WO2022168815A1 - 硬化樹脂用組成物、該組成物の硬化物、該組成物および該硬化物の製造方法、ならびに半導体装置 - Google Patents

硬化樹脂用組成物、該組成物の硬化物、該組成物および該硬化物の製造方法、ならびに半導体装置 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a curable resin composition for obtaining a highly heat-resistant cured product, a cured product thereof, and a method for producing the curable resin composition and the cured product. Furthermore, the present invention relates to a semiconductor device using the cured product as a sealing material.
  • Cured resins are used in various applications such as semiconductor encapsulants and fiber-reinforced plastics, and benzoxazine compounds are used as one of the raw materials.
  • Benzoxazine compounds refer to compounds containing benzoxazine rings having a benzene skeleton and an oxazine skeleton. It is used as a high performance material in various applications.
  • the weight reduction rate and linear expansion coefficient during heat curing are known to affect the molding shrinkage rate. It is believed that the rate of weight loss during heat curing reflects volatilization of low-molecular-weight components, and by suppressing the rate of weight loss, it is possible to improve the working environment and stabilize the composition of the resin composition.
  • Patent Document 1 describes an adhesive for electronic parts containing an aliphatic epoxy compound and a benzoxazine compound as a curing main agent and a phenol-based curing agent. It is described that a cured product with high toughness can be obtained.
  • Patent Document 2 discloses an epoxy resin selected from a trifunctional epoxy resin and a tetrafunctional epoxy resin, a curing agent having at least two hydroxyl groups in one molecule, and one molecule, although it does not use a benzoxazine compound.
  • An epoxy resin composition containing a compound having at least two cyanate groups in the interior and an inorganic filler has excellent flame retardancy, solder crack resistance, and fluidity, and is also subjected to temperature cycle tests after molding and during soldering. It is described that it is possible to provide a semiconductor device that is less warped even at low temperatures such as.
  • Patent Documents 1 and 2 have the following technical problems.
  • the adhesive for electronic parts described in Patent Document 1 has a problem that a cured product having a high glass transition point cannot be obtained.
  • the epoxy resin composition described in Patent Document 2 has a problem that there is a limit to the reduction of the linear expansion coefficient.
  • the present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, have developed a curable resin composition containing a benzoxazine compound, an epoxy compound and a phenol-based curing agent in specific proportions, and the curable resin. It has been found that the weight loss rate of the composition for use during heat curing is low, the cured product has excellent heat resistance, and the molding shrinkage and linear expansion coefficient of the cured product are reduced.
  • the number of benzoxazine rings of the (A) benzoxazine compound, the number of epoxy groups of the (B) epoxy compound, and the number of hydroxyl groups of the (C) phenol-based curing agent satisfy the following formula (1),
  • (B) the epoxy compound comprises an alicyclic epoxy compound, and Curing, wherein the content of the (B) alicyclic epoxy compound is 3 to 12% by mass with respect to the total of the (A) benzoxazine compound, the (B) epoxy compound, and the (C) phenolic curing agent.
  • the (A) benzoxazine compound is a polyfunctional benzoxazine compound having at least two benzoxazine rings, the polyfunctional benzoxazine compound having a structural unit of formula (1), and a polyfunctional benzoxazine compound of formula (2)
  • the curable resin composition according to [1] which is at least one polyfunctional benzoxazine compound selected from polyfunctional benzoxazine compounds represented by the structures.
  • R represents a chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and the aryl group is a halogen as a substituent. Alternatively, it may have a chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • Z represents hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and/or a linking group, each of which may be the same or different, and at least one is a linking group, and the linking group is a benzo Oxazine rings are linked to each other.
  • L is a divalent organic group having 1 to 5 aromatic rings or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, the organic group and the alkylene group containing oxygen and/or sulfur.
  • the alicyclic epoxy compound has at least one structure selected from the group consisting of a five-membered ring structure, a six-membered ring structure, and a norbornane ring structure represented by formula (3)
  • a method for producing a curable resin composition according to any one of [1] to [10], (A) a benzoxazine compound; (B) an epoxy compound; (C) a step of mixing with a phenolic curing agent to obtain a mixture; A method for producing a curable resin composition, comprising a step of processing the mixture into a powdery, pellet-like, or granular curable resin composition. [14] In the step of obtaining the mixture, further mixing at least one component selected from the group consisting of (D) a silane coupling agent, (E) a curing accelerator, and (F) an inorganic filler to obtain a mixture [ 13]. [15] [13] or [14]. A method for producing a cured product, comprising the step of heating the curable resin composition produced by the method according to [14] at 150 to 300° C. for 20 seconds to 6 hours to cure the composition.
  • the composition for curable resin of the present invention contains components (A) to (C) in specific proportions, and further optionally contains components (D), (E) and (F). It is characterized by a low weight loss rate during heat curing of the composition, high heat resistance of the cured product, and excellent molding shrinkage and linear expansion coefficient. Furthermore, the cured resin composition also has a feature of having a low melt viscosity. Therefore, the curable resin composition of the present invention is used for applications that require heat resistance while improving molding defects and, if desired, low melt viscosity, such as adhesives, encapsulants, paints, and composite materials. It can be used for applications such as a matrix resin for In particular, as a sealing material, it can be suitably used as a WLP sealing material or a PLP sealing material.
  • Examples of the polyfunctional benzoxazine compound represented by formula (1) or (1a) include a compound represented by the following formula (1X) and an oligomer obtained by polymerizing a small amount of the compound.
  • L in formula (2) is a group having an aromatic ring
  • the number of aromatic rings is 1 to 5, and examples thereof include monocyclic compounds, polycyclic compounds and condensed ring compounds.
  • L may contain at least one selected from the group consisting of oxygen and sulfur. Specific examples include groups represented by the following formula (2a).
  • Examples of the polyfunctional benzoxazine compound of formula (2) include compounds represented by the following formula (2X) and oligomers polymerized from the compounds, for example, oligomers polymerized in small amounts.
  • a commercially available product can also be used as the polyfunctional benzoxazine compound of component (A).
  • Examples of commercially available products include bisphenol F-aniline (Fa) type benzoxazine and phenol-diaminodiphenylmethane (Pd) type benzoxazine (both manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.).
  • the number of benzoxazine rings (mol) of the component (A) benzoxazine compound is calculated from the benzoxazine equivalent of the component (A) benzoxazine compound.
  • the composition of the present invention contains a plurality of benzoxazine compounds as component (A)
  • the number of benzoxazine rings is the total number of rings calculated from the benzoxazine equivalents of these compounds.
  • the curable resin composition contains a mixture of multiple types of epoxy compounds as component (B).
  • the mixture of epoxy compounds preferably contains an alicyclic epoxy compound.
  • the mixture of epoxy compounds include a combination of an alicyclic epoxy compound and an epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound.
  • Epoxy compounds other than the alicyclic epoxy compounds preferably include biphenyl-type epoxy compounds, trisphenolmethane-type epoxy compounds, naphthalene-type epoxy compounds, novolac-type epoxy compounds, phenol aralkyl-type epoxy compounds, and cyclohexene oxide group-containing compounds.
  • the epoxy equivalent of the component (B) epoxy compound is preferably 50 g/eq or more and 400 g/eq or less, more preferably 80 g/eq or more and 300 g/eq or less, from the viewpoint of improving reactivity.
  • Epoxy compound having at least one norbornane structure and at least two epoxy groups The epoxy compound having at least one norbornane structure and at least two epoxy groups preferably has an epoxy structure bonded to a five-membered ring, a six-membered ring or a norbornane ring represented by the following formula (4). These may be used singly or in combination of two or more.
  • the compound of the following formula (5-1) (epoxy equivalent: 109 g/eq) is synthesized by, for example, Diels-Alder reaction of butadiene and dicyclopentadiene to synthesize a compound (a) having the following norbornane structure, and then It can be produced by reacting compound (a) with meta-chloroperbenzoic acid as shown in the following formula (6).
  • the compound of the following formula (5-2) (epoxy equivalent: 115 g/eq) is converted, for example, by the Diels-Alder reaction of cyclopentadiene and dicyclopentadiene into compound (b) (tricyclopentadiene) having the following norbornane structure. synthesized, and then reacting compound (b) with meta-chloroperbenzoic acid as shown in the following formula (7).
  • a compound of the following formula (5-4) (epoxy equivalent: 82.1 g/eq) can be produced, for example, by reacting dicyclopentadiene with potassium peroxymonosulfate (oxone).
  • the dicyclopentadiene diepoxide which is the compound of formula (5-4), may be a commercial product, and an example of a commercial product is dicyclopentadiene diepoxide manufactured by SHANDONG QIHUAN BIOCHEMICAL CO., LTD.
  • the trisphenolmethane-type epoxy compound is not particularly limited as long as it does not deviate from the gist of the present invention, but an epoxy compound represented by the structure of the following formula (9) is preferred.
  • R is a substituent, each independently representing an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or a phenyl group.
  • m is the number of substituents R and represents an integer of 0 to 3, respectively.
  • n is an average value, and 0 ⁇ n ⁇ 10.
  • a commercially available product can also be used as the trisphenolmethane type epoxy compound.
  • Commercially available products include EPPN-501H (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 162 to 172 g/eq, softening point 51 to 57 ° C.), EPPN-501HY (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent weight 163-175 g/eq, softening point 57-63° C.), EPPN-502H (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent weight 158-178 g/eq, softening point 60-72° C.), EPPN-503 (product manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 170 to 190 g/eq, softening point 80 to 100° C.). These may be used singly or in combination of two or more.
  • naphthalene-type epoxy compound is not particularly limited as long as it does not deviate from the spirit of the present invention, and includes naphthol-type epoxy compounds, naphthylene ether-type epoxy compounds, binaphthalene-type epoxy compounds and the like, preferably naphthol-type epoxy compounds and the like. be.
  • a and B each independently represent a substituted or unsubstituted benzene or a substituted or unsubstituted naphthalene.
  • n represents a repeating unit and is an integer of 1 or more and 10 or less. .
  • Unsubstituted benzene or naphthalene is composed only of benzene or naphthalene, and substituted benzene or naphthalene is one in which the aromatic hydrocarbon group of the benzene or naphthalene ring has a substituent.
  • An aromatic hydrocarbon group having a substituent means that some or all of the hydrogen atoms constituting the aromatic hydrocarbon group have been substituted with a substituent. Examples of substituents include organic groups including glycidyl ether groups and alkyl groups.
  • the alkyl group as a substituent is preferably a chain alkyl group.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, and particularly preferably 1 or more and 4 or less. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group and the like.
  • naphthol-type epoxy compound represented by the above formula (10) include naphthol-type epoxy compounds represented by the following formulas (10-1) to (10-4). These may be used singly or in combination of two or more.
  • n is, for example, an integer of 0 or more and 10 or less, preferably an integer of 0 or more and 6 or less, more preferably 0 or more and 4 It is an integer below, more preferably an integer of 0 or more and 3 or less.
  • a commercially available product can also be used as the naphthol-type epoxy compound.
  • Commercially available naphthol-type epoxy compounds include NC-7000L (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 223 to 238 g/eq), NC-7300L (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 207 ⁇ 221 g / eq), ESN-475V (trade name, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 332 g / eq), ESN-375 (trade name, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 170 g / eq), etc. be able to. These may be used singly or in combination of two or more.
  • component (B) alicyclic epoxy compound is 3 to 12 parts per 100 parts by mass of component (A) benzoxazine compound, component (B) epoxy compound and component (C) phenolic curing agent. Parts by weight (ie, 3 to 12% by weight) are preferred, 3 to 10 parts by weight (ie, 3 to 10% by weight) are more preferred, and 4 to 10 parts by weight (ie, 4 to 10% by weight) are even more preferred.
  • the blending ratio of the component (B) alicyclic epoxy compound is within the above range, more excellent heat resistance and more excellent weight reduction rate can be exhibited.
  • the content of the alicyclic epoxy compound in the component (B) epoxy compound is preferably 5 to 45 parts by mass, more preferably 10 to 40 parts by mass, more preferably 15 to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the component (B) epoxy compound. Parts by mass are more preferred.
  • the blending ratio of the component (B) is within the above range, a more excellent low melt viscosity and a more excellent weight reduction rate can be exhibited.
  • the composition of the present invention contains multiple types of benzoxazine compounds as component (A) and/or multiple types of alicyclic epoxy compounds and epoxy compounds as component (B), The amounts are the same as above.
  • Component C constituting the composition for cured resin is a phenol-based curing agent.
  • Component (C) is not particularly limited as long as it does not deviate from the gist of the present invention. -hydroxyphenyl) sulfide, etc.), polyphenol compounds (e.g., pyrogallol, etc.), etc.), phenol novolac resins, phenol aralkyl resins (e.g., phenol aralkyl resins having a biphenylene skeleton, phenol aralkyl resins having a phenylene skeleton), etc. Bisphenol F and phenol novolac resin are preferred. These may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the number of hydroxyl groups (mol) of the phenolic curing agent of component (C) is calculated from the hydroxyl equivalent.
  • the number of hydroxyl groups is the total number of hydroxyl groups of these curing agents.
  • the ratio satisfies the following formula (2).
  • the ratio of the number of functional groups in the above formula (2) is more preferably 0.9-4, still more preferably 1-3.5, still more preferably 2.5-3.
  • the ratio of the number of functional groups of each component of the formula (2) is within the range, the composition for a curable resin having a better low melt viscosity, and a lower molding shrinkage rate and a lower linear expansion rate. and a cured product having better heat resistance can be obtained.
  • the curable resin composition of the present invention may further contain (D) a silane coupling agent, if desired.
  • the component (D) silane coupling agent is not particularly limited as long as it does not deviate from the spirit of the present invention. , a mercapto group, a sulfide group, an isocyanate group, a thiocarbonyl group, a halogen group, a silane coupling agent having a reactive functional group such as a triazinethiol group or a combination thereof, preferably a silane coupling agent having an amino group, More preferably a silane coupling agent having a primary amino group, a secondary amino group, or a combination thereof, more preferably at least one primary amino group and at least one secondary amino group in one molecule It is a silane coupling agent with Specific examples of the (D) silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxy
  • trimethoxysilane 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-amino propyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane and the like.
  • silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the curable resin composition of the present invention may further contain (E) a curing accelerator, if desired.
  • a curing accelerator known curing accelerators can be used, including amine compounds such as tributylamine, 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7, and 2-methylimidazole.
  • the above curing accelerators may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • organophosphorus compounds such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetrabutylphosphonium 2,6-bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenolate are cured.
  • the effect of speed improvement is large, which is preferable.
  • the organophosphorus compound preferably exhibits the function of promoting the cross-linking reaction between the epoxy group and the phenolic hydroxyl group.
  • the organophosphorus compound preferably exhibits the function of promoting the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group generated when the (A) benzoxazine compound undergoes a cleavage reaction at high temperature.
  • the blending ratio of component (E) is in the range of 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less of component (E) with respect to a total of 100 parts by mass of components (A), (B) and (C). It is preferable to make it into the range of 0.1 mass part or more and 5 mass parts or less. By containing the component (E) within this range, it is possible to obtain a curable resin composition having more excellent rapid curability.
  • the curable resin composition of the present invention may further contain (F) an inorganic filler, if desired.
  • an inorganic filler for example, when the composition for curable resin of the present invention is used as a sealing material for semiconductor elements, it preferably contains component (F).
  • the inorganic filler used in the present invention is not particularly limited, and can be selected in consideration of the use of the curable resin composition or its cured product, or the desired properties to be imparted. This inorganic filler is hereinafter referred to as component (F).
  • component (F) examples include oxides such as silica, alumina, titanium oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, calcium oxide, antimony trioxide, zinc oxide and iron oxide; calcium carbonate and magnesium carbonate.
  • barium carbonate, strontium carbonate, and other carbonates barium sulfate, aluminum sulfate, calcium sulfate, and other sulfates; aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, boron nitride, manganese nitride, and other nitrides; calcium silicate, magnesium silicate , Silicon compounds such as aluminum silicate; Boron compounds such as aluminum borate; Zirconium compounds such as barium zirconate and calcium zirconate; Phosphorus compounds such as zirconium phosphate and magnesium phosphate; Strontium titanate, calcium titanate, titanium Titanium compounds such as magnesium acid, bismuth titanate, barium titanate, potassium titanate; mica, talc, kaolin, kaolin clay, kaolinite, halloysite, cordierite, pyrophyllite, montmorillonite, sericite, amesite, bentonite , asbestos, wol
  • Component (F) is preferably silica or alumina.
  • silica include fused silica, spherical silica, crystalline silica, amorphous silica, synthetic silica, hollow silica and the like, preferably spherical silica such as fused spherical silica and crystalline silica.
  • Component (F) may be used alone or in combination of two or more.
  • the viscosity at 100° C. of the curable resin composition of the present invention is, for example, 2.0 Pa ⁇ s or less, preferably 1.9 Pa ⁇ s or less, from the viewpoint of fluidity and handling of the curable resin composition. It is more preferably 1.8 Pa ⁇ s or less, still more preferably 1.4 Pa ⁇ s or less (also referred to as low melt viscosity). Although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 0.1 Pa ⁇ s or more.
  • the inorganic filler in the range that does not deteriorate the fluidity in the curable resin composition containing an inorganic filler can be expected.
  • the viscosity can be measured with a cone and plate viscometer. Such measurements can be conveniently performed using a commercially available cone-plate viscometer (eg, manufactured by Brookfield).
  • a solvent may be added to obtain a composition having a solution viscosity suitable for thin film formation.
  • the solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the components (A) to (E), and examples thereof include hydrocarbons, ethers, esters, halogen-containing compounds and the like.
  • the solvent is volatilized, and then heat-cured. A cured product can be obtained.
  • Epoxy compound 3 an epoxy compound represented by the following formula (9-1) (EPPN-501H, epoxy equivalent (g/eq): 162 to 172, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (In formula (9-1), n is the average value and is 1.3.)
  • Epoxy compound 4 an epoxy compound represented by the following formula (9-2) (EPPN-502H, epoxy equivalent (g/eq): 158 to 178, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (In formula (9-2), n is the average value and is 1.8.)
  • Epoxy compound 5 naphthol-type epoxy compound (NC-7300L, epoxy equivalent (g/eq): 207-221, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • (C) Phenolic Curing Agent> The following (C1) and (C2) were used as the component (C).
  • (C1) Phenolic curing agent 1 Bisphenol F (Bisphenol F, hydroxyl equivalent 100.115, manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.)
  • Phenolic curing agent 2 Phenol novolac resin (TD-2131, hydroxyl equivalent 104, manufactured by DIC Corporation)
  • Silane coupling agent > The following (D1) and (D2) were used as the component (D).
  • Silane coupling agent 2 3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-903, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)
  • Component (E) Curing accelerator> Tetrabutylphosphonium 2,6-bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenolate (TBP-3PC, manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.) was used as component (E).
  • Component (F) Inorganic filler>
  • component (F) fused spherical silica (FB-820, manufactured by Denka Co., Ltd.) having an average particle diameter D50 of 22 ⁇ m was used.
  • composition A curable resin composition (hereinafter simply referred to as "composition”) and a cured product were prepared as follows, and the weight loss rate, molding shrinkage rate, glass transition temperature, linear expansion coefficient, and viscosity were measured.
  • Components (A) benzoxazine compound, (B) epoxy compound, (C) phenolic curing agent, (D) silane coupling agent, (E) curing accelerator, (F) inorganic filler, release agent (carnauba wax ), and carbon black at the blending ratio shown in Table 1, using a hot roll kneader (model "BR-150HCV", manufactured by Aimex Co., Ltd.) having two rolls with surface temperatures of 90 ° C. and 100 ° C. at atmospheric pressure. After kneading for 10 minutes under low temperature, the mixture was cooled to room temperature. The resulting mixture was pulverized into a powder using a mini speed mill (model "MS-09", manufactured by Labonect) so that the mixture could be well filled into a mold to obtain a composition.
  • a hot roll kneader model "BR-150HCV", manufactured by Aimex Co., Ltd.
  • Tg Glass transition temperature
  • the test piece obtained by the transfer molding was further heated in an oven at 175° C. for 5 hours to obtain a cured product.
  • a test piece obtained by cutting the obtained cured product into a size of 3 mm long ⁇ 2 mm wide ⁇ 2 mm long was analyzed by a differential scanning calorimeter (model “X-DSC-7000”, temperature increase rate 20 ° C./min. , manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used to measure the glass transition temperature. Table 1 shows the results.
  • Example 5 A composition of each comparative example was prepared in the same manner as in Example 1, except that the blending ratio of each component was as shown in Table 1. Weight reduction rate, molding shrinkage rate, glass transition temperature, linear expansion coefficient, and viscosity were measured in the same manner as in Example 1 for each composition and its cured product. Table 1 shows the results.
  • the weight loss rate of the curable resin composition of each example during heat curing is 1.0% by mass or less, so the weight loss rate of the composition is low. Since the viscosity of the cured resin composition of each example is 2.0 Pa ⁇ s or less, the viscosity of the composition is low. Moreover, the Tg of the cured product is 185° C. or higher, indicating high heat resistance. Furthermore, since the linear expansion coefficient of the cured product is 13.5 ppm/°C or less, the linear expansion coefficient of the composition is low. Since the molding shrinkage of the cured product is 0.45% or less, the molding shrinkage of the composition is low. On the other hand, the weight loss rate of the curable resin composition of Comparative Example 1 during heat curing is high.

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Abstract

[課題]高耐熱性でありながら、成形収縮率や線膨張率が低減された硬化物を得るための、加熱硬化時の重量減少率が低い硬化樹脂用組成物、その硬化物、ならびに該硬化樹脂用組成物および該硬化物の製造方法を提供する。また、前記硬化物を封止材として用いた半導体装置を提供する。 [解決手段]本発明の硬化樹脂用組成物は、(A)ベンゾオキサジン化合物と、(B)エポキシ化合物と、(C)フェノール系硬化剤とを含有し、(B)エポキシ化合物のエポキシ基数と、(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数と、(C)フェノール系硬化剤の水酸基数が数式(1)を満たし、かつ、前記(A)と(B)と(C)との合計に対する、前記(B)脂環式エポキシ化合物の含有率が3~12質量%である。

Description

硬化樹脂用組成物、該組成物の硬化物、該組成物および該硬化物の製造方法、ならびに半導体装置 関連出願の参照
 本特許出願は、2021年2月2日に出願された日本国特許出願2021-15288号に基づく優先権の主張を伴うものであり、かかる先の特許出願における全開示内容は、引用することにより本明細書の一部とされる。
 本発明は、高耐熱性硬化物を得るための硬化樹脂用組成物、その硬化物、ならびに該硬化樹脂用組成物および該硬化物の製造方法に関する。さらに、前記硬化物を封止材として用いた半導体装置に関する。
 硬化樹脂は半導体封止材、繊維強化プラスチック等各種用途に使用され、その一原料としてベンゾオキサジン化合物が使用されている。ベンゾオキサジン化合物とは、ベンゼン骨格とオキサジン骨格とを有するベンゾオキサジン環を含む化合物を指し、その硬化物(重合物)であるベンゾオキサジン樹脂は、耐熱性、機械的強度等の物性に優れ、多方面の用途において高性能材料として使用されている。
 さらに、硬化樹脂を半導体封止材等に用いる際に、成形収縮率の低減といった成形不良の改善も求められている。ここで、成形収縮率に影響を与えるものとして、加熱硬化時の重量減少率や線膨張率が知られている。加熱硬化時の重量減少率は、低分子量成分の揮発を反映すると考えられており、該重量減少率を抑制することにより、作業環境の改善や樹脂組成物の組成の安定化も可能である。
 特許文献1には、脂肪族エポキシ化合物とベンゾオキサジン化合物とを硬化主剤として含有しかつフェノール系硬化剤を含有することを特徴とする電子部品用接着剤から、硬化後に低線膨張率となる信頼性の高い硬化物が得られることが記載されている。
 特許文献2には、ベンゾオキサジン化合物を用いるものではないが、三官能エポキシ樹脂および四官能エポキシ樹脂の中から選択されるエポキシ樹脂、1分子内に少なくとも2個の水酸基を有する硬化剤、1分子内に少なくとも2個のシアネート基を有する化合物、および無機充填剤を含有するエポキシ樹脂組成物が、難燃性、耐半田クラック性、流動性に優れ、さらに成形後やはんだ処理時、温度サイクル試験等の低温時でも反りが小さい半導体装置が提供可能であることが記載されている。
特開2013-008800号公報 国際公開第2007/037500号
 しかしながら、本発明者らは、特許文献1~2には、以下の技術的課題が存在することを知見した。特許文献1に記載の電子部品用接着剤は高いガラス転移点を有する硬化物が得られないという課題があった。特許文献2に記載のエポキシ樹脂組成物は、線膨張率の低減に限界があるという課題があった。
 本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、ベンゾオキサジン化合物、エポキシ化合物およびフェノール系硬化剤を特定の割合で含有する硬化樹脂用組成物を開発し、該硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率が低く、その硬化物が耐熱性に優れ、その硬化物の成形収縮率や線膨張率が低減されることを見出した。
 したがって、本発明は、高耐熱性でありながら、成形収縮率や線膨張率が低い硬化物を得るための、加熱硬化時の重量減少率が低い硬化樹脂用組成物を提供することを課題とする。また、本発明の別の課題は、上記硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物、ならびに上記硬化樹脂用組成物および該硬化物の製造方法を提供することにある。また、本発明の別の課題は、前記硬化物を封止材として用いた半導体装置を提供することにある。
 すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
[1] (A)ベンゾオキサジン化合物と、
 (B)エポキシ化合物と、
 (C)フェノール系硬化剤と
を含有し、
 前記(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数と、前記(B)エポキシ化合物のエポキシ基数と、前記(C)フェノール系硬化剤の水酸基数とが、下記数式(1)を満たし、
 (B)エポキシ化合物が脂環式エポキシ化合物を含んでなり、かつ、
 前記(A)ベンゾオキサジン化合物と前記(B)エポキシ化合物と前記(C)フェノール系硬化剤との合計に対する、前記(B)脂環式エポキシ化合物の含有率が3~12質量%である、硬化樹脂用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
[2] 前記(A)ベンゾオキサジン化合物が、ベンゾオキサジン環を少なくとも二つ有する多官能ベンゾオキサジン化合物であって、式(1)の構造単位を有する多官能ベンゾオキサジン化合物、および式(2)の構造で示される多官能ベンゾオキサジン化合物から選択される少なくとも1種の多官能ベンゾオキサジン化合物である、[1]に記載の硬化樹脂用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
[式(1)中、Rは炭素数1~12の鎖状アルキル基、炭素数3~8の環状アルキル基、または炭素数6~14のアリール基を示し、該アリール基は置換基としてハロゲンまたは炭素数1~12の鎖状アルキル基を有していてもよい。Zは、水素、炭素数1~8の炭化水素基および/または連結基を表し、各々同一であっても異なっていてもよく、かつ、少なくとも一つは連結基であり、該連結基によってベンゾオキサジン環同士が連結している。]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
[式(2)中、Lは芳香環を1~5個有する2価の有機基または炭素数2~10のアルキレン基であって、該有機基およびアルキレン基は酸素および/または硫黄を含んでいてもよい。]
[3] 前記脂環式エポキシ化合物が、ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物である、[1]または[2]に記載の硬化樹脂用組成物。
[4] 前記脂環式エポキシ化合物が、式(3)で示される五員環構造、六員環構造、およびノルボルナン環構造からなる群から選択される少なくとも1種の構造を有する、[1]~[3]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
[5] 前記脂環式エポキシ化合物がグリシジル基を有さない、[1]~[4]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物。
[6] (D)シランカップリング剤をさらに含有する、[1]~[5]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物。
[7] 前記(D)シランカップリング剤が、1分子中に第1級アミノ基と第2級アミノ基とをそれぞれ少なくとも1つ含有する、[6]に記載の硬化樹脂用組成物。
[8] (E)硬化促進剤をさらに含有する、[1]~[7]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物。
[9] (F)無機充填剤をさらに含有する、[1]~[8]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物。
[10] 前記(F)無機充填剤の含有率が、硬化樹脂用組成物全体に対して80~95質量%である、[9]に記載の硬化樹脂用組成物。
[11] [1]~[10]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物。
[12] [1]~[10]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物中に半導体素子が設置されている、半導体装置。
[13] [1]~[10]のいずれか一つに記載の硬化樹脂用組成物の製造方法であって、
 (A)ベンゾオキサジン化合物と、
 (B)エポキシ化合物と、
 (C)フェノール系硬化剤と
を混合して混合物を得る工程、
 該混合物を粉体状、ペレット状、または顆粒状の硬化樹脂用組成物に加工する工程
を有する、硬化樹脂用組成物の製造方法。
[14]
 前記混合物を得る工程において、(D)シランカップリング剤、(E)硬化促進剤、および(F)無機充填剤からなる群から選択される少なくとも一つの成分をさらに混合して混合物を得る、[13]に記載の製造方法。
[15]
 [13]または[14]に記載の方法により製造した前記硬化樹脂用組成物を150~300℃にて20秒間~6時間加熱して硬化させる工程
を有する、硬化物の製造方法。
 本発明の硬化樹脂用組成物は、成分(A)~(C)を特定の割合で含有し、さらに所望により成分(D)、(E)、(F)を含有する新規な硬化樹脂用組成物であり、該組成物の加熱硬化時の重量減少率が低く、その硬化物は高耐熱性であり、成形収縮率や線膨張率に優れるという特徴を有している。さらに、上記硬化樹脂組成物は低溶融粘度性を有するという特徴も有している。したがって、本発明の硬化樹脂用組成物は、成形不良の改善および所望により低溶融粘度性を要求されながら、耐熱性を必要とされる用途、例えば、接着剤、封止材、塗料、複合材向けマトリックス樹脂等の用途に使用可能である。特に、封止材としては、WLP封止材やPLP封止材として好適に用いることができる。
[硬化樹脂用組成物]
 以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明の成分(A)~(D)における「化合物」や「硬化剤」、「シランカップリング剤」とは、単量体だけでなく、該単量体が重合したオリゴマー、例えば、少量重合したオリゴマー、すなわち硬化樹脂を形成する前のプレポリマーも含むものとする。したがって、本発明の硬化樹脂用組成物は、硬化性樹脂組成物であってもよい。
(成分(A))
 硬化樹脂用組成物を構成する成分(A)は、ベンゾオキサジン化合物であり、好ましくは、式(1)の構造単位を有する多官能ベンゾオキサジン化合物、および式(2)の構造で示される多官能ベンゾオキサジン化合物から選択される少なくとも1種の、ベンゾオキサジン環を少なくとも二つ有する多官能ベンゾオキサジン化合物である。なお、上記式(1)のZは、水素、置換基および/または連結基(スペーサー)を表し、各々同一であっても異なっていてもよく、かつ、少なくとも一つは連結基であり、該連結基によってベンゾオキサジン環同士が連結されている。なお、ここで連結基とは、二つのベンゾオキサジン環が他の基を介さずに直接結合しているものも含むものとする。また、上記置換基とは、例えば、炭素数1~8の炭化水素基が挙げられる。
 したがって、上記式(1)は、成分(A)の選択肢の内、ベンゼン環部分で二つ以上のベンゾオキサジン環が連結されている化合物についてその構造単位を表したものである。
 式(1)の多官能ベンゾオキサジン化合物を、より具体的に表すと、式(1a)に示す構造として表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
[式(1a)中、Rは炭素数1~12の鎖状アルキル基、炭素数3~8の環状アルキル基、または炭素数6~14のアリール基を示し、該アリール基は置換基としてハロゲンまたは炭素数1~12の鎖状アルキル基を有していてもよい。Rは各々同一であっても異なっていてもよい。Xは、水素または炭素数1~8の炭化水素基であり、各々同一であっても異なっていてもよい。Yは、炭素数1~6のアルキレン基、酸素、硫黄、SO基、またはカルボニル基である。mは0または1である。nは1~10の整数である。]
 式(1)および(1a)のRの具体例としては、以下の基を例示できる。
 炭素数1~12の鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基が挙げられる。
 炭素数3~8の環状アルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
 炭素数6~14のアリール基としては、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニル基が挙げられる。
 炭素数6~14のアリール基は置換されていてもよく、その置換基としては炭素数1~12の鎖状アルキル基またはハロゲンが挙げられる。炭素数1~12の鎖状アルキル基もしくはハロゲンで置換された、炭素数6~14のアリール基としては、例えば、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、キシリル基、o-エチルフェニル基、m-エチルフェニル基、p-エチルフェニル基、o-t-ブチルフェニル基、m-t-ブチルフェニル基、p-t-ブチルフェニル基、o-クロロフェニル基、o-ブロモフェニル基が挙げられる。
 取り扱い性が良好な点において、Rはメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、およびp-トリル基から選択されることが好ましい。
 さらに、成分(A)は、各々Rが異なる複数種の式(1)または(1a)に示す化合物の混合物であってもよい。
 式(1)および(1a)のXにおける炭素数1~8の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、好ましくは、アリール基である。
 式(1)または(1a)で示される多官能ベンゾオキサジン化合物としては、下記式(1X)で表される化合物、および該化合物が少量重合したオリゴマーを例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
 成分(A)の他の選択肢である式(2)の多官能ベンゾオキサジン化合物は、二つのベンゾオキサジン環の窒素原子(N原子)同士が連結基Lを介して結合している化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
[式(2)中、Lは芳香環を1~5個有する2価の有機基または炭素数2~10のアルキレン基であって、該有機基およびアルキレン基は酸素および/または硫黄を含んでいてもよい。]
 本発明の組成物は、式(2)で示されLが異なる複数種の多官能ベンゾオキサジン化合物を成分(A)として含有していてもよい。
 式(2)のLが芳香環を有する基である場合、芳香環の数は1~5個であり、例えば、単環化合物、多環化合物、および縮合環化合物が挙げられる。また、L中に酸素および硫黄からなる群から選択される少なくとも一つを含んでいてもよい。
 具体例として、下記式(2a)に示す基を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(2)のLがアルキレン基である場合、その炭素数は1~10が挙げられ、好ましくは1~6である。上記アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、イソプロピリデン基等が挙げられ、好ましくは、メチレン基である。
 式(2)の多官能ベンゾオキサジン化合物としては、下記式(2X)で表される化合物、および該化合物が重合したオリゴマー、例えば、少量重合したオリゴマー、を例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 成分(A)の多官能ベンゾオキサジン化合物としては、好ましくは、ビスフェノールF-アニリン(F-a)型ベンゾオキサジン、フェノール-ジアミノジフェニルメタン(P-d)型ベンゾオキサジン、3-[4-[4-(2,4-ジヒドロ-1,3-ベンゾオキサジン-3-イル)フェノキシ]フェニル]-2,4-ジヒドロ-1,3-ベンゾオキサジン(3-[4-[4-(2,4-dihydro-1,3-benzoxazin-3-yl)phenoxy]phenyl]-2,4-dihydro-1,3-benzoxazine)、3-[3-[4-(2H-1,3-ベンゾオキサジン-3(4H)-イル)フェノキシ]フェニル]-3,4-ジヒドロ-2H-1,3-ベンゾオキサジン(3-[3-[4-(2H-1,3-benzoxazin-3(4H)-yl)phenoxy]phenyl]-3,4-dihydro-2H-1,3-Benzoxazine)(以下、3,4'-APE-BOZともいう)であり、より好ましくは、フェノール-ジアミノジフェニルメタン(P-d)型ベンゾオキサジン、3,4'-APE-BOZである。ここで、3,4'-APE-BOZは特開2018-184533号公報の合成例1の記載に基づいて製造できる。
 成分(A)の多官能ベンゾオキサジン化合物としては市販品を使用することもできる。市販品としては、ビスフェノールF-アニリン(F-a)型ベンゾオキサジン、フェノール-ジアミノジフェニルメタン(P-d)型ベンゾオキサジン(いずれも四国化成株式会社製)等を例示できる。
 成分(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン当量は、反応性良化の観点から、好ましくは135g/eq以上600g/eq以下であり、より好ましくは140g/eq以上400g/eq以下である。ここで、成分(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン当量とは、成分(A)ベンゾオキサジン化合物におけるベンゾオキサジン環を1官能とした場合の当量をいう。
 成分(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数(mol)は、成分(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン当量から算出される。なお、本発明の組成物が成分(A)として複数種のベンゾオキサジン化合物を含有する場合、上記ベンゾオキサジン環数はこれら化合物のベンゾオキサジン当量から計算した環数の合計とする。
(成分(B))
 硬化樹脂用組成物を構成する成分(B)は、エポキシ化合物である。かかるエポキシ化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されず、脂環式エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、およびシクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物等が挙げられるが、好ましくは、脂環式エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物である。
 本発明の好ましい実施態様によれば、硬化樹脂用組成物は、成分(B)として複数種のエポキシ化合物の混合物を含有する。上記エポキシ化合物の混合物としては、脂環式エポキシ化合物を含んでなることが好ましい。上記エポキシ化合物の混合物としては、例えば、脂環式エポキシ化合物と脂環式エポキシ化合物以外のエポキシ化合物との組み合わせが挙げられる。上記脂環式エポキシ化合物以外のエポキシ化合物としては、好ましくは、ビフェニル型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、およびシクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物から選択される少なくとも1つのエポキシ化合物とされ、より好ましくは、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物またはそれらの組み合わせとされる。
 成分(B)エポキシ化合物のエポキシ当量は、反応性良化の観点から、好ましくは50g/eq以上400g/eq以下であり、より好ましくは80g/eq以上300g/eq以下である。
 成分(B)のエポキシ化合物のエポキシ基数(mol)は、エポキシ当量から算出される。なお、本発明の組成物が成分(B)として複数種のエポキシ化合物を含有する場合、上記エポキシ基数はこれら化合物のエポキシ基数の合計とする。
(脂環式エポキシ化合物)
 脂環式エポキシ化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、分子中に脂環式炭化水素構造およびエポキシ基をそれぞれ一つ以上有するエポキシ化合物が挙げられ、好ましくは、脂環式炭化水素構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物が挙げられ、より好ましくは、ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物はグリシジル基を有さないことが好ましい。
(ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物)
 ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物としては、下記式(4)に示す、五員環、六員環またはノルボルナン環に結合したエポキシ構造を有することが好ましい。これらを1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 本発明の好ましい実施態様によれば、ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物はグリシジル基を有さない。
 具体的な脂環式エポキシ化合物としては、下記式(5)で表される化合物を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 成分(B)の脂環式エポキシ化合物の製造例を説明する。
 下記式(5-1)の化合物(エポキシ当量:109g/eq)は、例えば、ブタジエンとジシクロペンタジエンとのディールズアルダー反応により、下記ノルボルナン構造を有する化合物(a)を合成し、次に、下記式(6)に示すように化合物(a)とメタクロロ過安息香酸とを反応させることによって製造できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 下記式(5-2)の化合物(エポキシ当量:115g/eq)は、例えば、シクロペンタジエンとジシクロペンタジエンとのディールズアルダー反応により、下記ノルボルナン構造を有する化合物(b)(トリシクロペンタジエン)を合成し、次に、下記式(7)に示すように化合物(b)とメタクロロ過安息香酸とを反応させることによって製造できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 下記式(5-3)の化合物(エポキシ当量:109g/eq)は、例えば、ブタジエンとシクロペンタジエンとのディールズアルダー反応により、下記ノルボルナン構造を有する化合物(c)を合成し、次に、下記式(8)に示すように化合物(c)とメタクロロ過安息香酸とを反応させることによって製造できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 下記式(5-4)の化合物(エポキシ当量:82.1g/eq)は、例えば、ジシクロペンタジエンとペルオキシ一硫酸カリウム(オキソン)とを反応させることによって製造できる。式(5-4)の化合物であるジシクロペンタジエンジエポキシドは、市販品であってもよく、市販品としてはSHANDONG QIHUAN BIOCHEMICAL CO., LTD.製のジシクロペンタジエンジエポキシドを例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
(トリスフェノールメタン型エポキシ化合物)
 トリスフェノールメタン型エポキシ化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、下記式(9)の構造で示されるエポキシ化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
[式(9)中、Rは置換基であり、それぞれ独立して、炭素数1~6のアルキル基、アリル基、またはフェニル基を示す。mは置換基Rの数であり、0~3の整数をそれぞれ表す。nは平均値であり、0≦n≦10である。]
 式(9)のmは、好ましくは0~2であり、より好ましくは0である。式(9)のnは、好ましくは0以上5以下である。式(9)の置換基Rにおける炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、およびシクロヘキシル基などが挙げられる。置換基Rとしては、メチル基が好ましい。さらに、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物は、各々R、m、nが異なる式(9)に示す化合物の混合物であってもよい。
 トリスフェノールメタン型エポキシ化合物としては市販品を使用することもできる。市販品としては、EPPN-501H(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量162~172g/eq、軟化点51~57℃)、EPPN-501HY(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量163~175g/eq、軟化点57~63℃)、EPPN-502H(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量158~178g/eq、軟化点60~72℃)、EPPN-503(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量170~190g/eq、軟化点80~100℃)等を例示できる。これらを1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
(ナフタレン型エポキシ化合物)
 ナフタレン型エポキシ化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、ナフトール型エポキシ化合物、ナフチレンエーテル型エポキシ化合物、ビナフタレン型エポキシ化合物等が挙げられ、好ましくは、ナフトール型エポキシ化合物等である。
(ナフトール型エポキシ化合物)
 ナフトール型エポキシ化合物としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、下記式(10)の構造で示されるエポキシ化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
(上記式(10)において、AおよびBは、それぞれ独立に、置換もしくは非置換のベンゼン、または置換もしくは非置換のナフタレンを表す。nは繰返し単位を表し、1以上、10以下の整数である。)
 非置換のベンゼンまたはナフタレンとは、ベンゼンまたはナフタレンのみからなるものであり、置換のベンゼンまたはナフタレンとは、ベンゼンまたはナフタレン環の芳香族炭化水素基が置換基を有するものである。芳香族炭化水素基が置換基を有するとは、芳香族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基により置換されたことをいう。置換基としては、例えば、グリシジルエーテル基を含む有機基やアルキル基が挙げられる。
 置換基としてのアルキル基としては、鎖状のアルキル基であることが好ましい。また、その炭素数は1以上、10以下であることが好ましく、1以上、6以下であることがより好ましく、1以上、4以下であることが特に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基等が挙げられる。
 上記式(10)により示されるナフトール型エポキシ化合物の好ましい具体例としては、例えば、下記式(10-1)~(10-4)により示されるナフトール型エポキシ化合物が挙げられる。これらを1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 上記式(10-1)~(10-4)において、nは、例えば0以上、10以下の整数であり、好ましくは、0以上、6以下の整数であり、より好ましくは、0以上、4以下の整数であり、さらに好ましくは、0以上、3以下の整数である。
 ナフトール型エポキシ化合物としては市販品を使用することもできる。ナフトール型エポキシ化合物の市販品としては、NC-7000L(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量223~238g/eq)、NC-7300L(商品名、日本化薬株式会社製、エポキシ当量207~221g/eq)、ESN-475V(商品名、新日鉄住金化学株式会社製、エポキシ当量332g/eq)、ESN-375(商品名、新日鉄住金化学株式会社製、エポキシ当量170g/eq)等を用いることができる。これらを1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
 成分(A)ベンゾオキサジン化合物と成分(B)エポキシ化合物との配合割合は、成分(A)100質量部に対して、成分(B)が10~300質量部が好ましく、30~200質量部がより好ましい。成分(A)と(B)との配合割合が上記範囲内にあると、より優れた耐熱性を得ることができる。
 ここで、本発明の組成物が成分(A)として複数種のベンゾオキサジン化合物を含有する場合、これら化合物の配合量の合計を100質量部とみなす。本発明の組成物が成分(B)として複数種のエポキシ化合物を含有する場合、上記成分(B)の配合量は複数種の化合物の配合量の合計を意味する。
 成分(B)脂環式エポキシ化合物の含有率は、成分(A)ベンゾオキサジン化合物と成分(B)エポキシ化合物と成分(C)フェノール系硬化剤との合計100質量部に対して、3~12質量部(すなわち、3~12質量%)が好ましく、3~10質量部(すなわち、3~10質量%)がより好ましく、4~10質量部(すなわち、4~10質量%)がさらに好ましい。成分(B)脂環式エポキシ化合物の配合割合が上記範囲内にあると、より優れた耐熱性やより優れた重量減少率を示すことができる。
 ここで、本発明の組成物が成分(A)として複数種のベンゾオキサジン化合物を含有する場合、上記成分(A)の配合量は複数種の化合物の配合量の合計を意味する。また、成分(B)として複数種のエポキシ化合物を含有する場合は、上記と同様である。本発明の組成物が成分(B)として複数種の脂環式エポキシ化合物を含有する場合、上記成分(B)の脂環式エポキシ化合物の含有率は複数種の脂環式エポキシ化合物の含有率の合計を意味する。
 成分(B)エポキシ化合物における脂環式エポキシ化合物の含有率は、成分(B)エポキシ化合物100質量部に対して、5~45質量部が好ましく、10~40質量部がより好ましく、15~35質量部がさらに好ましい。成分(B)の配合割合が上記範囲内にあると、より優れた低溶融粘度性、および、より優れた重量減少率を示すことができる。
 ここで、本発明の組成物が成分(A)として複数種のベンゾオキサジン化合物を含有する場合および/または成分(B)として複数種の脂環式エポキシ化合物やエポキシ化合物を含有する場合、それら配合量は上記と同様である。
(成分C)
 硬化樹脂用組成物を構成する成分(C)はフェノール系硬化剤である。成分(C)としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、例えば、単官能フェノール、多官能フェノール化合物(例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールスルフィド(例えば、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド等)、ポリフェノール化合物(例えば、ピロガロール等)等)、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂(例えば、ビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂、フェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂)等が挙げられ、好ましくは、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹脂である。これらは、単独で使用してもよく、2種類以上の混合物として使用してもよい。
 成分(C)のフェノール系硬化剤としては市販品を使用することもできる。例えば、ビスフェノールF(本州化学工業株式会社製、水酸基当量100g/eq)、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド(TDP、東京化成工業株式会社製、水酸基当量109g/eq)、2,7-ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業株式会社製、水酸基当量80g/eq)、ピロガロール(東京化成工業株式会社製、水酸基当量42g/eq)、フェノールノボラック樹脂(例えば、フェノライトTD-2131、DIC株式会社、水酸基当量104g/eq;フェノライトTD-2106、DIC株式会社、水酸基当量104g/eq;フェノライトTD-2090、DIC株式会社、水酸基当量105g/eq)、フェノールアラルキル樹脂(例えば、MEHC-7851SS、水酸基当量203g/eq、明和化成株式会社製;MEH-7800-4S、水酸基当量169g/eq、明和化成株式会社製)等が挙げられる。これらを1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
 成分(C)の配合割合としては、成分(A)および(B)の合計100質量部に対して、成分(C)を5~30質量部の範囲とすることが好ましく、10~20質量部がより好ましい。成分(C)をこの範囲で含有することにより、より優れた高耐熱性の硬化物を得ることができる。
 なお、本発明の組成物が成分(A)として複数種のベンゾオキサジン化合物を含有する場合および/または成分(B)として複数種のエポキシ化合物を含有する場合、それら配合量は上記と同様である。
 成分(C)フェノール系硬化剤の水酸基当量は、反応性良化の観点から、好ましくは80g/eq以上400g/eq以下であり、より好ましくは90g/eq以上250g/eq以下である。
 成分(C)のフェノール系硬化剤の水酸基数(mol)は、水酸基当量から算出される。なお、本発明の組成物が成分(C)として複数種のフェノール系硬化剤を含有する場合、上記水酸基数はこれら硬化剤の水酸基数の合計とする。
 本発明において、硬化樹脂用組成物中の成分(B)エポキシ化合物のエポキシ基数、成分(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数、および成分(C)フェノール系硬化剤の水酸基数の官能基数の比が下記数式(2)を満たすことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000027
 上記数式(2)における官能基数の比は、より好ましくは0.9~4であり、さらに好ましくは1~3.5であり、さらに好ましくは2.5~3である。数式(2)の各成分の官能基数の比が当該範囲内にあると、より優れた低溶融粘度性を有する硬化樹脂用組成物、および、より低い成形収縮率およびより低い線膨張率を有し、より優れた耐熱性を有する硬化物を得ることができる。
(成分D)
 本発明の硬化樹脂用組成物は、所望により(D)シランカップリング剤をさらに含有してもよい。成分(D)シランカップリング剤としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に限定されないが、例えば、反応基として、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリル基、アクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン基、トリアジンチオール基等の反応性官能基またはその組み合わせを有するシランカップリング剤が挙げられ、好ましくはアミノ基を有するシランカップリング剤、より好ましくは第1級アミノ基、第2級アミノ基、またはそれらの組み合わせを有するシランカップリング剤、さらに好ましくは1分子中に第1級アミノ基と第2級アミノ基とをそれぞれ少なくとも1つ有するシランカップリング剤である。(D)シランカップリング剤としては、具体的には、例えば、ビニルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ、好ましくは、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシランである。これらのシランカップリング剤については、単独で用いてもよく、また、2種以上を混合して用いてもよい。
 成分(D)の配合割合としては、成分(A)、(B)および(C)の合計100質量部に対して、成分(D)を0.01質量部~10質量部の範囲とすることが好ましく、0.1質量部~5質量部の範囲とすることがより好ましい。成分(D)をこの範囲で含有することにより、より優れた機械強度を有する硬化樹脂用組成物とすることができる。
(成分E)
 本発明の硬化樹脂用組成物は、所望により(E)硬化促進剤をさらに含有してもよい。成分(E)硬化促進剤としては、公知の硬化促進剤を使用することができ、トリブチルアミン、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7等のアミン系化合物、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、トリフェニルホスフィン等の共有結合のみでリンが結合している有機リン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ビス(テトラブチルホスホニウム)(BTBP)-ピロメリット酸、テトラブチルホスホニウム2,6-ビス[(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノラート(TBP-3PC)等の共有結合およびイオン結合でリンが結合している塩タイプの有機リン化合物等の有機リン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記した硬化促進剤は単独で使用してもよく、2種以上を併用して使用してもよい。これらのうち、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム2,6-ビス[(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノラート等の有機リン化合物が、硬化速度向上の効果が大きく、好ましい。
 上記有機リン化合物は、特開昭55-157594号公報に記載されているように、エポキシ基とフェノール性水酸基との架橋反応を促進する機能を発揮するものが好ましい。さらに、上記有機リン化合物は、(A)ベンゾオキサジン化合物が高温で開裂反応した際に発生する水酸基とエポキシ基との反応を促進する機能も発揮することが好ましい。
 成分(E)の配合割合としては、成分(A)、(B)および(C)の合計100質量部に対して、成分(E)を0.01質量部以上、10質量部以下の範囲とすることが好ましく、0.1質量部以上、5質量部以下の範囲とすることがより好ましい。成分(E)をこの範囲で含有することにより、より優れた速硬化性を有する硬化樹脂用組成物とすることができる。
(成分F)
 本発明の硬化樹脂用組成物は、所望により(F)無機充填剤をさらに含有してもよい。例えば、半導体素子等の封止材用途に本発明の硬化樹脂用組成物を使用する場合は、成分(F)を含有することが好ましい。本発明で用いる無機充填剤は特に限定されず、硬化樹脂用組成物あるいはその硬化物の用途あるいは付与したい性状を考慮して選択することができる。以下、この無機充填剤を成分(F)と称する。
 成分(F)の例としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、三酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化鉄等の酸化物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、炭酸ストロンチウム等の炭酸塩;硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム等の硫酸塩;窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素、窒化マンガン等の窒化物;ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ素化合物;ホウ酸アルミニウム等のホウ素化合物;ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム等のジルコニウム化合物;リン酸ジルコニウム、リン酸マグネシウム等のリン化合物;チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム等のチタン化合物;マイカ、タルク、カオリン、カオリンクレー、カオリナイト、ハロイサイト、コーディエライト、パイロフィライト、モンモリロナイト、セリサイト、アメサイト、ベントナイト、アスベスト、ウォラストナイト、セピオライト、ゾノトライト、ゼオライト、ハイドロタルサイト、水和石膏、ミョウバン、ケイ藻土、ベーマイト等の鉱物類;フライアッシュ、脱水汚泥、ガラスビーズ、ガラスファイバー、ケイ砂、マグネシウムオキシサルフェイト、シリコン酸化物、シリコンカーバイド等;銅、鉄、コバルト、ニッケル等の金属あるいはそのいずれかを含む合金;センダスト、アルニコ磁石、フェライト等の磁性材料;黒鉛、コークス等が挙げられる。成分(F)は、好ましくはシリカまたはアルミナである。シリカの例としては、溶融シリカ、球状シリカ、結晶シリカ、無定形シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が挙げられ、好ましくは、溶融球状シリカ等の球状シリカ、結晶シリカである。成分(F)は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 成分(F)は粒状であってもよく、その場合の平均粒径は、特に限定されないが、例えば、0.01μm以上、150μm以下が挙げられ、好ましくは、0.1μm以上、120μm以下、より好ましくは、0.5μm以上、75μm以下である。この範囲であれば、例えば、本発明の組成物を半導体素子の封止材用途に使用する場合、金型キャビティへの充填性がより良好となる。成分(F)の平均粒径はレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折式粒度分布測定装置により、無機充填剤の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、無機充填剤を超音波により水中に分散させたものを好ましく使用することができる。レーザー回折式粒度分布測定装置としては、(株)堀場製作所製「LA-500」、「LA-750」、「LA-950」、「LA-960」等を使用することができる。
 成分(F)の配合割合としては、硬化樹脂用組成物の高耐熱性の硬化物が得られる限り、特に限定されず、用途に応じて適宜設定できる。例えば、組成物を半導体封止用途に使用する場合は以下に示す配合割合が好ましい。
 成分(F)の配合割合の下限値は、硬化樹脂用組成物100質量部に対して、例えば80質量部以上(すなわち、80質量%以上)が挙げられ、81質量部以上が好ましく、85質量部以上がより好ましい。また、成分(F)の配合割合の上限値は、硬化樹脂用組成物100質量部に対して、例えば、99質量部以下が挙げられ、95質量部以下が好ましく、90質量部以下がより好ましい。成分(F)の配合割合の下限値が80質量部以上であれば、硬化樹脂用組成物の硬化に伴う吸湿量の増加や強度の低下をより抑制でき、したがってより良好な耐半田クラック性を有する硬化物を得ることができる。また、成分(F)の配合割合の上限値が95質量部以下であれば、硬化樹脂用組成物の流動性がより良くなり、金型への充填がしやすく、硬化物がより良好な封止性能を発揮する。
(その他の成分)
 本発明の組成物は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、成分(A)以外のベンゾオキサジン化合物を含有していてもよい。例えば、組成物の粘度を低下させたい場合、ベンゾオキサジン環が1つである単官能ベンゾオキサジン化合物を組成物に添加してもよい。
 また、本発明の硬化樹脂用組成物には、その性能を損なわない範囲で、例えば、ナノカーボンや難燃剤、離型剤、着色剤、低応力添加剤、金属水酸化物等を配合することができる。
 ナノカーボンとしては、例えば、カーボンナノチューブ、フラーレンまたはそれぞれの誘導体が挙げられる。
 難燃剤としては、例えば、赤燐、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、レゾルシノールビスフェニルホスフェート、ビスフェノールAビスジフェニルホスフェート等のリン酸エステルや、ホウ酸エステル、フォスファゼン等が挙げられる。
 離型剤としては、例えば、ステアリン酸エステル、カルナバワックス等の天然ワックス、酸化ポリエチレンワックス等の合成ワックス、ステアリン酸等の高級脂肪酸またはそのエステル、ステアリン酸亜鉛等の金属塩類、パラフィン、およびシリコーンオイル等が挙げられる。
 着色剤としては、カーボンブラック、ベンガラ、および酸化チタン等が挙げられる。
 低応力添加剤としては、シリコーンオイル、およびシリコーンゴム等が挙げられる。
 金属水酸化物としては、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、および水酸化マグネシウム等の水酸化物が挙げられる。
 その他の成分の配合割合としては、成分(A)、(B)および(C)の合計100質量部に対して、その他の成分を0.01質量部以上、10質量部以下の範囲とすることが好ましく、0.1質量部以上、7質量部以下の範囲とすることがより好ましい。
(硬化樹脂用組成物の特性)
 本発明の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率は、例えば、1.5質量%以下が挙げられ、好ましくは1.3質量%以下、より好ましくは1.2質量%以下、さらに好ましくは1.0質量%以下とされる。下限は特に限定されないが、0.05質量%以上が好ましい。上記重量減少率は、熱重量示差熱分析装置により測定することができる。このような測定は、市販の熱重量示差熱分析装置(例えば株式会社日立ハイテクサイエンス製)を用いることにより、簡便に行うことができる。
 本発明の硬化樹脂用組成物の100℃における粘度は、硬化樹脂用組成物の流動性やハンドリングの観点から、例えば、2.0Pa・s以下が挙げられ、好ましくは1.9Pa・s以下、より好ましくは1.8Pa・s以下、さらに好ましくは1.4Pa・s以下とされる(低溶融粘度性ともいう)。下限は特に限定されないが、0.1Pa・s以上が好ましい。また、無機充填剤および/または硬化促進剤を含まない硬化樹脂用組成物の粘度を測定することにより、無機充填剤を含有する硬化樹脂用組成物において、流動性を悪化させない範囲の無機充填剤の量を予想することができる。上記粘度は、コーンプレート粘度計により測定することができる。このような測定は、市販のコーンプレート粘度計(例えばブルックフィールド社製)を用いることにより、簡便に行うことができる。
[硬化樹脂用組成物の製造方法]
 次に、本発明の硬化樹脂用組成物の製造方法について説明する。
 成分(A)~(C)、さらに、所望により成分(D)、(E)、(F)、その他の成分、および溶剤を適宜追加して混練または混合することにより、本発明の硬化樹脂用組成物を製造することができる。
 混練または混合方法は、特に限定されず、例えば、プラネタリーミキサー、2軸押出機、熱ロールまたはニーダー等の混合装置または混練機等を用いて混合することができる。また、成分(A)、(B)、(C)が室温で高粘度の液状または固体状である場合、または成分(F)を含有する場合等には、必要に応じて加熱して混練したり、さらに、加圧または減圧条件下で混練したりしても良い。加熱温度としては80~120℃が好ましい。 成分(F)を含む硬化樹脂用組成物は室温下では固体状であるので、加熱混練後、冷却、粉砕して粉体状としてもよく、該粉体を打錠成形してペレット状にしてもよい。また、粉体を造粒して顆粒状にしてもよい。
 本発明の硬化樹脂用組成物が成分(F)を含有せず、FRP用プリプレグ用途等に使用する場合、硬化樹脂用組成物は50℃において、10~3000Pa・sの粘度を有することが好ましい。より好ましくは10~2500Pa・s、さらに好ましくは100~2000Pa・sである。封止材、塗布用途に使用する場合は、封止、塗布等の作業に支障がない限り粘度は特に限定されない。
[硬化物]
 本発明の硬化樹脂用組成物の硬化物は、ガラス転移温度が高く、耐熱性に優れるという特徴を有している。本発明の硬化樹脂用組成物がこのような優れた硬化物を形成する理由としては、次のようなことが考えられる。
 まず、ベンゾオキサジンの単独重合では、重合によりフェノール性の水酸基が生成する。このフェノール性の水酸基は、高温、例えば200℃以上にて、ケトエノ-ル互変異性体を経由し、それによって高分子鎖が切断されるため、耐熱性が低く、ガラス転移温度も低くなると考えられている。
 それに対し、本発明の硬化樹脂用組成物は、(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数と、前記(B)エポキシ化合物のエポキシ基数と、前記(C)フェノール系硬化剤の水酸基数とが、上記数式(1)を満たすことで、ベンゾオキサジンの単独重合によって生成するフェノール性水酸基とエポキシ化合物が速やかに反応し、密な架橋構造を形成するため、耐熱性に優れるものになると考えられる。
(硬化物の特性)
 本発明の硬化物の耐熱性は、ガラス転移温度を測定することにより評価できる。ガラス転移温度は、例えば、185℃以上が挙げられ、好ましくは190℃以上、より好ましくは200℃以上とされる。上限は特に限定されないが、400℃以下が好ましい。ガラス転移温度は、示差走査熱量測定(DSC)により測定することができる。このような測定は、市販の示差走査熱量分析装置(例えば株式会社日立ハイテクサイエンス製)を用いることにより、簡便に行うことができる。
 本発明の硬化物の線膨張率は、例えば、13.5ppm/℃以下が挙げられ、好ましくは13.0ppm/℃以下、より好ましくは12.5ppm/℃以下とされる。下限は特に限定されないが、0.1ppm/℃以上が好ましい。線膨張率は、JIS K7197 プラスチックの熱機械分析による線膨張率試験方法に準じて測定することができる。このような測定は、市販の熱機械的分析装置(例えば日立ハイテクサイエンス(株)製、商品名:TMA7100)を用いることにより、JIS K7197 プラスチックの熱機械分析による線膨張率試験方法に準拠し、簡便に行うことができる。
 本発明の硬化物の成形収縮率は、例えば、0.50%以下が挙げられ、好ましくは0.45%以下とされる。下限は特に限定されないが、0.01%以上が好ましい。ここで、硬化物は成形後一晩恒温室(温度23℃、湿度50%)で静置後に長さ方向の寸法をノギスで測定し、以下の計算式から成形収縮率を算出できる。
 成形収縮率[%]=(金型寸法-試験片寸法)/金型寸法×100
[硬化物の製造方法]
 本発明の硬化物は、公知のベンゾオキサジン化合物および/またはエポキシ化合物と同様の硬化条件にて、開環重合を行い硬化することにより製造することができる。例えば、以下の方法を挙げることができる。
 まず、本発明の硬化樹脂用組成物を上記方法によって製造する。続いて、得られた硬化樹脂用組成物を、例えば150~300℃にて、硬化時間として例えば20秒間~5時間、好ましくは20秒間~1時間加熱することで、硬化物を得ることができる。硬化物を連続生産する場合には、硬化時間は1~3分間で十分であるが、より高い強度を得るために後硬化としてさらに5分間~6時間程度加熱することが好ましい。
 また、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、成分(A)以外のベンゾオキサジン化合物および/または成分(B)以外のエポキシ化合物を配合して硬化物を得ることもできる。
 硬化物としてフィルム状成形物を得る場合には、さらに溶剤を配合して、薄膜形成に好適な溶液粘度を有する組成物とすることもできる。成分(A)~(E)を溶解できる溶剤であれば特に限定されず、例えば、炭化水素類、エーテル類、エステル類、含ハロゲン類等が挙げられる。
 このように、溶媒に溶解した溶液状の硬化樹脂用組成物の場合は、該溶液状の硬化樹脂用組成物を基材等に塗布後、溶媒を揮発させたのち、熱硬化を行うことで硬化物を得ることができる。
[半導体装置]
 本発明の半導体装置は、成分(A)~(C)、所望により(D)、(E)、(F)、その他の成分を含有する本発明の硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物中に半導体素子が設置されている半導体装置である。ここで、通常、半導体素子は金属素材の薄板であるリードフレームにより支持固定されている。「硬化物中に半導体素子が設置されている」とは、半導体素子が上記硬化樹脂用組成物の硬化物で封止されていることを意味し、半導体素子が該硬化物で被覆されている状態を表す。この場合、半導体素子全体が被覆されていてもよく、基板上に設置された半導体素子の表面が被覆されていてもよい。
 本発明の硬化物を用いて、半導体素子等の各種の電子部品を封止し、半導体装置を製造する場合は、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、あるいはインジェクションモールド等の従来からの成形方法により封止工程を実施することによって、半導体装置を製造することができる。
 以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<成分(A):多官能ベンゾオキサジン化合物>
 成分(A)として下記(A1)および(A2)を使用した。
(A1):下記式に示すフェノール-ジアミノジフェニルメタン(P-d)型ベンゾオキサジン(四国化成株式会社製)(ベンゾオキサジン当量(g/eq):217)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
(A2):下記式(1-1-1)に示すベンゾオキサジン(3-[3-[4-(2H-1,3-ベンゾオキサジン-3(4H)-イル)フェノキシ]フェニル]-3,4-ジヒドロ-2H-1,3-ベンゾオキサジン)(3,4'-APE-BOZ)(ベンゾオキサジン当量(g/eq):218、本州化学工業株式会社、開発品)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
<成分(B):エポキシ化合物>
 成分(B)として下記(B1)~(B5)を使用した。
(B1)エポキシ化合物1:式(5-1)の化合物
 上記式(6)に示す化合物(a)を、『土田詔一ら、「ブタジエンとシクロペンタジエンとのDiels-Alder反応-三量体の決定-」、石油学会誌、1972年、第15巻、3号、p189-192』に記載の方法に準拠して合成した。
 次に、上記式(6)の反応を次のようにして行った。反応容器に、クロロホルム23.5kgおよび化合物(a)1.6kgを投入し、0℃で攪拌しながらメタクロロ過安息香酸4.5kgを滴下した。室温まで昇温し、12時間反応を行った。
 次に、ろ過により副生したメタクロロ安息香酸を除去した後、ろ液を1N水酸化ナトリウム水溶液で3回洗浄後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過により硫酸マグネシウムを除去してろ液を濃縮し、粗体を得た。
 粗体にトルエン2kgを加え、室温で溶解した。これにヘプタン6kgを滴下して晶析し、5℃で1時間熟成した。晶析物をろ取してヘキサンにより洗浄した。35℃下、24時間減圧乾燥することによって、下記式(5-1)に示す化合物を白色固体として1.4kg得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
(B2)エポキシ化合物2:式(5-2)の化合物(トリシクロペンタジエンジエポキシド)
 上記式(7)に示す化合物(b)を、『土田詔一ら、「ブタジエンとシクロペンタジエンとのDiels-Alder反応-三量体の決定-」、石油学会誌、1972年、第15巻、3号、p189-192』に記載の方法に準拠して合成した。
 次に、上記式(7)の反応を次のようにして行った。反応容器に、クロロホルム59.2kgおよび化合物(b)4.0kgを投入し、-10℃で攪拌しながらメタクロロ過安息香酸10.6kgを滴下した。室温まで昇温し、12時間反応を行った。
 次に、ろ過により副生したメタクロロ安息香酸を除去した後、ろ液を5%亜硫酸ナトリウム水溶液42.0kgで洗浄した。有機層を更に1N水酸化ナトリウム水溶液41.6kgで4回洗浄後、飽和食塩水48.0kgで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過により硫酸マグネシウムを除去してろ液を濃縮し、粗体5.1kgを得た。
 粗体にトルエン3.5kgを加え、室温で溶解した。これにヘプタン13.7kgを滴下して晶析し、5℃で1時間熟成した。晶析物をろ取してヘプタンにより洗浄した。35℃で12時間減圧乾燥することによって、下記式(5-2)に示す化合物を白色固体として2.8kg得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
(B3)エポキシ化合物3:下記式(9-1)に示すエポキシ化合物(EPPN-501H、エポキシ当量(g/eq):162~172、日本化薬株式会社製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
(式(9-1)中、nは平均値であり、1.3である。)
(B4)エポキシ化合物4:下記式(9-2)に示すエポキシ化合物(EPPN-502H、エポキシ当量(g/eq):158~178、日本化薬株式会社製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
(式(9-2)中、nは平均値であり、1.8である。)
(B5)エポキシ化合物5:ナフトール型エポキシ化合物(NC-7300L、エポキシ当量(g/eq):207~221、日本化薬株式会社製)
<成分(C):フェノール系硬化剤>
 成分(C)として下記(C1)および(C2)を使用した。
(C1)フェノール系硬化剤1:ビスフェノールF(ビスフェノールF、水酸基当量100.115、本州化学工業株式会社製)
(C2)フェノール系硬化剤2:フェノールノボラック樹脂(TD-2131、水酸基当量104、DIC株式会社製)
<成分(D):シランカップリング剤>
 成分(D)として下記(D1)および(D2)を使用した。
(D1)シランカップリング剤1:N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM-603、信越シリコーン株式会社製)
(D2)シランカップリング剤2:3-アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM-903、信越シリコーン株式会社製)
<成分(E):硬化促進剤>
 成分(E)として、テトラブチルホスホニウム2,6-ビス[(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノラート(TBP-3PC、北興化学工業株式会社製)を使用した。
<成分(F):無機充填剤>
 成分(F)として、平均粒径D50が22μmの溶融球状シリカ(FB-820、デンカ株式会社製)を使用した。
<その他の成分>
 離型剤としてカルナバワックス(WE-4、クラリアントケミカルズ株式会社製)、着色剤としてカーボンブラック(MA600、三菱化学株式会社製)を使用した。
(実施例1)
 硬化樹脂用組成物(以後、単に「組成物」と称する)および硬化物を以下のようにして調製し、重量減少率、成形収縮率、ガラス転移温度、線膨張率、および粘度を測定した。
 成分(A)ベンゾオキサジン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)フェノール系硬化剤、(D)シランカップリング剤、(E)硬化促進剤、(F)無機充填剤、離型剤(カルナバワックス)、およびカーボンブラックを、表1に示す配合割合で 、表面温度が90℃と100℃の2本ロールを有する熱ロール混練機(型式「BR-150HCV」、アイメックス社製)を用いて大気圧下で10分間混練した後、室温まで冷却して混合物を得た。得られた混合物をミニスピードミル(型式「MS-09」、ラボネクト社製)により、金型への充填が良好に行えるように粉末状に粉砕して組成物を得た。
<重量減少率>
 得られた組成物粉末をアルミニウム製試料用パンに10mg程度はかりとり熱重量示差熱分析装置(型式「STA7200RV」、日立ハイテクサイエンス社製)を用いて昇温速度10℃/毎分の条件で40℃から175℃に昇温し、175℃に到達後1時間保持し、重量減少率を測定した。結果を表1に示した。
<成形収縮率>
 トランスファー成形機(型式「ADM-5」、メイホー社製」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力4MPa、硬化時間3分の条件で、上記で調製した組成物を硬化させ、縦3mm×横10mm×長さ70mmの試験片を作製した。試験片は成形後一晩恒温室(温度23℃、湿度50%)で静置後に長さ方向の寸法をノギスで測定し、以下の計算式から成形収縮率を算出した。
 成形収縮率[%]=(金型寸法-試験片寸法)/金型寸法×100
<ガラス転移温度(Tg)>
 上記トランスファー成形で得られた試験片に、後処理として、さらにオーブンで175℃、5時間加熱し硬化物を得た。得られた硬化物を縦3mm×横2mm×長さ2mmの大きさに切断して得られた試験片について示差走査熱量分析装置(型式「X-DSC-7000」、昇温速度20℃毎分、日立ハイテクサイエンス社製)を用いてガラス転移温度を測定した。結果を表1に示した。
<線膨張率(CTE)>
 上記トランスファー成形で得られた試験片に、後処理として、さらにオーブンで175℃、5時間加熱し硬化物を得た。得られた硬化物を縦3mm×横5mm×長さ10mmの大きさに切断して試験片を得た。得られた試験片について、熱機械分析装置(型式「TMA7100」、日立ハイテクサイエンス社製)を用いて、JIS K7197 プラスチックの熱機械分析による線膨張率試験方法に準拠し、圧縮荷重20mN、昇温速度5℃毎分で、25~150℃まで昇温し、そのときのSSカーブの傾きから線膨張率を求めた。結果を表1に示した。
<粘度>
 成分(A)ベンゾオキサジン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)フェノール系硬化剤を表1に示す割合でφ50mmのアルミパンに測り取り、110℃に加熱したホットプレート上で5分間溶融混合し配合物を得た。配合物の100℃における粘度をコーンプレート粘度計(型式「CAP2000+H」、コーン角度3°、回転数100rpm、ブルックフィールド社製)を用いて測定した。結果を表1に示した。
(実施例2~9)
 各成分の配合割合を表1に示した通りとした以外は実施例1と同様にして、各実施例の組成物を調製した。各々の組成物およびそれらの硬化物について実施例1と同様にして、重量減少率、成形収縮率、ガラス転移温度、線膨張率、および粘度を測定した。結果を表1に示す。
(比較例1~5)
 各成分の配合割合を表1に示した通りとした以外は実施例1と同様にして、各比較例の組成物を調製した。各々の組成物およびそれらの硬化物について実施例1と同様にして、重量減少率、成形収縮率、ガラス転移温度、線膨張率、および粘度を測定した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
 各実施例の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率は、1.0質量%以下であるため、該組成物の重量減少率は低い。各実施例の硬化樹脂用組成物の粘度は2.0Pa・s以下であるため、該組成物の粘度は低い。また、その硬化物のTgは185℃以上であり、高耐熱性であることが分かる。さらに、前記硬化物の線膨張率は13.5ppm/℃以下であるため、該組成物の線膨張率は低い。前記硬化物の成形収縮率0.45%以下であるため、該組成物の成形収縮率は低い。一方、比較例1の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率が高くなっている。また、比較例2の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率が高くなっており、また、その硬化物は、そのTgが低いため耐熱性に劣っており、その線膨張率および成形収縮率は高くなっている。比較例3の硬化樹脂用組成物を硬化させた硬化物も、そのTgが低いため耐熱性に劣っており、硬化樹脂用組成物の粘度が高くなっている。比較例4の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率が高くなっており、また、その硬化物の線膨張率および成形収縮率は高くなっており、その硬化物のTgは低くなっており、硬化樹脂用組成物の粘度も高くなっている。比較例5の硬化樹脂用組成物の加熱硬化時の重量減少率が高くなっており、また、その硬化物の成形収縮率は高くなっており、その硬化物のTgは低くなっている。
 以上の結果から、本発明の実施形態である硬化樹脂用組成物は加熱硬化時の重量減少率が低く、低溶融粘度性を有し、かつ、その硬化物は、高耐熱性であり、成形収縮率や線膨張率が低いことが分かる。

Claims (15)

  1.  (A)ベンゾオキサジン化合物と、
     (B)エポキシ化合物と、
     (C)フェノール系硬化剤と
    を含有し、
     前記(A)ベンゾオキサジン化合物のベンゾオキサジン環数と、前記(B)エポキシ化合物のエポキシ基数と、前記(C)フェノール系硬化剤の水酸基数とが、下記数式(1)を満たし、
     (B)エポキシ化合物が脂環式エポキシ化合物を含んでなり、かつ、
     前記(A)ベンゾオキサジン化合物と前記(B)エポキシ化合物と前記(C)フェノール系硬化剤との合計に対する、前記(B)脂環式エポキシ化合物の含有率が3~12質量%である、硬化樹脂用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
  2.  前記(A)ベンゾオキサジン化合物が、ベンゾオキサジン環を少なくとも二つ有する多官能ベンゾオキサジン化合物であって、式(1)の構造単位を有する多官能ベンゾオキサジン化合物、および式(2)の構造で示される多官能ベンゾオキサジン化合物から選択される少なくとも1種の多官能ベンゾオキサジン化合物である、請求項1に記載の硬化樹脂用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    [式(1)中、Rは炭素数1~12の鎖状アルキル基、炭素数3~8の環状アルキル基、または炭素数6~14のアリール基を示し、該アリール基は置換基としてハロゲンまたは炭素数1~12の鎖状アルキル基を有していてもよい。Zは、水素、炭素数1~8の炭化水素基および/または連結基を表し、各々同一であっても異なっていてもよく、かつ、少なくとも一つは連結基であり、該連結基によってベンゾオキサジン環同士が連結している。]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    [式(2)中、Lは芳香環を1~5個有する2価の有機基または炭素数2~10のアルキレン基であって、該有機基およびアルキレン基は酸素および/または硫黄を含んでいてもよい。]
  3.  前記脂環式エポキシ化合物が、ノルボルナン構造を少なくとも一つ、およびエポキシ基を少なくとも二つ有するエポキシ化合物である、請求項1または2に記載の硬化樹脂用組成物。
  4.  前記脂環式エポキシ化合物が、式(3)で示される五員環構造、六員環構造、およびノルボルナン環構造からなる群から選択される少なくとも1種の構造を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
  5.  前記脂環式エポキシ化合物がグリシジル基を有さない、請求項1~4のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物。
  6.  (D)シランカップリング剤をさらに含有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物。
  7.  前記(D)シランカップリング剤が、1分子中に第1級アミノ基と第2級アミノ基とをそれぞれ少なくとも1つ含有する、請求項6に記載の硬化樹脂用組成物。
  8.  (E)硬化促進剤をさらに含有する、請求項1~7のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物。
  9.  (F)無機充填剤をさらに含有する、請求項1~8のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物。
  10.  前記(F)無機充填剤の含有率が、硬化樹脂用組成物全体に対して80~95質量%である、請求項9に記載の硬化樹脂用組成物。
  11.  請求項1~10のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物。
  12.  請求項1~10のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物を硬化させてなる硬化物中に半導体素子が設置されている、半導体装置。
  13.  請求項1~10のいずれか一項に記載の硬化樹脂用組成物の製造方法であって、
     (A)ベンゾオキサジン化合物と、
     (B)エポキシ化合物と、
     (C)フェノール系硬化剤と
    を混合して混合物を得る工程、
     該混合物を粉体状、ペレット状、または顆粒状の硬化樹脂用組成物に加工する工程
    を有する、硬化樹脂用組成物の製造方法。
  14.  前記混合物を得る工程において、(D)シランカップリング剤、(E)硬化促進剤、および(F)無機充填剤からなる群から選択される少なくとも一つの成分をさらに混合して混合物を得る、請求項13に記載の製造方法。
  15.  請求項13または14に記載の方法により製造した前記硬化樹脂用組成物を150~300℃にて20秒間~6時間加熱して硬化させる工程
    を有する、硬化物の製造方法。
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