WO2022176931A1 - 測定装置 - Google Patents
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Definitions
- the posture of the disk 10 may become unstable.
- the orientation of the disc 10 is changed in advance in the entry-side transfer section 51 and the exit-side transfer section 52, and the disc is transferred to the A-surface measurement section 23 and the B-surface measurement section 33 while maintaining the same orientation. handing over. Therefore, the influence of deflection due to its own weight can be suppressed, the posture of the object to be measured when attached to the A-surface measuring section 23 or the B-surface measuring section 33 can be stabilized, and more accurate measurement can be performed.
- the conveyed disc 10 is transferred from the disc holding portion 43 to the entry-side transfer portion 51 of the first transfer portion 22.
- the disc 10 is tilted, for example, from the vertical direction. It is held by the entry-side transfer section 51 of the first transfer section 22 after being converted into a 5° tilted posture.
- the A-side measuring unit 23 and the B-side measuring unit 33 are arranged to face each other, so that the arrangement space for the components of the measuring device 20 is reduced. The effect that the device 20 can be made compact can be obtained.
- the measuring apparatus 20A may be configured to have a structure in which the A-plane measuring section 23 and the B-plane measuring section 33 are arranged in parallel in the same direction, and the A-plane measuring section 23 and the B-plane measuring section 33 may be oriented in the same direction.
- the measuring device 20B may have a structure in which they are arranged in parallel in different directions.
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Abstract
Description
まず、基材としてのアルミブランクに対して面取りを含めた旋盤加工が行われ(ステップS1)円盤形状のディスクが形成される。形成されたディスクに対して焼鈍が施される(ステップS2)。
測定装置20は、図3、図4、図5(a)および図5(b)に示すように、第1ロボット搬送部21と、第1受渡部22と、A面測定部23と、第1搬送部24と、第1駆動部25とを有している。
なお、測定装置20の各構成要素の動作は、制御部により制御されているので、主に各構成要素の動作について説明し、各構成要素の各動作が制御部により制御されていることの説明については省略する。測定装置20の各構成要素の動作は全て自動的に行われる。
測定装置20においては、まず、図3に示す第1ロボット搬送部21のディスク保持部43により所定の場所のディスク10が図6(a)および図6(b)に示す鉛直姿勢で保持され、所定の場所からX方向、Y方向およびZ方向に移動して第1受渡部22の入側受渡部51まで搬送される。
B面の測定は、A面の測定と同様に行われるが、A面測定部23と、B面測定部33とは互いに対向して配置されているので、第1搬送部24によるディスク10の搬送方向と、第2搬送部34によるディスク10の搬送方向とは、互いに逆方向に搬送される。しかしながら、ディスク10自体は、第1ロボット搬送部21の搬送開始から、第1搬送部24、第3搬送部および第2搬送部34を経て、第2ロボット搬送部31の搬送が完了するまでの間、一方向に搬送される。
(1)本実施形態に係る測定装置20は、ディスク10のA面測定部23およびB面測定部33と、第1搬送部24と第2搬送部34とを備えている。A面測定部23およびB面測定部33は、鉛直方向から傾斜角θ°傾いている測定基準面61aを有し、第1搬送部24と第2搬送部34は、ディスク10が測定基準面61aに対して平行になるようにディスク10を保持する保持部81を有している。保持部81は、ディスク10が傾斜角θ°傾いている傾斜姿勢を維持したまま、ディスク10のA面測定部23またはB面測定部33への取付けおよび取外しを行うように構成されている。
以下、第2実施形態に係る測定装置20Aについて図面を参照して説明する。
第2実施形態に係る測定装置20Aは、図11に示すように、第1実施形態に係る測定装置20と異なり、A面測定部23と、B面測定部33とが同じ向きで並列に配置されている。なお、第1実施形態に係る測定装置20と同様の構成要素には、第1実施形態に係る測定装置20と同一の符号を付し、詳しい説明を省略する。
第3実施形態に係る測定装置20Bは、図12に示すように、第1実施形態に係る測定装置20と第2実施形態に係る測定装置20Aと異なり、A面測定部23と、B面測定部33とが異なる向きで並列に配置されている。第1実施形態に係る測定装置20と同様の構成要素には、第1実施形態に係る測定装置20と同一の符号を付し、詳しい説明を省略する。
測定装置20Bは、測定装置20Aおよび第1実施形態に係る測定装置20と同様に構成され、動作も測定装置20と同様に行われるので、測定装置20Bは、測定装置20と同様の効果が得られる。
特に、上述の各実施形態では、本発明に係る測定装置が被測定物を測定する測定装置に使用した場合を例に説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、被測定物を検査する検査装置や、検査後に良品と不良品に仕分ける仕分装置として使用することもできる。
Claims (10)
- 被測定物を測定する測定装置であって、
前記被測定物の表面および裏面の少なくとも一方の形状を測定する測定手段と、
前記被測定物を搬送する搬送手段と、を備え、
前記測定手段は、鉛直方向から所定の角度だけ傾いている測定基準面を有し、
前記搬送手段は、前記被測定物が前記測定基準面に対して平行になるように前記被測定物を保持する保持部を有し、
前記保持部は、前記被測定物が前記所定の角度だけ傾いている姿勢を維持したまま、前記被測定物の前記測定手段への取付けおよび取外しを行うことを特徴とする測定装置。 - 前記搬送手段が、前記被測定物を前記測定手段に取付ける取付用保持部および前記被測定物を前記測定手段から取外す取外用保持部を有することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記搬送手段が、前記測定手段に対向して前記被測定物を搬送する際、前記被測定物が前記測定基準面に対して平行に搬送されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の測定装置。
- 前記測定手段が、互いに対向して配置される第1測定手段および第2測定手段を有することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記搬送手段が、前記第1測定手段に対向して前記被測定物を搬送する第1搬送手段と、前記第2測定手段に対向して前記被測定物を搬送する第2搬送手段とを有し、前記第1搬送手段の搬送方向と前記第2搬送手段の搬送方向とが互いに逆方向であることを特徴とする請求項4に記載の測定装置。
- 前記被測定物が鉛直方向に沿って位置する鉛直姿勢と前記被測定物の鉛直方向から所定の角度だけ傾いて位置する傾斜姿勢との間で、前記鉛直姿勢と前記傾斜姿勢とを変換する受渡部を有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記搬送手段を駆動する駆動手段を有し、前記駆動手段は、前記測定手段よりも鉛直方向で下方に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記搬送手段は、水平方向および前記測定基準面に対して垂直方向に往復移動可能に構成され、前記被測定物は、前記搬送手段により主面の向きを前記測定基準面側に維持したまま測定装置の入側から出側まで搬送されることを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記被測定物が板厚方向に貫通する貫通孔を有し、前記保持部は、前記貫通孔の内壁部を保持することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記測定基準面は、前記被測定物を支持する支持体と、該支持体に支持された前記被測定物に当接する振れ止めを有することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
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US5511005A (en) * | 1994-02-16 | 1996-04-23 | Ade Corporation | Wafer handling and processing system |
JP2001108426A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-20 | Toovan Kogyo Kk | 非接触式歪検査装置 |
JP2007057502A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Toshiba Mach Co Ltd | 基板の両面形状測定システム |
JP2016095276A (ja) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 株式会社神戸製鋼所 | 形状測定装置 |
US20200041248A1 (en) * | 2018-08-02 | 2020-02-06 | Corning Incorporated | Systems for and methods of measuring photomask flatness with reduced gravity-induced error |
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Patent Citations (6)
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---|---|---|---|---|
JPH0540018A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-02-19 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 円盤厚み測定器 |
US5511005A (en) * | 1994-02-16 | 1996-04-23 | Ade Corporation | Wafer handling and processing system |
JP2001108426A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-20 | Toovan Kogyo Kk | 非接触式歪検査装置 |
JP2007057502A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Toshiba Mach Co Ltd | 基板の両面形状測定システム |
JP2016095276A (ja) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 株式会社神戸製鋼所 | 形状測定装置 |
US20200041248A1 (en) * | 2018-08-02 | 2020-02-06 | Corning Incorporated | Systems for and methods of measuring photomask flatness with reduced gravity-induced error |
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