WO2022201844A1 - チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents

チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 Download PDF

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准一 藤本
怜 竹中
昌倫 寺本
ジェフリー ピー サーセル
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ギガフォトン株式会社
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    • H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Definitions

  • the present disclosure relates to a chamber apparatus, a gas laser apparatus, and an electronic device manufacturing method.
  • a KrF excimer laser device that outputs laser light with a wavelength of about 248 nm and an ArF excimer laser device that outputs laser light with a wavelength of about 193 nm are used.
  • the spectral line width of the spontaneous oscillation light of the KrF excimer laser device and the ArF excimer laser device is as wide as 350 pm to 400 pm. Therefore, if the projection lens is made of a material that transmits ultraviolet light, such as KrF and ArF laser light, chromatic aberration may occur. As a result, resolution can be reduced. Therefore, it is necessary to narrow the spectral line width of the laser light output from the gas laser device to such an extent that the chromatic aberration can be ignored. Therefore, in the laser resonator of the gas laser device, a line narrowing module (LNM) including a band narrowing element (etalon, grating, etc.) is provided in order to narrow the spectral line width.
  • LNM line narrowing module
  • a gas laser device whose spectral line width is narrowed will be referred to as a band-narrowed gas laser device.
  • a chamber device includes a housing that encloses a laser gas, a pair of discharge electrodes that are arranged facing each other in an internal space of the housing and that generate light from the laser gas when a voltage is applied; A window arranged on the wall surface of the housing for transmitting light, a first fan arranged in the internal space for causing the laser gas to flow between the pair of discharge electrodes, a filter arranged in the internal space, and driving the first fan.
  • a second fan that rotates together with the first fan by the driving force from the source, and a fan side that is provided in the internal space and causes the laser gas filtered by the filter to flow by the second fan and flow a part of the laser gas away from the window. and a window-side flow path provided in the internal space, communicating with the fan-side flow path, and allowing the laser gas flowed from the fan-side flow path by the second fan to flow to the window side.
  • a gas laser device includes a chamber device, and the chamber device is arranged to face each other in a housing that encloses a laser gas and an internal space of the housing.
  • a pair of discharge electrodes for generating a pair of discharge electrodes, a window arranged on the wall surface of the housing through which light passes, a first fan arranged in the internal space for causing a laser gas to flow between the pair of discharge electrodes, and a first fan arranged in the internal space.
  • a second fan that rotates together with the first fan by a driving force from a driving source of the first fan; and a laser gas that is provided in the internal space and filtered by the filter flows by the second fan, and a part of the laser gas flows.
  • a window-side flow path provided in the internal space, communicating with the fan-side flow path, and allowing the laser gas flowed from the fan-side flow path by the second fan to flow toward the window. You may prepare.
  • a method for manufacturing an electronic device includes a housing that encloses a laser gas, and a pair of discharges that are arranged facing each other in an internal space of the housing and generate light from the laser gas by applying a voltage.
  • an electrode a window placed on the wall surface of the housing to allow light to pass through, a first fan placed in the internal space to flow the laser gas between the pair of discharge electrodes, and a filter placed in the internal space to filter the laser gas.
  • a second fan that rotates together with the first fan by driving force from the driving source of the first fan; a filter that is arranged in the internal space; and a filter that rotates together with the first fan by driving force from the driving source of the first fan.
  • a laser beam is generated by a gas laser device that includes a chamber device that communicates with the flow path and that is provided with a window-side flow path for flowing the laser gas flowed from the fan-side flow path by the second fan toward the window side, and the laser light is output to the exposure device.
  • a photosensitive substrate may be exposed to laser light in an exposure apparatus to manufacture an electronic device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of an electronic device manufacturing apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of a gas laser device of a comparative example.
  • 3 is a view of the internal space of the housing of the chamber device shown in FIG. 2, viewed from the insulating section side toward the cross flow fan side.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the chamber apparatus shown in FIG. 2 perpendicular to the traveling direction of laser light.
  • FIG. 5 is a view of the internal space of the housing of the chamber device of Embodiment 1, viewed from the insulating section side toward the cross flow fan side.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of an electronic device manufacturing apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of a gas laser device of a comparative example.
  • 3 is a view of the internal space of the housing of the chamber device shown in FIG. 2, viewed from the insulating section side toward
  • FIG. 6 is a perspective view of the partition walls and the front-side channel viewed from the internal space in which the electrodes are arranged.
  • FIG. 7 is a perspective view of the partition wall and the front-side channel viewed from the inner space on the window side.
  • FIG. 8 is a view of the internal space of the housing of the chamber device of Embodiment 2, viewed from the insulating portion side toward the cross flow fan side.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall schematic configuration of an electronic device manufacturing apparatus used in an electronic device exposure process.
  • the manufacturing apparatus used in the exposure process includes a gas laser device 100 and an exposure device 200.
  • Exposure apparatus 200 includes an illumination optical system 210 including a plurality of mirrors 211 , 212 and 213 and a projection optical system 220 .
  • the illumination optical system 210 illuminates the reticle pattern on the reticle stage RT with laser light incident from the gas laser device 100 .
  • the projection optical system 220 reduces and projects the laser light transmitted through the reticle to form an image on a workpiece (not shown) placed on the workpiece table WT.
  • the workpiece is a photosensitive substrate, such as a semiconductor wafer, to which photoresist is applied.
  • the exposure apparatus 200 synchronously translates the reticle stage RT and the workpiece table WT to expose the workpiece to laser light reflecting the reticle pattern.
  • a semiconductor device which is an electronic device, can be manufactured by transferring a device pattern onto a semiconductor wafer through the exposure process as described above.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of the gas laser device 100 of this example.
  • Gas laser device 100 is, for example, an ArF excimer laser device that uses a mixed gas containing argon (Ar), fluorine ( F2), and neon (Ne). In this case, the gas laser device 100 outputs pulsed laser light with a center wavelength of approximately 193 nm.
  • the gas laser device 100 may be a gas laser device other than an ArF excimer laser device, for example, a KrF excimer laser device using a mixed gas containing krypton (Kr), F 2 and Ne. In this case, the gas laser device 100 emits pulsed laser light with a central wavelength of about 248 nm.
  • a mixed gas containing Ar, F 2 and Ne as laser media and a mixed gas containing Kr, F 2 and Ne as laser media are sometimes called laser gas.
  • Helium (He) may be used instead of Ne in the mixed gas used in each of the ArF excimer laser device and the KrF excimer laser device.
  • the gas laser device 100 of this example includes a housing 110, a laser oscillator 130 arranged in the inner space of the housing 110, a monitor module 150, a laser gas supply device (not shown), a laser gas exhaust device (not shown), and a laser processor 190. , as the main configuration.
  • the laser oscillator 130 includes a chamber device CH, a charger 141, a pulse power module 143, a rear mirror 145, and an output coupling mirror 147 as main components.
  • FIG. 2 shows the internal configuration of the chamber device CH as seen from a direction substantially perpendicular to the traveling direction of the laser light.
  • FIG. 3 is a view of the internal space of the housing 30 of the chamber device CH viewed from the insulating portion 33 side toward the cross flow fan 46 side.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the chamber device CH shown in FIG. 2 perpendicular to the traveling direction of the laser light.
  • the chamber device CH includes a housing 30, a pair of windows 31a and 31b, a pair of electrodes 32a and 32b, an insulating portion 33, a feedthrough 34, an electrode holder portion 36, a cross flow fan 46, and heat exchange.
  • a container 47, a pressure sensor 48, and a filter case 50 are provided as main components.
  • the housing 30 encloses the above laser gas.
  • Housing 30 also includes an interior space in which light is generated by excitation of the laser gas.
  • a laser gas is supplied from a laser gas supply device to the internal space of the housing 30 through a pipe (not shown). Light generated by excitation of the laser gas travels to windows 31a and 31b.
  • the window 31a is positioned on the front side in the traveling direction of the laser light from the gas laser device 100 to the exposure device 200, and the window 31b is positioned on the rear side in the traveling direction.
  • the windows 31a and 31b are tilted at a Brewster angle with respect to the traveling direction of the laser light so as to suppress the reflection of the P-polarized light of the laser light.
  • the window 31a is arranged on the wall surface of the housing 30 on the front side, and the window 31b is arranged on the wall surface of the housing 30 on the rear side.
  • the window 31a is held by a tubular holder 31c connected to the wall surface on the front side, and arranged by the holder 31c so as to face the opening 30a in the wall surface.
  • the window 31b is held by a holder 31d connected to the wall surface on the rear side with the same structure as the holder 31c, and arranged so as to face the opening 30b in the wall surface by the holder 31d.
  • the longitudinal direction of the electrodes 32a and 32b is along the traveling direction of the laser beam, and the electrodes 32a and 32b are arranged in the internal space of the housing 30 so as to face each other. A space between the electrodes 32a and 32b in the housing 30 is sandwiched between windows 31a and 31b.
  • the electrodes 32a and 32b are discharge electrodes for exciting the laser medium by glow discharge.
  • electrode 32a is the cathode and electrode 32b is the anode.
  • the electrode 32 a is supported by the insulating portion 33 .
  • the insulating portion 33 closes the opening that continues to the housing 30 .
  • the insulating portion 33 includes an insulator. Examples of insulators include alumina ceramics, which have low reactivity with F 2 gas.
  • a feedthrough 34 made of a conductive member is arranged in the insulating portion 33 . The feedthrough 34 applies the voltage supplied from the pulse power module 143 to the electrode 32a.
  • the electrode 32b is supported by the electrode holder portion 36 and is electrically connected to the electrode holder portion 36.
  • illustration of the electrode holder portion 36 is omitted for clarity of illustration.
  • the electrode holder portion 36 is electrically connected to the housing 30 via a return plate 37. As shown in FIG.
  • a cross-flow fan 46 is arranged in the internal space of the housing 30 on the side opposite to the electrode 32b side with respect to the electrode holder portion 36 .
  • the space in which the cross-flow fan 46 is arranged communicates with the space between the electrodes 32a and 32b.
  • the cross-flow fan 46 is connected to a motor 46 a arranged outside the housing 30 . When the motor 46a rotates, the cross flow fan 46 rotates.
  • the cross flow fan 46 causes the laser gas to flow between the electrodes 32a and 32b by rotation.
  • the flow of the laser gas is indicated by thick arrows, and the laser gas flows through the cross-flow fan 46, between the electrodes 32a and 32b, the heat exchanger 47, and the cross-flow fan 46 in this order. Circulate.
  • the ON/OFF and rotation speed of the motor 46a are adjusted under the control of the laser processor 190.
  • FIG. Therefore, the laser processor 190 can adjust the circulation speed of the laser gas circulating in the internal space of the housing 30 by controlling the motor 46a.
  • a heat exchanger 47 is arranged beside the cross flow fan 46 . Most of the laser gas flowed by the cross flow fan 46 passes through this heat exchanger 47, and the heat of the laser gas is removed by the heat exchanger 47.
  • the filter case 50 is arranged on the wall surface of the housing 30 on the side opposite to the heat exchanger 47 with respect to the cross-flow fan 46 .
  • the filter case 50 includes an inflow port 51 communicating with an opening 30c that is continuous in the approximate center of the housing 30 in the traveling direction of the laser beam, flow paths 30d provided in the wall surfaces of the housing 30 on the front side and the rear side, respectively. and outlets 51a, 51b communicating with 30e.
  • a front-side filter 53a is arranged between the inlet 51 and the front-side outlet 51a, and between the inlet 51 and the rear-side outlet 51b. is arranged with a rear-side filter 53b.
  • Filters 53a and 53b indicated by dashed lines in FIG. 3, have the same shape and length and filter the laser gas passing therethrough to remove particulates, which will be described later, from the laser gas.
  • the flow path 30d communicates with a front-side purge chamber 30g provided in the front-side wall surface of the housing 30, and the purge chamber 30g communicates with the internal space of the housing 30 through an opening 30j in the wall surface, and the opening 30a. is communicated with the internal space of the holder 31c via the .
  • a purge chamber is also provided in the rear side wall surface, and like the purge chamber 30g, the rear side purge chamber 30h is connected to the interior space of the housing 30 via the passage 30e and the opening 30k in the wall surface, and It communicates with the internal space of the holder 31d through the opening 30b.
  • a cylindrical member 60a on the front side is arranged in the purge chamber 30g.
  • the longitudinal direction of the tubular member 60a is along the traveling direction of the laser beam.
  • One end of the cylindrical member 60a is separated from the opening 30j and located closer to the holder 31c than the flow path 30d.
  • the other end of the cylindrical member 60a is connected to the edge of the holder 31c so as to surround the opening of the holder 31c.
  • a rear-side cylindrical member 60b is disposed in the purge chamber 30h, similarly to the purge chamber 30g.
  • the tubular member 60a includes a plurality of plate members 61 arranged on the inner peripheral surface of the tubular member 60a.
  • Each of the plate members 61 is arranged parallel to the longitudinal direction of the tubular member 60a with a predetermined interval in a state in which the in-plane direction of the plate member 61 is arranged along a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the tubular member 60a. are placed in Therefore, the plate members 61 are arranged with a gap therebetween.
  • An opening 63 continues to each plate member 61 .
  • Each opening 63 is arranged on the same straight line.
  • the cylindrical member 60b has the same configuration as the cylindrical member 60a.
  • the charger 141 is a DC power supply device that charges a capacitor (not shown) provided in the pulse power module 143 with a predetermined voltage.
  • the charger 141 is arranged outside the housing 30 and connected to the pulse power module 143 .
  • Pulse power module 143 includes a switch 143 a controlled by laser processor 190 . When the switch 143a is turned from OFF to ON by the control, the pulse power module 143 boosts the voltage applied from the charger 141 to generate a pulsed high voltage, and applies this high voltage to the electrodes 32a and 32b. . When a high voltage is applied, the insulation between the electrodes 32a and 32b is broken and discharge occurs.
  • the energy of this discharge excites the laser medium in the housing 30 to generate an excited level excimer. After that, when the excimer shifts to the ground level dissociating into two atoms, it emits light corresponding to the energy level difference. The emitted light travels to windows 31a, 31b.
  • the rear mirror 145 faces the window 31b, and the output coupling mirror 147 faces the window 31a.
  • the rear mirror 145 is coated with a highly reflective film, and the output coupling mirror 147 is coated with a partially reflective film.
  • the rear mirror 145 reflects the laser beam emitted from the window 31 b with high reflectance and returns it to the housing 30 .
  • the output coupling mirror 147 transmits part of the laser light output from the window 31a, reflects another part, and returns it to the internal space of the housing 30 through the window 31a.
  • the output coupling mirror 147 is composed of, for example, an element in which a dielectric multilayer film is formed on a calcium fluoride substrate.
  • the rear mirror 145 and the output coupling mirror 147 constitute a Fabry-Perot laser resonator, and the housing 30 is arranged on the optical path of the laser resonator. Therefore, the laser light emitted from the housing 30 reciprocates between the rear mirror 145 and the output coupling mirror 147 .
  • the reciprocating laser light is amplified each time it passes through the laser gain space between the electrodes 32a and 32b. Part of the amplified light passes through the output coupling mirror 147 as pulsed laser light.
  • the rear mirror 145 is fixed in the internal space of a housing 145 a connected to the rear side of the housing 30 .
  • the output coupling mirror 147 is fixed in the internal space of an optical path tube 147 a connected to the front side of the housing 30 .
  • the window 31b may have the function of the rear mirror 145.
  • the holder 31d has a flexible structure so that the angle of the laser beam incident on the window 31b can be adjusted.
  • the function of the output coupling mirror 147 may be given to the window 31a.
  • the holder 31c has a flexible structure so that the angle of the laser beam incident on the window 31b can be adjusted.
  • a band narrowing module (not shown) that narrows the band of the laser light may be arranged.
  • a narrowband module includes a prism, a grating, and a rotation stage. The prism, grating, and rotation stage are arranged in the internal space of the housing 145a.
  • the prism expands the beam width of the light emitted from the window 31b and causes the light to enter the grating.
  • the prism also reduces the beam width of the light reflected from the grating and returns the light to the internal space of the housing 30 through the window 31b.
  • At least one prism should be arranged.
  • the surface of the grating is made of a highly reflective material, and a large number of grooves are provided at predetermined intervals on the surface.
  • a grating is a dispersive optical element.
  • the cross-sectional shape of each groove is, for example, a right triangle.
  • Light entering the grating from the prism is reflected by these grooves and diffracted in a direction according to the wavelength of the light.
  • the grating is Littrow-arranged so that the incident angle of the light incident on the grating from the prism and the diffraction angle of the diffracted light of the desired wavelength match. As a result, light around the desired wavelength is returned to the housing 30 via the prism.
  • the rotating stage supports the prism and rotates the prism. Rotating the prism changes the angle of incidence of the light on the grating. Therefore, by rotating the prism, the wavelength of light returning from the grating to housing 30 through the prism can be selected.
  • a laser resonator is composed of the output coupling mirror 147 and the grating provided with the casing 30 interposed therebetween, and the casing 30 is arranged on the optical path of the laser resonator. Therefore, light emitted from housing 30 reciprocates between the grating and output coupling mirror 147 .
  • the monitor module 150 is arranged on the optical path of the pulsed laser light that passes through the output coupling mirror 147 .
  • the monitor module 150 includes a housing 151, and a beam splitter 152, a condenser lens 153, and an optical sensor 154 arranged in the internal space of the housing 151 as main components.
  • An opening continues to the housing 151, and an optical path tube 147a is connected so as to surround the opening. Therefore, the internal space of the housing 151 communicates with the internal space of the optical path tube 147a through this opening.
  • the beam splitter 152 allows the pulsed laser light that passes through the output coupling mirror 147 to pass through the output window 161 with high transmittance, and reflects part of the pulsed laser light toward the condenser lens 153 .
  • Condensing lens 153 converges the pulsed laser light onto the light receiving surface of optical sensor 154 .
  • the optical sensor 154 measures the pulse energy E of the pulsed laser beam incident on the light receiving surface.
  • Optical sensor 154 is electrically connected to laser processor 190 and outputs a signal to laser processor 190 indicative of data relating to the pulse energy E to be measured.
  • An opening is continuous on the opposite side of the housing 151 of the monitor module 150 to the side to which the optical path tube 147a is connected, and the optical path tube 161a is connected so as to surround this opening. Therefore, the internal space of the housing 151 and the internal space of the optical path tube 161a communicate with each other. Also, the optical path tube 161 a is connected to the housing 110 . An exit window 161 is provided at a position surrounded by the optical path tube 161 a in the housing 110 . Light transmitted through the beam splitter 152 of the monitor module 150 is emitted from the emission window 161 to the exposure apparatus 200 outside the housing 110 .
  • the optical path tubes 147a, 161a and the internal spaces of the housings 145a, 151 are filled with a purge gas.
  • the purge gas contains an inert gas such as high-purity nitrogen containing few impurities such as oxygen.
  • the purge gas is supplied from a purge gas supply source (not shown) arranged outside the housing 110 to the internal spaces of the optical pipes 147a and 161a and the housings 145a and 151 through pipes (not shown).
  • the pressure sensor 48 measures the pressure in the internal space of the housing 30.
  • the pressure sensor 48 is electrically connected to the laser processor 190 and outputs to the laser processor 190 a signal indicative of data relating to the pressure being measured.
  • the laser gas supply device is supplied with laser gas from a laser gas supply source (not shown) arranged outside the housing 110 through a pipe (not shown).
  • the laser gas supply device is provided with valves and flow control valves (not shown), and is connected to other pipes connected to the housing 30 .
  • the laser gas supply device supplies a plurality of gases to the internal space of the housing 30 through the other piping according to control signals from the laser processor 190 .
  • a pipe connected to the housing 30 is connected to the laser gas exhaust device.
  • the laser gas exhaust device includes an exhaust pump (not shown), which exhausts the gas in the internal space of the housing 30 into the internal space of the housing 110 through a pipe.
  • the housing 110 is provided with an exhaust duct 111 .
  • the gas is exhausted to the outside of the housing 110 through the exhaust duct 111 .
  • the gas is exhausted from the internal space of the housing 30 to the internal space of the housing 110 by the laser gas exhaust device, or is discharged from the optical path tubes 147a and 161a to the internal space of the housing 110 by a configuration not shown. gas.
  • the laser processor 190 of the present disclosure is a processing device that includes a storage device that stores control programs and a CPU that executes the control programs.
  • Laser processor 190 is specially configured or programmed to perform various processes contained in this disclosure.
  • the laser processor 190 controls the entire gas laser device 100 .
  • the laser processor 190 is electrically connected to the exposure processor of the exposure apparatus 200, and transmits and receives various signals to and from the exposure processor.
  • the internal spaces of the optical path tubes 147a and 161a and the internal spaces of the housings 145a and 151 are filled with a purge gas from a purge gas supply source (not shown).
  • a laser gas is supplied to the internal space of the housing 30 from a laser gas supply device (not shown).
  • the laser processor 190 controls the motor 46a to rotate the cross flow fan 46. As shown in FIG. The rotation of the cross-flow fan 46 causes the laser gas to circulate in the internal space of the housing 30 .
  • the laser processor 190 sets a predetermined charging voltage to the charger 141 and turns on the switch 143a.
  • the pulse power module 143 generates a pulsed high voltage from the electrical energy held in the charger 141, and the high voltage is applied between the electrodes 32a and 32b.
  • the insulation between the electrodes 32a and 32b is broken and discharge occurs.
  • the energy of this discharge excites the laser medium contained in the laser gas between the electrodes 32a and 32b to emit spontaneous emission light when returning to the ground state.
  • a part of this light is ultraviolet light, and the light transmitted through the window 31b is reflected by the rear mirror 145.
  • the light reflected by the rear mirror 145 propagates through the window 31b into the internal space of the housing 30 again.
  • the light propagating in the internal space of the housing 30 causes stimulated emission in the laser medium in an excited state, thereby amplifying the light.
  • the light passes through window 31 a and travels to output coupling mirror 147 .
  • a portion of the light is transmitted through the output coupling mirror 147 and the remaining portion of the light is reflected by the output coupling mirror 147, transmitted through the window 31a, and propagated into the internal space of the housing 30.
  • FIG. Light propagating in the internal space of housing 30 travels to rear mirror 145 as described above.
  • the laser light reciprocates between the rear mirror 145 and the output coupling mirror 147 and is amplified each time it passes through the discharge space in the internal space of the housing 30 .
  • a portion of the laser light passes through the output coupling mirror 147 as pulsed laser light and travels to the beam splitter 152 .
  • a portion of the pulsed laser light traveling to the beam splitter 152 is reflected by the beam splitter 152 .
  • the reflected pulsed laser light is received by the optical sensor 154, and the optical sensor 154 measures the pulse energy E of the received pulsed laser light.
  • Optical sensor 154 outputs a signal to laser processor 190 indicative of data relating to the pulse energy E to be measured.
  • the laser processor 190 feedback-controls the charging voltage of the charger 141 so that the difference ⁇ E between the pulse energy E and the target pulse energy Et is within the allowable range.
  • This pulsed laser light is ArF laser light, which is ultraviolet light with a center wavelength of about 193 nm.
  • the pressure in the internal space of the housing 30 is measured by the pressure sensor 48 , and a signal indicating pressure data from the pressure sensor 48 is input to the laser processor 190 .
  • the laser processor 190 controls the laser gas supply device based on the signal from the pressure sensor 48, and supplies the laser gas until the pressure in the internal space of the housing 30 reaches a predetermined pressure. is supplied to the internal space of the housing 30 .
  • the laser processor 190 controls the laser gas exhaust device based on the signal, and discharges the laser gas from the internal space of the housing 30 until the pressure reaches a predetermined pressure. Exhaust.
  • the laser gas from which fine particles have been removed passes through the flow path 30d and flows into the purge chamber 30g.
  • a part of the flowing laser gas flows into the internal space of the housing 30 through the opening 30j.
  • Another part of the laser gas blows the window 31a.
  • another part of the laser gas bounces off the window 31a and flows into the internal space of the housing 30 through the opening 30j.
  • fine particles floating in the internal space of the housing 30 may pass through the purge chamber 30g through the opening 30j and flow into the window 31a.
  • the cylindrical member 60a is arranged in order to suppress adhesion of such fine particles to the window 31a.
  • the laser gas containing fine particles from the opening 30j is compressed when passing through the opening 63 of the cylindrical member 60a, and after passing through the gap between the adjacent plate members 61, the compression is released and the laser gas expands.
  • the laser gas travels in the longitudinal direction of the cylindrical member 60a in the inner space of the cylindrical member 60a, the laser gas is repeatedly compressed and expanded. and removed.
  • the laser gas from which fine particles have been removed flows to the window 31a and blows the window 31a. Therefore, adhesion of fine particles flowing from the opening 30j to the window 31a is suppressed.
  • the flow and blowing of the laser gas are explained using the front side, but the flow and blowing of the laser gas on the rear side are the same. Therefore, by blowing the laser gas onto the window 31b, adhesion of fine particles to the window 31b is suppressed.
  • the transmittance decreases, the energy density of the pulsed laser light emitted from the gas laser device 100 toward the exposure device 200 may decrease. Therefore, there arises a concern that the reliability of the gas laser device 100 is lowered. This shortage of flow rate becomes more conspicuous as the pulse energy of the gas laser device 100 increases, because the number of fine particles generated increases due to the increase in electrode area and the like.
  • a chamber device CH capable of suppressing deterioration in reliability of the gas laser device 100 is illustrated.
  • FIG. 5 is a view of the internal space of the housing 30 of the chamber device CH of this embodiment viewed from the insulating portion 33 side toward the cross flow fan 46 side. Unlike the chamber device CH of the comparative example, the chamber device CH of the present embodiment is not provided with the filter case 50, the flow paths 30d and 30e, and the purge chambers 30g and 30h.
  • the chamber device CH includes partition walls 81 and 83 provided in the internal space of the housing 30 .
  • the partition 81 is provided between the electrodes 32a and 32b and the wall surface on the front side
  • the partition wall 83 is provided between the electrodes 32a and 32b and the wall surface on the rear side.
  • the main surface of the partition 81 faces the wall surface on the front side of the housing 30
  • the main surface of the partition wall 83 faces the wall surface on the rear side of the housing 30 .
  • Such partition walls 81 and 83 divide the internal space of the housing 30 into three internal spaces 301 , 303 and 305 .
  • An internal space 301 is a front window side space between the partition wall 81 and the front side wall surface of the housing 30
  • an internal space 303 is a rear window side space between the partition wall 83 and the rear side wall surface of the housing 30 .
  • the internal space 301 is in contact with the wall surface on the front side
  • the internal space 303 is in contact with the wall surface on the rear side.
  • the internal space 305 is a space between the internal space 301 and the internal space 303, specifically, a space between the partition walls 81 and 83 on the side of the electrodes 32a and 32b.
  • the internal space 305 is the internal space on the opposite side of the internal space 301 with the partition wall 81 as a reference, and the internal space on the opposite side of the internal space 303 with the partition wall 83 as a reference.
  • the internal space 301 and the internal space 303 have the same size, and the internal space 305 is wider than the internal spaces 301 and 305 .
  • electrodes 32a and 32b In the internal space 305, electrodes 32a and 32b, an electrode holder portion 36, a cross-flow fan 46 that is a first fan, a heat exchanger 47, and a pressure sensor 48 are arranged. 5, the electrode 32b, the electrode holder portion 36, and the pressure sensor 48 are omitted for clarity of illustration, as in FIG.
  • the cross-flow fan 46 and the heat exchanger 47 are arranged in the internal space 305 in the opposite direction from the comparative example.
  • Filters 53a and 53b are arranged in the internal space 305 unlike the internal space of the housing 30 of the comparative example.
  • the filters 53 a and 53 b are arranged on the opposite side of the cross flow fan 46 with respect to the heat exchanger 47 .
  • the cross-flow fan 46 circulates the laser gas through the cross-flow fan 46, between the electrodes 32a and 32b, the filters 53a and 53b, the heat exchanger 47, and the cross-flow fan 46 in this order.
  • the filters 53a, 53b filter the laser gas flowing through each of the cross-flow fans 46 to remove particulates from the laser gas.
  • the filter 53a is arranged adjacent to the partition wall 81 in the internal space 305 so as to close the opening 81a connected to the partition wall 81
  • the filter 53b is arranged adjacent to the partition wall 81 in the internal space 305 so as to close the opening 83a connected to the partition wall 83.
  • the openings 81a and 83a are indicated by dashed lines.
  • the filters 53a, 53b and the openings 81a, 83a are arranged on the same straight line in the traveling direction of the laser light. Filters 53a and 53b are shorter than each in the comparative example. Note that the filters 53a and 53b may be longer than those of the comparative example, or may have the same length. Alternatively, one filter may be placed between the openings 81a, 83a so as to block the openings 81a, 83a.
  • the chamber device CH of the present embodiment includes a second fan, a fan-side flow path in which the second fan is arranged, and a window-side flow path that communicates with the fan-side flow path and allows the laser gas to flow toward the window. It is arranged on each of the front side and the rear side.
  • the second fan, the fan-side channel, and the window-side channel on the front side will be described as the second fan 311 , the channel 313 , and the channel 315 .
  • the second fan, the fan-side channel, and the window-side channel on the rear side will be described as a second fan 321 , a channel 323 , and a channel 325 .
  • the second fan 311, flow path 313, and flow path 315 on the front side will be used. 311 , channel 313 , and channel 315 . Therefore, the second fan 321 , the flow path 323 and the flow path 325 can obtain the same operations, functions and effects as the second fan 311 , the flow path 313 and the flow path 315 .
  • FIG. 6 is a perspective view of the partition wall 81 and the flow path 313 seen from the internal space 305
  • FIG. 7 is a perspective view of the partition wall 81 and the flow path 313 seen from the internal space 301.
  • a second fan 311 is arranged in the channel 313 , and the laser gas filtered by the filter 53 a flows through the channel 313 by the second fan 311 .
  • the channel 313 of this embodiment is provided in the internal space 301 and the internal space 305 through the openings 81 a , 81 b , 81 c of the partition wall 81 .
  • Such channels 313 include a first channel 313 a provided in the internal space 301 , a second channel 313 b provided in the internal space 305 , and a third channel 313 c provided in the internal space 301 .
  • Each of the first flow path 313a, the second flow path 313b, and the third flow path 313c is a space surrounded by the partition wall 81 and the plate member.
  • the first flow path 313 a , the second flow path 313 b , and the third flow path 313 c are provided along the planar direction of the partition wall 81 .
  • One end of the first flow path 313a communicates with the internal space 305 through the opening 81a and the filter 53a, and the laser gas in the internal space 305 flows from the internal space 305 into the first flow path 313a through the opening 81a, which is the first opening. flow through.
  • the other end of the first flow path 313 a communicates with the opening 81 b that continues to the partition wall 81 .
  • the opening 81b is smaller than the opening 81a and positioned below the opening 81a.
  • part of the first flow path 313a hidden by the third flow path 313c is indicated by broken lines
  • part of the first flow path 313a hidden by the partition walls 81 is indicated by broken lines. 5
  • the illustration of the opening 81b is omitted for ease of viewing, and the opening 81b is indicated by a dashed line in FIGS.
  • One end of the second flow path 313b communicates with the first flow path 313a through an opening 81b, which is a second opening. It flows in through the opening 81b, which is the second opening. Also, the other end of the second flow path 313b communicates with an opening 81c that is a third opening that is continuous with the partition wall 81 .
  • a portion of the second flow path 313b hidden by the partition wall 81 is indicated by a broken line.
  • the opening 81c is larger than the opening 81b and smaller than the opening 81a.
  • the opening 81c is located on the side opposite to the opening 81a with respect to the opening 81b and at approximately the same height as the opening 81a.
  • the opening 81c is indicated by a dashed line in FIG.
  • One end of the third flow path 313c communicates with the second flow path 313b through an opening 81c, and the laser gas in the second flow path 313b flows into the third flow path 313c from the second flow path 313b through the third opening. It flows in through a certain opening 81c.
  • the other end of the third channel 313c communicates with one end of the channel 315 on the partition wall 83 side and with the internal space 305 via the opening 81d.
  • Such a third flow path 313c allows part of the laser gas to flow into the internal space 305 through the opening 81d and the other part of the laser gas to flow into the flow path 315. As shown in FIG.
  • the third flow path 313c causes part of the laser gas to flow away from the window 31a and another part of the laser gas to flow toward the window 31a.
  • the opening 81d is larger than the opening 81c and smaller than the opening 81a.
  • the opening 81d is located above the opening 81b.
  • the second fan 311 is, for example, a centrifugal fan, and is arranged adjacent to the opening 81c in the third flow path 313c.
  • the arrangement position of the second fan 311 is approximately the middle position of the flow path 313 .
  • the second fan 311 is rotated in the same direction together with the cross-flow fan 46 by the driving force.
  • the second fan 311 causes the laser gas in the flow path 313 to flow to the flow path 315 by rotating.
  • the channel 315 is an internal space of a cylindrical member and is provided in the internal space 301 .
  • the longitudinal direction of the flow path 315 is along the traveling direction of the laser light.
  • a channel 315 is provided in the internal space 301 .
  • One end of the flow path 315 communicates with the third flow path 313c, and the other end of the flow path 315 is connected to the wall surface on the front side of the housing 30 so as to surround the opening 30a.
  • the opening 81d, the communication portion between the opening 81d and the third flow path 313c, the communication portion between the third flow path 313c and the flow path 315, and the flow path 315 are the windows. 31a.
  • the flow path 315 allows the laser gas flowed from the third flow path 313c of the flow path 315 by the second fan 311 to flow toward the window 31a. Further, the channel 315 causes the laser gas bounced off the window 31a to flow away from the window 31a, specifically, the laser gas into the internal space 305 through the opening 81d.
  • a tubular member 60 a is arranged in the flow path 315 .
  • the cylindrical member 60a is arranged coaxially with the window 31a.
  • the cylindrical member 60a is shorter than the flow path 315.
  • One end of the cylindrical member 60a is separated from the partition wall 81 and positioned closer to the window 31a than the third flow path 313c.
  • the other end of the cylindrical member 60a is connected to the wall surface on the front side of the housing 30 so as to surround the opening 30a.
  • each of the flow paths 323 corresponding to the first flow path 313a, the second flow path 313b, and the third flow path 313c is divided into the first flow path 323a, the second flow path 323b, and the third flow path 323c. It is shown as channel 323c. Further, openings corresponding to the openings 81a, 81b, 81c and 81d are shown as openings 83a, 83b, 83c and 83d.
  • the drive shaft 46b that connects the motor 46a and the cross flow fan 46 rotates.
  • the cross flow fan 46 is rotated by the driving force from the motor 46a.
  • the second fan 311 is connected to the drive shaft 46b, it rotates in the same direction as the cross flow fan 46 by the driving force from the motor 46a.
  • most of the laser gas circulates through the cross-flow fan 46, between the electrodes 32a and 32b, the filters 53a and 53b, the heat exchanger 47, and the cross-flow fan 46 in this order as the cross-flow fan 46 rotates. .
  • Another part of the laser gas passes through the filter 53 a and the opening 81 a and flows into the flow path 313 due to the rotation of the cross flow fan 46 and the second fan 311 .
  • the laser gas is filtered by the filter 53a and flows through the flow path 313 in a state in which fine particles contained in the laser gas are removed from the laser gas by filtration.
  • the laser gas is caused by the second fan 311 to flow through the first channel 313a, the opening 81b, the second channel 313b, the opening 81c, and the third channel 313c in this order.
  • the traveling direction of the laser gas is substantially orthogonal to the axial direction of the opening 81d and the flow path 315.
  • the axial direction is the traveling direction of the laser light.
  • the laser gas collides with the inner circumferential surface of the third flow path 313c located on the traveling direction of the laser gas. Due to the collision, part of the laser gas passes through the opening 81 d and flows into the internal space 305 , and the other part of the laser gas flows into the flow path 315 .
  • the laser gas flows to the cylindrical member 60a, flows to the window 31a, and blows the window 31a.
  • the laser gas blown against the window 31a bounces off the window 31a, passes through the tubular member 60a, the flow path 315, and the opening 81d and flows into the internal space 305. As shown in FIG.
  • the second fan 311 rotates together with the cross-flow fan 46 by driving force from the motor 46 a that is the drive source of the cross-flow fan 46 .
  • the second fan 311 causes the laser gas filtered by the filter 53a to flow through the channel 313, which is the fan-side channel. A portion of the laser gas flows away from the window 31a, and the other portion flows into the channel 315, which is the channel on the window side.
  • the laser gas that has flowed through the channel 315 flows toward the window 31a through the channel 315, bounces off the window 31a, and flows through the channel 315 in a direction away from the window 31a.
  • the flow rate of the laser gas in the flow path 313 is increased by the second fan 311 . Therefore, even if the laser gas containing fine particles in the internal space 305 on the side of the electrodes 32a and 32b tries to advance to the window 31a, the laser gas flows in the direction away from the window 31a as the flow rate increases as described above. pushed back to As a result, particles can be suppressed from advancing from the internal space 305 to the window 31a, and adhesion of the particles to the window 31a can be suppressed. In addition, since the laser gas flowing through the window 31a is blown against the window 31a in a state in which fine particles have been removed, adhesion of fine particles can be suppressed by the blowing.
  • the decrease in transmittance of the window 31a due to adhesion can be suppressed.
  • the decrease in transmittance is suppressed, the decrease in the energy density of the pulsed laser light emitted from the gas laser device 100 toward the exposure device 200 can be suppressed, and the decrease in reliability of the gas laser device 100 can be suppressed.
  • the second fan 311 rotates together with the cross-flow fan 46, and in this case, the cross-flow fan 46 and the second fan 311 can be driven by a common motor 46a.
  • the number of motors 46a can be reduced, the cost of the chamber device CH can be suppressed, and the chamber device CH can be made smaller than when the motors 46a are arranged in the cross flow fan 46 and the second fan 311 respectively. can be.
  • the channel 313 is provided in the internal space 301 and the internal space 305 wider than the internal space 301
  • the channel 315 is provided in the internal space 301 . Since the internal space 305 is wider than the internal space 301, an extra space is easily secured in the internal space 305 as compared with the internal space 301. - ⁇ Therefore, in the case of the configuration described above, part of the flow path 313 can be easily arranged in the internal space 301 . In addition, since the other part of the channel 313 is arranged in the internal space 305, each channel in the internal space 301 can can be widened. This may facilitate placement of a portion of channel 313 and channel 315 in interior space 301 . Furthermore, since part of the flow path 313 is arranged in the internal space 305, the internal space 301 can be made small, and the length of the housing 30 in the longitudinal direction can be shortened.
  • the third flow path 313c communicates with the third flow path 313c via an opening 81d provided on the opposite side of the flow path 315 with respect to the third flow path 313c.
  • the laser gas is further flowed into the internal space 305 .
  • Fine particles in the internal space 305 may advance from the internal space 305 to the window 31a via the opening 81d, the third flow path 313c, and the flow path 315 by the cross flow fan .
  • part of the laser gas flowing through the third flow path 313c flows into the internal space 305 so as to push back the fine particles, so the inflow of the fine particles from the internal space 305 to the window 31a can be suppressed.
  • the opening 81d, the communicating portion between the opening 81d and the third flow path 313c, the third flow path 313c and the flow path 315, and , and the channel 315 overlap the window 31a.
  • the pulsed laser light travels from the internal space 305 to the window 31a through the opening 81d, the third flow path 313c, and the flow path 315, the opening through which the pulsed laser light passes is provided in the partition wall 81 separately from the opening 81d. may not need to be provided.
  • the third flow path 313 c communicates with the flow path 315 on the partition wall 81 side rather than the front wall surface side of the housing 30 .
  • the inflow of fine particles from the internal space 305 to the flow path 315 through the opening 81d is suppressed. obtain.
  • the filter 53a covers the opening 81a in the internal space 305.
  • particulates can be suppressed from advancing to the flow path 313 compared to the case where the filter 53a is arranged in the internal space 305 so as not to cover the opening 81a.
  • Suppressing the advance of fine particles into the channel 313 can suppress the accumulation of fine particles in the channels 313 and 315 and the progress of the fine particles through the channels 313 and 315 to the window 31a.
  • the cylindrical member 60a is arranged in the flow path 315.
  • the cylindrical member 60a includes a plurality of plate members 61 with continuous openings 63, and the respective plate members 61 are arranged in parallel in the longitudinal direction of the cylindrical member 60a at intervals.
  • the laser gas repeatedly compresses and expands as it travels through the inner space of the cylindrical member 60a, and fine particles contained in the laser gas can adhere to the plate member 61, and the fine particles can be further removed from the laser gas.
  • the second fan 311 is connected to the drive shaft 46b of the cross flow fan 46 and is rotated by the rotation of the drive shaft 46b.
  • This configuration allows the second fan 311 to rotate simultaneously with the cross-flow fan 46 .
  • the number of drive shafts 46b can be reduced compared to the case where the drive shafts 46b are arranged separately for the cross flow fan 46 and the second fan 311, respectively, and the cost of the chamber device CH can be suppressed.
  • the chamber device CH can be miniaturized.
  • the cross-flow fan 46 has been described as the first fan in the chamber device CH of the present embodiment, the first fan may be a reflux fan. Also, although the second fan 311 has been described as a centrifugal fan, the second fan 311 may be a sirocco fan.
  • FIG. 8 is a view of the internal space of the housing 30 of this embodiment viewed from the insulating section 33 side toward the cross flow fan 46 side.
  • each configuration of the flow paths 313, 315, 323, 325 is different from that of the first embodiment.
  • the flow paths 313 and 315 are used in the description below, the flow paths 323 and 325 have the same configuration as the flow paths 313 and 315 . Therefore, the flow paths 323 and 325 can obtain the same operations, functions and effects as the flow paths 313 and 315.
  • the channel 313 of the present embodiment includes a first channel 313a and a second channel 313b, and each of the first channel 313a and the second channel 313b, that is, the entire channel 313 is provided in the internal space 301. be done. Therefore, the partition wall 81 of the present embodiment is not provided with the openings 81b and 81c explained in the first embodiment for communicating the flow paths 313 with each other.
  • the second flow path 313b is a space surrounded by the wall surface on the front side of the housing 30 and the plate material, and is provided along the wall surface. One end of the second channel 313b communicates with the other end of the first channel 313a, and the other end of the second channel 313b communicates with the opening 30a.
  • the second fan 311 is arranged on one end side of the second flow path 313b, and the cylindrical member 60a is arranged on the other end side of the second flow path 313b.
  • the flow path 315 is arranged on the side opposite to the wall surface on the front side of the housing 30 with respect to the cylindrical member 60a.
  • One end of the flow path 315 communicates with the other end of the second flow path 313b on the side in the traveling direction of the laser gas flowing through the second flow path 313b.
  • the laser gas in the second flow path 313b flows into the flow path 315 from the second flow path 313b along the outer peripheral surface of the cylindrical member 60a.
  • the opening 81d of this embodiment is provided on the opposite side of the second flow path 313b with respect to the flow path 315, the diameter of the flow path 315 is larger than the opening 81d, and the other end of the flow path 315 surrounds the opening 81d. is connected to the partition wall 81 at .
  • the opening 81d, the communicating portion between the opening 81d and the flow path 315, the flow path 315, and the internal space of the cylindrical member 60a overlap the window 31a.
  • the flow path 315 allows part of the laser gas flowing along the outer peripheral surface of the cylindrical member 60a from the second flow path 313b to flow toward the window 31a through the inner space of the cylindrical member 60a.
  • the channel 315 causes another part of the laser gas to flow into the internal space 305 through the opening 81d.
  • the channel 315 causes the laser gas that bounces off the window 31a and returns to the channel 315 through the cylindrical member 60a to flow into the internal space 305 through the opening 81d.
  • the flow path 313 as described above communicates with the second flow path 313b on the wall surface side on the front side of the housing 30 rather than on the partition wall 81 side. Since the partition 81 of this embodiment is not provided with the openings 81b and 81c, the opening 81d is the second opening of the partition 81. As shown in FIG.
  • the laser gas is caused to flow through the first flow path 313a and the second flow path 313b in this order by the second fan 311 .
  • the laser gas flows into the flow path 315 along the outer peripheral surface of the cylindrical member 60a in the traveling direction of the pulsed laser light.
  • a part of the laser gas flowing in the flow path 315 flows into the internal space 305 through the opening 81d.
  • the diameter of the channel 315 is larger than that of the opening 81d as described above, the other part of the laser gas is trapped between the peripheral surface of the channel 315 in the partition wall 81 and the edge of the opening 81d. Collide with the wall.
  • the collision causes the laser gas to flow to the window 31a through the flow path 315 and the cylindrical member 60a. Therefore, the channel 315 communicating with the second channel 313b allows the laser gas to flow through the window 31a through the tubular member 60a provided in the second channel 313b. Therefore, the second flow path 313b causes part of the laser gas to flow away from the window 31a via the flow path 315 and the opening 81d, and flow part of the laser gas to the window 31a side via the flow path 315.
  • the laser gas in flow path 315 blows window 31a.
  • the laser gas that blows on the window 31a bounces off the window 31a.
  • the channel 315 causes the laser gas bounced off the window 31a to flow away from the window 31a, specifically, the laser gas to the internal space 305 through the opening 81d.
  • the channel 313 and the channel 315 are arranged in the internal space 301 . Therefore, it may be unnecessary to provide the openings 81b and 81c in the partition wall 81 . Further, since the flow paths 313 and 315 are not arranged in the internal space 305, it is possible to prevent the flow of gas from the cross-flow fan 46 from being disturbed by the flow paths 313 and 315.
  • FIG. 1 A block diagram illustrating an exemplary computing environment.

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Abstract

チャンバ装置（ＣＨ）は、レーザガスを封入する筐体（３０）と、電圧が印加されることでレーザガスから光を発生させる一対の放電電極（３２ａ、３２ｂ）と、筐体（３０）の壁面に配置され、光が透過するウインドウ（３１ａ、３１ｂ）と、レーザガスを一対の放電電極（３２ａ、３２ｂ）の間に流す第１ファン（４６）と、フィルタ（５３ａ、５３ｂ）と、第１ファン（４６）の駆動源（４６ａ）からの駆動力によって第１ファン（４６）と共に回転する第２ファン（３１１、３２１）とを備える。また、チャンバ装置（ＣＨ）は、フィルタ（５３ａ、５３ｂ）によってろ過されるレーザガスが第２ファン（３１１、３２１）によって流れ、当該レーザガスの一部をウインドウ（３１ａ、３１ｂ）から離れる方向に流すファン側流路（３１３、３２３）と、ファン側流路（３１３、３２３）に連通し、第２ファン（３１１、３２１）によってファン側流路（３１３、３２３）から流されるレーザガスをウインドウ（３１ａ、３１ｂ）側に流すウインドウ側流路（３１５、３２５）とを備える。

Description

チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
　本開示は、チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
　近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
　ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０ｐｍ～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過する材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Ｌｉｎｅ　Ｎａｒｒｏｗｉｎｇ　Ｍｏｄｕｌｅ：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。以下では、スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化ガスレーザ装置という。
特開平６－１３２５８２号公報 特開平６－１５２０３０号公報 特開平６－２３７０２９号公報 特公平７－１１８５５６号公報
概要
　本開示の一態様によるチャンバ装置は、レーザガスを封入する筐体と、筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることでレーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、筐体の壁面に配置され、光が透過するウインドウと、内部空間に配置され、レーザガスを一対の放電電極の間に流す第１ファンと、内部空間に配置されるフィルタと、第１ファンの駆動源からの駆動力によって第１ファンと共に回転する第２ファンと、内部空間に設けられ、フィルタによってろ過されるレーザガスが第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部をウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、内部空間に設けられ、ファン側流路に連通し、第２ファンによってファン側流路から流されるレーザガスをウインドウ側に流すウインドウ側流路とを備えてもよい。
　本開示の一態様によるガスレーザ装置は、チャンバ装置を備え、チャンバ装置は、レーザガスを封入する筐体と、筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることでレーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、筐体の壁面に配置され、光が透過するウインドウと、内部空間に配置され、レーザガスを一対の放電電極の間に流す第１ファンと、内部空間に配置されるフィルタと、第１ファンの駆動源からの駆動力によって第１ファンと共に回転する第２ファンと、内部空間に設けられ、フィルタによってろ過されるレーザガスが第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部をウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、内部空間に設けられ、ファン側流路に連通し、第２ファンによってファン側流路から流されるレーザガスをウインドウ側に流すウインドウ側流路とを備えてもよい。
　本開示の一態様による電子デバイスの製造方法は、レーザガスを封入する筐体と、筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることでレーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、筐体の壁面に配置され、光が透過するウインドウと、内部空間に配置され、レーザガスを一対の放電電極の間に流す第１ファンと、内部空間に配置され、レーザガスをろ過するフィルタと、第１ファンの駆動源からの駆動力によって第１ファンと共に回転する第２ファンと、内部空間に配置されるフィルタと、第１ファンの駆動源からの駆動力によって第１ファンと共に回転する第２ファンと、内部空間に設けられ、フィルタによってろ過されるレーザガスが第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部をウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、内部空間に設けられ、ファン側流路に連通し、第２ファンによってファン側流路から流されるレーザガスをウインドウ側に流すウインドウ側流路とを備えるチャンバ装置を備えるガスレーザ装置によってレーザ光を生成し、レーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にレーザ光を露光してもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図２は、比較例のガスレーザ装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図３は、図２に示すチャンバ装置の筐体の内部空間を絶縁部側からクロスフローファン側に向かって見る図である。 図４は、図２に示すチャンバ装置のレーザ光の進行方向に垂直な断面図である。 図５は、実施形態１のチャンバ装置の筐体の内部空間を絶縁部側からクロスフローファン側に向かって見る図である。 図６は、電極が配置される内部空間から見る隔壁及びフロント側流路の斜視図である。 図７は、ウインドウ側の内部空間から見る隔壁及びフロント側流路の斜視図である。 図８は、実施形態２のチャンバ装置の筐体の内部空間を絶縁部側からクロスフローファン側に向かって見る図である。
実施形態
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　２．２　動作
　２．３　課題
３．実施形態１のチャンバ装置の説明
　３．１　構成
　３．２　動作
　３．３　作用・効果
４．実施形態２のチャンバ装置の説明
　４．１　構成
　４．２　作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
　図１は、電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。図１に示すように、露光工程で使用される製造装置は、ガスレーザ装置１００及び露光装置２００を含む。露光装置２００は、複数のミラー２１１，２１２，２１３を含む照明光学系２１０と、投影光学系２２０とを含む。照明光学系２１０は、ガスレーザ装置１００から入射するレーザ光によって、レチクルステージＲＴのレチクルパターンを照明する。投影光学系２２０は、レチクルを透過するレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置される不図示のワークピースに結像させる。ワークピースは、フォトレジストが塗布される半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置２００は、レチクルステージＲＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、レチクルパターンを反映するレーザ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスである半導体デバイスを製造することができる。
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　比較例のガスレーザ装置１００について説明する。なお、本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
　図２は、本例のガスレーザ装置１００の全体の概略構成例を示す模式図である。ガスレーザ装置１００は、例えば、アルゴン（Ａｒ）、フッ素（Ｆ２）、及びネオン（Ｎｅ）を含む混合ガスを使用するＡｒＦエキシマレーザ装置である。この場合、ガスレーザ装置１００は、中心波長が約１９３ｎｍのパルスレーザ光を出力する。ガスレーザ装置１００は、ＡｒＦエキシマレーザ装置以外のガスレーザ装置であってもよく、例えば、クリプトン（Ｋｒ）、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスを使用するＫｒＦエキシマレーザ装置であってもよい。この場合、ガスレーザ装置１００は、中心波長が約２４８ｎｍのパルスレーザ光を出射する。レーザ媒質であるＡｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスやレーザ媒質であるＫｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスは、レーザガスと呼ばれる場合がある。なお、ＡｒＦエキシマレーザ装置及びＫｒＦエキシマレーザ装置のそれぞれで使用される混合ガスでは、Ｎｅの代わりにヘリウム（Ｈｅ）が用いられてもよい。
　本例のガスレーザ装置１００は、筐体１１０と、筐体１１０の内部空間に配置されるレーザ発振器１３０、モニタモジュール１５０、不図示のレーザガス供給装置、不図示のレーザガス排気装置、及びレーザプロセッサ１９０と、を主な構成として含む。
　レーザ発振器１３０は、チャンバ装置ＣＨと、充電器１４１と、パルスパワーモジュール１４３と、リアミラー１４５と、出力結合ミラー１４７と、を主な構成として含む。
　図２においては、レーザ光の進行方向に略垂直な方向からみたチャンバ装置ＣＨの内部構成が示されている。図３は、チャンバ装置ＣＨの筐体３０の内部空間を絶縁部３３側からクロスフローファン４６側に向かって見る図である。図４は、図２に示すチャンバ装置ＣＨのレーザ光の進行方向に垂直な断面図である。チャンバ装置ＣＨは、筐体３０と、一対のウインドウ３１ａ，３１ｂと、一対の電極３２ａ，３２ｂと、絶縁部３３と、フィードスルー３４と、電極ホルダ部３６と、クロスフローファン４６と、熱交換器４７と、圧力センサ４８と、フィルタケース５０と、を主な構成として備える。
　筐体３０は、上記のレーザガスを封入する。また、筐体３０は、レーザガスの励起によって光が発生する内部空間を含む。レーザガスは、レーザガス供給装置から不図示の配管を介して筐体３０の内部空間に供給される。レーザガスの励起によって発生する光は、ウインドウ３１ａ，３１ｂに進行する。
　ウインドウ３１ａはガスレーザ装置１００から露光装置２００へのレーザ光の進行方向におけるフロント側に位置し、ウインドウ３１ｂは当該進行方向におけるリア側に位置している。ウインドウ３１ａ，３１ｂは、レーザ光のＰ偏光の反射が抑制されるように、レーザ光の進行方向に対してブリュースター角をなすように傾けられている。ウインドウ３１ａは筐体３０のフロント側の壁面に配置され、ウインドウ３１ｂは筐体３０のリア側の壁面に配置される。具体的には、図３に示すように、ウインドウ３１ａは、フロント側の壁面に接続される筒状のホルダ３１ｃに保持され、ホルダ３１ｃによって当該壁面の開口３０ａに対向するように配置される。また、ウインドウ３１ｂは、ホルダ３１ｃと同じ構成でリア側の壁面に接続されるホルダ３１ｄに保持され、ホルダ３１ｄによって当該壁面の開口３０ｂに対向するように配置される。
　電極３２ａ，３２ｂの長手方向はレーザ光の進行方向に沿っており、電極３２ａ，３２ｂは筐体３０の内部空間において互いに対向して配置されている。筐体３０における電極３２ａと電極３２ｂとの間の空間は、ウインドウ３１ａとウインドウ３１ｂとにより挟まれている。電極３２ａ，３２ｂは、グロー放電によりレーザ媒質を励起するための放電電極である。本例では、電極３２ａがカソードであり、電極３２ｂがアノードである。
　電極３２ａは、絶縁部３３によって支持されている。絶縁部３３は、筐体３０に連続する開口を塞いでいる。絶縁部３３は、絶縁体を含む。絶縁体には、例えば、Ｆ２ガスとの反応性が低いアルミナセラミックスを挙げることができる。また、絶縁部３３には、導電部材からなるフィードスルー３４が配置されている。フィードスルー３４は、パルスパワーモジュール１４３から供給される電圧を電極３２ａに印加する。
　電極３２ｂは、電極ホルダ部３６に支持されていると共に、電極ホルダ部３６に電気的に接続されている。図３では、図示の明瞭化のために、電極ホルダ部３６の図示を省略している。また、図４に示すように、電極ホルダ部３６は、リターンプレート３７を介して筐体３０に電気的に接続されている。
　電極ホルダ部３６を基準として電極３２ｂ側と反対側における筐体３０の内部空間には、クロスフローファン４６が配置されている。筐体３０の内部空間において、クロスフローファン４６が配置される空間は、電極３２ａ，３２ｂ間の空間と連通している。クロスフローファン４６は、筐体３０の外部に配置されているモータ４６ａに接続されている。モータ４６ａが回転すると、クロスフローファン４６は回転する。クロスフローファン４６は、回転によってレーザガスを電極３２ａ，３２ｂの間に流す。図４においてレーザガスの流れを太線の矢印で示しており、レーザガスは、クロスフローファン４６によって、クロスフローファン４６、電極３２ａと電極３２ｂとの間、熱交換器４７、及びクロスフローファン４６の順に循環する。モータ４６ａのＯＮ、ＯＦＦや回転数は、レーザプロセッサ１９０による制御によって調節される。従って、レーザプロセッサ１９０は、モータ４６ａを制御することで、筐体３０の内部空間を循環するレーザガスの循環速度を調節することができる。
　クロスフローファン４６の脇には熱交換器４７が配置されている。クロスフローファン４６によって流されるレーザガスの大部分はこの熱交換器４７を通過し、熱交換器４７によりレーザガスの熱が除去される。
　図３及び図４に示すように、フィルタケース５０は、クロスフローファン４６を基準にして熱交換器４７とは反対側における筐体３０の壁面に配置される。フィルタケース５０は、レーザ光の進行方向において筐体３０の概ね中央に連続する開口３０ｃに連通する流入口５１と、筐体３０のフロント側及びリア側それぞれの壁面内に設けられる流路３０ｄ，３０ｅに連通する流出口５１ａ，５１ｂとを含む。また、フィルタケース５０の内部空間において、流入口５１とフロント側の流出口５１ａ側との間にはフロント側のフィルタ５３ａが配置され、流入口５１側とリア側の流出口５１ｂとの間にはリア側のフィルタ５３ｂが配置される。フィルタ５３ａ及びフィルタ５３ｂは、図３では破線で示しており、互いに同じ形状及び長さであり、それぞれを通過するレーザガスをろ過し、レーザガスから後述する微粒子を取り除く。
　流路３０ｄは筐体３０のフロント側の壁面内に設けられるフロント側のパージ室３０ｇに連通し、パージ室３０ｇは当該壁面の開口３０ｊを介して筐体３０の内部空間に連通すると共に開口３０ａを介してホルダ３１ｃの内部空間に連通している。パージ室はリア側の壁面内にも設けられており、リア側のパージ室３０ｈは、パージ室３０ｇと同様に、流路３０ｅ、当該壁面の開口３０ｋを介して筐体３０の内部空間、及び開口３０ｂを介してホルダ３１ｄの内部空間に連通している。
　パージ室３０ｇには、フロント側の筒部材６０ａが配置される。筒部材６０ａの長手方向は、レーザ光の進行方向に沿っている。筒部材６０ａの一端は、開口３０ｊから離れており、流路３０ｄよりもホルダ３１ｃ側に位置する。筒部材６０ａの他端は、ホルダ３１ｃの開口を囲むようにホルダ３１ｃの縁に接続されている。パージ室３０ｈには、パージ室３０ｇと同様に、リア側の筒部材６０ｂが配置される。
　筒部材６０ａは、筒部材６０ａの内周面に配置される複数の板部材６１を含む。それぞれの板部材６１は、板部材６１の面内方向が筒部材６０ａの長手方向に略垂直な方向に沿って配置されている状態で、所定の間隔をあけて筒部材６０ａの長手方向に並列に配置されている。従って、板部材６１は、隙間をあけて配置されている。また、それぞれの板部材６１には、開口６３が連続する。それぞれの開口６３は、同じ直線上に配置される。上記のような開口６３を含む板部材６１の配列によって、筒部材６０ａにはラビリンス構造が設けられる。レーザ光は、この連続する開口６３を通過する。図３では、見易さのため、板部材６１及び開口６３を簡略に図示し、１つの板部材６１及び１つの開口６３にのみ符号を付し、他の板部材６１及び他の開口６３の符号は省略されている。筒部材６０ｂは、筒部材６０ａと同じ構成である。
　図２に戻り、本例のガスレーザ装置１００の説明を続ける。充電器１４１は、パルスパワーモジュール１４３の中に設けられる不図示のコンデンサを所定の電圧で充電する直流電源装置である。充電器１４１は、筐体３０の外部に配置されており、パルスパワーモジュール１４３に接続されている。パルスパワーモジュール１４３は、レーザプロセッサ１９０によって制御されるスイッチ１４３ａを含む。スイッチ１４３ａが当該制御によってＯＦＦからＯＮになると、パルスパワーモジュール１４３は、充電器１４１から印加される電圧を昇圧してパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を電極３２ａ，３２ｂに印加する。高電圧が印加されると、電極３２ａと電極３２ｂとの間の絶縁が破壊され、放電が起こる。この放電のエネルギーにより、筐体３０内のレーザ媒質が励起されて励起準位のエキシマを生成する。その後、エキシマが２個の原子に解離する基底準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光を放出する。放出される光は、ウインドウ３１ａ，３１ｂに進行する。
　リアミラー１４５はウインドウ３１ｂと対向し、出力結合ミラー１４７はウインドウ３１ａと対向している。リアミラー１４５には高反射膜がコートされており、出力結合ミラー１４７には部分反射膜がコートされている。リアミラー１４５は、ウインドウ３１ｂから出射するレーザ光を高い反射率で反射して筐体３０に戻す。出力結合ミラー１４７は、ウインドウ３１ａから出力されるレーザ光のうちの一部を透過させて、他の一部を反射させてウインドウ３１ａを介して筐体３０の内部空間に戻す。出力結合ミラー１４７は、例えば、フッ化カルシウムの基板に誘電体多層膜が成膜される素子で構成される。
　従って、リアミラー１４５と出力結合ミラー１４７とでファブリペロー型のレーザ共振器が構成され、筐体３０はレーザ共振器の光路上に配置される。従って、筐体３０から出射するレーザ光は、リアミラー１４５と出力結合ミラー１４７との間で往復する。往復するレーザ光は、電極３２ａと電極３２ｂとの間のレーザゲイン空間を通過する度に増幅される。増幅される光の一部は、パルスレーザ光として出力結合ミラー１４７を透過する。
　リアミラー１４５は、筐体３０のリア側に接続されている筐体１４５ａの内部空間に固定される。また、出力結合ミラー１４７は、筐体３０のフロント側に接続されている光路管１４７ａの内部空間に固定される。
　なお、リアミラー１４５の機能をウインドウ３１ｂにもたせてもよい。この場合は、ホルダ３１ｄはフレキシブルな構造にし、ウインドウ３１ｂに入射するレーザ光の角度を調整できるようにする。また、出力結合ミラー１４７の機能をウインドウ３１ａにもたせてもよい。この場合は、ホルダ３１ｃはフレキシブルな構造にし、ウインドウ３１ｂに入射するレーザ光の角度を調整できるようにする。また、リアミラー１４５の代わりに、レーザ光を狭帯域化する不図示の狭帯域化モジュールが配置されてもよい。狭帯域化モジュールは、プリズムと、グレーティングと、回転ステージとを含む。プリズムと、グレーティングと、回転ステージとは、筐体１４５ａの内部空間に配置される。
　プリズムは、ウインドウ３１ｂから出射する光のビーム幅を拡大させて、当該光をグレーティングに入射させる。また、プリズムは、グレーティングからの反射光のビーム幅を縮小させると共に、その光を、ウインドウ３１ｂを介して、筐体３０の内部空間に戻す。プリズムは、少なくとも１つ配置されていればよい。
　グレーティングの表面は高反射率の材料によって構成され、表面に多数の溝が所定間隔で設けられている。グレーティングは、分散光学素子である。各溝の断面形状は、例えば、直角三角形である。プリズムからグレーティングに入射する光は、これらの溝によって反射されると共に、光の波長に応じた方向に回折させられる。グレーティングは、プリズムからグレーティングに入射する光の入射角と、所望波長の回折光の回折角とが一致するようにリトロー配置されている。これにより、所望の波長付近の光がプリズムを介して筐体３０に戻される。
　回転ステージは、プリズムを支持しており、プリズムを回転させる。プリズムを回転させることにより、グレーティングに対する光の入射角が変更される。従って、プリズムを回転させることにより、グレーティングからプリズムを介して筐体３０に戻る光の波長を選択することができる。
　筐体３０を挟んで設けられる出力結合ミラー１４７とグレーティングとでレーザ共振器が構成され、筐体３０はレーザ共振器の光路上に配置される。従って、筐体３０から出射する光は、グレーティングと出力結合ミラー１４７との間を往復する。
　モニタモジュール１５０は、出力結合ミラー１４７を透過するパルスレーザ光の光路上に配置されている。モニタモジュール１５０は、筐体１５１と、筐体１５１の内部空間に配置されているビームスプリッタ１５２、集光レンズ１５３、及び光センサ１５４とを主な構成として含む。筐体１５１には開口が連続し、この開口を囲むように光路管１４７ａが接続されている。このため、筐体１５１の内部空間は、この開口を通じて光路管１４７ａの内部空間と連通している。
　ビームスプリッタ１５２は、出力結合ミラー１４７を透過するパルスレーザ光を高い透過率で出射ウインドウ１６１に透過させると共に、パルスレーザ光の一部を集光レンズ１５３に向けて反射する。集光レンズ１５３は、パルスレーザ光を光センサ１５４の受光面に集光する。光センサ１５４は、受光面に入射するパルスレーザ光のパルスエネルギＥを計測する。光センサ１５４は、レーザプロセッサ１９０に電気的に接続されており、計測するパルスエネルギＥに係るデータを示す信号をレーザプロセッサ１９０に出力する。
　モニタモジュール１５０の筐体１５１における光路管１４７ａが接続される側と反対側には、開口が連続しており、この開口を囲むように光路管１６１ａが接続されている。このため、筐体１５１の内部空間と光路管１６１ａの内部空間とは、互いに連通している。また、光路管１６１ａは、筐体１１０に接続されている。筐体１１０における光路管１６１ａに囲まれる位置には、出射ウインドウ１６１が設けられている。モニタモジュール１５０のビームスプリッタ１５２を透過する光は、出射ウインドウ１６１から筐体１１０の外部の露光装置２００に出射する。
　光路管１４７ａ，１６１ａや、筐体１４５ａ，１５１の内部空間には、パージガスが充填されている。パージガスには、酸素等の不純物の少ない高純度窒素等の不活性ガスが含まれる。パージガスは、筐体１１０の外に配置されている不図示のパージガス供給源から、不図示の配管を通じて光路管１４７ａ，１６１ａや筐体１４５ａ，１５１の内部空間に供給される。
　圧力センサ４８は、筐体３０の内部空間の圧力を計測する。圧力センサ４８は、レーザプロセッサ１９０に電気的に接続されており、計測する圧力に係るデータを示す信号をレーザプロセッサ１９０に出力する。
　レーザガス供給装置は、筐体１１０の外部に配置される不図示のレーザガス供給源から不図示の配管を介してレーザガスを供給される。レーザガス供給装置には、不図示のバルブや流量調節弁が設けられると共に、筐体３０に接続される他の配管が接続されている。レーザガス供給装置は、レーザプロセッサ１９０からの制御信号により、複数のガスをこの他の配管を介して筐体３０の内部空間に供給する。レーザガス排気装置には、筐体３０に接続される配管が接続されている。レーザガス排気装置は、不図示の排気ポンプを含み、排気ポンプによって配管を介して筐体３０の内部空間のガスを筐体１１０の内部空間内に排気する。
　また、筐体１１０には、排気ダクト１１１が設けられている。ガスは、排気ダクト１１１から筐体１１０の外部に排気される。当該ガスは、レーザガス排気装置によって筐体３０の内部空間から筐体１１０の内部空間に排気されるガスや、不図示の構成により光路管１４７ａ，１６１ａ内等から筐体１１０の内部空間に排気されるガスである。
　本開示のレーザプロセッサ１９０は、制御プログラムが記憶される記憶装置と、制御プログラムを実行するＣＰＵとを含む処理装置である。レーザプロセッサ１９０は、本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。また、レーザプロセッサ１９０は、ガスレーザ装置１００全体を制御する。また、レーザプロセッサ１９０は、露光装置２００の露光プロセッサに電気的に接続されており、露光プロセッサとの間で各種信号を送受信する。
　２．２　動作
　次に、比較例のガスレーザ装置１００の動作について説明する。
　ガスレーザ装置１００がパルスレーザ光を出射する前の状態で、光路管１４７ａ，１６１ａの内部空間や、筐体１４５ａ，１５１の内部空間には、不図示のパージガス供給源からパージガスが充填される。また、筐体３０の内部空間には、不図示のレーザガス供給装置からレーザガスが供給される。レーザガスが供給されると、レーザプロセッサ１９０はモータ４６ａを制御してクロスフローファン４６を回転させる。クロスフローファン４６の回転によって、レーザガスは、筐体３０の内部空間を循環する。
　ガスレーザ装置１００がパルスレーザ光を出射する際には、レーザプロセッサ１９０は、充電器１４１に所定の充電電圧を設定すると共に、スイッチ１４３ａをＯＮにする。これにより、パルスパワーモジュール１４３は、充電器１４１に保持されている電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、電極３２ａと電極３２ｂとの間に高電圧が印加される。高電圧が印加されると、電極３２ａと電極３２ｂとの間の絶縁が破壊され放電が起こる。放電が起こると、この放電のエネルギーにより、電極３２ａと電極３２ｂとの間のレーザガスに含まれるレーザ媒質は励起状態とされて、基底状態に戻る際に自然放出光を放出する。この光の一部は、紫外光であり、ウインドウ３１ｂを透過する光は、リアミラー１４５で反射される。リアミラー１４５で反射される光は、再びウインドウ３１ｂから筐体３０の内部空間に伝搬する。筐体３０の内部空間に伝搬する光により、励起状態のレーザ媒質は誘導放出を起こし、光が増幅される。光は、ウインドウ３１ａを透過して、出力結合ミラー１４７に進行する。光の一部は出力結合ミラー１４７を透過して、光の残りの一部は出力結合ミラー１４７によって反射されてウインドウ３１ａを透過して筐体３０の内部空間に伝搬する。筐体３０の内部空間に伝搬する光は、上記したようにリアミラー１４５に進行する。こうして、レーザ光がリアミラー１４５と出力結合ミラー１４７との間を往復し、筐体３０の内部空間における放電空間を通過するたびに増幅される。そして、レーザ光の一部は、パルスレーザ光として出力結合ミラー１４７を透過して、ビームスプリッタ１５２に進行する。
　ビームスプリッタ１５２に進行するパルスレーザ光のうちの一部は、ビームスプリッタ１５２で反射される。反射されるパルスレーザ光は光センサ１５４で受光され、光センサ１５４は受光するパルスレーザ光のパルスエネルギＥを計測する。光センサ１５４は、計測するパルスエネルギＥに係るデータを示す信号をレーザプロセッサ１９０に出力する。レーザプロセッサ１９０は、パルスエネルギＥと目標パルスエネルギＥｔとの差ΔＥが許容範囲内となるように、充電器１４１の充電電圧をフィードバック制御する。差ΔＥが許容範囲内となると、ビームスプリッタ１５２及び出射ウインドウ１６１を透過して露光装置２００に入射する。このパルスレーザ光は、中心波長が約１９３ｎｍの紫外線であるＡｒＦレーザ光である。
　なお、筐体３０の内部空間の圧力は圧力センサ４８によって計測されており、圧力センサ４８からの圧力に係るデータを示す信号がレーザプロセッサ１９０に入力される。レーザプロセッサ１９０は、充電電圧が許容範囲の最大値よりも高い場合、圧力センサ４８からの信号を基にレーザガス供給装置を制御し、筐体３０の内部空間の圧力が所定圧力となるまで、レーザガスを筐体３０の内部空間に供給する。また、レーザプロセッサ１９０は、充電電圧が許容範囲の最小値よりも低い場合、当該信号を基にレーザガス排気装置を制御し、当該圧力が所定圧力となるまで、レーザガスを筐体３０の内部空間から排気する。
　ところで、上記のように電極３２ａと電極３２ｂとの間に放電が起こると、放電によるスパッタまたは熱によって電極３２ａ，３２ｂから金属粉末及び蒸気が発生してしまう。金属粉末及び蒸気はレーザガスにおけるＦ2ガスと反応しフッ化物を生成する。フッ化物である微粒子は、レーザガスと共に、クロスフローファン４６によって筐体３０の内部空間において循環する。循環によって開口３０ｃと開口３０ｊまたは開口３０ｋとに圧力差が生じ、この圧力差によって微粒子を含むレーザガスの一部が開口３０ｃ及び流入口５１からフィルタケース５０に流れる。筐体３０の内部空間からフィルタケース５０へのレーザガスの流れを図４において破線の矢印で示している。
　フィルタケース５０に流れるレーザガスのうちの一部はフィルタ５３ａに流れてろ過され、微粒子がレーザガスから取り除かれる。微粒子を取り除かれたレーザガスは、流路３０ｄを通過してパージ室３０ｇに流れる。流れたレーザガスの一部は、開口３０ｊを通過して筐体３０の内部空間に流れる。また、レーザガスの他の一部は、ウインドウ３１ａを吹き付ける。その後、レーザガスの他の一部は、ウインドウ３１ａによって跳ね返り、開口３０ｊを通過して筐体３０の内部空間に流れる。ところで、筐体３０の内部空間に浮遊する微粒子が開口３０ｊからパージ室３０ｇを通過してウインドウ３１ａに流れてしまうことがある。このような微粒子のウインドウ３１ａへの付着を抑制するために、筒部材６０ａを配置している。開口３０ｊからの微粒子を含んだレーザガスは、筒部材６０ａにおいて開口６３を通過する際に圧縮され、隣り合う板部材６１の隙間を通過後に圧縮が解放され膨張する。レーザガスは筒部材６０ａの内部空間を筒部材６０ａの長手方向に進行するにつれて圧縮と膨張とを繰り返し、繰り返しによってレーザガスに含まれる微粒子の一部は板部材６１及び筒部材６０ａの内周面に付着し取り除かれる。微粒子を取り除かれたレーザガスは、ウインドウ３１ａに流れると共に、ウインドウ３１ａを吹き付ける。従って、開口３０ｊから流れてくる微粒子のウインドウ３１ａへの付着は、抑制される。上記において、フロント側を用いてレーザガスの流れ及び吹き付けを説明したが、リア側におけるレーザガスの流れ及び吹き付けも同様である。従って、ウインドウ３１ｂへのレーザガスの吹き付けによって、ウインドウ３１ｂへの微粒子の付着が抑制される。
　２．３　課題
　比較例のチャンバ装置ＣＨでは、クロスフローファン４６の駆動によって生じる圧力差によるレーザガスの流れだけでは、フィルタケース５０に流れるレーザガスの流量が不足する懸念が生じる。この場合、パージ室３０ｇ，３０ｇから開口３０ｊ，３０ｋを介して筐体３０の内部空間に流れるレーザガスの流量が少なくなり、筐体３０の内部空間から開口３０ｊ，３０ｋを介してウインドウ３１ａ，３１ｂに微粒子が進行してしまうことがある。筒部材６０ａ及び筒部材６０ｂではレーザガス中の微粒子の一部しか取り除けないため、微粒子がウインドウ３１ａ，３１ｂに付着してしまい、ウインドウ３１ａ，３１ｂの透過率が微粒子によって低下してしまうことがある。透過率が低下すると、ガスレーザ装置１００から露光装置２００に向かって出射するパルスレーザ光のエネルギー密度が低下してしまうことがある。従って、ガスレーザ装置１００の信頼性が低下するという懸念が生じる。この流量不足は、ガスレーザ装置１００のパルスエネルギが大きくなると、電極面積の増加等により発生する微粒子が増加するため、より顕著になる。
　そこで、以下の実施形態では、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得るチャンバ装置ＣＨが例示される。
３．実施形態１のチャンバ装置の説明
　次に、実施形態１のチャンバ装置ＣＨについて説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。また、一部の図面では、見易さのため、部材の一部を省略または簡略して記載している場合がある。
　３．１　構成
　図５は、本実施形態のチャンバ装置ＣＨの筐体３０の内部空間を絶縁部３３側からクロスフローファン４６側に向かって見る図である。本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、比較例のチャンバ装置ＣＨとは異なり、フィルタケース５０、流路３０ｄ，３０ｅ、及びパージ室３０ｇ，３０ｈが設けられていない。
　チャンバ装置ＣＨは、筐体３０の内部空間に設けられる隔壁８１，８３を備える。隔壁８１は電極３２ａ，３２ｂとフロント側の壁面との間に設けられ、隔壁８３は電極３２ａ，３２ｂとリア側の壁面との間に設けられる。また、隔壁８１の主面は筐体３０のフロント側の壁面に向かい合い、隔壁８３の主面は筐体３０のリア側の壁面に向かい合っている。このような、隔壁８１，８３は、筐体３０の内部空間を３つの内部空間３０１，３０３，３０５に仕切る。内部空間３０１は隔壁８１と筐体３０のフロント側の壁面との間のフロントウインドウ側の空間であり、内部空間３０３は隔壁８３と筐体３０のリア側の壁面との間のリアウインドウ側の空間である。内部空間３０１はフロント側の壁面に接し、内部空間３０３はリア側の壁面に接する。内部空間３０５は、内部空間３０１と内部空間３０３との間、具体的には隔壁８１と隔壁８３の間の電極３２ａ，３２ｂ側の空間である。内部空間３０５は、隔壁８１を基準として内部空間３０１とは反対側の内部空間であり、隔壁８３を基準として内部空間３０３とは反対側の内部空間である。内部空間３０１及び内部空間３０３は互いに同じ大きさであり、内部空間３０５は内部空間３０１，３０５よりも広くされている。
　内部空間３０５には、電極３２ａ，３２ｂと、電極ホルダ部３６と、第１ファンであるクロスフローファン４６と、熱交換器４７と、圧力センサ４８とが配置される。図５では、図３と同様に図示の明瞭化のために、電極３２ｂ、電極ホルダ部３６、及び圧力センサ４８の図示を省略している。
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、クロスフローファン４６及び熱交換器４７は、内部空間３０５において比較例とは逆に配置されている。また、内部空間３０５には、比較例の筐体３０の内部空間とは異なり、フィルタ５３ａ，５３ｂが配置される。フィルタ５３ａ，５３ｂは、熱交換器４７を基準としてクロスフローファン４６とは反対側に配置される。本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、クロスフローファン４６は、レーザガスを、クロスフローファン４６、電極３２ａと電極３２ｂとの間、フィルタ５３ａ，５３ｂ、熱交換器４７、及びクロスフローファン４６の順に循環させる。従って、フィルタ５３ａ，５３ｂは、クロスフローファン４６によって流れてそれぞれを通過するレーザガスをろ過し、レーザガスから微粒子を取り除く。フィルタ５３ａは隔壁８１に連続する開口８１ａを塞ぐように内部空間３０５において隔壁８１に隣り合って配置され、フィルタ５３ｂは隔壁８３に連続する開口８３ａを塞ぐように内部空間３０５において隔壁８１に隣り合って配置される。図５では、開口８１ａ，８３ａを破線で示している。フィルタ５３ａ，５３ｂ及び開口８１ａ，８３ａは、レーザ光の進行方向において、同じ直線上に配置される。フィルタ５３ａ，５３ｂは、比較例のそれぞれよりも短くされている。なお、フィルタ５３ａ，フィルタ５３ｂは、比較例のそれぞれよりも長くされてもよいし、同じ長さであってもよい。或いは、１つのフィルタが開口８１ａ，８３ａを塞ぐように開口８１ａ，８３ａの間に配置されてもよい。
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨは、第２ファン、第２ファンが配置されるファン側流路、及びファン側流路に連通しレーザガスをウインドウ側に流すウインドウ側流路を備えており、それぞれがフロント側及びリア側のそれぞれに配置される。以下において、フロント側における、第２ファン、ファン側流路、及びウインドウ側流路を第２ファン３１１、流路３１３、及び流路３１５として説明する。また、リア側における、第２ファン、ファン側流路、及びウインドウ側流路を第２ファン３２１、流路３２３、及び流路３２５として説明する。以下では、フロント側の第２ファン３１１、流路３１３、及び流路３１５を用いて説明するが、リア側の第２ファン３２１、流路３２３、及び流路３２５は、フロント側の第２ファン３１１、流路３１３、及び流路３１５と同じ構成である。従って、第２ファン３２１、流路３２３、及び流路３２５は、第２ファン３１１、流路３１３、及び流路３１５と同様の動作・作用・効果を得ることができる。
　図６は内部空間３０５から見る隔壁８１及び流路３１３の斜視図であり、図７は内部空間３０１から見る隔壁８１及び流路３１３の斜視図である。
　流路３１３には第２ファン３１１が配置され、フィルタ５３ａによってろ過されるレーザガスは第２ファン３１１によって流路３１３を流れる。本実施形態の流路３１３は、内部空間３０１及び内部空間３０５に隔壁８１の開口８１ａ，８１ｂ，８１ｃを通じて設けられる。このような流路３１３は、内部空間３０１に設けられる第１流路３１３ａと、内部空間３０５に設けられる第２流路３１３ｂと、内部空間３０１に設けられる第３流路３１３ｃとを含む。第１流路３１３ａ、第２流路３１３ｂ、及び第３流路３１３ｃのそれぞれは、隔壁８１と板材とによって囲まれる空間である。第１流路３１３ａ、第２流路３１３ｂ、及び第３流路３１３ｃは、隔壁８１の平面方向に沿って設けられる。
　第１流路３１３ａの一端は開口８１ａ及びフィルタ５３ａを介して内部空間３０５と連通しており、第１流路３１３ａには内部空間３０５のレーザガスが内部空間３０５から第１開口である開口８１ａを介して流入する。また、第１流路３１３ａの他端は、隔壁８１に連続する開口８１ｂと連通する。開口８１ｂは、開口８１ａよりも小さくされ、開口８１ａよりも下方に位置する。図５では第３流路３１３ｃによって隠れる第１流路３１３ａの一部を破線で示し、図６では隔壁８１によって隠れる第１流路３１３ａの一部を破線で示している。また、図５において図の見やすさのため開口８１ｂの図示を省略し、図６及び図７において開口８１ｂを破線で示している。
　第２流路３１３ｂの一端は第２開口である開口８１ｂを介して第１流路３１３ａと連通しており、第２流路３１３ｂには第１流路３１３ａのレーザガスが第１流路３１３ａから第２開口である開口８１ｂを介して流入する。また、第２流路３１３ｂの他端は、隔壁８１に連続する第３開口である開口８１ｃと連通する。図７では隔壁８１によって隠れる第２流路３１３ｂの一部を破線で示している。開口８１ｃは、開口８１ｂよりも大きく、開口８１ａよりも小さくされる。開口８１ｃは、開口８１ｂを基準にして開口８１ａとは反対側において開口８１ａと概ね同じ高さ位置に位置する。図５において開口８１ｃを破線で示している。
　第３流路３１３ｃの一端は開口８１ｃを介して第２流路３１３ｂと連通しており、第３流路３１３ｃには、第２流路３１３ｂのレーザガスが第２流路３１３ｂから第３開口である開口８１ｃを介して流入する。また、第３流路３１３ｃの他端は、流路３１５の隔壁８３側の一端に及び開口８１ｄを介して内部空間３０５に連通する。このような第３流路３１３ｃは、開口８１ｄを介して内部空間３０５にレーザガスの一部を流し、流路３１５にレーザガスの他の一部を流す。従って、第３流路３１３ｃは、レーザガスの一部をウインドウ３１ａから離れる方向に流し、レーザガスの別の一部をウインドウ３１ａ側に流す。開口８１ｄは、開口８１ｃよりも大きく、開口８１ａよりも小さくされる。開口８１ｄは、開口８１ｂの上方に位置する。
　第２ファン３１１は、例えば遠心ファンであり、第３流路３１３ｃにおいて開口８１ｃに隣り合うように配置される。第２ファン３１１の配置位置は、流路３１３の概ね中間位置である。ところで、クロスフローファン４６の駆動軸４６ｂは、第２流路３１３ｂ、開口８１ｃ、第３流路３１３ｃを挿通しており、駆動軸４６ｂの先端は筐体３０の外部に配置される軸受４６ｃによって保持されている。このような駆動軸４６ｂは第２ファン３１１に連結しており、第２ファン３１１は駆動軸４６ｂの回転によって回転する。従って、クロスフローファン４６の動力源であるモータ４６ａの駆動力によって駆動軸４６ｂ及びクロスフローファン４６が回転すると、第２ファン３１１は、当該駆動力によってクロスフローファン４６と共に同じ方向に回転する。第２ファン３１１は、回転によって流路３１３内のレーザガスを流路３１５に流す。
　流路３１５は、筒状の部材の内部空間であり、内部空間３０１に設けられる。流路３１５の長手方向は、レーザ光の進行方向に沿っている。流路３１５は、内部空間３０１に設けられる。流路３１５の一端は第３流路３１３ｃに連通し、流路３１５の他端は、開口３０ａを囲むように筐体３０のフロント側の壁面に接続されている。パルスレーザ光の進行方向に沿って見る場合において、開口８１ｄ、開口８１ｄと第３流路３１３ｃとの連通部、第３流路３１３ｃと流路３１５との連通部、及び流路３１５は、ウインドウ３１ａと重なる。流路３１５は、第２ファン３１１によって流路３１５の第３流路３１３ｃから流されるレーザガスをウインドウ３１ａ側に流す。また、流路３１５は、ウインドウ３１ａから跳ね返るレーザガスをウインドウ３１ａから離れる方向に、具体的には当該レーザガスを開口８１ｄを介して内部空間３０５に流す。
　流路３１５には、筒部材６０ａが配置されている。筒部材６０ａは、ウインドウ３１ａと同軸上に配置されている。筒部材６０ａは、流路３１５よりも短くされている。筒部材６０ａの一端は、隔壁８１から離れており、第３流路３１３ｃよりもウインドウ３１ａ側に位置する。筒部材６０ａの他端は、開口３０ａを囲むように筐体３０のフロント側の壁面に接続されている。
　図５では、第１流路３１３ａと第２流路３１３ｂと第３流路３１３ｃとのそれぞれに対応する流路３２３のそれぞれの流路を第１流路３２３ａと第２流路３２３ｂと第３流路３２３ｃとして示している。また、開口８１ａ，８１ｂ，８１ｃ，８１ｄに対応する開口を開口８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄとして示している。
　３．２　動作
　次に、本実施形態におけるクロスフローファン４６、及び第２ファン３１１の動作について説明する。
　モータ４６ａが回転すると、モータ４６ａ及びクロスフローファン４６と連結する駆動軸４６ｂが回転する。これにより、クロスフローファン４６は、モータ４６ａからの駆動力によって回転する。また、第２ファン３１１は、駆動軸４６ｂと連結しているため、モータ４６ａからの駆動力によってクロスフローファン４６の回転と同時に同じ方向に回転する。これにより、レーザガスの大部分は、クロスフローファン４６の回転によって、クロスフローファン４６、電極３２ａと電極３２ｂとの間、フィルタ５３ａ，５３ｂ、熱交換器４７、及びクロスフローファン４６の順に循環する。また、レーザガスの別の一部はクロスフローファン４６及び第２ファン３１１の回転によってフィルタ５３ａ及び開口８１ａを通過して流路３１３に流れる。レーザガスは、フィルタ５３ａによってろ過され、レーザガスに含まれる微粒子がろ過によってレーザガスから取り除かれた状態で流路３１３に流れる。
　流路３１３において、レーザガスは、第２ファン３１１によって、第１流路３１３ａ、開口８１ｂ、第２流路３１３ｂ、開口８１ｃ、及び第３流路３１３ｃの順に流れる。第３流路３１３ｃの他端側において、レーザガスの進行方向は、開口８１ｄ及び流路３１５の軸方向に概ね直交する。当該軸方向は、レーザ光の進行方向である。また、第３流路３１３ｃの他端において、レーザガスは、レーザガスの進行方向上に位置する第３流路３１３ｃの内周面に衝突する。衝突によって、レーザガスの一部は開口８１ｄを通過して内部空間３０５に流れ、レーザガスの他の一部は流路３１５に流れる。
　流路３１５において、レーザガスは、筒部材６０ａに流れ、ウインドウ３１ａに流れると共に、ウインドウ３１ａを吹き付ける。ウインドウ３１ａを吹き付けたレーザガスは、ウインドウ３１ａによって跳ね返り、筒部材６０ａ、流路３１５、及び開口８１ｄを通過して内部空間３０５に流れる。
　３．３　作用・効果
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、第２ファン３１１は、クロスフローファン４６の駆動源であるモータ４６ａからの駆動力によってクロスフローファン４６と共に回転する。ファン側流路である流路３１３には、フィルタ５３ａによってろ過されるレーザガスが第２ファン３１１によって流れる。当該レーザガスの一部はウインドウ３１ａから離れる方向に流れ、他の一部はウインドウ側流路である流路３１５に流れる。流路３１５に流れたレーザガスは、流路３１５によってウインドウ３１ａ側に流れると共に、ウインドウ３１ａによって跳ね返り、流路３１５によってウインドウ３１ａから離れる方向に流れる。
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、流路３１３におけるレーザガスの流量は第２ファン３１１によって増加する。従って、電極３２ａ，３２ｂ側の内部空間３０５の微粒子を含むレーザガスがウインドウ３１ａへ進行しようとしても、当該レーザガスは、上記のように流量が増加すると共にウインドウ３１ａから離れる方向に流れるレーザガスによって内部空間３０５へ押し戻される。これにより、内部空間３０５からウインドウ３１ａへの微粒子の進行が抑制され得、ウインドウ３１ａへの微粒子の付着が抑制され得る。また、ウインドウ３１ａに流れるレーザガスは微粒子が取り除かれた状態でウインドウ３１ａを吹き付けるため、吹き付けによって微粒子の付着が抑制され得る。上記のように付着が抑制されると、付着によるウインドウ３１ａの透過率の低下が抑制され得る。また、透過率の低下が抑制されると、ガスレーザ装置１００から露光装置２００に向かって出射するパルスレーザ光のエネルギー密度の低下が抑制され得、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得る。
　また、第２ファン３１１はクロスフローファン４６と共に回転し、この場合、クロスフローファン４６及び第２ファン３１１は共通のモータ４６ａによって駆動し得る。これにより、モータ４６ａがクロスフローファン４６及び第２ファン３１１のそれぞれに配置される場合に比べて、モータ４６ａの数が少なくなり得、チャンバ装置ＣＨのコストが抑制され得、チャンバ装置ＣＨが小型となり得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、流路３１３は内部空間３０１と内部空間３０１よりも広い内部空間３０５とに設けられ、流路３１５は内部空間３０１に設けられる。内部空間３０５が内部空間３０１よりも広いため、内部空間３０５では内部空間３０１に比べて余分なスペースが確保され易い。従って、上記の構成の場合では、流路３１３の一部は内部空間３０１に配置され易くなり得る。また、流路３１３の他の一部が内部空間３０５に配置されるため、流路３１３及び流路３１５の全体が内部空間３０１に配置される場合に比べて、内部空間３０１においてそれぞれの流路が配置されるスペースが広くなり得る。これにより、流路３１３の一部及び流路３１５は、内部空間３０１に配置され易くなり得る。さらに、流路３１３の一部が内部空間３０５に配置されるため、内部空間３０１が小さくなり得、筐体３０の長手方向の長さが短くなり得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、第３流路３１３ｃは、及び第３流路３１３ｃを基準として流路３１５とは反対側に設けられる開口８１ｄを介して第３流路３１３ｃに連通する内部空間３０５にレーザガスをさらに流す。内部空間３０５における微粒子は、クロスフローファン４６によって内部空間３０５から開口８１ｄ、第３流路３１３ｃ、及び流路３１５を介してウインドウ３１ａへ進行してしまうことがある。上記の構成では、第３流路３１３ｃを流れるレーザガスの一部は微粒子を押し戻すように内部空間３０５に流れるため、内部空間３０５からウインドウ３１ａへの微粒子の流入が抑制され得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、パルスレーザ光の進行方向に沿って見る場合において、開口８１ｄ、開口８１ｄと第３流路３１３ｃとの連通部、第３流路３１３ｃと流路３１５との連通部、及び流路３１５は、ウインドウ３１ａと重なる。この場合、パルスレーザ光は内部空間３０５から開口８１ｄ、第３流路３１３ｃ、流路３１５を通過してウインドウ３１ａに進行するため、パルスレーザ光が通過する開口を開口８１ｄとは別に隔壁８１に設ける必要がなくなり得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、第３流路３１３ｃは、流路３１５と、筐体３０のフロント側の壁面側よりも隔壁８１側において連通する。この場合、第３流路３１３ｃが流路３１５と筐体３０のフロント側の壁面側において連通する場合に比べて、内部空間３０５から開口８１ｄを介して流路３１５への微粒子の流入が抑制され得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、フィルタ５３ａは、内部空間３０５において開口８１ａを覆う。この構成によって、フィルタ５３ａが開口８１ａを覆わないように内部空間３０５に配置される場合に比べて、流路３１３への微粒子の進行が抑制され得る。流路３１３への微粒子の進行が抑制されると、流路３１３，３１５における微粒子の堆積、及び流路３１３，３１５を通じたウインドウ３１ａへの微粒子の進行が抑制され得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、筒部材６０ａは、流路３１５に配置される。筒部材６０ａは開口６３が連続する複数の板部材６１を含み、それぞれの板部材６１は間隔をあけて筒部材６０ａの長手方向に並列に配置される。これにより、レーザガスは筒部材６０ａの内部空間を進行するにつれて圧縮と膨張とを繰り返し、レーザガスに含まれる微粒子は板部材６１に付着し得、レーザガスから微粒子がさらに取り除かれ得る。
　また、本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、第２ファン３１１はクロスフローファン４６の駆動軸４６ｂと連結し、駆動軸４６ｂの回転によって回転する。この構成によって、第２ファン３１１は、クロスフローファン４６と同時に回転し得る。また、この構成では、駆動軸４６ｂがクロスフローファン４６及び第２ファン３１１のそれぞれ個別に配置される場合に比べて、駆動軸４６ｂの数が少なくなり得、チャンバ装置ＣＨのコストが抑制され得、チャンバ装置ＣＨが小型となり得る。
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、クロスフローファン４６を第１ファンとして説明したが、第１ファンは還流ファンであってもよい。また、第２ファン３１１を遠心ファンとして説明したが、第２ファン３１１はシロッコファンであってもよい。
４．実施形態２のチャンバ装置の説明
　次に、実施形態２のチャンバ装置ＣＨについて説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　４．１　構成
　図８は、本実施形態の筐体３０の内部空間を絶縁部３３側からクロスフローファン４６側に向かって見る図である。本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、流路３１３，３１５，３２３，３２５のそれぞれの構成が、実施形態１のそれぞれの構成と異なる。以下では、流路３１３，３１５を用いて説明するが、流路３２３，３２５は、流路３１３，３１５と同じ構成である。従って、流路３２３，３２５は、流路３１３，３１５と同様の動作・作用・効果を得ることができる。
　本実施形態の流路３１３は第１流路３１３ａと第２流路３１３ｂとを含み、第１流路３１３ａと第２流路３１３ｂとのそれぞれ、つまり流路３１３の全体が内部空間３０１に設けられる。従って、本実施形態の隔壁８１には、流路３１３のそれぞれの流路を連通させる実施形態１にて説明した開口８１ｂ，８１ｃが設けられていない。
　第２流路３１３ｂは、筐体３０のフロント側の壁面と板材とによって囲まれる空間であり、壁面に沿って設けられている。第２流路３１３ｂの一端は第１流路３１３ａの他端と連通し、第２流路３１３ｂの他端は開口３０ａと連通する。第２流路３１３ｂの一端側には第２ファン３１１が配置され、第２流路３１３ｂの他端側には筒部材６０ａが配置される。
　流路３１５は、筒部材６０ａを基準にして筐体３０のフロント側の壁面とは反対側に配置される。流路３１５の一端は、第２流路３１３ｂを流れるレーザガスの進行方向の側方において第２流路３１３ｂの他端に連通する。流路３１５には、第２流路３１３ｂのレーザガスが第２流路３１３ｂから筒部材６０ａの外周面を沿って流入する。本実施形態の開口８１ｄは流路３１５を基準として第２流路３１３ｂとは反対側に設けられ、流路３１５の径は開口８１ｄよりも大きく、流路３１５の他端は開口８１ｄを囲むように隔壁８１に接続される。パルスレーザ光の進行方向に沿って見る場合において、開口８１ｄ、開口８１ｄと流路３１５との連通部、流路３１５、及び筒部材６０ａの内部空間は、ウインドウ３１ａと重なる。流路３１５は、第２流路３１３ｂから上記のように筒部材６０ａの外周面を沿って流されるレーザガスの一部を筒部材６０ａの内部空間を介してウインドウ３１ａ側に流す。また、流路３１５は、開口８１ｄを介して内部空間３０５にレーザガスの他の一部を流す。また、流路３１５は、ウインドウ３１ａから跳ね返って筒部材６０ａを介して流路３１５に戻るレーザガスを開口８１ｄを介して内部空間３０５に流す。上記のような流路３１３は、隔壁８１側よりも筐体３０のフロント側の壁面側において第２流路３１３ｂに連通する。本実施形態の隔壁８１には開口８１ｂ，８１ｃが設けられていないため、開口８１ｄは隔壁８１の第２開口である。
　本実施形態の流路３１３において、レーザガスは、第２ファン３１１によって、第１流路３１３ａ、第２流路３１３ｂの順に流れる。レーザガスは、第２流路３１３ｂの他端において、パルスレーザ光の進行方向において筒部材６０ａの外周面に沿って流路３１５に流れる。流路３１５に流れるレーザガスの一部は開口８１ｄを通過して内部空間３０５に流れる。また、上記したように流路３１５の径は開口８１ｄよりも大きくされているため、レーザガスの他の一部は、隔壁８１のうちの流路３１５の周面と開口８１ｄの縁との間の壁面に衝突する。衝突によってレーザガスは、流路３１５及び筒部材６０ａを介してウインドウ３１ａに流れる。従って、第２流路３１３ｂに連通する流路３１５は、第２流路３１３ｂに設けられる筒部材６０ａを介してウインドウ３１ａにレーザガスを流す。従って、第２流路３１３ｂは、流路３１５及び開口８１ｄを介してレーザガスの一部をウインドウ３１ａから離れる方向に流し、流路３１５を介してレーザガスの一部をウインドウ３１ａ側に流す。流路３１５におけるレーザガスは、ウインドウ３１ａを吹き付ける。ウインドウ３１ａを吹き付けたレーザガスは、ウインドウ３１ａによって跳ね返る。流路３１５は、ウインドウ３１ａから跳ね返るレーザガスをウインドウ３１ａから離れる方向に、具体的には、レーザガスを開口８１ｄを介して内部空間３０５に流す。
　４．２　作用・効果
　本実施形態のチャンバ装置ＣＨでは、流路３１３及び流路３１５は、内部空間３０１に配置される。このため、隔壁８１に開口８１ｂ，８１ｃを設ける必要がなくなり得る。また、流路３１３及び流路３１５が内部空間３０５に配置されないため、クロスフローファン４６によるガスの流れが流路３１３及び流路３１５によって乱れてしまうことが抑制され得る。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
　本明細書及び請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」、「有する」、「備える」、「具備する」などの用語は、「記載されたもの以外の構成要素の存在を除外しない」と解釈されるべきである。また、修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきであり、さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (20)

  1. 　レーザガスを封入する筐体と、
    　前記筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることで前記レーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、
    　前記筐体の壁面に配置され、前記光が透過するウインドウと、
    　前記内部空間に配置され、前記レーザガスを前記一対の放電電極の間に流す第１ファンと、
    　前記内部空間に配置されるフィルタと、
    　前記第１ファンの駆動源からの駆動力によって前記第１ファンと共に回転する第２ファンと、
    　前記内部空間に設けられ、前記フィルタによってろ過される前記レーザガスが前記第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部を前記ウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、
    　前記内部空間に設けられ、前記ファン側流路に連通し、前記第２ファンによって前記ファン側流路から流される前記レーザガスを前記ウインドウ側に流すウインドウ側流路と、
    　を備える
    　チャンバ装置。
  2. 　請求項１に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ウインドウが設けられる前記壁面と前記放電電極との間に設けられ、前記内部空間を前記ウインドウが設けられる前記壁面に接するウインドウ側内部空間と前記放電電極が位置し前記ウインドウ側内部空間よりも広い電極側内部空間とに仕切る隔壁を備え、
    　前記ファン側流路は、前記ウインドウ側内部空間と、前記電極側内部空間とに前記隔壁を通じて設けられ、
    　前記ウインドウ側流路は、前記ウインドウ側内部空間に設けられる。
  3. 　請求項２に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ファン側流路は、
    　　前記ウインドウ側内部空間に設けられ、前記電極側内部空間の前記レーザガスが前記隔壁の第１開口を介して流入する第１流路と、
    　　前記電極側内部空間に設けられ、前記第１流路の前記レーザガスが前記隔壁の第２開口を介して流入する第２流路と、
    　　前記ウインドウ側内部空間に設けられ、前記第２流路の前記レーザガスが前記隔壁の第３開口を介して流入し、当該レーザガスを前記ウインドウ側流路に流す第３流路と、
    を含む。
  4. 　請求項３に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第２ファンは、前記第３流路に配置される。
  5. 　請求項３に記載のチャンバ装置であって、
    　前記フィルタは、前記電極側内部空間において前記第１開口を覆う。
  6. 　請求項３に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ウインドウ側流路に配置される筒部材をさらに備え、
    　前記筒部材は、前記筒部材の内部空間に配置されると共に開口が連続する複数の板部材を含み、
    　それぞれの前記板部材は、間隔をあけて前記光の進行方向に並列に配置される。
  7. 　請求項３に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第３流路は、前記隔壁の第４開口を介して前記電極側内部空間に前記レーザガスを流す。
  8. 　請求項７に記載のチャンバ装置であって、
    　前記光の進行方向に沿って見る場合において、前記第４開口、前記第４開口と前記第３流路との連通部、前記第３流路と前記ウインドウ側流路との連通部、及び前記ウインドウ側流路は、前記ウインドウと重なる。
  9. 　請求項１に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ウインドウが設けられる前記壁面と前記放電電極との間に設けられる隔壁を備え、
    　前記ファン側流路及び前記ウインドウ側流路は、前記内部空間のうちの前記隔壁と前記ウインドウが設けられる前記壁面との間のウインドウ側内部空間に設けられる。
  10. 　請求項９に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第２ファンは、前記ファン側流路に配置される。
  11. 　請求項９に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ファン側流路には、前記隔壁を基準にして前記ウインドウ側内部空間とは反対側で前記放電電極が位置する電極側内部空間の前記レーザガスが前記隔壁の第１開口を介して流入し、
    　前記フィルタは、前記電極側内部空間において前記第１開口を覆う。
  12. 　請求項９に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ファン側流路に配置される筒部材をさらに備え、
    　前記筒部材は、前記筒部材の内部空間に配置されると共に開口が連続する複数の板部材を含み、
    　それぞれの前記板部材は、間隔をあけて前記光の進行方向に並列に配置される。
  13. 　請求項９に記載のチャンバ装置であって、
    　前記ファン側流路は、前記ウインドウ側流路及び前記隔壁の第２開口を介して、前記隔壁を基準にして前記ウインドウ側内部空間とは反対側で前記放電電極が位置する電極側内部空間に前記レーザガスを流す。
  14. 　請求項１に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第２ファンは、前記第１ファンの駆動軸と連結し、前記駆動軸の回転によって回転する。
  15. 　請求項１に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第２ファンは、遠心ファンである。
  16. 　請求項１に記載のチャンバ装置であって、
    　前記第２ファンは、シロッコファンである。
  17. 　チャンバ装置を備えるガスレーザ装置であって、
    　前記チャンバ装置は、
    　レーザガスを封入する筐体と、
    　前記筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることで前記レーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、
    　前記筐体の壁面に配置され、前記光が透過するウインドウと、
    　前記内部空間に配置され、前記レーザガスを前記一対の放電電極の間に流す第１ファンと、
    　前記内部空間に配置されるフィルタと、
    　前記第１ファンの駆動源からの駆動力によって前記第１ファンと共に回転する第２ファンと、
    　前記内部空間に設けられ、前記フィルタによってろ過される前記レーザガスが前記第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部を前記ウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、
    　前記内部空間に設けられ、前記ファン側流路に連通し、前記第２ファンによって前記ファン側流路から流される前記レーザガスを前記ウインドウ側に流すウインドウ側流路と、
    　を備える。
  18. 　請求項１７に記載のガスレーザ装置であって、
    　前記ガスレーザ装置は、エキシマレーザ装置である。
  19. 　電子デバイスの製造方法であって、
    　レーザガスを封入する筐体と、
    　前記筐体の内部空間において互いに対向して配置され、電圧が印加されることで前記レーザガスから光を発生させる一対の放電電極と、
    　前記筐体の壁面に配置され、前記光が透過するウインドウと、
    　前記内部空間に配置され、前記レーザガスを前記一対の放電電極の間に流す第１ファンと、
    　前記内部空間に配置されるフィルタと、
    　前記第１ファンの駆動源からの駆動力によって前記第１ファンと共に回転する第２ファンと、
    　前記内部空間に設けられ、前記フィルタによってろ過される前記レーザガスが前記第２ファンによって流れ、当該レーザガスの一部を前記ウインドウから離れる方向に流すファン側流路と、
    　前記内部空間に設けられ、前記ファン側流路に連通し、前記第２ファンによって前記ファン側流路から流される前記レーザガスを前記ウインドウ側に流すウインドウ側流路と、
    　を備えるチャンバ装置を備えるガスレーザ装置によってレーザ光を生成し、
    　前記レーザ光を露光装置に出力し、
    　電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記レーザ光を露光すること
    　を含む電子デバイスの製造方法。
  20. 　請求項１９に記載の電子デバイスの製造方法であって、
    　前記ガスレーザ装置は、エキシマレーザ装置である。
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