WO2023095219A1 - パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents

パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023095219A1
WO2023095219A1 PCT/JP2021/043040 JP2021043040W WO2023095219A1 WO 2023095219 A1 WO2023095219 A1 WO 2023095219A1 JP 2021043040 W JP2021043040 W JP 2021043040W WO 2023095219 A1 WO2023095219 A1 WO 2023095219A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
concave
pulsed laser
concave mirrors
concave mirror
reflection
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/043040
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
洋介 藤巻
Original Assignee
ギガフォトン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ギガフォトン株式会社 filed Critical ギガフォトン株式会社
Priority to PCT/JP2021/043040 priority Critical patent/WO2023095219A1/ja
Priority to CN202180103194.6A priority patent/CN118104087A/zh
Publication of WO2023095219A1 publication Critical patent/WO2023095219A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating

Definitions

  • the present disclosure relates to a method of manufacturing a pulse stretcher and an electronic device.
  • a KrF excimer laser device that outputs laser light with a wavelength of about 248 nm and an ArF excimer laser device that outputs laser light with a wavelength of about 193 nm are used.
  • the spectral line width of the spontaneous oscillation light of the KrF excimer laser device and the ArF excimer laser device is as wide as 350 pm to 400 pm. Therefore, if the projection lens is made of a material that transmits ultraviolet light, such as KrF and ArF laser light, chromatic aberration may occur. As a result, resolution can be reduced. Therefore, it is necessary to narrow the spectral line width of the laser light output from the gas laser device to such an extent that the chromatic aberration can be ignored. Therefore, in the laser resonator of the gas laser device, a line narrowing module (LNM) including a band narrowing element (etalon, grating, etc.) is provided in order to narrow the spectral line width.
  • LNM line narrowing module
  • a gas laser device whose spectral line width is narrowed will be referred to as a band-narrowed gas laser device.
  • a pulse stretcher includes a beam splitter that splits a pulsed laser beam into two, a plurality of first concave mirrors arranged side by side in a predetermined direction, and the same number of first concave mirrors as the first concave mirrors. a plurality of second concave mirrors arranged side by side in a predetermined direction so as to individually face the concave mirror; , is reflected alternately 12 times or more by the plurality of first concave mirrors and the plurality of second concave mirrors, and returns to the beam splitter.
  • the number of overlaps of one pulsed laser beam may be two.
  • a pulse stretcher includes a beam splitter that splits a pulsed laser beam into two, a plurality of first concave mirrors arranged side by side in a predetermined direction, and the same number of first concave mirrors as the first concave mirrors.
  • a plurality of second concave mirrors arranged side by side in a predetermined direction so as to individually face the concave mirror; , is alternately reflected by the plurality of first concave mirrors and the plurality of second concave mirrors 12 or more even times and returns to the beam splitter, where the first concave mirror or the second concave mirror is , may be shifted around an axis perpendicular to a predetermined direction so that the beam waists of one of the pulsed laser beams are shifted.
  • a method for manufacturing an electronic device includes a beam splitter that splits a pulsed laser beam into two, a plurality of first concave mirrors arranged side by side in a predetermined direction, and the same number of first concave mirrors. a plurality of second concave mirrors individually facing the first concave mirror and arranged side by side in a predetermined direction; It travels to any of the first concave mirrors, is alternately reflected by the plurality of first concave mirrors and the plurality of second concave mirrors, and returns to the beam splitter an even number of times, 12 or more times, and returns to the beam splitter, where the beam waist of one of the pulsed laser beams is emitted.
  • the laser beam is generated by a gas laser device provided with a pulse stretcher in which the one pulsed laser beam overlaps two each;
  • the laser light may be exposed on the photosensitive substrate in the exposure device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of an electronic device manufacturing apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of a gas laser device of a comparative example.
  • FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration example of a pulse stretcher of a comparative example.
  • FIG. 4 is a diagram showing the positions of reflection points 1 to 12 and the reflection direction of laser light in the pulse stretcher of the first embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram showing the positions of reflection points 1 to 12 and the reflection direction of laser light in the pulse stretcher of the second embodiment.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of an electronic device manufacturing apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the overall configuration of a gas laser device of a comparative example.
  • FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration example of a pulse stretcher of a comparative example.
  • FIG. 4 is a diagram showing the positions of reflection points 1 to 12 and the reflection direction
  • FIG. 6 is a diagram showing the concave mirror, the reflection points 1 to 12, and the reflection direction of the laser beam shown in FIG. 5 along a predetermined direction.
  • FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration example of a pulse stretcher of Embodiment 3, positions of reflection points 1 to 12, and reflection directions of laser light.
  • FIG. 8 is a view of the concave mirror, the reflection points 1 to 12, and the reflection direction of the laser beam shown in FIG. 7 along a predetermined direction.
  • FIG. 9 is a diagram showing the positions of reflection points 1 to 20 and the reflection direction of laser light in a pulse stretcher according to a modification of the third embodiment.
  • FIG. 10 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in the concave mirror of Embodiment 4.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the position of the beam waist of laser light according to the fourth embodiment.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in the concave mirror of Modification 1 of Embodiment 4.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining the position of the beam waist of the laser light according to Modification 1 of Embodiment 4.
  • FIG. 14 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in the concave mirror of Modification 2 of Embodiment 4.
  • FIG. FIG. 15 is a diagram for explaining the position of the beam waist of the laser light according to Modification 2 of Embodiment 4.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in the concave mirror of Modification 1 of Embodiment 4.
  • FIG. 14 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in the concave mirror of Modification 2 of Embodiment 4.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the overall schematic configuration of an electronic device manufacturing apparatus used in an electronic device exposure process.
  • the manufacturing apparatus used in the exposure process includes a gas laser device 100 and an exposure device 200.
  • Exposure apparatus 200 includes an illumination optical system 210 including a plurality of mirrors 211 , 212 and 213 and a projection optical system 220 .
  • the illumination optical system 210 illuminates the reticle pattern on the reticle stage RT with laser light incident from the gas laser device 100 .
  • the projection optical system 220 reduces and projects the laser light transmitted through the reticle to form an image on a workpiece (not shown) placed on the workpiece table WT.
  • the workpiece is a photosensitive substrate, such as a semiconductor wafer, to which photoresist is applied.
  • the exposure apparatus 200 synchronously translates the reticle stage RT and the workpiece table WT to expose the workpiece to laser light reflecting the reticle pattern.
  • a semiconductor device which is an electronic device, can be manufactured by transferring a device pattern onto a semiconductor wafer through the exposure process as described above.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the entire gas laser device 100 of the comparative example.
  • Gas laser device 100 is, for example, an ArF excimer laser device that uses a mixed gas containing argon (Ar), fluorine ( F2 ), and neon (Ne). This gas laser device 100 outputs laser light with a center wavelength of about 193 nm.
  • the gas laser device 100 may be a gas laser device other than an ArF excimer laser device, for example, a KrF excimer laser device using a mixed gas containing krypton (Kr), F 2 and Ne. In this case, the gas laser device 100 emits laser light with a center wavelength of approximately 248 nm.
  • a mixed gas containing Ar, F 2 and Ne as laser media and a mixed gas containing Kr, F 2 and Ne as laser media are sometimes called laser gas.
  • the gas laser device 100 mainly includes a housing 110, and a laser oscillator 130, a pulse stretcher 150, a monitor module 160, a shutter 170, and a laser processor 190 arranged in the internal space of the housing 110.
  • the laser oscillator 130 includes a laser chamber 131 , a charger 141 , a pulsed power module 143 , a band narrowing module 145 and an output coupling mirror 147 .
  • FIG. 2 shows the internal configuration of the laser chamber 131 viewed from a direction substantially perpendicular to the traveling direction of the laser light.
  • Laser chamber 131 includes an internal space in which light is generated by excitation of the laser medium in the laser gas. The light travels to windows 139a and 139b, which will be described later.
  • a laser gas is supplied to the internal space of the laser chamber 131 from a laser gas supply source (not shown) through a pipe (not shown). Further, the laser gas in the laser chamber 131 is subjected to processing such as removing F2 gas by a halogen filter, and is exhausted to the housing 110 through piping (not shown) by an exhaust pump (not shown).
  • a pair of electrodes 133a and 133b are arranged so as to face each other with their longitudinal directions extending along the light traveling direction.
  • the electrodes 133a and 133b are discharge electrodes for exciting the laser medium by glow discharge.
  • electrode 133a is the cathode and electrode 133b is the anode.
  • the electrode 133a is supported by an electrical insulator 135.
  • the electrical insulator 135 closes the opening formed in the laser chamber 131 .
  • a conductive portion (not shown) is embedded in the electrical insulating portion 135, and the conductive portion applies a high voltage supplied from the pulse power module 143 to the electrode 133a.
  • the electrode 133b is supported by a return plate 137, and the return plate 137 is connected to the inner surface of the laser chamber 131 by wiring (not shown).
  • the charger 141 is a DC power supply that charges a charging capacitor (not shown) in the pulse power module 143 with a predetermined voltage.
  • Pulsed power module 143 includes switch 143 a controlled by laser processor 190 . When the switch 143a turns from OFF to ON, the pulse power module 143 generates a pulsed high voltage from the electrical energy held in the charger 141, and applies this high voltage between the electrodes 133a and 133b. .
  • the laser chamber 131 is provided with windows 139a and 139b.
  • the window 139a is positioned on one end side in the traveling direction of the laser light in the laser chamber 131
  • the window 139b is positioned on the other end side in the traveling direction
  • the windows 139a and 139b define the space between the electrodes 133a and 133b. Sandwich.
  • the windows 139a and 139b are inclined at Brewster's angle with respect to the traveling direction of the laser light so as to suppress the reflection of the P-polarized light of the laser light.
  • a laser beam that oscillates as described later is emitted to the outside of the laser chamber 131 via windows 139a and 139b. Since the pulse power module 143 applies a pulsed high voltage between the electrodes 133a and 133b as described above, this laser beam is a pulsed laser beam.
  • the band narrowing module 145 includes a housing 145a, a prism 145b, a grating 145c, and a rotation stage (not shown) arranged in the internal space of the housing 145a.
  • An opening is formed in the housing 145a, and the housing 145a is connected to the rear side of the laser chamber 131 through the opening.
  • the prism 145b expands the beam width of the light emitted from the window 139a and causes the light to enter the grating 145c. Also, the prism 145b reduces the beam width of the reflected light from the grating 145c and returns the light to the internal space of the laser chamber 131 through the window 139a.
  • the prism 145b is supported by a rotating stage and rotated by the rotating stage. Rotation of prism 145b changes the angle of incidence of light on grating 145c. Thus, the rotation of prism 145b can select the wavelength of light returning to laser chamber 131 from grating 145c via prism 145b.
  • FIG. 2 shows an example in which one prism 145b is arranged, at least one prism may be arranged.
  • the surface of the grating 145c is made of a highly reflective material, and a large number of grooves are provided at predetermined intervals on the surface.
  • the cross-sectional shape of each groove is, for example, a right triangle.
  • Light incident on the grating 145c from the prism 145b is reflected by these grooves and diffracted in directions corresponding to the wavelength of the light.
  • the grating 145c is Littrow arranged so that the incident angle of the light incident on the grating 145c from the prism 145b and the diffraction angle of the diffracted light of the desired wavelength match. As a result, light around the desired wavelength is returned to the laser chamber 131 via the prism 145b.
  • the output coupling mirror 147 is arranged in the inner space of the optical path tube 147a connected to the other end side of the laser chamber 131, and faces the window 139b.
  • the output coupling mirror 147 transmits part of the laser light emitted from the window 139b toward the pulse stretcher 150 and reflects the other part to the inner space of the laser chamber 131 via the window 139b. return.
  • the grating 145c and the output coupling mirror 147 constitute a Fabry-Perot type laser resonator, and the laser chamber 131 is arranged on the optical path of the laser resonator.
  • the pulse stretcher 150 is arranged between the output coupling mirror 147 and the monitor module 160 in the inner space of the optical path tube 147a.
  • the pulse stretcher 150 stretches the pulse width of the laser light from the output coupling mirror 147 and emits the laser light with the stretched pulse width toward the monitor module 160 .
  • FIG. 2 simply illustrates the pulse stretcher 150, and the configuration of the pulse stretcher 150 will be described later.
  • An amplifier may be arranged between the pulse stretcher 150 and the output coupling mirror 147 of the laser oscillator 130 , and the laser light emitted from the output coupling mirror 147 may be amplified by the amplifier and proceed to the pulse stretcher 150 .
  • the monitor module 160 is arranged on the optical path of the laser light emitted from the pulse stretcher 150 .
  • the monitor module 160 includes a housing 161 and a beam splitter 163 and an optical sensor 165 arranged in the internal space of the housing 161 .
  • An opening is formed in the housing 161, and the internal space of the housing 161 communicates with the internal space of the optical path tube 147a through this opening.
  • the beam splitter 163 transmits part of the laser light emitted from the pulse stretcher 150 toward the shutter 170 and reflects another part of the laser light toward the light receiving surface of the optical sensor 165 .
  • the optical sensor 165 measures the energy E of the laser beam incident on the light receiving surface.
  • Optical sensor 165 outputs a signal indicative of the measured energy E to laser processor 190 .
  • the laser processor 190 of the present disclosure is a processing device that includes a storage device 190a storing a control program and a CPU (Central Processing Unit) 190b that executes the control program.
  • Laser processor 190 is specially configured or programmed to perform various processes contained in this disclosure. Also, the laser processor 190 controls the entire gas laser device 100 .
  • the laser processor 190 transmits and receives various signals to and from the exposure processor 230 of the exposure apparatus 200 .
  • the laser processor 190 receives from the exposure processor 230 a signal indicating a light emission trigger Tr, which will be described later, a target energy Et, and the like.
  • the target energy Et is the target value of the laser light energy used in the exposure process.
  • the laser processor 190 controls the charging voltage of the charger 141 based on the energy E received from the optical sensor 165 and the exposure processor 230 and the target energy Et. By controlling this charging voltage, the energy of the laser light is controlled.
  • the laser processor 190 transmits a command signal for turning ON or OFF the switch 143 a to the pulse power module 143 .
  • Laser processor 190 is also electrically connected to shutter 170 and controls opening and closing of shutter 170 .
  • the laser processor 190 closes the shutter 170 until the difference ⁇ E between the energy E received from the monitor module 160 and the target energy Et received from the exposure processor 230 falls within the allowable range.
  • the laser processor 190 transmits a reception preparation completion signal to the exposure processor 230 to notify that preparation for reception of the light emission trigger Tr is completed.
  • the exposure processor 230 receives the reception preparation completion signal, it transmits a signal indicating the light emission trigger Tr to the laser processor 190, and the laser processor 190 opens the shutter 170 when it receives the signal indicating the light emission trigger Tr.
  • the light emission trigger Tr is defined by a predetermined repetition frequency f and a predetermined number of pulses P of laser light, and is a timing signal for the exposure processor 230 to cause the laser oscillator 130 to oscillate, and is an external trigger.
  • the repetition frequency f of the laser light is, for example, 1 kHz or more and 10 kHz or less.
  • the shutter 170 is arranged in the optical path of the laser beam that has passed through the beam splitter 163 of the monitor module 160 and passed through an opening formed in the housing 161 on the side opposite to the side to which the optical path tube 147a is connected. . Also, the shutter 170 is arranged in the internal space of the optical path tube 171 .
  • the optical path tube 171 is connected to the housing 161 so as to surround the opening and communicates with the housing 161 .
  • a purge gas is supplied and filled in the internal space of the optical path tube 171 and the optical path tube 147a and the internal space of the housing 161 and the housing 145a.
  • the purge gas includes an inert gas such as nitrogen ( N2 ).
  • the purge gas is supplied from a purge gas supply source (not shown) through piping (not shown). Further, the optical path tube 171 communicates with the exposure apparatus 200 through an opening of the housing 110 and an optical path tube 500 connecting the housing 110 and the exposure apparatus 200 . The laser light that has passed through the shutter 170 enters the exposure device 200 .
  • the exposure processor 230 of the present disclosure is a processing device that includes a storage device 230a in which control programs are stored, and a CPU 230b that executes the control programs. Exposure processor 230 is specially configured or programmed to perform various processes contained in this disclosure. Also, the exposure processor 230 controls the entire exposure apparatus 200 .
  • FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration example of the pulse stretcher 150 of the comparative example.
  • the pulse stretcher 150 comprises a beam splitter 51, a first mirror unit 53a and a second mirror unit 53b.
  • the beam splitter 51 is arranged on the optical path of the laser light transmitted through the output coupling mirror 147 .
  • the beam splitter 51 splits the laser beam traveling to the beam splitter 51 into two, reflects one of the split laser beams toward the first mirror unit 53a, and transmits the other laser beam toward the beam splitter 163.
  • the first mirror unit 53a includes a plurality of first concave mirrors
  • the second mirror unit 53b includes the same number of second concave mirrors as the plurality of first concave mirrors.
  • two concave mirrors 55a and 55b are shown as first concave mirrors
  • two concave mirrors 55c and 55d are shown as second concave mirrors.
  • the concave mirrors 55a and 55b are arranged side by side in a predetermined direction, and the concave mirrors 55c and 55d are also arranged side by side in the predetermined direction, that is, the direction in which the concave mirrors 55a and 55b are arranged.
  • the concave mirror 55a is arranged on the opposite side of the concave mirror 55d with respect to the beam splitter 51 and faces the concave mirror 55d.
  • the concave mirror 55b faces the concave mirror 55c. Accordingly, the concave mirrors 55a and 55b individually face the concave mirrors 55c and 55d.
  • the beam splitter 51 and the concave mirrors 55a to 55d arranged in this manner constitute a delay optical path for extending the pulse width of the laser light.
  • the reflecting points of the laser light on the concave mirrors 55a to 55d are shown as reflecting points 1 to 12.
  • part of the laser light is reflected by the beam splitter 51, travels to the concave mirror 55a, is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror, and reaches reflection points 1-12. Proceeding in order, returning to the beam splitter 51 after the reflection point 12 .
  • the concave mirror 55a has reflection points 1, 3, 7 and 9, the concave mirror 55b has reflection points 5 and 11, the concave mirror 55c has reflection points 2 and 8, and the concave mirror 55d has reflection points 4 and 6. , 10 and 12 are located respectively.
  • the reflection point 1 is located at the same position as the reflection point 9, the reflection point 3 is located at the same position as the reflection point 7, and the reflection points 1 and 9 are shifted from the reflection points 3 and 7 in a predetermined direction. It is farther from the concave mirror 55b than the reflection points 3,7.
  • the reflection point 5 is shifted in a predetermined direction from the reflection point 11 and is closer to the concave mirror 55a than the reflection point 11 is.
  • the reflection point 2 is displaced from the reflection point 8 in a predetermined direction and is further away from the concave mirror 55d than the reflection point 8 is.
  • the reflection point 4 is positioned at the same position as the reflection point 12
  • the reflection point 6 is positioned at the same position as the reflection point 10
  • the reflection points 4 and 12 are arranged in a predetermined direction from the reflection points 6 and 10. It is displaced and is farther from the concave mirror 55c than the reflection points 6 and 10 are.
  • the reflection points 1 and 9 face the reflection points 4 and 12
  • the reflection points 3 and 7 face the reflection points 6 and 10.
  • Reflection point 5 faces reflection point 8
  • reflection point 11 faces reflection point 2 in concave mirrors 55b and 55c.
  • the pulse stretcher 150 causes the laser light to travel within the pulse stretcher 150, with the period from the beam splitter 51 until the laser light returns to the beam splitter 51 through the reflection points 1 to 12 in order.
  • the beam splitter 51 reflects a portion of the laser beam reflected by the reflecting point 12 of the concave mirror 55d toward the beam splitter 163, and transmits another portion of the laser beam toward the reflecting point 1 of the concave mirror 55a. .
  • the laser light is alternately reflected 12 times by the concave mirrors 55a to 55d during one period, and circulates around the pulse stretcher 150 more than once.
  • the internal spaces of the optical path tubes 147a, 171, 500 and the internal spaces of the housings 145a, 161 are filled with a purge gas from a purge gas supply source (not shown).
  • a laser gas is supplied to the internal space of the laser chamber 131 from a laser gas supply source (not shown).
  • the laser processor 190 receives from the exposure processor 230 a signal indicating the target energy Et and a signal indicating the light emission trigger Tr. Upon receiving the signal indicating the target energy Et and the signal indicating the light emission trigger Tr, the laser processor 190 closes the shutter 170 and drives the charger 141 . Also, the laser processor 190 turns on the switch 143 a of the pulse power module 143 . Thereby, the pulse power module 143 applies a pulse-like high voltage between the electrodes 133 a and 133 b from the electric energy held in the charger 141 .
  • This high voltage causes a discharge between the electrodes 133a and 133b, excites the laser medium contained in the laser gas between the electrodes 133a and 133b, and emits light when the laser medium returns to the ground state.
  • emits This light resonates between the grating 145c and the output coupling mirror 147, and the light is amplified each time it passes through the discharge space in the internal space of the laser chamber 131, causing laser oscillation. A portion of the laser light then passes through output coupling mirror 147 as pulsed laser light and travels to pulse stretcher 150 .
  • the beam splitter 51 of the pulse stretcher 150 transmits part of the laser light that has passed through the output coupling mirror 147 toward the beam splitter 163, and reflects another part of the laser light toward the concave mirror 55a.
  • the laser light traveling to the concave mirror 55a is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror, and travels through reflection points 1 to 12 in order. Then, the laser light travels from the reflecting point 12 to the beam splitter 51 and makes one round of the pulse stretcher 150 .
  • a portion of the laser light that has traveled to the beam splitter 51 is reflected by the beam splitter 51 toward the beam splitter 163 and emitted from the pulse stretcher 150 .
  • Another part of the laser beam passes through the beam splitter 51 and travels again toward the reflection point 1 of the concave mirror 55a, entering the second cycle.
  • the laser light emitted from the pulse stretcher 150 after making one round of the pulse stretcher 150 has a predetermined wavelength compared to the laser light emitted from the pulse stretcher 150 after passing through the beam splitter 51 without traveling to the concave mirror 55a. It is emitted from the pulse stretcher 150 with a delay of the delay time.
  • the laser light emitted from the pulse stretcher 150 after passing through the pulse stretcher 150 twice is delayed by a predetermined delay time compared to the laser light emitted from the pulse stretcher 150 after passing through the pulse stretcher 150 once. is emitted from the pulse stretcher 150.
  • the intensity of the laser light decreases as the number of laps in the pulse stretcher 150 increases.
  • the laser beam emitted later from the pulse stretcher 150 partially overlaps the laser beam emitted from the pulse stretcher 150 earlier than the laser beam.
  • the laser light whose pulse width has been extended to a predetermined pulse width travels to the beam splitter 163 .
  • a part of the laser light that has traveled to the beam splitter 163 is reflected by the beam splitter 163 and received by the optical sensor 165 .
  • the optical sensor 165 measures the energy E of the received laser light and outputs a signal indicating the energy E to the laser processor 190 .
  • the laser processor 190 controls the charging voltage so that the difference ⁇ E between the energy E and the target energy Et falls within the permissible range, and after the difference ⁇ E falls within the permissible range, the laser processor 190 indicates completion of preparation for receiving the light emission trigger Tr.
  • a ready-to-receive signal is sent to the exposure processor 230 .
  • the exposure processor 230 transmits the light emission trigger Tr to the laser processor 190 upon receiving the reception preparation completion signal.
  • the laser processor 190 opens the shutter 170 in synchronization with the reception of the light emission trigger Tr, the laser light passing through the shutter 170 enters the exposure device 200 .
  • This laser light is, for example, a pulsed laser light with a central wavelength of 193 nm.
  • the pulsed laser light that travels from the concave mirrors 55c and 55d to the concave mirrors 55a and 55b is parallel light, but travels from the concave mirrors 55a and 55b to the concave mirrors 55c and 55d.
  • the pulsed laser beam is condensed light that is condensed while traveling.
  • the pulsed laser light which is included in the condensed light and travels from the reflection point 1 to the reflection point 2, from the reflection point 5 to the reflection point 6, from the reflection point 7 to the reflection point 8, and from the reflection point 11 to the reflection point 12, will be described.
  • the beam waists of the pulsed laser beams form a condensing point 301 where at least part of the pulsed laser beams overlap each other.
  • a condensing point 301 is located between the first mirror unit 53a and the second mirror unit 53b.
  • Condensing points 303 are also formed in the pulsed laser beam traveling from the reflecting point 3 to the reflecting point 4 and from the reflecting point 9 to the reflecting point 10 in the condensed light. In this way, in the pulse stretcher 150 of the comparative example, two condensing points 301 and 303 are formed, and the number of overlaps of the pulsed laser beams is four and two, respectively.
  • the characteristics of the pulsed laser light emitted from the gas laser device 100 do not change. Suppressed.
  • the change in the characteristic includes, for example, deviation of pointing, which is the traveling direction of the pulsed laser light.
  • the number of overlapping pulse laser beams per converging point increases.
  • the energy density of the pulse laser beam at the focal point increases, and the energy of the pulse laser beam absorbed by oxygen increases.
  • the temperature near the focal point of the pulse stretcher 150 may rise, and plasma may be generated due to the temperature rise.
  • a rise in temperature or generation of plasma may cause a refractive index distribution in the pulse stretcher 150, distorting the wavefront of the pulsed laser beam.
  • a pulse stretcher 150 capable of suppressing deterioration in reliability of the gas laser device 100 is illustrated.
  • FIG. 4 is a diagram showing the positions of reflection points 1 to 12 and the reflection direction of the pulsed laser light in the pulse stretcher 150 of this embodiment.
  • the pulse stretcher 150 of this embodiment three condensing points 401, 403, and 405 are formed, and the concave mirrors are arranged so that the number of overlapping pulse laser beams at each of the condensing points 401, 403, and 405 is two. Two or more of 55a to 55d are shifted around an axis perpendicular to the predetermined direction compared to the comparative example.
  • the pulse stretcher 150 of the present embodiment an example in which the concave mirrors 55a to 55c are shifted is shown, and the positions of the reflection points 1 to 12 in the pulse stretcher 150 and the reflection direction of the pulsed laser beam are different from those in the comparative example. changes. In FIG. 4, the displacement of the concave mirrors 55a to 55c is omitted in order to avoid complicating the drawing.
  • the concave mirror 55a has reflecting points 1 and 7
  • the concave mirror 55b has reflecting points 3, 5, 9 and 11
  • the concave mirror 55c has reflecting points 4 and 10
  • the concave mirror 55d has reflecting points.
  • Points 2, 6, 8 and 12 are located respectively.
  • the reflection point 1 is displaced from the reflection point 7 in a predetermined direction and is farther from the concave mirror 55b than the reflection point 7 is.
  • the reflection point 3 is positioned at the same position as the reflection point 11
  • the reflection point 5 is positioned at the same position as the reflection point 9
  • the reflection points 3 and 11 are displaced from the reflection points 5 and 9 in a predetermined direction. It is farther from the concave mirror 55a than the reflection points 5 and 9 are.
  • the reflection point 4 is shifted in a predetermined direction from the reflection point 10 and is closer to the concave mirror 55d than the reflection point 10 is.
  • the reflection point 2 is located at the same position as the reflection point 6, the reflection point 8 is located at the same position as the reflection point 12, and the reflection points 2 and 6 are in a predetermined direction from the reflection points 8 and 12. It is shifted and is closer to the concave mirror 55c than the reflection points 8 and 12 are.
  • the reflection point 1 faces the reflection points 8 and 12, and the reflection point 7 faces the reflection points 2 and 6.
  • Reflection points 5 and 9 face reflection point 4 and reflection points 3 and 11 face reflection point 10 on concave mirrors 55b and 55c.
  • the reflection points 1, 3, 5, 7, 9 and 11 of the concave mirrors 55a and 55b are located on lines passing through the respective centers of the concave mirrors 55a and 55b.
  • the reflection points 2, 4, 6, 8, 10 and 12 of the concave mirrors 55c and 55d are located on lines passing through the respective centers of the concave mirrors 55c and 55d.
  • the reflection points 1-12 are located off the center of the concave mirrors 55a-55d where the reflection points 1-12 are respectively located. In the concave mirrors 55a-55d of this embodiment, the same plane passes through the reflection points 1-12.
  • the concave mirrors 55a and 55c which are the first and second concave mirrors on one side, reflect the pulsed laser light once at two reflection points respectively during one period.
  • the other concave mirrors 55b and 55d which are the first and second concave mirrors, reflect the pulse laser beam twice at two reflection points respectively.
  • the pulse stretcher 150 of the present embodiment alternately reflects the pulsed laser light 12 times by the concave mirrors 55a to 55d and returns it to the beam splitter 51. However, the pulsed laser light is alternately reflected 12 times or more and returned to the beam splitter 51. You can return it.
  • part of the pulsed laser light travels from the beam splitter 51 to the concave mirror 55a and is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror.
  • the pulsed laser beam is positioned on the line passing through the centers of the concave mirrors 55a and 55b at the first concave mirror and the second concave mirror, as described above, and is shifted from the center of the concave mirror 55a. Therefore, the reflection points 1 to 12 are advanced in order. Further, since the same plane passes through the reflection points 1 to 12 as described above, the pulsed laser light travels along the plane passing through the reflection points 1 to 12 . Then, the pulsed laser light returns from the reflection point 12 to the beam splitter 51 and makes one round of the pulse stretcher 150 .
  • At least one of the pulsed laser beams has a beam waist of the pulsed laser beam traveling from the reflection point 1 to the reflection point 2 and the pulsed laser beam traveling from the reflection point 7 to the reflection point 8 .
  • the parts overlap, and the overlap forms a focal point 401 .
  • at least a part of the pulsed laser beams overlap each other at the respective beam waists of the pulsed laser beams traveling from the reflection point 3 to the reflection point 4 and the pulsed laser beams traveling from the reflection point 9 to the reflection point 10, and condensed by the overlap.
  • a point 403 is formed.
  • the pulsed laser beams overlap each other at the respective beam waists of the pulsed laser beams traveling from the reflection point 5 to the reflection point 6 and the pulsed laser beams traveling from the reflection point 11 to the reflection point 12, and condensed by the overlap.
  • a point 403 is formed. Therefore, in the pulse stretcher 150 of this embodiment, three condensing points 401, 403, and 405 are formed, and the number of pulsed laser beams overlapping each of the condensing points 401, 403, and 405 is two. Since the same plane passes through the reflecting points 1 to 12, the same plane passes through the condensing points 401, 403, and 405. FIG.
  • the number of overlaps of pulsed laser beams is two at each of the condensing points 401 , 403 , and 405 .
  • the energy density of the pulsed laser beam at the condensing point is lower than that at the condensing point 301 where four pulsed laser beams overlap, and the energy of the pulsed laser beam absorbed by oxygen is reduced. becomes smaller.
  • the generation of the refractive index distribution in the pulse stretcher 150 can be suppressed, and the distortion of the wavefront of the pulsed laser light can be suppressed. Therefore, a pulsed laser beam that satisfies the required performance can be emitted from the exposure apparatus 200, and a decrease in reliability of the gas laser apparatus 100 can be suppressed.
  • FIG. 5 is a diagram showing the positions of the reflection points 1 to 12 and the reflection direction of the pulsed laser beam in the pulse stretcher 150 of this embodiment.
  • the beam splitter 51, the pulsed laser light traveling from the output coupling mirror 147 to the beam splitter 51, and the pulsed laser light traveling from the beam splitter 51 to the beam splitter 163 are omitted for clarity.
  • the pulse stretcher 150 of this embodiment differs from that of the first embodiment in the positions of the reflection points 1 to 12 in the pulse stretcher 150 and the reflection direction of the pulsed laser beam.
  • the concave mirror 55a has reflection points 1, 5, 7 and 11
  • the concave mirror 55b has reflection points 3 and 9
  • the concave mirror 55c has reflection points 2, 4, 8 and 10. Reflection points 6 and 12 are located at 55d, respectively.
  • the reflection point 1 is positioned at the same position as the reflection point 5, and the reflection point 7 is positioned at the same position as the reflection point 11. Also, the reflection points 1 and 5 are displaced from the reflection points 7 and 11 in the direction orthogonal to the predetermined direction, and are separated from the concave mirror 55b by the same distance as the reflection points 7 and 11 are.
  • the reflection point 3 is displaced from the reflection point 9 in a direction perpendicular to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55a by the same distance as the reflection point 9.
  • the reflection point 2 is positioned at the same position as the reflection point 10, and the reflection point 4 is positioned at the same position as the reflection point 8. Further, the reflection points 2 and 10 are displaced from the reflection points 4 and 8 in the direction orthogonal to the predetermined direction, and are separated from the concave mirror 55d by the same distance as the reflection points 4 and 8 are.
  • the reflection point 6 is displaced from the reflection point 12 in a direction perpendicular to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55c by the same distance as the reflection point 12.
  • the reflection points 1 and 5 face the reflection point 12, and the reflection points 7 and 11 face the reflection point 6.
  • Reflection point 9 faces reflection points 4 and 8
  • reflection point 3 faces reflection points 2 and 10 on concave mirrors 55b and 55c.
  • the reflection points 1, 3, 5, 7, 9 and 11 of the concave mirrors 55a and 55b are perpendicular to the line passing through the respective centers of the concave mirrors 55a and 55b. located in the opposite direction.
  • the reflection points 2, 4, 6, 8, 10 and 12 of the concave mirrors 55c and 55d are arranged in a predetermined direction from lines passing through the respective centers of the concave mirrors 55c and 55d. They are shifted in orthogonal directions. Reflection points 1-12 are located offset from the center of the concave mirror in which each of reflection points 1-12 is located. The same plane passes through the reflection points 1, 5, 7, 11 of the concave mirror 55a and the reflection points 6, 12 of the concave mirror 55d. , 10 are coplanar.
  • the reflection points 1, 5 and 9 overlap each other, and the reflection points 3, 7 and 11 overlap each other.
  • reflection points 2, 6 and 10 overlap each other, and reflection points 4, 8 and 12 overlap each other.
  • the pulsed laser light is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror during one cycle, and travels through reflection points 1 to 12 in order. Therefore, in the pulse stretcher 150 of the present embodiment, the concave mirrors 55b and 55d, which are the first and second concave mirrors on one side, each emit a pulsed laser beam once at each of the two reflection points. reflect. Also, during one period, the other concave mirrors 55a and 55c, which are the first and second concave mirrors, reflect the pulse laser beam twice at two reflection points respectively. Further, as described above, the reflection points of the concave mirrors 55a to 55d are shifted in the direction orthogonal to the predetermined direction.
  • part of the pulsed laser light travels from the beam splitter 51 to the concave mirror 55a and is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror.
  • the reflection point 1 is located deviated from the line passing through the centers of the concave mirrors 55a and 55b in the direction orthogonal to the predetermined direction. Therefore, the pulsed laser light travels through the reflection points 1 to 12 in order. Then, the pulsed laser light returns from the reflection point 12 to the beam splitter 51 and makes one round of the pulse stretcher 150 .
  • the pulse stretcher 150 similarly to the pulse stretcher 150 according to the first embodiment, three condensing points 401, 403, and 405 are formed, and pulse laser beams are formed at the condensing points 401, 403, and 405 respectively.
  • the number of light overlaps is two.
  • the plane through which reflection points 1, 7, 2 and 8 pass, the plane through which reflection points 9, 3, 10 and 4 pass, and the plane through which reflection points 5, 11, 6 and 12 pass are They are arranged shifted in a predetermined direction. Therefore, the condensing points 401, 403, and 405 are located at different positions in the predetermined direction.
  • FIG. 6 is a diagram showing the concave mirrors 55a to 55d, the reflection points 1 to 12, and the reflection direction of the pulsed laser beam shown in FIG. 5 along a predetermined direction.
  • the pulsed laser light passing through the focal points 401, 403 and 405 intersects the plane where the respective centers of the concave mirrors 55a to 55d overlap, and the pulsed laser light that does not pass through the focal points 401, 403 and 405 travels along the plane. proceed.
  • the converging points 401, 403, 405 overlap each other.
  • at least a part of some condensing points may overlap other condensing points.
  • the number of overlaps of the pulsed laser beams is two at each of the condensing points 401 , 403 and 405 . Therefore, a pulsed laser beam that satisfies the required performance can be emitted from the exposure apparatus 200, and a decrease in reliability of the gas laser apparatus 100 can be suppressed.
  • FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration example of the pulse stretcher 150 of this embodiment, the positions of the reflection points 1 to 12, and the reflection direction of the pulsed laser beam.
  • the beam splitter 51, the pulsed laser light traveling from the output coupling mirror 147 to the beam splitter 51, and the pulsed laser light traveling from the beam splitter 51 to the beam splitter 163 are omitted for clarity.
  • the first mirror unit 53a of the second embodiment is further provided with a concave mirror 55e as a first concave mirror
  • the second mirror unit 53b is further provided with a concave mirror 55f as a second concave mirror. ing. Therefore, the pulse stretcher 150 of this embodiment differs from the pulse stretcher 150 of the second embodiment in that each of the first mirror unit 53a and the second mirror unit 53b has three concave mirrors.
  • concave mirrors 55a, 55b, and 55e are arranged in order in a predetermined direction
  • concave mirrors 55d, 55c, and 55f are arranged in order in a predetermined direction
  • concave mirror 55f faces concave mirror 55e.
  • the positions of the reflection points 1 to 12 and the direction of reflection of the pulsed laser beam change according to the arrangement of the concave mirrors 55e and 55f.
  • the positions of the reflection points 5 and 11 are changed to the concave mirror 55e, and the positions of the reflection points 4 and 10 are changed to the concave mirror 55f.
  • Other reflection points 1 to 3, 6 to 9 and 12 are located at the same positions as in the second embodiment.
  • the reflection point 5 is displaced from the reflection point 11 in a direction orthogonal to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55b by the same distance as the reflection point 11.
  • the reflection point 4 is displaced from the reflection point 10 in a direction perpendicular to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55c by the same distance as the reflection point 10 is.
  • the reflection point 5 faces the reflection point 4, and the reflection point 11 faces the reflection point 10.
  • the same plane passes through reflection points 5, 11 of concave mirror 55e and 4, 10 of concave mirror 55f.
  • the pulsed laser light is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror during one cycle, and travels through reflection points 1 to 12 in order. Therefore, in the pulse stretcher 150 of the present embodiment, the concave mirrors 55a to 55f reflect the pulsed laser light once at each of two reflection points on each of the concave mirrors 55a to 55f during one cycle. Also, as described above, the reflection points of the concave mirrors 55a to 55f are shifted in the direction perpendicular to the predetermined direction.
  • the operation of the pulse stretcher 150 in this embodiment is that the pulsed laser light is reflected at the reflecting points 4, 5, 10, and 11 of the concave mirrors 55e and 55f, and the concave mirrors 55a to 55f extend during one cycle.
  • the operation is the same as that of the second embodiment except that the light is reflected once at each of the two reflection points. Therefore, in the pulse stretcher 150 according to the present embodiment, similarly to the pulse stretcher 150 according to the second embodiment, three condensing points 401, 403, 405 are formed, and each of the condensing points 401, 403, 405 The number of overlapping pulse laser beams is two. Also, similarly to the pulse stretcher 150 of the second embodiment, the condensing points 401, 403, and 405 are located at different positions in a predetermined direction.
  • FIG. 8 is a diagram showing the concave mirrors 55a to 55f, the reflection points 1 to 12, and the reflection direction of the pulsed laser beam shown in FIG. 7 along a predetermined direction.
  • the converging points 401, 403, 405 overlap each other.
  • at least a part of some condensing points may overlap other condensing points.
  • each of the first mirror unit 53a and the second mirror unit 53b has three concave mirrors.
  • Each of the concave mirrors 55a to 55f reflects the pulsed laser light once at two reflection points during one cycle.
  • the reflection points are dispersed, the heat concentration at the reflection points and the temperature rise of the concave mirrors 55a to 55f due to the heat concentration can be suppressed.
  • the temperature rise is suppressed, the deformation of the concave mirrors 55a to 55f can be suppressed, and the distortion of the wavefront of the pulse laser beam due to the deformation can be suppressed. Therefore, a pulsed laser beam that satisfies the required performance can be emitted from the exposure apparatus 200, and a decrease in reliability of the gas laser apparatus 100 can be suppressed.
  • FIG. 9 is a diagram showing the positions of the reflection points 1 to 20 and the reflection direction of the pulsed laser beam in the pulse stretcher 150 of this modification.
  • the beam splitter 51, the pulsed laser light traveling from the output coupling mirror 147 to the beam splitter 51, and the pulsed laser light traveling from the beam splitter 51 to the beam splitter 163 are omitted for clarity.
  • the pulse stretcher 150 of this modification differs from the pulse stretcher 150 of Embodiment 3 in that the pulsed laser light is reflected 20 times by the concave mirrors 55a to 55f during one cycle. Therefore, in the pulse stretcher 150 of this modification, reflection points 1 to 20 are provided, and the pulsed laser light is alternately reflected by the first concave mirror and the second concave mirror, and the reflection points 1 to 20 are sequentially reflected. proceed.
  • Reflection points 1, 9, 11 and 19 are located on the concave mirror 55a of this modified example, reflection points 3, 7, 13 and 17 are located on the concave mirror 55b, and reflection points 5 and 15 are located on the concave mirror 55e.
  • Reflection points 4, 6, 14 and 16 are positioned on the concave mirror 55f, reflection points 2, 8, 12 and 18 are positioned on the concave mirror 55c, and reflection points 10 and 20 are positioned on the concave mirror 55d.
  • the reflection point 1 is located at the same position as the reflection point 9, and the reflection point 11 is located at the same position as the reflection point 19. Further, the reflection points 1 and 9 are displaced from the reflection points 11 and 19 in the direction orthogonal to the predetermined direction, and are separated from the concave mirror 55b by the same distance as the reflection points 11 and 19 are.
  • the reflection point 3 is located at the same position as the reflection point 7, and the reflection point 13 is located at the same position as the reflection point 17. Further, the reflection points 3 and 7 are displaced from the reflection points 13 and 17 in a direction perpendicular to the predetermined direction, and are separated from the concave mirrors 55a and 55e by the same distance as the reflection points 11 and 19 are.
  • the reflection point 5 is displaced from the reflection point 15 in a direction perpendicular to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55b by the same distance as the reflection point 15.
  • the reflection point 4 is positioned at the same position as the reflection point 16, and the reflection point 6 is positioned at the same position as the reflection point 14. Also, the reflection points 4 and 16 are displaced from the reflection points 6 and 14 in a direction orthogonal to the predetermined direction, and are separated from the concave mirror 55c by the same distance as the reflection points 6 and 14 are.
  • the reflection point 2 is located at the same position as the reflection point 18, and the reflection point 8 is located at the same position as the reflection point 12. Further, the reflection points 2 and 18 are shifted from the reflection points 8 and 12 in the direction perpendicular to the predetermined direction, and are separated from the concave mirrors 55d and 55f by the same distance as the reflection points 8 and 12 are.
  • the reflection point 10 is displaced from the reflection point 20 in a direction orthogonal to the predetermined direction, and is separated from the concave mirror 55c by the same distance as the reflection point 20.
  • the reflection points 1 and 9 face the reflection point 20, and the reflection points 11 and 19 face the reflection point 10.
  • the reflection points 13 and 17 face the reflection points 8 and 12, and the reflection points 3 and 7 face the reflection points 2 and 18, respectively.
  • Reflection point 5 faces reflection points 4 and 16, and reflection point 15 faces reflection points 6 and 14 on concave mirrors 55e and 55f.
  • the same plane passes through the reflection points 1, 9, 11, 19 of the concave mirror 55a and 10, 20 of the concave mirror 55d.
  • the same plane passes through reflecting points 3, 7, 13, 17 of concave mirror 55b and 2, 8, 12, 18 of concave mirror 55c, and reflecting points 5, 15 of concave mirror 55e and 4, 6 of concave mirror 55f.
  • 14 and 16 are coplanar.
  • the concave mirrors 55a, 55b and 55e are viewed along a predetermined direction, the reflection points 1, 5, 9, 13 and 17 of the concave mirrors 55a, 55b and 55e overlap each other, and the reflection points 3, 7, 11 and 15 , 19 overlap each other.
  • reflection points 2, 6, 10, 14 and 18 overlap each other, and reflection points 4, 8, 12, 16 and 20 overlap each other.
  • the pulse stretcher 150 of this modification at least part of the pulsed laser light at the beam waists of the pulsed laser light traveling from the reflection point 1 to the reflection point 2 and the pulsed laser light traveling from the reflection point 11 to the reflection point 12 overlap each other to form a converging point 411 .
  • at least a part of the pulsed laser light in each beam waist of the pulsed laser light traveling from the reflection point 3 to the reflection point 4 and the pulsed laser light traveling from the reflection point 13 to the reflection point 14 overlap each other, and the converging point 413 is formed.
  • the pulse stretcher 150 of this modification five condensing points 411, 413, 415, 417, and 419 are generated, and the pulsed laser beam is The number of overlaps is two.
  • Condensing points 411, 413, 415, 417, and 419 are located at different positions in a predetermined direction. When viewing the first mirror unit 53a and the second mirror unit 53b along a predetermined direction, there are two optical paths of the pulsed laser light passing through the focal points 411, 413, 415, 417, and 419. FIG. Also, the converging points 411, 413, 415, 417, and 419 overlap each other. In addition, at least a part of some condensing points may overlap other condensing points.
  • FIG. 10 is a schematic perspective view showing the positional relationship of the reflection points 1 to 12 in the concave mirrors 55a to 55d of this embodiment.
  • the beam splitter 51, the pulsed laser light traveling from the output coupling mirror 147 to the beam splitter 51, and the pulsed laser light traveling from the beam splitter 51 to the beam splitter 163 are omitted for clarity.
  • the configuration of the pulse stretcher 150 of the present embodiment is the same as that of the pulse stretcher 150 of the first embodiment, and the reflection points 1 to 12 located on the concave mirrors 55a to 55d are also the same.
  • one concave mirror is displaced around the axis perpendicular to the alignment direction of the concave mirrors in the first embodiment so that the beam waists of the pulsed laser beams are displaced.
  • This embodiment shows an example in which one concave mirror 55c of the second mirror unit 53b that reflects the pulsed laser light twice is shifted.
  • the concave mirror 55c of this embodiment changes the reflection direction of the pulsed laser beam at the reflection points 4 to 10, and the change in the reflection angle is canceled by the reflection at the reflection point 10, so that the traveling direction of the pulsed laser beam returns to its original direction. , about the vertical axis mentioned above.
  • the concave mirror 55c is displaced, the reflection points 5 and 9 are lower than the reflection points 4 and the reflection points 7 are higher than the reflection points 2 and 6 in the direction orthogonal to the predetermined direction. Even if the concave mirror 55c shifts, the reflection points 1-4, 6, 8, 10-12 other than the reflection points 5, 7 and 9 do not shift.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the position of the beam waist of the pulsed laser light when the concave mirrors 55a and 55b are viewed from the concave mirrors 55c and 55d of this embodiment.
  • the reflection points 1 to 12 are indicated by black circles, and the beam waist is indicated by white circles.
  • the concave mirror 55c shifts as described above, the beam waist 425 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 5 to the reflection point 6 is lowered from the beam waist 431 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 11 to the reflection point 12 .
  • the beam waist 427 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 7 to the reflection point 8 rises from the beam waist 421 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 1 to the reflection point 2 .
  • the beam waist 429 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 9 to the reflection point 10 is lowered from the beam waist 423 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 3 to the reflection point 4 . Therefore, by shifting one concave mirror 55c of the second mirror unit 53b, the beam waists 421, 423, 425, 427, 429 and 431 are shifted from each other and do not overlap.
  • the beam waists 421, 423, 425, 427, 429, 431 are shifted from each other. Therefore, the energy of the pulsed laser light absorbed by oxygen is smaller than when the beam waists 421, 423, 425, 427, 429, and 431 overlap. This suppresses temperature rise and plasma generation near the focal point of the pulse stretcher 150 . When these are suppressed, the generation of the refractive index distribution in the pulse stretcher 150 can be suppressed, and the distortion of the wavefront of the pulsed laser light can be suppressed. Therefore, a pulsed laser beam that satisfies the required performance can be emitted from the exposure apparatus 200, and a decrease in reliability of the gas laser apparatus 100 can be suppressed.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in concave mirrors 55a to 55d of Modification 1.
  • the concave mirror 55a is arranged such that the direction of reflection of the pulsed laser beam at the reflection points 1 to 7 changes, the change in the angle of reflection is canceled by the reflection at the reflection point 7, and the traveling direction of the pulsed laser beam returns to the original direction. It shifts around the vertical axis.
  • the reflection points 2 and 6 are higher than the reflection points 7 and the reflection points 4 are lower than the reflection points 5 and 9 in the direction orthogonal to the predetermined direction. Even if the concave mirror 55a shifts, the reflection points 1, 3, 5, 7 to 12 other than the reflection points 2, 4, 6 do not shift.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining the position of the beam waist of the pulse laser light when the concave mirrors 55a and 55b are viewed from the concave mirrors 55c and 55d of this modified example.
  • the beam waist 421 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 1 to the reflection point 2 rises from the beam waist 427 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 7 to the reflection point 8 .
  • the beam waist 425 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 5 to the reflection point 6 rises from the beam waist 431 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 11 to the reflection point 12 .
  • the beam waist 423 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 3 to the reflection point 4 descends from the beam waist 429 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 9 to the reflection point 10 . Therefore, by shifting one concave mirror 55a of the first mirror unit 53a, the beam waists 421, 423, 425, 427, 429, and 431 are shifted and do not overlap.
  • FIG. 14 is a schematic perspective view showing the positional relationship of reflection points 1 to 12 in concave mirrors 55a to 55d of Modification 2.
  • the concave mirror 55d is arranged so that the direction of reflection of the pulsed laser beam at the reflection points 2 to 12 changes, the change in the angle of reflection is canceled by the reflection at the reflection point 12, and the traveling direction of the pulsed laser beam returns to the original direction. It shifts around the vertical axis.
  • the reflection points 3 and 11 are lower than the reflection point 10, the reflection points 5 and 9 are higher than the reflection point 4, and the reflection point 7 is lower than the reflection points 2 and 6. Even if the concave mirror 55d shifts, the reflection points 1, 2, 4, 6, 8, 10, and 12 other than the reflection points 3, 5, 7, 9, and 11 do not shift.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the position of the beam waist of the pulsed laser light when the concave mirrors 55a and 55b are viewed from the concave mirrors 55c and 55d.
  • the concave mirror 55d is displaced as described above, the beam waist 423 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 3 to the reflection point 4 is lowered, and the beam waist 429 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 9 to the reflection point 10 is raised. .
  • the beam waist 425 of the pulse laser light traveling from the reflection point 5 to the reflection point 6 increases, and the beam waist 431 of the pulse laser light traveling from the reflection point 11 to the reflection point 12 decreases.
  • the beam waist 427 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 7 to the reflection point 8 descends from the beam waist 421 of the pulsed laser light traveling from the reflection point 1 to the reflection point 2 . Therefore, the beam waists 421, 423, 425, 427, 429, and 431 are shifted and do not overlap each other by shifting the other concave mirror 55d of the second mirror unit 53b.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

パルス伸張器は、パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、第１凹面ミラーと同数で第１凹面ミラーと個別に向かい合い所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、を備え、ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの第１凹面ミラーに進行して複数の第１凹面ミラーと複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されてビームスプリッタに戻り、一方のパルスレーザ光のビームウエストで一方のパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なる複数の集光点のそれぞれにおいて、一方のパルスレーザ光の重なり数はそれぞれ２つである。

Description

パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法
　本開示は、パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法に関する。
　近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
　ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０ｐｍ～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過する材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Line Narrowing Module：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。以下では、スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化ガスレーザ装置という。
米国特許第７３６９５９７号明細書
概要
　本開示の一態様によるパルス伸張器は、パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、第１凹面ミラーと同数で第１凹面ミラーと個別に向かい合い所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、を備え、ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの第１凹面ミラーに進行して複数の第１凹面ミラーと複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されてビームスプリッタに戻り、一方のパルスレーザ光のビームウエストで一方のパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なる複数の集光点のそれぞれにおいて、一方のパルスレーザ光の重なり数はそれぞれ２つであってよい。
　本開示の一態様によるパルス伸張器は、パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、第１凹面ミラーと同数で第１凹面ミラーと個別に向かい合い所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、を備え、ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの第１凹面ミラーに進行して複数の第１凹面ミラーと複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されてビームスプリッタに戻り、第１凹面ミラー又は第２凹面ミラーは、一方のパルスレーザ光同士のビームウエストがずれるように、所定方向に垂直な軸周りにずれてもよい。
　本開示の一態様による電子デバイスの製造方法は、パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、第１凹面ミラーと同数で第１凹面ミラーと個別に向かい合い所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、を備え、ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの第１凹面ミラーに進行して複数の第１凹面ミラーと複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されてビームスプリッタに戻り、一方のパルスレーザ光のビームウエストで一方のパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なる複数の集光点のそれぞれにおいて、一方のパルスレーザ光の重なり数はそれぞれ２つであるパルス伸張器を備えるガスレーザ装置によってレーザ光を生成し、レーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にレーザ光を露光してもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図２は、比較例のガスレーザ装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図３は、比較例のパルス伸張器の概略構成例を示す図である。 図４は、実施形態１のパルス伸張器における反射点１～１２の位置及びレーザ光の反射方向を示す図である。 図５は、実施形態２のパルス伸張器における反射点１～１２の位置及びレーザ光の反射方向を示す図である。 図６は、図５に示す凹面ミラー、反射点１～１２、及びレーザ光の反射方向を所定方向に沿って視る図である。 図７は、実施形態３のパルス伸張器の概略構成例、反射点１～１２の位置、及びレーザ光の反射方向を示す図である。 図８は、図７に示す凹面ミラー、反射点１～１２、及びレーザ光の反射方向を所定方向に沿って視る図である。 図９は、実施形態３の変形例のパルス伸張器における反射点１～２０の位置及びレーザ光の反射方向を示す図である。 図１０は、実施形態４の凹面ミラーにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。 図１１は、実施形態４のレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。 図１２は、実施形態４の変形例１の凹面ミラーにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。 図１３は、実施形態４の変形例１のレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。 図１４は、実施形態４の変形例２の凹面ミラーにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。 図１５は、実施形態４の変形例２のレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。
実施形態
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　２．２　動作
　２．３　課題
３．実施形態１のパルス伸張器の説明
　３．１　構成
　３．２　動作
　３．３　作用・効果
４．実施形態２のパルス伸張器の説明
　４．１　構成
　４．２　動作
　４．３　作用・効果
５．実施形態３のパルス伸張器の説明
　５．１　構成
　５．２　動作
　５．３　作用・効果
６．実施形態４のパルス伸張器の説明
　６．１　構成
　６．２　作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
　図１は、電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。図１に示すように、露光工程で使用される製造装置は、ガスレーザ装置１００及び露光装置２００を含む。露光装置２００は、複数のミラー２１１，２１２，２１３を含む照明光学系２１０と、投影光学系２２０とを含む。照明光学系２１０は、ガスレーザ装置１００から入射するレーザ光によって、レチクルステージＲＴのレチクルパターンを照明する。投影光学系２２０は、レチクルを透過するレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置される不図示のワークピースに結像させる。ワークピースは、フォトレジストが塗布される半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置２００は、レチクルステージＲＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、レチクルパターンを反映するレーザ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスである半導体デバイスを製造することができる。
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　比較例のガスレーザ装置について説明する。なお、本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
　図２は、比較例のガスレーザ装置１００の全体の概略構成例を示す模式図である。ガスレーザ装置１００は、例えば、アルゴン（Ａｒ）、フッ素（Ｆ２）、及びネオン（Ｎｅ）を含む混合ガスを使用するＡｒＦエキシマレーザ装置である。このガスレーザ装置１００は、中心波長が約１９３ｎｍのレーザ光を出力する。なお、ガスレーザ装置１００は、ＡｒＦエキシマレーザ装置以外のガスレーザ装置であってもよく、例えば、クリプトン（Ｋｒ）、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスを使用するＫｒＦエキシマレーザ装置であってもよい。この場合、ガスレーザ装置１００は、中心波長が約２４８ｎｍのレーザ光を出射する。レーザ媒質であるＡｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスやレーザ媒質であるＫｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスは、レーザガスと呼ばれる場合がある。
　ガスレーザ装置１００は、筐体１１０と、筐体１１０の内部空間に配置されるレーザ発振器１３０、パルス伸張器１５０、モニタモジュール１６０、シャッタ１７０、及びレーザプロセッサ１９０とを主な構成として含む。
　レーザ発振器１３０は、レーザチャンバ１３１と、充電器１４１と、パルスパワーモジュール１４３と、狭帯域化モジュール１４５と、出力結合ミラー１４７とを含む。図２では、レーザ光の進行方向に略垂直な方向から視たレーザチャンバ１３１の内部構成が示されている。
　レーザチャンバ１３１は、上記レーザガス中のレーザ媒質の励起によって光が発生する内部空間を含む。当該光は、後述するウインドウ１３９ａ，１３９ｂに進行する。レーザガスは、不図示のレーザガス供給源から不図示の配管を通じてレーザチャンバ１３１の内部空間に供給される。また、レーザチャンバ１３１内のレーザガスは、ハロゲンフィルタによってＦ２ガスを除去する処理等をされ、不図示の排気ポンプによって不図示の配管を通じて筐体１１０に排気される。
　レーザチャンバ１３１の内部空間には、一対の電極１３３ａ，１３３ｂが互いに対向し、それぞれの長手方向が光の進行方向に沿って配置されている。電極１３３ａ，１３３ｂは、グロー放電によりレーザ媒質を励起するための放電電極である。本例では、電極１３３ａがカソードであり、電極１３３ｂがアノードである。
　電極１３３ａは、電気絶縁部１３５によって支持されている。電気絶縁部１３５は、レーザチャンバ１３１に形成される開口を塞いでいる。電気絶縁部１３５には不図示の導電部が埋め込まれており、導電部はパルスパワーモジュール１４３から供給される高電圧を電極１３３ａに印加する。電極１３３ｂはリターンプレート１３７に支持され、リターンプレート１３７は不図示の配線によってレーザチャンバ１３１の内面に接続されている。
　充電器１４１は、パルスパワーモジュール１４３の中の不図示の充電コンデンサを所定の電圧で充電する直流電源装置である。パルスパワーモジュール１４３は、レーザプロセッサ１９０によって制御されるスイッチ１４３ａを含む。スイッチ１４３ａがＯＦＦからＯＮになると、パルスパワーモジュール１４３は、充電器１４１に保持されていた電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を電極１３３ａと電極１３３ｂとの間に印加する。
　電極１３３ａと電極１３３ｂとの間に高電圧が印加されると、電極１３３ａと電極１３３ｂとの間に放電が起こる。この放電のエネルギーによりレーザチャンバ１３１内のレーザ媒質が励起され、励起されたレーザ媒質は基底状態に移行するときに光を放出する。
　レーザチャンバ１３１には、ウインドウ１３９ａ，１３９ｂが設けられている。ウインドウ１３９ａはレーザチャンバ１３１におけるレーザ光の進行方向における一端側に位置し、ウインドウ１３９ｂは当該進行方向における他端側に位置し、ウインドウ１３９ａ，１３９ｂは、電極１３３ａと電極１３３ｂとの間の空間を挟み込む。ウインドウ１３９ａ，１３９ｂは、レーザ光のＰ偏光の反射が抑制されるように、レーザ光の進行方向に対してブリュースター角をなすように傾斜している。後述のように発振するレーザ光は、ウインドウ１３９ａ，１３９ｂを経由してレーザチャンバ１３１の外部に出射する。上記のようにパルスパワーモジュール１４３によりパルス状の高電圧が電極１３３ａと電極１３３ｂとの間に印加されるため、このレーザ光はパルスレーザ光である。
　狭帯域化モジュール１４５は、筐体１４５ａと、筐体１４５ａの内部空間に配置されるプリズム１４５ｂ、グレーティング１４５ｃ、及び不図示の回転ステージとを含む。筐体１４５ａには開口が形成されており、筐体１４５ａは開口を介してレーザチャンバ１３１のリア側に接続されている。
　プリズム１４５ｂは、ウインドウ１３９ａから出射する光のビーム幅を拡大させて、当該光をグレーティング１４５ｃに入射させる。また、プリズム１４５ｂは、グレーティング１４５ｃからの反射光のビーム幅を縮小させると共に、その光を、ウインドウ１３９ａを介して、レーザチャンバ１３１の内部空間に戻す。プリズム１４５ｂは、回転ステージに支持されており、回転ステージによって回転する。プリズム１４５ｂの回転により、グレーティング１４５ｃに対する光の入射角が変更される。従って、プリズム１４５ｂの回転によって、グレーティング１４５ｃからプリズム１４５ｂを経由してレーザチャンバ１３１に戻る光の波長を選択することができる。図２では、１つのプリズム１４５ｂが配置されている例を示しているが、プリズムは少なくとも１つ配置されていればよい。
　グレーティング１４５ｃの表面は高反射率の材料によって構成され、表面に多数の溝が所定間隔で設けられている。各溝の断面形状は、例えば、直角三角形である。プリズム１４５ｂからグレーティング１４５ｃに入射する光は、これらの溝によって反射されると共に、光の波長に応じた方向に回折させられる。グレーティング１４５ｃは、プリズム１４５ｂからグレーティング１４５ｃに入射する光の入射角と、所望波長の回折光の回折角とが一致するようにリトロー配置されている。これにより、所望の波長付近の光がプリズム１４５ｂを経由してレーザチャンバ１３１に戻される。
　出力結合ミラー１４７は、レーザチャンバ１３１の他端側に接続されている光路管１４７ａの内部空間に配置され、ウインドウ１３９ｂと向かい合う。出力結合ミラー１４７は、ウインドウ１３９ｂから出射されるレーザ光の一部をパルス伸張器１５０に向けて透過させて、他の一部を反射させてウインドウ１３９ｂを経由してレーザチャンバ１３１の内部空間に戻す。こうしてグレーティング１４５ｃと出力結合ミラー１４７とでファブリペロー型のレーザ共振器が構成され、レーザチャンバ１３１はレーザ共振器の光路上に配置される。
　パルス伸張器１５０は、光路管１４７ａの内部空間において出力結合ミラー１４７とモニタモジュール１６０との間に配置されている。パルス伸張器１５０は、出力結合ミラー１４７からのレーザ光のパルス幅を伸張し、パルス幅が伸張した当該レーザ光をモニタモジュール１６０に向けて出射する。図２ではパルス伸張器１５０を簡単に図示しており、パルス伸張器１５０の構成については、後述する。なお、パルス伸張器１５０とレーザ発振器１３０の出力結合ミラー１４７との間に増幅器が配置され、出力結合ミラー１４７から出射するレーザ光は増幅器によって増幅されてパルス伸張器１５０に進行してもよい。
　モニタモジュール１６０は、パルス伸張器１５０から出射するレーザ光の光路上に配置されている。モニタモジュール１６０は、筐体１６１と、筐体１６１の内部空間に配置されるビームスプリッタ１６３及び光センサ１６５とを含む。筐体１６１には開口が形成されており、この開口を通じて筐体１６１の内部空間は光路管１４７ａの内部空間と連通している。
　ビームスプリッタ１６３は、パルス伸張器１５０から出射したレーザ光の一部をシャッタ１７０に向けて透過させ、レーザ光の他の一部を光センサ１６５の受光面に向けて反射する。光センサ１６５は、受光面に入射したレーザ光のエネルギーＥを計測する。光センサ１６５は、計測したエネルギーＥを示す信号をレーザプロセッサ１９０に出力する。
　本開示のレーザプロセッサ１９０は、制御プログラムが記憶された記憶装置１９０ａと、制御プログラムを実行するＣＰＵ（Central Processing Unit）１９０ｂとを含む処理装置である。レーザプロセッサ１９０は、本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。また、レーザプロセッサ１９０は、ガスレーザ装置１００全体を制御する。
　レーザプロセッサ１９０は、露光装置２００の露光プロセッサ２３０との間で各種信号を送受信する。例えば、レーザプロセッサ１９０は、露光プロセッサ２３０から、後述する発光トリガＴｒ、及び、目標エネルギーＥｔ等を示す信号を受信する。目標エネルギーＥｔは、露光工程で使用されるレーザ光のエネルギーの目標値である。レーザプロセッサ１９０は、光センサ１６５及び露光プロセッサ２３０から受信したエネルギーＥ及び目標エネルギーＥｔを基に充電器１４１の充電電圧を制御する。この充電電圧を制御することにより、レーザ光のエネルギーが制御される。また、レーザプロセッサ１９０は、パルスパワーモジュール１４３にスイッチ１４３ａのＯＮ又はＯＦＦの指令信号を送信する。また、レーザプロセッサ１９０は、シャッタ１７０に電気的に接続され、シャッタ１７０の開閉を制御する。
　レーザプロセッサ１９０は、モニタモジュール１６０から受信するエネルギーＥと露光プロセッサ２３０から受信する目標エネルギーＥｔとの差ΔＥが許容範囲内となるまではシャッタ１７０を閉じる。レーザプロセッサ１９０は、差ΔＥが許容範囲内となったら、発光トリガＴｒの受信準備が完了したことを知らせる受信準備完了信号を露光プロセッサ２３０に送信する。露光プロセッサ２３０は受信準備完了信号を受信すると発光トリガＴｒを示す信号をレーザプロセッサ１９０に送信し、レーザプロセッサ１９０は発光トリガＴｒを示す信号を受信するとシャッタ１７０を開ける。発光トリガＴｒは、レーザ光の所定の繰り返し周波数ｆと所定のパルス数Ｐで規定され、露光プロセッサ２３０がレーザ発振器１３０をレーザ発振させるタイミング信号であり、外部トリガである。レーザ光の繰り返し周波数ｆは、例えば、１ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ以下である。
　シャッタ１７０は、モニタモジュール１６０のビームスプリッタ１６３を透過して筐体１６１のうちの光路管１４７ａが接続される側とは反対側に形成されている開口を通過したレーザ光の光路に配置される。また、シャッタ１７０は、光路管１７１の内部空間に配置されている。光路管１７１は、上記開口を囲むように筐体１６１に接続され、筐体１６１と連通している。光路管１７１及び光路管１４７ａの内部空間や、筐体１６１及び筐体１４５ａの内部空間には、パージガスが供給及び充填されている。パージガスには、窒素（Ｎ2）等の不活性ガスが含まれる。パージガスは、不図示のパージガス供給源から不図示の配管を通じて供給される。また、光路管１７１は、筐体１１０の開口及び筐体１１０と露光装置２００とを接続する光路管５００を通じて露光装置２００に連通している。シャッタ１７０を通過したレーザ光は、露光装置２００に入射する。
　本開示の露光プロセッサ２３０は、制御プログラムが記憶された記憶装置２３０ａと、制御プログラムを実行するＣＰＵ２３０ｂとを含む処理装置である。露光プロセッサ２３０は、本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。また、露光プロセッサ２３０は、露光装置２００全体を制御する。
　図３は、比較例のパルス伸張器１５０の概略構成例を示す図である。パルス伸張器１５０は、ビームスプリッタ５１と、第１ミラーユニット５３ａと、第２ミラーユニット５３ｂとを備える。
　ビームスプリッタ５１は、出力結合ミラー１４７を透過したレーザ光の光路上に配置される。ビームスプリッタ５１は、ビームスプリッタ５１に進行したレーザ光を２つに分離し、分離した一方のレーザ光を第１ミラーユニット５３ａに向けて反射し、他方のレーザ光をビームスプリッタ１６３に向けて透過させる。
　第１ミラーユニット５３ａは複数の第１凹面ミラーを含み、第２ミラーユニット５３ｂは複数の第１凹面ミラーと同数の複数の第２凹面ミラーを含む。図３では第１凹面ミラーとして２つの凹面ミラー５５ａ，５５ｂを示し、第２凹面ミラーとして２つの凹面ミラー５５ｃ，５５ｄを示している。
　ミラーユニット５３ａ，５３ｂにおいて、凹面ミラー５５ａ，５５ｂは所定方向に互いに並んで配置され、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄも所定方向つまり凹面ミラー５５ａ，５５ｂが並ぶ方向に互いに並んで配置される。凹面ミラー５５ａは、ビームスプリッタ５１を基準にして凹面ミラー５５ｄの反対側に配置され、凹面ミラー５５ｄに向かい合う。凹面ミラー５５ｂは、凹面ミラー５５ｃに向かい合う。従って、凹面ミラー５５ａ，５５ｂは、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄに個別に向かい合う。このように配置されるビームスプリッタ５１及び凹面ミラー５５ａ～５５ｄは、レーザ光のパルス幅を伸張する遅延光路を構成する。
　図３では、凹面ミラー５５ａ～５５ｄにおけるレーザ光の反射地点を反射点１～１２として示している。パルス伸張器１５０では、レーザ光の一部は、ビームスプリッタ５１で反射されて凹面ミラー５５ａに進行し、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射されて、反射点１～１２の順で進行し、反射点１２の後にビームスプリッタ５１に戻る。
　凹面ミラー５５ａには反射点１，３，７，９が、凹面ミラー５５ｂには反射点５，１１が、凹面ミラー５５ｃには反射点２，８が、凹面ミラー５５ｄには反射点４，６，１０，１２がそれぞれ位置する。
　凹面ミラー５５ａにおいて、反射点１は反射点９と同じ位置に位置し、反射点３は反射点７と同じ位置に位置し、反射点１，９は反射点３，７から所定方向にずれて反射点３，７よりも凹面ミラー５５ｂから離れている。凹面ミラー５５ｂにおいて、反射点５は、反射点１１から所定方向にずれて反射点１１よりも凹面ミラー５５ａに近い。凹面ミラー５５ｃにおいて、反射点２は、反射点８から所定方向にずれて反射点８よりも凹面ミラー５５ｄから離れている。また、凹面ミラー５５ｄにおいて、反射点４は反射点１２と同じ位置に位置し、反射点６は反射点１０と同じ位置に位置し、反射点４，１２は反射点６，１０から所定方向にずれて反射点６，１０よりも凹面ミラー５５ｃから離れている。
　凹面ミラー５５ａ，５５ｄにおいて、反射点１，９は反射点４，１２に、反射点３，７は反射点６，１０に向かい合う。凹面ミラー５５ｂ，５５ｃにおいて、反射点５は反射点８に、反射点１１は反射点２に向かい合う。
　パルス伸張器１５０は、レーザ光がビームスプリッタ５１から反射点１～１２を順に経由してビームスプリッタ５１に戻るまでを１周期として、レーザ光をパルス伸張器１５０内で進行させる。ビームスプリッタ５１は、凹面ミラー５５ｄの反射点１２で反射したレーザ光の一部をビームスプリッタ１６３に向けて反射させ、レーザ光の他の一部を凹面ミラー５５ａの反射点１に向けて透過させる。こうして、パルス伸張器１５０では、レーザ光は、１周期の間に凹面ミラー５５ａ～５５ｄで交互に１２回反射されて、パルス伸張器１５０を１周以上周る。
　　２．２　動作
　次に、比較例のガスレーザ装置１００の動作について説明する。
　ガスレーザ装置１００がレーザ光を出射する前の状態で、光路管１４７ａ，１７１，５００の内部空間や、筐体１４５ａ，１６１の内部空間には、不図示のパージガス供給源からパージガスが充填される。また、レーザチャンバ１３１の内部空間には、不図示のレーザガス供給源からレーザガスが供給される。
　ガスレーザ装置１００がレーザ光を出射する際には、レーザプロセッサ１９０は、露光プロセッサ２３０から目標エネルギーＥｔを示す信号及び発光トリガＴｒを示す信号を受信する。レーザプロセッサ１９０は、目標エネルギーＥｔを示す信号及び発光トリガＴｒを示す信号を受信すると、シャッタ１７０を閉じて、充電器１４１を駆動させる。また、レーザプロセッサ１９０は、パルスパワーモジュール１４３のスイッチ１４３ａをＯＮする。これにより、パルスパワーモジュール１４３は、充電器１４１に保持されていた電気エネルギーから電極１３３ａと電極１３３ｂとの間にパルス状の高電圧を印加する。この高電圧により、電極１３３ａと電極１３３ｂとの間に放電が起き、電極１３３ａと電極１３３ｂとの間のレーザガスに含まれるレーザ媒質は励起状態とされて、レーザ媒質が基底状態に戻る際に光を放出する。この光によりグレーティング１４５ｃと出力結合ミラー１４７との間で光が共振し、光はレーザチャンバ１３１の内部空間における放電空間を通過するたびに増幅され、レーザ発振が起こる。そして、レーザ光の一部は、パルスレーザ光として出力結合ミラー１４７を透過して、パルス伸張器１５０に進行する。
　パルス伸張器１５０のビームスプリッタ５１は、出力結合ミラー１４７を透過したレーザ光の一部をビームスプリッタ１６３に向けて透過させ、レーザ光の他の一部を凹面ミラー５５ａに向けて反射する。凹面ミラー５５ａに進行するレーザ光は、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射されて、反射点１～１２を順に進行する。そして、レーザ光は、反射点１２からビームスプリッタ５１に進行し、パルス伸張器１５０を１周する。ビームスプリッタ５１に進行したレーザ光の一部は、ビームスプリッタ５１によってビームスプリッタ１６３に向けて反射されてパルス伸張器１５０から出射する。また、レーザ光の他の一部は、ビームスプリッタ５１を透過して凹面ミラー５５ａの反射点１に向けて再び進行し、２周期目に入る。
　パルス伸張器１５０を１周してパルス伸張器１５０から出射したレーザ光は、凹面ミラー５５ａに進行せずにビームスプリッタ５１を透過してパルス伸張器１５０から出射したレーザ光に比べて、所定の遅延時間だけ遅れてパルス伸張器１５０から出射する。また、パルス伸張器１５０を２周してパルス伸張器１５０から出射するレーザ光は、パルス伸張器１５０を１周してパルス伸張器１５０から出射したレーザ光に比べて、所定の遅延時間だけ遅れてパルス伸張器１５０から出射する。レーザ光の強度は、パルス伸張器１５０での周回数が多くなるほど、低下する。パルス伸張器１５０におけるレーザ光の周回が繰り返されると、パルス伸張器１５０から後に出射されたレーザ光は当該レーザ光よりも先にパルス伸張器１５０から出射したレーザ光の一部に重なる。これにより、パルス幅が所定のパルス幅まで伸張したレーザ光がビームスプリッタ１６３に進行する。
　ビームスプリッタ１６３に進行したレーザ光のうちの一部は、ビームスプリッタ１６３で反射され、光センサ１６５で受光される。光センサ１６５は、受光したレーザ光のエネルギーＥを計測し、エネルギーＥを示す信号をレーザプロセッサ１９０に出力する。レーザプロセッサ１９０は、エネルギーＥと目標エネルギーＥｔとの差ΔＥが許容範囲になるように充電電圧を制御し、差ΔＥが許容範囲内となった後、発光トリガＴｒの受信準備が完了したこと示す受信準備完了信号を露光プロセッサ２３０に送信する。
　露光プロセッサ２３０は、受信準備完了信号を受信すると、発光トリガＴｒをレーザプロセッサ１９０に送信する。発光トリガＴｒの受信に同期してレーザプロセッサ１９０がシャッタ１７０を開けると、シャッタ１７０を通過したレーザ光は露光装置２００に入射する。このレーザ光は、例えば中心波長が１９３ｎｍのパルスレーザ光である。
　２．３　課題
　比較例のパルス伸張器１５０では、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄから凹面ミラー５５ａ，５５ｂに進行するパルスレーザ光は平行光であるが、凹面ミラー５５ａ，５５ｂから凹面ミラー５５ｃ，５５ｄに進行するパルスレーザ光は進行の途中で集光する集光光である。集光光のうちの、反射点１から反射点２、反射点５から反射点６、反射点７から反射点８、及び反射点１１から反射点１２にそれぞれ進行するパルスレーザ光について説明する。比較例のパルス伸張器１５０では、これらパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストでこれらパルスレーザ光同士の少なくとも一部が互いに重なる集光点３０１が形成される。集光点３０１は、第１ミラーユニット５３ａと第２ミラーユニット５３ｂとの間に位置する。また、集光光のうちの、反射点３から反射点４、及び反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光においても、集光点３０３が形成される。こうして、比較例のパルス伸張器１５０では、２つの集光点３０１，３０３が形成され、それぞれにおけるパルスレーザ光の重なり数は４つ，２つである。集光点３０１，３０３の形成によって、パルス伸張器１５０に入射するパルスレーザ光のずれや凹面ミラー５５ａ～５５ｄのアライメントずれが生じても、ガスレーザ装置１００から出射するパルスレーザ光の特性の変化が抑制される。当該特性の変化として、例えばパルスレーザ光の進行方向であるポインティングのずれが挙げられる。
　ところで、凹面ミラー５５ａ～５５ｄでの反射回数が多くなるほど、集光点１箇所当たりのパルスレーザ光の重なり数が多くなる。パルスレーザ光の重なり数が多いほど、集光点におけるパルスレーザ光のエネルギー密度が高くなり、酸素に吸収されるパルスレーザ光のエネルギーが大きくなる。これにより、パルス伸張器１５０の集光点付近の温度が上昇したり、温度上昇によってプラズマが発生することがある。温度上昇やプラズマの発生によって、パルス伸張器１５０において屈折率分布が発生し、パルスレーザ光の波面が歪むことがある。波面が歪むと、ポインティングのずれが生じ、露光装置２００におけるいずれかの光学系でパルスレーザ光のケラレが生じ、パルスレーザ光のエネルギーが変動することがある。エネルギーの変動によって、露光装置２００におけるワークピースに対する加工精度が低下することがある。つまり、露光装置２００から要求される性能を満たすパルスレーザ光が出射されず、ガスレーザ装置１００の信頼性が低下するという懸念が生じる。
　そこで、以下の実施形態では、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得るパルス伸張器１５０が例示される。
３．実施形態１のパルス伸張器の説明
　次に、実施形態１のパルス伸張器１５０について説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　３．１　構成
　図４は、本実施形態のパルス伸張器１５０における反射点１～１２の位置及びパルスレーザ光の反射方向を示す図である。
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、３つの集光点４０１，４０３，４０５が形成され、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおいてパルスレーザ光の重なり数が２つとなるように、凹面ミラー５５ａ～５５ｄのうちの２つ以上を比較例に比べて所定方向に垂直な軸周りにずらす。本実施形態のパルス伸張器１５０では、凹面ミラー５５ａ～５５ｃをずらす例を示しており、当該ずれにより、パルス伸張器１５０における反射点１～１２の位置及びパルスレーザ光の反射方向が比較例とは変わる。図４では、図が複雑になることを避けるために凹面ミラー５５ａ～５５ｃのずれを省略して図示している。
　本実施形態の凹面ミラー５５ａには反射点１，７が、凹面ミラー５５ｂには反射点３，５，９，１１が、凹面ミラー５５ｃには反射点４，１０が、凹面ミラー５５ｄには反射点２，６，８，１２がそれぞれ位置する。
　凹面ミラー５５ａにおいて、反射点１は、反射点７から所定方向にずれて反射点７よりも凹面ミラー５５ｂから離れている。凹面ミラー５５ｂにおいて、反射点３は反射点１１と同じ位置に位置し、反射点５は反射点９と同じ位置に位置し、反射点３，１１は反射点５，９から所定方向にずれて反射点５，９よりも凹面ミラー５５ａから離れている。凹面ミラー５５ｃにおいて、反射点４は反射点１０から所定方向にずれて反射点１０よりも凹面ミラー５５ｄに近い。また、凹面ミラー５５ｄにおいて、反射点２は反射点６と同じ位置に位置し、反射点８は反射点１２と同じ位置に位置し、反射点２，６は反射点８，１２から所定方向にずれて反射点８，１２よりも凹面ミラー５５ｃに近い。
　凹面ミラー５５ａ，５５ｄにおいて、反射点１は反射点８，１２に向かい合い、反射点７は反射点２，６に向かい合う。凹面ミラー５５ｂ，５５ｃにおいて、反射点５，９は反射点４に向かい合い、反射点３，１１は反射点１０に向かい合う。凹面ミラー５５ａ，５５ｂを正面視する場合、凹面ミラー５５ａ，５５ｂの反射点１，３，５，７，９，１１は、凹面ミラー５５ａ，５５ｂのそれぞれの中心を通る線上に位置する。また、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄを正面視する場合、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄの反射点２，４，６，８，１０，１２は、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄのそれぞれの中心を通る線上に位置する。反射点１～１２は、反射点１～１２のそれぞれが位置する凹面ミラー５５ａ～５５ｄの中心からずれて位置する。本実施形態の凹面ミラー５５ａ～５５ｄでは、反射点１～１２を、同一平面が通る。
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、１周期の間に、一方の第１，２凹面ミラーである凹面ミラー５５ａ，５５ｃは、それぞれにおける２箇所の反射点でパルスレーザ光を１回ずつ反射する。また、１周期の間に、他方の第１，２凹面ミラーである凹面ミラー５５ｂ，５５ｄは、それぞれにおける２箇所の反射点でパルスレーザ光を２回ずつ反射する。本実施形態のパルス伸張器１５０は、パルスレーザ光を凹面ミラー５５ａ～５５ｄとで交互に１２回反射してビームスプリッタ５１に戻すが、交互に１２回以上の偶数回反射してビームスプリッタ５１に戻してもよい。
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、それぞれの凹面ミラー５５ａ～５５ｄは同じ曲率半径Ｒ及び同じ直径Ｄを有する。また、互いに向かい合う凹面ミラー５５ａと凹面ミラー５５ｄとの距離及び互いに向かい合う凹面ミラー５５ｂと凹面ミラー５５ｃとの距離は、距離Ｌである。また、Ｒ＝Ｌ及びＬ＞＞Ｄである。
　３．２　動作
　次に、本実施形態におけるパルス伸張器１５０の動作について説明する。
　比較例と同様に、パルスレーザ光の一部は、ビームスプリッタ５１から凹面ミラー５５ａに進行し、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射される。パルスレーザ光は、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとにおいて、上記したように反射点１が凹面ミラー５５ａ，５５ｂのそれぞれの中心を通る線上に位置し凹面ミラー５５ａの中心からずれて位置するため、反射点１～１２を順に進行する。また、パルスレーザ光は、上記したように反射点１～１２を同一平面が通るため、反射点１～１２を通る平面に沿って進行する。そして、パルスレーザ光は、反射点１２からビームスプリッタ５１に戻り、パルス伸張器１５０を１周する。
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、反射点１から反射点２に進行するパルスレーザ光及び反射点７から反射点８に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストでパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なり、重なりによって集光点４０１が形成される。また、反射点３から反射点４に進行するパルスレーザ光及び反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストでパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なり、重なりによって集光点４０３が形成される。さらに、反射点５から反射点６に進行するパルスレーザ光及び反射点１１から反射点１２に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストでパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なり、重なりによって集光点４０３が形成される。従って、本実施形態のパルス伸張器１５０において、３つの集光点４０１，４０３，４０５が形成され、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおけるパルスレーザ光の重なり数は２つである。反射点１～１２を同一平面が通るため、集光点４０１，４０３，４０５を同一平面が通る。
　３．３　作用・効果
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおいて、パルスレーザ光の重なり数は２つである。
　上記の構成によれば、パルスレーザ光の重なり数が４つである集光点３０１に比べて、集光点におけるパルスレーザ光のエネルギー密度が低くなり、酸素に吸収されるパルスレーザ光のエネルギーが小さくなる。これにより、パルス伸張器１５０の集光点付近の温度上昇やプラズマの発生が抑制される。これらが抑制されると、パルス伸張器１５０における屈折率分布の発生が抑制され、パルスレーザ光の波面の歪みが抑制され得る。従って、露光装置２００から要求される性能を満たすパルスレーザ光が出射され得、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得る。
４．実施形態２のパルス伸張器の説明
　次に、実施形態２のパルス伸張器１５０の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　４．１　構成
　図５は、本実施形態のパルス伸張器１５０における反射点１～１２の位置及びパルスレーザ光の反射方向を示す図である。図５では、見易さのため、ビームスプリッタ５１、出力結合ミラー１４７からビームスプリッタ５１に進行するパルスレーザ光、及びビームスプリッタ５１からビームスプリッタ１６３に進行するパルスレーザ光の図示が省略されている。本実施形態のパルス伸張器１５０では、パルス伸張器１５０における反射点１～１２の位置及びパルスレーザ光の反射方向が実施形態１とは異なる。
　本実施形態の凹面ミラー５５ａには反射点１，５，７，１１が、凹面ミラー５５ｂには反射点３，９が、凹面ミラー５５ｃには反射点２，４，８，１０が、凹面ミラー５５ｄには反射点６，１２がそれぞれ位置する。
　凹面ミラー５５ａにおいて、反射点１は反射点５と同じ位置に位置し、反射点７は反射点１１と同じ位置に位置する。また、反射点１，５は、反射点７，１１から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｂから反射点７，１１と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｂにおいて、反射点３は、反射点９から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ａから反射点９と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｃにおいて、反射点２は反射点１０と同じ位置に位置し、反射点４は反射点８と同じ位置に位置する。また、反射点２，１０は、反射点４，８から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｄから反射点４，８と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｄにおいて、反射点６は、反射点１２から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｃから反射点１２と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ａ，５５ｄにおいて、反射点１，５は反射点１２に向かい合い、反射点７，１１は反射点６に向かい合う。凹面ミラー５５ｂ，５５ｃにおいて、反射点９は反射点４，８に向かい合い、反射点３は反射点２，１０に向かい合う。凹面ミラー５５ａ，５５ｂを正面視する場合、凹面ミラー５５ａ，５５ｂの反射点１，３，５，７，９，１１は、凹面ミラー５５ａ，５５ｂのそれぞれの中心を通る線から所定方向に直交する方向にずれて位置する。また、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄを正面視する場合、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄの反射点２，４，６，８，１０，１２は、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄのそれぞれの中心を通る線から所定方向に直交する方向にずれて位置する。反射点１～１２は、反射点１～１２のそれぞれが位置する凹面ミラーの中心からずれて位置する。凹面ミラー５５ａの反射点１，５，７，１１及び凹面ミラー５５ｄの反射点６，１２を同一平面が通り、凹面ミラー５５ｂの反射点３，９及び凹面ミラー５５ｃの反射点２，４，８，１０を同一平面が通る。凹面ミラー５５ａ，５５ｂを所定方向に沿って視る場合、反射点１，５，９は互いに重なり、反射点３，７，１１は互いに重なる。また、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄにおいて、反射点２，６，１０は互いに重なり、反射点４，８，１２は互いに重なる。
　本実施形態においても、パルスレーザ光は、１周期の間に、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射されて、反射点１～１２を順に進行する。従って、本実施形態のパルス伸張器１５０では、１周期の間に、一方の第１，２凹面ミラーである凹面ミラー５５ｂ，５５ｄは、それぞれにおける２箇所の反射点でパルスレーザ光を１回ずつ反射する。また、１周期の間に、他方の第１，２凹面ミラーである凹面ミラー５５ａ，５５ｃは、それぞれにおける２箇所の反射点でパルスレーザ光を２回ずつ反射する。また、上記のように、凹面ミラー５５ａ～５５ｄのそれぞれにおける反射点は、所定方向に直交する方向にずれている。
　４．２　動作
　次に、本実施形態におけるパルス伸張器１５０の動作について説明する。
　実施形態１のパルス伸張器１５０と同様に、パルスレーザ光の一部は、ビームスプリッタ５１から凹面ミラー５５ａに進行し、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射される。上記のように、反射点１は、凹面ミラー５５ａ，５５ｂのそれぞれの中心を通る線から所定方向に直交する方向にずれて位置する。このため、パルスレーザ光は、反射点１～１２を順に進行する。そして、パルスレーザ光は、反射点１２からビームスプリッタ５１に戻り、パルス伸張器１５０を１周する。
　本実施形態におけるパルス伸張器１５０においても、実施形態１のパルス伸張器１５０と同様に、３つの集光点４０１，４０３，４０５が形成され、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおけるパルスレーザ光の重なり数は２つである。実施形態１とは異なり、反射点１，７，２，８が通る平面と、反射点９，３，１０，４が通る平面と、反射点５，１１，６，１２が通る平面とは、所定方向にずれて配置される。このため、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれは、所定方向において、異なる位置に位置する。
　図６は、図５に示す凹面ミラー５５ａ～５５ｄ、反射点１～１２、及びパルスレーザ光の反射方向を所定方向に沿って視る図である。所定方向に沿って第１ミラーユニット５３ａ及び第２ミラーユニット５３ｂを視る場合、集光点４０１，４０３，４０５を通るパルスレーザ光の光路は２本である。集光点４０１，４０３，４０５を通るパルスレーザ光は凹面ミラー５５ａ～５５ｄのそれぞれの中心が重なる平面に交差し、集光点４０１，４０３，４０５を通らないパルスレーザ光は当該平面に沿って進行する。また、集光点４０１，４０３，４０５は、互いに重なる。なお、一部の集光点の少なくとも一部が他の集光点に重なってもよい。
　４．３　作用・効果
　本実施形態のパルス伸張器１５０も、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおいて、パルスレーザ光の重なり数は２つである。従って、露光装置２００から要求される性能を満たすパルスレーザ光が出射され得、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得る。
５．実施形態３のパルス伸張器の説明
　次に、実施形態３のパルス伸張器１５０の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　５．１　構成
　図７は、本実施形態のパルス伸張器１５０の概略構成例、反射点１～１２の位置、及びパルスレーザ光の反射方向を示す図である。図７では、見易さのため、ビームスプリッタ５１、出力結合ミラー１４７からビームスプリッタ５１に進行するパルスレーザ光、及びビームスプリッタ５１からビームスプリッタ１６３に進行するパルスレーザ光の図示が省略されている。本実施形態のパルス伸張器１５０では、実施形態２の第１ミラーユニット５３ａに第１凹面ミラーとしての凹面ミラー５５ｅが、第２ミラーユニット５３ｂに第２凹面ミラーとしての凹面ミラー５５ｆがさらに設けられている。従って、本実施形態のパルス伸張器１５０では、第１ミラーユニット５３ａ及び第２ミラーユニット５３ｂのそれぞれが３つの凹面ミラーを有する点で実施形態２のパルス伸張器１５０とは異なる。
　第１ミラーユニット５３ａでは所定方向において凹面ミラー５５ａ，５５ｂ，５５ｅの順に並び、第２ミラーユニット５３ｂでは所定方向において凹面ミラー５５ｄ，５５ｃ，５５ｆの順に並び、凹面ミラー５５ｆは凹面ミラー５５ｅに向かい合う。凹面ミラー５５ｅ，５５ｆの配置に伴い、反射点１～１２の位置及びパルスレーザ光の反射方向は変わる。
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、反射点５，１１の位置が凹面ミラー５５ｅに、反射点４，１０の位置が凹面ミラー５５ｆに変わっている。他の反射点１～３，６～９，１２は、実施形態２と同じ位置に位置する。
　凹面ミラー５５ｅにおいて、反射点５は、反射点１１から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｂから反射点１１と同じ距離離れている。また、凹面ミラー５５ｆにおいて、反射点４は、反射点１０から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｃから反射点１０と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｅ，５５ｆにおいて、反射点５は反射点４に向かい合い、反射点１１は反射点１０に向かい合う。凹面ミラー５５ｅの反射点５，１１及び凹面ミラー５５ｆの４，１０を同一平面が通る。
　本実施形態においても、パルスレーザ光は、１周期の間に、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射されて、反射点１～１２を順に進行する。従って、本実施形態のパルス伸張器１５０では、１周期の間に、凹面ミラー５５ａ～５５ｆは、それぞれにおける２箇所の反射点でパルスレーザ光を１回ずつ反射する。また、上記のように、凹面ミラー５５ａ～５５ｆのそれぞれにおける反射点は、所定方向に直交する方向にずれている。
　５．２　動作
　本実施形態におけるパルス伸張器１５０の動作は、パルスレーザ光が凹面ミラー５５ｅ，５５ｆの反射点４，５，１０，１１で反射されて１周期の間に凹面ミラー５５ａ～５５ｆのそれぞれにおいて２箇所の反射点で１回ずつ反射すること以外は、実施形態２の動作と同じである。従って、本実施形態におけるパルス伸張器１５０においても、実施形態２のパルス伸張器１５０と同様に、３つの集光点４０１，４０３，４０５が形成され、集光点４０１，４０３，４０５のそれぞれにおけるパルスレーザ光の重なり数は２つである。また、実施形態２のパルス伸張器１５０と同様に、集光点４０１，４０３，４０５は、所定方向において、異なる位置に位置する。
　図８は、図７に示す凹面ミラー５５ａ～５５ｆ、反射点１～１２、及びパルスレーザ光の反射方向を所定方向に沿って視る図である。実施形態２と同様に、所定方向に沿って第１ミラーユニット５３ａ及び第２ミラーユニット５３ｂを視る場合、集光点４０１，４０３，４０５を通るパルスレーザ光の光路は２本である。また、集光点４０１，４０３，４０５は、互いに重なる。なお、一部の集光点の少なくとも一部が他の集光点に重なってもよい。
　５．３　作用・効果
　本実施形態のパルス伸張器１５０では、第１ミラーユニット５３ａ及び第２ミラーユニット５３ｂのそれぞれは、３つの凹面ミラーを有する。そして、それぞれの凹面ミラー５５ａ～５５ｆは、１周期の間にパルスレーザ光を２箇所の反射点で１回ずつ反射する。
　上記の構成によれば、反射箇所が分散するため、反射箇所における熱集中及び熱集中による凹面ミラー５５ａ～５５ｆの温度上昇が抑制され得る。温度上昇が抑制されると、凹面ミラー５５ａ～５５ｆの変形が抑制され得、当該変形によるパルスレーザ光の波面の歪みが抑制され得る。従って、露光装置２００から要求される性能を満たすパルスレーザ光が出射され得、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得る。
　次に、本実施形態の変形例について説明する。図９は、本変形例のパルス伸張器１５０における反射点１～２０の位置及びパルスレーザ光の反射方向を示す図である。図９では、見易さのため、ビームスプリッタ５１、出力結合ミラー１４７からビームスプリッタ５１に進行するパルスレーザ光、及びビームスプリッタ５１からビームスプリッタ１６３に進行するパルスレーザ光の図示が省略されている。本変形例のパルス伸張器１５０は、１周期の間において、凹面ミラー５５ａ～５５ｆでパルスレーザ光を２０回反射する点で、実施形態３のパルス伸張器１５０と異なる。従って、本変形例のパルス伸張器１５０では、反射点１～２０が設けられ、パルスレーザ光は、第１凹面ミラーと第２凹面ミラーとで交互に反射されて、反射点１～２０を順に進行する。
　本変形例の凹面ミラー５５ａには反射点１，９，１１，１９が、凹面ミラー５５ｂには反射点３，７，１３，１７が、凹面ミラー５５ｅには反射点５，１５がそれぞれ位置する。また、凹面ミラー５５ｆには反射点４，６，１４，１６が、凹面ミラー５５ｃには反射点２，８，１２，１８が、凹面ミラー５５ｄには反射点１０，２０がそれぞれ位置する。
　凹面ミラー５５ａにおいて、反射点１は反射点９と同じ位置に位置し、反射点１１は反射点１９と同じ位置に位置する。また、反射点１，９は、反射点１１，１９から所定方向に直交する方向にずれており、凹面ミラー５５ｂから反射点１１，１９と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｂにおいて、反射点３は反射点７と同じ位置に位置し、反射点１３は反射点１７と同じ位置に位置する。また、反射点３，７は、反射点１３，１７から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ａ，５５ｅから反射点１１，１９と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｅにおいて、反射点５は、反射点１５から所定方向に直交する方向にずれており、凹面ミラー５５ｂから反射点１５と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｆにおいて、反射点４は反射点１６と同じ位置に位置し、反射点６は反射点１４と同じ位置に位置する。また、反射点４，１６は、反射点６，１４から所定方向に直交する方向にずれており、さらに凹面ミラー５５ｃから反射点６，１４と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｃにおいて、反射点２は反射点１８と同じ位置に位置し、反射点８は反射点１２と同じ位置に位置する。また、反射点２，１８は、反射点８，１２から所定方向に直交する方向にずれており、凹面ミラー５５ｄ，５５ｆから反射点８，１２と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ｄにおいて、反射点１０は、反射点２０から所定方向に直交する方向にずれており、凹面ミラー５５ｃから反射点２０と同じ距離離れている。
　凹面ミラー５５ａ，５５ｄにおいて、反射点１，９は反射点２０に向かい合い、反射点１１，１９は反射点１０に向かい合う。凹面ミラー５５ｂ，５５ｃにおいて、反射点１３，１７は反射点８，１２に向かい合い、反射点３，７は反射点２，１８に向かい合う。凹面ミラー５５ｅ，５５ｆにおいて、反射点５は反射点４，１６に向かい合い、反射点１５は反射点６，１４に向かい合う。凹面ミラー５５ａの反射点１，９，１１，１９及び凹面ミラー５５ｄの１０，２０を同一平面が通る。また、凹面ミラー５５ｂの反射点３，７，１３，１７及び凹面ミラー５５ｃの２，８，１２，１８を同一平面が通り、凹面ミラー５５ｅの反射点５，１５及び凹面ミラー５５ｆの４，６，１４，１６を同一平面が通る。凹面ミラー５５ａ，５５ｂ，５５ｅを所定方向に沿って視る場合、凹面ミラー５５ａ，５５ｂ，５５ｅにおいて、反射点１，５，９，１３，１７は互いに重なり、反射点３，７，１１，１５，１９は互いに重なる。また、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄ，５５ｆにおいて、反射点２，６，１０，１４，１８は互いに重なり、反射点４，８，１２，１６，２０は互いに重なる。
　本変形例のパルス伸張器１５０では、反射点１から反射点２に進行するパルスレーザ光及び反射点１１から反射点１２に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストにおけるパルスレーザ光の少なくとも一部が互いに重なり、集光点４１１が形成される。また、反射点３から反射点４に進行するパルスレーザ光及び反射点１３から反射点１４に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストにおけるパルスレーザ光の少なくとも一部が互いに重なり、集光点４１３が形成される。また、反射点５から反射点６に進行するパルスレーザ光及び反射点１５から反射点１６に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストにおけるパルスレーザ光の少なくとも一部が互いに重なり、集光点４１５が形成される。また、反射点７から反射点８に進行するパルスレーザ光及び反射点１７から反射点１８に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストにおけるパルスレーザ光の少なくとも一部が互いに重なり、集光点４１７が形成される。さらに、反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光及び反射点１９から反射点２０に進行するパルスレーザ光のそれぞれのビームウエストにおけるパルスレーザ光の少なくとも一部が互いに重なり、集光点４１９が形成される。
　従って、本変形例におけるパルス伸張器１５０において、５つの集光点４１１，４１３，４１５，４１７，４１９が生成され、集光点４１１，４１３，４１５，４１７，４１９のそれぞれにおいて、パルスレーザ光の重なり数は２つである。集光点４１１，４１３，４１５，４１７，４１９は、所定方向において、異なる位置に位置する。所定方向に沿って第１ミラーユニット５３ａ及び第２ミラーユニット５３ｂを視る場合、集光点４１１，４１３，４１５，４１７，４１９を通るパルスレーザ光の光路は２本である。また、集光点４１１，４１３，４１５，４１７，４１９は、互いに重なる。なお、一部の集光点の少なくとも一部が他の集光点に重なってもよい。
６．実施形態４のパルス伸張器の説明
　次に、実施形態４のパルス伸張器１５０の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　６．１　構成
　図１０は、本実施形態の凹面ミラー５５ａ～５５ｄにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。図１０では、見易さのため、ビームスプリッタ５１、出力結合ミラー１４７からビームスプリッタ５１に進行するパルスレーザ光、及びビームスプリッタ５１からビームスプリッタ１６３に進行するパルスレーザ光の図示が省略されている。本実施形態のパルス伸張器１５０の構成は実施形態１のパルス伸張器１５０の構成と同じであり、凹面ミラー５５ａ～５５ｄのそれぞれに位置する反射点１～１２についても同じである。しかし、本実施形態のパルス伸張器１５０において、パルスレーザ光同士のビームウエストがずれるように、１つの凹面ミラーを実施形態１に対して凹面ミラーの並び方向に垂直な軸周りにずらしている。本実施形態では、パルスレーザ光を２回反射する第２ミラーユニット５３ｂの一方の凹面ミラー５５ｃがずれる例を示している。
　本実施形態の凹面ミラー５５ｃは、反射点４～１０におけるパルスレーザ光の反射方向が変わり、反射点１０での反射によって反射角度の変化がキャンセルされて、パルスレーザ光の進行方向が元に戻るように、上記した垂直な軸周りにずれる。凹面ミラー５５ｃがずれると、所定方向に直交する方向において、反射点５，９は反射点４に比べて下がり、反射点７は反射点２，６に比べて上がる。凹面ミラー５５ｃがずれても、反射点５，７，９以外の反射点１～４，６，８，１０～１２はずれない。
　図１１は、本実施形態の凹面ミラー５５ｃ，５５ｄから凹面ミラー５５ａ，５５ｂを視る場合のパルスレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。図１１では、反射点１～１２を黒丸で示し、ビームウエストを白丸で示している。凹面ミラー５５ｃが上記のようにずれると、反射点５から反射点６に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２５が反射点１１から反射点１２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４３１から下がる。また、反射点７から反射点８に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２７は、反射点１から反射点２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２１から上がる。また、反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２９は、反射点３から反射点４に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２３から下がる。従って、第２ミラーユニット５３ｂの一方の凹面ミラー５５ｃがずれることによって、ビームウエスト４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１は互いにずれて重ならない。
　６．２　作用・効果
　上記の構成によれば、ビームウエスト４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１が互いにずれる。このため、ビームウエスト４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１が重なる場合に比べて、酸素に吸収されるパルスレーザ光のエネルギーが小さくなる。これにより、パルス伸張器１５０の集光点付近の温度上昇やプラズマの発生が抑制される。これらが抑制されると、パルス伸張器１５０における屈折率分布の発生が抑制され、パルスレーザ光の波面の歪みが抑制され得る。従って、露光装置２００から要求される性能を満たすパルスレーザ光が出射され得、ガスレーザ装置１００の信頼性の低下が抑制され得る。
　次に、本実施形態の変形例１として、パルスレーザ光を２回反射する第１ミラーユニット５３ａの凹面ミラー５５ａがずれる例を説明する。図１２は、変形例１の凹面ミラー５５ａ～５５ｄにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。凹面ミラー５５ａは、反射点１～７におけるパルスレーザ光の反射方向が変わり、反射点７での反射によって反射角度の変化がキャンセルされて、パルスレーザ光の進行方向が元に戻るように、上記した垂直な軸周りにずれる。凹面ミラー５５ａのずれにより、所定方向に直交する方向において、反射点２，６は反射点７に比べて上がり、反射点４は反射点５，９に比べて下がる。凹面ミラー５５ａがずれても、反射点２，４，６以外の反射点１，３，５，７～１２はずれない。
　図１３は、本変形例の凹面ミラー５５ｃ，５５ｄから凹面ミラー５５ａ，５５ｂを視る場合のパルスレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。凹面ミラー５５ａが上記のようにずれると、反射点１から反射点２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２１は、反射点７から反射点８に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２７から上がる。また、反射点５から反射点６に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２５は、反射点１１から反射点１２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４３１から上がる。また、反射点３から反射点４に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２３は、反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２９から下がる。従って、第１ミラーユニット５３ａの一方の凹面ミラー５５ａがずれることによって、ビームウエスト４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１は互いにずれて重ならない。
　次に、本実施形態の変形例２として、パルスレーザ光を４回反射する第２ミラーユニット５３ｂの凹面ミラー５５ｄがずれる例を説明する。図１４は、変形例２の凹面ミラー５５ａ～５５ｄにおける反射点１～１２の位置関係を示す概略斜視図である。凹面ミラー５５ｄは、反射点２～１２におけるパルスレーザ光の反射方向が変わり、反射点１２での反射によって反射角度の変化がキャンセルされて、パルスレーザ光の進行方向が元に戻るように、上記した垂直な軸周りにずれる。凹面ミラー５５ｄのずれにより、反射点３，１１は反射点１０に比べて下がり、反射点５，９は反射点４に比べて上がり、反射点７は反射点２，６に比べて下がる。凹面ミラー５５ｄがずれても、反射点３，５，７，９，１１以外の反射点１，２，４，６，８，１０，１２はずれない。
　図１５は、凹面ミラー５５ｃ，５５ｄから凹面ミラー５５ａ，５５ｂを視る場合のパルスレーザ光のビームウエストの位置を説明する図である。凹面ミラー５５ｄが上記のようにずれると、反射点３から反射点４に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２３は下がり、反射点９から反射点１０に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２９は上がる。また、反射点５から反射点６に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２５が上がり、反射点１１から反射点１２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４３１は下がる。また、反射点７から反射点８に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２７は、反射点１から反射点２に進行するパルスレーザ光のビームウエスト４２１から下がる。従って、第２ミラーユニット５３ｂの他方の凹面ミラー５５ｄがずれることによって、ビームウエスト４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１は互いにずれて重ならない。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
　本明細書及び請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」、「有する」、「備える」、「具備する」などの用語は、「記載されたもの以外の構成要素の存在を除外しない」と解釈されるべきである。また、修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきであり、さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (15)

  1. 　パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、
    　所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、
    　前記第１凹面ミラーと同数で前記第１凹面ミラーと個別に向かい合い前記所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、
    　を備え、
    　前記ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、前記複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの前記第１凹面ミラーに進行して前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されて前記ビームスプリッタに戻り、
    　前記一方のパルスレーザ光のビームウエストで前記一方のパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なる複数の集光点のそれぞれにおいて、前記一方のパルスレーザ光の重なり数はそれぞれ２つである
    　パルス伸張器。
  2. 　請求項１に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれの曲率半径は、同一である。
  3. 　請求項２に記載のパルス伸張器であって、
    　互いに向かい合う前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの距離は、前記曲率半径に等しい。
  4. 　請求項１に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれの数は、２つであり、
    　前記一方のパルスレーザ光が前記ビームスプリッタから前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとを経由して前記ビームスプリッタに戻る１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、一方の前記第１凹面ミラー及び一方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で１回ずつ反射され、
    　前記１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、他方の前記第１凹面ミラー及び他方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で２回ずつ反射される。
  5. 　請求項４に記載のパルス伸張器であって、
    　前記集光点は、３つである。
  6. 　請求項１に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける反射点を、同一平面が通る。
  7. 　請求項１に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラーにおける反射点のそれぞれは、前記所定方向に直交する方向にずれ、
    　前記第２凹面ミラーにおける反射点のそれぞれは、前記所定方向に直交する方向にずれている。
  8. 　請求項７に記載のパルス伸張器であって、
    　それぞれの前記集光点は、前記所定方向において異なる位置に位置する。
  9. 　請求項７に記載のパルス伸張器であって、
    　前記所定方向に沿って前記複数の第１凹面ミラー及び前記複数の第２凹面ミラーを視る場合、前記集光点を通る前記一方のパルスレーザ光の光路は２本である。
  10. 　請求項１に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれの数は、３つであり、
    　前記一方のパルスレーザ光が前記ビームスプリッタから前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとを経由して前記ビームスプリッタに戻る１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で１回ずつ反射される。
  11. 　請求項１０に記載のパルス伸張器であって、
    　前記集光点は、３つである。
  12. 　パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、
    　所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、
    　前記第１凹面ミラーと同数で前記第１凹面ミラーと個別に向かい合い前記所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、
    　を備え、
    　前記ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、前記複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの前記第１凹面ミラーに進行して前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されて前記ビームスプリッタに戻り、
    　前記第１凹面ミラー又は前記第２凹面ミラーは、前記一方のパルスレーザ光同士のビームウエストがずれるように、前記所定方向に垂直な軸周りにずれる
    　パルス伸張器。
  13. 　請求項１２に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれの数は、２つであり、
    　前記一方のパルスレーザ光が前記ビームスプリッタから前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとを経由して前記ビームスプリッタに戻る１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、一方の前記第１凹面ミラー及び一方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で１回ずつ反射され、
    　前記１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、他方の前記第１凹面ミラー及び他方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で２回ずつ反射され、
    　前記一方の第１凹面ミラー又は前記他方の第１凹面ミラーは、前記一方のパルスレーザ光同士のビームウエストがずれるように、前記所定方向に垂直な軸周りにずれる。
  14. 　請求項１２に記載のパルス伸張器であって、
    　前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーのそれぞれの数は、２つであり、
    　前記一方のパルスレーザ光が前記ビームスプリッタから前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとを経由して前記ビームスプリッタに戻る１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、一方の前記第１凹面ミラー及び一方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で１回ずつ反射され、
    　前記１周期の間において、前記一方のパルスレーザ光は、他方の前記第１凹面ミラー及び他方の前記第２凹面ミラーのそれぞれにおける２箇所の反射点で２回ずつ反射され、
    　前記他方の第２凹面ミラーは、前記一方のパルスレーザ光同士のビームウエストがずれるように、前記所定方向に垂直な軸周りにずれる。
  15. 　パルスレーザ光を２つに分離するビームスプリッタと、
    　所定方向に互いに並んで配置される複数の第１凹面ミラーと、
    　前記第１凹面ミラーと同数で前記第１凹面ミラーと個別に向かい合い前記所定方向に互いに並んで配置される複数の第２凹面ミラーと、
    　を備え、
    　前記ビームスプリッタで分離された一方のパルスレーザ光は、前記複数の第１凹面ミラーのうちのいずれかの前記第１凹面ミラーに進行して前記複数の第１凹面ミラーと前記複数の第２凹面ミラーとで交互に１２回以上の偶数回反射されて前記ビームスプリッタに戻り、
    　前記一方のパルスレーザ光のビームウエストで前記一方のパルスレーザ光同士の少なくとも一部が重なる複数の集光点のそれぞれにおいて、前記一方のパルスレーザ光の重なり数はそれぞれ２つであるパルス伸張器を備えるガスレーザ装置によってレーザ光を生成し、
    　前記レーザ光を露光装置に出力し、
    　電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記レーザ光を露光すること
    　を含む電子デバイスの製造方法。

     
PCT/JP2021/043040 2021-11-24 2021-11-24 パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法 WO2023095219A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2021/043040 WO2023095219A1 (ja) 2021-11-24 2021-11-24 パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法
CN202180103194.6A CN118104087A (zh) 2021-11-24 2021-11-24 脉冲扩展器和电子器件的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2021/043040 WO2023095219A1 (ja) 2021-11-24 2021-11-24 パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023095219A1 true WO2023095219A1 (ja) 2023-06-01

Family

ID=86539098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/043040 WO2023095219A1 (ja) 2021-11-24 2021-11-24 パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN118104087A (ja)
WO (1) WO2023095219A1 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030189756A1 (en) * 2002-04-08 2003-10-09 The Regents Of The University Of California Short pulse laser stretcher-compressor using a single common reflective grating
US20060216037A1 (en) * 2005-03-23 2006-09-28 Wiessner Alexander O Double-pass imaging pulse-stretcher
JP2009532864A (ja) * 2006-03-31 2009-09-10 サイマー インコーポレイテッド 共焦点パルス伸長器
WO2016147308A1 (ja) * 2015-03-16 2016-09-22 国立大学法人九州大学 レーザシステム及びレーザアニール装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030189756A1 (en) * 2002-04-08 2003-10-09 The Regents Of The University Of California Short pulse laser stretcher-compressor using a single common reflective grating
US20060216037A1 (en) * 2005-03-23 2006-09-28 Wiessner Alexander O Double-pass imaging pulse-stretcher
JP2009532864A (ja) * 2006-03-31 2009-09-10 サイマー インコーポレイテッド 共焦点パルス伸長器
WO2016147308A1 (ja) * 2015-03-16 2016-09-22 国立大学法人九州大学 レーザシステム及びレーザアニール装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN118104087A (zh) 2024-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7245420B2 (en) Master-oscillator power-amplifier (MOPA) excimer or molecular fluorine laser system with long optics lifetime
JP7065138B2 (ja) 光ビーム計測装置
JP2013145863A (ja) ２光束干渉装置および２光束干渉露光システム
WO2023095219A1 (ja) パルス伸張器及び電子デバイスの製造方法
WO2021171516A1 (ja) パルス幅伸長装置、及び電子デバイスの製造方法
US20220131328A1 (en) Optical pulse stretcher, laser device, and electronic device manufacturing method
EP0383586A2 (en) Laser device
JP2003008122A (ja) レーザ装置及びそれを用いた露光装置
WO2024100743A1 (ja) ガスレーザ装置のチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
WO2023175729A1 (ja) ガスレーザ装置のチャンバ及び電子デバイスの製造方法
WO2023127286A1 (ja) ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法
JPH10284778A (ja) レーザ発振装置
WO2023089673A1 (ja) レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US20230396033A1 (en) Gas laser apparatus and electronic device manufacturing method
WO2022259352A1 (ja) レーザ装置、レーザ発振方法及び電子デバイスの製造方法
WO2024057536A1 (ja) ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法
WO2023026501A1 (ja) ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US20240128701A1 (en) Ultraviolet laser device and electronic device manufacturing method
WO2024009662A1 (ja) ガスレーザ装置のチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US20220385030A1 (en) Narrowed-line gas laser apparatus and method for manufacturing electronic devices
WO2023100293A1 (ja) 光学パルスストレッチャ、レーザ装置及び電子デバイスの製造方法
WO2023021622A1 (ja) バイパス装置、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
WO2024100848A1 (ja) ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法
WO2023181677A1 (ja) ガスレーザ装置のチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
WO2023233628A1 (ja) 狭帯域化モジュール、狭帯域化モジュールの製造方法、及び電子デバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21965592

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2023563393

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A