(9)에 의한 2차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수분 또는 분진을 포집함과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 하향이동되도록 함으로써 배기덕트(5)로의 배기 직전에 제거시키는 역할을 한다.
전술한 회전브러시(30)는 전체가 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 합성수지재로 제조되는 것이 바람직하지만, 실시예에 따라서는 중심축(31)의 상하단부측만 고강도의 금속재질로 제조되어 중심축(31)에 일체로 결합될 수도 있다.
전술한 습식세정유닛(3)의 일측에는 구동액추에이터(40)가 구비된다. 구동액추에이터(40)는 회전브러시(30)의 중심축(31)을 회전구동시키는 구동력을 발생시키는 역할을 하는 것으로, 예를 들어 구동모터 등과 같이 회전운동을 발생시키는 회전액추에이터 또는 예를 들어 실린더기구 등과 같이 직선왕복운동을 발생시키는 선형액추에이터가 적용 가능하다.
전술한 구동액추에이터(40)와 회전브러시(30)의 중심축(31)은 전동모듈(50)에 의해 전동연결된다. 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 구동력을 회전브러시(30)의 중심축(31)으로 전당하여 회전브러시(30)를 회전구동시키는 역할을 하는 것으로, 예를 들어 전동체인기구, 전동벨트기구, 전동기어세트 등으로 형성 가능하다.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터외 전동모듈의 일 실시예의 구조도이다.
도 4에 도시되는 바와 같이, 구동액추에이터(40)는 구동모터일 수 있고, 전동모듈(50)은 전동체인기구로 형성될 수 있다.
이 경우에는 구동모터로 형성되는 구동액추에이터(40)의 설치를 위해 습식세정유닛(3)의 일측에는 측면돌출프레임(3a)이 연통되게 설치되고 구동액추에이터(40)는 출력축이 수직방향으로 측면돌출프레임(3a) 내로 돌출되게 설치될 수 있다. 구동모터로 형성되는 구동액추에이터(40)는 감속기어유닛이 일체로 구비되는 것이 바람직하다.
전동체인기구로 형성되는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 출력축에 설치되는 구동스프로킷(51)과, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 설치되는 전동스프로킷(53)과, 구동스프로킷(51)과 전동스프로킷(53)을 전동연결하는 전동체인(55)을 포함할 수 있다.
도시되지는 않았지만 전동모듈(50)은 전동벨트기구로도 형성될 수 있는데, 이 경우에는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 출력축에 설치되는 구동풀리와, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 설치되는 전동풀리와, 구동풀리와 전동풀리를 전동연결하는 전동벨트를 포함할 수 있다.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터외 전동모듈의 다른 실시예의 구조도이다.
도 5에 도시되는 바와 같이, 구동액추에이터(40)는 실린더기구일 수 있고, 전동모듈(50)은 랙기어(57)와 피니언기어(59)를 포함하는 전동기어세트일 수 있다.
공압 또는 유압 실린더기구로 구동액추에이터(40)는 수직으로 배열되는 습식세정유닛(3) 내로 피스톤로드가 수평으로 관통되도록 습식세정유닛(3)의 측면에 설치되는 것이 바람직하다.
전동기어세트로 형성되는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 피스톤로드에 형성되는 랙기어(57)와, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 구비되고 랙기어(57)에 치합되는 피니언기어(59)를 포함할 수 있다.
또한 전술한 회전브러시(30)의 브러시모(33)는 폐가스에 포함된 수분 또는 분진의 흡착에 의해 오염될 수 있다. 이러한 브러시모(33)의 오염을 방지하기 위해 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에는 브러시모(33) 상에 흡착된 수분 또는 분진을 털어낼 수 있도록 하는 브러싱바아(60)가 고정설치될 수 있다.
브러싱바아(60)는 회전브러시(30)의 회전시에 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 충돌되면서 회전브러시(30)의 브러시모(33)에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있도록 하는 것으로, 하부축지지대(10) 또는 상부축지지대(20)에 일단이 고정되고 회전브러시(30)의 중심축(31)으로부터 이격되어 수직으로 연장된다.
브러싱바아(60)는 수분 또는 분진의 흡착으로 오염될 수 있는 회전브러시(30)의 브러시모(33)의 자동청소를 위한 것으로, 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 금속재 봉 또는 파이프로 형성되거나 또는 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 합성수지재 봉 또는 파이프로 형성 가능하다.
상술한 바와 같이, 개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3) 내에서 회전브러시(30)가 회전구동되는 구조로 형성됨에 따라, 회전브러시(30)의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 회전브러시(30)에 의해 포집됨과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 의해 발생되는 원심력으로 인해 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌되어 하향 이동되어 제거되면서 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있게 된다.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 브러싱바아(60)가 고정설치됨에 따라 회전브러시(30)의 회전시에 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 브러싱바아(60)에 충돌되면서 회전브러시(30)의 브러시모(33)에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있고 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 자동청소된다.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치가 설치되는 습식세정유닛(3)은 수직방향으로 배열되는 것으로 도시되어 있으나, 실시예에 따라서는 수평방향으로 배열될 수도 있다. 이 경우에 하부, 상부와 같은 위치관계를 나타내는 용어는 일측과 타측으로 대체 가능하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
- 도면의 부호에 대한 설명
1 : 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치
3 : 습식세정유닛
3a : 측면돌출프레임
5 : 배기덕트
7 : 제 1 습식세정노즐
9 : 제 2 습식세정노즐
10 : 하부축지지대
20 : 상부축지지대
30 : 회전브러시
31 : 중심축
33 : 브러시모
35 : 하부브러시모부
37 : 상부브러시모부
40 : 구동액추에이터
50 : 전동모듈
51 : 구동스프로킷
53 : 전동스프로킷
55 : 전동체인
57 : 랙기어
59 : 피니언기어
60 : 브러싱바아
개시된 내용은 반도체 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 적정 기준치 이하로 정화처리하여 배출시키는 습식세정유닛에 적용 가능하다.

Claims (5)

  1. 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대;
    상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대;
    상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시;
    상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터; 및
    상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈을 포함하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 일단이 고정되고 상기 회전브러시의 중심축으로부터 이격되어 수직으로 연장되며 상기 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진을 털어내는 브러싱바아를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 브러시모는 상기 회전브러시의 중심축의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부와 상부브러시모부로 구획되게 형성되는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 구동액추에이터는 구동모터이고,
    상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 출력축에 설치되는 구동스프로킷과, 상기 회전브러시의 중심축에 설치되는 전동스프로킷과, 상기 구동스프로킷과 상기 전동스프로킷을 전동연결하는 전동체인을 포함하며,
    상기 습식세정유닛의 일측에는 측면돌출프레임이 연통되게 설치되고 상기 구동액추에이터는 상기 출력축이 상기 측면돌출프레임 내로 돌출되게 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 구동액추에이터는 실린더기구이고,
    상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 피스톤로드에 형성되는 랙기어와, 상기 회전브러시의 중심축에 구비되고 상기 랙기어에 치합되는 피니언기어를 포함하며,
    상기 구동액추에이터는 상기 습식세정유닛 내로 피스톤로드가 관통되게 상기 습식세정유닛에 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.
PCT/KR2022/003048 2021-04-01 2022-03-03 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치 WO2022211294A1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210042783A KR102604757B1 (ko) 2021-04-01 2021-04-01 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치
KR10-2021-0042783 2021-04-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022211294A1 true WO2022211294A1 (ko) 2022-10-06

Family

ID=83457647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2022/003048 WO2022211294A1 (ko) 2021-04-01 2022-03-03 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102604757B1 (ko)
WO (1) WO2022211294A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117380601A (zh) * 2023-12-13 2024-01-12 山东锐峰光电科技有限公司 一种光纤传感器的封装装置
CN117925289A (zh) * 2024-03-25 2024-04-26 山西易高煤层气有限公司 一种天然气液化预处理用的湿天然气干燥设备
CN117925289B (zh) * 2024-03-25 2024-06-07 山西易高煤层气有限公司 一种天然气液化预处理用的湿天然气干燥设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0182256B1 (ko) * 1996-05-06 1999-04-15 박문찬 배기가스 내지 오염공기 정화장치 및 그 방법
JP2000140546A (ja) * 1998-11-04 2000-05-23 Toshio Awaji 粉塵含有排ガス処理装置及び粉塵含有排ガス処理方法
KR20130073987A (ko) * 2010-10-22 2013-07-03 갈라 인더스트리스 인코포레이티드 여과 장치
KR101777063B1 (ko) * 2016-10-31 2017-09-08 박상일 와류현상을 이용한 역세척 기능을 갖는 여과기
KR102039917B1 (ko) * 2018-08-01 2019-11-04 윤방남 분진 저감 전처리장치 및 이를 이용한 전처리시스템

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1070587A (zh) * 1992-05-19 1993-04-07 麦松泉 污浊气体过滤系统
KR200405303Y1 (ko) 2005-10-27 2006-01-10 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 폐가스 정화처리 장치
KR100998853B1 (ko) 2008-08-14 2010-12-08 유니셈(주) 폐가스 처리장치
KR101312414B1 (ko) 2012-10-18 2013-10-14 주식회사 이에스티 코로나 방전 및 저온복합산화촉매를 이용한 유해가스 정화 장치 및 이를 이용한 유해가스 정화 방법
KR101431452B1 (ko) 2013-02-21 2014-08-21 씨에스케이(주) 가열 방식의 스크러버 시스템
KR101568804B1 (ko) 2014-09-01 2015-11-12 유니셈(주) 폐가스 처리용 스크러버

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0182256B1 (ko) * 1996-05-06 1999-04-15 박문찬 배기가스 내지 오염공기 정화장치 및 그 방법
JP2000140546A (ja) * 1998-11-04 2000-05-23 Toshio Awaji 粉塵含有排ガス処理装置及び粉塵含有排ガス処理方法
KR20130073987A (ko) * 2010-10-22 2013-07-03 갈라 인더스트리스 인코포레이티드 여과 장치
KR101777063B1 (ko) * 2016-10-31 2017-09-08 박상일 와류현상을 이용한 역세척 기능을 갖는 여과기
KR102039917B1 (ko) * 2018-08-01 2019-11-04 윤방남 분진 저감 전처리장치 및 이를 이용한 전처리시스템

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117380601A (zh) * 2023-12-13 2024-01-12 山东锐峰光电科技有限公司 一种光纤传感器的封装装置
CN117380601B (zh) * 2023-12-13 2024-02-13 山东锐峰光电科技有限公司 一种光纤传感器的封装装置
CN117925289A (zh) * 2024-03-25 2024-04-26 山西易高煤层气有限公司 一种天然气液化预处理用的湿天然气干燥设备
CN117925289B (zh) * 2024-03-25 2024-06-07 山西易高煤层气有限公司 一种天然气液化预处理用的湿天然气干燥设备

Also Published As

Publication number Publication date
KR102604757B1 (ko) 2023-11-22
KR20220136738A (ko) 2022-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022211294A1 (ko) 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치
KR20060080998A (ko) 습식 전기집진을 이용한 폐 가스 정화처리장치
KR100875519B1 (ko) 활성탄을 이용한 소각로 배기가스의 유해물질 저감 플랜트
WO2017171151A1 (ko) 휘발성 유기 화합물 및 미세먼지를 정화 및 처리하는 덕트리스 공기정화장치
WO2019050188A1 (ko) 선박용 습식 스크러버 및 이를 포함하는 선박용 습식 스크러버 시스템
WO2009154363A2 (ko) 고온 가스용 습식 정화 시스템
CN109821373A (zh) 一种等离子体废气处理装置及方法
KR101841019B1 (ko) 소각발전소에서 발생된 미세분진과 유해가스 동시 처리용 배기가스 처리시스템
CN103111173A (zh) 一种烟气净化系统及其方法
CN216171304U (zh) 一种新型环保型工业废气净化装置
WO2020091392A1 (ko) 금속 필터를 이용한 일체형 배가스 처리 장치
WO2019231010A1 (ko) 고효율 마이크로버블 습식집진장치
CN111632448A (zh) 一种煤炭燃烧用工业废气净化装置及工作方法
KR102260160B1 (ko) 수평형 스크러버 장치
WO2022085852A1 (ko) 질소산화물 및 황산화물 동시제거 장치
WO2016137135A1 (ko) 악취 제거 장치
KR200383760Y1 (ko) 습식 전기집진을 이용한 폐 가스 정화처리장치
CN209584111U (zh) 一种过热蒸汽无氧碳化有机物综合系统
CN215962763U (zh) 一种用于工业废气的处理装置
WO2016093654A1 (en) Gas scrubber that generates no plumes and method of scrubbing gases
JPH10328531A (ja) ろ過式集塵装置
JPH08505561A (ja) 煙道ガス流を浄化する方法
CN215506025U (zh) 一种挥发性有机物治理装置
CN213995298U (zh) 一种废气除尘净化塔
CN215086151U (zh) 一种清洁造纸用废气净化装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22781415

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE